JP2005039274A - リソグラフィ装置、デバイス製造方法およびそれにより製造したデバイス - Google Patents
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Abstract
【解決手段】放射線の投影ビームを供給するための放射線システムと、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化する働きをするパターニング手段を支持するための支持構造体と、ほぼ平らな基板を支持するためのほぼ平らな支持面を供給するための突起構成を形成している複数の突起を備える基板ホルダーと、基板の目標部分上にパターン化されたビームを投影するための投影システムとを備えるリソグラフィ投影装置。基板ホルダーは、電界により基板ホルダーに対して基板を締め付けるために、電界を発生するための少なくとも1つの締付け電極を備え、基板ホルダーは、さらに、基板と接触するように配置されている周辺支持縁部を備える。本発明によれば、少なくとも1つの電極は、周辺支持縁部を越えて延びる。
【選択図】図2
Description
・放射線(例えば、深紫外線領域内の光)(この特定の実施形態の場合には、放射線源LAも含む)の投影ビームPBを供給するための放射線システムEx、ILと、
・マスクMA(例えば、レチクル)を保持するためのマスク・ホルダーを備えていて、品目PLに対してマスクを正確に位置決めするための第1の位置決め手段PMに接続している第1の対象物テーブル(マスク・テーブル)MTと、
・基板W(例えば、レジストでコーティングされたシリコン・ウェハ)を保持するための基板ホルダーを備え、品目PLに対して基板を正確に位置決めするための第2の位置決め手段PWに接続している第2の対象物テーブル(基板テーブル)と、
・マスクMAの照射された部分を基板Wの目標部分C(例えば、1つまたはそれ以上のダイを備える)上に画像形成するための投影システム(「レンズ」)PLとを備える。
1.ステップ・モードの場合には、マスク・テーブルMTは、本質的に固定状態に維持され、全マスク画像は、1回で(すなわち、1回の「照射」で)目標部分C上に投影される。次に、異なる目標部分CをビームPBで照射することができるように、基板テーブルWTが、xおよび/またはy方向にシフトされる。
2.走査モードの場合には、所与の目標部分Cが1回の「照射」で露光されない点を除けば、本質的に同じシナリオが適用される。代わりに、マスク・テーブルMTを速度vで所与の方向(例えば、y方向のようないわゆる「走査方向」)に移動することができ、その結果、投影ビームPBは、マスク画像上を走査する。同時に、基板テーブルWTは、速度V=Mvで同じ方向または反対方向に同時に移動する。ここで、MはレンズPLの倍率(通常、M=1/4または1/5)である。このようにして、解像度と妥協することなく、比較的広い目標部分Cを露光することができる。
下記のテーブルは、5つの負荷の場合の結果を示す。
1.最後の支持縁部3の基板の回転がゼロである場合の最適距離b。
2.「短い」基板の延長(b+c=2a)に対する、基板縁部10および支持突起間の基板のところでの等しい湾曲に対する最適距離b
3.「長い」基板の延長(b+c=10a)に対する、基板縁部10および支持突起間の基板のところでの等しい湾曲に対する最適距離b
4.160nmのウェハ縁部の上向きの最大の湾曲に対する最適距離b
5.160nmのウェハ縁部の下向きの最大の湾曲に対する最適距離b
− マスク。マスクの概念は、リソグラフィにおいて周知のものであり、バイナリ・マスク・タイプ、レベンソン・マスク・タイプ、減衰位相シフト・マスク・タイプおよび種々のハイブリッド・マスク・タイプ等がある。放射線ビーム内にこのようなマスクを置くと、マスク上のパターンにより、マスク上に入射する放射線が選択的に透過(透過性マスクの場合)または選択的に反射(反射性マスクの場合)される。あるマスクの場合には、支持構造は、一般的に、確実にマスクを入射放射線ビーム内の所望する位置に保持することができ、そうしたい場合には、ビームに対してマスクが移動することができるようなマスク・テーブルである。
− プログラマブル・ミラー・アレイ。このようなデバイスの一例としては、粘弾性制御層および反射面を有するマトリックス・アドレス可能面がある。このような装置の基本的原理は、(例えば)反射面のアドレスされた領域が入射光を回折光として反射し、アドレスされていない領域は入射光を非回折光として反射するという原理である。適当なフィルタを使用することにより、反射ビームから上記の非回折光をろ過して回折光だけを後に残すことができる。このようにして、ビームは、マトリックス・アドレス可能面のアドレス・パターンに従ってパターン化される。プログラマブル・ミラー・アレイの他の実施形態は、それぞれが、適当な集中した電界を加えることにより、または圧電作動手段を使用することにより、軸を中心にして個々に傾斜することができる小さなミラーのマトリックス配置を使用する。ここでもまた、アドレスされるミラーが、アドレスされないミラーへ異なる方向に入力放射線ビームを反射するように、ミラーは、マトリックス・アドレス指定することができる。このようにして、反射したビームは、マトリックス・アドレス指定することができるミラーのアドレス・パターンに従ってパターン化される。必要なマトリックス・アドレス指定は、適当な電子手段により行うことができる。上記両方の状況において、パターニング・デバイスは、1つまたはそれ以上のプログラマブル・ミラー・アレイを備えることができる。本明細書に記載したミラー・アレイのより詳細な情報については、例えば、米国特許第5,296,891号、および米国特許第5,523,193号およびPCT特許出願第WO98/38597号およびWO98/33096号を参照されたい。プログラマブル・ミラー・アレイの場合には、上記支持構造を、例えば、必要に応じて固定式にも移動式にもすることができるフレームまたはテーブルの形で実施することができる。
− プログラマブルLCDアレイ。このような構造の一例は、米国特許第5,229,872号に記載されている。すでに説明したように、この場合の支持構造は、例えば、必要に応じて固定式にも移動式にもすることができるフレームまたはテーブルの形で実施することができる。
Ex ビーム・エクスパンダ
IL 照明装置
PM 第1の位置決め手段
PW 第2の位置決め手段
MT マスク・テーブル
PL レンズ
MA マスク
C 目標部分
W 基板
LA 放射線源
CO 集光レンズ
M1,M2 マスク整合マーク
P1,P2 基板整合マーク
1 基板ホルダー
2 突起
3,4 突起
5 曲線
6 ベース・プレート
7,10 基板
8 締付け電極
9 外側電極
11 支持面
12 凹部
13 直立素子
14 誘電体層
15 アース層
16 側壁部
Claims (13)
- リソグラフィ投影装置であって、
放射線の投影ビームを供給するための放射線システムと、
ほぼ平らな基板を支持するためのほぼ平らな支持面を提供するための突起構成を画成している複数の突起を備え、前記投影ビームのビーム経路内に設置される基板を支持するための基板ホルダーとを備え、前記基板ホルダーが、電界により前記基板ホルダーに対して前記基板を締め付けるために、前記電界を発生するための少なくとも1つの締付け電極を備え、前記基板ホルダーが、さらに、基板と接触するように配置されている周辺支持縁部を備え、
前記少なくとも1つの電極が、前記基板の縁部近くで前記基板のレベルをだすためのねじり荷重を供給するために前記周辺支持縁部を越えて延びることを特徴とするリソグラフィ投影装置。 - 前記電極の延長が、M=(1/12)Δpa2により定義される基準ねじり荷重の0.1〜3倍の範囲のねじり荷重を発生する請求項1に記載のリソグラフィ投影装置であって、ここで、Δpが加えた締付け圧力であり、aが2つの突起間の平均距離であるリソグラフィ投影装置。
- 前記突起構成が一連の同心円内に配置されていて、前記電極の延長が、0.3<b/a<0.6の関係を満足し、ここでbが前記電極延長の長さであり、aが前記周辺支持縁部に最も近い2つの同心円相互間の距離である、請求項2に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記基板ホルダーが、前記周辺支持縁部に沿って延びる外側電極を備えることを特徴とする、請求項1〜3の何れか1項に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記締付け電極が、前記突起近くに電界圧力を集中させるための前記突起構成に、ほぼ相補的に電界を減衰するように構成されている電界減衰器を備えることを特徴とする、請求項1〜4の何れか1項に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記電界減衰器が、少なくとも200μmおよび/またはアース層の4F/mの誘電率を有する誘電体層を備える、請求項5に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記締付け電極が、2つの隣接突起間で凹状になっている、請求項5〜6の何れか1項に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記締付け電極が、前記各突起内に突き出ている、請求項5〜7の何れか1項に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記締付け電極が、少なくとも20μmの4F/mの誘電率を有する誘電体層によりカバーされている、請求項8に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記基板ホルダーが、前記基板の目標部分上にパターン化されたビームによりパターン化される基板を保持するための支持テーブルである、前記請求項の何れか1項に記載のリソグラフィ投影装置。
- ほぼ平らな基板を支持するためのほぼ平らな支持面を供給するための突起構成を形成している複数の突起と、電界により、前記基板ホルダーに対して基板を締め付けるための前記電界を発生するための少なくとも1つの締付け電極と、
基板に接触するように配置されている周辺支持縁部とを備え、
前記少なくとも1つの電極が、前記基板の前記縁部近くの前記基板のレベルを出す、ねじり荷重を供給するために前記周辺支持縁部を越えて延びることを特徴とする、前記請求項の何れか1項に記載のリソグラフィ投影装置用の基板ホルダー。 - リソグラフィ投影装置であって、
放射線の投影ビームを供給するための放射線システムと、
ほぼ平らな基板を支持するためのほぼ平らな支持面を供給するため突起構成を形成している複数の突起を備える前記投影ビームのビーム経路内に設置される基板を支持するための基板ホルダーとを備え、前記基板ホルダーが、電界により前記基板ホルダーに対して前記基板を締め付けるために、前記電界を発生するための少なくとも1つの締付け電極を備え、前記基板ホルダーが、さらに、基板と接触するように配置されている周辺支持縁部を備え、
前記締付け電極が、前記突起近くに前記電界圧力を集中させるための前記突起構成に、ほぼ相補的に電界を減衰するように構成されている電界減衰器を備えることを特徴とするリソグラフィ投影装置。 - リソグラフィ投影装置であって、
放射線の投影ビームを供給するための放射線システムと、
パターニング手段の実質的な背面を支持するためのほぼ平らな面を供給するための、突起構成を形成している複数の突起を備える、前記投影ビームのビーム経路内に設置されるパターニング・デバイスを支持するためのパターニング・デバイス・ホルダーとを備え、前記基板ホルダーが、電界により前記基板ホルダーに対して前記基板を締め付けるために、前記電界を発生するための少なくとも1つの締付け電極を備え、前記基板ホルダーが、さらに、基板と接触するように配置されている周辺支持縁部を備え、
前記少なくとも1つの電極が、前記パターニング・デバイスの前記縁部近くの前記基板のレベルを出すため、ねじり荷重を供給するための前記周辺支持縁部を越えて延びることを特徴とするリソグラフィ投影装置。
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