JP2005031170A

JP2005031170A - 撮像装置および光学フィルター

Info

Publication number: JP2005031170A
Application number: JP2003193361A
Authority: JP
Inventors: Katsuichi Machida; 克一町田; Masuhiro Shoji; 益宏庄司
Original assignee: Kureha Corp
Current assignee: Kureha Corp
Priority date: 2003-07-08
Filing date: 2003-07-08
Publication date: 2005-02-03

Abstract

【課題】優れた撮像性能を有し、高い生産効率で製造することのできる撮像装置、および高い生産効率で製造することができると共に、優れたローパス性能および近赤外線遮断性能を有する新規な光学フィルターを提供すること。
【解決手段】撮像装置は、プラスチック製の基板上に、波長６００〜１２００ｎｍの光を遮断するコレステリック液晶よりなる近赤外線反射層が形成されてなる光学フィルターを備えてなることを特徴とする。光学フィルターは、高分子製光学的ローパスフィルターよりなるローパスフィルター層と、当該ローパスフィルター層に積重された波長６００〜１２００ｎｍの光を遮断するコレステリック液晶よりなる近赤外線反射層とを有することを特徴とする。
【選択図】なし

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、撮像装置、および当該撮像装置の構成要素として好適に用いられる光学フィルターに関する。
【０００２】
【従来の技術】
この出願の発明に関連する先行技術文献情報としては次のようなものがある。
【０００３】
【特許文献１】
特開平１１−２７１５２９号公報
【特許文献２】
特表２００１−５１９３１７号公報
【０００４】
従来、デジタルカメラなどに備えられている撮像装置としては、高い撮像性能を得るために干渉型の光学フィルターであって近赤外線遮断性能を有するフィルター（以下、「近赤外線カットフィルター」ともいう。）が設けられているものが知られている。
このような近赤外線カットフィルターとしては、ガラス製の基板上に、真空蒸着法によって、例えばシリカ（ＳｉＯ_２）層とチタニア（ＴｉＯ_２）層とを構成層とする交互積層膜よりなる近赤外線反射層が形成されてなるものが広く用いられている。
【０００５】
しかしながら、近赤外線カットフィルターが実用上十分な近赤外線遮断性能を得るために必要とされる近赤外線反射層の厚さは、通常、３〜４μｍであるが、各構成層の厚さが１０００〜２０００Åとされることから、所期の厚みを有する交互積層膜を形成するためには、例えば合計４０〜５０層の蒸着膜を形成することが必要となり、相当長い時間を要する。
【０００６】
また、ガラス製の基板が当該基板の取り扱い時に、例えばその端部が欠けてしまうチッピングが発生しやすく、チッピングにより生じた破片が異物として混入することに起因する撮像装置組み立て時の歩留りの低下が生じている。
【０００７】
以上のように、撮像装置を構成する近赤外線カットフィルターが真空蒸着法によって形成される近赤外線反射層を有するものである場合には、撮像装置を高い生産効率で製造することができない、という問題がある。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、以上のような事情に基いてなされたものであって、その目的は、優れた撮像性能を有し、高い生産効率で製造することのできる撮像装置を提供することにある。
本発明の他の目的は、高い生産効率で製造することができると共に、優れたローパス性能および近赤外線遮断性能を有する新規な光学フィルターを提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の撮像装置は、プラスチック製の基板上に、波長６００〜１２００ｎｍの光を遮断するコレステリック液晶よりなる近赤外線反射層が形成されてなる光学フィルターを備えてなることを特徴とする。
本発明の撮像装置においては、プラスチック製の基板として、近赤外線吸収フィルターを用いてもよい。
【００１０】
本発明の光学フィルターは、高分子製光学的ローパスフィルターよりなるローパスフィルター層と、当該ローパスフィルター層に積重された波長６００〜１２００ｎｍの光を遮断するコレステリック液晶よりなる近赤外線反射層とを有することを特徴とする。
本発明の光学フィルターにおいては、ローパスフィルター層がプラスチック製の基板上に形成されていることが好ましい。
また、本発明の光学フィルターにおいては、ローパスフィルター層と、近赤外線反射層との積層界面が光学接着剤により固定されている。
更に、本発明の光学フィルターにおいては、プラスチック製の基板として、近赤外線吸収フィルターを用いてもよい。
【００１１】
本発明の撮像装置は、上記の光学フィルターを備えてなることを特徴とする。
【００１２】
【作用】
本発明の撮像装置は、特定のコレステリック液晶よりなる近赤外線反射層を有する光学フィルターを備えてなり、また、近赤外線反射層を支持する部材としてプラスチックを材質とするものが用いられるため、当該近赤外線反射層が近赤外線遮断性能を有すると共に、この近赤外線反射層の形成においては、その形成手法が簡便であり、かつチッピングなどの不具合が生じないことから、優れた撮像性能を有すると共に、高い生産効率で製造することができる。
【００１３】
本発明の光学フィルターは、高分子製光学的ローパスフィルターよりなるローパスフィルター層と、特定のコレステリック液晶よりなる近赤外線反射層とを有するものであるため、当該ローパスフィルター層に由来する光学的ローパス性能と、当該近赤外線反射層に由来する近赤外線遮断性能とが得られ、また、近赤外線反射層を弊害を伴わずに簡便な手法によって形成することができるため、高い生産効率で製造することができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の撮像装置としては、下記（１）の光学フィルターを備えてなる撮像装置（以下、「第１の撮像装置」ともいう。）と、下記（２）の光学フィルターを備えてなる撮像装置（以下、「第２の撮像装置」ともいう。）との２種が包含される。
【００１５】
（１）プラスチック製の基板上に形成された波長６００〜１２００ｎｍの光を遮断するコレステリック液晶よりなる近赤外線反射層を有する光学フィルター（以下、「第１の光学フィルター」ともいう。）
（２）高分子製光学的ローパスフィルターよりなるローパスフィルター層と、当該ローパスフィルター層に積重された波長６００〜１２００ｎｍの光を遮断するコレステリック液晶よりなる近赤外線反射層とを有する光学フィルター（以下、「第２の光学フィルター」ともいう。）
【００１６】
〔第１の撮像装置〕
図１は、本発明の撮像装置の構成の一例を示す説明図であり、図２は、図１の撮像装置を構成する光学フィルターの構成を示す説明図である。
この第１の撮像装置は、カラー撮像装置であって、撮像レンズ１１を介して被写体からの光が、赤色光、緑色光、青色光に色分解された状態で入力される固体撮像素子１２と、当該固体撮像素子１２から発信された赤色光、緑色光および青色光による３つの画像情報を合成するカラー受像装置（図示せず）と共に、撮像レンズ１１を透過した光を固体撮像素子１２に導入する光路（以下、「撮像素子導入用光路」ともいう。）上に設けられている第１の光学フィルター２０を備えている。同図において、１４は、ガラス製のカバー部材であって、１９は、光学的ローパスフィルターである。
この第１の撮像装置においては、被写体からの光を色分解する手段としては、固体撮像素子１２の画素パターンに従って、赤色、緑色および青色のフィルターエレメントが配列されてなるカラーフィルターが用いられており、このカラーフィルターと、受光素子（図示せず）とにより構成される受光部１３が、撮像素子導入用光路上における固体撮像素子１２の前方（図１において左方）であってカバー部材１４の内方側（図１において右方側）に配設されている。
【００１７】
第１の光学フィルター２０は、可視光を透過すると共に、近赤外線遮断性能を有する近赤外線カットフィルターであり、例えば０．１〜２ｍｍの厚さを有するプラスチック製の基板２１上に、波長６００〜１２００ｎｍの光（以下、「特定波長域の光」ともいう。）を遮断する、例えば高分子コレステリック液晶よりなる近赤外線反射層（以下、「コレステリック液晶層」ともいう。）２２が形成されてなるものである。
第１の撮像装置において、第１の光学フィルター２０は、コレステリック液晶層２２が撮像レンズ１１に対向する状態で配置されている。
【００１８】
ここに、コレステリック液晶層２２による特定波長域の光の遮断性能としては、当該コレステリック液晶層２２の特定波長域の光の平均透過率が３０％以下であることが必要とされ、第１の撮像装置に一層優れた撮像性能を得るためには、当該平均透過率は１０％以下であることが好ましい。
【００１９】
コレステリック液晶層２２は、右旋光性を有する第１の構成層２２Ａと、左旋光性を有する第２の構成層２２Ｂとが積層されてなる構成を有している。
このような構成のコレステリック液晶層２２によれば、左円偏光成分および右円偏光成分よりなる特定波長域の光を、第１の構成層２２Ａによって右円偏光成分を反射し、一方、第２の構成層２２Ｂによって左円偏光成分を反射することによって確実に遮断することができる。
【００２０】
コレステリック液晶層２２の厚さは、通常、１０〜５００μｍとされ、当該コレステリック液晶層２２を構成する第１の構成層２２Ａおよび第２の構成層２２Ｂの厚さは、各々、１〜１００μｍとされる。第１の構成層２２Ａおよび第２の構成層２２Ｂの厚さは、異なっていてもよい。
【００２１】
このような構成を有する第１の光学フィルター２０は、例えば基板２１の一面に対して、当該基板２１と接合する一面全面に、例えばエポキシ系接着剤、ウレタン系接着剤、アクリル系接着剤などの光学接着剤を塗布した第１の構成層用シートを積重することによって積層界面が光学接着剤で固定されてなる積層体を得、更に、この積層体における第１の構成層用シートの一面に対して、当該積層体と接合する一面全面に光学接着剤を塗布した第２の構成層用シートを積重し、これらを一体化することによって製造することができる。
【００２２】
基板２１の材質としては、例えばポリメタクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリアリレート、ポリイミド、アモルファスポリオレフィン、トリアセチルセルロースなどの透光性および優れた光学特性を有するプラスチックが挙げられる。
また、基板２１としては、近赤外線吸収性を有するプラスチックよりなる近赤外線吸収フィルターを用いることができる。
【００２３】
第１の構成層２２Ａおよび第２の構成層２２Ｂよりなるコレステリック液晶層２２の材質としては、溶融時に液晶性を示すと共に、液晶転移温度以下に冷却することによって液晶相が固定化される特性を有するコレステリック配向性液晶性高分子などのコレステリック配向を固定化することのできる材料、および重合官能基を有する重合性液晶を含有し、当該重合性液晶のコレステリック液晶相を光重合または熱重合により固定化することのできる材料（以下、これらを総称して「コレステリック液晶材料」ともいう。）を用いることができる。
ここに、第１の構成層２２Ａと、第２の構成層２２Ｂとは、互いに異なる旋光性を有する異種のコレステリック液晶材料よりなるものであってもよいが、互いに異なる旋光性を有する同種のコレステリック液晶材料よりなるものであることが好ましい。
【００２４】
コレステリック配向性液晶性高分子としては、例えばポリエステル、ポリイミド、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステルイミドなどが挙げられる。
具体的に、コレステリック配向性液晶性高分子としては、例えば特開平１１−２７１５２９号公報および特表２００１−５１９３１７号公報に開示されているものを挙げることができる。
【００２５】
コレステリック液晶材料の好ましい具体例としては、液晶性ポリエステルと、光学活性な液晶性ポリエステル（以下、「光学活性ポリエステル」ともいう。）との組成物（以下、「液晶性ポリエステル組成物」ともいう。）が挙げられる。
この液晶性ポリエステル組成物をコレステリック液晶材料として用いる場合には、例えば液晶性ポリエステル組成物を構成する液晶性ポリエステルおよび光学活性ポリエステルの種類や含有割合、液晶性ポリエステルの複屈折率、当該液晶性ポリエステル組成物に係る螺旋ピッチ数などを制御することによって、得られるコレステリック液晶層２２が特定波長域の光の遮断性能を有するものとなる。
【００２６】
コレステリック液晶材料は、１種よりなるものであっても、２種以上を組み合わせてなるものであってもよい。
また、コレステリック液晶材料には、当該コレステリック液晶材料の特性を阻害しない範囲において、必要に応じて適宜の添加剤を加えることができる。この添加剤の具体例としては、例えばレベリング剤、紫外線および大気曝露に対する安定剤、その他を挙げることができる。
【００２７】
第１の構成層用シートおよび第２の構成層用シートに係るコレステリック液晶材料よりなるシート体は、例えばコレステリック配向性液晶性高分子よりなるコレステリック液晶材料を適宜の溶剤に溶解させることによって得られるコレステリック液晶材料溶液を、シート体形成用基材上に均一に塗布し、得られた塗膜を乾燥することによって溶剤を除去した後、当該塗膜に対して配向処理および配向状態固定化処理をこの順に施すことによってシート体形成用基材上に形成されたシート体層を、当該シート体形成用基材から剥離することによって製造することができる。
【００２８】
シート体形成用基材としては、例えばポリイミド、ポリイミドアミド、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトン、ポリケトンサルファイド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリアリレート、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール、フェノール樹脂などよりなるプラスチックフィルム、これらのプラスチックフィルムの表面にラビング処理が施されたプラスチック加工フィルム、アルカリガラス、ホウ珪酸ガラス、フリントガラスなどガラス板の表面にスリット状のエッチング処理が施されたガラス加工板などが好ましく用いられる。
【００２９】
コレステリック液晶材料溶液をシート体形成用基材上に塗布する手法としては、例えば空気ブレードコーティング、ドクターブレードコーティング、エアナイフコーティング、スクイズコーティング、含浸コーティング、リバースロールコーティング、トランスファーロールコーティング、グラビアコーティング、キスコーティング、注型コーティング、噴射コーティング、紡糸コーティング、および、凸版印刷、凹版印刷、フレキソ印刷、オフセット印刷、シルクスクリーン印刷などの印刷法などを用いることができる。
【００３０】
配向処理は、通常、５０℃〜３００℃、好ましくは１００℃〜２６０℃の温度条件により、被処理体を、１０秒〜１２０分間、好ましくは３０秒〜６０分間の加熱処理することによって行われる。
なお、加熱処理を行う際には、磁場や電場を利用することもできる。
【００３１】
配向状態固定化処理は、コレステリック液晶材料の液晶転移点以下の温度に冷却することによって行われる。
具体的に、配向状態固定化処理は、空冷、水冷などによる冷却を行うための冷却手段を用いてもよいが、被処理体を、配向処理に係る加熱雰囲気中から室温雰囲気中に移すことによっても行うことができる。
【００３２】
シート体形成用基材を剥離する手法としては、例えばロールなどを用いて機械的に剥離する方法、貧溶媒に浸漬した後に機械的に剥離する方法、貧溶媒中で超音波をあてて剥離する方法、シート体形成用基材とシート体層との熱膨張係数の差を利用して温度変化を与えて剥離する方法、シート体形成用基材を溶解除去する方法などを適宜に選択して用いることができる。
【００３３】
以上のような第１の撮像装置においては、撮像レンズ１１を透過した被写体からの光が、第１の光学フィルター２０によって特定波長域の光（近赤外線）がカットされると共に、光学的ローパスフィルター１９によって高空間周波数成分が除去された後、受光部１３に係るカラーフィルターによって赤色光、緑色光および青色光に色分解されて固体撮像素子１２に入力され、当該固体撮像素子１２から赤色光、緑色光および青色光による３つの画像情報がカラー受像装置に送られる。そして、カラー受像装置において、３つの画像情報が合成されることにより、所要の画像が得られる。
【００３４】
このような第１の撮像装置は、近赤外線反射層を支持する部材である基板としてプラスチック製の基板２１が用いられ、また、近赤外線反射層としてコレステリック液晶層２２が形成されてなる第１の光学フィルター２０を備えてなるものであるため、当該コレステリック液晶層２２が近赤外線遮断性能を有すると共に、当該コレステリック液晶層２２を、基板２１上にコレステリック液晶材料よりなるシート体を積重し、その積層界面を光学接着剤で固定して一体化するという簡便な手法により、真空蒸着法による近赤外線反射膜の形成手法に比して極めて短時間で形成することができる。また、基板２１上に近赤外線反射層であるコレステリック液晶層２２を形成する工程において、チッピングなどの不具合が生じないため、真空蒸着法により近赤外線反射層を形成する場合に比して高い歩留りを得ることができる。
従って、第１の撮像装置は、優れた撮像性能を有するものであると共に、高い生産効率で製造することができる。
【００３５】
このような第１の撮像装置においては、種々の変更を加えることができる。
例えば第１の光学フィルターを構成する近赤外線反射層（コレステリック液晶層）は、図３に示すように、同一の旋光性を有する２つの構成層（第１の構成層２７Ａおよび第２の構成層２７Ｂ）が、例えばポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリオレエフィン系などの透光性を有するプラスチック製の厚さ１〜２００μｍの１／２波長板よりなる層（以下、「１／２波長板層」ともいう。）２７Ｃを介して積層されてなる積層構成を有するものであってもよい。
このコレステリック液晶層２７によれば、１／２波長板層２７Ｃに入射された光は、当該１／２波長板層２７Ｃを透過する過程において１８０度の位相差が与えられることから、第１の構成層２７Ａによって特定波長域の光の一方の光成分を反射し、また、第２の構成層２７Ｂによって特定波長域の光の他方の光成分を反射することにより、特定波長域の光を確実に遮断することができる。
このような構成のコレステリック液晶層２７を有する第１の光学フィルター２５は、例えば基板２６に第１の構成層用シートを積重することによって得られる積層体における第１の構成層用シートの一面に対して、当該積層体と接合する一面全面に光学接着剤を塗布した１／２波長板２７Ｃを積重し、更に、接合する一面全面に光学接着剤を塗布した第２の構成層用シートを積重し、これらを一体化することによって製造することができる。
【００３６】
また、第１の光学フィルターは、コレステリック液晶層の表面に、透明プラスチックフィルムなどよりなる保護膜が設けられてなるものであってもよい。この場合には、コレステリック液晶層の表面が保護されると共に、第１の光学フィルターに、大きな強度および高い環境信頼性が得られる。
また、第１の光学フィルターは、第１の構成層および第２の構成層の各々が、異なる波長の光を反射する特性を有する複数のコレステリック液晶材料シートの複数を重ねて構成されるものであってもよい。
【００３７】
更に、第１の光学フィルターは、コレステリック液晶材料よりなるシートを製造する過程における適宜な材質のシート体形成用基材をそのまま基板として具えるものであってもよい。この場合には、シート体形成用基材として、第１の光学フィルターの基板として用いることのできる材質のものを選択して用いることにより、形成されたシート体層とシート体形成用基材とを剥離する工程と、基板上にコレステリック液晶材料よりなるシート体を積重する工程とが不要となるため、一層容易に製造することができる。
【００３８】
また、第１の撮像装置は、第１の光学フィルターをカバー部材として併用する構成を有するものであってもよい。この場合には、カバー部材が近赤外線遮断性能を有するため、単独の光学部材として専用の近赤外線カットフィルターを設けることが不要となり、撮像装置自体の小型化、低コスト化を更に図ることができる。
【００３９】
〔第２の撮像装置〕
第２の撮像装置は、単独の光学部材としての光学的ローパスフィルターが設けられておらず、また、第１の光学フィルターに代えて、プラスチック製の基板上に、高分子製光学的ローパスフィルターよりなるローパスフィルター層と、当該ローパスフィルター層に積重された特定波長域の光を遮断するコレステリック液晶よりなる近赤外線反射層とを有する第２の光学フィルターを備えてなること以外は第１の撮像装置と同様の構成を有する。
【００４０】
第２の光学フィルターは、可視光を透過すると共に、近赤外線遮断性能および光学的ローパス性能を有するフィルターであり、図４に示すように、プラスチック製の基板３１上に、ローパスフィルター層３２と、第１の構成層３３Ａおよび第２の構成層３３Ｂよりなる近赤外線反射層（コレステリック液晶層）３３とがこの順に積層されてなるものであり、撮像素子導入用光路上においてコレステリック液晶層３３が撮像レンズに対向する状態で配置されている。
【００４１】
第２の光学フィルター３０を構成するコレステリック液晶層３３は、第１の光学フィルター２０に係るコレステリック液晶層２２と同様の構成および特定波長域の光の遮断性能を有するものである。
【００４２】
ローパスフィルター層３２は、複屈折性を有すると共に特定の透明性を有し、この点において、特定の光学的特性を有する光学異方性高分子成形体からなるものである。
ここに「成形体」とは、高分子物質によって形成された具体的な形状、例えばフィルム状、シート状、板状などの形態を有するものであって、特にその形成方法が限定されるものではなく、また、その「厚み」は、光の透過方向における長さをいう。
【００４３】
ローパスフィルター層３２を構成する光学異方性高分子成形体は、複屈折性、すなわち屈折率の異方性が大きいものであることが好ましく、具体的には、屈折率の異方性の下限値は、水晶の屈折率の異方性（０．００９）より大きい値、例えば０．０１以上、特に、０．０２以上であることが好ましく、これにより、ローパスフィルター層３２の厚みを小さくすることができることから、第２の光学フィルター３０の小型化を十分に図ることができ、撮像装置用の光学フィルターとして好適なものとなる。
一方、当該屈折率の異方性の上限値は、液晶の安定性などの観点から０．３５以下、特に、０．３以下であることが好ましい。
【００４４】
光学異方性高分子成形体における常光線と異常光線との変位距離は、ＣＣＤ素子、ＭＯＳ素子などの撮像素子の１画素分程度以下の大きさに設定されることから、１〜２０μｍ、好ましくは１〜１０μｍの範囲とされ、これにより、当該光学異方性高分子成形体は、撮像装置用の光学フィルターとして好適なものとなる。
【００４５】
常光線と異常光線との変位距離、すなわち光学的ローパス性能に係る空間遮断周波数は、光学異方性高分子成形体の屈折率の異方性、当該光学異方性高分子成形体における厚み方向に対する遅相軸の角度すなわち配向角、および当該光学異方性高分子成形体の厚みなどの条件を設定することにより定まる。
配向角ψは、その絶対値が１０〜８０度の範囲、好ましくは２０〜７０度の範囲、より好ましくは３０〜６０度の範囲とされる。配向角ψの絶対値が過小または過大である場合には、必要な特性を得るために光学異方性高分子成形体の厚みを大きくすることが必要となる。
【００４６】
第２の光学フィルター３０においては、通常、ローパスフィルター層３２の厚さは、０．００５〜１ｍｍとされ、コレステリック液晶層３３の厚さは、１０〜５００μｍとされる。
【００４７】
このような構成を有する第２の光学フィルター３０は、例えば基板３１の一面に対して、当該基板３１と接合する一面全面に光学接着剤を塗布したローパスフィルター層用シートを積重することによって積層界面が光学接着剤で固定されてなる積層体を得、更に、この積層体におけるローパスフィルター層用シートの一面に対して、当該積層体と接合する一面全面に光学接着剤を塗布した第１の構成層用シート、次いで、接合に係る一面全面に光学接着剤を塗布した第２の構成層用シートを積重し、これらを一体化することによって製造することができる。
【００４８】
第２の光学フィルター３０を構成する基板３１の材質としては、第１の光学フィルター２０に係る基板２１の材質として挙げられているプラスチックを挙げることができる。また、基板３１としては、近赤外線吸収性を有するプラスチックよりなる近赤外線吸収フィルターを用いることができる。
第２の光学フィルター３０を構成するコレステリック液晶層３３の材質としては、第１の光学フィルター２０に係るコレステリック液晶層２２の材質として挙げられているコレステリック液晶材料を挙げることができる。
ここに、第１の構成層３３Ａと、第２の構成層３３Ｂとは、同一の旋光性を有するコレステリック液晶材料よりなるものであることが必要とされる。
【００４９】
以下、ローパスフィルター層３２を構成するフィルム状の光学異方性高分子成形体を製造する方法の好適な一例について説明する。
先ず、図５に示す構成を有するキャスト用セル４０を用意する。このキャスト用セル４０は、一定の厚みの間隙Ｇを介して２枚の平板状の透明なガラスよりなる成型用基板４２、４２を互いに対向するよう平行に配置し、その状態で当該２枚の成型用基板４２、４２の外周面にわたってシール用テープ４４を共通に貼り付けることにより作製され、内部にシールされた成型用空間が形成されている。
【００５０】
成型用基板４２、４２を構成する材料としては、有機材料または無機材料を用いることができる。
ここに有機材料の具体例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロフルオロエチレン、ポリアリレート、ポリスルホン、セルロース、ポリエーテルケトンなどを挙げることができる。また、無機材料の具体例としては、シリコン、ガラスなどを挙げることができる。
【００５１】
図６に示すように、このキャスト用セル４０における成型用基板４２、４２の間の間隙Ｇよりなる成型用空間内に、室温において液晶相を示す単量体による液晶性単量体成分を含有してなる光重合性液晶組成物を注入して保持させることにより、光重合性液晶組成物の薄層Ｌが形成された成型用複合体５０を形成する。光重合性液晶組成物は、後述するように、多官能性単量体よりなる架橋性単量体成分を含有するものであることが好ましい。
【００５２】
以上において、２枚の基板４２、４２の間の間隙Ｇの大きさは、目的とする光学異方性高分子成形体の厚みの大きさに応じて設定される。
このようにして得られる、成型用基板４２、４２と光重合性液晶組成物の薄層Ｌとよりなる成型用複合体５０に対して、配向処理が行われる。
具体的には、図７に示すように、平行磁場が作用されている場において、成型用複合体５０を、その成型用基板４２の表面が磁力線の方向と特定の角度θをなす方向に伸びる状態に保持することにより、光重合性液晶組成物の薄層Ｌに平行磁場を作用させ、これにより、液晶性単量体成分の液晶分子Ｍを磁力線の方向と直角な方向に配向させる。
【００５３】
この配向処理においては、光重合性液晶組成物の薄層Ｌに作用される平行磁場の強度は３テスラ以上とされることが好ましく、特に５テスラ以上であることが好ましい。このような高い強度の平行磁場は、例えば超伝導磁石を用いた平行磁場処理装置によって形成することができる。平行磁場の強度の上限は特に規定されるものではないが、実際上、２０テスラ以下が好ましく、より好ましくは１５テスラ以下である。
【００５４】
また、この配向処理においては、成型用複合体５０の温度を、光重合性液晶組成物の液晶性単量体成分が液晶相を示す状態に維持される温度である室温（例えば２５℃）に維持することが必要である。
【００５５】
平行磁場の磁力線の方向に対する角度θの大きさは、得られる光学異方性高分子成形体の用途によって適宜設定することができるが、４５度またはその近傍であることが好ましい。
【００５６】
配向処理のために成型用複合体５０に平行磁場が作用される時間は、液晶性単量体成分の液晶分子Ｍが十分に配向された状態が得られるのであれば、特に限定されるものではないが、例えば１分〜１０分間である。
【００５７】
平行磁場の作用によって液晶分子を配向させる手段によれば、成型用複合体５０の面方向に対する磁力線の方向の角度を制御することにより、光重合性液晶組成物における液晶の配向角を十分に制御することができ、その結果、得られる光学異方性成形体における厚み方向に対する遅相軸の角度を、広い範囲において任意に調節することができるので、好ましい。
【００５８】
このようにして配向処理がなされた成型用複合体５０に対して、例えば紫外線放射ランプよりの紫外線を、キャスト用セル４０における透明な成型用基板４２を介して薄層Ｌに照射することにより、光重合性液晶組成物の光重合処理が行われる。
【００５９】
この光重合処理における条件は、特に限定されるものではないが、照射される紫外線の強度は例えば１０〜３０ｍＷ／ｃｍ^２とされ、照射時間は例えば２０〜３６０秒間とされる。
また、光重合反応時における成型用複合体５０の温度は、用いられる光重合性液晶組成物の液晶状態が保持される範囲の温度とする必要があるが、できるだけ室温に近い温度を選択することが好ましい。
【００６０】
以上のようにして、成型用複合体５０における薄層Ｌを形成する光重合性液晶組成物は重合により硬化して架橋構造を有する重合体よりなるフィルム状の光学異方性高分子成形体層が形成され、セル複合体から両方の成型用基板４２、４２を除去することによって光学異方性高分子成形体が得られる。
【００６１】
光重合性液晶組成物の液晶性単量体成分を構成する単量体としては、下記式（１）で表される単官能アクリレート化合物または単官能メタクリレート化合物であって、例えば室温またはその付近の温度において液晶相を示すものが用いられる。
【００６２】
【化１】

【００６３】
式（１）で表される化合物の代表的な具体例およびその液晶の相転移温度を下記式（ａ）〜（ｄ）に示す。
【００６４】
【化２】

【００６５】
上記式（ａ）〜（ｄ）において、シクロヘキサン環はトランスシクロヘキサン環を表し、相転移スキームのＣＲは結晶相、ＮＥはネマチック相、ＩＳは等方性液体相を表し、温度は相転移温度を表す。
【００６６】
以上の液晶性単量体のうち、特に上記式（ａ）で表される化合物および式（ｄ）で表される化合物の一方または両方を用いることが好ましい。
【００６７】
架橋性単量体成分を構成する多官能性単量体としては、複数の重合性官能基を有し、それ自体が液晶性を示すものであっても、示さないものであってもよいが、液晶性単量体成分と混合されたときに、当該液晶性単量体成分の液晶性を大きく損なわないものであるものが重要である。
【００６８】
このような多官能性単量体として好ましいものは、分子中に３つ以上のベンゼン核を有する多官能アクリレート化合物または多官能メタクリレート化合物であって、当該３つ以上のベンゼン核のうちの２つが、下記式（２）で表される４，４’−ビフェニレン基を構成するものである。
この多官能性単量体は、分子構造的に、複数の重合性官能基と、ベンゼン核などの芳香環や環状脂肪族基などからなるメソゲン基（液晶性を示す剛直な部分）あるいはメソゲン類似基との間が、炭素原子数が４以上のアルキレン基や、２つ以上のエチレングリコールユニットなどよりなる比較的大きなスペーサ原子団によって柔軟に結合されているものであることが好ましい。
そのような多ベンゼン核含有化合物の具体例としては、例えば特開２０００−１７８２３３号公報に開示されているものを挙げることができる。
【００６９】
【化３】

【００７０】
光学異方性高分子成形体においては、当該光学異方性高分子成形体を得るための単量体組成物が、液晶性化合物である液晶性単量体成分と共に上記のような特定の多ベンゼン核含有化合物を含有することから、平行磁場による配向処理を行うことにより、最終的に得られる高分子成形体がきわめて高い透明性を有するものとなる。
【００７１】
具体的に説明すると、光重合性液晶組成物の配向処理においては、平行磁場の作用により、光重合性液晶組成物における特定の多ベンゼン核含有化合物の分子の配向状態がきわめて安定したものとなり、更に、この多ベンゼン核含有化合物の分子により、重合反応において、液晶性単量体成分の単量体は、その配向状態が乱れることが有効に抑止された状態で結合を形成して重合体分子が生成され、その結果、重合反応によって得られる重合体物質がきわめて高い透明性を有するものと考えられる。
【００７２】
光学異方性高分子成形体は、上記の単量体組成物が光重合反応によって重合されて得られるものであることが好ましく、他の重合法、例えば熱重合法による場合には、重合時間の長時間化による生産性の低下に加えて、重合反応による各単量体分子の熱運動が活発となり、液晶相の状態が部分的に乱れたりすることが原因となって複屈折性が小さいものとなるため、十分な光学異方性が得られなくなる。
【００７３】
光重合性液晶組成物における液晶性単量体成分の含有割合は５０〜９５モル％であって主成分とされ、一方、架橋性単量体成分の含有割合は５〜５０モル％とされ、特に２０〜４０モル％とされることが好ましい。
【００７４】
光重合性液晶組成物としては、その屈折率の異方性が０．０７以上となるように調製されたものを用いることが好ましい。
また、光重合性液晶組成物の重合反応性を向上させることを目的として、光重合開始剤や増感剤を添加してもよい。
ここに、光重合開始剤としては、例えば、公知のベンゾインエーテル系化合物類、ベンゾフェノン化合物類、アセトフェノン化合物類、ベンジルケタール化合物類、ビスアシルホスフィンオキサイド化合物類などから選択したものを用いることができる。
光重合開始剤の使用割合は、光重合性液晶組成物に対して３質量％以下、特に２質量％以下であることが好ましい。
【００７５】
光重合性液晶組成物における液晶化合物の液晶を配向した状態とする手段としては、光重合性液晶組成物に磁力線の方向が特定の方向となるよう平行磁場を印加することにより液晶分子を配向させる手段が用いられるが、他の公知の手段、例えば、基板上にプレチルト角を与えるポリイミド膜などよりなる配向膜を形成することにより液晶を配向させる手段などを併用することができる場合もある。
【００７６】
平行磁場を印加することにより液晶を配向させる手段によれば、成型用複合体の面方向に対する磁力線の方向の角度を制御することにより、光重合性液晶組成物における液晶の配向角を制御することができ、その結果、得られる光学異方性高分子成形体における厚み方向に対する遅相軸の角度を、広い範囲において任意に調節することができるので、好ましい。
【００７７】
配向処理における平行磁場の強さは、例えば３テスラ以上とすることにより、確実に、厚みが１０〜２００μｍであってヘイズ値が１．５以下である光学異方性高分子成形体を形成することができる。このように強度の大きい平行磁場は、例えば超伝導を利用した平行磁場発生装置によって実現することができる。
【００７８】
このような第２の撮像装置は、基板としてプラスチック製の基板３１が用いられ、また、ローパスフィルター層３２と、当該ローパスフィルター層３２に積重されたコレステリック液晶層３３とを有し、当該ローパスフィルター層３２がコレステリック液晶層３３を支持する部材として作用する第２の光学フィルター３０を備えてなるものであるため、当該ローパスフィルター層３２に由来する光学的ローパス性能と、当該コレステリック液晶層３３に由来する近赤外線遮断性能とが得られ、また、近赤外線反射層であるコレステリック液晶層３３を、基板３１およびローパスフィルター層３２を有する積層体上に、コレステリック液晶材料よりなるシート体を積重し、その積層界面を光学接着剤で固定して一体化するという簡便な手法により、真空蒸着法による近赤外線反射層の形成手法に比して極めて短時間で形成することができる。また、近赤外線反射層であるコレステリック液晶層３３を形成する工程において、チッピングなどの不具合が生じないため、真空蒸着法により近赤外線反射層を形成する場合に比して高い歩留りを得ることができる。
従って、第２の撮像装置は、優れた撮像性能を有するものであると共に、高い生産効率で製造することができる。
【００７９】
第２の光学フィルター３０が、光学的ローパス性能および近赤外線遮断性能を有するものであるため、当該第２の光学フィルター３０により、被写体の光学像に含まれる高空間周波数成分が除去されると共に、特定波長域の光（近赤外線）を高い効率でカットすることができる。
従って、第２の撮像装置においては、光学的ローパス性能を有するフィルターと、近赤外線遮断性能を有するフィルターとを個別に設ける必要がなくなり、撮像装置自体の小型化を図ることができる。
【００８０】
更に、第２の光学フィルター３０を構成する基板３１が、プラスチック製のものであることから、基板３１を構成する材質と、当該基板３１に接合されるローパスフィルター層３２を構成する材質（光学異方性高分子物質）との熱膨張率の差が小さいため、基板がガラス製である場合に、ガラスと光学異方性高分子物質との熱膨張率の差が大きいために生じる基板とローパスフィルター層との積層界面における当該ローパスフィルター層の反りおよび剥離などが生じることがなく、第２の光学フィルター３０に安定した光学特性が得られる。
従って、第２の撮像装置には、長期間にわたって安定した撮像性能が得られる。
【００８１】
このような第２の撮像装置においては、種々の変更を加えることができる。
例えば、第２の光学フィルターは、ローパスフィルター層を構成する光学異方性高分子成形体が、単一体であるものに限定されず、材料シートの複数を重ねて構成されるものであってもよい。特に、このような構成の第２の光学フィルターにおいては、適宜、例えばポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリオレエフィン系などの透光性を有するプラスチック製の１／４波長板を積層することで、水平方向だけでなく垂直方向に光学的ローパス特性を発揮させることができる。積層される１／４波長板の厚さは、通常、１０〜５００μｍである。
【００８２】
また、第２の光学フィルターは、第１の光学フィルターと同様に、コレステリック液晶層の表面に、透明プラスチックフィルムなどの保護膜が設けられてなるものであってもよく、あるいは、基板としてシート体形成用基材を具えてなるものであってもよく、更に、コレステリック液晶層は、第１の撮像装置を構成するコレステリック液晶層と同様に、１／２波長板よりなる層を介して同一の旋光性を有する２つの構成層が積層されてなる積層構成を有するものであってもよい。
また、第２の撮像装置は、第１の撮像装置と同様に、第２の光学フィルターをカバー部材として併用する構成を有するものであってもよい。
【００８３】
以上のような第１の撮像装置および第２の撮像装置は、例えばＣＣＤ（ｃｈａｒｇｅ−ｃｏｕｐｌｅｄｄｅｖｉｃｅ）センサーまたはＣ−ＭＯＳ（Ｃｏｍｐｌｅｍｅｎｔａｒｙ−ＭｅｔａｌＯｘｉｄｅＳｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）センサーを備えてなる形式の撮像装置、具体的には、デジタルスチルカメラ、ビデオカメラ、パソコンカメラ、監視カメラ、携帯電話搭載用カメラおよび小型カメラモジュールなどとして好適に用いることができる。
【００８４】
第２の撮像装置を構成する第２の光学フィルターは、光学的ローパス性能および近赤外線遮断性能を有し、容易な手法によって高い生産効率で製造することのできる新規な光学フィルターであって撮像装置に好適に用いることができる。
【００８５】
【実施例】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００８６】
＜実施例１＞
図１の構成に従って、撮像レンズを介して被写体からの光が入力される固体撮像素子と、被写体からの光を色分解する手段であるカラーフィルターを備えた受光部と、カラー受像装置と、第１の光学フィルターと、光学的ローパスフィルターとを備えた撮像装置（以下、「撮像装置（１）」ともいう。）を１０個作製した。
【００８７】
第１の光学フィルターとしては、ポリメタクリレートよりなるアクリル系樹脂よりなる基板の一面に対して、当該基板と接合する一面全面にエポキシ系光学接着剤を塗布した、コレステリック液晶材料よりなる右旋光性を有する第１の構成層用シートを積重することによって積層界面が光学接着剤で固定されてなる積層体を得、更に、この積層体における第１の構成層用シートの一面に対して、当該積層体と接合する一面全面にエポキシ系光学系接着剤を塗布した、コレステリック液晶材料よりなる左旋光性を有する第２の構成層用シートを積重し、基板と、第１の構成層と、第２の構成層とを一体化することによって製造された、厚さ１ｍｍの基板上に、厚さ３０μｍの第１の構成層および厚さ３０μｍの第２の構成層がこの順に積層されてなる光学フィルター（以下、「光学フィルター（１）」ともいう。）を用いた。
ここに、光学フィルター（１）の各々を構成する、第１の構成層および第２の構成層よりなるコレステリック液晶層の特定波長（波長６００〜１２００ｎｍ）の光の遮断性能を分光光度計により測定したところ、すべての光学フィルター（１）に係る特定波長域の光（波長６００〜１２００ｎｍの光）の平均透過率が３％であった。
【００８８】
これらの光学フィルター（１）の各々をダイザーを用いて縦４ｍｍ、横４ｍｍの大きさに切断し、その外観を目視にて観察したところ、切断端面および角部におけるチッピングの発生がなく、また、チッピングが原因とされる異物の付着がないことが確認された。
【００８９】
目視によってチッピングの発生および異物の付着がないことが確認された４ｍｍ角の光学フィルター（１）を用いて作製したすべての撮像装置（１）の各々について、撮像テストを行うことにより、当該４ｍｍ角の光学フィルター（１）に付着している異物に起因する像が写るか否かを調べたところ、得られた撮像画像に異物に起因する像のないことが確認された。
【００９０】
＜実施例２＞
実施例１において、第１の光学フィルターとして下記の光学フィルターが用いられていること以外は実施例１の撮像装置（１）と同様の構成を有する撮像装置（以下、「撮像装置（２）」ともいう。）を１０個作製した。
【００９１】
第１の光学フィルターとしては、ポリメタクリレートよりなるアクリル系樹脂よりなる基板の一面に対して、当該基板と接合する一面全面にエポキシ系光学接着剤を塗布した、コレステリック液晶材料よりなる右旋光性を有する第１の構成層用シートを積重することによって積層界面が光学接着剤で固定されてなる積層体を得、次いで、この積層体に、ポリカーボネート樹脂フィルムよりなる１／２波長板およびコレステリック液晶材料よりなる右旋光性を有する第２の構成層用シートを、エポキシ系光学接着剤を用いてこの順に積重し、基板と、第１の構成層と、１／２波長板層と、第２の構成層とを一体化することによって製造された、厚さ１ｍｍの基板上に、厚さ３０μｍの第１の構成層、厚さ７０μｍの１／２波長板層および厚さ３０μｍの第２の構成層がこの順に積層されてなる光学フィルター（以下、「光学フィルター（２）」ともいう。）を用いた。
ここに、光学フィルター（２）の各々を構成する、第１の構成層、１／２波長板層および第２の構成層よりなるコレステリック液晶層の特定波長（波長６００〜１２００ｎｍ）の光の遮断性能を、実施例１に係る手法と同様の手法により測定したところ、すべての光学フィルター（２）に係る特定波長域の光（波長６００〜１２００ｎｍの光）の平均透過率が３％であった。
【００９２】
これらの光学フィルター（２）におけるチッピングの発生および異物の付着を、実施例１に係る手法と同様の手法により観察したところ、４ｍｍ角の光学フィルター（２）のすべてにチッピングの発生および異物の付着がないことが確認された。
【００９３】
目視によってチッピングの発生および異物の付着がないことが確認された４ｍｍ角の光学フィルター（２）を用いて作製したすべての撮像装置（２）の各々について、撮像テストを行うことにより、実施例１に係る手法と同様の手法によって光学フィルター（２）における異物付着を調べたところ、すべての撮像装置（２）において異物付着が認められなかった。
【００９４】
＜実施例３＞
実施例１において、単独の光学部材としての光学的ローパスフィルターが設けられておらず、また、第１の光学フィルターに代えて、第２の光学フィルターを備えてなること以外は実施例１の撮像装置（１）と同様の構成を有する撮像装置（以下、「撮像装置（３）」ともいう。）を１０個作製した。
【００９５】
第２の光学フィルターとしては、ポリメタクリレートよりなるアクリル系樹脂よりなる基板の一面に対して、当該基板と接合する一面全面にエポキシ系光学接着剤を塗布した、上記式（ａ）で表される化合物３５モル％および上記式（ｂ）で表される化合物３５モル％からなる液晶性単量体成分と、下記式（３）で表される化合物３０モル％よりなる架橋性単量体成分とを含有してなる光重合性液晶組成物よりなるローパスフィルター層用シートを積重することによって積層界面が光学接着剤で固定されてなる積層体を得、次いで、この積層体に、コレステリック液晶材料よりなる右旋光性を有する第１の構成層用シートおよびコレステリック液晶材料よりなる左旋光性を有する第２の構成層用シートを、エポキシ系光学接着剤を用いてこの順に積重し、基板と、ローパスフィルター層と、第１の構成層と、第２の構成層とを一体化することによって製造された、厚さ１ｍｍの基板上に、厚さ０．１ｍｍのローパスフィルター層、厚さ３０μｍの第１の構成層および厚さ３０μｍの第２の構成層がこの順に積層されてなる光学フィルター（以下、「光学フィルター（３）」ともいう。）を用いた。
ここに、光学フィルター（３）の各々を構成する、第１の構成層および第２の構成層よりなるコレステリック液晶層の特定波長（波長６００〜１２００ｎｍ）の光の遮断性能を、実施例１に係る手法と同様の手法により測定したところ、すべての光学フィルター（３）に係る特定波長域の光の平均透過率が３％であった。
【００９６】
【化４】

【００９７】
これらの光学フィルター（３）におけるチッピングの発生および異物の付着を、実施例１に係る手法と同様の手法により観察したところ、４ｍｍ角の光学フィルター（３）のすべてにチッピングの発生および異物の付着がないことが確認された。
【００９８】
目視によってチッピングの発生および異物の付着がないことが確認された４ｍｍ角の光学フィルター（３）を用いて作製したすべての撮像装置（３）の各々について、撮像テストを行うことにより、実施例１に係る手法と同様の手法によって光学フィルター（３）における異物付着を調べたところ、すべての撮像装置（３）において異物付着が認められなかった。
また、ローパスフィルター層の光学的ローパス性能を、サーキュラーゾーンプレートを実写することで評価したところ、モアレパターンの発生が抑止されていることが確認された。
【００９９】
以上の結果から、実施例１〜実施例３に係る撮像装置は、優れた撮像性能を有し、高い生産効率で製造することができることが確認され、また、実施例３に係る撮像装置を構成する第２の光学フィルターは、高い生産効率で製造することができると共に、優れたローパス性能および近赤外線遮断性能を有するものであることが確認された。
【０１００】
更に、実施例２に係る撮像装置について、長期間にわたって撮像動作を行い、第２の光学フィルターに係るローパスフィルター層の反りおよび剥離の発生の有無を目視して確認したところ、いずれの発生もないことが確認された。従って、実施例２に係る撮像装置は、長期間にわたって安定した撮像性能が得られることが確認された。
【０１０１】
【発明の効果】
本発明の撮像装置は、特定のコレステリック液晶よりなる近赤外線反射層を有する光学フィルターを備えてなり、また、近赤外線反射層を支持する部材としてプラスチックを材質とするものが用いられるため、当該近赤外線反射層が近赤外線遮断性能を有すると共に、この近赤外線反射層の形成においては、その形成手法が簡便であり、かつチッピングなどの不具合が生じないことから、優れた撮像性能を有すると共に、高い生産効率で製造することができる。
【０１０２】
本発明の光学フィルターは、高分子製光学的ローパスフィルターよりなるローパスフィルター層と、特定のコレステリック液晶よりなる近赤外線反射層とを有するものであるため、当該ローパスフィルター層に由来する光学的ローパス性能と、当該近赤外線反射層に由来する近赤外線遮断性能とが得られ、また、近赤外線反射層を弊害を伴わずに簡便な手法によって形成することができるため、高い生産効率で製造することができる。従って、この光学フィルターは、撮像装置に好適に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の撮像装置の構成の一例を示す説明図である。
【図２】図１の撮像装置を構成する光学フィルターの構成を示す説明図である。
【図３】図１の撮像装置を構成する光学フィルターの他の構成を示す説明図である。
【図４】光学フィルターの他の構成を示す説明図である。
【図５】光学異方性高分子成形体の製造方法に用いられるキャスト用セルの一例の構成を示す説明用断面図である。
【図６】図５のキャスト用セルにより形成された成型用複合体を示す説明用断面図である。
【図７】光重合性液晶組成物における液晶化合物の液晶分子の配向処理についての説明図である。
【符号の説明】
１１撮像レンズ
１２固体撮像素子
１３受光部
１４カバー部材
１９光学的ローパスフィルター
２０第１の光学フィルター
２１基板
２２近赤外線反射層
２２Ａ第１の構成層
２２Ｂ第２の構成層
２５第１の光学フィルター
２６基板
２７近赤外線反射層
２７Ａ第１の構成層
２７Ｂ第２の構成層
２７Ｃ１／２波長板よりなる層
３０第２の光学フィルター
３１基板
３２ローパスフィルター層
３３近赤外線反射層
３３Ａ第１の構成層
３３Ｂ第２の構成層
４０キャスト用セル
４２成型用基板
４４シール用テープ
５０成型用複合体
Ｇ間隙
Ｌ薄層
Ｍ液晶分子

Claims

プラスチック製の基板上に、波長６００〜１２００ｎｍの光を遮断するコレステリック液晶よりなる近赤外線反射層が形成されてなる光学フィルターを備えてなることを特徴とする撮像装置。
プラスチック製の基板として、近赤外線吸収フィルターを用いることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
高分子製光学的ローパスフィルターよりなるローパスフィルター層と、当該ローパスフィルター層に積重された波長６００〜１２００ｎｍの光を遮断するコレステリック液晶よりなる近赤外線反射層とを有することを特徴とする光学フィルター。
ローパスフィルター層がプラスチック製の基板上に形成されていることを特徴とする請求項３に記載の光学フィルター。
ローパスフィルター層と、近赤外線反射層との積層界面が光学接着剤により固定されていることを特徴とする請求項３または請求項４に記載の光学フィルター。
プラスチック製の基板として、近赤外線吸収フィルターを用いることを特徴とする請求項４または請求項５に記載の光学フィルター。
請求項３〜請求項６のいずれかに記載の光学フィルターを備えてなることを特徴とする撮像装置。