JP2005052956A5 - - Google Patents
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- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 claims description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 4
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 claims description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 1
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 1
- 239000002070 nanowire Substances 0.000 description 1
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003288940A JP4383796B2 (ja) | 2003-08-07 | 2003-08-07 | ナノ構造体、及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003288940A JP4383796B2 (ja) | 2003-08-07 | 2003-08-07 | ナノ構造体、及びその製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005052956A JP2005052956A (ja) | 2005-03-03 |
JP2005052956A5 true JP2005052956A5 (enrdf_load_stackoverflow) | 2006-09-21 |
JP4383796B2 JP4383796B2 (ja) | 2009-12-16 |
Family
ID=34367432
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003288940A Expired - Fee Related JP4383796B2 (ja) | 2003-08-07 | 2003-08-07 | ナノ構造体、及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4383796B2 (enrdf_load_stackoverflow) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4681939B2 (ja) * | 2005-05-24 | 2011-05-11 | キヤノン株式会社 | ナノ構造体の製造方法 |
JP4681938B2 (ja) * | 2005-05-24 | 2011-05-11 | キヤノン株式会社 | ナノ構造体の製造方法 |
JP2007111816A (ja) * | 2005-10-19 | 2007-05-10 | National Institute For Materials Science | 多機能ナノワイヤとその製造方法、多機能ナノワイヤを用いた濃縮方法 |
JP5016957B2 (ja) * | 2006-03-17 | 2012-09-05 | キヤノン株式会社 | 凹凸構造を有する型及び光学素子用型の製造方法並びに光学素子 |
DE102006021940A1 (de) * | 2006-05-11 | 2007-11-22 | Forschungszentrum Karlsruhe Gmbh | Element, Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung |
KR100803213B1 (ko) * | 2006-06-27 | 2008-02-14 | 삼성전자주식회사 | 패턴된 자기기록매체 및 그 제조방법 |
JP4871809B2 (ja) * | 2006-08-11 | 2012-02-08 | キヤノン株式会社 | パターンドメディア、磁気記録媒体の製造方法及び基体の製造方法 |
JP4745917B2 (ja) | 2006-08-25 | 2011-08-10 | 株式会社日立製作所 | 磁気記録媒体及び磁気記録再生装置 |
ATE541303T1 (de) * | 2008-01-11 | 2012-01-15 | Uvis Light Ab | Verfahren zur herstellung einer feldemissionsanzeige |
EP2307928A2 (en) | 2008-08-05 | 2011-04-13 | Smoltek AB | High aspect ratio template for lithography, method of making the same template and use of the template for perforating a substrate at nanoscale |
JP5894780B2 (ja) * | 2011-12-13 | 2016-03-30 | 昭和電工株式会社 | 磁気記録媒体の製造方法 |
JP2014106996A (ja) * | 2012-11-29 | 2014-06-09 | Toshiba Corp | 垂直磁気記録媒体、及びその製造方法 |
JP2015135713A (ja) * | 2014-01-17 | 2015-07-27 | 株式会社東芝 | 垂直磁気記録媒体、その製造方法、及び磁気記録再生装置 |
EP4403514A1 (en) * | 2021-09-13 | 2024-07-24 | Japan Science and Technology Agency | Ordered alloy ferromagnetic nanowire structure and method for producing same |
-
2003
- 2003-08-07 JP JP2003288940A patent/JP4383796B2/ja not_active Expired - Fee Related
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