JP2005050510A - 第1磁極片に磁気的に結合された書込みシールドを有する垂直記録磁気ヘッド - Google Patents
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Abstract
【解決手段】書込みヘッド70は、バック・ギャップ108で結合されている第1及び第2磁極片100,102を有しており、書込みコイル層112がその中に埋め込まれた絶縁スタック110が第1及び第2磁極片の間、ヘッド表面ABSとバック・ギャップ108の間に位置している。第2磁極片102は、ヘッド表面ABSに位置する磁極端138と、ヘッド表面よりも後退している強磁性の書込みシールド層304を持つ。非磁性分離層305が第2磁極片102と書込みシールド層304の間に位置しており、少なくとも1個の強磁性スタッド300,302が第1磁極片層100と書込みシールド層304の間に磁気的に結合され、かつヘッド表面ABSと絶縁スタックの110間に位置している。
【選択図】図6
Description
さて、添付の図面中では、すべての図を通じて同一の参照数字は同一もしくは類似の部品を示すものであり、図1〜3は磁気ディスク・ドライブ30の図解である。ドライブ30には、磁気ディスク34を支え、回転させるスピンドル32が含まれる。スピンドル32は、モータ制御装置38によって制御されるモータ36によって回転する。スライダ42は合体された読取り及び書込み磁気ヘッドを持ち、サスペンション44と、アクチュエータ47によって回転可能な態様で位置決めされるアクチュエータ・アーム46に支えられている。大容量の直接アクセス記憶デバイス(DASD)には、図3に示すように、それぞれ複数のディスク、スライダ及びサスペンションが使用される場合もある。サスペンション44及びアクチュエータ・アーム46はアクチュエータ47によって動かされ、磁気ヘッド40が磁気ディスク34の表面と変換を行う関係になるようにスライダ42を位置決めする。
〈製作方法〉
図11A及び11Bから図28A及び28Bまでに、図6及び7に示す磁気ヘッド組立体40の製作における種々の工程が図解されている。図11A及び11Bにおいて、第1及び第2シールド層80及び82は、周知のフレーム鍍金技術によって、また第1及び第2の読取りギャップ層76及び78とセンサ74は、周知の真空蒸着技術によって製作することができる。
〈考察〉
上に述べたフレーム鍍金工程の代りに真空蒸着を用いても良いことを理解すべきである。更に、本発明の広い概念においては、上述した、下部にある第2磁極片層なしの磁極端層を使用することもできる。場合によっては、種々の層の材料を任意に選ぶことができる。例えば、アルミナ層の代わりにフォトレジストを使用することもでき、その逆もまた可能である。更に、磁気ヘッドの平坦化は種々の工程で平坦化されるが、平坦化は第2の磁極片層と磁極端層のためにのみ行われても良い。また、磁気ヘッド組立体は先に論じたように合体式でもピギーバック式でも良い。磁極片は強磁性材料であり、ニッケル鉄合金であって良い。第2磁極片層が磁極端層とは異なる強磁性材料でも良いことに注意されたい。例えば、第2磁極片層がNi45Fe55、磁極端層がCo90Fe10から成るものであっても良いのである。
70…書込みヘッド部分、
72…読取りヘッド部分、
74…読取りセンサ、
76…第1読取りギャップ層、
78…第2読取りギャップ層、
80…第1シールド層、
82…第2シールド層、
84…コイル、
100…第1磁極片(P1)、
102…第2磁極片、
104,106…バック・ギャップ部分、
108…バック・ギャップ層、
110…絶縁スタック、
112…書込みコイル層、
114…下部絶縁層、
116,118…絶縁層、
119…アルミナ層、
126,127…リード線、
130…第2磁極片層(P2層)、
132…磁極端層(PT層)、
134,136…フレア点、
138…磁極端、
140…絶縁層、
300,302…スタッド、
300A,300B,300C,300D…スタッド・セグメント、
302A,302B,302C,302D…スタッド・セグメント、
304…書込みシールド、
305…絶縁層(非磁性分離層)。
Claims (32)
- ヘッド表面を持つ垂直記録書込みヘッドであって、
強磁性の第1磁極片及び第2磁極片と、
ヘッド表面から後退しており、前記第1及び第2磁極片を結合するバック・ギャップと、
書込みコイル層が中に埋め込まれており、前記第1磁極片と前記ヘッド表面に位置する磁極端を有する前記第2磁極片の間に位置し、かつ前記ヘッド表面と前記バック・ギャップの間に位置している絶縁スタックと、
強磁性書込みシールド層と、
前記第2磁極片と前記書込みシールド層の間に位置する非磁性分離層と、
前記第1磁極片層と前記書込みシールド層を磁気的に結合し、前記ヘッド表面と前記絶縁スタックの間に位置する少なくとも1個の強磁性スタッドと、
を有することを特徴とする垂直記録書込みヘッド。 - 前記磁極端はその側面を反応性イオン・エッチング(RIE)可能なマスクで囲まれており、
前記RIE可能なマスクの上に接着層を有することを特徴とする請求項1記載の垂直記録書込みヘッド。 - 前記接着層の材料がTa、W及びMoから成る群から選ばれることを特徴とする請求項2記載の垂直記録書込みヘッド。
- 前記RIE可能なマスクの材料がMo、W、Ta2O3 、SiONX 、SiO2 及びSi3N4 から成る群から選ばれることを特徴とする請求項3記載の垂直記録書込みヘッド。
- 前記接着層の材料がTaであることを特徴とする請求項4記載の垂直記録書込みヘッド。
- 前記ヘッド表面と前記絶縁スタックの間に位置し、前記第1磁極片層と前記書込みシールド層を磁気的に結合する第2強磁性スタッドをさらに有し、
前記少なくとも1個の強磁性スタッドと前記第2強磁性スタッドは互いに横方向に間隔を置いて、前記磁極端の両側に1個ずつ配置されていることを特徴とする請求項5記載の垂直記録書込みヘッド。 - 前記第2磁極片層は第1及び第2の層を有し、該第1の層が前記絶縁スタックと前記第2の層の間に位置しており、
前記第1の層は前記ヘッド表面から後退しており、
前記第2の層は前記磁極端を前記ヘッド表面に有することを特徴とする請求項1記載の垂直書込みヘッド。 - 前記ヘッド表面と前記絶縁スタックの間に位置し、前記第1磁極片層と前記書込みシールド層を磁気的に結合する第2強磁性スタッドをさらに有し、
前記少なくとも1個の強磁性スタッドと前記第2強磁性スタッドは互いに横方向に間隔を置いて、前記磁極端の両側に1個ずつが配置されていることを特徴とする請求項7記載の垂直記録書込みヘッド。 - 前記磁極端はその側面を反応性イオン・エッチング(RIE)可能なマスクで囲まれており、
前記RIE可能なマスクの上に接着層を有することを特徴とする請求項8記載の垂直記録書込みヘッド。 - 前記RIE可能なマスクの材料がMo、W、Ta2O3 、SiONX 、SiO2 及びSi3N4 から成る群から選ばれることを特徴とする請求項9記載の垂直記録書込みヘッド。
- 前記接着層の材料がTaであることを特徴とする請求項10記載の垂直記録書込みヘッド。
- ヘッド表面、読取りヘッド及び垂直記録書込みヘッドを有する磁気ヘッド組立体であって、
強磁性の第1及び第2シールド層と、
前記第1及び第2シールド層の間に位置する読取りセンサと、
を含む読取りヘッドと、
第1磁極片層が前記第2シールド層と共通の層である強磁性の第1磁極片及び第2磁極片と、
前記第1及び第2磁極片を結合し、前記ヘッド表面から後退しているバック・ギャップと、
書込みコイル層が中に埋め込まれており、前記第1磁極片と前記ヘッド表面に位置する磁極端を有する前記第2磁極片の間に位置し、かつ前記ヘッド表面と前記バック・ギャップの間に位置している絶縁スタックと、
強磁性書込みシールド層と、
前記第2磁極片と前記書込みシールド層の間に位置する非磁性分離層と、
前記第1磁極片層と前記書込みシールド層を磁気的に結合し、前記ヘッド表面と前記絶縁スタックの間に位置する少なくとも1個の強磁性スタッドと、
を含む垂直記録書込みヘッドと、
を有することを特徴とする磁気ヘッド組立体。 - 前記第2磁極片は第1及び第2の層を有し、前記第1の層が前記絶縁スタックと前記第2の層の間に位置しており、
前記第1の層は前記ヘッド表面から後退しており、
前記第2の層は前記磁極端をヘッド表面に有することを特徴とする請求項12記載の磁気ヘッド組立体。 - 前記ヘッド表面と前記絶縁スタックの間に位置し、前記第1磁極片層と前記書込みシールド層を磁気的に結合する第2強磁性スタッドをさらに有し、
前記少なくとも1個の強磁性スタッドと前記第2強磁性スタッドは互に横方向に間隔を置いて、前記磁極端の両側に1個ずつが配置されていることを特徴とする請求項13記載の磁気ヘッド組立体。 - 前記磁極端はその側面を反応性イオン・エッチング(RIE)可能なマスクで囲まれており、
前記RIE可能なマスクの上に接着層を有することを特徴とする請求項14記載の磁気ヘッド組立体。 - 前記接着層の材料がTa、W及びMoから成る群から選ばれることを特徴とする請求項15記載の磁気ヘッド組立体。
- 前記RIE可能なマスクの材料がMo、W、Ta2O3 、SiONX 、SiO2 及びSi3N4 から成る群から選ばれることを特徴とする請求項16記載の磁気ヘッド組立体。
- 前記接着層の材料がTaであることを特徴とする請求項17記載の磁気ヘッド組立体。
- 前記ヘッド表面と前記絶縁スタックの間に位置し、前記第1磁極片層と前記書込みシールド層を磁気的に結合する第2強磁性スタッドをさらに有し、
前記少なくとも1個の強磁性スタッドと前記第2強磁性スタッドは互いに横方向に間隔を置いて、前記磁極端の両側に1個ずつが配置されていることを特徴とする請求項18記載の磁気ヘッド組立体。 - ヘッド表面を有する垂直記録書込みヘッドを製作する方法であって、
強磁性の第1及び第2磁極片を形成する工程と、
前記ヘッド表面から後退したバック・ギャップを形成する工程と、
前記バック・ギャップで前記第1及び第2磁極片を結合する工程と、
その中に書込みコイル層が埋め込まれており、前記第1磁極片と第2磁極片の間に位置し、かつ前記ヘッド表面と前記バック・ギャップの間に位置する絶縁スタックを形成する工程と、
前記ヘッド表面に位置する磁極端を前記第2磁極片に形成する工程と、
強磁性書込みシールド層を形成する工程と、
前記第2磁極片と前記書込みシールド層の間に非磁性分離層を形成する工程と、
前記第1磁極片と前記書込みシールド層を磁気的に結合し、前記ヘッド表面と前記絶縁スタックの間に位置する少なくとも1個の強磁性スタッドを形成する工程と
を含むことを特徴とする製作方法。 - 前記磁極端の側面を反応性イオン・エッチング(RIE)可能なマスクで囲む工程と、
前記RIE可能なマスクの上に接着層を形成する工程と、
をさらに含むことを特徴とする請求項20記載の製作方法。 - 前記接着層の材料がTa、W及びMoから成る群から選ばれることを特徴とする請求項21記載の製作方法。
- 前記RIE可能なマスクの材料がMo、W、Ta2O3 、SiONX 、SiO2 及びSi3N4 から成る群から選ばれることを特徴とする請求項22記載の製作方法。
- 前記接着層の材料がTaで形成されていることを特徴とする請求項23記載の製作方法。
- 前記ヘッド表面と前記絶縁スタックの間に第2強磁性スタッドを形成し、前記第1磁極片と前記書込みシールド層を磁気的に結合する工程と、
互いに横方向に間隔を置き、前記磁極端の両側に1個ずつ配置される前記少なくとも1個の強磁性スタッドと前記第2強磁性スタッドを形成する工程と、
をさらに含むことを特徴とする請求項24記載の製作方法。 - 第1及び第2の層を有し、該第1の層が前記絶縁スタックと前記第2の層の間に位置している前記第2磁極片を形成する工程と、
前記第1の層を前記ヘッド表面から後退して形成する工程と、
前記第2の層を前記ヘッド表面に前記磁極端を有するように形成する工程と
をさらに含むことを特徴とする請求項25記載の製作方法。 - 前記ヘッド表面と前記絶縁スタックの間に第2強磁性スタッドを形成し、前記第1磁極片と前記書込みシールド層を磁気的に結合する工程と、
互いに横方向に間隔を置き、前記磁極端の両側に1個ずつ配置される前記少なくとも1個の強磁性スタッドと前記第2強磁性スタッドを形成する工程と、
をさらに含むことを特徴とする請求項26記載の製作方法。 - 前記磁極端の側面を反応性イオン・エッチング(RIE)可能なマスクで囲む工程と、
前記RIE可能なマスクの上に接着層を形成する工程と
をさらに含むことを特徴とする請求項27記載の製作方法。 - 前記RIE可能なマスクの材料がMo、W、Ta2O3 、SiONX 、SiO2 及びSi3N4 から成る群から選ばれることを特徴とする請求項28記載の製作方法。
- 前記接着層の材料がTaで形成されていることを特徴とする請求項29記載の製作方法。
- 磁気記録媒体に対向するヘッド表面を有する垂直記録書込みヘッドを製作する方法であって、
強磁性の第1磁極片層を形成する工程と、
前記ヘッド表面から後退しており、前記第1磁極片層と磁気的に結合されている強磁性のバック・ギャップを形成する工程と、
前記第1磁極片層の上の前記ヘッド表面と前記バック・ギャップの間の位置に、書込みコイルが中に埋め込まれた絶縁スタックを形成する工程と、
前記ヘッド表面と前記絶縁スタックの間の位置に、前記第1磁極片層と磁気的に結合された第1強磁性スタッド構成部分を形成する工程と、
前記バック・ギャップ、前記絶縁スタック、前記第1強磁性スタッドの構成部分、及び前記絶縁スタック周辺の領域を平坦化して第1の平坦な表面を形成する工程と、
前記第1の平坦な表面上に、第2磁極片の下層ならびに第2強磁性スタッド構成部分を、第2磁極片の下層が前記ヘッド表面から後退した前端と前記バック・ギャップと磁気的に結合した後部を有するように、かつ第2強磁性スタッド構成部分が前記ヘッド表面と前記第2磁極片の下層の前縁との間の位置で前記第1強磁性スタッド構成部分と磁気的に結合されるように形成する工程と、
前記第2磁極片の下層、前記第2強磁性スタッド構成部分、及び前記第2磁極片の下層周辺の領域ならびに前記第2強磁性スタッド構成部分周辺の領域を平坦化して第2の平坦な表面を形成する工程と、
前記第2の平坦な表面上に反応性イオン・エッチング(RIE)可能なマスクを形成する工程と、
前記RIE可能なマスクの上に接着層を形成する工程と、
前記RIE可能なマスクをパターニングするための開口を持つフォトレジスト・マスクを、前記接着層上に形成する工程と、
前記フォトレジスト・マスクの開口を通じて前記RIE可能なマスクを反応性イオン・エッチングし、前記RIE可能なマスクに前記第2磁極片の前記ヘッド表面における磁極端、及び第3強磁性スタッド構成部分のための開口を形成する工程と、
前記フォトレジスト・マスクを除去する工程と、
前記接着層の上面と前記RIE可能なマスクの開口内に強磁性材料を堆積させ、前記第2磁極片の磁極端と前記第3強磁性スタッド構成部分とを、前記第2磁極片の磁極端が該第2磁極片の下層に磁気的に結合されるように、かつ前記第3強磁性スタッド構成部分が前記第2強磁性スタッド構成部分と磁気的に結合されるように形成する工程と、
前記堆積された強磁性材料の層を前記接着層に達するまで平坦化し、第3の平坦な表面を形成する工程と、
前記第3の平坦な表面上に、第4の平坦な表面を有する非磁性分離層を形成する工程と、
前記第4の平坦な表面上に、前記第3強磁性スタッド構成部分に対向する開口を有する第2フォトレジスト層を形成する工程と、
前記第2フォトレジスト層の開口を通してエッチングを行い、前記分離層に開口を形成して前記第3強磁性スタッド構成部分の頂上部を露出させる工程と、
前記第2フォトレジスト層を除去する工程と、
前記分離層上に、前記第3強磁性スタッド構成部分を露出させる開口と、書込みシールド層を形成するための開口を有する第3フォトレジスト層を形成する工程と、
前記第3フォトレジスト層の開口内に強磁性材料を堆積させ、第4強磁性素タッド構成部分と前記書込みシールド層を、該第4強磁性スタッド構成部分が該書込みシールド層と磁気的に結合され、かつ前記第1、第2、第3及び第4強磁性スタッド構成部分を通じて前記第1磁極片層と磁気的に結合されるように形成する工程と、
を含むことを特徴とする製作方法。 - 前記平坦化の工程が、
アルミナを堆積させる工程と
該アルミナが平坦になるまで当該アルミナを化学・機械研磨する工程と、
を含むことを特徴とする請求項31記載の製作方法。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007294088A (ja) * | 2006-04-25 | 2007-11-08 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | 熱的に誘発される突出を減少せしめる磁気書き込みヘッド及びその製造方法 |
US7633714B2 (en) * | 2006-07-26 | 2009-12-15 | Headway Technologies, Inc. | Magnetic head for perpendicular magnetic recording and method of manufacturing same |
Families Citing this family (44)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6960281B2 (en) * | 2003-03-21 | 2005-11-01 | Headway Technologies, Inc. | Method to make a wider trailing pole structure by self-aligned pole trim process |
US7271982B2 (en) * | 2004-02-13 | 2007-09-18 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Perpendicular magnetic recording head built using an air-bearing surface damascene process |
US7068453B2 (en) * | 2004-02-27 | 2006-06-27 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Thermally-assisted perpendicular magnetic recording system and head |
US7743487B2 (en) * | 2004-03-02 | 2010-06-29 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Method to planarize perpendicular write poles using a combination of CMP and reactive ion milling |
US7193815B1 (en) * | 2004-04-06 | 2007-03-20 | Western Digital (Fremont), Inc. | Shielded pole magnetic head for perpendicular recording |
US7441325B2 (en) * | 2004-04-30 | 2008-10-28 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Perpendicular head with trailing shield and rhodium gap process |
US7692893B2 (en) * | 2004-06-30 | 2010-04-06 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands, B.V. | Side-by-side magnetic head configuration with flared pole tip layer and read sensor sharing same plane |
JP4763264B2 (ja) * | 2004-10-25 | 2011-08-31 | ヒタチグローバルストレージテクノロジーズネザーランドビーブイ | 垂直記録用磁気ヘッド |
US7327533B2 (en) * | 2004-11-03 | 2008-02-05 | Headway Technologies, Inc. | Process and structure for a perpendicular writer having an exchange coupling discontinuity |
US7417832B1 (en) | 2005-04-26 | 2008-08-26 | Western Digital (Fremont), Llc | Magnetoresistive structure having a novel specular and filter layer combination |
US7551396B2 (en) * | 2005-04-27 | 2009-06-23 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Perpendicular magnetic write head having a studded trailing shield compatible with read/write offset |
US7379277B2 (en) * | 2005-06-30 | 2008-05-27 | Seagate Technology Llc | Reader shield/electrode structure for improved stray field and electrical performance |
US20070035878A1 (en) * | 2005-08-10 | 2007-02-15 | Hung-Chin Guthrie | Perpendicular head with self-aligned notching trailing shield process |
US7684160B1 (en) | 2006-02-06 | 2010-03-23 | Western Digital (Fremont), Llc | Magnetoresistive structure having a novel specular and barrier layer combination |
US7493688B1 (en) | 2006-02-13 | 2009-02-24 | Western Digital (Fremont), Llc | Method of manufacturing a magnetic recording transducer |
US7532432B2 (en) * | 2006-04-24 | 2009-05-12 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Perpendicular magnetic recording system with medium having thin soft underlayer and recording head having thick-throat trailing shield |
US7562437B2 (en) * | 2006-04-25 | 2009-07-21 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Method of manufacturing a wrap around shield for a perpendicular write pole using a laminated mask |
US7777989B2 (en) * | 2006-06-12 | 2010-08-17 | Seagate Technology Llc | Magnetic writer including an electroplated high moment laminated pole |
US8467147B2 (en) * | 2006-10-13 | 2013-06-18 | Headway Technologies, Inc. | Magnetic head for perpendicular magnetic recording and method of manufacturing same |
US20080112088A1 (en) * | 2006-11-13 | 2008-05-15 | Hitachi Global Storage Technologies | Perpendicular magnetic write head having a wrap around trailing shield with a flux return path |
US7688546B1 (en) * | 2006-12-21 | 2010-03-30 | Western Digital (Fremont), Llc | Perpendicular magnetic recording head having nonmagnetic insertion layers |
US7813080B2 (en) * | 2006-12-22 | 2010-10-12 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Enhanced planarization liftoff structure and method for making the same |
JP2008204503A (ja) | 2007-02-16 | 2008-09-04 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
US8634162B2 (en) * | 2007-03-08 | 2014-01-21 | HGST Netherlands B.V. | Perpendicular write head having a stepped flare structure and method of manufacture thereof |
US7979978B2 (en) | 2007-03-27 | 2011-07-19 | Headway Technologies, Inc. | Method for manufacturing a self-aligned full side shield PMR |
US7894159B2 (en) * | 2007-04-19 | 2011-02-22 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Perpendicular write head with independent trailing shield designs |
US7950137B2 (en) * | 2007-06-21 | 2011-05-31 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Method for manufacturing a magnetic write head |
US7456030B1 (en) * | 2007-10-11 | 2008-11-25 | National Semiconductor Corporation | Electroforming technique for the formation of high frequency performance ferromagnetic films |
US8000059B2 (en) * | 2007-12-12 | 2011-08-16 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Perpendicular magnetic write head with a thin wrap around magnetic shield |
US8793866B1 (en) | 2007-12-19 | 2014-08-05 | Western Digital (Fremont), Llc | Method for providing a perpendicular magnetic recording head |
US8166632B1 (en) | 2008-03-28 | 2012-05-01 | Western Digital (Fremont), Llc | Method for providing a perpendicular magnetic recording (PMR) transducer |
US8310782B2 (en) * | 2008-04-04 | 2012-11-13 | Seagate Technology Llc | Dedicated ID-OD writer with beveled pole tips and method of manufacture |
US8259411B2 (en) | 2008-05-07 | 2012-09-04 | Seagate Technology Llc | Fabrication of trapezoidal pole for magnetic recording |
US8289648B2 (en) * | 2009-02-20 | 2012-10-16 | Seagate Technology Llc | Magnetic recording head with layered structure in write gap |
US8279562B2 (en) | 2009-03-16 | 2012-10-02 | Seagate Technology Llc | Magnetic recording head with magnetic wall angle |
US8149537B2 (en) * | 2009-06-22 | 2012-04-03 | Seagate Technology Llc | Magnetic writer with multi-component shield |
US8385018B2 (en) | 2009-11-03 | 2013-02-26 | International Business Machines Corporation | Magnetic writer having multiple gaps with more uniform magnetic fields across the gaps |
US8164760B2 (en) * | 2010-03-11 | 2012-04-24 | Western Digital (Fremont), Llc | Method and system for interrogating the thickness of a carbon layer |
US8107193B2 (en) * | 2010-04-08 | 2012-01-31 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Perpendicular magnetic recording head |
EP2617036A4 (en) | 2010-09-15 | 2016-11-16 | Seagate Technology Llc | MAGNETIC RECORDING HEAD WITH POLISHED TOP SHIELDING |
CN102982812A (zh) * | 2012-12-04 | 2013-03-20 | 新乡医学院 | 一种硬盘磁头晶片的生产方法 |
CN104103281B (zh) * | 2013-04-12 | 2017-08-29 | 西部数据(弗里蒙特)公司 | 具有细长形状的附加极的磁记录换能器 |
CN104696529A (zh) * | 2014-12-08 | 2015-06-10 | 北京交通大学 | 一种提高磁性液体密封在高温工作环境中耐压能力和工作可靠性的方法 |
US11776565B2 (en) * | 2022-01-12 | 2023-10-03 | Western Digital Technologies, Inc. | Tape head with side-shielded writers and process for making same |
Family Cites Families (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US33949A (en) * | 1861-12-17 | Improvement in processes of making iron and steel | ||
US4321641A (en) | 1977-09-02 | 1982-03-23 | Magnex Corporation | Thin film magnetic recording heads |
US4656546A (en) | 1985-01-22 | 1987-04-07 | Digital Equipment Corporation | Vertical magnetic recording arrangement |
US4967298A (en) | 1987-02-17 | 1990-10-30 | Mowry Greg S | Magnetic head with magnetoresistive sensor, inductive write head, and shield |
US4935832A (en) | 1987-04-01 | 1990-06-19 | Digital Equipment Corporation | Recording heads with side shields |
JP2741837B2 (ja) | 1993-08-06 | 1998-04-22 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション | 薄膜磁気抵抗ヘッド |
SG34292A1 (en) | 1994-12-30 | 1996-12-06 | Ibm | Read/write magnetoresistive (MR) head with sunken components |
JP3520170B2 (ja) | 1996-04-02 | 2004-04-19 | Tdk株式会社 | 複合型薄膜磁気ヘッド |
US5696656A (en) | 1996-09-06 | 1997-12-09 | International Business Machines Corporation | Highly sensitive orthogonal spin valve read head |
US5757591A (en) | 1996-11-25 | 1998-05-26 | International Business Machines Corporation | Magnetoresistive read/inductive write magnetic head assembly fabricated with silicon on hard insulator for improved durability and electrostatic discharge protection and method for manufacturing same |
US6130809A (en) * | 1998-04-10 | 2000-10-10 | International Business Machines Corporation | Write head before read head constructed merged magnetic head with track width and zero throat height defined by first pole tip |
JP2000048321A (ja) * | 1998-07-30 | 2000-02-18 | Nec Corp | 垂直磁気記録用ヘッド |
JP3473939B2 (ja) | 1998-10-13 | 2003-12-08 | Tdk株式会社 | 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 |
US6181514B1 (en) * | 1998-12-04 | 2001-01-30 | International Business Machines Corporation | Scaled write head with high recording density and high data rate |
JP2001084514A (ja) | 1999-09-16 | 2001-03-30 | Tdk Corp | 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 |
US6404601B1 (en) | 2000-01-25 | 2002-06-11 | Read-Rite Corporation | Merged write head with magnetically isolated poletip |
JP2001331909A (ja) * | 2000-05-23 | 2001-11-30 | Tdk Corp | 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 |
DE10196242T1 (de) | 2000-05-25 | 2003-08-21 | Seagate Technology Llc | Abschirmungsausgestaltung für magnetoresistiven Sensor |
JP3602038B2 (ja) * | 2000-07-24 | 2004-12-15 | 株式会社日立グローバルストレージテクノロジーズ | 磁気ヘッドおよび磁気記録再生装置 |
US20020051330A1 (en) * | 2000-11-01 | 2002-05-02 | Seagate Technology Llc | High resistance CPP transducer in a read/write head |
US6922316B2 (en) * | 2000-11-10 | 2005-07-26 | Tdk Corporation | Thin-film magnetic head and method of manufacturing same |
KR100370404B1 (ko) | 2000-11-28 | 2003-01-30 | 삼성전자 주식회사 | 자기헤드 |
JP3999469B2 (ja) * | 2001-03-21 | 2007-10-31 | Tdk株式会社 | 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 |
US6954340B2 (en) * | 2001-05-23 | 2005-10-11 | Seagate Technology Llc | Perpendicular magnetic recording head with nonmagnetic write gap greater than twice side shield gap distance |
US6762911B2 (en) * | 2002-02-11 | 2004-07-13 | Headway Technologies, Inc. | Combination type thin film magnetic head and method of manufacturing the same |
JP4060224B2 (ja) * | 2003-03-31 | 2008-03-12 | 新科實業有限公司 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
US7002775B2 (en) * | 2003-09-30 | 2006-02-21 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Head for perpendicular magnetic recording with a shield structure connected to the return pole piece |
US7042682B2 (en) * | 2003-10-17 | 2006-05-09 | Headway Technologies, Inc. | Fully shielded perpendicular recoding writer |
US7233457B2 (en) * | 2003-12-16 | 2007-06-19 | Seagate Technology Llc | Head for perpendicular recording with reduced erasure |
JP2005216361A (ja) * | 2004-01-28 | 2005-08-11 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
JP2006244671A (ja) * | 2005-03-07 | 2006-09-14 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
-
2003
- 2003-07-30 US US10/631,642 patent/US7031121B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2004
- 2004-02-25 DE DE602004005930T patent/DE602004005930T2/de not_active Expired - Fee Related
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- 2004-07-30 CN CNB2004100588202A patent/CN1296891C/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007294088A (ja) * | 2006-04-25 | 2007-11-08 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | 熱的に誘発される突出を減少せしめる磁気書き込みヘッド及びその製造方法 |
US7633714B2 (en) * | 2006-07-26 | 2009-12-15 | Headway Technologies, Inc. | Magnetic head for perpendicular magnetic recording and method of manufacturing same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20050024766A1 (en) | 2005-02-03 |
US7388732B2 (en) | 2008-06-17 |
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EP1503372B1 (en) | 2007-04-18 |
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