JP2005063787A - 有機el表示装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 基板上のマトリックス状に配置される各画素領域に亘ってバンク層が形成され、
このバンク層は、各画素領域の一部に形成される発光領域に相当する領域に開口部が設けられ、少なくとも該開口部に埋設された発光層を間にして挟持する各電極のうち一方の電極が前記バンク層の上層に各画素領域に及んで形成されているものであって、
前記バンク層は各画素領域において前記発光領域以外の他の領域に開口部あるいは凹陥部が設けられている。
【選択図】 図1
Description
ここで、このような機能を有するバンク層はその層厚が通常数μmで形成される。
(1) 本発明による有機EL表示装置は、たとえば、基板上のマトリックス状に配置される各画素領域に亘ってバンク層が形成され、
このバンク層は、各画素領域の一部に形成される発光領域に相当する領域に開口部が設けられ、少なくとも該開口部に埋設された発光層を間にして挟持する各電極のうち一方の電極が前記バンク層の上層に各画素領域に及んで形成されているものであって、
前記バンク層は各画素領域において前記発光領域以外の他の領域に開口部あるいは凹陥部が設けられていることを特徴とするものである。
なお、ここで、バンク層は絶縁材料の膜として形成され、たとえば発光層に比べて抵抗値の高い有機材料層として形成される。
このバンク層は、各画素領域の一部に形成される発光領域に相当する領域に開口部が設けられ、少なくとも該開口部に埋設された発光層を間にして挟持する各電極のうち一方の電極が前記バンク層の上層に各画素領域に及んで形成されているものであって、
前記一方の電極はバンク層の一辺部の側壁にまで及んで形成されて、該バンク層の下層に形成され該一辺部から露出されて形成された配線層と接続され、
前記バンク層の一辺部には、その辺に沿って形成された複数の切欠きを有し、この切欠きは複数の方向に指向する辺を有する形状をなしていることを特徴とするものである。
このバンク層は、各画素領域の一部に形成される発光領域に相当する領域に開口部が設けられ、少なくとも該開口部に埋設された発光層を間にして挟持する各電極のうち一方の電極が前記バンク層の上層に各画素領域に及んで形成されているものであって、
前記一方の電極はバンク層に形成されたスルーホールを通して該バンク層の下層に形成された配線層に接続され、
前記スルーホールは複数の方向に指向する辺を有する形状をなしていることを特徴とするものである。
なお、本発明は以上の構成に限定されず、本発明の技術思想を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
図2は、本発明による有機EL表示装置の平面図を示し、対向して配置される各基板のうち一方の基板SUBにおける他方の基板側の面の構成を示した図である。
同図において基板SUBがあり、この基板の前記ドライブ・トランジスタDTの形成個所にたとえばポリシリコン(p−Si)からなる半導体層PSが形成されている。この半導体層PSは該ドライブ・トランジスタDTのそれである。
この半導体層PSをも被って第1の絶縁膜GIが形成され、この第1の絶縁膜GIは該ドライブ・トランジスタDTのゲート絶縁膜として機能するようになっている。
このため、発光領域以外の領域における前記開口部あるいは凹陥部OPNはたとえばx方向に隣接するもの同士で互いに接続されていてもよい。
このことから、前記切欠きCUTの形状は必ずしも三角形である必要はなく、複数の方向に指向する各辺から構成される形状であってもよく、たとえば円形であってもよい。
このことから、上述したと同様、スルーホールTHの形状は三角形に限定されることはなく、複数の方向に指向する各辺から構成される形状であってもよい。
ゲート信号線GLからの走査信号によって、スイッチング素子SW1がオンし、データ信号線DLからの映像信号が該スイッチング素子SW1を介して容量素子C1−CSiの一方の電極C1に供給される。このとき、該容量素子C1−CSiの他方の電極はフローティング状態となっている。
上述した各実施例はそれぞれ単独に、あるいは組み合わせて用いても良い。それぞれの実施例での効果を単独であるいは相乗して奏することができるからである。
GL…ゲート信号線
DL…データ信号線
CSL…電流供給線
BMP……バンク層
LED…発光素子
ITO…導電膜(陽極)
CTD…導電膜(陰極)
C…容量素子
CUT…切欠き
OPN…開口部あるいは凹陥部
DT…ドライバ・トランジスタ
Claims (8)
- 基板上のマトリックス状に配置される各画素領域に亘ってバンク層が形成され、
このバンク層は、各画素領域の一部に形成される発光領域に相当する領域に開口部が設けられ、少なくとも該開口部に埋設された発光層を間にして挟持する各電極のうち一方の電極が前記バンク層の上層に各画素領域に及んで形成されているものであって、
前記バンク層は各画素領域において前記発光領域以外の他の領域に開口部あるいは凹陥部が設けられていることを特徴とする有機EL表示装置。 - 各画素領域におけるバンク層の前記他の領域の下方に、前記発光層を間にして挟持する各電極のうち他方の電極に電流を供給する駆動回路が配置されていることを特徴とする請求項1に記載の有機EL表示装置。
- 前記バンク層の発光領域以外の領域に開口部が形成され、これにより露出される前記駆動回路の一部は絶縁膜で被われていることを特徴とする請求項2に記載の有機EL表示装置。
- 基板上のマトリックス状に配置される各画素領域に亘ってバンク層が形成され、
このバンク層は、各画素領域の一部に形成される発光領域に相当する領域に開口部が設けられ、少なくとも該開口部に埋設された発光層を間にして挟持する各電極のうち一方の電極が前記バンク層の上層に各画素領域に及んで形成されているものであって、
前記一方の電極はバンク層の一辺部の側壁にまで及んで形成されて、該バンク層の下層に形成され該一辺部から露出されて形成された配線層と接続され、
前記バンク層の一辺部には、その辺に沿って形成された複数の切欠きを有し、この切欠きのは複数の方向に指向する辺を有する形状をなしていることを特徴とする有機EL表示装置。 - 前記切欠きの形状は三角形となっていることを特徴とする請求項4に記載の有機EL表示装置。
- 基板上のマトリックス状に配置される各画素領域に亘ってバンク層が形成され、
このバンク層は、各画素領域の一部に形成される発光領域に相当する領域に開口部が設けられ、少なくとも該開口部に埋設された発光層を間にして挟持する各電極のうち一方の電極が前記バンク層の上層に各画素領域に及んで形成されているものであって、
前記一方の電極はバンク層に形成されたスルーホールを通して該バンク層の下層に形成された配線層に接続され、
前記スルーホールは複数の方向に指向する辺を有する形状をなしていることを特徴とする有機EL表示装置。 - 前記スルーホールは該バンク層の表面に散在されて複数形成されていることを特徴とする請求項5に記載の有機EL表示装置。
- 前記スルーホールの形状は三角形となっていることを特徴とする請求項6、7のいずれかに記載の有機EL表示装置。
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