JPH10284875A - Light transmitting electromagnetic wave shielding panel - Google Patents

Light transmitting electromagnetic wave shielding panel

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JPH10284875A
JPH10284875A JP9089034A JP8903497A JPH10284875A JP H10284875 A JPH10284875 A JP H10284875A JP 9089034 A JP9089034 A JP 9089034A JP 8903497 A JP8903497 A JP 8903497A JP H10284875 A JPH10284875 A JP H10284875A
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JP
Japan
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film
transparent
electromagnetic wave
layer
transparent resin
Prior art date
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Application number
JP9089034A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tokuji Ogawa
徳治 小川
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Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enhance electromagnetic wave shielding effect and antireflection performance of external light by providing a transparent conductive film including a conductive layer having a specified surface resistance at least on one side of a transparent resin sheet, specifying the total beam transmittance and forming an earth electrode at least on a part of the conductive layer. SOLUTION: A transparent sheet 1 is applied, on one side thereof, with an anti-glare film 2 and, on the other side thereof, with a transparent conductive film 3. The transparent conductive film 3 comprises a conductive layer having surface resistance of 30 Ω/square or less formed on a basic material of a transparent resin film. An earth electrode 4 is formed at least on a part of the conductive layer of the transparent conductive film 3 in order to shield electromagnetic wave and an earth wire 6 is led out from the earth electrode 4. Total beam transmittance of the light transmitting electromagnetic wave shielding panel is set at 60% or above.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ディスプレイの映
像表示パネル前面等に好適に使用する事のできる光透過
性電磁波遮蔽パネルに関し、詳しくはテレビジョン、自
動車ナビゲーションシステム、魚群探知機用ディスプレ
イや携帯電話、携帯端末等の移動体通信機器、AV機
器、OA機器、ワープロ、パソコン、ゲーム機、プラズ
マディスプレイ等の各種機器映像表示部の前面に設置さ
れる光透過性電磁波遮蔽パネルに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a light-transmitting electromagnetic wave shielding panel which can be suitably used on the front of an image display panel of a display, and more particularly to a television, an automobile navigation system, a display for a fish finder, and a portable device. The present invention relates to a light-transmitting electromagnetic wave shielding panel installed on the front of a video display section of various devices such as mobile communication devices such as telephones and portable terminals, AV devices, OA devices, word processors, personal computers, game machines, and plasma displays.

【0002】[0002]

【従来の技術】カラーテレビジョンに代表される映像機
器用ディスプレイパネルは、室内の電灯、蛍光灯や太陽
光等の外光が該パネル表面で観察者の方向に反射し、再
生された映像、画像を観察者が見にくくなる事から外光
反射防止の改善が望まれている。
2. Description of the Related Art A display panel for video equipment typified by a color television is a device in which an external light such as an indoor lamp, a fluorescent lamp or sunlight is reflected on a surface of the panel toward an observer, and a reproduced image, Since it becomes difficult for an observer to see an image, improvement in prevention of external light reflection is desired.

【0003】外光反射防止方法としては、光の乱反射や
光の干渉を利用した多層蒸着膜を形成する方法等が提案
されている。例えば、特開平5−292437号公報に
は、平均粒子径が可視光の波長以下の超微粒子である二
酸化ケイ素等を用いて塗布等によりパネル表面に直接反
射防止膜を形成する方法、特開平5−307104号、
特開平8−144048号公報には透明プラスチックフ
ィルムの上面に硬化膜を形成し、その上に酸化アルミニ
ウム層をスパッタ法で形成し、更にフッ化マグネシウム
層を蒸着法により形成した反射防止膜を積層したフィル
ター、特開平6−160982号、特開平7−1680
03号公報、特開平7−28169号公報、特開平8−
48935号公報には樹脂基材の上に低屈折率層を形成
する方法等が開示されている。
As a method of preventing external light reflection, a method of forming a multilayer vapor-deposited film utilizing irregular reflection of light and interference of light has been proposed. For example, Japanese Unexamined Patent Publication No. 5-29237 discloses a method of forming an antireflection film directly on a panel surface by coating or the like using ultrafine particles such as silicon dioxide having an average particle diameter of not more than the wavelength of visible light. 307104,
JP-A-8-144048 discloses that a cured film is formed on the upper surface of a transparent plastic film, an aluminum oxide layer is formed thereon by a sputtering method, and a magnesium fluoride layer is further formed thereon by an evaporation method to form an antireflection film. Filter, JP-A-6-160982, JP-A-7-1680
03, JP-A-7-28169, JP-A-8-
No. 48935 discloses a method of forming a low refractive index layer on a resin substrate, and the like.

【0004】一方、映像機器の多様化、電子機器の増加
にともない、画像信号源となる光源、放電部あるいは画
像を構成する各々の画素部分の構造的要因により、ディ
スプレイの表面よりマイクロ波及び電波等の非電離放射
線の有害な電磁波が多量に発生しており、健康障害が指
摘されたり、また、画面のちらつきや電磁波による機器
の誤作動等の障害が問題となっている。特に、ディスプ
レイ表面より出る電磁波に対して関心が高く、VCCI
(情報処理装置等電磁波障害自主規制協議会)の規制も
年々と厳しくなっており厳しい電磁波遮蔽対策が望まれ
ている。
On the other hand, with the diversification of video equipment and the increase of electronic equipment, microwaves and radio waves are transmitted from the surface of a display due to structural factors of a light source serving as an image signal source, a discharge part, or each pixel part forming an image. Such harmful electromagnetic waves of non-ionizing radiation are generated in large quantities, and health problems are pointed out, and problems such as flickering of the screen and malfunctions of the devices due to the electromagnetic waves have become problems. In particular, there is high interest in electromagnetic waves emitted from the display surface, and VCCI
Regulations of the Voluntary Control Council for Electromagnetic Interference such as Information Processing Equipment are becoming stricter year by year, and strict electromagnetic wave shielding measures are desired.

【0005】従来より電磁波障害を取り除くために各種
の改良法が提案されている。この電磁波遮蔽技術として
は、透明なプラスチック基材にインジウム−スズ等の酸
化物薄膜からなる透明導電層を形成した各種電磁波シー
ルド材等多くの提案がある。例えば、特開昭62−14
7799号公報、特開平2−211493号公報、特開
平5−323101号公報にはこれらの技術が開示され
ている。
Conventionally, various improved methods have been proposed for removing electromagnetic interference. There are many proposals for this electromagnetic wave shielding technology, such as various electromagnetic wave shielding materials in which a transparent conductive layer made of an oxide thin film such as indium-tin is formed on a transparent plastic substrate. For example, JP-A-62-14
These techniques are disclosed in JP-A-7799, JP-A-2-221493, and JP-A-5-323101.

【0006】しかしながら、上記従来の電磁波遮蔽材
は、酸化物被膜からなる透明導電層であるため、抵抗値
が高く電磁波遮蔽効果が不十分であるという問題点を有
する。また、遮蔽効果を高めるために該透明導電層の厚
みを厚くすると光線透過率が低下し、光線反射率が大き
く、ディスプレイ画面のコントラストが低下し、表示が
見づらくなるという問題点を有する。
However, since the above-mentioned conventional electromagnetic wave shielding material is a transparent conductive layer made of an oxide film, it has a problem that the resistance value is high and the electromagnetic wave shielding effect is insufficient. Further, when the thickness of the transparent conductive layer is increased in order to enhance the shielding effect, the light transmittance is reduced, the light reflectance is increased, the contrast of the display screen is reduced, and the display is difficult to see.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、光線透過率
及び電磁波遮蔽効果が高く、しかも同時に外光反射防止
性能を併せ持つ光透過性電磁波遮蔽パネルを提供する事
である。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a light-transmitting electromagnetic wave shielding panel having high light transmittance and electromagnetic wave shielding effect, and at the same time, having an external light reflection preventing performance.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者は上記課題を解
決するため鋭意検討し、透明樹脂シートの片面に外光反
射防止性能を有する防眩フィルム、他の面に抵抗値の低
い透明導電性フィルムを良好に積層する事により上記課
題を達成し、本発明を完成した。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have studied diligently to solve the above-mentioned problems, and have an antiglare film having an anti-reflection property for external light on one side of a transparent resin sheet and a transparent conductive film having a low resistance value on the other side. The above object was achieved by satisfactorily laminating the conductive films, and the present invention was completed.

【0009】即ち、本発明は、少なくとも透明樹脂シー
トの一方の面に防眩処理フィルム、他の面に透明樹脂フ
ィルムの片面に表面抵抗値が30Ω/□以下の導電層を
有する透明導電性フィルムを有し、全光線透過率が60
%以上であるパネルであって、該導電層の少なくとも一
部にアース電極を有することを特徴とする光透過性電磁
波遮蔽パネルである。
That is, the present invention provides a transparent conductive film having at least one surface of a transparent resin sheet having an anti-glare treatment film and another surface having a conductive layer having a surface resistance of 30 Ω / □ or less on one side of the transparent resin film. Having a total light transmittance of 60
% Or more, wherein at least a part of the conductive layer has a ground electrode.

【0010】また、防眩処理フィルム及び透明導電性フ
ィルムを粘着層を介して透明樹脂シートに貼り合わせ積
層する事により、より好ましい光透過性電磁波遮蔽パネ
ルが得られる。
Further, by laminating and laminating an antiglare-treated film and a transparent conductive film on a transparent resin sheet via an adhesive layer, a more preferable light-transmitting electromagnetic wave shielding panel can be obtained.

【0011】また、防眩処理フィルムが透明樹脂フィル
ム基材の一方の面に静電気防止層及び反射防止層を有す
ることで、更に好ましく本発明を達成出来る。
The present invention can be more preferably achieved when the antiglare film has an antistatic layer and an antireflection layer on one surface of the transparent resin film substrate.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態例を図面
を参照して説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0013】図1は、本発明の光透過性電磁波遮蔽パネ
ルの代表構成例の模式断面図である。図中、1は透明樹
脂シート、2は防眩処理フイルム、3は透明導電性フィ
ルムであり、防眩処理フイルム2は防眩処理面が画像発
生面と反対方向に向くように、透明導電性フィルム3は
導電層を有する面が画像発生面又は画像発生面と反対方
向に向くように配置されている。透明導電性フィルム3
の導電層には、電磁波遮蔽のために少なくとも一部にア
ース電極4が形成されており、且つ該アース電極4から
アース線6を引き出した構造となっている。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a representative example of a light-transmitting electromagnetic wave shielding panel according to the present invention. In the drawing, 1 is a transparent resin sheet, 2 is an anti-glare treatment film, 3 is a transparent conductive film, and the anti-glare treatment film 2 has a transparent conductive film so that the anti-glare treatment surface faces in the opposite direction to the image generation surface. The film 3 is arranged so that the surface having the conductive layer faces the image generating surface or the direction opposite to the image generating surface. Transparent conductive film 3
A ground electrode 4 is formed on at least a part of the conductive layer for shielding electromagnetic waves, and a ground wire 6 is drawn from the ground electrode 4.

【0014】そして、導電層の露出部分をガード或いは
マスキングして、その上に更に必要に応じて導電層を保
護する為に透明保護フイルム5を積層した光透過性電磁
波遮蔽パネルに構成しても構わない。
Further, the exposed portion of the conductive layer is guarded or masked, and a light-transmitting electromagnetic wave shielding panel in which a transparent protective film 5 is further laminated on the exposed portion to protect the conductive layer as necessary is provided. I do not care.

【0015】光透過性電磁波遮蔽パネルの全光線透過率
は、映像機器本来の輝度を大きく低下させないために6
0%以上である必要があり、好ましくは60〜90%で
ある。
The total light transmittance of the light-transmitting electromagnetic wave shielding panel is 6 in order not to greatly reduce the original luminance of the video equipment.
It is necessary to be 0% or more, preferably 60 to 90%.

【0016】本発明において、全光線透過率の測定は、
その光透過性電磁波遮蔽パネルを1〜20mm、より好
ましくは2〜10mmの厚みを有するシート形状物に
て、JIS・K−7105法に準じた市販の測定器を用
いて行う事が出来る。
In the present invention, the total light transmittance is measured by:
The light-transmitting electromagnetic wave shielding panel can be formed on a sheet-shaped article having a thickness of 1 to 20 mm, more preferably 2 to 10 mm, using a commercially available measuring instrument according to the JIS K-7105 method.

【0017】本発明に用いられる透明樹脂シート1と
は、光の散乱や拡散による光量損失が小さい必要があ
り、JIS・K−7105に準じて測定した曇り度が1
0%以下となるシートとして定義される。
The transparent resin sheet 1 used in the present invention needs to have a small loss of light amount due to scattering and diffusion of light, and has a haze of 1 measured according to JIS K-7105.
It is defined as a sheet that is 0% or less.

【0018】具体的には、たとえばメタクリル樹脂、ポ
リカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、スチレン−ブ
タジエン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂等のシートが挙げら
れる。特に好ましくは、メタクリル樹脂シートである。
Specific examples include sheets of methacrylic resin, polycarbonate resin, polystyrene resin, styrene-butadiene resin, polyvinyl chloride resin and the like. Particularly preferred is a methacrylic resin sheet.

【0019】メタクリル樹脂は、メタクリル酸メチルを
主体とする樹脂で、単独重合体、又はメチルメタクリレ
ートとメチルアクリレート、エチルアクリレート、n−
プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ブ
チルアクリレート、アクリロニトリル、アクリル酸、メ
タクリル酸、ビニルピリジン、ビニルモルホリン、ビニ
ルピリドンテトラヒドロフルフリルアクリレート、N,
N−ジメチルアミノエチルアクリレート、N,N−ジメ
チルアクリルアミド、2−ヒドロキシアクリレート、エ
チレングリコールモノアクリレート、グリセリンモノア
クリレート、無水マレイン酸、スチレンもしくはα−メ
チルスチレン等の共重合可能なモノマーの何れか一つ以
上との共重合体、及び耐熱性アクリル樹脂、低吸湿アク
リル樹脂等が含まれ、単独で用いても良いしブレンドし
て用いても良い。
The methacrylic resin is a resin mainly composed of methyl methacrylate, and is a homopolymer or a mixture of methyl methacrylate and methyl acrylate, ethyl acrylate, n-methacrylate.
Propyl acrylate, isopropyl acrylate, butyl acrylate, acrylonitrile, acrylic acid, methacrylic acid, vinyl pyridine, vinyl morpholine, vinyl pyridone tetrahydrofurfuryl acrylate, N,
Any one of copolymerizable monomers such as N-dimethylaminoethyl acrylate, N, N-dimethylacrylamide, 2-hydroxyacrylate, ethylene glycol monoacrylate, glycerin monoacrylate, maleic anhydride, styrene or α-methylstyrene The above-mentioned copolymer, a heat-resistant acrylic resin, a low-moisture-absorbing acrylic resin, and the like are included, and they may be used alone or in a blend.

【0020】透明性を維持して耐衝撃性を同時に持たせ
るためには耐衝撃性アクリル樹脂が用いられ、そのゴム
弾性体は特開昭53−58554号公報、同55−94
917号公報、同61−32346号公報等に開示され
ている。簡単に説明すると、アクリル系重合体芯材料の
まわりに弾性層及び非弾性層を交互に生成させる多段階
逐次重合法により製造される多段重合体である。
In order to maintain transparency and simultaneously provide impact resistance, an impact-resistant acrylic resin is used, and its rubber elastic material is disclosed in JP-A-53-55854 and JP-A-55-94.
Nos. 917 and 61-32346. Briefly, it is a multi-stage polymer produced by a multi-stage sequential polymerization method in which an elastic layer and an inelastic layer are alternately formed around an acrylic polymer core material.

【0021】透明樹脂シート1の厚みは、1.0〜20
mmが好ましい。特に、2.0〜10mmが最も好まし
い厚みである。透明樹脂シート1の厚みが1.0mm以
上であれば前面パネルとしての剛性が得られ、且つ、2
0mm以下であれば前面パネルとして軽量となり、好ま
しい。
The thickness of the transparent resin sheet 1 is 1.0 to 20.
mm is preferred. In particular, 2.0 to 10 mm is the most preferable thickness. When the thickness of the transparent resin sheet 1 is 1.0 mm or more, rigidity as a front panel is obtained, and
If it is 0 mm or less, the front panel becomes light in weight, which is preferable.

【0022】透明樹脂シート1の成形方法は特に限定さ
れるものではないが、例えばTダイによる押し出しシー
ト成形法を用いることにより容易に得られる。当該シー
トを真空成形、圧空成形、スタンパブル成形により二次
加工しても良い。
The method for forming the transparent resin sheet 1 is not particularly limited, but can be easily obtained by using, for example, an extruded sheet forming method using a T-die. The sheet may be subjected to secondary processing by vacuum forming, pressure forming, or stampable forming.

【0023】また、光学特性及び機械的熱的特性を損な
わない範囲に於いて他の成分、例えば補強剤、充填剤、
離型剤、熱安定剤、酸化防止剤、核剤、光安定剤、紫外
線吸収剤、可塑剤等をシート成形時など任意の過程にお
いて含有させる事ができる。
Further, other components such as a reinforcing agent, a filler, and the like, as long as the optical characteristics and the mechanical and thermal characteristics are not impaired.
A release agent, a heat stabilizer, an antioxidant, a nucleating agent, a light stabilizer, an ultraviolet absorber, a plasticizer, and the like can be contained in any process such as at the time of sheet molding.

【0024】本発明に用いられる防眩処理フィルム2
は、透明樹脂フィルムを基材として、その一方の面に防
眩処理を施したものである。
Anti-glare treatment film 2 used in the present invention
Is obtained by using a transparent resin film as a base material and subjecting one surface thereof to an antiglare treatment.

【0025】この透明樹脂フィルム基材とは、光の散乱
や拡散による光量損失が小さく、屈折率の大きい方が有
利であり、一般的に入手し易いポリエチレンテレフタレ
ート(屈折率:1.65)等のポリエステル系、ポリカ
ーボネート(屈折率:1.58)、トリアセチルセルロ
ース(屈折率:1.52)、ポリメチルメタクリレート
(屈折率:1.49)、ポリスチレン(屈折率:1.6
0)、ポリ塩化ビニル(屈折率:1.53)等が適当な
例として好ましく挙げられる。
The transparent resin film substrate is preferably such that polyethylene terephthalate (refractive index: 1.65), which has a small loss of light amount due to scattering and diffusion of light and has a large refractive index, is easily available. Polyester, polycarbonate (refractive index: 1.58), triacetyl cellulose (refractive index: 1.52), polymethyl methacrylate (refractive index: 1.49), polystyrene (refractive index: 1.6)
0), polyvinyl chloride (refractive index: 1.53) and the like are preferably mentioned as suitable examples.

【0026】透明樹脂フィルム基材の厚みは、25〜2
00μmが好ましい。特に、50〜150μmが最も好
ましい厚みである。透明樹脂フィルム基材の厚みが25
μm以上であれば強度が十分であり、200μm以下で
あればフィルムの剛性が高くなり透明樹脂シート1表面
への二次加工性に劣るという問題がなく好ましい。
The thickness of the transparent resin film substrate is 25 to 2
00 μm is preferred. In particular, 50 to 150 μm is the most preferable thickness. The thickness of the transparent resin film substrate is 25
If the thickness is at least μm, the strength is sufficient, and if it is at most 200 μm, the rigidity of the film is high and there is no problem that the secondary workability on the surface of the transparent resin sheet 1 is inferior.

【0027】防眩処理には特に制限なく、任意の加工処
理法を選択することが出来る。例えば、外光を乱反射さ
せることにより視感反射率を低減させる方法、即ち上記
の透明樹脂フィルム基材の片面に粒子径が可視光の波長
以下の超微粒子である二酸化ケイ素等を塗布して光の乱
反射が生じる反射防止膜を形成する方法、又は、透明樹
脂フィルム基材の片面に屈折率の高い硬化膜を形成し、
その上にフッ化マグネシウム層の薄膜を蒸着法により形
成する方法、或いは、透明樹脂フィルム基材の片面或い
は両面に薄膜の低屈折率層を形成する方法等が知られて
おり、これ等を適宜利用できる。
The anti-glare treatment is not particularly limited, and any processing method can be selected. For example, a method of reducing luminous reflectance by irregularly reflecting external light, that is, applying light to a surface of the transparent resin film substrate by applying silicon dioxide or the like, which is an ultrafine particle having a particle size equal to or smaller than the wavelength of visible light, on one surface of the transparent resin film substrate. A method of forming an antireflection film in which irregular reflection occurs, or forming a cured film having a high refractive index on one surface of a transparent resin film substrate,
A method of forming a thin film of a magnesium fluoride layer thereon by a vapor deposition method, or a method of forming a low-refractive index layer of a thin film on one or both surfaces of a transparent resin film substrate, and the like are known. Available.

【0028】その中でも、薄膜の低屈折率層を形成し、
低屈折率層の表面反射光と界面における屈折反射光との
光の干渉により反射率を低減する方法が簡便で効果的で
ある。即ち、最外層に透明樹脂フィルム基材よりも低屈
折率の反射防止層を可視光波長の1/4の膜厚で形成す
ると、その上面反射光と下面反射光が打ち消し合う干渉
効果により表面反射を低減することができる。
Among them, a low refractive index layer of a thin film is formed,
A simple and effective method is to reduce the reflectivity by interference of light between the surface reflected light of the low refractive index layer and the refracted reflected light at the interface. That is, when an antireflection layer having a lower refractive index than the transparent resin film substrate is formed as the outermost layer with a film thickness of 1/4 of the wavelength of visible light, the upper surface reflected light and the lower surface reflected light cancel each other out, so that the surface reflection occurs. Can be reduced.

【0029】反射防止層の屈折率は、透明樹脂フィルム
基材の屈折率より低い事が好適であり、その全光線反射
率が7%未満のものが好ましい。反射防止層を形成する
低屈折率透明樹脂としては、特に限定されないが、非結
晶性の透明含フッ素系重合体が最も好ましく、屈折率が
1.28〜1.44の透明含フッ素系重合体がより好ま
しい。
The refractive index of the antireflection layer is preferably lower than the refractive index of the transparent resin film substrate, and the total light reflectance is preferably less than 7%. The low-refractive-index transparent resin forming the anti-reflection layer is not particularly limited, but is most preferably an amorphous transparent fluorinated polymer, and has a refractive index of 1.28 to 1.44. Is more preferred.

【0030】このような非結晶性の透明含フッ素重合体
としては、例えば、パーフルオロオクタン,CF3(C
2)nCH=CH2(n:5〜11)、CF3(CF2
mCH2CH3(m:5〜11)等の特定のフッ素系溶剤
に可溶な重合体、アクリル酸含フッ素アルキルエステル
重合体やメタクリル酸含フッ素アルキルエステル重合
体、商品名「サイトップ」(旭硝子社製)、商品名「テ
フロンAF」(デュポン社製)等が挙げられる。
Examples of such a noncrystalline transparent fluoropolymer include perfluorooctane, CF 3 (C
F 2 ) nCH = CH 2 (n: 5 to 11), CF 3 (CF 2 )
Polymers soluble in a specific fluorine-based solvent such as mCH 2 CH 3 (m: 5 to 11), a fluorinated alkyl ester polymer of acrylic acid or a fluorinated alkyl ester polymer of methacrylic acid, trade name “CYTOP” ( Asahi Glass Co., Ltd.), trade name "Teflon AF" (DuPont) and the like.

【0031】反射防止層は、スプレーコート法、スピン
コート法、ディップコート法、ロールコート法、グラビ
アコート法、ダイコート法等により透明樹脂フィルム基
材にコーティングされる。これらのコート法は連続加工
が可能であり生産性に優れる。反射防止層の透明樹脂フ
ィルム基材面への密着性を高めるためにコロナ放電処理
或いは紫外線処理等の活性エネルギー線処理を施した
り、プライマー処理を施しても良い。
The antireflection layer is coated on a transparent resin film substrate by a spray coating method, a spin coating method, a dip coating method, a roll coating method, a gravure coating method, a die coating method or the like. These coating methods enable continuous processing and are excellent in productivity. In order to enhance the adhesion of the antireflection layer to the transparent resin film substrate surface, an active energy ray treatment such as a corona discharge treatment or an ultraviolet treatment, or a primer treatment may be applied.

【0032】また、市販の反射防止透明樹脂フィルムと
しては、商品名「アークトップ」(旭硝子社製)、商品
名「リアルック」(日本油脂社製)等が知られている。
Commercially available anti-reflective transparent resin films include “Arc Top” (trade name, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) and “Real-Look” (trade name, manufactured by NOF Corporation).

【0033】反射防止層の厚みは、0.05〜0.25
μmの範囲であれば、反射防止性能が十分であり好まし
い。映像画面を観察する際の可視光波長域の反射を少な
くするには、0.1〜0.2μmの厚さが更に好まし
い。
The thickness of the antireflection layer is 0.05 to 0.25
The range of μm is preferable because the antireflection performance is sufficient. In order to reduce reflection in the visible light wavelength range when observing a video screen, a thickness of 0.1 to 0.2 μm is more preferable.

【0034】又、透明樹脂フィルム基材と防眩処理層と
の間に静電気防止処理層を有すると更に好適である。静
電気防止処理には、酸化錫などの金属酸化物、界面活性
剤、透明性導電層をコーティング等により付与し、表面
抵抗値が1010Ω以下が望ましい。
It is more preferable to have an antistatic treatment layer between the transparent resin film substrate and the antiglare treatment layer. In the antistatic treatment, a metal oxide such as tin oxide, a surfactant, and a transparent conductive layer are applied by coating or the like, and the surface resistance is desirably 10 10 Ω or less.

【0035】本発明に用いられる透明導電性フィルム3
は、透明樹脂フィルムを基材として、その一方の面に表
面抵抗値が30Ω/□以下、好ましくは15Ω/□以下
の導電層を有するものであり、特に可視光波長域での光
の散乱や拡散による光量損失が小さく、550nmにお
ける光線透過率が70%以上であることが望ましい。ま
た、周波数100MHzでの電磁波減衰効果が50%以
上であるものが好ましい。
The transparent conductive film 3 used in the present invention
Has a conductive layer having a surface resistance of 30 Ω / □ or less, preferably 15 Ω / □ or less on one surface thereof, using a transparent resin film as a base material. Light loss due to diffusion is small, and the light transmittance at 550 nm is desirably 70% or more. Further, those having an electromagnetic wave attenuation effect of 50% or more at a frequency of 100 MHz are preferable.

【0036】透明樹脂フィルム基材は、一般的に入手し
易いポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系、
ポリカーボネート、トリアセチルセルロース、ポリメチ
ルメタクリレート等が適当な例として好ましく挙げられ
る。
The transparent resin film substrate is generally made of polyester such as polyethylene terephthalate, which is easily available.
Suitable examples include polycarbonate, triacetyl cellulose, and polymethyl methacrylate.

【0037】透明樹脂フィルム基材の厚みは、25〜2
00μmが好ましい。特に、50〜100μmが最も好
ましい厚みである。透明樹脂フィルム基材の厚みが25
μm以上であれば強度が十分であり、200μm以下で
あればフィルムの剛性が高くなり透明樹脂シート1表面
への二次加工性が劣ることがなく好ましい。
The thickness of the transparent resin film substrate is 25 to 2
00 μm is preferred. In particular, 50 to 100 μm is the most preferable thickness. The thickness of the transparent resin film substrate is 25
If the thickness is at least μm, the strength will be sufficient, and if it is at most 200 μm, the rigidity of the film will be high and the secondary workability to the surface of the transparent resin sheet 1 will not deteriorate, which is preferable.

【0038】導電層としては、貴金属薄膜層、金属酸化
物薄膜層等の金属層が挙げられる。貴金属薄膜層を形成
する貴金属としては、例えば金、銀、パラジウム、ある
いはこれらの合金などが挙げられるが、好ましくは、銀
及び銀と金の合金である。合金の場合、銀の含有率は6
0重量%以上が好ましい。また、金属酸化物薄膜層を形
成する金属酸化物としては、例えば酸化インジウムと酸
化亜鉛の複合酸化物、酸化インジウム等が挙げられる。
Examples of the conductive layer include metal layers such as a noble metal thin film layer and a metal oxide thin film layer. Examples of the noble metal forming the noble metal thin film layer include gold, silver, palladium, and alloys thereof, and are preferably silver and an alloy of silver and gold. For alloys, the silver content is 6
0% by weight or more is preferred. Examples of the metal oxide forming the metal oxide thin film layer include a composite oxide of indium oxide and zinc oxide, indium oxide, and the like.

【0039】また、金属層の補強、保護、酸化劣化防
止、及び可視光域の透過率を高めるために、透明誘電体
層を積層するのが好ましい。透明誘電体層としては、例
えば2〜4価金属の酸化物、酸化ジルコニウム、酸化チ
タニウム、酸化マグネシウム、酸化ケイ素、酸化アルミ
ニウム及び金属アルコキサイド化合物等の薄膜が挙げら
れる。透明誘電体層を金属層の表面側及び基材側の両方
に設ける場合、両者は同じ物質でもよいし、異なってい
てもよい。
It is preferable to laminate a transparent dielectric layer in order to reinforce the metal layer, protect it, prevent oxidative deterioration, and increase the transmittance in the visible light range. Examples of the transparent dielectric layer include thin films of oxides of divalent to tetravalent metals, zirconium oxide, titanium oxide, magnesium oxide, silicon oxide, aluminum oxide, and metal alkoxide compounds. When the transparent dielectric layer is provided on both the surface side and the substrate side of the metal layer, both may be the same substance or may be different.

【0040】更に、導電層を保護するために、透明保護
フィルム5を積層するのが好ましい。
Further, in order to protect the conductive layer, a transparent protective film 5 is preferably laminated.

【0041】透明保護フィルム5としては、例えば、ポ
リエチレン系フィルム、ポリエステル、ポリカーボネー
ト、トリアセチルセルロースの透明フィルム等が挙げら
れる。また、上述の防眩処理フィルムを透明保護フィル
ム5として使用してもよい。
Examples of the transparent protective film 5 include a polyethylene film, a transparent film of polyester, polycarbonate, and triacetyl cellulose. Further, the above-described antiglare film may be used as the transparent protective film 5.

【0042】導電層の構成としては、例えば、透明樹脂
フィルム基材を(A)、金属層を(B)、透明誘電体層
を(C)、透明保護フィルム5を(D)とした場合に、
(A)/(B)/(C)/(B)或いは(A)/(B)
/(C)/(B)/(D)の順で金属層(B)と透明誘
電体層(C)を更に多層に積層されたものが特に好まし
い。
The structure of the conductive layer is, for example, when the transparent resin film substrate is (A), the metal layer is (B), the transparent dielectric layer is (C), and the transparent protective film 5 is (D). ,
(A) / (B) / (C) / (B) or (A) / (B)
It is particularly preferable that the metal layer (B) and the transparent dielectric layer (C) are further laminated in multiple layers in the order of / (C) / (B) / (D).

【0043】金属層の膜厚は、50〜300オングスト
ロームが好ましい。50オングストローム以上であれば
電磁波遮蔽効果が十分である。300オングストローム
以下であれば、光線透過率を70%以上とすることがで
き好ましい。
The thickness of the metal layer is preferably 50 to 300 angstroms. If it is 50 Å or more, the electromagnetic wave shielding effect is sufficient. When the thickness is 300 Å or less, the light transmittance can be 70% or more, which is preferable.

【0044】透明誘電体層の膜厚は、200〜3000
オングストロームが望ましい。この範囲であれば、可視
光域で高い透過率が得られ好ましい。好ましくは、40
0〜1000オングストロームである。
The thickness of the transparent dielectric layer is 200 to 3000
Angstrom is preferred. Within this range, a high transmittance can be obtained in the visible light range, which is preferable. Preferably, 40
0 to 1000 angstroms.

【0045】金属層及び透明誘電体膜層を形成する方法
としては、特に制限なく、任意の加工処理法を選択する
ことが出来る。例えば電子ビーム蒸着法、真空蒸着法、
カソードスパッタリング法、イオンプレーティング法等
の従来公知の何れの方法でも可能である。
The method for forming the metal layer and the transparent dielectric film layer is not particularly limited, and an arbitrary processing method can be selected. For example, electron beam evaporation, vacuum evaporation,
Any conventionally known method such as a cathode sputtering method and an ion plating method can be used.

【0046】また、市販の透明導電性フィルムとして
は、酸化インジウムと酸化亜鉛の複合酸化物及び酸化イ
ンジウムからなる金属酸化物の酸化物薄膜層を形成した
出光興産製「商品名;IDIXO」等が挙げられる。
Examples of commercially available transparent conductive films include “IDIXO” (trade name; manufactured by Idemitsu Kosan Co., Ltd.) having an oxide thin film layer of a composite oxide of indium oxide and zinc oxide and a metal oxide composed of indium oxide. No.

【0047】本発明の光透過性電磁波遮蔽パネルは、電
磁波の遮蔽にアースを取る必要がある。これは、透明導
電性フィルム3の導電層の少なくとも一部にアース電極
4を設け、このアース電極4からアース線6を引き出す
こと等により、ディスプレイ等の本体ハウジングのアー
スに直結すれば良い。
The light-transmitting electromagnetic wave shielding panel of the present invention needs to be grounded to shield electromagnetic waves. This can be achieved by providing a ground electrode 4 on at least a part of the conductive layer of the transparent conductive film 3 and pulling a ground wire 6 from the ground electrode 4 to directly connect the ground to a main body housing of a display or the like.

【0048】アース電極4は、ディスプレイ等からの映
像や文字の表示に邪魔とならないように、パネルの周縁
部でかつディスプレイ等の外枠カバーによって覆われる
部分の一部或いは全部に形成することが好ましく、面ア
ースとするのが好ましい。
The ground electrode 4 may be formed on the periphery of the panel and on a part or all of a portion covered by an outer frame cover of the display or the like so as not to disturb the display of images or characters from the display or the like. Preferably, the surface is grounded.

【0049】アース電極4の形成方法は特に制限されな
いが、例えば導電性銀ペーストを主成分として印刷法で
形成する方法、銅テープを貼り付ける方法等適宜応用さ
れる。
The method of forming the ground electrode 4 is not particularly limited, but may be suitably applied, for example, a method of forming a conductive silver paste as a main component by a printing method, a method of attaching a copper tape, and the like.

【0050】更に、アース線6を本体導電性シヤシー等
の本体アース部に接続固定する事により、電磁波遮蔽を
効果的に発現させることが出来る。この接続に於いて金
属パッキングを用いることも好ましい。
Further, by connecting and fixing the ground wire 6 to a main body ground portion such as a main body conductive chassis, it is possible to effectively exhibit electromagnetic wave shielding. It is also preferable to use metal packing in this connection.

【0051】本発明で用いられる防眩処理フィルム2及
び透明導電性フィルム3を透明樹脂シート1に積層する
方法は特に限定されないが、防眩処理フィルム2及び透
明導電性フィルム3の透明樹脂フィルム基材の防眩処理
面或いは導電層面の反対面を、粘着層を介して透明樹脂
シート1に貼り合わせ積層する方法が好ましい。透明樹
脂シート面に貼り合わせる方法としては特に制限はな
く、粘圧着或いは熱融着等の方法が適宜選択される。
The method of laminating the anti-glare treatment film 2 and the transparent conductive film 3 used in the present invention on the transparent resin sheet 1 is not particularly limited. A method is preferable in which the antiglare-treated surface of the material or the surface opposite to the conductive layer surface is bonded and laminated to the transparent resin sheet 1 via an adhesive layer. There is no particular limitation on the method of laminating to the transparent resin sheet surface, and a method such as visco-compression bonding or heat fusion is appropriately selected.

【0052】粘着層を形成する粘着剤としては、粘着シ
ート、フィルムに通常使用されるものを好適に使用する
ことができる。中でも、透明で主成分樹脂のガラス転移
温度が−50℃〜−130℃の範囲にあるポリアクリル
酸ブチル、ポリアクリル酸−2−エチルへキシルを使用
したアクリル酸エステル系、ポリイソブチレン系、SB
R系、天然ゴム等のゴム系、ウレタン−アクリレート
系、エポキシ−アクリレート系、シリコーンゴム系、塩
化ビニール系又は酢酸ビニル含有量が20〜40%のエ
チレン酢酸ビニル系が好ましい。
As the pressure-sensitive adhesive for forming the pressure-sensitive adhesive layer, those usually used for pressure-sensitive adhesive sheets and films can be suitably used. Among them, acrylates using polybutyl acrylate, 2-ethylhexyl polyacrylate, polyisobutylene, SB having a glass transition temperature of a main component resin in a range of −50 ° C. to −130 ° C., and SB
R type, rubber type such as natural rubber, urethane-acrylate type, epoxy-acrylate type, silicone rubber type, vinyl chloride type or ethylene vinyl acetate type having a vinyl acetate content of 20 to 40% are preferable.

【0053】粘着付与剤としては、ロジン、ロジンエス
テル及びその誘導体、テルペン樹脂、フェノール樹脂、
クマロン−インデン樹脂、炭化水素樹脂等が使用され、
更に軟化剤として脂肪酸エステル、動植物油脂、ワック
ス、石油重質留分が用いられ透明で主成分樹脂との相溶
性より適宜選択される。
Examples of the tackifier include rosin, rosin ester and its derivatives, terpene resin, phenol resin,
Coumarone-indene resin, hydrocarbon resin, etc. are used,
Further, fatty acid esters, animal and vegetable fats and oils, waxes, and heavy petroleum fractions are used as softeners, and are appropriately selected based on their compatibility with the transparent main component resin.

【0054】粘着層の厚みは、5〜200μmの範囲で
透明性が高く好ましい。粘着層の厚みが5μm以上であ
れば、粘着層を均一に形成する事が容易であり、200
μm以下であれば例えば、夏期の高温下でディスプレイ
パネル表面等への積層一体化の際に皺等の欠陥が生じ易
い等の問題がなく好ましい。更に好ましい粘着層の厚さ
は、10〜50μmである。
The thickness of the adhesive layer is preferably in the range of 5 to 200 μm because of high transparency. When the thickness of the adhesive layer is 5 μm or more, it is easy to form the adhesive layer uniformly,
When the thickness is not more than μm, for example, it is preferable because there is no problem that defects such as wrinkles easily occur during lamination and integration on a display panel surface or the like under a high temperature in summer. A more preferred thickness of the adhesive layer is 10 to 50 μm.

【0055】粘着層は、前記の粘着剤を転写印刷、ナイ
フコーター、ロールコーター、グラビアコーター等の通
常使用される塗布方法により塗布し、赤外線、熱風、蒸
気等により加熱乾燥され透明樹脂フィルム基材の片面に
形成する。
The pressure-sensitive adhesive layer is formed by applying the pressure-sensitive adhesive by a commonly used coating method such as transfer printing, a knife coater, a roll coater, or a gravure coater, and dried by heating with infrared rays, hot air, steam, or the like. On one side.

【0056】パネルの形状とその成形方法は特に限定さ
れるものではないが、例えばTダイによる押出シート成
形法を用いれば平滑、波形、プリズム形のシート状パネ
ル成形体を得る事ができる。当該シート状パネル成形体
を真空成形、圧空成形により二次加工しても良い。映像
機器のパネル形状が複雑な場合には、環状ダイによる異
形押出成形、ブロー成形、射出成形、圧縮成形等により
所望の形状の成形体を得る事ができる。
The shape of the panel and the method of forming the panel are not particularly limited. For example, if an extruded sheet forming method using a T-die is used, a smooth, corrugated, prism-shaped sheet-shaped panel formed body can be obtained. The sheet-shaped panel molded body may be subjected to secondary processing by vacuum forming and pressure forming. When the panel shape of the video equipment is complicated, a molded article having a desired shape can be obtained by irregular extrusion molding, blow molding, injection molding, compression molding, or the like using an annular die.

【0057】また、多層構造を有するパネルを得るため
には、二種類以上の樹脂組成物を同時に溶融押出する共
押出成形方法、二種類の樹脂組成物の一方を単層押出し
ながら予め成形された他方をラミネートする方法、二種
類の樹脂組成物を予め成形した後プレスして熱圧着する
方法、連続的に重ねて貼り合わせる方法、真空成形、圧
空成形時に積層する方法等がある。
In order to obtain a panel having a multilayer structure, a coextrusion molding method in which two or more types of resin compositions are simultaneously melt-extruded, and one of the two types of resin compositions is molded in advance while extruding a single layer. There are a method of laminating the other, a method of forming two kinds of resin compositions in advance and pressing and thermocompression bonding, a method of continuously overlapping and bonding, a method of laminating at the time of vacuum forming and pressure forming, and the like.

【0058】好ましい方法としては、透明樹脂シート1
をTダイを用いてシート状に押し出し成形し、続いてそ
の一方の面に防眩処理フィルム2、他の面に透明導電性
フィルム3を、積層前の透明樹脂シート1の温度が20
〜100℃、且つ該フィルムのテンションを1〜10k
g/m(ロール長さ当たり)の緊張下で連続的に供給
し、ロール圧が0.5〜4ton/mでラミネートする
方法であり、歪みが少なく均一に積層一体化圧着する事
が出来るので好都合である。この方法によれば連続生産
が容易で工程が簡単で量産性に優れ、好ましい。更に、
テンションロールをエキスパンダーロール、スパイラル
ロール方式のロールとする事により積層時のフィルムの
シワを防止する事が可能であり好ましい。
As a preferred method, the transparent resin sheet 1
Is extruded into a sheet shape using a T-die, the antiglare-treated film 2 is coated on one side, the transparent conductive film 3 is formed on the other side, and the temperature of the transparent resin sheet 1 before lamination is 20.
~ 100 ° C and tension of the film is 1 ~ 10k
g / m (per roll length) is continuously supplied under tension and roll pressure is 0.5 to 4 ton / m. This is a method of laminating. It is convenient. According to this method, continuous production is easy, the process is simple, and mass productivity is excellent, which is preferable. Furthermore,
It is preferable to use a roll of an expander roll or a spiral roll type as the tension roll because it is possible to prevent wrinkles of the film at the time of lamination.

【0059】積層前の透明樹脂シート1の温度が20℃
以上であれば、ラミネートムラが生じにくく且つフィル
ムが剥がれにくくなり好ましい。また、積層前の透明樹
脂シート1の温度が100℃以下であれば、温度が高す
ぎてポリエチレン系の保護フィルムに不都合が生じると
いう問題がなく好ましい。積層時の透明樹脂シート1の
温度は30〜70℃が積層接着強度が高く最も好まし
い。
The temperature of the transparent resin sheet 1 before lamination is 20 ° C.
If it is more than the above, lamination unevenness is hardly generated and the film is hardly peeled off, which is preferable. When the temperature of the transparent resin sheet 1 before lamination is 100 ° C. or less, it is preferable because there is no problem that the temperature is too high and the polyethylene-based protective film is disadvantageous. The temperature of the transparent resin sheet 1 at the time of lamination is most preferably 30 to 70 ° C. because the lamination adhesive strength is high.

【0060】防眩処理フィルム2及び透明導電性フィル
ム3のラミネート時のテンションが1kg/m以上であ
れば、ポリエチレン系の保護フィルムの剥離がスムース
に行われなくテンションにムラが生じるという問題がな
く好ましい。又、テンションが10kg/m以下であれ
ば、フィルムの緊張応力が残存しパネルの反りの原因と
なるという問題がなく好ましい。
When the tension at the time of laminating the anti-glare treatment film 2 and the transparent conductive film 3 is 1 kg / m or more, there is no problem that the polyethylene-based protective film is not smoothly removed and the tension is uneven. preferable. Further, when the tension is 10 kg / m or less, there is no problem that the tensile stress of the film remains and causes the warpage of the panel, which is preferable.

【0061】また、ロール圧を0.5ton/m以上で
あればエアーを巻き込み難く,4ton/m以下であれ
ば光学的歪みが生じることがなく好ましい。
When the roll pressure is 0.5 ton / m or more, it is difficult to entrain the air, and when the roll pressure is 4 ton / m or less, it is preferable because no optical distortion occurs.

【0062】[0062]

【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説
明する。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples.

【0063】尚、各実施例、比較例で用いた測定評価及
び試験方法は次の通りである。
The measurement, evaluation and test methods used in each of the examples and comparative examples are as follows.

【0064】(1)全光線透過率:JIS・K−710
5に準じた日本電色工業社製1001−DP型ヘーズメ
ータ−を用いて測定する。
(1) Total light transmittance: JIS K-710
The measurement is performed using a 1001-DP type haze meter manufactured by Nippon Denshoku Industries Co.

【0065】(2)分光反射率:日立製作所社製自記分
光光度計(モデル330型)を用いて、400〜700
nmの波長域で5°反射率の分光反射率を測定し、55
0nmの反射率を外光反射率とした。
(2) Spectral reflectance: 400 to 700 using a self-recording spectrophotometer (model 330) manufactured by Hitachi, Ltd.
The spectral reflectance of 5 ° reflectance was measured in the wavelength range of
The reflectance at 0 nm was defined as the external light reflectance.

【0066】(3)静電気防止性:試験片を東亜電波社
製超絶縁計SME−8310型にセットして外光反射防
止面の表面抵抗値を測定した。
(3) Antistatic property: The test piece was set on a super insulation meter SME-8310 manufactured by Toa Denpa Co., Ltd., and the surface resistance of the antireflection surface for external light was measured.

【0067】(4)表面抵抗値 :横川電機製デジタル
マルチメーター7541を用い端子を10cm離して抵
抗値を測定する。
(4) Surface resistance value: The resistance value is measured by using a digital multimeter 7541 manufactured by Yokogawa Electric Corporation with the terminals separated by 10 cm.

【0068】(5)電磁波減衰効果:関西電子工業振興
センターによる電磁波遮蔽測定法(KEC法)により、
電磁波減衰効果を測定し、100MHzにおける電界波
減衰効果(dB)を比較した。
(5) Electromagnetic wave attenuation effect: The electromagnetic wave shielding measurement method (KEC method) by Kansai Electronics Industry Promotion Center
The electromagnetic wave attenuation effect was measured, and the electric field wave attenuation effect (dB) at 100 MHz was compared.

【0069】(実施例1)メタクリル樹脂(商品名デル
パウダ70H、旭化成工業製)をベント付き押出機50
mmφ(L/D=32、単軸)、マルチマニホールドダ
イ、及びポリッシングロール3本から成るユニットを用
いて押出シート成形を行い、幅300mm、厚み3mm
の単層の透明樹脂シートを成形する。
Example 1 A methacrylic resin (trade name: Del Powder 70H, manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.) was used to extrude a vented extruder 50.
Extrusion sheet molding was performed using a unit consisting of mmφ (L / D = 32, single axis), a multi-manifold die, and three polishing rolls. The width was 300 mm and the thickness was 3 mm.
To form a single-layer transparent resin sheet.

【0070】この透明樹脂シートの押出成形の際に、防
眩処理フィルムのロール巻き原反を該押出シートの上面
に、透明導電層フィルムのロール巻き原反を下面に準備
し、各粘着層が押出シート面に位置するようにして繰出
しロール、テンションロールを介して2kg/mのテン
ションを架けて連続的に供給し、シートの表面温度が6
0℃にある時圧着ロールで積層した。
At the time of extrusion molding of the transparent resin sheet, a roll of the anti-glare treatment film is prepared on the upper surface of the extruded sheet, and a roll of the transparent conductive layer film is prepared on the lower surface. The sheet is continuously supplied with a tension of 2 kg / m through a feeding roll and a tension roll so as to be positioned on the surface of the extruded sheet, and the sheet surface temperature becomes 6
When it was at 0 ° C., it was laminated with a pressure roll.

【0071】防眩処理フィルムとしては、厚み80μm
のトリアセチルセルロースを透明樹脂フィルム基材と
し、静電気防止処理を施しその上に含フッ素樹脂の反射
防止層を形成し、その反対面に粘着層を付与した防眩処
理の反射防止性フィルム「日本油脂(株)製商品名:リ
アルック」を用いた。透明導電層フィルムとしては、厚
さ100μmのポリエチレンテレフタレートを透明樹脂
フィルム基材とし、表面抵抗値が10Ω/□の銀を主成
分とした銀蒸着面を導電層とし、その反対面に粘着層を
付与した透明導電性フィルム「帝人(株)製商品名:レ
フテルWR02」を用いた。
The antiglare film has a thickness of 80 μm.
Anti-glare anti-reflection film "Japan", which uses triacetyl cellulose as a transparent resin film substrate, performs anti-static treatment, forms an anti-reflection layer of fluororesin on it, and provides an adhesive layer on the opposite surface Oil / Fat Co., Ltd. product name: Rialuk "was used. As the transparent conductive layer film, a 100 μm-thick polyethylene terephthalate is used as a transparent resin film base material, a silver-deposited surface mainly composed of silver having a surface resistance of 10Ω / □ is used as a conductive layer, and an adhesive layer is formed on the opposite surface. The applied transparent conductive film “Tefijin Corporation, trade name: Reftel WR02” was used.

【0072】更に、該積層板の透明導電性フィルムの銀
蒸着導電層の露出面の隅部外枠部分(端周辺部を幅5m
mで全周面)に導電性銀ペーストを用い印刷法で面アー
スを付与し、図1に示す光透過性電磁波遮蔽用パネルを
得た。
Further, a corner outer frame portion of the exposed surface of the silver-deposited conductive layer of the transparent conductive film of the laminate (the peripheral portion of the edge was 5 m in width).
(Around m), a conductive silver paste was used to apply a ground to the surface by a printing method to obtain a light-transmitting electromagnetic wave shielding panel shown in FIG.

【0073】得られたパネルを試験片として、全光線透
過率を測定し、前記試験法で(2)〜(5)の評価を行
う。結果を表1に示す。
Using the obtained panel as a test piece, the total light transmittance is measured, and evaluations (2) to (5) are performed by the test method. Table 1 shows the results.

【0074】外光反射性及び電磁波減衰効果に優れ好ま
しいものである。
It is preferable because it has excellent external light reflectivity and electromagnetic wave attenuation effect.

【0075】(実施例2)連続した長尺の厚さ100μ
mのメタクリル樹脂フィルムの片面にプライマー(旭硝
子製;商品名CT−P10)を成分0.5%に希釈し、
グラビアコーティング法にて連続的に塗布、乾燥してプ
ライマー処理を行った。
(Example 2) A continuous long thickness of 100 μm
m on one side of a methacrylic resin film, a primer (manufactured by Asahi Glass; trade name: CT-P10) was diluted to 0.5% of component,
It was applied continuously by a gravure coating method, dried, and subjected to a primer treatment.

【0076】次に、この上に非結晶性の透明含フッ素重
合体(旭硝子社製;商品名「サイトップCTL−102
A」)をロールフィルム搬送系を有するコーターでグラ
ビアコーティング法にて連続的に塗布、乾燥し、均一な
0.13μmの薄膜を積層し、反射防止層を形成し、そ
の上にポリエチレン系保護フィルムを用い、マスキング
を行った。
Next, a non-crystalline transparent fluoropolymer (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd .; trade name: CYTOP CTL-102)
A)) is continuously applied by a gravure coating method using a coater having a roll film transport system, dried, a uniform 0.13 μm thin film is laminated, an antireflection layer is formed, and a polyethylene protective film is formed thereon. Was used for masking.

【0077】反射防止処理面の反対面に、アクリル酸エ
ステル共重合体を粘着主成分としロジン、坑酸化防止剤
を処方した透明粘着剤を、グラビアコーティング法で約
20μmの厚みで積層し、その上を厚さ50μmのポリ
エチレンテレフタレートフィルムの剥離性保護フィルム
でマスキングを行い、防眩処理フィルムを得た。
On the opposite side of the anti-reflection treated surface, a transparent pressure-sensitive adhesive containing an acrylic ester copolymer as a pressure-sensitive adhesive and containing rosin and an antioxidant was laminated to a thickness of about 20 μm by a gravure coating method. The top was masked with a 50 μm thick polyethylene terephthalate film releasable protective film to give an antiglare film.

【0078】防眩処理フィルムとして上記フィルムを、
透明導電性フィルムとして表面抵抗値が2Ω/□の銀蒸
着層を透明導電層とした透明導電性フィルム「(株)麗
光製銀蒸着フィルム」を用いた以外は実施例1と同様に
して光透過性電磁波遮蔽パネルを得た。評価結果を表1
に示す。
The above film was used as an antiglare film.
A light was obtained in the same manner as in Example 1 except that a transparent conductive film having a surface resistance value of 2Ω / □ and a transparent conductive layer having a surface resistance value of 2Ω / □ was used as the transparent conductive film. A transmissive electromagnetic wave shielding panel was obtained. Table 1 shows the evaluation results.
Shown in

【0079】外光反射防止性及び電磁波減衰効果に優れ
好ましいものである。
The anti-reflection property of external light and the effect of attenuating electromagnetic waves are excellent and preferable.

【0080】(比較例1)透明アクリル樹脂板(旭化成
工業製;商品名「デラグラスA」)をパネルとして、評
価を行った。結果を表1に示す。
(Comparative Example 1) A transparent acrylic resin plate (manufactured by Asahi Kasei Kogyo; trade name "Delaglass A") was used as a panel for evaluation. Table 1 shows the results.

【0081】外光反射防止性及び電磁波減衰効果が全く
無くディスプレイ用パネルとして望ましいものではなか
った。
[0086] The display panel had no external light reflection preventing property and no electromagnetic wave attenuation effect, and was not desirable as a display panel.

【0082】(比較例2)透明導電性フィルムとして厚
み100μmのポリエチレンテレフタレートを透明樹脂
フィルム基材とし、スパッタリング法による酸化インジ
ウムと酸化錫との混合物の酸化物被膜からなる透明導電
層を形成した表面抵抗値が200Ω/□の透明導電性フ
ィルムを用いた以外は実施例1と同様にして光透過性電
磁波遮蔽パネルを得た。評価結果を表1に示す。
(Comparative Example 2) A surface on which a transparent conductive film made of an oxide film of a mixture of indium oxide and tin oxide was formed by sputtering using a transparent resin film substrate of polyethylene terephthalate having a thickness of 100 μm as a transparent conductive film. A light-transmitting electromagnetic wave shielding panel was obtained in the same manner as in Example 1 except that a transparent conductive film having a resistance value of 200 Ω / □ was used. Table 1 shows the evaluation results.

【0083】光線透過率が大幅に低下し且つ外光反射防
止性及び電磁波減衰効果に劣りディスプレイ用パネルと
して望ましいものではなかった。
The light transmittance was greatly reduced, and the anti-reflection property of external light and the effect of attenuating electromagnetic waves were inferior.

【0084】[0084]

【表1】 [Table 1]

【0085】[0085]

【発明の効果】本発明により、映像画質の透過性が高
く、外光反射防止性及び電磁波遮蔽性を兼ね備えた光透
過性電磁波遮蔽パネルを提供するものである。
According to the present invention, there is provided a light-transmitting electromagnetic wave shielding panel which has high image quality transparency, and has both an external light reflection preventing property and an electromagnetic wave shielding property.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の光透過性電磁波遮蔽パネルの構成を示
す模式断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing a configuration of a light-transmitting electromagnetic wave shielding panel of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 透明樹脂シート 2 防眩処理フィルム 3 透明導電性フィルム 4 アース電極 5 透明保護フィルム 6 アース線 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent resin sheet 2 Anti-glare treatment film 3 Transparent conductive film 4 Earth electrode 5 Transparent protective film 6 Earth wire

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI // B29K 105:32 B29L 9:00 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI // B29K 105: 32 B29L 9:00

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも透明樹脂シートの一方の面に
防眩処理フィルム、他の面に透明樹脂フィルムの片面に
表面抵抗値が30Ω/□以下の導電層を有する透明導電
性フィルムを有し、全光線透過率が60%以上であるパ
ネルであって、該導電層の少なくとも一部にアース電極
を有することを特徴とする光透過性電磁波遮蔽パネル。
At least one surface of a transparent resin sheet has an antiglare treatment film, and the other surface has a transparent conductive film having a conductive layer having a surface resistance of 30 Ω / □ or less on one surface of the transparent resin film, A light-transmitting electromagnetic wave shielding panel, wherein the panel has a total light transmittance of 60% or more, and has a ground electrode on at least a part of the conductive layer.
【請求項2】 防眩処理フィルム及び透明導電性フィル
ムを粘着層を介して透明樹脂シートに貼り合わせ積層し
てなることを特徴とする請求項1に記載の光透過性電磁
波遮蔽パネル。
2. The light-transmitting electromagnetic wave shielding panel according to claim 1, wherein the anti-glare treatment film and the transparent conductive film are laminated on a transparent resin sheet via an adhesive layer.
【請求項3】 防眩処理フィルムが、透明樹脂フィルム
基材の一方の面に静電気防止層及び反射防止層を有する
ことを特徴とする請求項1または2に記載の光透過性電
磁波遮蔽パネル。
3. The light-transmitting electromagnetic wave shielding panel according to claim 1, wherein the antiglare film has an antistatic layer and an antireflection layer on one surface of the transparent resin film substrate.
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