JP2005055883A - 光反射体 - Google Patents

Abstract

【課題】 薄物で反射率が高く、作業性、生産性、成形加工性が良好な光反射体を提供する。
【解決手段】 活性エネルギー線の作用によって酸を発生する酸発生剤または塩基を発生する塩基発生剤を含有し、さらに、酸または塩基と反応して一種類以上の低沸点揮発性物質を分解脱離する分解発泡性官能基を有する化合物を含有する発泡性組成物から発泡させて得られる光反射体。微細気泡の平均直径は0.005〜10μｍが好ましく、気泡率は5〜90％、反射体の厚さは10〜500μｍが好ましい。
反射体は液晶表示装置のバックライトユニットに使用できる。
【選択図】 なし

Description

本発明は、独立した複数の微細気泡および／または連続している複数の微細気泡を形成させた発泡構造（多孔質構造を含む）を有する光反射体に関するものである。
本発明の光反射体は、液晶表示装置のバックライトユニット、内照式照明器具、内照式電飾看板、ライトボックス、投影用スクリーン、シャーカステン、複写機、プロジェクター方式のディスプレイ、ファクシミリ及び電子黒板からなる群から選ばれた光源内蔵装置の光反射部材として好適に使用される。

光反射体の用途
近年、光反射体は多方面の分野において使用されており、例えば、液晶表示装置のバックライトユニット、内照式照明器具、内照式電飾看板、ライトボックス、投影用スクリーン、シャーカステン、複写機、プロジェクター方式のディスプレイ、ファクシミリ及び電子黒板などの光反射部材として使われている。特に液晶表示装置については、テレビジョンやパーソナルコンピューター、ワードプロセッサー、携帯電話、ＰＤＡ、デジタルカメラ、ビデオカメラ、各種ゲーム機、等の電子機器の表示装置として多く使用されており、薄型化、軽量化、省電力化、表示品位の向上が求められている。とくに、薄型化への要望に応えるためには、液晶表示装置に用いるバックライトの光量を少しでも多く液晶部に供給することが必須となる。

液晶バックライト用光反射体
液晶表示装置のバックライトユニットには、光源を直接液晶部の下部に置く直下方式と、光源を透明な導光板のサイドに置くエッジライト方式の２通りがあり、薄型化には後者方式が適している。その場合、光反射体は、ランプホルダー部及び導光板下部の二箇所に主に配設される。光源からの光量は、ランプホルダー部から導光板を経由して、液晶部に伝わる仕組みになっているが、その一部はランプホルダー部や導光板下部の光反射フィルムに反射したのち液晶部に伝えられる。したがって、バックライトユニットから供給される光量を効率よく液晶部へ伝えるには、光反射フィルムの光反射効率を高くする必要がある。しかし、液晶表示装置の薄型化に伴って、光反射体の薄物化も求められており、これは光反射効率を減少させてしまう傾向にある。また、サイドに設置したランプの細径化も進んでおり、光反射体の薄型化以外に、装置内に組み込む作業性や生産性・成形加工性も重要になる。

従来の光反射体
光反射体としては、アルミニウム板（特許文献１）、銀を主成分とした薄膜層を有するアルミニウムなどの金属板（特許文献２）、白色顔料を塗工した金属板（特許文献３）が従来用いられていた。しかし、これらの光反射体は、電気抵抗が低いために光源からの誘導電流によるリーク電流が発生するため、発光に使用される電流が少なくなり発光効率が低下する問題点があった。このリーク電流を防ぐために、近年、絶縁性の高い発泡樹脂シートが用いられている。発泡樹脂はさらに、樹脂中に屈折率の異なる空気層が含有されていることから光散乱効率がよく光反射率向上につながる。例えば、微細発泡を含有させたポリエステルシート（特許文献４〜６）があり、樹脂シートを延伸させることにより形成される空孔（延伸発泡）により光が拡散反射される。現在、バックライトユニットの光反射体として、厚さ188μmの白色発泡ポリエステルフィルム（東レ社製、商品名：Ｅ６０）などが使用されているが、この厚みでは、バックライトユニットの薄型化には対応できない。また、厚さ100μm以下の次世代の薄物光反射シートが求められているが、これ以上薄くすると、空孔径を小さくすることが困難になり、またＰＥＴと空孔との界面での光反射が十分でなく、光反射率が低下してしまう問題があった。そこで、無機系充填剤を含有したポリエステルおよびポリオレフィンの熱可塑性樹脂シート（特許文献７〜８）のように、樹脂よりも屈折率の高い顔料添加で光反射効率を付与した光反射用フィルムが用いられている。しかし、樹脂より顔料の方が比重が高いため、顔料を添加することで軽量化を損ねてしまう問題があった。また、顔料添加により力学強度や樹脂の延伸性が悪化（伸長粘度低下）して延伸発泡のときにフィルムが切れてしまい、成形性・生産性が悪かった。また、これらのフィルムはバックライトユニット中に組み込まれるが、ランプホルダー部に組み込む際に剛性が強ぎて作業性が悪かった。一方、作業性をよくするために、塗工法によって薄物の光反射体を作成する方法が報告されており、中空粒子を（メタ）アクリル酸エステル共重合体樹脂（特許文献９）に混合した塗料を支持体に塗布した光反射体が該当する。しかし、薄物による光反射率の低減を抑えるため、空孔要素である中空粒子の添加量を多くすると、塗布層にひび割れが生じて成膜性が悪くなり、非常に脆い膜となる問題があった。結果的に薄物で高光反射率が得られにくい。

特開昭６２−２８６０１９号公報 実開平４−２２７５５号公報 特開平２−１３９２５号公報 特開平４−２３９５４０号公報 特開２００２−９８８１１号公報 特開２００２−７１９１３号公報 特開平７−２８７１１０号公報 特開２００２−３３３５１１号公報 特開平９−６３３２９号公報

本発明は、微細気泡を有し、薄物で、光反射率が高く、作業性・生産性・成形加工性の良い光反射体を得ることを課題とする。

上記課題を解決するため、本発明は以下の（１）〜（１０）の構成を採用する。
（１）活性エネルギー線の作用によって酸を発生する酸発生剤または塩基を発生する塩基発生剤を含有し、さらに、酸または塩基と反応して一種類以上の低沸点揮発性物質を分解脱離する分解発泡性官能基を有する分解発泡性化合物を含有する発泡性組成物を発泡して製造された光反射体。
（２）上記（１）の発明において、光反射体が、微細気泡を有し、その平均気泡直径が0.005〜10μmであることを特徴とする光反射体。
（３）上記（１）または（２）の発明において、光反射体が、微細気泡を有し、その気泡率が5％〜90％であることを特徴とする光反射体。
（４）上記（１）〜（３）の発明において、光反射体の厚さが10〜500μｍであることを特徴とする光反射体。
（５）上記（１）〜（４）の発明において、波長範囲320〜800ｎｍの入射光に対する平均光反射率が80％以上であることを特徴とする光反射体。
（６）上記（１）〜（５）の発明において、光反射体が、発泡性組成物を平面状および/または曲面状の支持体上に塗布された塗布層から製造されることを特徴とする光反射体。
（７）上記（１）〜（６）の発明において、液晶表示装置のバックライトユニット、内照式照明器具、内照式電飾看板、ライトボックス、投影用スクリーン、シャーカステン、複写機、プロジェクター方式のディスプレイ、ファクシミリ及び電子黒板からなる群から選ばれた光源内蔵装置の光反射部材として使用し得る光反射体。
（８）上記（１）〜（６）の発明において、液晶表示装置のバックライトユニットを構成するランプホルダーを形成する光反射体として使用し得る光反射体。
（９）上記（１）〜（６）の発明において、液晶表示装置のバックライトユニットを構成する導光板下の光反射体として使用し得る光反射体。
（１０）導光板の片面に光反射シート、他の面に光拡散シートが組み込まれ、さらに該光拡散シートの表面にレンズシートが組み込まれた積層体の少なくとも１側面に光源１が組み込まれ、該光源１が湾曲状に形成されたランプホルダーにより覆われている光反射装置において、ランプホルダーおよび導光板の片面の光反射シートとして上記（１）〜（６）のいずれかに記載の光反射体を使用することを特徴とする光反射装置。

活性エネルギー線の作用によって酸を発生する酸発生剤または塩基を発生する塩基発生剤を含み、さらに、酸または塩基と反応して一種類以上の低沸点揮発性物質を分解脱離する分解発泡性官能基を有する分解発泡性化合物を含む発泡性組成物から製造された光反射体は、独立および／または連続な複数の微細気泡を有し、高光反射率を維持したまま薄物化が可能になった。本発明の光反射体は、液晶表示装置のバックライトユニット、内照式照明器具、内照式電飾看板、ライトボックス、投影用スクリーン、シャーカステン、複写機、プロジェクター方式のディスプレイ、ファクシミリ及び電子黒板からなる群から選ばれた光源内蔵装置の薄物光反射部材として好適に使用することができる。

本発明の光反射体は、下記２つの構成要素を含む発泡性組成物から製造された発泡体である。その一つは、活性エネルギー線の作用によって酸を発生する酸発生剤、または塩基を発生する塩基発生剤であり、他の一つは、前記発生した酸または塩基と反応して一種類以上の低沸点揮発性化合物を分解脱離する分解発泡性化合物である。酸や塩基が発生する過程や、分解脱離反応する過程で、熱エネルギーを加えることができる。

酸発生剤、塩基発生剤
発泡性組成物に用いられる酸発生剤又は塩基発生剤には、化学増幅型フォトレジスト、及び光カチオン重合などに利用されている、光酸発生剤や光塩基発生剤と呼ばれているものを用いることができる。

本発明に好適な光酸発生剤としては、
（１）ジアゾニウム塩系化合物
（２）アンモニウム塩系化合物
（３）ヨードニウム塩系化合物
（４）スルホニウム塩系化合物
（５）オキソニウム塩系化合物
（６）ホスホニウム塩系化合物
などから選ばれた芳香族もしくは脂肪族オニウム化合物のＰＦ₆−、ＡsＦ₆−、ＳbＦ₆−、ＣＦ₃ＳＯ₃−塩を挙げることができる。その具体例を下記に列挙するが、これら例示したものに限定されるものではない。

ビス（フェニルスルホニル）ジアゾメタン、
ビス（シクロヘキシルスルホニル）ジアゾメタン、
ビス（ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル）ジアゾメタン、
ビス（ｐ−メチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、
ビス（４−クロロフェニルスルホニル）ジアゾメタン、
ビス（ｐ−トリルスルホニル）ジアゾメタン、
ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、
ビス（２，４−キシリルスルホニル）ジアゾメタン、
ビス（シクロヘキシルスルホニル）ジアゾメタン、
ベンゾイルフェニルスルホニルジアゾメタン、

トリフルオロメタンスルホネート、
トリメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、
トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、
トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、
２，４，６−トリメチルフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、
ｐ−トリルジフェニルスルホニウム トリフルオロメタンスルホネート、
４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、
４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、
１−（２−ナフトイルメチル）チオラニウムヘキサフルオロアンチモネート、
１−（２−ナフトイルメチル）チオラニウムトリフルオロメタンスルホネート、
４−ヒドロキシ−１−ナフチルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、
４−ヒドロキシ−１−ナフチルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、
（２−オキソ−１−シクロヘキシル)(シクロヘキシル）メチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、
（２−オキソ−１−シクロヘキシル）（２−ノルボルニル）メチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、
ジフェニル−４−メチルフェニルスルホニウムパーフルオロメタンスルホネート、
ジフェニル−４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルスルホニウムパーフルオロオクタンスルホネート、
ジフェニル−４−メトキシフェニルスルホニウムパーフルオロブタンスルホネート、

ジフェニル−４−メチルフェニルスルホニウムトシレート、
ジフェニル−４−メトキシフェニルスルホニウムトシレート、
ジフェニル−４−イソプロピルフェニルスルホニウムトシレート

ジフェニルヨードニウム、
ジフェニルヨードニウムトシレート、
ジフェニルヨードニウムクロライド、
ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、
ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、
ジフェニルヨードニウムナイトレート、
ジフェニルヨードニウムパークロレート、
ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、

ビス（メチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、
ビス（メチルフェニル）ヨードニウムテトラフルオロボレート、
ビス（メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、
ビス（メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、
ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、
ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、
ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、
ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムパーフルオロブタンスルホネート、

２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、
２，４，６−トリ（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、
２−フェニル−４，６−ジトリクロロメチル−１，３，５−トリアジン、
２−(ｐ−メトキシフェニル)−４，６−ジトリクロロメチル−１，３，５−トリアジン、
２−ナフチル−４，６−ジトリクロロメチル−１，３，５−トリアジン、
２−ビフェニル−４，６−ジトリクロロメチル−１，３，５−トリアジン、
２−（４’−ヒドロキシ−４−ビフェニル）−４，６−ジトリクロロメチル−１，３，５−トリアジン、
２−（４’−メチル−４−ビフェニル）−４，６−ジトリクロロメチル−１，３，５−トリアジン、
２−（ｐ−メトキシフェニルビニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、
２−（４−クロロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、
２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス(トリクロロメチル)−１，３，５−トリアジン、
２−（４−メトキシ−１−ナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、
２−（ベンゾ［ｄ］［１，３］ジオキソラン−５−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、
２−（４−メトキシスチリル）−４，６−ビス(トリクロロメチル)−１，３，５−トリアジン、
２−（３，４，５−トリメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、
２−（３，４−ジメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２，４−ジメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−メトキシスチリル）−４，６−ビス(トリクロロメチル)−１，３，５−トリアジン、
２−（４−ブトキシスチリル）−４，６−ビス(トリクロロメチル)−１，３，５−トリアジン、
２−（４−ペンチルオキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、

２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルピリリウムトリフロオロメタンスルホネート、
トリメチルオキシニウムテトラフルオロボレート、
トリエチルオキシニウムテトラフルオロボレート、
Ｎ−ヒドロキシフタルイミドトリフルオロメタンスルホネート、
Ｎ−ヒドロキシナフタルイミドトリフルオロメタンスルホネート、
（α−ベンゾイルベンジル）ｐ−トルエンスルホネート、
（β−ベンゾイル−β−ヒドロキシフェネチル）ｐ−トルエンスルホネート、
１，２，３−ベンゼントリイルトリスメタンスルホネート、
（２，６−ジニトロベンジル）ｐ−トルエンスルホネート、
（２−ニトロベンジル）ｐ−トルエンスルホネート、
（４−ニトロベンジル）ｐ−トルエンスルホネート、
などが挙げられる。なかでも、ヨードニウム塩系化合物、スルホニウム塩系化合物が好ましい。

また、前記オニウム化合物以外にも、活性エネルギー線照射によりスルホン酸を光発生するスルホン化物、例えば、２−フェニルスルホニルアセトフェノン、活性エネルギー線照射によりハロゲン化水素を光発生するハロゲン化物、例えば、フェニルトリブロモメチルスルホン、及び１，１−ビス（４−クロロフェニル）−２，２，２−トリクロロエタン、並びに活性エネルギー線照射により燐酸を光発生するフェロセニウム化合物、例えば、ビス（シクロペンタジエニル）フェロセニウムヘキサフルオロフォスフェート、及びビス（ベンジル）フェロセニウムヘキサフルオロフォスフェートなどを用いることができる。

さらには、下記に挙げる酸発生能を有するイミド化合物誘導体も使用できる。
Ｎ−（フェニルスルホニルオキシ）スクシンイミド、
Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）スクシンイミド、
Ｎ−（１０−カンファースルホニルオキシ）スクシンイミド、
Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）フタルイミド、
Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ナフタルイミド、
Ｎ−（１０−カンファースルホニルオキシ）ナフタルイミド。

本発明に好適な光塩基発生剤としては、
（１）オキシムエステル系化合物
（２）アンモニウム系化合物
（３）ベンゾイン系化合物
（４）ジメトキシベンジルウレタン系化合物
（５）オルトニトロベンジルウレタン系化合物
などが挙げられ、これらは活性エネルギー線の照射により塩基としてアミンを発生する。その他にも、光の作用によりアンモニアやヒドロキシイオンを発生する塩基発生剤を用いてもよい。これらは、例えばＮ−（２−ニトロベンジルオキシカルボニル）ピペリジン、１，３−ビス［Ｎ−（２−ニトロベンジルオキシカルボニル）−４−ピペリジル］プロパン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ニトロベンジルオキシカルボニル）ジヘキシルアミン、及びＯ−ベンジルカルボニル−Ｎ−（１−フェニルエチリデン）ヒドロキシルアミンなどから選ぶことができる。さらには加熱により塩基が発生する化合物を上記光塩基発生剤と併用してもよい。

また、光酸発生剤または光塩基発生剤の活性エネルギー線の波長領域を拡大するために、適宜光増感剤を併用してもよい。例えば、オニウム塩化合物に対する光増感剤には、アクリジンイエロー、ベンゾフラビン、アクリジンオレンジなどが挙げられる。

必要な酸を生成しながらも酸発生剤または塩基発生剤の添加量や光照射エネルギーを最小限に抑制する方法として、酸増殖剤や塩基増殖剤（Ｋ．Ｉｃｈｉｍｕｒａ ｅｔ ａｌ.,Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｌｅｔｔｅｒｓ，５５１−５５２（１９９５）や特開平８−２４８５６１号公報、特開２０００−３３０２７０号公報）を酸発生剤または塩基発生剤とともに用いることができる。酸増殖剤は、常温付近で熱力学的に安定であるが、酸によって分解し、自ら強酸を発生し、酸触媒反応を大幅に加速させる。この反応を利用することにより、酸または塩基の発生効率を向上させて、発泡生成速度や発泡構造をコントロールすることも可能である。

分解発泡性化合物
本発明に使用する発泡性組成物に用いられる分解発泡性化合物（以下、分解性化合物と略す）は、酸または塩基と反応して一種類以上の低沸点揮発性物質（低沸点揮発性化合物）が分解脱離する。すなわち、この分解性化合物には、低沸点揮発性物質を発生し得る分解性官能基があらかじめ導入されていなければならない。低沸点とは発泡時にガス化する温度が上限になる。通常100℃以下、常温以下が好ましい。低沸点揮発性物質としては、例えばイソブテン（沸点−7℃） 、二酸化炭素（沸点−79℃）、窒素（沸点−196℃）などがあげられる。分解性官能基としては、酸と反応するものとしてｔｅｒｔ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル基、ケト酸およびケト酸エステル基などが挙げられ、塩基と反応するものとしてウレタン基、カーボネート基などが挙げられる。酸と反応するものとしては、ｔｅｒｔ−ブチル基はイソブテンガスを、ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル基はイソブテンガスと二酸化炭素を、ケト酸部位は二酸化炭素を、ケト酸エステルたとえばケト酸ｔｅｒｔ−ブチル基は二酸化炭素とイソブテンを発生する。塩基と反応するものとしては、ウレタン基、カーボネート基は二酸化炭素ガスを発生する。このようにして、それぞれのガスが分解性化合物から離脱する。酸（または塩基）分解性化合物の例としては、モノマー、オリゴマー、高分子化合物（ポリマー）等を使用することができ、例えば、以下のような化合物群に分類することができる。
（１） 非硬化性低分子系の分解性化合物群
（２） 硬化性モノマー系の分解性化合物群
（３） 重合体系の分解性化合物群
硬化性モノマー系の分解性化合物に代表される例として、活性エネルギー線を照射したときに重合反応を生じるようなビニル基を含んだ活性エネルギー線硬化性化合物の場合には、均一な微細気泡の形成が容易であり、強度的に優れた発泡体すなわち光反射体を得ることが可能である。分解性化合物の具体例を下記に示すが、その限りではない。

（１）−ａ、非硬化性低分子系の分解性化合物群
＜酸分解性化合物＞
１−ｔｅｒｔ−ブトキシ−２−エトキシエタン、
２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）ナフタレン、
Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）フタルイミド、
２，２−ビス［ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）フェニル］プロパン

（１）−ｂ、非硬化性低分子系の分解性化合物群
＜塩基分解性化合物＞
Ｎ−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）ピペリジン、
上記低分子系非硬化性化合物は、それ自体では成形性がないため、樹脂や硬化性モノマーなどの成形性化合物と共に用いることが好ましい。

（２）−ａ、硬化性モノマー系の分解性化合物群
＜酸分解性化合物＞
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、
ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、
ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルアクリレート、
２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）エチルアクリレート、
ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）フェニルアクリレート、
ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルエチル）フェニルアクリレート、
１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキシルアクリレート、
４−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−８−ビニルカルボニルオキシ−トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカン、
２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）エチルアクリレート、
ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）フェニルアクリレート、
ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）ベンジルアクリレート、
２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）エチルアクリレート、
６−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）ヘキシルアクリレート、
ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フェニルアクリレート、
ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）ベンジルアクリレート、
ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノメチル）ベンジルアクリレート、
（２−ｔｅｒｔ−ブトキシエチル）アクリレート、
（３−ｔｅｒｔ−ブトキシプロピル）アクリレート、
（１−ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ−１−メチル）エチルアクリレート、
３，３−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル）プロピルアクリレート、
４，４−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル）ブチルアクリレート、
ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スチレン、
ｍ−（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スチレン、
ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）スチレン、
ｍ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）スチレン、
アクリロイル酢酸、メタクロイル酢酸
ｔｅｒｔ−ブチルアクロイルアセテート、
ｔｅｒｔ−ブチルメタクロイルアセテート、
Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）マレイミド。
上記硬化性モノマーは活性エネルギー線照射により重合し、この重合体は、酸と接触するとその酸分解性基が分解して気泡形成ガスを発生する。それ自体で成形性があるが、樹脂や他の硬化性モノマーなどを併用することもできる。

（２）−ｂ、硬化性モノマー系の分解性化合物群
＜塩基分解性化合物＞
４−［（１，１−ジメチル−２−シアノ）エトキシカルボニルオキシ］スチレン、
４−［（１，１−ジメチル−２−フェニルスルホニル）エトキシカルボニルオキシ］スチレン、
４−［（１，１−ジメチル−２−メトキシカルボニル）エトキシカルボニルオキシ］スチレン、
４−（２−シアノエトキシカルボニルオキシ）スチレン、
（１，１−ジメチル−２−フェニルスルホニル）エチルメタクリレート、
（１，１−ジメチル−２−シアノ）エチルメタクリレート、
上記モノマーは、活性エネルギー線照射によって重合し、この重合体は、塩基と反応すると、その塩基分解性基が分解して気泡形成ガスを発生する。それ自体で成形性があるが、樹脂や他の硬化性モノマーなどを併用することもできる。

（３）−ａ、重合体系の分解性化合物群
＜酸分解性化合物＞
ポリ（ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート）、
ポリ（ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート）、
ポリ（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルアクリレート）、
ポリ［２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）エチルアクリレート］、
ポリ［ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）フェニルアクリレート］、
ポリ［ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルエチル）フェニルアクリレート］、
ポリ［１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキシルアクリレート］、
ポリ｛４−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−８−ビニルカルボニルオキシ−トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカン｝、
ポリ［２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）エチルアクリレート］、
ポリ［ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）フェニルアクリレート］、
ポリ［ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）ベンジルアクリレート］、
ポリ［２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）エチルアクリレート］、
ポリ［６−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）ヘキシルアクリレート］、
ポリ［ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フェニルアクリレート］、
ポリ［ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）ベンジルアクリレート］、
ポリ［ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノメチル）ベンジルアクリレート］、
ポリ（２−ｔｅｒｔ−ブトキシエチルアクリレート）、
ポリ（３−ｔｅｒｔ−ブトキシプロピルアクリレート）、
ポリ［（１−ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ−１−メチル）エチルアクリレート］、
ポリ［３，３−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル）プロピルアクリレート］、
ポリ［４，４−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル）ブチルアクリレート］、
ポリ［ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スチレン］、
ポリ［ｍ−（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スチレン］、
ポリ［ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）スチレン］、
ポリ［ｍ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）スチレン］、
ポリアクリロイル酢酸、ポリメタクロイル酢酸、
ポリ［ｔｅｒｔ−ブチルアクロイルアセテート］、
ポリ［ｔｅｒｔ−ブチルメタクロイルアセテート］、
Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）マレイミド／スチレン共重合体など。
上記重合体系化合物は、酸と接触するとその酸分解性基が分解して気泡形成ガスを形成する。それ自体で成形性があるが、樹脂や他の硬化性モノマーなどを併用することもできる。

（３）−ｂ、重合体系の分解性化合物群
＜塩基分解性化合物＞
ポリ｛ｐ−［（１，１−ジメチル−２−シアノ）エトキシカルボニルオキシ］スチレン｝、
ポリ｛ｐ−［（１，１−ジメチル−２−フェニルスルホニル）エトキシカルボニルオキシ］スチレン｝、
ポリ｛ｐ−［（１，１−ジメチル−２−メトキシカルボニル）エトキシカルボニルオキシ］スチレン｝、
ポリ［ｐ−（２−シアノエトキシカルボニルオキシ）スチレン］、
ポリ［（１，１−ジメチル−２−フェニルスルホニル）エチルメタクリレート］、
ポリ［（１，１−ジメチル−２−シアノ）エチルメタクリレート］、
などを挙げることができる。
上記重合体は、塩基と反応すると、その塩基分解性基が分解して気泡形成ガスを発生する。それ自体で成形性があるが、樹脂や他の硬化性モノマーなどを併用することもできる。

分解性官能基を導入したポリエーテル、ポリアミド、ポリエステル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、デンドリマーなどの有機系高分子化合物を酸分解性又は塩基分解性重合体系化合物として用いることができる。さらには、シリカなどの無機系化合物に分解性官能基を導入した酸分解性又は塩基分解性重合体系化合物も含む。なかでも、分解性官能基は、カルボン酸基または水酸基、アミン基からなる群の中から選ばれる官能基を有する化合物群に導入されることが好ましい。
上記分解性化合物群は、単独で用いてもよいし、異なる２種以上を混合併用してもよい。
また、上記分解性化合物は他の樹脂と混合して用いることもできる。混合した時に分解性化合物と他樹脂とが相溶でも非相溶でもどちらでもかまわない。他の樹脂としてはＡＢＳ樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリオレフィン系複合樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリブタジエン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、フッ素樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリサルホン樹脂、塩化ビニル樹脂、メチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、でんぷん、ポリビニルアルコール、ポリアミド樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、及びシリコーン樹脂など一般に用いられる樹脂から適宜選択して用いることができる。また、分解性化合物から分解してガス化する低沸点揮発性物質を系内に内在させることを目的として、ガスバリヤ性樹脂を用いることもできる。ガスバリヤ性樹脂は、混合しても積層してもよい。例えば、シート状の光反射体であれば、低沸点揮発性物質をそのシート中により内在させるには、ガスバリヤ性樹脂をシート表面に積層することが好ましい。
分解性発泡化合物のうち、硬化性モノマー系の分解性化合物群および重合体系の分解性化合物群は単独で用いてもよいし、上記の一般に用いられる樹脂と混合して用いてもよい。
これに対して、非硬化性低分子系の分解性化合物群は単独では層を形成しないので、上記の一般に用いられる樹脂若しくは、後述する「他の活性エネルギー線硬化性不飽和有機化合物」と混合して用いる必要がある。

高温高湿下で放置しても発泡構造を保持し、耐水性をもつ光反射体を得るためには、分解性化合物が少なくとも一種類以上の疎水性官能基を含む化合物に分解発泡性官能基を導入した化合物、もしくは低吸湿性化合物に分解発泡性官能基を導入した化合物であることが好ましい。

疎水性官能基は、主に脂肪族基、脂肪環族基、芳香族基、ハロゲン基、ニトリル基からなる群の中から選ばれることが好ましい。分解発泡性官能基は、主にカルボン酸基または水酸基、アミン基からなる群の中から選ばれる親水性官能基に導入されやすい。したがって、本発明の分解性化合物としては、前記親水性官能基に分解発泡性官能基を導入した分解性ユニットと、疎水性官能基を含む疎水性ユニットからなる複合化合物が好ましい。より好ましい前記複合化合物は、分解性ユニットおよび疎水性ユニットがビニル系重合体である。疎水性ユニットは、メチル（メタ）アクリレートやエチル（メタ）アクリレートなどの脂肪族（メタ）アクリレート群、スチレン、メチルスチレン、ビニルナフタレンなどの芳香族ビニル化合物群、（メタ）アクリロニトリル化合物群、酢酸ビニル化合物群、塩化ビニル化合物群などが挙げられる。分解性化合物の代表的な例としては、分解性ユニットが、親水性官能基のカルボン酸基を有するアクリル酸に分解性官能基であるｔｅｒｔ−ブチル基を導入したｔｅｒｔ−ブチルアクリレートであり、そして疎水性ユニットが疎水性官能基のメチル基を有するメチルアクリレートである組合わせからなるビニル系共重合体が挙げられる。分解性ユニット／疎水性ユニットの組合わせからなる分解性化合物の具体例を以下に示す。
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート／メチルメタクリレート共重合体
ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート／メチルアクリレート共重合体
ｔｅｒｔ−ブチルメタアクリレート／メチルメタクリレート共重合体
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート／エチルアクリレート共重合体
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート／エチルメタクリレート共重合体
ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート／エチルアクリレート共重合体
ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート／エチルメタクリレート共重合体
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート／スチレン共重合体
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート／塩化ビニル共重合体
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート／アクリロニトリル共重合体
ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）スチレン／スチレン共重合体
また、分解性化合物中の分解性ユニットおよび疎水性ユニットは、一種単独でまたは２種以上併用することができる。共重合の形式は、ランダム共重合、ブロック共重合、グラフト共重合などの任意に行なうことができる。また、疎水性ユニットの共重合比は、分解性化合物全量に対して5〜95重量％であることが好ましく、分解性化合物の分解発泡性および発泡構造の環境保存性を勘案すると、20〜80％がより好ましい。
上記分解性化合物は、単独で用いてもよいし、異なる２種以上を混合併用してもよい。

低吸湿性化合物は、その平衡吸水率が、温度30℃、相対湿度60％の環境雰囲気下においてＪＩＳ Ｋ−７２０９Ｄ法で測定されたときに10％未満であることがより好ましい。分解発泡性官能基を導入しやすい構造を有する低吸湿性化合物としては、例えばｐ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレンなどが挙げられる。したがって、分解性化合物は、ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スチレン、ｍ−（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スチレン、ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）スチレン、ｍ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）スチレンが挙げられる。これらは硬化性モノマーでも一種類以上を混合した重合体でもよい。

また、吸水率が10％以上の高吸湿性化合物と、吸水率10％未満の低吸湿性化合物との組合わせからなる複合化合物に分解発泡性官能基を導入してもよい。ただし、複合化合物は、適切な組合わせにより10％未満の吸水率を有しなければならない。例えば、高吸湿性化合物であるアクリル酸と低吸湿性化合物であるｐ−ヒドロキシスチレンの共重合体（複合化合物）は、その共重合比がアクリル酸／ｐ−ヒドロキシスチレン＝90／10〜0／100であることが好ましい。分解性化合物の具体的な例としては、
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート／ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スチレン共重合体
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート／ｍ−（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スチレン共重合体
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート／ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）スチレン共重合体
ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート／ｍ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）スチレン共重合体
ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート／ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）スチレン共重合体
さらには、ポリエステル、ポリイミド、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、フェノール樹脂、デンドリマーからなる群の中から選ばれた低吸湿性高分子材料などに分解発泡性官能基を導入してもよい。
上記分解性化合物は、単独で用いてもよいし、異なる２種以上を混合併用してもよい。
上記分解性化合物は、分解発泡性官能基が分解脱離して気泡形成ガスを発生した後に、少なくとも一種類以上の疎水性官能基を含む化合物となり、高温高湿下で放置しても発泡構造を保持することができる。

発泡性組成物との混合剤・添加剤
発泡性組成物には、酸発生剤または塩基発生剤と分解発泡性化合物以外に、他の活性エネルギー線硬化性不飽和有機化合物を組み合わせて用いてもよい。併用化合物の例としては、
（１）脂肪族、脂環族、芳香族の１〜６価のアルコール及びポリアルキレングリコールの（メタ）アクリレート類
（２）脂肪族、脂環族、芳香族の１〜６価のアルコールにアルキレンオキサイドを付加させて得られた化合物の（メタ）アクリレート類
（３）ポリ（メタ）アクリロイルアルキルリン酸エステル類
（４）多塩基酸とポリオールと（メタ）アクリル酸との反応生成物
（５）イソシアネート、ポリオール、（メタ）アクリル酸の反応生成物
（６）エポキシ化合物と（メタ）アクリル酸の反応生成物
（７）エポキシ化合物、ポリオール、（メタ）アクリル酸の反応生成物
（８）メラミンと（メタ）アクリル酸の反応生成物
等を挙げることができる。

併用できる化合物の中で、硬化性モノマーや樹脂は、塗膜の強度や耐熱性といった塗膜物性の向上効果や発泡性の制御効果などが期待できる。フィラーなどの添加剤は、発泡性や光反射特性（とくに白色顔料の場合）の向上が期待できる。また分解性化合物および併用化合物に硬化性モノマーを用いれば、無溶剤で支持体に塗布硬化することができ、環境負荷の少ない製造方法を提供できる。
併用化合物の具体的な例として、
メチルアクリレート、エチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、 ２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシブチルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ジシクロヘキシルアクリレート、イソボロニルアクリレート、イソボロニルメタクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、メトキシプロピレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリプロピレングリコールアクリレート、エチレンオキシド変性フェノキシアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、２−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノアクリレート、フタル酸モノヒドロキシエチルアクリレート、アクリル酸ダイマー、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、アクリル酸−９，１０−エポキシ化オレイル、マレイン酸エチレングリコールモノアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチレンアクリレート、４，４−ジメチル−１，３−ジオキソランのカプロラクトン付加物のアクリレート、３−メチル−５，５−ジメチル−１，３−ジオキソランのカプロラクトン付加物のアクリレート、ポリブタジエンアクリレート、エチレンオキシド変性フェノキシ化リン酸アクリレート、エタンジオールジアクリレート、エタンジオールジメタクリレート、１，３−プロパンジオールジアクリレート、１，３−プロパンジオールジメタクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、２−ブチル−２−エチルプロパンジオールジアクリレート、エチレンオキシド変性ビスフェノールＡジアクリレート、ポリエチレンオキシド変性ビスフェノールＡジアクリレート、ポリエチレンオキシド変性水添ビスフェノールＡジアクリレート、プロピレンオキシド変性ビスフェノールＡジアクリレート、ポリプロピレンオキシド変性ビスフェノールＡジアクリレート、エチレンオキシド変性イソシアヌル酸ジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテルアクリル酸付加物、ポリオキシエチレンエピクロロヒドリン変性ビスフェノールＡジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ポリエチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ポリプロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、エチレンオキシド変性イソシアヌル酸トリアクリレート、エチレンオキシド変性グリセロールトリアクリレート、ポリエチレンオキシド変性グリセロールトリアクリレート、プロピレンオキシド変性グリセロールトリアクリレート、ポリプロピレンオキシド変性グリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ポリカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等を挙げることが出来るが、これらに限られるものではない。

さらに、前記の併用活性エネルギー線硬化性不飽和有機化合物の一部または全部として、分子鎖末端に（メタ）アクリロイル基を有する分子量が400〜5000程度の活性エネルギー線硬化性樹脂を組み合わせることもできる。このような硬化性樹脂として、例えば、ポリウレタン変性ポリエーテルポリ（メタ）アクリレートやポリウレタン変性ポリエステルポリ（メタ）アクリレートなどのポリウレタンポリ（メタ）アクリレートポリマー類を用いることが好ましい。

本発明に使用する発泡性組成物には、必要により、無機または有機充填剤、並びに各種界面活性剤などの分散剤、多価イソシアネート化合物、エポキシ化合物、有機金属化合物などの反応性化合物、シリコーンオイルや加工助剤、軟化剤としての有機充填剤、紫外線吸収剤、蛍光増白剤、酸化防止剤、光安定剤、防曇剤、ブロッキング防止剤、滑剤、帯電防止剤、スリップ防止剤、有色染料、その他の安定剤等が一種類以上を添加してもよい。添加量は、本発明の目的である高光反射率を妨げない範囲内で定めることができる。

無機系化合物充填剤の具体例としては、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、炭酸カルシウム、珪酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、硫酸バリウム、炭酸マグネシウム、水酸化アルミニウム、クレー、タルク、シリカ等の顔料、ステアリン酸亜鉛のような金属石鹸、カオリン、珪酸白土、珪藻土、酸化亜鉛、酸化珪素、水酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、アルミナ、マイカ、アスベスト粉、ガラス粉、シラスバルーン、ゼオライトなどが遂げられる。なかでも光反射率をさらに向上させる助剤として好ましいのは、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化チタン、炭酸マグネシウム、アルミナ、水酸化マグネシウムなどである。
有機系化合物充填剤としては、例えば、木粉、パルプ粉などのセルロース系粉末、ポリマービーズなどが挙げられる。ポリマービーズとしては、例えばアクリル樹脂、スチレン樹脂又はセルロース誘導体、ポリビニル樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリウレタン及びポリカーボネート、架橋用モノマーなどから製造されたものが使用できる。
これらの充填剤は、２種類以上混合したものであってもよい。

紫外線吸収剤の具体例としては、サリチル酸系、ベンゾフェノン系、またはベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤から選ばれる。サリチル酸系紫外線吸収剤としては、フェニルサリシレート、ｐ−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、ｐ−オクチルフェニルサリシレートなどが挙げられる。ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノンなどが挙げられる。ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。

酸化防止剤の具体例としては、モノフェノール系、ビスフェノール系、高分子型フェノール系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、リン系酸化防止剤などが挙げられる。

光安定剤としては、代表的なものにヒンダードアミン系化合物が挙げられる。

軟化剤は、加工性・成形性を向上させる目的で使用でき、具体的には、エステル化合物類、アミド化合物類、側鎖を有する炭化水素重合体類、鉱油類、流動パラフィン類、ワックス類などが挙げられる。
エステル化合物としては、アルコールとカルボン酸からなる構造のモノまたはポリエステルであれば特に制限はなく、ヒドロキシル基およびカルボニル基末端を分子内に残した化合物でも、エステル基の形で封鎖された化合物でもよい。具体的には、ステアリルステアレート、ソルビタントリステアレート、エポキシ大豆油、精製ひまし油、硬化ひまし油、脱水ひまし油、エポキシ大豆油、極度硬化油、トリメリット酸トリオクチル、エチレングリコールジオクタノエート、ペンタエリスリトールテトラオクタノエートなどが挙げられる。
アミド化合物としては、アミンとカルボン酸からなる構造のモノまたはポリアミド化合物であれば特に制限はなく、アミノ基およびカルボニル基末端を分子内に残した化合物でも、アミド基の形で封鎖された化合物でもよい。具体的には、ステアリン酸アミド、ベヘニン酸アミド、ヘキサメチレンビスステアリン酸アミド、トリメチレンビスオクチル酸アミド、ヘキサメチレンビスヒドロキシステアリン酸アミド、トリオクタトリメリット酸アミド、ジステアリル尿素、ブチレンビスステアリン酸アミド、キシリレンビスステアリン酸アミド、ジステアリルアジピン酸アミド、ジステアリルフタル酸アミド、ジステアリルオクタデカ二酸アミド、イプシロンカプロラクタム、およびこれらの誘導体が挙げられる。
側鎖を有する炭化水素重合体としては、ポリα−オレフィン類で、炭素数４以上の側鎖を有する通常オリゴマーに分類されるものが好ましい。具体的には、エチレン−プロピレンの共重合体やそのマレイン酸誘導体、イソブチレンの重合体、ブタジエン、イソプレンのオリゴマーおよびその水添物、１−ヘキセンの重合物、ポリスチレンの重合物およびこれらから誘導される誘導体、ヒドロキシポリブタジエンやその水添物、末端ヒドロキシポリブタジエン水添物などが挙げられる。

本発明に使用する発泡性組成物は、一般的な混練機を用いて調製することができる。例えば、二本ロール、三本ロール、カウレスデゾルバー、ホモミキサー、サンドグラインダー、プラネタリーミキサー、ボールミル、ニーダー、高速ミキサー、ホモジナイザーなどである。また超音波分散機などを使用することもできる。

光反射体の製造
本発明の発泡性組成物を含む光反射体の形状・成形方法はとくに限定されず、角型ブロック状、球状、棒状、曲面状、シート状などのいずれでも良い。
シート／フィルム状の光反射体の製造例としては、発泡性組成物を含む塗布液を支持体に塗布する方法やフィルム状に溶融成形する方法が有用である。以下に述べるこれらの方法においては、活性エネルギー線を照射した後に加熱発泡する方法を例示するが、必要に応じて予め加熱された後に活性エネルギー線を照射して発泡させても良いし、加熱と照射を同時に行っても良い。
支持体上に塗布する方法に関して、さらに詳しく述べれば、支持体は、棒状、平面状および/または曲面状のいずれでも良く、発泡性組成物を含む塗布液を支持体上に塗布して塗布層を形成し、この塗布層に活性エネルギー線を照射し、さらに加熱処理を施して、前記塗布層中に発泡構造を形成する。それによって、支持体上に発泡樹脂層が形成される。発泡性組成物に皮膜形成性が無い場合は、皮膜形成性樹脂を含む塗布液を用いる。前記塗布液に含まれる分解発泡性化合物が重合体化合物である場合、本発明方法において、この分解性重合体化合物は、活性エネルギー線照射により発生した酸、又は塩基と、加熱処理工程において反応して、その酸、又は塩基分解性基が分解して、気泡形成ガスを発生し、気泡を形成する。また塗布液において、分解性重合体化合物が、溶剤中に溶解されているときは、活性エネルギー線照射前に塗布液層から溶剤を揮発除去して、塗布液層を固化する。このときの溶剤としては、例えば酢酸エチル、トルエン、メチルエチルケトン、エタノールなどのアルコール類、及び／又は水などが好ましく用いられる。また、溶剤含有塗布液の固形分濃度は10〜50質量％であることが好ましく、20〜30質量％であることがより好ましい。その濃度が20〜30質量％であるとき、塗布液の粘度は0.5〜1Pa・s（500〜1000cPs）であることが好ましい。分解発泡性化合物が活性エネルギー線照射に対して硬化性モノマー化合物であるときは、活性エネルギー線照射工程において重合して重合体を形成し、加熱工程において、酸又は塩基と反応して、その酸又は塩基分解性基が分解して気泡形成ガスを発生する。このとき、必要により上記溶剤を併用してもよいが、一般には、硬化性モノマーが液体であるから、溶剤の使用は不要である。
さらに、分解発泡性化合物が、活性エネルギー線照射により重合硬化することがないモノマーである場合、該分解発泡性化合物と皮膜形成性樹脂を混合して発泡性組成物を形成し、必要により上記溶剤とを含む混合物から調製し、溶剤を揮発除去して皮膜形成性樹脂を固化させた後、この塗布液層に活性エネルギー線を照射して、酸又は塩基を発生させ、さらにそれを加熱して、非重合体硬化性モノマーと酸又は塩基とを反応させて気泡形成ガスを発生させ、その中に発泡組織を形成させる。

また、発泡性組成物含有塗布液を支持体上に塗布する方法は、キャスト法、スピンコート法、ダイレクト塗工法などを用いることができる。また、溶融押出式や射出式などのプラスチック成形に用いられる方法も用いることもできる。発泡体薄物化の要求を満たすには、前者の方法が好ましい。発泡樹脂層の厚さには特に限定はないが、50μm以下の薄物化も可能である。所望の気泡径以上であることが好ましい。

支持体としては、紙製、合成紙製、プラスチック樹脂製、金属製の支持体があげられる。支持体の形状は、特に限定はなく、板状、シート状、フィルム状、球面状などが挙げられる。これらは単独で用いられてもよく、或は、これらの工程以上が互いに積層されていてもよい。シート状支持体の具体例としては、プラスチック樹脂製で、ポリスチレン樹脂シート、ポリエチレン、ポリプロピレン、延伸ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂シート、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル系樹脂シート、アクリル系フィルム、ポリメチルペンテン樹脂シート、ポリ塩化ビニル樹脂シート、ポリスルホン樹脂シート、ナイロンシート等が挙げられる。また金属シートを構成する金属としては、アルミニウム、及び銅などが挙げられる。さらには、バックライトユニット内の部品を支持体としてもよく、ランプホルダー表面に発泡構造を有する光反射層として設けることが可能である。

発泡体としては、支持体上に発泡樹脂層を形成したまま用いてもよく、また発泡樹脂層を支持体から剥離して、単独の発泡体シートとして用いてもよい。

活性エネルギー線
本発明で使用する活性エネルギー線としては、電子線、紫外線、γ線等の電離性放射線が挙げられる。これらの中では電子線及び紫外線を用いることが好ましい。

電子線照射
電子線照射を用いる場合は、十分な透過力を得るために、加速電圧が30〜1000kVであり、より好ましくは30〜300kVの電子線加速器を用い、ワンパスの吸収線量を0.5〜20Mradにコントロールすることが好ましい（1rad＝0.001Gy）。加速電圧、あるいは電子線照射量が上記範囲より低いと、電子線の透過力が不十分になり、塗布液層の内部まで十分に透過することができず、またこの範囲より大きすぎると、エネルギー効率が悪化するばかりでなく、得られた硬化塗布層の強度が不十分になり、それに含まれる樹脂及び添加剤の分解を生じ、得られる発泡体の品質が不満足なものになることがある。電子線加速器としては、例えば、エレクトロカーテンシステム、スキャンニングタイプ、ダブルスキャンニングタイプ等のいずれを用いてもよいが、比較的安価で大出力が得られるカーテンビーム方式の電子線加速器を用いることが好ましい。このカーテンビーム方式の電子線加速器においては、加速電圧が100〜300kVであり、吸収線量が0.5〜10Mradにコントロールされることが好ましい。さらに、安定かつ連続的に発泡体を製造するためには、加速電圧が120〜250kVであり、吸収線量が2〜9Mradにコントロールされることがより好ましい。
なお、電子線照射に際しては照射雰囲気の酸素濃度が高いと、酸もしくは塩基の発生、及び／又は硬化性分解性化合物の硬化が妨げられることがあり、このため照射雰囲気の空気を、窒素、ヘリウム、二酸化炭素等の不活性ガスにより置換することが好ましい。照射雰囲気の酸素濃度は1000ppm以下であることが好ましく、さらに安定的な電子線エネルギーを得るため、500ppm以下に抑制されることがより好ましい。

紫外線照射
紫外線照射の場合は、半導体・フォトレジスト分野や紫外線硬化分野などで一般的に使用されている紫外線ランプを用いることができる。一般的な紫外線ランプとしては、例えば、ハロゲンランプ、ハロゲンヒーターランプ、キセノンショートアークランプ、キセノンフラッシュランプ、超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、ディープＵＶランプ、メタルハライドランプ、希ガス蛍光ランプ、クリプトンアークランプ、エキシマランプなどがあり、近年では、極短波長（214nmにピーク）を発光するＹ線ランプもある。これらのランプには、オゾン発生の少ないオゾンレスタイプもある。これらの紫外線は、散乱光であっても、直進性の高い平行光であってもよい。
また、紫外線照射には、ＡｒＦエキシマーレーザー、ＫｒＦエキシマーレーザーや、非線形光学結晶を含む高調波ユニットを介したＹＡＧレーザーなどに挙げられる種々のレーザーや、紫外発光ダイオードを用いることもできる。紫外線ランプやレーザー、紫外発光ダイオードの発光波長は、発泡性組成物の発泡性を妨げないものであれば限定はないが、好ましくは、光酸発生剤または光塩基発生剤が酸または塩基を効率よく発生させられる発光波長がよい。すなわち、使用する光酸発生剤または光塩基発生剤の感光波長領域と重なる発光波長が好ましい。さらには、それら発生剤の感光波長領域における極大吸収波長または最大吸収波長と重なる発光波長がより好ましく、発生効率が高くなりやすい。紫外線のエネルギー照射強度は、発泡性組成物によって適宜決められる。種々の水銀ランプやメタルハライドランプなどに代表される照射強度が高い紫外線ランプを使用する場合は、生産性を高めることができ、その照射強度（ランプ出力）はロングアークランプの場合、30W/cm以上が好ましい。紫外線の積算照射光量（J/cm²）は、エネルギー照射強度に照射時間を積算したものであり、発泡組成物および所望の気泡分布によって適宜決められる。酸発生剤や塩基発生剤の吸光係数に応じて設定することもある。安定かつ連続的に製造する上では、1.0mJ/cm²〜20J/cm²の範囲が好ましい。紫外線ランプを使用する場合は、照射強度が高いため、照射時間を短縮することができる。エキシマーランプやエキシマーレーザーを使用する場合は、その照射強度は弱いが、ほぼ単一光に近いため、発光波長が発生剤の感光波長に最適化したものであれば、より高い発生効率および発泡性が可能となる。照射光量を多くした場合、紫外線ランプによっては熱の発生が発泡性を妨げる場合がある。そのときは、コールドミラーなどの冷却処置を行なうことができる。照射方法は、密着照射、投影照射のいずれの方式も採用できる。

加熱発泡で用いることができる加熱器としては特に制限はないが、誘導加熱、抵抗加熱、誘電加熱（およびマイクロ波加熱）、赤外線加熱により加熱ができるもの等が例示できる。放射熱を利用した電気あるいはガス式の赤外線ドライヤーや、電磁誘導を利用したロールヒーター、油媒を利用したオイルヒーター、電熱ヒーター、およびこれらの熱風を利用した熱風ドライヤーなどが挙げられる。誘電加熱や赤外線加熱の場合，材料内部を直接加熱する内部加熱方式なので，熱風ドライヤーなどの外部加熱法よりも瞬時に均一な加熱を行うのに好ましい。誘電加熱の場合，周波数１MHzから300MHz（波長30m〜1m）の高周波エネルギーを用いる。6MHz〜40MHzの周波数が用いられることが多い。誘電加熱のうち特にマイクロ波加熱では周波数が300MHzから300GHz（波長が１m〜1mm）のマイクロ波をもちいるが、2450MHz、915MHz（電子レンジと同じ）を使うことが多い。赤外線加熱の場合，赤外領域の波長0.76〜1000μmの電磁波を利用する。ヒータ表面温度および被加熱材料の赤外吸収スペクトルなどから、状況により選択される波長の最適帯は変化するが、好ましくは1.5〜25μm、さらに好ましくは2〜15μmの波長帯を用いることができる。また、プレス成形の際に使用する加熱プレス機のように、加圧しながら加熱することもできる。加熱発泡工程で使用する温度は、所望の発泡によって適宜決めることができる。気泡を微細化するには、50〜200℃が好ましい。

発泡構造
発泡性組成物から製造された発泡体は、微小な気泡を有している。発泡体の厚さや、平均気泡径や空孔率（発泡倍率）の内部構造特に関しての制限はなく、活性エネルギー線の照射エネルギー量及び加熱処理温度などの発泡条件によって制御できる。平均気泡径に関しては、薄物化した発泡体を得るためには、一般に0.005〜10μmであることが好ましい。
平均気泡径が0.005μmより小さいと、発泡体としての機能が発現され難いことがあり、またそれが10μmより大きいときは発泡体の表面の平滑性が不十分になる恐れがある。
さらに、可視光領域において光反射機能を十分に発揮させるためには、平均気泡径が0.01〜10μmであることが好ましい。
さらに、強度及び断熱性などの機能をバランスよく向上させた発泡体を得るためには、平均気泡径が0.01〜5μmであることがより好ましい。
空孔率に関しては、5％〜90％であること好ましい。5％より低いと十分な光反射率を得ることができず、また90％より高いと発泡体の変形が大きくなり光反射率のむらが生じてしまう。高い光反射率と発泡体の平滑性をバランス良くするためには、25％〜70％がより好ましい。
光反射体の厚さは、10〜500μmであることが好ましい。10μm未満になると発泡が不十分となる可能性が有り、また500μmを越えると、発泡内部構造にむらが生じてしまう可能性がある。本発明の光反射体は、特に100μm以下の薄物化が可能である。

光反射率
本発明の光反射体の光反射率は、液晶表示装置のバックライトユニットなどに使用する場合、波長範囲320〜800nmの入射光に対する平均光反射率が80％以上であることが好ましい。

光反射体の用途
本発明の光反射体の用途としては、液晶表示装置のバックライトユニット、内照式照明器具、内照式電飾看板、ライトボックス、投影用スクリーン、シャーカステン、複写機、プロジェクター方式のディスプレイ、ファクシミリ及び電子黒板からなる群から選ばれた光源内蔵装置の光反射部材として使用し得る。とくに液晶表示装置のバックライトユニットに関しては、バックライトユニット中のランプホルダーを包み込む光反射体や導光板下の光反射体として使用し得る。
さらには、光反射体を用いた光反射装置を作成することが可能である。例えば、導光板の下部に本発明の光反射シート、上部に光拡散シートが組み込まれ、さらに該光拡散シートの表面にレンズシートが組み込まれた積層体の少なくとも１側面に光源が組み込まれ、該光源が湾曲状に形成されたランプホルダーにより覆われている光反射装置を製造することができる。

光反射体の表面処理
本発明の光反射体は、表面処理や積層化することができる。例えば、
１．本発明の光反射体は、線状光源が近傍が局所的に明るくなる輝線の弊害を解消するための表面処理がなされていても良い。例えば、輝線が発生するところに黒インキを印刷しても構わない。また、印刷しやすくするための易接着層を、光反射体表面に設けても良い。
２．本発明の光反射体は、その反射面上に、光源から発生する熱や紫外線の影響による変色や劣化を防止するための表面処理がなされていても良い。例えば、紫外線吸収剤が含有された透明樹脂層を設けてもよい。本発明の光反射体は、銀鏡などの正反射層や白色インキ層を表面に設けることができる。これにより、光反射体を通して漏れでてくる可能性のある光を正反射層や白色インキによって反射させ、さらに光反射効率を高めることができる。
３．本発明の光反射体は、均一に光反射させるために、反射表面上に微小な突起を設けることができる。

本発明を下記実施例により詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。また、特に断らない限り、例中の「部」および「％」は各々「質量部」および「質量％」を表わす。

＜実施例１＞
＜発泡体シートの作製＞
（１）塗布層の形成
分解性化合物として用いられたポリ（ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート）100部に対して、ヨードニウム塩系酸発生剤としてビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムパーフルオロブタンスルホネート（商標：ＢＢＩ−１０９、ミドリ化学製）3部を混合し、これを酢酸エチルに溶解して固形分含有量：25％の溶液を調製し、これを塗布液として用いた。この塗布液を、厚さ75μmの透明ポリエチレンテレフタレート（商標：ルミラー７５−Ｔ６０、パナック製）からなる支持体の片面上に、塗布用ギャップ幅300μmのアプリケーターバーを用いてコーティングした。その後、すぐに、温度80℃の恒温乾燥機内に10分間放置して溶媒を蒸発除去した。薄膜状の無色透明な塗布層がポリエチレンテレフタレート支持体上に形成された。塗布層の厚さは40〜50μmの範囲内に調製した。

（２）電子線照射
前記工程（１）により形成された塗布層に、電子線を加速電圧175kV、吸収線量16Mrad、酸素濃度500ppm以下の条件下で照射した。得られた塗布層は、工程（１）後の塗布層と同様に無色透明なままであった。

（３）熱処理による発泡
工程（２）によって得られた塗布層を、100℃の温度に保持された恒温器内に2分間放置してこれに熱処理を施すことにより発泡させることができた。このとき、塗布層は無色透明から白色に変化して、発泡樹脂層が形成された。すなわち微細気泡を有する薄膜状の発泡樹脂層を形成することができた。この発泡樹脂層の厚さは50μmであり、これを支持体から剥離して、単独の発泡体シートを得ることができた。

＜発泡構造の評価＞
断面構造から発泡体厚さ、平均気泡径を、密度の測定より発泡倍率を求めた。発泡体厚さは上記電子顕微鏡（商標：Ｓ−５１０、日立製作所製）で観察した加熱発泡前後の断面画像（拡大倍率：2500倍）から測定した（観測断面は、発泡体を液体窒素中で凍結割断し、得られた樹脂発泡層の断面上に金蒸着処理を施したものを用いた）。気泡径は発泡樹脂層断面の観察画像（拡大倍率：5000倍）から無作為に100個の気泡を選び出し、それらの直径の平均とした。発泡倍率は室温でアルキメデス法により発泡体の密度（Ａ）、および発泡体を溶剤に溶かし再び成膜して未発泡状態にしたときの密度（Ｂ）を測定し、Ｂ／Ａより発泡倍率を求めた。得られた発泡体厚さ、気泡径、発泡倍率を表１に示す。

＜物性の評価＞
（１）反射スペクトルの評価
得られた発泡体の光反射率を測定した。（株）島津製作所製の分光光度計ＵＶ−３１００ＰＣの積分球ジグを用いてＪＩＳ−Ｋ７１０５の測定法Ｂに準拠して550nmの波長での分光反射率を測定し、標準板（硫酸バリウム板）に対する相対反射率％を求めた。結果を図５に示す。未発泡品は透明であり反射率はゼロであるが、微細発泡により白色化され、50μm程度の薄いフィルムでも80％以上の高い反射率を示した。
（２）成膜強度
発泡体を90度折り曲げたときの折り曲げ部位が、折れ目のつかないときを○、折れ目がつくもしくは脆く割れるときを×として評価した。

＜実施例２＞
実施例１と同様にして、微細気泡を有する薄膜状の発泡体シートを作製した。但し、実施例１の工程（１）において、分解性化合物として使用したポリ（ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート）のかわりに、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート（60質量％）とメチルメタクリレート（40質量％）の共重合体を用いた。また、工程（３）において、100℃2分間加熱の代わりに110℃2分間加熱した。テスト結果を表１に示す。微細発泡により白色化され、薄いフィルムでも高い反射率を示した。

＜実施例３＞
実施例２と同様にして、微細気泡を有する薄膜状の発泡体シートを作製した。但し、実施例１の工程（２）において、活性エネルギー線として使用した電子線の代わりに紫外線を用いた。この紫外線は、120W/cmのロングアークランプ型高圧水銀灯を有する紫外線硬化装置（アイグラフィックス製）を用いて、照射線量1100mJ/cm²となるように照射された。テスト結果を表１に示す。微細発泡により白色化され、薄いフィルムでも高い反射率を示した。

＜実施例４＞
実施例１と同様にして、微細気泡を有する薄膜状の発泡体シートを作製した。但し、実施例１の工程（１）において、分解性化合物として使用したポリ（ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート）のかわりに、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート（20質量％）とｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート（37質量％）とメチルメタクリレート（43質量％）の共重合体を用いた。また、実施例１の工程（２）において、活性エネルギー線として使用した電子線の代わりに紫外線を用いた。この紫外線は、Ｙ線ランプ（ピーク波長214nm）を有する紫外線照射装置（ウシオ電機製）を用いて、照射線量3000mJ/cm²となるように照射された。テスト結果を表１に示す。微細発泡により白色化され、薄いフィルムでも高い反射率を示した。

＜比較例１＞
実施例１と同様の操作を行った。但し、実施例１の工程（１）において、分解性化合物として使用したポリ（ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート）のかわりに、分解性化合物ではないポリエチレンを用い、このポリエチレン100部に対して、ヨードニウム塩系酸発生剤としてビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムパーフルオロブタンスルホネート（商標：ＢＢＩ−１０９、ミドリ化学製）３部を混練させたものを塗布液として使用した。しかし、発泡体シートは得られず、光反射率は得られなかった。テスト結果を表１に示す。

＜比較例２＞
ＰＥＴ系樹脂100部に対して発泡剤として二酸化炭素10部を5.5MPaの圧力下で10時間含浸して、厚さが50μmとなるように、シート状に押出し成形した。その後、常圧下150℃で0.5分間加熱してたが、発泡体シートを作成することはできず、反射率はほとんどなかった。テスト結果を表１に示す。

＜比較例３＞
ＰＰ樹脂30部に対して沈降性硫酸バリウム70部、硬化ひまし油3部を混合して、発泡体シートの厚さが50μmとなるように一軸延伸発泡させたが、顔料が多いため延伸性が悪く発泡が不十分となり、十分な光反射率が得られなかった。反射率はテスト結果を表１に示す。

＜比較例４＞
アクリレート共重合体100部に対して中空粒子50部、ポリビニルアルコール10部を混合した塗料を透明ポリエチレンテレフタレートからなる支持体の片面上に、厚さ50μmとなるように塗布乾燥して、発泡フィルムを得た。しかし、成膜性が悪く、反射率も十分ではなかった。テスト結果を表１に示す。

酸発生剤とｔｅｒｔ−ブチル基を有するアクリレート系分解性化合物との組合わせを用いた実施例１〜３においては、厚さ50μmまで薄物化しても、光反射率が80％以上と高い光反射体を作成することができた。
一方、分解性化合物ではないポリエチレンを用いた比較例１、ＰＥＴ樹脂中に不活性ガスを含浸飽和させた比較例２においては、発泡体が得られず、光反射率も得られなかった。また、無機顔料を含むポリプロピレンを延伸した比較例３、発泡体は得られたが、成膜強度が悪く、樹脂に中空粒子を含有した比較例４においては、光反射率が十分でなかった。

Claims (10)

1. 活性エネルギー線の作用によって酸を発生する酸発生剤または塩基を発生する塩基発生剤を含有し、さらに、酸または塩基と反応して一種類以上の低沸点揮発性物質を分解脱離する分解発泡性官能基を有する分解発泡性化合物を含有する発泡性組成物を発泡して製造された光反射体。
2. 光反射体が、微細気泡を有し、その平均気泡直径が0.005〜10μmであることを特徴とする請求項１に記載の光反射体。
3. 光反射体が、微細気泡を有し、その気泡率が5％〜90％であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光反射体。
4. 光反射体の厚さが10〜500μｍであることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれかに記載の光反射体。
5. 波長範囲320〜800ｎｍの入射光に対する平均光反射率が80％以上であることを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれかに記載の光反射体。
6. 光反射体が、発泡性組成物を平面状および/または曲面状の支持体上に塗布された塗布層から製造されることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の光反射体。
7. 液晶表示装置のバックライトユニット、内照式照明器具、内照式電飾看板、ライトボックス、投影用スクリーン、シャーカステン、複写機、プロジェクター方式のディスプレイ、ファクシミリ及び電子黒板からなる群から選ばれた光源内蔵装置の光反射部材として使用し得る請求項１〜６のいずれかに記載の光反射体。
8. 液晶表示装置のバックライトユニットを構成するランプホルダーを形成する光反射体として使用し得る請求項１〜６のいずれかに記載の光反射体。
9. 液晶表示装置のバックライトユニットを構成する導光板下の光反射体として使用し得る請求項１〜６のいずれかに記載の光反射体。
10. 導光板の片面に光反射シート、他の面に光拡散シートが組み込まれ、さらに該光拡散シートの表面にレンズシートが組み込まれた積層体の少なくとも１側面に光源１が組み込まれ、該光源１が湾曲状に形成されたランプホルダーにより覆われている光反射装置において、ランプホルダーおよび導光板の片面の光反射シートとして請求項１〜６のいずれかに記載の光反射体を使用することを特徴とする光反射装置。