JP2005030941A - センサ装置及びセンサ装置の製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】 測定精度を向上させ得るセンサ装置を提供する。
【解決手段】 回転検出磁気センサ10では、トリミング端子34をモールド樹脂から突出させてあるため、モールド時に加圧によりICチップ30の磁気抵抗素子60の出力特性が変化しても、また、磁石40とモールドIC30との位置がずれても、モールド後にトリミング端子34を切断して特性を調整することができ、磁気抵抗素子によるセンシング機能の精度を高めることができる。
【選択図】 図1

Description

本発明は、リードフレームを備えるモールドICと該モールドICに固定される外部品とを有するセンサ装置及びセンサ装置の製造方法に関するものである。
従来より、そのようなセンサ装置の製造方法として、例えば、回転検出磁気センサのように、磁気抵抗素子を含むモールドICとそれにバイアス磁界を与える磁石とを位置決めする方法が引用文献1に開示されている。
この製造方法では、先ず、トリミング端子及び磁石固定片を設けたリードフレームに磁気抵抗素子を備えるICチップをマウントし、トリミング端子及び磁石固定片が露出するように一次モールドしてモールドICを製造する。次に、モールドICに磁石を、モールドIC側の磁石固定片を曲げることで挟持させた後、トリミング端子を切断することで、モールドIC内の磁気抵抗素子と磁石との位置偏差によるICチップの出力オフセットを調整する。最後に、全体を二次モールドすることでセンサ装置を完成させていた。
特開2001-116815号公報
しかしながら、上述した方法では、全体を二次モールドする際に、モールドIC内の磁気抵抗素子と磁石との位置がずれてしまい、二次モールド前にトリミングより調整した出力オフセットがずれてしまうことがあった。更に、磁気抵抗素子は1対又は4個でブリッジを組んで用いているが、二次モールの際に何れかの磁気抵抗素子に圧力が加わり、1対又は4個ブリッジとしての磁気抵抗素子の出力が変位してしまい、センサ装置の測定精度が低下することがあった。
本発明は、上述した課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、測定精度を向上させ得るセンサ装置及びその製造方法を提供することを目的とする。
上記課題を解決するために請求項1に記載の発明を採用することができる。
請求項1の発明は、リードフレームのトリミング端子をモールド樹脂から突出させてあるため、モールド時に加圧によりICチップのセンシング部の特性が変化しても、モールド後にトリミング端子を切断して特性を調整することができ、測定精度を向上させることが可能になる。
請求項2に記載の発明によれば、リードフレームのトリミング端子をモールド樹脂から突出させてあるため、モールド時に加圧によりICチップのセンシング部の特性が変化しても、また、外部品とモールドICとの位置がずれても、モールド後にトリミング端子を切断して特性を調整することができ、測定精度を向上させることが可能になる。
請求項3記載の発明によれば、外部品はモールドICのセンシング部のセンシング機能に影響を与えるものである場合により効果的である。
請求項4記載の発明によれば、ICチップに内蔵されるセンシング部は磁気抵抗素子で形成されており、外部品は該磁気抵抗素子にバイアス磁界を与える磁石で形成されている。これによれば、請求項2記載のセンサ装置において、磁気抵抗素子と磁石との位置精度が低くとも、モールド後にトリミングすることで、磁気抵抗素子によるセンシング機能の精度を高めることができる。
請求項5に記載の発明は、トリミング端子が絶縁被覆で覆われているため、短絡等の障害を防ぐことができる。
請求項6に記載の発明によれば、トリミング端子が窪み部分内に配置されているため、絶縁剤を充填することで容易に絶縁を確立することができる。
請求項7記載の発明によれば、窪みの部分がセンサ装置の先端部分であるため、トリミング端子の切断が行い易い。
請求項8に記載の方法は、窪み部に絶縁剤が充填されているため、短絡等の障害を防ぐことができる。
請求項9に記載の発明によれば、トリミング端子をコネクタ内に配置させてあるため、モールド時に加圧によりICチップのセンシング部の特性が変化しても、また、外部品とモールドICとの位置がずれても、モールド後にトリミング端子を切断して特性を調整することができ、測定精度を向上させることが可能になる。更に、コネクタ内に配置されるため、トリミング端子の絶縁被覆が不要である。
請求項10記載の発明は、リードフレームのトリミング端子をモールド樹脂から突出させてあるため、モールド時に加圧によりICチップのセンシング部の特性が変化しても、モールド後にトリミング端子を切断して特性を調整することができ、測定精度を向上させることが可能になる。一回のモールド工程で製造するため、工程数を減らすことができる。
請求項11に記載の発明によれば、リードフレームのトリミング端子をモールド樹脂から突出させてあるため、モールド時に加圧によりICチップのセンシング部の特性が変化しても、モールド後にトリミング端子を切断して特性を調整することができ、測定精度を向上させることが可能になる。2回モールドを行うため、各モールド工程で用いる金型の製造が容易である。
以下、本発明の一実施形態である回転検出磁気センサに関する発明を、図面を参照して説明する。
なお、本回転検出磁気センサはカム角センサ、クランク角センサ、車速センサ、自動変速機に組み込まれる回転センサ、車輪速センサ等として使用可能なものである。
[第1実施形態]
図1(C)において第1実施形態における二次モールド後の回転検出磁気センサ10を示す。回転検出磁気センサ10は、図1(B)中のモールドIC30に通孔を有する磁石40が挿入され、ターミナル58、58b、58cが取り付けられた状態で、金型のキャビティ内でPPS等のモールド樹脂で二次モールドされてなる。図1(A)にターミナル58a、58b、58cの正面図を示す。図2(A1)に磁石40の平面図を、図2(A2)に正面図を、図(A3)に側面図を示す。図2(B1)にモールドIC30の平面図を、図2(B2)に正面図を、図(B3)に側面図を示す。
図2(B2)に示すモールドIC30は、後述する磁気抵抗素子を含むICチップがマウントされたリードフレームに、PPSやエポキシ樹脂等の第一のモールド樹脂にて一次モールドされてなり、足部32a、32b、32cを固定する基部30Bと、平板状に延在する平板部30Aとからなる。平板部30Aの側方に一対のトリミング端子34、34と、調整端子36、36とが突出している。
磁石40はネオジ(導体)、フェライト(不導体)等を用いるプラスティックマグネットを使用しており、ICチップ54にバイアス磁界を与えるものである。図2(A1)に示すように磁石40は、モールドIC30の平板部30Aを挿通するための通孔42を備える。図2(A3)に示すように、磁石40の側面には通孔42と連通するスリット44が、図1(B)に示すモールドIC30のトリミング端子34、調整端子36との干渉を避けるため形成されている。図2(A2)に示すように、磁石40の前面の下端は略V字状に形成されている。
図1(C)に示すターミナル58a、58b、58cは、図1(B)に示すようにモールドIC30の足部32a、32b、32cにそれぞれ接続される。
図1(C)に示す回転検出磁気センサ10は、モールドIC30の足部32a、32b、32cに接続されたターミナル58a、58b、58cが、コネクタ14の開口部内に突出しており、該コネクタ14を電源に挿入することによりモールドIC30による磁気測定が可能となる。また、モールドIC30から延在する一対のトリミング端子34、34と調整端子36、36とが、回転検出磁気センサ10の凹部12から突出している。
ここで、モールドIC30でのトリミング端子34の結線について、当該モールドIC30の回路図である図3を参照して説明する。4個の磁気抵抗素子60のブリッジ回路にバイアスを与えるオペレーションアンプOPの正側入力端子に、4個の抵抗R1、R2、R3、R4が接続されている。該抵抗R1、R2、R3、R4にはトリミング端子34が接続されている。図1(C)中のサイクルCを拡大して図1(D)に示す。図中左側のトリミング端子34は、図3中の抵抗R1に接続された抵抗バー34aと、抵抗R2に接続された抵抗バー34cと、アース側に接続されたアースバー34bと、3本のバーを連結する連結バー34dとから成る。図中右側のトリミング端子34は、図3中の抵抗R3に接続された抵抗バー34eと、抵抗R4に接続された抵抗バー34gと、アース側に接続されたアースバー34fと、3本のバーを連結する連結バー34hとから成る。
ここで、トリミングは次のように行う。左右の調整端子36を介して磁気抵抗素子60のブリッジ回路の出力を測定する。そして、例えば、図1(E)に示すように左側のトリミング端子34の転結バー34dの抵抗バー34cとアースバー34bとを連結している部位をカッター等で切断することで、抵抗バー34cに接続された抵抗R2が、アースとの接続が解かれる。同様に、右側のトリミング端子34の転結バー34hの抵抗バー34eとアースバー34fとを連結している部位を切断することで、抵抗バー34eに接続された抵抗R3が、アースとの接続が解かれる。このように、第1実施形態では、4個の抵抗R1、R2、R3、R4を用いることで、16段階に抵抗値を調整し、モールドIC30、即ち、回転検出磁気センサ10の出力のドリフトを最適な値に設定できる。
第1実施形態の回転検出磁気センサ10では、トリミング端子34をモールド樹脂から突出させてあるため、一次モールド、また、二次モールド時に加圧によりモールドIC30の磁気抵抗素子60の出力特性が変化しても、また、磁石40とモールドIC30との位置がずれても、モールド後にトリミング端子34を切断して特性を調整することができ、磁気抵抗素子60によるセンシング機能の精度を高めることができる。
次に、第1実施形態に係る回転検出磁気センサ10の製造方法について説明する。
まず、図4(A)に示すようなリードフレーム20を用意する。図4(B)は、リードフレーム20の断面を示している。リードフレーム20は、ICチップ54をマウントする部分のアイランド22とチップコンデンサ56をマウントする部分のアイランド24を有しており、アイランド22からアイランド24に向かう方向に多数のリード26が延びている。また、側方へ、図1(B)を参照して上述したトリミング端子34、調整端子36が延在している。
そして、アイランド22にICチップ54をマウントし、図示しないワイヤをワイヤボンドすることによりICチップ54とリード26とを電気的に接続する。
ここで、ICチップ54には、図3を参照して上述したNi−Co、Ni−Fe等の材料を用いた磁気抵抗素子(MRE)60がパターニングにより形成されている。なお、該磁気抵抗素子60が本発明に言うところのセンシング部に相当する。なお、この磁気抵抗素子60の動作原理については、特開平3−195920号公報等に開示されているので、ここではその説明を省略する。
次に、図5に示すようにICチップ54と、更にコンデンサ56をリードフレーム20上にマウントした状態で、図示しない型のキャビティ内に二点鎖線21に沿って固定し、第一のモールド樹脂を注入して一次モールドを行う。なお、トリミング端子34、調整端子36は、別の型内に固定することで、モールドされないようにする。
そして、図2(B2)に示すようなモールドIC30の形状になるように一次モールドされたリードフレーム20を切断する。なお、リードフレーム20の足部32aは出力端子、足部32bはアース端子、足部32cは電源端子である。
次に、図1(B)に示すように一次モールドされたモールドIC30平板部30Aに、通孔42に沿って磁石40を装填する。ここで、図2(A1)を参照して上述したようにバイアス磁石40の先端まで通孔42が穿設されており、磁気抵抗素子60によるバイアス磁界の測定が可能となる。
そして、図1(B)に示す磁石40、及び、ターミナル58a、58b、58cを取り付けたモールドIC30を、金型のキャビティ内にて第二のモールド樹脂を充填させることにより二次モールドを行う。この際に、トリミング端子34、調整端子36は、別の型内に固定することで、モールドされないようにする。これにより、図1(C)を参照して上述した回転検出磁気センサ10を製造する。この第1実施形態では、2回モールドを行うため、各モールド工程で用いる金型の製造が容易である。
最後に、図1(E)を参照して上述したようにトリミングを行い、トリミング端子34を切断した後、図1(F)に示すようトリミング端子34,調整端子36に絶縁被覆16を被せる。これにより、トリミング端子34での短絡等の障害を防ぐ。
[第1実施形態の改変例]
引き続き、第1実施形態の改変例について、図5を参照して説明する。
図1〜図4を参照して上述した第1実施形態では、一次モールドによりモールドIC30を製造し、その後、モールドIC30に磁石40を組み付けてから二次モールドを行い回転検出磁気センサ10を完成した。これに対して、第1実施形態の改変例では、1度のモールドによって回転検出磁気センサ10を完成する。
図5(A)は、第1実施形態の改変例に係るリードフレーム20、磁石40、ターミナル58a、58b、58cを示している。第1実施形態の改変例では、リードフレーム20の足部32a、32b、32cにターミナル58a、58b、58cを接続し、磁石40をリードフレーム20に対して位置決めした状態で金型のキャビティ内でモールドを行い、図5(B)に示す回転検出磁気センサ10を完成する。その後、上述した第1実施形態と同様に、トリミングを行いトリミング端子34を切断する。この第1実施形態の改変例では、1回のモールド工程で製造するため、工程を減らすことができる。
[第2実施形態]
第2実施形態に係る回転検出磁気センサ10について、図6を参照して説明する。図6(A)は第2実施形態に係るリードフレーム20、磁石40、ターミナル58a、58b、58cの正面図であり、図6(B)は回転検出磁気センサ10の平面図であり、図6(C)は回転検出磁気センサ10の正面図である。ここで、図6(B)は、図6(C)のB1矢視図に相当する。
図1(A)を参照して上述した第1実施形態では、トリミング端子が回転検出磁気センサ10の側方へ突出していた。これに対して、第2実施形態では、回転検出磁気センサ10の先端側にトリミング端子34及び調整端子36が配置されている。即ち、図6(A)に示すようにトリミング端子34及び調整端子36が、リードフレーム20の足部32a、32b、32cの反対側に配置されている。そして、図6(C)に示すようにモールドにより回転検出磁気センサ10を完成させる際に、回転検出磁気センサ10の先端側の窪み部18にトリミング端子34及び調整端子36を突出させる。そして、トリミングを行いトリミング端子34を切断した後、窪み部18内に絶縁剤19を充填する。
この第2実施形態では、トリミング端子34が窪み部18に配置されているため、絶縁剤19を充填することで容易に絶縁を確立することができる。また、窪み部18が回転検出磁気センサ10の先端部分であるため、トリミング端子34の切断が行い易い。更に、窪み部18に絶縁剤19が充填されているため、短絡が発生しない。
[第3実施形態]
第3実施形態に係る回転検出磁気センサ10について、図7を参照して説明する。図7(A)は第3実施形態に係るリードフレーム20、磁石40、ターミナル58a、58b、58cの正面図であり、図7(B)は回転検出磁気センサの底面図であり、図7(C)は回転検出磁気センサの正面図である。ここで、図7(B)は、図7(C)のB2矢視図に相当する。
図1(A)を参照して上述した第1実施形態では、トリミング端子が回転検出磁気センサ10の側方へ突出していた。これに対して、第3実施形態では、トリミング端子34及び調整端子36が、回転検出磁気センサ10のコネクタ14内に配置されている。即ち、図7(A)に示すように、ターミナル58a、58b、58cと並列に、トリミング端子34、調整端子36が配置されている。なお、第3実施形態では、トリミング端子34、調整端子36は、リードフレーム20と別体に製造され、リードフレーム20中の図示しないリードと接続されている。そして、図7(C)に示すようにモールドにより回転検出磁気センサ10を完成させる際に、図7(B)に示すように回転検出磁気センサ10のコネクタ14内にトリミング端子34及び調整端子36を突出させる。そして、トリミングを行いトリミング端子34を切断する。
この第3実施形態では、トリミング端子34をコネクタ14内に配置させてあるため、モールド時に加圧によりICチップ54の磁気抵抗素子60(図3参照)の特性が変化しても、また、磁石40とICチップ54の磁気抵抗素子60との位置がずれても、モールド後にトリミング端子34を切断して特性を調整することができ、測定精度を向上させることが可能になる。更に、コネクタ14内に配置されるため、トリミング端子34の絶縁被覆が不要である。
なお、第1〜第3実施形態は回転検出磁気センサに関するものについて説明したが、これに限られるものではなく、本発明は、電気的なものを感知するセンサ装置や、熱的なものを感知するセンサ装置又はそれらの製造方法等にも応用できるものである。
図1(A)はターミナルの正面図であり、図1(B)はモールドICに磁石が挿入されターミナルが取り付けられた状態の正面図であり、図1(C)は第1実施形態の回転検出磁気センサの正面図であり、図1(D)、図1(E)、図1(F)は、図1(C)中のサークルCの拡大図である。 図2(A1)は磁石の平面図であり、図2(A2)は正面図であり、図(A3)は側面図である。図2(B1)はモールドICの平面図であり、図2(B2)は正面図であり、図(B3)は側面図である。 モールドICの回路図である。 図4(A)はリードフレームの正面図であり、図4(B)は側面図である。 図5(A)は第1実施形態の改変例に係るリードフレーム、磁石、ターミナルの正面図であり、図5(B)は回転検出磁気センサの正面図である。 図6(A)は第2実施形態に係るリードフレーム、磁石、ターミナルの正面図であり、図6(B)は回転検出磁気センサの平面図であり、図6(C)は回転検出磁気センサの正面図である。 図7(A)は第3実施形態に係るリードフレーム、磁石、ターミナルの正面図であり、図7(B)は回転検出磁気センサの底面図であり、図7(C)は回転検出磁気センサの正面図である。
符号の説明
10 回転検出磁気センサ
14 コネクタ
16 絶縁被覆
18 窪み部
19 絶縁剤
20 リードフレーム
30 モールドIC
32a、32b、32c 足部
34 トリミング端子
36 調整端子
40 磁石
42 通孔
54 ICチップ
58a、58b、58c ターミナル
60 磁気抵抗素子

Claims (11)

  1. トリミング端子を備えるリードフレームと、該リードフレームに搭載されセンシング部を有するICチップとをモールド樹脂で封止してなるセンサ装置であって、
    前記リードフレームのトリミング端子をモールド樹脂から突出させたことを特徴とするセンサ装置。
  2. トリミング端子を備えるリードフレームと、該リードフレームに搭載されセンシング部を有するICチップと、ICチップと所定位置離間して固定される外部品とをモールド樹脂で封止してなるセンサ装置であって、
    前記リードフレームのトリミング端子をモールド樹脂から突出させたことを特徴とするセンサ装置。
  3. 前記外部品は、前記モールドICのセンシング部によるセンシング機能に影響を与えるものであることを特徴とする請求項2に記載のセンサ装置。
  4. 前記ICチップに内蔵されるセンシング部は磁気抵抗素子で、前記外部品は該磁気抵抗素子にバイアス磁界を与える磁石であることを特徴とする請求項2又は請求項3に記載のセンサ装置。
  5. 前記突出したトリミング端子を絶縁被覆で覆ったことを特徴とする請求項1〜請求項4の何れかに記載のセンサ装置。
  6. 前記トリミング端子が、窪みの設けられた部分内に配置されていることを特徴とする請求項1〜請求項4の何れかに記載のセンサ装置。
  7. 前記窪みは、センサ装置の先端部分であることを特徴とする請求項6に記載のセンサ装置。
  8. 前記窪みに絶縁剤が充填されていることを特徴とする請求項6又は請求項7に記載のセンサ装置。
  9. リードフレームと、該リードフレームに搭載されセンシング部を有するICチップと、ICチップと所定位置離間して固定される外部品とをモールド樹脂で封止してなり、コネクタを備えるセンサ装置であって、
    トリミング端子を前記コネクタ内に配置したことを特徴とするセンサ装置。
  10. ICチップ搭載部及びトリミング端子を有するリードフレームを用意する工程と、前記リードフレームの前記ICチップ搭載部にセンシング部を有するICチップを搭載する工程と、前記ICチップに対して外部品を位置決めし、前記トリミング端子を露出させた状態で前記リードフレーム、ICチップ及び前記外部品をモールド樹脂にてモールドする工程と、トリミング端子を用いてトリミングする工程とを有することを特徴とするセンサ装置の製造方法。
  11. ICチップ搭載部及びトリミング端子を有するリードフレームを用意する工程と、前記リードフレームの前記ICチップ搭載部にセンシング部を有するICチップを搭載する工程と、前記トリミング端子を露出させた状態で前記リードフレームを第一モールド樹脂にて一次モールドしてモールドICを形成する工程と、外部品を前記モールドICに位置決めし、前記トリミング端子を露出した状態で第二のモールド樹脂により2次モールドする工程と、トリミング端子を用いてトリミングする工程とを有することを特徴とするセンサ装置の製造方法。
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