JP2005057118A - 印刷配線板の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 フォトリソグラフィー法を用いずに、簡単な設備によりファインパターンを有する印刷配線板を製造する方法を提供する。
【解決手段】 基板上に機能性材料を所定の形状に形成して得られる印刷配線板の製造方法において、前記機能性材料を離型性面に塗布して塗布面を形成する塗布面形成工程と、前記塗布面に所定形状の凸版を押圧して凸版の凸部分に前記機能性材料を転写して除去する除去工程と、塗布面に残った前記機能性材料を基板に転写する工程からなる印刷配線板の製造方法。
【選択図】 なし

Description

本発明は、印刷配線板の製造方法に関する。

従来、印刷配線板は、例えば、絶縁層の片面または両面に金属箔を配した金属張り積層板の金属層上にエッチングレジスト層を設け、更にエッチングレジスト層上にフォトマスクを配し、紫外線照射等によりエッチングレジストを露光し、その後エッチングレジストの不要部分を除去した後、金属箔の不要部分をエッチングにより除去するといった多くの工程を有する、所謂フォトリソグラフィー法の一種であるサブトラクティブ法により製造されている。

更に、前述の方法により製造された片面印刷配線板または両面印刷配線板をガラス織布プリプレグ等の接着層を介して複数枚プレス積層し、ドリル、レーザー等により穴あけし、更にめっき等により異なる導電層を電気的に接続するといった複数の工程を経ることにより多層印刷配線板を製造している。

近年、電子機器の小型化、高速化が進展し、印刷配線板やLSIを実装する配線板はファインパターンによる高密度化が必要不可欠となっている。 このため、印刷配線板にファインパターンを形成する方法として、基板表面にレジストを形成後、無電解めっきにより導体を形成するフォトリソグラフィー法の一種であるアディティブ法が注目されている。このアディティブ法の例として、例えば特開平７−３０２２８号公報によれば、線幅５０μｍまでのファインパターンを形成することが可能である。
しかし、このアディティブ法では、基板表面の粗化、基板表面の洗浄、めっき触媒の付与、レジストのラミネート、露光、現像、無電解めっきといった工程を要し、サブトラクティブ法と同様に多くの工程を有するが、特開平７−３０２２８号公報に記載されているように、ファインパターンを形成するために無電解めっき触媒である貴金属超微粒子ゾルを厳密に管理する必要があることや、基板への貴金属超微粒子触媒の付着量の管理が必要であるなど、工程管理が非常に煩雑である。

特開平７−３０２２８号公報 特開２００３−１１０２４２号公報

前述した従来の印刷配線板の製造方法では、工程数が多く管理が煩雑であり、印刷配線板の製造には多大な時間と労力を要する。また、各工程毎にそれぞれ異なる設備を使用する必要があるため、大規模な製造ラインが必要となる。 更に、フォトリソグラフィー法においては、金属箔層の回路以外の部分はエッチングにより除去され、また、エッチングレジストのように回路形成後には全てが除去されてしまう副資材もあり、材料使用効率が低い。一方、使用済みのエッチング液やめっき液等の処理も必要であり、これらは全て印刷配線板の製造コストを押し上げる要因となっている。
これに対して、特開２００３−１１０２４２号公報では、基材上に導体層および穴のある絶縁層を印刷法により形成し、絶縁層の穴を電磁気特性材料で充填することにより印刷配線板を製造する方法が提案されている。この方法によれば、フォトリソグラフィー法が不要となり、印刷配線板の製造工程が簡略になり、低コストに製造することが可能となる。しかしながら、特開２００３−１１０２４２号公報には印刷方法に関する具体的な記述が無く、また、近年の印刷配線板に必要不可欠であるファインパターンを実現可能であることを示唆する記述も無い。
本発明は、上記課題を踏まえてなされたものであり、フォトリソグラフィー法を用いずに、簡単な設備によりファインパターンを有する印刷配線板を製造する方法を提供するものである。

請求項１に記載の発明は、基板上に機能性材料を所定の形状に形成して得られる印刷配線板の製造方法において、前記機能性材料を離型性面に塗布して塗布面を形成する塗布面形成工程と、前記塗布面に所定形状の凸版を押圧して凸版の凸部分に前記機能性材料を転写して除去する除去工程と、塗布面に残った前記機能性材料を基板に転写する工程からなる印刷配線板の製造方法に係わる。
また、請求項２に記載の発明は、前記機能性材料が導電体材料、絶縁体材料、抵抗体材料から選ばれる少なくとも一種類以上の機能性材料であって、離型性面に塗布して塗布面を形成する塗布面形成工程における粘度を５０ｍＰａ・ｓ以下に調整する請求項１に記載の印刷配線板の製造方法に係わる。
また、請求項３に記載の発明は、前記機能性材料が導電体材料であり、その体積抵抗率が１×１０^−４Ω・ｃｍ以下で、離型性面に塗布して塗布面を形成する塗布面形成工程における粘度を５０ｍＰａ・ｓ以下に調整する請求項１に記載の印刷配線板の製造方法に係わる。
また、請求項４に記載の発明は、前記機能性材料が絶縁体材料であり、その体積抵抗率が１×１０^１０以上で、離型性面に塗布して塗布面を形成する塗布面形成工程における粘度を５０ｍＰａ・ｓ以下に調整する請求項１に記載の印刷配線板の製造方法に係わる。
また、請求項５に記載の発明は、前記機能性材料が抵抗体材料であり、その体積抵抗率が１×１０^−３Ω・ｃｍ以上で、離型性面に塗布して塗布面を形成する塗布面形成工程における粘度を５０ｍＰａ・ｓ以下に調整する請求項１に記載の印刷配線板の製造方法に係わる。

また、請求項６に記載の発明は、金属張り積層板の金属層上にインクレジストを所定の形状に形成し、次いで金属層の不要部分をエッチングにより除去して得られる印刷配線板の製造方法において、インクレジストを所定の形状に形成する工程が、インクレジストを離型性面に塗布して塗布面を形成する塗布面形成工程と、前記塗布面に所定形状の凸版を押圧して凸版の凸部分に前記インクレジストを転写して除去する除去工程と、塗布面に残った前記インクレジストを基板に転写する工程からなる印刷配線板の製造方法に係わる。
また、請求項７に記載の発明は、離型性面に塗布して塗布面を形成する塗布面形成工程における前記インクレジストの粘度を５０ｍＰａ・ｓ以下に調整する請求項６に記載の印刷配線板の製造方法に係わる。
また、請求項８に記載の発明は、印刷配線板の最外層にインクレジストを所定の形状に形成し、インクレジストで被覆されずに残された部分が部品実装の接続点となるため金めっき及び／又ははんだめっきを施して得られる印刷配線板の製造方法において、インクレジストを所定の形状に形成する工程が、インクレジストを離型性面に塗布して塗布面を形成する塗布面形成工程と、前記塗布面に所定形状の凸版を押圧して凸版の凸部分に前記インクレジストを転写して除去する除去工程と、塗布面に残った前記インクレジストを基板に転写する工程からなる印刷配線板の製造方法に係わる。
また、請求項９に記載の発明は、離型性面に塗布して塗布面を形成する塗布面形成工程における前記インクレジストの粘度を５０ｍＰａ・ｓ以下に調整する請求項８に記載の印刷配線板の製造方法に係わる。

本発明によれば、基板上に機能性材料を所定の形状に形成して得られる印刷配線板の製造方法において、前記機能性材料を離型性面に塗布して塗布面を形成する塗布面形成工程と、前記塗布面に所定形状の凸版を押圧して凸版の凸部分に前記機能性材料を転写して除去する除去工程と、塗布面に残った前記機能性材料を基板に転写する工程からなる印刷配線板の製造方法により、フォトリソグラフィー法を用いずに、簡単な設備によりファインパターンを有する印刷配線板を製造することが可能である。

以下、本発明について詳細に説明する。
本発明において機能性材料は、導電体材料、絶縁体材料、抵抗体材料から選ばれる少なくとも一種類以上のものであり、これらは溶剤に溶解または分散していることが好ましい。ここで用いる溶剤は、前記機能性材料を溶解または分散可能な溶剤であればどの様なものでもよく、例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ドデカン、イソペンタン、イソヘキサン、イソオクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、シクロペンタンなどの脂肪族炭化水素系有機溶剤、ベンゼン、トルエン、o-キシレン、m-キシレン、p-キシレン、エチルベンゼン、メシチレン、ナフタレン、シクロヘキシルベンゼン、ジエチルベンゼンなどの芳香族炭化水素系溶剤、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸n-プロピル、酢酸イソブチル、酢酸ｎ−ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチルなどのエステル系溶剤、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、sec-ブタノール、tert-ブタノール、シクロヘキサノール、α-テルピネオールなどのアルコ−ル系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、2-ヘキサノン、2-ヘプタノン、2-オクタノンなどのケトン系溶剤、ジエチレングリコールエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールプロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールイソプロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコール-ｔ-ブチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールエチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールプロピルエーテルアセテート、トリエチレングリコールイソプロピルエーテルアセテート、トリエチレングリコールブチルエーテルアセテート、トリエチレングリコール-ｔ-ブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルなどのアルキレングリコール系溶剤、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジヘキシルエーテル、エチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、アニソール、ブチルフェニルエーテル、ペンチルフェニルエーテル、メトキシトルエン、ベンジルエチルエーテル、ジフェニルエーテル、ジベンジルエーテル、ジオキサン、フラン、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶剤、N、N-ジメチルホルムアミド、N、N-ジメチルアセタミド、N-メチルピロリドンなどのアミド系溶媒などがあるが、特に限定するものではない。また、これらは単独または二種類以上を併用してもよい。

前記機能性材料のうち、導電体材料としては、一般に導電性を示す材料であればどの様なものでもよく、また、溶剤を除去した後、加熱あるいはその他の処理を施した後に導電性を示す材料でもよい。このような導電性材料としては、例えば、金、銀、銅、白金、パラジウム、ニッケル、その他の導電性金属、各種合金の微粒子およびコロイド、導電性ポリマーなどが用いられるが、特に制限するものではない。また、これらは単独または二種類以上を併用してもよい。

前記機能性材料のうち、絶縁体材料としては、一般に絶縁性を示す材料であればどの様なものでもよく、例えばエポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、シリコーン変性ポリアミドイミド樹脂、ポリエステル樹脂、シアネートエステル樹脂、BTレジン、アクリル樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂などがあるが、特に制限するものではない。また、これらは単独または二種類以上を併用してもよい。これらの絶縁体材料を印刷配線板に用いる場合には絶縁信頼性、接続信頼性、耐熱性の観点から、熱硬化性樹脂を用いることが好ましい。熱硬化性樹脂を用いる場合にはモノマー、オリゴマー等を溶剤に溶解し、基板に塗布後、加熱処理することにより硬化させる。また、必要に応じて、硬化促進剤、カップリング剤、酸化防止剤、充填剤などを配合してもよい。

前記機能性材料のうち、抵抗体材料としては、一般に抵抗体として用いられているものであればどの様なものでもよく、例えばカーボンや、金、銀、銅、白金、パラジウム、ニッケル、タングステンその他の導電性金属をバインダ樹脂に混合したペーストなどがあるが、特に制限するものではない。また、これらは単独または二種類以上を併用してもよい。バインダ樹脂としてはエポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、シリコーン変性ポリアミドイミド樹脂、ポリエステル樹脂、シアネートエステル樹脂、BTレジン、アクリル樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂などがある。これらのバインダー樹脂は絶縁信頼性、接続信頼性、耐熱性の観点から、熱硬化性樹脂を用いることが好ましい。

本発明における基板（基材）は、機能性材料を所定の形状に形成するための支持体であり、例えばガラス織布エポキシ積層板、ガラス不織布エポキシ積層板、紙エポキシ積層板、紙フェノール積層板、ガラス織布ポリイミド積層板などのガラス繊維強化プラスチック、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネートなどのプラスチックフィルム、絶縁体で被覆された銅、アルミニウム、ステンレス、鉄などの金属板または箔、板状のガラス、アルミナ、ジルコニア、シリカなどがある。

本発明におけるインクレジストのバインダ樹脂としては、一般にインクレジストに用いられているバインダポリマーであればどの様なものでもよく、例えば天然ゴム、ポリイソプレン、ポリ-１,２-ブタジエン、ポリイソブテン、ポリブテン、ポリ-２-ヘプチル-１，３-ブタジエン、ポリ-２-ｔ-ブチル-１,３-ブタジエン、ポリ-１,３-ブタジエンなどの（ジ）エン類、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリビニルエチルエーテル、ポリビニルヘキシルエーテル、ポリビニルブチルエーテルなどのポリエーテル類、ポリビニルアセテート、ポリビニルプロピオネートなどのポリエステル類、ポリウレタン、エチルセルロース、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリメタクリロニトリル、ポリスルホン、ポリスルフィド、ポリエチルアクリレート、ポリブチルアクリレート、ポリ-２-エチルヘキシルアクリレート、ポリ-ｔ-ブチルアクリレート、ポリ-３-エトキシプロピルアクリレート、ポリオキシカルボニルテトラメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリイソプロピルメタクリレート、ポリドデシルメタクリレート、ポリテトラデシルメタクリレート、ポリ-ｎ-プロピルメタクリレート、ポリ-３,３,５-トリメチルシクロヘキシルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリ-２-ニトロ-２-メチルプロピルメタクリレート、ポリ-１,１-ジエチルプロピルメタクリレート、ポリメチルメタクリレートなどのポリ（メタ）アクリル酸エステルなどがある。さらにアクリル樹脂とアクリル以外との共重合可能なモノマーとしては、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリエステルアクリレートなども使用できる。特に金属層への濡れ性の点から、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレートが優れており、エポキシアクリレートとしては、１,６-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、アリルアルコールジグリシジルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエーテル、アジピン酸ジグリシジルエステル、フタル酸ジグリシジルエステル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、ソルビトールテトラグリシジルエーテル等の（メタ）アクリル酸付加物などがある。エポキシアクリレートなどのように反応して又は元々分子内に水酸基を有するポリマーは濡れ性や密着性向上に有効である。これらの共重合樹脂は必要に応じて、２種以上併用することができる。これらの他にも、フェノール樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、キシレン樹脂のような熱硬化性樹脂などが適用可能で、これらのポリマーは必要に応じて、２種以上共重合してもよいし、２種類以上をブレンドして使用することも可能である。これらのバインダポリマは通常、溶剤に溶解させるか、または無溶剤のまま下記の添加剤とともに攪拌・混合して使用することができる。本発明で使用するインクレジストには、バインダポリマの他、必要に応じて、分散剤、チクソトロピー性付与剤、消泡剤、レベリング剤、希釈剤、可塑化剤、酸化防止剤、金属不活性化剤、カップリング剤、充填剤などの添加剤を配合しても良い。そして、インクレジストには、紫外線（ＵＶ）または熱で硬化するインクを用いることが、レジストの取扱性、ケミカルエッチング時の耐薬品性、レジストを設けて使用する場合に有利であるので好ましい。

本発明で使用する金属張り積層板は、一般に印刷配線板の製造に用いられるものであればどの様なものでもよく、例えばガラス織布エポキシ銅張り積層板、ガラス不織布エポキシ銅張り積層板、紙エポキシ銅張り積層板、紙フェノール銅張り積層板、ガラス織布ポリイミド銅張り積層板などがある。また、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネートなどのフィルム上に接着剤層を介して金属箔を接着したものや、蒸着、スパッタなどにより金属層を設けた金属張り積層フィルムを用いることもできる。これらの金属張り積層板の金属層はエッチングの容易さ、電気抵抗、回路形成後のイオンマイグレーション性などの観点から、銅であることが好ましい。

本発明の印刷配線板の製造方法における機能性材料またはインクレジストの印刷方法は、まず、機能性材料またはインクレジストをキャップコ−タ等を使用してロ−ル形状、またはフィルム等の離型性面に塗布させる。キャップコ−タは毛管現象を利用して機能性材料またはインクレジストを供給する。数分間乾燥させた後、ロ−ル状又は平板状凸版板を押圧し不要な機能性材料またはインクレジストを転写除去する。その後、残った機能性材料またはインクレジストをロ−ル形状、またはフィルム等の離型性面から基板面に転写させ所望のパタ−ンを得る。

凸版として、例えば水現像ナイロン系感光性樹脂凸版（東洋紡プリンタイト；東洋紡績株式会社製商品名）等の感光性樹脂を用い、目的とする形状のパターンの逆パターンを形成する。凸部に機能性材料またはインクレジストを転写除去するので表面張力の大きな組成としたり、インキとの接触面積を大きくするため凸部を粗化することが重要である。表面張力を大きくするには、凸部構成樹脂に極性基を多量に含ませる配合とする。また、転写除去した機能性材料またはインクレジストはブレード等で擦り取ったり、多孔性の紙等に押し当て除去したり溶剤で洗浄除去したり、これらを組み合わせても良い。塗布面に残ったパターンの基板への転写は、離型性面の離型性能に影響されるが、パターンの方向により影響される場合がある。時間的に縦方向に転写される場合、縦方向の線は途切れることなく転写されるが、横方向の線は転写性に劣る傾向にあるので縦方向、斜め方向の線が多くなるようにし、横方向の線が少ないパターンとしたほうが好ましい。例えば、格子パターンでは、その格子を回転し、縦方向にひし形状に転写されるように凸版の形状に工夫をこらし、転写された基板は格子パターンとなるよう角度を変えて製品取りするなどを行うこともできる。これをしなくとも、離型性面の離型性能を調整することにより解決されることもあり、機能性材料またはインクレジストに充填材などを配合するなどにより解決することもある。

離型性面は、離型性を有する面であり、ロール表面に離型処理を施したロール状のものや、フィルム自体が離型性を有するもの、また、離型処理を施したフィルムである。
離型性面がフィルムである場合、連続した塗布面を形成することができ生産性を向上させることができる。フィルムの場合、連続して塗布面を形成できロール等の表面に沿わすことにより、次工程の除去工程、転写工程を連続で行うことができる。
ロール表面に離型処理を施したロール状のものは、金属、ゴム、樹脂、セラミック製のロールに離型剤で離型処理したもの、離型処理層を設けたもの等が挙げられる。離型処理層として表面張力の小さい例えばフッ素系樹脂、シリコン樹脂、ポリオレフィン系樹脂やオリゴマー等で被覆した層を有するもの、金属複合酸化物層、セラミック層をメッキ、蒸着、プラズマ、焼付け等により形成したものが挙げられる。中でも、柔軟性で離型性に優れたシリコン樹脂で作製されたロールやシリコン樹脂を被覆したロールが好ましい。
フィルム自体が離型性を有するものとして、フッ素系樹脂、ポリオレフィン系樹脂などの表面張力が小さい樹脂フィルムが挙げられ、具体的には、ポリテトラフルオロエチレン、ポリトリフルオロエチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン等が挙げられる。これらのフィルムは、表面張力が２０〜３０ｄｙｎｅ/ｃｍであることが好ましい。
離型処理は、離型剤により処理したものであり、離型剤として鉱油系(流動パラフィン、ポリオレフィンワックス、それらの部分酸化物、フッ化物、塩化物等)、脂肪酸系（ステアリン酸、オレイン酸等）、油脂系（動植物油、天然ワックス等）、脂肪酸エステル系（エチレングリコール脂肪酸エステル、ソルビトール脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル等）、アルコール系（ポリオキシアルキレングリコール、グリコール類、ポリオキシエチレン高級アルコールエーテル、高級脂肪族酸系アルコール等）、アミド系(ポリオキシエチレンアルキレンアミド、脂肪酸アマイド系等)、リン酸エステル系(ポリオキシアルキレンリン酸エステル等)、金属石鹸系（ステアリン酸カルシウム、オレイン酸ナトリウム等）が挙げられ、これらは耐熱性に劣るのでシリコーンを併用して耐熱性を向上したり、離型性を調整する。シリコーンを多くすると耐熱性や離型性を高くすることができる。さらに、離型剤としてシリコーン系、フッ素系があり、シリコーン系としてジメチルシリコンオイル、ジメチルシリコンゴム、シリコーンレジン、有機変性シリコーンを挙げることができる。フッ素系としてポリテトラフルオロエチレンなどが挙げられる。印刷インキ組成物と離型性面のＳＰ値（ソルビリティ・パラメータ）が離れていることが好ましく、具体的には、２以上離れていることが特に好ましい。ＳＰ値は、組成物などの場合には測定が困難であるので例えば、Ｐｏｌｙｍ．Ｅｎｇ．Ｓｃｉ．，Ｖｏｌ．１４の１４７〜１５４頁に記載されているＦｅｄｏｒｓの方法に準じて計算される値［単位：（ＭＪ／ｍ3）1/2］などをもちいる。溶解性パラメーターは、一般にＳＰ（ソルビリティ・パラメーター）と呼ばれるもので、樹脂の親水性又は疎水性の度合いを示す尺度であり、樹脂間の相溶性を判断する上でも重要な尺度となる。シリコーン系離型剤では、ジメチルポリシロキサンの表面張力が、２０〜２１．５ｄｙｎｅ／ｃｍであるので、これをベースポリマとして種々の樹脂と組み合わせてブレンド、共重合させることにより離型性を調整した離型剤とすることができる。離型剤の移行防止の観点からペイントタイプのメチルフェニルシリコーンオイル、長鎖アルキル変性オイルとしたり、フッ素化合物とシリコーンポリマーを混合使用したり、フッ素変性シリコーンを用いることもできる。シリコーン系離型剤には、シリコーンオイル（ベースポリマーとして、ジメチルシリコーン、ジメチル/シリコーンレジン、変性シリコーンオイル、フェニル基/長鎖アルキル基含有シリコーンオイル）、硬化型（ベースポリマーとして、ジメチルシリコーン系（縮合反応、付加反応型）、メチルシリコーンワニス）があり、硬化型が本発明には適している。離型処理は、乾燥機能性材料またはインクレジストの凝集力＞凸版の凸部分と乾燥機能性材料またはインクレジストの接着力＞離型性面と乾燥機能性材料またはインクレジストの接着力となるように調整する。調整は、離型性面が行いやすく、表面張力を調整することで容易に行える。この場合、離型性面は、機能性材料またはインクレジストが塗布されるので、機能性材料またはインクレジストをはじくことなく塗布でき、しかも、離型性が良くなければならないので重要である。塗布層の厚みが薄いほどはじきやすくなり、はじき、ピンホール等をなくするには、離型性表面の表面張力を上記の接着力の大小関係を考慮して高めにすることや表面を粗化する。離型性面の粗化は、離型性面の粗化でも良く、離型性面の下地の粗化を利用したものでもよく、多孔性としたものでもよい。このようなものとしてシリコン製のブランケットが好適である。

このようにして得られる機能性材料またはインクレジストのパターンを微細なパターン、具体的には線幅５０μm以下とするためには、機能性材料またはインクレジストの粘度を５０mPa・s以下、好ましくは２０mPa・s以下、更に好ましくは１０mPa・s以下にすることが好ましい。機能性材料またはインクレジストの粘度が５０mPa・sを超えて高い場合、均一な塗膜をもつ高精細なパターンを得ることが困難となる。
また、本発明で使用する機能性材料またはインクレジストにおいては、それぞれに使用される材料の形態が粒子状物質であるものを、機能性材料またはインクレジスト中に好ましくは３重量％以上、より好ましくは５重量％以上、さらに好ましくは１０重量％以上、特に好ましくは１０〜５０重量％含むと、印刷精度、特に印刷方向に対して、横方向の細線の印刷精度に優れるので好ましい。

本発明の印刷配線板の製造方法により、フォトリソグラフィー法を用いずに、簡単な設備によりファインパターンを有する印刷配線板を製造することが可能である。
なお、上記方法は、エッチドフォイル法、メッキ法等で印刷配線板を製造するに当たってエッチング用インクレジストを金属張り積層板の金属層上に適用することだけではなく、ソルダーマスク等のいわゆる永久レジストにも好適に利用でき、特にランド部への永久レジストの形成に有効である。

以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
（実施例１）
導電体材料として、銀ペースト(パーフェクトシルバー；真空冶金株式会社製商品名)を用いた。この銀ペーストの粘度は、２５℃において１０mPa・sであった。銀ペーストを離型性面であるシリコン樹脂面に塗布し、塗布面を形成し、その後、６μｍの線幅を持った配線パターンの逆パターンを形成した凸版を押圧して凸版の凸部分に銀ペーストを転写して、凸部分の塗膜を除去し、塗布面に残った銀ペーストをポリイミドフィルム(ユーピレックス−50S；宇部興産株式会社製商品名)基板上に転写した。更に、ポリイミドフィルムごと乾燥器を用いて３００℃で１５min間加熱処理を行い、線幅６μmの配線パターンを備えた印刷配線板を得た。

（実施例２）
ビスフェノールAノボラックエポキシ樹脂(N-865；大日本インキ化学工業株式会社商品名)３７．４４g、ビスフェノールAノボラック樹脂（VH-4170；大日本インキ化学工業株式会社商品名）２０．５２g、２-エチル-４-メチルイミダゾール(東京化成工業株式会社製)０．１１gをメチルエチルケトン３８．７１gに溶解し、不揮発分が６０重量%、２５℃における粘度が４８mPa・sの絶縁体材料となる絶縁体インクを調整した。この絶縁体インクを離型性面であるシリコン樹脂面に塗布し、次いで逆パターンを形成した凸版（版胴）を押圧して凸版の凸部分に絶縁体インクを転写して、凸部分の塗膜を除去し、塗布面に残った絶縁体インクを予め回路加工を施した片面フレキシブル配線板上に転写した。更に、この配線板ごと乾燥器を用いて１８０℃で６０min間加熱処理を行い、絶縁層を備えた印刷配線板を得た。

（実施例３）
カーボンペースト(JELCON CH-2；十条ケミカル株式会社製商品名)２０gにテトロン溶剤（十条ケミカル株式会社製商品名；グリコールエステル系）を３０g加えて、２５℃における粘度が２０mPa・sの抵抗体材料となる抵抗体インクを調製した。この抵抗体インクを離型性面であるシリコン樹脂面に塗布し、塗布面を形成した。次いで、線幅１０μmで長さ１mmとなる逆パターンを形成した凸版（版胴）を押圧して凸版の凸部分に抵抗体インクを転写して、凸部分の塗膜を除去し、塗布面に残った抵抗体インクをポリイミドフィルム（ユーピレックス−50S；宇部興産株式会社製商品名）基板上に転写した。更に、ポリイミドフィルムごと乾燥器を用いて１２０℃で１５min間加熱処理を行い、線幅１０μmで長さ１mmの抵抗配線パターンを備えた印刷配線板を得た。

（実施例４）
インクレジストとしてポジ型液状エッチングレジスト(PMER P-RZ30；東京応化工業株式会社製商品名)に、２５℃における粘度が３０mPa・sとなるように希釈液（PMER希釈液P-R；東京応化工業株式会社製商品名）を加えて、エッチングレジストインクを調製した。このエッチングレジストインクを離型性面としてシリコン樹脂面に塗布し、塗布面を形成した。次いで、印刷配線板の回路部分の線幅が6μmとなるよう印刷配線板の回路に相当する部分が凸となるパターンを形成した凸版（版胴）を押圧して凸版の凸部分にエッチングレジストインクを転写して、凸部分の塗膜を除去し、塗布面に残ったエッチングレジストインクを、銅箔張り積層板の金属層上に転写した。更に、この銅箔張り積層板をUV露光後、塩化第二鉄溶液系のエッチング液を用いて銅箔をエッチングし、エッチングレジストインク剥離工程を経て回路加工を施した。ここで得られた印刷配線板の回路部分の線幅は６μmであった。

（実施例５）
液状ソルダレジスト（SR-7000；日立化成工業株式会社製商品名）３０ｇにメチルエチルケトンを３０ｇ加えて、２５℃における粘度が４０ｍＰａ・ｓのソルダレジストインクを調製した。このソルダレジストインクを離型性面としてシリコン樹脂面に塗布し、塗布面を形成した。次いで、上記と同様に版胴を用いて、不要部分を転写除去した。その後、シリコン樹脂面に残ったレジストインクを、回路形成を終えた印刷配線板の上に転写した。更に、１Ｊ／ｃｍ^２の紫外線照射後、この印刷配線板を乾燥器を用いて１５０℃で６０ｍｉｎ間加熱処理し、露出した金属面にニッケル・金の無電解めっきを施した。得られた印刷配線板のニッケル・金めっき部分の線幅は5μｍであった。

（実施例６）
実施例１と同様の工程でポリイミドフィルム上に銀ペーストによる配線を転写し、乾燥して銀ペーストに含まれる溶剤を揮発させた後、ポリイミドフィルム裏面にも同様にして銀ペーストによる配線パターンを転写した。次いで、ポリイミドフィルムごと乾燥器を用いて３００℃で１５ｍｉｎ間加熱処理を行い、線幅６μｍの配線パターンを備えた両面印刷配線板を得た。この両面印刷配線板に実施例２と同様の工程で片面に絶縁層を転写後、乾燥器で１６０℃で３ｍｉｎ間加熱処理し、絶縁体インクに含まれる溶剤を揮発させた後、裏面にも同様にして絶縁層を形成した。その後、この配線板ごと乾燥器を用いて１８０℃で６０ｍｉｎ間加熱処理を行い、表面に絶縁層を備えた両面印刷配線板を得た。更に、この表面に絶縁層を備えた両面印刷配線板の両面に同様の工程で銀ペーストによる配線形成を行い、４層の印刷配線板を得た。この４層の印刷配線板の表面層の配線幅は６μｍであった。

（実施例７）
実施例６により作製した４層印刷配線板に実施例５と同様の方法でニッケル・金の無電解めっきを施した。得られた印刷配線板のニッケル・金めっき部分の線幅は５μｍであった。

（比較例１）
FR-4グレードの両面銅張り積層板(MCL-E-67；日立化成工業株式会社製商品名)にドリルで穴明け加工を施した後整面研磨し、無電解めっき及び電気めっき工程を経て上下面の導通を図った。その後、再度整面研磨した後エッチング用ドラフィルムレジストをラミネートし、予めスケールファクタをかけたネガパターンを用いて配線加工を施し内層基板を得た。この内層基板の上下に多層化接着用プリプレグと銅箔（厚み１８μｍ）をこの順序で配し、積層プレスを用いて多層化積層した。レーザを用いた表層穴明けおよびドリルを用いた貫通穴明け工程を経て、整面研磨後に無電解めっき及び電気めっきで層間の導通を図った。表層を整面研磨した後エッチング用ドラフィルムレジストをラミネートし、予めスケールファクタをかけたネガパターンを用いて平行露光機を用いて露光し、アルカリ現像液で現像後エッチングレジストを剥離して表層の配線加工を施し、４層の印刷配線板を得た。ここで得られた表層の線幅は６０μｍであった。

（比較例２）
線幅６０μｍの４層配線板に液状ソルダレジスト（SR-7000日立化成工業株式会社製商品名）をスクリーン印刷し、１Ｊ／ｃｍ^２の紫外線照射後、乾燥器を用いて１５０℃で６０ｍｉｎ間加熱処理を行い、無電解ニッケル・金めっきを施した。得られた４層配線板のニッケル・金めっき部分の線幅は５０μｍであった。

上記実施例６、７及び比較例１、２に示した印刷配線板の製造工程と得られた印刷配線板の仕様を表１にまとめて示した。

以上のように、本発明の実施例１〜３では印刷機と乾燥器のみの簡単な設備により基板上にパターンを形成できた。また、実施例４及び５ではフォトリソグラフィー法を用いずに５０μｍ以下のファインパターンを形成できた。更に、表１から明らかなように、実施例６及び７では非常に少ない工程により５０μｍ以下のファインパターンを形成できた。

これに対し、従来のフォトリソグラフィー法である比較例１及び２では非常に多くの工程とプレス等の大型設備を要し、且つ５０μｍ以下のファインパターンを得ることは難しかった。

本発明の印刷配線板の製造方法により、配線基板に導電体材料、絶縁体材料、抵抗体材料等の機能性材料を設けることができる。また、インクレジストを形成することにより微細な配線を形成することができる。さらに、この製造方法を繰り返し、これらの材料を積み上げることにより厚みの厚い材料を製造することもできる。これらを適用することにより、光配線を配線基板に形成することもできる。段差のある部分や交差して形成することもできる。また、エッチング用インクレジストを金属張り積層板の金属層上に適用することだけではなく、ソルダーマスク等のいわゆる永久レジストにも好適に利用でき、特にランド部への永久レジストの形成に有効である。

Claims (9)

1. 基板上に機能性材料を所定の形状に形成して得られる印刷配線板の製造方法において、前記機能性材料を離型性面に塗布して塗布面を形成する塗布面形成工程と、前記塗布面に所定形状の凸版を押圧して凸版の凸部分に前記機能性材料を転写して除去する除去工程と、塗布面に残った前記機能性材料を基板に転写する工程からなる印刷配線板の製造方法。
2. 前記機能性材料が導電体材料、絶縁体材料、抵抗体材料から選ばれる少なくとも一種類以上の機能性材料であって、離型性面に塗布して塗布面を形成する塗布面形成工程における粘度を５０ｍＰａ・ｓ以下に調整する請求項１に記載の印刷配線板の製造方法。
3. 前記機能性材料が導電体材料であり、その体積抵抗率が１×１０^−４Ω・ｃｍ以下で、離型性面に塗布して塗布面を形成するにおける粘度を５０ｍＰａ・ｓ以下に調整する請求項１に記載の印刷配線板の製造方法。
4. 前記機能性材料が絶縁体材料であり、その体積抵抗率が１×１０^１０以上で、離型性面に塗布して塗布面を形成する塗布面形成工程における粘度を５０ｍＰａ・ｓ以下に調整する請求項１に記載の印刷配線板の製造方法。
5. 前記機能性材料が抵抗体材料であり、その体積抵抗率が１×１０^−３Ω・ｃｍ以上で、離型性面に塗布して塗布面を形成する塗布面形成工程における粘度を５０ｍＰａ・ｓ以下に調整する請求項１に記載の印刷配線板の製造方法。
6. 金属張り積層板の金属層上にインクレジストを所定の形状に形成し、次いで金属層の不要部分をエッチングにより除去して得られる印刷配線板の製造方法において、インクレジストを所定の形状に形成する工程が、インクレジストを離型性面に塗布して塗布面を形成する塗布面形成工程と、前記塗布面に所定形状の凸版を押圧して凸版の凸部分に前記インクレジストを転写して除去する除去工程と、塗布面に残った前記インクレジストを基板に転写する工程からなる印刷配線板の製造方法。
7. 離型性面に塗布して塗布面を形成する塗布面形成工程における前記インクレジストの粘度を５０ｍＰａ・ｓ以下に調整する請求項６に記載の印刷配線板の製造方法。
8. 印刷配線板の最外層にインクレジストを所定の形状に形成し、インクレジストで被覆されずに残された部分が部品実装の接続点となるため金めっき及び／又ははんだめっきを施して得られる印刷配線板の製造方法において、インクレジストを所定の形状に形成する工程が、インクレジストを離型性面に塗布して塗布面を形成する塗布面形成工程と、前記塗布面に所定形状の凸版を押圧して凸版の凸部分に前記インクレジストを転写して除去する除去工程と、塗布面に残った前記インクレジストを基板に転写する工程からなる印刷配線板の製造方法。
9. 離型性面に塗布して塗布面を形成する塗布面形成工程における前記インクレジストの粘度を５０ｍＰａ・ｓ以下に調整する請求項８に記載の印刷配線板の製造方法。