JP2005022974A

JP2005022974A - ウラシル誘導体及び除草剤組成物

Info

Publication number: JP2005022974A
Application number: JP2001178359A
Authority: JP
Inventors: Mitsuru Shibata; 充柴田
Original assignee: Idemitsu Kosan Co Ltd
Current assignee: Idemitsu Kosan Co Ltd
Priority date: 2001-06-13
Filing date: 2001-06-13
Publication date: 2005-01-27
Also published as: WO2002102798A1

Abstract

【課題】栽培植物に薬害をもたらすことなく対象雑草のみを選択的に、かつ作物栽培地以外の場所に発生する多種多様な雑草を速やかに、低薬量で防除し得る除草活性を有する新規な化合物及びそれを含有する除草剤組成物の提供。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表されるウラシル誘導体及びこのウラシル誘導体を有効成分として含む除草剤組成物。具体的には、例えば４，４−ジメチル−６−（３，６−ジヒドロ−２，６−ジオキソ−４−トリフルオロメチル−１（２Ｈ）−ピリミジニル）チオクロマンが示される。

［式中、Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立に酸素又は硫黄を示し；Ｙは酸素、硫黄、ＳＯ、又はＳＯ２を示し；Ｚはアルキレン基及びアルケニレン基から選ばれる基を示す］
【選択図】なし

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、新規なウラシル誘導体及びそれを含む除草剤組成物に関する。さらに詳しくは、本発明は、栽培植物に薬害をもたらすことなく、対象雑草のみを選択的に防除し、かつ作物栽培地以外の場所に発生する多種多様な雑草を速やかに低薬量で防除し得る除草活性を有するウラシル誘導体、及びこれを有効成分として含む除草剤組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
雑草防除作業の省力化や農園芸作物の生産性向上にとって、除草剤はきわめて重要な薬剤であり、そのため長年にわたって除草剤の研究開発が積極的に行われ、現在多種多様な薬剤が実用化されている。しかし、今日においてもさらに卓越した性能を有する新規薬剤、すなわち栽培作物に薬害を及ぼすことがなく、対象雑草のみを選択的に防除し得る薬剤、又は作物栽培地以外の場所に発生する多種多様な雑草を速やかに防除し得る薬剤、さらには環境に大きな負荷を与えないような低薬量でこれらの目的を達成し得る薬剤が求められている。
【０００３】
特定の置換基を有するウラシル誘導体が除草活性を示すことは、すでに知られており、例えば特開平３−２０４８６５号公報、同４−７４１７４号公報、同４−１９３８７６号公報、同４−１７８３８４号公報、同５−２５１６５号公報、同５−２６２７６５号公報、同５−２９４９２０号公報、同６−３２１９４１号公報、同９−３０１９７３号公報、同１０−５３５８４号公報、同１１−１４００８３号公報、特表平４−５０１５６７号公報、同１０−５０２３５０号公報、同１１−５０７０１３号公報、同１１−５１４３４３号公報、同１１−５１２７４５号公報、国際公開０１／１０８６１号公報、同０１／１０８６２号公報などに、除草活性を有するウラシル誘導体が開示されている。
【０００４】
しかしながら、これらの公報に開示されているウラシル誘導体は、例えばイネ、小麦、トウモロコシなどの重要作物に対する安全性が充分ではなかったり、大きく成長した雑草に対する効果が劣るなど、必ずしも充分に満足し得るものではない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、このような状況下で、栽培植物に薬害をもたらすことなく、対象雑草のみを選択的に、かつ作物栽培地以外の場所に発生する多種多様な雑草を速やかに、しかも環境に大きな負荷を与えない低薬量で防除し得る除草活性を有する新規化合物、及び該化合物を有効成分とする除草剤組成物を提供することを目的とするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、前記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、ウラシル環がベンゾ縮合環に結合した構造を有する新規ウラシル誘導体が、その目的に適合し得ることを見出した。本発明は、かかる知見に基づいて完成したものである。
すなわち、本発明は、一般式（Ｉ）
【０００７】
【化６】

〔式中、Ｘ^１及びＸ^２は、それぞれ独立に酸素又は硫黄を示し；
Ｙは酸素、硫黄、ＳＯ、又はＳＯ_２を示し；
Ｚは一般式（Ｚ^１）〜（Ｚ^５）：
【０００８】
【化７】

（ただし、Ｒ^８〜Ｒ^１３は、それぞれ独立に水素、ハロゲン、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基又はＣ_１〜Ｃ_４ハロアルキル基を示し、右側の結合手がＹと結合する。）で表されるアルキレン基及びアルケニレン基の中から選ばれる基を示し；
Ｒ^１は水素、ハロゲン、ニトロ基、シアノ基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルコキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルコキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキルチオ基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキルスルフィニル基又はＣ_１〜Ｃ_４アルキルスルフォニル基を示し；
Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に水素、ハロゲン、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基、Ｃ_３〜Ｃ_６シクロアルキル基、−ＣＯ_２Ｒ^１４、−ＣＯＮＲ^１５Ｒ^１６、−ＮＲ^１５Ｒ^１６、−ＮＲ^１５ＯＲ^１４、−ＯＲ^１７、−ＮＨＣＯＲ^１８、−ＮＨＣＯ_２Ｒ^１４、−ＮＨＳＯ_２Ｒ^１８、−ＳＲ^１８、−ＳＯＲ^１８、−ＳＯ_２Ｒ^１８、ＳＯ_２ＮＲ^１５Ｒ^１６又は−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ^１５Ｒ^１６を示し、該Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基及びＣ_３〜Ｃ_６シクロアルキル基は、ハロゲン、Ｃ_１〜Ｃ_４アルコキシ基、または１個若しくは２個の酸素又は硫黄により中断されていてもよいＣ_３〜Ｃ_６シクロアルキル基によって置換されていてもよく、或いは又、Ｒ^２及びＲ^３は、それらが結合している炭素原子と共に、下記の構造
【０００９】
【化８】

を示してもよく；
Ｒ^１４は水素原子又はＣ_１〜Ｃ_４アルコキシ基若しくはハロゲンで置換されていてもよいＣ_１〜Ｃ_６アルキル基を示し；
Ｒ^１５及びＲ^１６は、それぞれ独立に水素、ハロゲン及び／又はＣ_１〜Ｃ_４アルコキシ基で置換されていてもよいＣ_１〜Ｃ_４アルキル基、又はハロゲン、ニトロ基、カルボキシル基、シアノ基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルコキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルコキシ基、（Ｃ_１〜Ｃ_４アルコキシ）カルボニル基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキルチオ基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキルスルフィニル基、及びＣ_１〜Ｃ_４アルキルスルフォニル基からなる群より選ばれた１又は２個の置換基で置換されていてもよいフェニル基を示し；
Ｒ^１７は水素、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基、Ｃ_３〜Ｃ_６シクロアルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_４アルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_４アルキニル基、−ＣＯＲ^１８、−ＣＯ_２Ｒ^１４、−ＣＯＮＲ^１５Ｒ^１６、−ＣＨＲ^１４ＣＮ、−ＣＨＲ^１４ＣＯＲ^１８、−ＣＨＲ^１４ＣＯ_２Ｒ^１９、−ＣＨＲ^１４ＣＯＮＲ^１５Ｒ^１６、又は−ＳＯ_２Ｒ^１８（Ｒ^１４，Ｒ^１５，Ｒ^１６は上記と同じ意味を有する。）を示し、前記Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基はハロゲン、Ｃ_１〜Ｃ_４アルコキシ基、１個若しくは２個の酸素又は硫黄により中断されていてもよいＣ_３〜Ｃ_６シクロアルキル基、又はハロゲン、ニトロ基、カルボキシル基、シアノ基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルコキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルコキシ基、（Ｃ_１〜Ｃ_４アルコキシ）カルボニル基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキルチオ基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキルスルフィニル基、及びＣ_１〜Ｃ_４アルキルスルフォニル基からなる群より選ばれた１又は２個の置換基で置換されていてもよいフェニル基で置換されていてもよく、又、前記Ｃ_３〜Ｃ_６シクロアルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_４アルケニル基及びＣ_２〜Ｃ_４アルキニル基は、ハロゲン又はＣ_１〜Ｃ_４アルコキシ基によって置換されていてもよく；
Ｒ^１８はハロゲン若しくはＣ_１〜Ｃ_４アルコキシ基で置換されていてもよいＣ_１〜Ｃ_４アルキル基、又はハロゲン、ニトロ基、カルボキシル基、シアノ基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルコキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルコキシ基、（Ｃ_１〜Ｃ_４アルコキシ）カルボニル基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキルチオ基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキルスルフィニル基、及びＣ_１〜Ｃ_４アルキルスルフォニル基からなる群より選ばれた１又は２個の置換基で置換されていてもよいフェニル基を示し；
Ｒ^１９は水素又はＣ_１〜Ｃ_４アルキル基を示し；
Ｘ^３〜Ｘ^７は酸素又は硫黄を示し、Ｘ^４とＸ^５はたがいに同一でも異なっていてもよく、Ｘ^６とＸ^７はたがいに同一でも異なっていてもよく；
Ｒ^２０〜Ｒ^２５は、それぞれ独立に水素、ハロゲン、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_４ハロアルキル基を示し；
Ｒ^４は水素、ハロゲン、ニトロ基、カルボキシル基、シアノ基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルコキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルコキシ基、（Ｃ_１〜Ｃ_４アルコキシ）カルボニル基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキルチオ基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキルスルフィニル基又はＣ_１〜Ｃ_４アルキルスルフォニル基を示し；
Ｒ^５は水素、ハロゲン、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基又はＣ_１〜Ｃ_４ハロアルキル基を示し；
Ｒ^６はＣ_１〜Ｃ_４アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキル基、又はハロゲン、ニトロ基、カルボキシル基、シアノ基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルコキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルコキシ基、（Ｃ_１〜Ｃ_４アルコキシ）カルボニル基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキルチオ基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキルスルフィニル基、及びＣ_１〜Ｃ_４アルキルスルフォニル基からなる群より選ばれた１又は２個の置換基で置換されていてもよいフェニル基を示し；
Ｒ^７は水素、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基又はＣ_１〜Ｃ_４ハロアルキル基を示す。〕
で表されるウラシル誘導体を提供する。
また、本発明は、前記一般式（Ｉ）で表されるウラシル誘導体及び／又はその塩を有効成分として含む除草剤組成物を提供する。
【００１０】
上記各定義において、「アルキル基」は、単独で使用される場合、「ハロアルキル基」、「アルキルチオ基」など複合語として使用される場合、「アルコキシ基」及び「ハロアルコキシ基」に含まれる場合のいずれにおいても、直鎖アルキル基と分岐アルキル基、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、及びｔ−ブチル基などを含む。「アルケニル基」は、直鎖アルケニル及び分岐アルケニル、例えば、エテニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、及び種々のブテニル異性基を含む。さらに、「アルケニル基」は１，２−プロパジエニル基、１，３−ブタジエニル基などのポリエンを含む。「アルキニル基」は、直鎖及び分岐アルキニル、例えば、エチニル基、１−プロピニル基、２−ブチニル基等を含む。「ハロゲン」は、単独で使用される場合及び「ハロアルキル基」、「ハロアルコキシ基」など複合語として使用される場合のいずれにおいても、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素を含む。
【００１１】
【発明の実施の形態】
本発明のウラシル誘導体は、一般式（Ｉ）
【００１２】
【化９】

（式中、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｙ、Ｚ及びＲ^１〜Ｒ^７は前記と同様。）で表される化学構造を有する新規化合物である。
前記一般式（Ｉ）において、下記一般式（ＩＩ）：
【００１３】
【化１０】

（式中、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は前記と同様。）
で表されるウラシル環が、下記一般式（ＩＩＩ）：
【００１４】
【化１１】

（式中、Ｙ、Ｚ及びＲ^１〜Ｒ^４は前記と同様。）
で表されるベンゾ縮合環に結合する位置は、該ベンゾ縮合環のＹに対して、２、３及び４位のいずれであってもよい。すなわち、一般式（Ｉ）で表されるウラシル誘導体は、下記一般式（Ｉａ）、（Ｉｂ）及び（Ｉｃ）のいずれかの構造を有する。
【００１５】
【化１２】

【００１６】
一般式（Ｉ）において、Ｘ^１及びＸ^２は、互いに同一であっても異なっていてもよく、それぞれ酸素又は硫黄を示す。
Ｙは酸素、硫黄、ＳＯ（スルフォキシド）又はＳＯ_２（スルフォン）、好ましくは酸素又は硫黄を示す。
Ｚは、一般式（Ｚ^１）〜（Ｚ^５）
【００１７】
【化１３】

で表されるアルキレン基及びアルケニレン基の中から選ばれる基、好ましくは、一般式Ｚ^１、Ｚ^２又はＺ^３で表される基を示し、右側の結合手がＹと結合する。Ｒ^８〜Ｒ^１３は、それぞれ独立に水素、ハロゲン、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基、又はＣ_１〜Ｃ_４ハロアルキル基を示し、好ましくは、水素又はＣ_１〜Ｃ_４アルキル基である。
Ｒ^１は水素、ハロゲン、ニトロ基、シアノ基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルコキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルコキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキルチオ基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキルスルフィニル基、又はＣ_１〜Ｃ_４アルキルスルフォニル基を示す。好ましいＲ^１は、水素、ハロゲン又はＣ_１〜Ｃ_４アルキル基である。
【００１８】
Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基、Ｃ_３〜Ｃ_６シクロアルキル基、−ＣＯ_２Ｒ^１４、−ＣＯＮＲ^１５Ｒ^１６、−ＮＲ^１５Ｒ^１６、−ＮＲ^１５ＯＲ^１４、−ＯＲ^１７、−ＮＨＣＯＲ^１８、−ＮＨＣＯ_２Ｒ^１４、−ＮＨＳＯ_２Ｒ^１８、−ＳＲ^１８、−Ｓ（Ｏ）Ｒ^１８、−Ｓ（Ｏ）_２Ｒ^１８、−ＳＯ_２ＮＲ^１５Ｒ^１６、又は−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ^１５Ｒ^１６を示す。前記Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基及びＣ_３〜Ｃ_６シクロアルキル基は、ハロゲン原子、好ましくはフッ素又は塩素；Ｃ_１〜Ｃ_４アルコキシ基、好ましくはメトキシ基又はエトキシ基；あるいは１個若しくは２個の酸素原子又は硫黄原子により中断されていてもよいＣ_３〜Ｃ_６シクロアルキル基、好ましくは
【００１９】
【化１４】

によって置換されていてもよい。好ましいＲ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基、−ＯＲ^１７、及び−ＮＨＣＯＲ^１８、である。
【００２０】
Ｒ^１４は水素原子、又はＣ_１〜Ｃ_４アルコキシ基若しくはハロゲン原子で置換されていてもよいＣ_１〜Ｃ_６アルキル基、好ましくは水素、メチル基又はエチル基を示す。
【００２１】
Ｒ^１５及びＲ^１６は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子及び／又はＣ_１〜Ｃ_４アルコキシ基で置換されていてもよいＣ_１〜Ｃ_４アルキル基、又は１〜２個の置換基を有していてもよいフェニル基を示す。フェニル基の置換基としては、ハロゲン、ニトロ基、カルボキシル基、シアノ基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルコキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルコキシ基、（Ｃ_１〜Ｃ_４アルコキシ）カルボニル基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキルチオ基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキルスルフィニル基、及びＣ_１〜Ｃ_４アルキルスルフォニル基が挙げられ、ハロゲン、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基又はＣ_１〜Ｃ_４ハロアルキル基が好ましい。好ましいＲ^１５及びＲ^１６は、それぞれ独立に、水素、メチル基、エチル基、無置換あるいはハロゲン又はＣ_１〜Ｃ_４アルキル基で置換されたフェニル基である。
【００２２】
Ｒ^１７は水素原子、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基、Ｃ_３〜Ｃ_６シクロアルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_４アルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_４アルキニル基、、−ＣＯＲ^１８、−ＣＯ_２Ｒ^１４、−ＣＯＮＲ^１５Ｒ^１６、−ＣＨＲ^１４ＣＮ、−ＣＨＲ^１４ＣＯＲ^１８、−ＣＨＲ^１４ＣＯ_２Ｒ^１９、−ＣＨＲ^１４ＣＯＮＲ^１５Ｒ^１６、又は−ＳＯ_２Ｒ^１８を示す。好ましくは、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_４アルケニル基、−ＣＯＲ^１８、−ＣＯＮＲ^１５Ｒ^１６、−ＣＨＲ^１４ＣＯ_２Ｒ^１９、又は−ＳＯ_２Ｒ^１８である。前記Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基はハロゲン、好ましくはフッ素又は塩素；Ｃ_１〜Ｃ_４アルコキシ基、好ましくはメトキシ基又はエトキシ基；１個若しくは２個の酸素又は硫黄により中断されていてもよいＣ_３〜Ｃ_６シクロアルキル基、好ましくは
【００２３】
【化１５】

又は１〜２個の置換基を有していてもよいフェニル基で置換されていてもよい。フェニル基の置換基としては、Ｒ^１５及びＲ^１６の定義において列挙したものが挙げられる。又、前記Ｃ_３〜Ｃ_６シクロアルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_４アルケニル基及びＣ_２〜Ｃ_４アルキニル基は、ハロゲン、好ましくはフッ素または塩素；又はＣ_１〜Ｃ_４アルコキシ基、好ましくはメトキシ基またはエトキシ基によって置換されていてもよい。
【００２４】
Ｒ^１８はハロゲン原子若しくはＣ_１〜Ｃ_４アルコキシ基で置換されていてもよいＣ_１〜Ｃ_４アルキル基、又は１〜２個の置換基を有していてもよいフェニル基を示す。フェニル基の置換基としては、Ｒ^１５及びＲ^１６の定義において列挙したものが挙げられる。好ましいＲ^１８は、メチル基、エチル基、イソプロピル基、無置換またはハロゲンで置換されたフェニル基である。
【００２５】
Ｒ^１９は水素原子又はＣ_１〜Ｃ_４アルキル基、好ましくはＣ_１〜Ｃ_４アルキル基を示す。
【００２６】
さらに、Ｒ^２とＲ^３は、それらが結合している炭素原子と共に、下記の構造
【００２７】
【化１６】

を形成してもよい。
式中、Ｘ^３〜Ｘ^７は酸素又は硫黄を示す。Ｘ^４とＸ^５、あるいは、Ｘ^６とＸ^７はたがいに同一でも異なっていてもよい。Ｒ^１５〜Ｒ^１７は前記と同じである。Ｒ^２０〜Ｒ^２５は、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基、またはＣ_１〜Ｃ_４ハロアルキル基を示し、好ましくは水素またはメチル基を示す。
【００２８】
Ｒ^４は水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、シアノ基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルコキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルコキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルコキシカルボニル基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキルチオ基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキルスルフィニル基又はＣ_１〜Ｃ_４アルキルスルフォニル基を示す。好ましくは、水素、ハロゲン、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基、またはＣ_１〜Ｃ_４ハロアルキル基である。
【００２９】
Ｒ^５は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基又はＣ_１〜Ｃ_４ハロアルキル基、好ましくは、水素またはハロゲンを示す。
【００３０】
Ｒ^６はＣ_１〜Ｃ_４アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキル基又は１〜２個の置換基を有していてもよいフェニル基を示す。フェニル基の置換基としては、Ｒ^１５及びＲ^１６の定義において列挙したものが挙げられる。好ましいＲ^６は、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_４ハロアルキル基である。
【００３１】
Ｒ^７は水素原子、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基又はＣ_１〜Ｃ_４ハロアルキル基、好ましくは、水素またはＣ_１〜Ｃ_４アルキル基を示す。
【００３２】
一般式（Ｉ）で表されるウラシル誘導体のうち、一般式（Ｉ′）
【００３３】
【化１７】

〔式中、Ｘ^１、Ｘ^２及びＲ^１〜Ｒ^７は前記と同様であり、Ｙａは酸素又は硫黄、Ｚａは、下記一般式（Ｚ^１）、（Ｚ^２）又は（Ｚ^３）：
【００３４】
【化１８】

（Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１２及びＲ^１３は前記と同様である。）で表される基を示す。〕
で表される構造を有するものが、除草活性などの点で好ましい。
一般式（Ｉ）、（Ｉａ）、（Ｉｂ）、（Ｉｃ）及び（Ｉ′）で表されるウラシル誘導体には、それぞれの置換基又は部分構造によっては、光学異性体や幾何異性体が存在するが、本発明のウラシル誘導体は、これらすべての異性体及びそれらの混合物を包含する。
また、一般式（Ｉ）で表されるウラシル誘導体の中で、塩を形成し得る化合物である場合には、その塩も本発明のウラシル誘導体に包含される。
【００３５】
次に、本発明のウラシル誘導体の製造方法について説明する。
一般式（Ｉｄ）で表されるウラシル誘導体（一般式（Ｉ）において、Ｘ^１とＸ^２が酸素、ＹがＹａ＝酸素又は硫黄、Ｒ^２とＲ^３が、結合している炭素原子と共にカルボニルを表す）は、下記スキーム１に従って製造することが出来る。
【００３６】
スキーム１
【化１９】

スキーム１及び後述するスキーム２〜２５において、Ｒ^１〜Ｒ^２５、Ｘ^４〜Ｘ^７、Ｙａ及びＺは前記と同様であり、Ｈａｌは塩素や臭素などのハロゲンを示す。
一般式（ＩＶ）で示されるアセトアニリド誘導体及び一般式（Ｖ）で表されるカルボン酸誘導体は、市販されているかまたは良く知られた反応によって製造できる。
スキーム１〜２５の各反応は良く知られており、各々の反応条件については、例えば「日本化学会編、新実験科学講座１４：有機化合物の合成と反応、丸善」を参考にするか、あるいは製造実施例を参考にすることで実施することができ、詳細な説明は省略する。
【００３７】
以下のスキーム２〜５に示すように、スキーム１で得られた一般式（Ｉｄ）のウラシル誘導体から、他の様々な一般式（Ｉ）のウラシル誘導体が製造される。
【００３８】
スキーム２
【化２０】

スキーム３
【化２１】

スキーム４
【化２２】

スキーム５
【化２３】

【００３９】
さらに一般式（Ｉｄ）のウラシル誘導体は、以下のスキーム６に従って、一般式（Ｉｇ）で表されるヒドロキシル基を有するウラシル誘導体に変換され、続いて、一般式（Ｉｇ）のウラシル誘導体は以下のスキーム７〜１５によって一般式（Ｉ）に含まれる様々なウラシル誘導体に変換される。
【００４０】
スキーム６
【化２４】

スキーム７
【化２５】

スキーム８
【化２６】

スキーム９
【化２７】

スキーム１０
【化２８】

スキーム１１
【化２９】

スキーム１２
【化３０】

スキーム１３
【化３１】

スキーム１４
【化３２】

スキーム１５
【化３３】

【００４１】
さらに、スキーム１５で得られる、一般式（Ｉｈ）で表される、ハロゲンを有するウラシル誘導体は、以下のスキーム１６及び１７に従って、さらに一般式（Ｉ）に含まれる様々なウラシル誘導体に変換される。
スキーム１６
【化３４】

スキーム１７
【化３５】

【００４２】
一般式（Ｉ）において、ＺがＺ^３あるいはＺ^５であるウラシル誘導体は、上記スキーム１に続いて、以下のスキーム１８または１９に従うことにより製造することができる。
スキーム１８
【化３６】

スキーム１９
【化３７】

【００４３】
一般式（Ｉ）においてＹが硫黄であり、ＺがＺ^３であるウラシル誘導体は、上記で説明したスキームに加えて、以下のスキーム２０によっても製造できる。
スキーム２０
【化３８】

【００４４】
一般式（Ｉ）において、Ｘ^１およびＸ^２が共に酸素であり、Ｒ^２及びＲ^３が共に水素あるいはＣ_１〜Ｃ_４アルキル基であり、ＺがＺ^２またはＺ^４であるウラシル誘導体は以下のスキーム２１に従って製造できる。スキーム２１において、ｐは０または１であり、ｐが０の場合はＺ＝Ｚ^２であり、ｐが１の場合はＺ＝Ｚ^４である。
スキーム２１
【化３９】

【００４５】
一般式（Ｉ）において、一般式（ＩＩ）で表されるウラシル環が、一般式（ＩＩＩ）で表されるベンゾ縮合環のＹａに対し、４位に結合し、さらにＸ^１及びＸ^２が共に酸素であるウラシル誘導体、すなわち下記一般式（Ｉｋ）で表されるウラシル誘導体は、上記のスキーム１または１８に続いて、以下のスキーム２２または２３に従うことによっても製造できる。
スキーム２２
【化４０】

スキーム２３
【化４１】

【００４６】
Ｒ^２またはＲ^３の種類によっては、スキーム２２あるいは２３をそのまま適用して一般式（Ｉｋ）のウラシル誘導体を製造するのが困難な場合もあるが、多くの場合、適当な保護基を用いることで製造が可能となる。スキーム２２あるいは２３において出発原料として用いる一般式（ＶＩ）で示される酸素あるいは硫黄を含むベンゾ縮合環化合物は、その置換基の種類によっては市販されているかまたは、特開平８−１７６１４２号公報、ＷＯ９７／８１６４号公報あるいは「ＣｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅＨｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃＣｈｅｍｉｓｔｒｙ，ｖｏｌｕｍｅ２ｏｒ３，ＰＥＲＧＡＭＯＮＰＲＥＳＳ」に記載されている方法によって製造することができる。
【００４７】
一般式（Ｉ）において、ＹがＳＯ（スルフォキシド）またはＳＯ_２（スルフォン）であるウラシル誘導体は以下のスキーム２４によって製造できる。
スキーム２４
【化４２】

【００４８】
一般式（Ｉ）において、Ｘ^１とＸ^２が硫黄であるウラシル誘導体は以下のスキーム２５によって製造できる。
スキーム２５
【化４３】

【００４９】
本発明の除草剤組成物は、一般式（Ｉ）で表される本発明のウラシル誘導体及び／又はその塩を有効成分として含有するものであって、これらの化合物を溶媒等の液状担体または鉱物質微粉等の固体担体と混合し、水和剤、乳剤、粉剤、粒剤等の形態に製剤化して使用することができる。製剤化に際して乳化性、分散性、展着性等を付与するためには界面活性剤を添加すればよい。
本発明の除草剤組成物を水和剤の形態で用いる場合、通常は本発明のウラシル誘導体及び／又はその塩を１０〜５５重量％、固体担体４０〜８８重量％および界面活性剤２〜５重量％の割合で配合して組成物を調製し、これを用いればよい。また、乳剤の形態で用いる場合、通常は本発明のウラシル誘導体及び／又はその塩を２０〜５０重量％、固体担体３５〜７５重量％および界面活性剤５〜１５重量％の割合で配合して組成物を調製すればよい。粉剤の形態で用いる場合、通常は本発明のウラシル誘導体及び／又はその塩を１〜１５重量％、固体担体８０〜９７重量％および界面活性剤２〜５重量％の割合で配合して組成物を調製すればよい。粒剤の形態で用いる場合、通常は本発明のウラシル誘導体及び／又はその塩を１〜１５重量％、固体担体８０〜９７重量％および界面活性剤２〜５重量％の割合で配合して組成物を調製すればよい。
【００５０】
固体担体としては鉱物質の微粉が用いられる。鉱物質としては、例えばケイソウ土、消石灰等の酸化物、リン灰石等のリン酸塩、セッコウ等の硫酸塩、タルク、パイロフェライト、クレー、カオリン、ベントナイト、酸性白土、ホワイトカーボン、石英粉末、ケイ石粉等のケイ酸塩等が挙げられる。
また溶剤としては有機溶媒が用いられ、具体的にはベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、ｏ−クロロトルエン、トリクロロエタン、トリクロロエチレン等の塩素化炭化水素、シクロヘキサノール、アミルアルコール、エチレングリコール等のアルコール、イソホロン、シクロヘキサノン、シクロヘキセニルシクロヘキサノン等のケトン、ブチルセロソルブ、ジエチルエーテル、メチルエチルエーテル等のエーテル、酢酸イソプロピル、酢酸ベンジル、フタル酸メチル等のエステル、ジメチルホルムアミド等のアミドあるいはこれらの混合物を挙げることができる。
【００５１】
さらに、界面活性剤としては、アニオン型（脂肪酸塩、アルキルスルフェート、アルキルベンゼンスルホン酸、ジアルキルスルホスクシネート、アルキルホスフェート、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物の塩、ポリオキシエチレンアルキルスルフェート）、ノニオン型（ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェノールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル）、カチオン型あるいは両性イオン型（アミノ酸、ベタイン等）のいずれも用いることができる。
【００５２】
本発明の除草剤組成物には前記一般式（Ｉ）で表されるウラシル誘導体及び／又はその塩に加えて、必要に応じ他の除草活性成分を含有させることができる。このような他の除草活性成分としては、従来公知の除草剤、例えばフェノキシ系、ジフエニルエーテル系、トリアジン系、尿素系、カーバメート系、チオールカーバメート系、酸アニリド系、アセチレン系、リン酸系、スルホニルウレア系、オキサジアゾン系等を挙げることができ、これらの除草剤の中から適宜選択して用いることができる。さらに、本発明の除草剤組成物は必要に応じて殺虫剤、殺菌剤、植物調節剤、肥料等と混用することができる。
【００５３】
本発明の除草剤は、畑地用の除草剤として、土壌処理、土壌混和処理、茎葉処理のいずれの処理方法においても使用できる。本発明化合物の対象とする畑地雑草（Ｃｒｏｐｌａｎｄｗｅｅｄｓ）としては、例えぱイヌホウズキ（Ｓｏｌａｎｕｍｎｉｇｒｕｍ）、チョウセンアサガオ（Ｄａｔｕｒａｓｔｒａｍｏｎｉｕｍ）等に代表されるナス科（Ｓｏｌａｎａｃｅａｅ〉雑草、イチビ（Ａｂｕｔｉｌｏｎｔｈｅｏｐｈｒａｓｔｉ）、アメリカキンゴジカ（Ｓｉｄａｓｐｉｎｏｓａ）等に代表されるアオイ科（Ｍａｌｖａｃｅａｅ）雑草、マルバアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａｐｕｒｐｕｒｅａ）等のアサガオ類（Ｉｐｏｍｏｅａｐｕｒｐｕｒｅａ）やヒルガオ類（Ｃａｌｙｓｔｅｇｉａｓｐｐｓ．）に代表されるヒルガオ科（Ｃｏｎｖｏｌｖｕｌａｃｅａｅ）雑草、イヌビユ（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓｌｉｖｉｄｕｓ）等に代表されるヒユ科（Ａｍａｒａｎｔｈａｃｅａｅ）雑草、オナモミ（Ｘａｎｔｈｉｕｍｓｔｒｕｍａｒｉｕｍ）、ブタクサ（Ａｍｂｒｏｓｉａａｒｔｅｍｉｓｉａｅｆｏｌｉａ）、ヒマワリ（Ｈｅｌｉａｎｔｈｕｓａｎｎｕｓ）、ハキダメギク（Ｇａｌｉｎｓｏｇａｃｉｌｉａｔａ）、セイヨウトゲアザミ（Ｃｉｒｓｉｕｍａｒｖｅｎｓｅ）、ノボロギク（Ｓｅｎｅｃｉｏｖｕｌｇａｒｉｓ）、ヒメジョン（Ｅｒｉｇｅｒｏｎａｎｎｕｓ）等に代表されるキク科（Ｃｏｍｐｏｓｉｔａｅ）雑草、イヌガラシ（Ｒｏｒｉｐｐａｉｎｄｉｃａ）、ノハラガラシ（Ｓｉｎａｐｉｓａｒｖｅｎｓｉｓ）、ナズナ（Ｃａｐｓｅｌｌａｕｒｅａｂｕｒｓａ−ｐａｓｔｏｒｉｓ）等に代表されるアブラナ科（Ｃｒｕｃｉｆｅｒａｅ）雑草、イヌタデ（ｐｏｌｙｇｏｎｕｍｂｌｕｍｅｉ）、ソバカズラ（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍｃｏｎｖｏｌｖｕｌｕｓ）等に代表されるタデ科（Ｐｏｌｙｇｏｎａｃｅａｅ）雑草、スベリヒユ（Ｐｏｒｔｕｌａｃａｏｌｅｒａｃｅａ）等に代表されるスベリヒユ科（Ｐｏｒｔｕｌａｃａｃｅａｅ）雑草、シロザ（Ｃｈｅｎｏｐｏｄｉｕｍａｌｂｕｍ）、コアカザ（Ｃｈｅｎｏｐｏｄｉｕｍｆｉｃｉｆｏｌｉｕｍ）、ホウキギ（Ｋｃｈｉａｓｃｏｐａｒｉａ）等に代表されるアサガオ科（Ｃｈｅｎｏｐｏｄｉａｃｅａｅ）雑草、ハコベ（Ｓｔｅｌｌａｒｉａｍｅｄｉａ）等に代表されるナデシコ科（Ｃａｒｙｏｐｈｙｌｌａｃｅａｅ）雑草、オオイヌノフグリ（Ｖｅｒｏｎｉｃａｐｅｒｓｉｃａ）等に代表されるゴマノハグサ科（Ｓｃｒｏｐｈｕｌａｒｉａｃｅａｅ）雑草、ツユクサ（Ｃｏｍｍｅｌｉｎａｃｏｍｍｕｎｉｓ）等に代表されるツユクサ科（Ｃｏｍｍｅｌｉｎａｃｅａｅ）雑草、ホトケノザ（Ｌａｍｉｕｍａｍｐｌｅｘｉｃａｕｌｅ）、ヒメオドリコソウ（Ｌａｍｉｕｍｐｕｒｐｕｒｅｕｍ）等に代表されるシソ科（Ｌａｂｉａｔａｅ）雑草、コニシキソウ（Ｅｕｐｈｏｒｂｉａｓｕｐｉｎａ）、オオニシキソウ（Ｅｕｐｈｏｒｂｉａｍａｃｕｌａｔａ）等に代表されるトウダイグサ科（Ｅｕｐｈｏｒｂｉａｃｅａｅ）雑草、トゲナシヤエムグラ（Ｇａｌｉｕｍｓｐｕｒｉｕｍ）、ヤエムグラ（Ｇａｌｉｕｍａｐａｒｉｎｅ）、アカネ（Ｒｕｂｉａａｋａｎｅ）等に代表されるアカネ科（Ｒｕｂｉａｃｅａｅ）雑草、スミレ（Ｖｉｏｌａａｒｖｅｎｓｉｓ）等に代表されるスミレ科（Ｖｉｏｌａｃｅａｅ）雑草、アメリカツノクサネム（Ｓｅｓｂａｎｉａｅｘａｌｔａｔａ）、エビスグサ（Ｃａｓｓｉａｏｂｔｕｓｉｆｏｌｉａ）等に代表されるマメ科（Ｌｅｇｕｍｉｎｏｓａｅ）雑草などの広葉雑草（Ｂｒｏａｄ−ｌｅａｖｅｄｗｅｅｄｓ）、野生ソルガム（Ｓｏｒｇｈａｍｂｉｃｏｌｏｒ）、オオクサキビ（ｐａｎｉｃｕｍｄｉｃｈｏｔｏｍｉｆｌｏｒｕｍ）、ジョンソングラス（Ｓｏｒｇｈｕｍｈａｌｅｐｅｎｓｅ）、イヌビエ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉ）、メヒシバ（Ｄｉｇｉｔａｒｉａａｄｓｃｅｎｄｅｎｓ）、カラスムギ（Ａｖｅｎａｆａｔｕａ）、オヒシバ（Ｅｌｅｕｓｉｎｅｉｎｄｉｃａ）、エノコログサ（Ｓｅｔａｒｉａｖｉｒｉｄｉｓ）、スズメノテッポウ（Ａｌｏｐｅｃｕｒｕｓａｅｑｕａｌｉｓ）等に代表されるイネ科雑草（Ｇｒａｍｉｎａｃｅｏｕｓｗｅｅｄｓ）、ハマスゲ（Ｃｙｐｅｒｕｓｒｏｔｕｎｄｕｓ，Ｃｙｐｅｒｕｓｅｓｃｕｌｅｎｔｕｓ）等に代表されるカヤツリグサ科雑草（Ｃｙｐｅｒａｃｅｏｕｓｗｅｅｄｓ）等があげられる。
【００５４】
また、本発明化合物は水田用の除草剤として、湛水下の土壌処理および茎葉処理のいずれの処理においても使用できる。水田雑草（Ｐａｄｄｙｗｅｅｄｓ）としては、例えば、ヘラオモダカ（Ａｌｉｓｍａｃａｎａｌｉｃｕｌａｔｕｍ）、オモダカ（Ｓａｇｉｔｔａｒｉａｔｒｉｆｏｌｉａ）、ウリカワ（Ｓａｇｉｔｔａｒｉａｐｙｇｍａｅａ）等に代表されるオモダカ科（Ａｌｉｓｍａｔａｃｅａｅ）雑草、タマガヤツリ（Ｃｙｐｅｒｕｓｄｉｆｆｏｒｍｉｓ）、ミズガヤツリ（Ｃｙｐｅｒｕｓｓｅｒｏｔｉｎｕｓ）、ホタルイ（Ｓｃｉｒｐｕｓｊｕｎｃｏｉｄｅｓ）、クログワイ（Ｅｌｅｏｃｈａｒｉｓｋｕｒｏｇｕｗａｉ）等に代表されるカヤツリグサ科（Ｃｙｐｅｒａｃｅａｅ）雑草、アゼナ（Ｌｉｎｄｅｎｉａｐｙｘｉｄａｒｉａ）等に代表されるゴマノハグサ科（Ｓｃｒｏｔｈｕｓｌａｒｉａｃｅａｅ）雑草、コナギ（ＭｏｎｏｃｈｏｒｉａＶａｇｉｎａｌｉｓ）等に代表されるミズアオイ科（Ｐｏｔｅｎｄｅｒｉａｃｅａｅ）雑草、ヒルムシロ（ＰｏＩｇｅｔｏｎｄｉｓｔｉｎｃｔｕｓ）等に代表されるヒルムシロ科（ｐｏｔａｍｏｇｅｔｏｎａｃｅａｅ）雑草、キカシグサ（Ｒｏｔａｌａｉｎｄｉｃａ）等に代表されるミソハギ科（Ｌｙｔｈｒａｃｅａｅ）雑草、タイヌビエ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉ）等に代表されるイネ科（Ｇｒａｍｉｎｅａｅ）雑草等があげられる。
【００５５】
本発明化合物の除草に効果的な散布量は、製剤の形態、散布方法、雑草の種類と量、生育状況など様々な条件を考慮して決められる。通常、０．０１〜１０ｋｇ／ｈａ、好ましくは０．０３〜３ｋｇ／ｈａであり、当業者であれば、必要な除草効果を得るための有効量を容易に決めることができる。
【００５６】
【実施例】
次に、本発明を製造実施例および除草剤実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定されるものではない。
【００５７】
製造実施例１
４，４−ジメチル−６−（３，６−ジヒドロ−２，６−ジオキソ−４−トリフルオロメチル−１（２Ｈ）−ピリミジニル）チオクロマン（化合物Ｎｏ．１）の合成
【化４４】

【００５８】
工程Ａ：４−（３−メチル−２−ブテニルチオ）アセトアニリドの合成
１リットルの三つ口フラスコに、４−アセトアミドチオフェノール２５ｇ（ランカスター社試薬、０．１４９モル）を仕込み、アセトン２００ｍｌ、１−クロロ−３−メチル−２−ブテン１５．７ｇ（０．１５モル）、炭酸カリウム２１ｇ（０．１５モル）を加え、窒素雰囲気下３時間加熱還流した。放冷後、減圧下で溶媒を留去し、残渣に水と塩化メチレンを加えて溶かし、塩化メチレン相を分離した。無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、溶媒を留去した。３４ｇ（０．１４５モル，収率９７％）の表題化合物が得られた。
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^−１）：３３０７，１６５８，１５３７
【００５９】
工程Ｂ：６−アセトアミド−４，４−ジメチルチオクロマンの合成
工程Ａで得られた４−（３−メチル−２−ブテニルチオ）アセトアニリド３０ｇ（０．１２８モル）を細かく粉砕し、ポリリン酸３００ｇを加え、８０℃で２０分間加熱攪拌した。加熱終了後直ちに１．５リットルの氷水中に注いで希釈した。生じた固体を塩化メチレンに溶かし、塩化メチレン溶液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順番で洗浄したのちに溶媒を留去して、表題化合物、２５．５ｇ（０．１０９モル、収率８５％）が得られた。
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^−１）：３２８１，１６６１，１５４１
【００６０】
工程Ｃ〜Ｅ：化合物Ｎｏ．１の合成
上記工程Ｂで得られた６−アセトアミド−４，４−ジメチルチオクロマン２５ｇ（０．１０６モル）を５００ｍｌのナス型フラスコに仕込み、ジエチレングリコール７０ｍｌ、蒸留水３５ｍｌ、水酸化カリウム２１ｇを加えて、１５０度で４時間加熱還流した。放冷後、反応混合物を５００ｍｌの水で希釈し塩化メチレンで抽出した。塩化メチレン溶液を無水硫酸ナトリウムで乾燥させたのち、溶媒を留去して、６−アミノ−４，４−ジメチルチオクロマン１７．４ｇ（油状物、０．０８５モル、収率８０％）を得た。（以上工程Ｃ）
６−アミノ−４，４−ジメチルチオクロマン１２ｇ（０．０５１モル）を２００ｍｌのナスフラスコに仕込み、ピリジン５０ｍｌを加えて溶かした。この溶液にクロロぎ酸エチル６．０ｇ（０．０５５モル）を加え３時間室温で攪拌した。反応終了後、反応混合物を１リットルの５％塩酸水溶液で希釈し、塩化メチレンで抽出した。塩化メチレン溶液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去して６−エトキシカルボニルアミノ−４，４−ジメチルチオクロマン１３．１ｇ（油状物、０．０４９モル，収率９７％）を得た。（工程Ｄ）
続いて、２００ｍｌの三つ口フラスコに水素化ナトリウム１．０ｇ（６０重量％、０．０２５モル）とジメチルホルムアミド（以下ＤＭＦ）５ｍｌを仕込み氷水で５℃に冷却し、３−アミノ−４，４，４−トリフルオロ−クロトン酸エチル４．６ｇ（０．０２５モル）を１５ｍｌのＤＭＦで溶かした溶液を温度が１０℃を越えないように加えた。反応混合物の冷却を停止して、工程Ｄで得た６−エトキシカルボニルアミノ−４，４−ジメチルチオクロマン５．０ｇ（０．０１８８モル）を１０ｍｌのＤＭＦに溶かして加え、１１０℃に加熱して３時間反応させた。反応終了後、放冷し、反応混合物を３００ｍｌの水で希釈した。この水溶液に１０重量％塩酸を加えてｐＨを１とし、酢酸エチルで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧下で留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムで精製し（溶出液、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：２（重量比））、目的化合物Ｎｏ．１を３．５ｇ得た。（０．００９８モル，収率５４％）
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^−１）：３１０８，２９６４，１７３７，１６５５，１２０８
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，ｐｐｍ）：７．２５（ｄ，１Ｈ），７．１６（ｄ，１Ｈ），６．８７（ｄｘｄ，１Ｈ），６．２５（ｓ，１Ｈ），２．９９−３．１２（ｍ，２Ｈ），１．８９−２．０５（ｍ，２Ｈ），１．３２（ｓ，６Ｈ）
【００６１】
製造実施例２
４，４−ジメチル−６−（３，６−ジヒドロ−２，６−ジオキソ−３−メチル−４−トリフルオロメチル−１（２Ｈ）−ピリミジニル）チオクロマン（化合物Ｎｏ．２）の合成
【化４５】

１００ｍｌのナスフラスコに、製造実施例１で得られた化合物Ｎｏ．１、２．７ｇ（７．６ミリモル）を仕込み、ＤＭＦ２０ｍｌを加えて溶かした。この溶液に、炭酸カリウム２．１ｇ（１５．１ミリモル）を加えて２０分攪拌し、続いてヨウ化メチル２．２ｇ（１５．５ミリモル）を加え、１６時間反応させた。反応終了後、反応混合物を２００ｍｌの水で希釈し、塩化メチレンで抽出した。塩化メチレン溶液を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下で溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムで精製し（溶出液、酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：２（重量比））、１．９ｇ（５．１ミリモル，収率６７％）の化合物Ｎｏ．２を得た。
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^−１）：２９６２，１７２９，１６８４，１４７５，１３７０
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，ｐｐｍ）：７．２１（ｄ，１Ｈ），７．１５（ｄ，１Ｈ），６．８６（ｄｘｄ，１Ｈ），６．３６（ｓ，１Ｈ），３．５４（ｄ，３Ｈ），２．９８−３．１２（ｍ，２Ｈ），１．８９−２．０２（ｍ，２Ｈ），１．３２（ｓ，６Ｈ）
【００６２】
製造実施例３
４，４−ジメチル−６−（３，６−ジヒドロ−２，６−ジオキソ−３−メチル−４−トリフルオロメチル−１（２Ｈ）−ピリミジニル）チオクロマン１，１−ジオキシド（化合物Ｎｏ．３）の合成
【化４６】

１００ｍｌのナスフラスコに、製造実施例２で得られた化合物Ｎｏ．２を０．９ｇ（２．４ミリモル）、酢酸３ｍｌ、３０％過酸化水素水１．０ｇ（８．８ミリモル）を仕込み、７０℃で３時間反応させた。反応終了後、反応混合物を５０ｍｌの水で希釈し生じた固体を濾過し、減圧下で１日乾燥させた。０．７ｇ（１．７ミリモル、収率７１％）の化合物Ｎｏ．３が得られた。
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^−１）：１７３３，１６８０，１３７３，１１４２
【００６３】
製造実施例４
３，３−ジメチル−４−オキソ−６−（３，６−ジヒドロ−２，６−ジオキソ−３−メチル−４−トリフルオロメチル−１（２Ｈ）−ピリミジニル）チオクロマン（化合物Ｎｏ．４）の合成
【化４７】

【００６４】
工程Ａ：２，２−ジメチル−３−（４−アセトアミドフェニル）チオプロピオン酸の合成
４−アセトアミドチオフェノール２５ｇ（０．１４９モル）をアセトン２００ｍｌに溶解し、クロロピバリン酸２０．５ｇ（０．１５モル）、炭酸カリウム３１ｇ（０．２２５モル）を加え、３時間加熱還流した。放冷後、減圧下で溶媒を留去し、残渣に水と酢酸エチルを加えて溶かした。水相を分離し、１０重量％塩酸を加えてｐＨを１とし、生じた固体を濾過し、減圧下で１日乾燥させた。２５ｇ（０．０９４モル、収率６３％）の表題化合物が得られた。
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^−１）：３２８９，２９８１，１７１０，１６６７，１５３９
【００６５】
工程Ｂ：６−アセトアミド−３，３−ジメチル−４−オキソチオクロマンの合成
上記工程Ａで得られた２，２−ジメチル−３−（４−アセトアミドフェニル）チオプロピオン酸２５ｇを細かく粉砕し、ポリリン酸（ＰＰＡ）３００ｇを加え、８０℃で２０分間加熱攪拌した。加熱終了後直ちに１．５リットルの氷水中に注いで希釈した。生じた固体を酢酸エチルで抽出し、３％炭酸カリウム水溶液で２回、飽和食塩水で１回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去して、表題の化合物１７ｇ（０．０６８モル、収率７２％）を得た。
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^−１）：３２９５，１６６２，１５３４，１４７４，１３０５
【００６６】
工程Ｃ：６−アミノ−３，３−ジメチル−４−オキソチオクロマンの合成
上記工程Ｂで得られた６−アセトアミド−３，３−ジメチル−４−オキソチオクロマン１７ｇ（０．０６８モル）を５００ｍｌのナス型フラスコに仕込み、ジエチレングリコール７０ｍｌ、蒸留水３５ｍｌ、水酸化カリウム２１ｇを加えて、１６０℃で３時間加熱還流した。放冷後、反応混合物を５００ｍｌの水で希釈し塩化メチレンで抽出した。塩化メチレン溶液を無水硫酸ナトリウムで乾燥させたのち、溶媒を留去して、表題化合物１３ｇ（０．０６３モル、収率９２％）を得た。
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^−１）：３４４１，３３５７，３４３０，１６６１，１４７５，１３１９
【００６７】
工程Ｄ：６−エトキシカルボニルアミノ−３，３−ジメチル−４−オキソチオクロマンの合成
工程Ｃで得られた６−アミノ−３，３−ジメチル−４−オキソチオクロマン６．２ｇ（０．０３０モル）を２００ｍｌのナスフラスコに仕込み、ピリジン２０ｍｌを加えて溶かした。この溶液にクロロぎ酸エチル４．０ｇ（０．０３７モル）を加え３時間室温で攪拌した。反応終了後、反応混合物を２００ｍｌの５％塩酸で希釈し、生じた固体を濾過し減圧下で１日乾燥させた。表題化合物７．８ｇ（０．０２８モル，収率９３％）を得た。
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^−１）：３３４０，２９７１，１７２８，１６７０，１５２６，１２２６
【００６８】
工程Ｅ：化合物Ｎｏ．４の合成
２００ｍｌの三つ口フラスコに水素化ナトリウム１．２ｇ（６０重量％、０．０３０モル）、ＤＭＦ１５ｍｌを仕込み氷水で５℃に冷却した。続いて、３−アミノ−４，４，４−トリフルオロクロトン酸エチル５．６ｇ（０．０３１モル）を２０ｍｌのＤＭＦに溶かした溶液を温度が１０℃を越えないように加えた。反応混合物の冷却を停止し、上記工程Ｄで得られた６−エトキシカルボニルアミノ−３，３−ジメチル−４−オキソチオクロマン５．６ｇ（０．０２０モル）を１０ｍｌのＤＭＦに溶かして加えたのちに１１０℃に加熱して３．５時間反応させた。反応終了後、放冷し、３０℃において、ヨウ化メチル４．３ｇ（０．０３０モル）を加え、そのまま１日反応させた。反応混合物を水５００ｍｌで希釈し、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル溶液を無水硫酸ナトリウムで乾燥させたのち、減圧下で溶媒を留去し得られた粗生成物をシリカゲルカラムで精製し（溶出液：酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：２（重量比））、６．６ｇ（０．０１７１モル，収率８６％）の化合物Ｎｏ．４を得た。
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^−１）：１７３２，１６７８，１３７１，１１８９，１１４５
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，ｐｐｍ）：７．９７（ｄ，１Ｈ），７．３７（ｄ，１Ｈ），７．１８（ｄｘｄ，１Ｈ），６．３８（ｓ，１Ｈ），３．５４（ｄ，３Ｈ），３．１１（ｓ，２Ｈ），１．３８（ｓ，６Ｈ）
【００６９】
製造実施例５
３，３−ジメチル−４−オキソ−６−（３，６−ジヒドロ−２，６−ジオキソ−３−メチル−４−トリフルオロメチル−１（２Ｈ）−ピリミジニル）チオクロマン１，１−ジオキシド（化合物Ｎｏ．５）の合成
【化４８】

１００ｍｌのナスフラスコに、上記製造実施例４で得られた化合物Ｎｏ．４を０．７ｇ（１．８ミリモル）、酢酸３ｍｌ、３０％過酸化水素水０．７ｇ（６．２ミリモル）を仕込み、７０度で３時間反応させた。反応終了後、反応混合物を５０ｍｌの水で希釈し生じた固体を濾過し、減圧下で１日乾燥させた。０．６ｇ（１．７ミリモル、収率９４％）の化合物Ｎｏ．５が得られた。
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^−１）：１７３０，１６７８，１３７５，１２７３，１１８９，１１５０
【００７０】
製造実施例６
４，４−エチレンジオキシ−６−（３，６−ジヒドロ−２，６−ジオキソ−３−メチル−４−トリフルオロメチル−１（２Ｈ）−ピリミジニル）チオクロマン（化合物Ｎｏ．６）の合成
【化４９】

【００７１】
工程Ａ：３−（４−アセトアミドフェニル）チオプロピオン酸の合成
４−アセトアミドチオフェノール１００ｇ（０．５９８モル）、アクリル酸４５ｇ（０．６２５モル）、トリエチルアミン１ｍｌ及び１，１，２，２−テトラクロロエタン３００ｍｌを１リットルの三つ口フラスコに仕込み、窒素雰囲気下で６時間加熱還流した。放冷後、生じた結晶を濾過して、反応に用いた溶媒で洗浄し減圧下でさらに溶媒を除去した。表題化合物８８．５ｇが得られた。濾液と結晶を洗浄した溶媒を１リットルの３％炭酸カリウム水溶液を用いて抽出し、抽出液を１０％塩酸を用いてｐＨ１とした。生じた固体を濾別、減圧下で乾燥して、さらに１４．５ｇの表題化合物が得られた。合計収量は１０３ｇ（０．４３モル）で、収率は７２％であった。
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^−１）：３２９３，３１８３，３０１２，１７３４，１６４７，１５３３
【００７２】
工程Ｂ：６−アセトアミド−４−オキソチオクロマンの合成
上記工程Ａで得た３−（４−アセトアミドフェニル）チオプロピオン酸４７ｇ（０．１９７モル）にポリリン酸（ＰＰＡ）５００ｇを加えて８０℃で２０分間加熱攪拌して反応させた。反応終了後直ちに反応混合物を２リットルの氷水で希釈し、生じた結晶を濾過し水で洗浄した。濾過した結晶を減圧下で３日間乾燥し、表題化合物２８ｇ（０．１２７モル、収率６４％）を得た。
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^−１）：３３２１，１６６９，１５７８，１５２７，１３９９
【００７３】
工程Ｃ〜Ｄ：６−アミノ−４，４−エチレンジオキシチオクロマンの合成
１リットルのナスフラスコに上記工程Ｂで得られた６−アセトアミド−４−オキソチオクロマン２８ｇ（０．１２７モル）、エチレングリコール４５ｇ（０．７２６モル）、ｐ−トルエンスルホン酸１水和物１．３ｇ（６．８ミリモル）、トルエン２５０ｍｌを仕込み、ディーンスタークコンデンサーで水を分離しながら３０時間加熱還流した。反応終了後、減圧下でトルエンを除き、残滓を１リットルの水で希釈し、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル相を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させたのち、減圧下で溶媒を留去した。得られた油状の粗生成物をシリカゲルカラムで精製し（溶出液：酢酸エチル：ｎ―ヘキサン＝２：１（重量比））、１３．５ｇ（０．０５０９モル、収率４０％）の６−アセトアミド−４，４−エチレンジオキシチオクロマンが得られた。（工程Ｃ）
５００ｍｌのナスフラスコに、工程Ｃで得られた６−アセトアミド−４，４−エチレンジオキシチオクロマン１３．３ｇ（０．０５モル）、水酸化カリウム９．９ｇ（０．１５モル）、ジエチレングリコール４０ｍｌ、蒸留水２０ｍｌを仕込み１６０℃で３時間加熱還流した。放冷後、反応混合物を５００ｍｌの水で希釈し塩化メチレンで抽出した。塩化メチレン溶液を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ減圧下で溶媒を留去した。表題化合物が１０ｇ（０．０４５モル、収率９０％）得られた。
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^−１）：３４１２，３３３６，１４７５，１１２６
【００７４】
工程Ｅ〜Ｆ：化合物Ｎｏ．６の合成
３００ｍｌのナスフラスコに工程Ｄで得られた６−アミノ−４，４−エチレンジオキシチオクロマン１０ｇを仕込み、ピリジン５０ｍｌを加えて溶かした。このピリジン溶液に、クロロぎ酸エチル５．４ｇ（０．０５モル）を１０ｍｌの塩化メチレンで希釈して加え、３時間反応させた。反応終了後、反応混合物を５００ｍｌの水で希釈し、塩化メチレンで抽出した。塩化メチレン溶液を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下で塩化メチレンを留去した。残渣にトルエンを加えて溶かし、再び減圧下で溶媒を留去した。得られた油状物を減圧下で１日乾燥させ、６−エトキシカルボニルアミノ−４，４−エチレンジオキシチオクロマンを１２．９ｇ得た。（０．０４３７モル、収率９７％）（工程Ｅ）
３００ｍｌの三つ口フラスコに水素化ナトリウム２．６ｇ（６０重量％、０．０６５モル）、ＤＭＦ２５ｍｌを仕込み、氷水で５℃に冷却した。続いて、３−アミノ−４，４，４−トリフルオロクロトン酸エチル１２ｇ（０．０６６モル）を２０ｍｌのＤＭＦに溶かした溶液を温度が１０℃を越えないように加えた。反応混合物の冷却を停止し、工程Ｅで得られた６−エトキシカルボニルアミノ−４，４−エチレンジオキシチオクロマン１２．９ｇ（０．０４３７モル）を５０ｍｌのＤＭＦに溶かして加えたのちに１１０℃に加熱して３．５時間反応させた。反応終了後放冷し、３０℃において、ヨウ化メチル９．４ｇ（０．０６６モル）を加えて反応させた。１時間後、ヨウ化メチルをさらに３．０ｇ（０．０２１モル）、炭酸カリウム７．０ｇ（０．０５１モル）を加え、１６時間反応させた。反応混合物を水１リットルで希釈し、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル溶液を無水硫酸ナトリウムで乾燥させたのち、減圧下で溶媒を留去し得られた粗生成物をシリカゲルカラムで精製し（溶出液：酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：１（重量比））、１６．８ｇ（０．０４２モル，収率９５％）の化合物Ｎｏ．６を得た。
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^−１）：１７２８，１６７７，１３７１
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，ｐｐｍ）：７．３４（ｄ，１Ｈ），７．２３（ｄ，１Ｈ），６．９９（ｄｘｄ，１Ｈ），６．３５（ｓ，１Ｈ），４．０５−４．１５（ｍ，４Ｈ），３．５４（ｄ，３Ｈ），３．１６−３．３０（ｍ，２Ｈ），２．１６−２．３０（ｍ，２Ｈ）
【００７５】
製造実施例７
４−オキソ−６−（３，６−ジヒドロ−２，６−ジオキソ−３−メチル−４−トリフルオロメチル−１（２Ｈ）−ピリミジニル）チオクロマン（化合物Ｎｏ．７）の合成
【化５０】

５００ｍｌのナスフラスコに製造実施例６で得た化合物Ｎｏ．６を１６ｇ（０．０４０モル）、メタノール１６０ｍｌを仕込み、濃塩酸８ｍｌを加えて１時間反応させた。反応終了後、１リットルの水で反応混合物を希釈し、生じた結晶を濾過し水で洗浄した。得られた結晶を１日減圧下で乾燥し、標題化合物１１．２ｇ（０．０３１モル、収率７８％）を得た。
融点（℃）：１８４．０−１８５．４
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^−１）：２９２４，１７１７，１６８０，１４６９，１３７７，１１４０
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，ｐｐｍ）：７．９７（ｄ，１Ｈ），７．４３（ｄ，１Ｈ），７．２１（ｄｘｄ，１Ｈ），６．３８（ｓ，１Ｈ），３．５５（ｄ，１Ｈ），３．２１−３．３７（ｍ，２Ｈ），２．９０−３．０７（ｍ，２Ｈ）
【００７６】
製造実施例８
４−メトキシイミノ−６−（３，６−ジヒドロ−２，６−ジオキソ−３−メチル−４−トリフルオロメチル−１（２Ｈ）−ピリミジニル）チオクロマン（化合物Ｎｏ．８）の合成
【化５１】

１００ｍｌのナスフラスコに製造実施例７で得られた化合物Ｎｏ．７を３．６ｇ（１０ミリモル）、ピリジン２０ｍｌ、Ｏ−メチルヒドロキシルアミン塩酸塩１．０ｇ（１２ミリモル）を仕込み、１００℃で２時間反応させた。反応終了後、放冷し、反応混合物を５％塩酸２００ｍｌで希釈し、生じた結晶を濾過し水で洗浄した。減圧下で乾燥して、化合物Ｎｏ．８をＥ／Ｚ混合物として３．３ｇ（８．７ミリモル、収率８５％）得た。
融点（℃）：１９２．４−１９５．２
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^−１）：３０９４，１７２７，１６７５，１３７２，１０４０
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，ｐｐｍ）：７．８６−７．８９（ｍ，１Ｈ），７．２９−７．３８（ｍ，１Ｈ），６．９６−７．１０（ｍ，１Ｈ），６．３７（ｓ，１Ｈ），３．９６（ｓ，３Ｈ），３．５５（ｄ，３Ｈ），２．９７−３．１５（ｍ，４Ｈ）
【００７７】
製造実施例９
４−エトキシイミノ−６−（３，６−ジヒドロ−２，６−ジオキソ−３−メチル−４−トリフルオロメチル−１（２Ｈ）−ピリミジニル）チオクロマン（化合物Ｎｏ．９）の合成
【化５２】

１００ｍｌのナスフラスコに製造実施例７で得られた化合物Ｎｏ．７を１．２ｇ（３．４ミリモル）、ピリジン５ｍｌ、Ｏ−エチルヒドロキシルアミン塩酸塩０．３５ｇ（３．６ミリモル）を仕込み、１００℃で２時間反応させた。反応終了後、放冷し、反応混合物を５％塩酸５０ｍｌで希釈し、生じた結晶を濾過し水で洗浄した。減圧下で乾燥して、化合物Ｎｏ．９をＥ／Ｚ混合物として１．２ｇ（３．０ミリモル、収率８８％）得た。
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^−１）：２９３１，１７２８，１６８１，１３６９，１１４５
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，ｐｐｍ）：７．８７−８．２３（ｍ，１Ｈ），７．２４−７．３９（ｍ，１Ｈ），６．９６−７．０９（ｍ，１Ｈ），６．３７（ｓ，１Ｈ），４．０４−４．３３（ｍ，２Ｈ），３．５５（ｄ，３Ｈ），２．７８−３．２２（ｍ，４Ｈ），１．１１−１．３４（ｍ，３Ｈ）
【００７８】
製造実施例１０
６−（３，６−ジヒドロ−２，６−ジオキソ−３−メチル−４−トリフルオロメチル−１（２Ｈ）−ピリミジニル）チオクロマン４−オキシム（化合物Ｎｏ．１０）の合成
【化５３】

１００ｍｌのナスフラスコに製造実施例７で得られた化合物Ｎｏ．７を７．１ｇ（０．０２０モル）、ピリジン３０ｍｌ、ヒドロキシルアミン塩酸塩２．０ｇ（０．０２９モル）を仕込み、１００℃で２時間反応させた。反応終了後、放冷し、反応混合物を５％塩酸３００ｍｌで希釈し、生じた結晶を濾過し水で洗浄した。減圧下で乾燥して、化合物Ｎｏ．１０をＥ／Ｚ混合物として６．６ｇ（０．０１８モル、収率９０％）得た。
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^−１）：２９１９，１７２５，１６７１，１４７２，１３７５
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，ｐｐｍ）：８．６４−８．７３（ｍ，１Ｈ），７．８１−７．９５（ｍ，１Ｈ），７．４０−７．６３（ｍ，１Ｈ），７．０４（ｄｘｄ，１Ｈ），６．３６（ｓ，１Ｈ），３．５４（ｄ，３Ｈ），２．８９−３．２２（ｍ，４Ｈ）
【００７９】
製造実施例１１
４−プロパルギルオキシイミノ−６−（３，６−ジヒドロ−２，６−ジオキソ−３−メチル−４−トリフルオロメチル−１（２Ｈ）−ピリミジニル）チオクロマン（化合物Ｎｏ．１１）の合成
【化５４】

１００ｍｌのナスフラスコに水素化ナトリウム０．１ｇ（６０重量％、２．５ミリモル）、ＤＭＦ３ｍｌを仕込み、製造実施例１０で得られた化合物Ｎｏ．１０を０．７４ｇ（２ミリモル）加えて反応させた。水素の発生が終了後さらに１０分間反応させ、プロパルギルブロミド０．４８ｇ（４ミリモル）を加え、さらに３時間反応させた。反応終了後、反応混合物を５０ｍｌの水で希釈し酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル溶液を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、減圧下で溶媒を除去し、残渣をシリカゲルカラム（溶出液：酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：２（重量比））で精製した。化合物Ｎｏ．１１がＥ体として０．６５ｇ（収率７７％）得られた。
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^−１）：１７３０，１６８１，１４７０，１３７１
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，ｐｐｍ）：７．８９（ｄ，１Ｈ），７．３５（ｄ，１Ｈ），７．０４（ｄｘｄ，１Ｈ），６．３７（ｓ，１Ｈ），４．７６（ｄ，２Ｈ），３．５５（ｄ，３Ｈ），２．８８−３．１８（ｍ，４Ｈ），２．４７（ｔ，１Ｈ）
【００８０】
製造実施例１２
４−イソプロピルオキシイミノ−６−（３，６−ジヒドロ−２，６−ジオキソ−３−メチル−４−トリフルオロメチル−１（２Ｈ）−ピリミジニル）チオクロマン（Ｎｏ．１２）の合成
【化５５】

プロパルギルブロミドの代わりにヨウ化イソプロピルを用いた以外は製造実施例１１と本質的に同じ操作を行って化合物Ｎｏ．１２（Ｅ／Ｚ混合物）を合成した。
収率６７％
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^−１）：１７３１，１６８３，１４７０，１３７１，１１８４，１１４８
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，ｐｐｍ）：７．８８（ｄ，１Ｈ），７．３４（ｄ，１Ｈ），７．０１（ｄｘｄ，１Ｈ），６．３８（ｓ，１Ｈ），４．３４−４．４８（ｍ，１Ｈ），３．５５（ｄ，３Ｈ），２．９０−３．１４（ｍ，４Ｈ），１．２７（ｄ，６Ｈ）
【００８１】
製造実施例１３
４−エトキシカルボニルメチルオキシイミノ−６−（３，６−ジヒドロ−２，６−ジオキソ−３−メチル−４−トリフルオロメチル−１（２Ｈ）−ピリミジニル）チオクロマン（化合物Ｎｏ．１３）の合成
【化５６】

プロパルギルブロミドの代わりにブロモ酢酸エチルを用いた以外は製造実施例１１と本質的に同じ操作を行って化合物Ｎｏ．１３（Ｅ体）を合成した。
収率８４％
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^−１）：２９２３，１７６２，１７１６，１６８０，１４６６，１３７４
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，ｐｐｍ）：７．８２（ｄ，１Ｈ），７．３５（ｄ，１Ｈ），７．０３（ｄｘｄ，１Ｈ），６．３７（ｓ，１Ｈ），４．７０（ｓ，２Ｈ），４．２２（ｑ，２Ｈ），３．５５（ｄ，３Ｈ），２．８８−３．２８（ｍ，４Ｈ），１．２６（ｔ，３Ｈ）
【００８２】
製造実施例１４
４−（２−メトキシ）エチルオキシイミノ−６−（３，６−ジヒドロ−２，６−ジオキソ−３−メチル−４−トリフルオロメチル−１（２Ｈ）−ピリミジニル）チオクロマン（化合物Ｎｏ．１４）の合成
【化５７】

プロパルギルブロミドの代わりに２−ブロモエチルメチルエーテルを用いた以外は製造実施例１１と本質的に同じ操作を行って化合物Ｎｏ．１４（Ｅ体）を合成した。
収率７８％
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^−１）：１７２０，１６８１，１４６９，１３７２，１１４５
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，ｐｐｍ）：７．８７（ｄ，１Ｈ），７．３５（ｄ，１Ｈ），７．０２（ｄｘｄ，１Ｈ），６．３７（ｓ，１Ｈ），４．３１（ｔ，２Ｈ），３．６６（ｔ，２Ｈ），３．５５（ｄ，３Ｈ），２．９０−３．１８（ｍ，４Ｈ）
【００８３】
製造実施例１５
４−（１、３−ジオキソラン−２−イル）メトキシイミノ−６−（３，６−ジヒドロ−２，６−ジオキソ−３−メチル−４−トリフルオロメチル−１（２Ｈ）−ピリミジニル）チオクロマン（化合物Ｎｏ．１５）の合成
【化５８】

プロパルギルブロミドの代わりに２−ブロモメチル−１，３−ジオキソランを用いた以外は製造実施例１１と本質的に同じ操作を行って化合物Ｎｏ．１５（Ｅ体）を合成した。
収率６５％
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^−１）：１７２８，１６８１，１４７０，１３７１，１１４６
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，ｐｐｍ）：７．８７（ｄ，１Ｈ），７．３５（ｄ，１Ｈ），７．０３（ｄｘｄ，１Ｈ），６．３７（ｓ，１Ｈ），５．２３（ｑ，１Ｈ），４．２２（ｄ，２Ｈ），３．８９−４．０４（ｍ，４Ｈ），３．５５（ｄ，３Ｈ），２．９１−３．１９（ｍ，４Ｈ），１．２６（ｔ，３Ｈ）
【００８４】
製造実施例１６
４−メトキシイミノ−６−（３，６−ジヒドロ−２，６−ジオキソ−３−メチル−４−トリフルオロメチル−１（２Ｈ）−ピリミジニル）チオクロマン１，１−ジオキシド（化合物Ｎｏ．１６）の合成
【化５９】

出発物質として、化合物Ｎｏ．２の代わりに化合物Ｎｏ．８を用いた以外は本質的に製造実施例３と同じ方法で化合物Ｎｏ．１６（Ｅ／Ｚ混合物）を合成した。
収率７１％
融点（℃）：２１９．２−２２１．２
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^−１）：１７３０，１６８１，１４７２，１３７３，１２８１，１１８４
【００８５】
製造実施例１７
４−エトキシイミノ−６−（３，６−ジヒドロ−２，６−ジオキソ−３−メチル−４−トリフルオロメチル−１（２Ｈ）−ピリミジニル）チオクロマン１，１−ジオキシド（化合物Ｎｏ．１７）の合成
【化６０】

出発物質として、化合物Ｎｏ．２の代わりに化合物Ｎｏ．９を用いた以外は本質的に製造実施例３と同じ方法で化合物Ｎｏ．１７（Ｅ／Ｚ混合物）を合成した。
収率８８％
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^−１）：１７３２，１６７５，１４６６，１３７５，１２８５，１１８６，１１４５
【００８６】
製造実施例１８
４−メトキシイミノ−６−（３，６−ジヒドロ−２，６−ジオキソ−３−メチル−４−トリフルオロメチル−１（２Ｈ）−ピリミジニル）チオクロマン１−オキシド（化合物Ｎｏ．１８）の合成
【化６１】

１００ｍｌのナスフラスコに化合物Ｎｏ．８を１．９ｇ（５ミリモル）、酢酸１０ｍｌ、３０％過酸化水素水０．７ｇ（６．２ミリモル）を仕込み、５時間反応させた。反応終了後、反応混合物を５０ｍｌの水で希釈した。生じた結晶を濾過、水で洗浄した後に減圧下で１日乾燥させた。１．８ｇ（４．５ミリモル，収率９０％）の化合物Ｎｏ．１８が得られた。
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^−１）：２９２２，１７２７，１６８１，１４６７，１３７３，１２７６，１１８４，１１４６，１０４２
【００８７】
製造実施例１９
４−エトキシカルボニルメチルオキシイミノ−６−（３，６−ジヒドロ−２，６−ジオキソ−３−メチル−４−トリフルオロメチル−１（２Ｈ）−ピリミジニル）チオクロマン１−オキシド（化合物Ｎｏ．１９）の合成
【化６２】

出発物質として、化合物Ｎｏ．８の代わりに化合物Ｎｏ．１３（Ｅ体）を用いた以外は本質的に製造実施例１８と同じ方法で化合物Ｎｏ．１９（Ｅ体）を合成した。
収率７５％
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^−１）：２９５６，２９２３，２８５３，１７５２，１７２９，１６８１，１４６６，１３７５，１２７５，１２１０，１１８５，１０３６
【００８８】
製造実施例２０
４−（２−メトキシ）エチルオキシイミノ−６−（３，６−ジヒドロ−２，６−ジオキソ−３−メチル−４−トリフルオロメチル−１（２Ｈ）−ピリミジニル）チオクロマン１−オキシド（化合物Ｎｏ．２０）の合成
【化６３】

出発物質として、化合物Ｎｏ．８の代わりに化合物Ｎｏ．１４（Ｅ体）を用いた以外は本質的に製造実施例１８と同じ方法で化合物Ｎｏ．２０（Ｅ体）を合成した。
収率７８％
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^−１）：１７２７，１６８０，１４６９，１３７２，１２７５，１１８４，１１４６，１０４２
【００８９】
製造実施例２１
４−メトキシイミノ−６−（３，６−ジヒドロ−２，６−ジオキソ−３−メチル−４−トリフルオロメチル−１（２Ｈ）−ピリミジニル）−４Ｈ−チオクロメン（化合物Ｎｏ．２１）の合成
【化６４】

１００ｍｌのナスフラスコに化合物Ｎｏ．１８（Ｅ／Ｚ混合物）を２．０ｇ（５ミリモル）、酢酸無水物３ｍｌ、ｏ−ジクロロベンゼン６ｍｌを仕込み、５時間加熱還流した。放冷後、減圧下で溶媒を除去し、残渣を酢酸エチルで溶かし、水、続いて飽和食塩水で洗浄した。減圧下で溶媒を除去し、残渣をシリカゲルカラムで精製し（溶出液：酢酸エチル；ｎ−ヘキサン＝１：２（重量比））、１．１５ｇ（３ミリモル，収率６０％）の化合物Ｎｏ．２１（Ｅ体）を得た。
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^−１）：３０９０，１７２９，１６７５，１３７３，１０４３
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，ｐｐｍ）：８．０９（ｄ，１Ｈ），７．４０（ｄ，１Ｈ），７．１８（ｄ，１Ｈ），７．１５（ｄｘｄ，１Ｈ），６．８３（ｄ，１Ｈ），６．３８（ｓ，１Ｈ），３．９６（ｓ，３Ｈ），３．５５（ｄ，３Ｈ）
【００９０】
製造実施例２２
４−ヒドロキシ−６−（３，６−ジヒドロ−２，６−ジオキソ−３−メチル−４−トリフルオロメチル−１（２Ｈ）−ピリミジニル）チオクロマン（化合物Ｎｏ．２２）の合成
【化６５】

１００ｍｌの三つ口ナスフラスコに、化合物Ｎｏ．７を０．９０ｇ（２．５ミリモル）を仕込み、エタノール１０ｍｌ、塩化メチレン１０ｍｌを加えて溶解させた。続いて水素化ホウ素ナトリウム０．０５ｇ（１．３ミリモル）を、温度が３０℃を越えない程度に徐々に加え、そのまま３０分間反応させた。反応終了後、反応混合物を５％塩酸２００ｍｌで希釈し、塩化メチレンで抽出した。塩化メチレン溶液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下で留去して油状の化合物Ｎｏ．２２を０．９０ｇ（２．５ミリモル、収率１００％）得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，ｐｐｍ）：７．２３（ｄ，１Ｈ），７．１８（ｄ，１Ｈ），６．９５（ｄｘｄ，１Ｈ），６．３３（ｓ，１Ｈ），４．７３−４．７９（ｍ，１Ｈ），３．５１（ｄ，３Ｈ），３．１５−３．４５（ｍ，１Ｈ），２．７７−３．０２（ｍ，１Ｈ），２．５０−２．５６（ｍ，１Ｈ），２．０２−２．４２（ｍ，２Ｈ）
【００９１】
製造実施例２３
４−エトキシ−６−（３，６−ジヒドロ−２，６−ジオキソ−３−メチル−４−トリフルオロメチル−１（２Ｈ）−ピリミジニル）チオクロマン（化合物Ｎｏ．２３）の合成
【化６６】

５０ｍｌのナスフラスコに化合物Ｎｏ．２２を０．７０ｇ（２ミリモル）、エタノール１０ｍｌ、濃硫酸０．０３ｍｌを仕込み、１０時間加熱還流した。反応終了後、反応混合物を１００ｍｌの水で希釈し、塩化メチレンで抽出した。塩化メチレン溶液を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下で溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムで精製し（溶出液：酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：２（重量比））、０．５５ｇ（１．４ミリモル，収率７０％）の化合物Ｎｏ．２３を得た。
融点（℃）：１４０．５−１４２．４
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^−１）：２９７７，１７１８，１６８４，１４７３，１３７１，１１７４，１１５９
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，ｐｐｍ）：７．２５（ｄ，１Ｈ），７．１１（ｄ，１Ｈ），６．９８（ｄｘｄ，１Ｈ），６．３７（ｓ，１Ｈ），４．３３−４．４２（ｍ，１Ｈ），３．５４（ｑｕａｒｔｅｔ，２Ｈ），３．５５（ｄ，３Ｈ），３．２１−３．５１（ｍ，１Ｈ），２．７６−３．０１（ｍ，１Ｈ），２．０１−２．３７（ｍ，２Ｈ），１．２１（ｔ，３Ｈ）
【００９２】
製造実施例２４
４，４−エチレンジオキシ−６−（３，６−ジヒドロ−２，６−ジオキソ−３−メチル−４−トリフルオロメチル−１（２Ｈ）−ピリミジニル）クロマン（化合物Ｎｏ．２４）の合成
【化６７】

【００９３】
工程Ａ〜Ｂ：４，４−エチレンジオキシ−６−ニトロクロマンの合成
５００ｍｌの三つ口フラスコに、４−クロマノン２０ｇ（アルドリッチ社試薬、０．１３５モル）を仕込み、濃硫酸１２０ｍｌを加えて溶解させた。続いて、硝酸カリウム１３．６ｇ（０．１３５モル）を、温度が３０℃を越えない程度に徐々に加え、そのまま１時間反応させた。反応終了後、反応混合物を氷水、約１リットル中に希釈し、生じた固体を濾過し水で洗浄後、減圧下で１日乾燥させた。（工程Ａ）
得られた結晶２０．７ｇ（主成分は６−ニトロ−４−クロマノン）を５００ｍｌのナスフラスコに仕込み、エチレングリコール４０ｇ（０．６４５モル）、パラトルエンスルホン酸１水和物０．６２ｇ（３．３ミリモル）およびトルエン２５０ｍｌを加え、ディーンスタークコンデンサーを用いて生成する水を除去しながら７時間加熱還流した。反応終了後、放冷し、減圧下でトルエンを留去した。残渣に水と塩化メチレンを加え、塩化メチレン相を分離した。塩化メチレン溶液を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、減圧下で溶媒を留去した。残渣にエタノールを加え、加熱して溶解させ再結晶させた。得られた結晶を濾過し、エタノールで洗浄後、減圧下で乾燥して表題化合物１６．５ｇ（０．０６９６モル）を得た。工程Ａ及びＢを通した収率は５２％であった。
融点（℃）：１３４．８−１３７．４
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^−１）：１５８６，１５１６，１３３８
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，ｐｐｍ）：８．３４（ｄ，１Ｈ），８．１１（ｄｘｄ，１Ｈ），６．９０（ｄ，１Ｈ），４．４１−４．５３（ｍ，２Ｈ），４．０４−４．３４（ｍ，４Ｈ），２．０８−２．２３（ｍ，２Ｈ）
【００９４】
工程Ｃ〜Ｄ：６−（Ｎ−エトキシカルボニル）アミノ−４，４−エチレンジオキシクロマンの合成
５００ｍｌのナスフラスコに、工程Ａ〜Ｂで得た４，４−エチレンジオキシ−６−ニトロクロマン１６．５ｇ、パラジウムカーボン１．６ｇ（パラジウム５重量％）およびエタノール２５０ｍｌを仕込み、水素雰囲気下（常圧）で１６時間還元した。反応終了後、パラジウムカーボンを濾過して除去し、得られたろ液を減圧下で濃縮した。１４ｇの６−アミノ−４，４−エチレンジオキシクロマンが油状物として得られた。（工程Ｃ）
得られた６−アミノ−４，４−エチレンジオキシクロマン１４ｇを３００ｍｌのナスフラスコに仕込み、ピリジン５０ｍｌを加えて溶かした。続いてクロロぎ酸エチル８．５ｇ（０．０７８モル）を塩化メチレン５０ｍｌに溶かして加え、３０分間反応させた。反応終了後、反応混合物を１リットルの水で希釈し、塩化メチレンで抽出した。塩化メチレン溶液を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、減圧下で溶媒を留去して、表題化合物を１９ｇ（０．０６８モル、収率９８％）の油状物として得た。
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^−１）：３３１５，２９７７，２８８５，１７２５，１５００，１２２２
【００９５】
工程Ｅ：化合物Ｎｏ．２４の合成
５００ｍｌの三つ口フラスコに水素化ナトリウム３．７ｇ（６０重量％、０．０９２モル）、ＤＭＦ３０ｍｌを仕込み氷水で５℃に冷却した。続いて、３−アミノ−４，４，４−トリフルオロクロトン酸エチル１６．８ｇ（０．０９２モル）を５０ｍｌのＤＭＦで溶かした溶液を、温度が１０℃を越えない程度に徐々に加えた。反応混合物の冷却を停止し、上記工程Ｃ〜Ｄで得られた６−（Ｎ−エトキシカルボニル）アミノ−４，４−エチレンジオキシクロマン１９ｇを５０ｍｌのＤＭＦに溶かして加え、１００℃に加熱して３．５時間反応させた。反応終了後、放冷し、３５℃において、ヨウ化メチル１９．６ｇ（０．１３８モル）を加え３時間反応させた。反応終了後、反応混合物を１．５リットルの水で希釈した。生じた結晶を濾過し、水で洗浄した後に減圧下で１日乾燥させた。２４ｇ（０．０６２モル，収率９２％）の化合物Ｎｏ．２４が得られた。
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^−１）：２９２４，１７２５，１６７４，１３７２，１２４８，１２３７，１１５０
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，ｐｐｍ）：７．２３（ｄ，１Ｈ），７．０３（ｄ，１Ｈ），６．９３（ｄｘｄ，１Ｈ），６．３５（ｓ，１Ｈ），４．３４−４．４６（ｍ，２Ｈ），３．９６−４．２１（ｍ，４Ｈ），３．５４（ｄ，３Ｈ），２．０７−２．２０（ｍ，２Ｈ）
【００９６】
製造実施例２５
４−オキソ−６−（３，６−ジヒドロ−２，６−ジオキソ−３−メチル−４−トリフルオロメチル−１（２Ｈ）−ピリミジニル）クロマン（化合物Ｎｏ．２５）の合成
【化６８】

５００ｍｌのナスフラスコに化合物Ｎｏ．２４を２０ｇ（０．０５２モル）、メタノール２００ｍｌを仕込み、濃塩酸１０ｍｌを加えて１時間反応させた。反応終了後、１．５リットルの水で反応混合物を希釈し、生じた結晶を濾過し水で洗浄した。得られた結晶を１日減圧下で乾燥し、１３．５ｇ（０．０３９６モル、収率７６％）の化合物Ｎｏ．２５を得た。
融点（℃）：１７９．２−１８２．４
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^−１）：２９２２，１７２９，１６７４，１４９０，１３７８，１１５０
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，ｐｐｍ）：７．７７（ｄ，１Ｈ），７．３１（ｄｘｄ，１Ｈ），７．１０（ｄ，１Ｈ），６．３７（ｓ，１Ｈ），４．５９（ｔ，２Ｈ），３．５５（ｄ，３Ｈ），２．８３（ｔ，２Ｈ）
【００９７】
製造実施例２６
４−メトキシイミノ−６−（３，６−ジヒドロ−２，６−ジオキソ−３−メチル−４−トリフルオロメチル−１（２Ｈ）−ピリミジニル）クロマン（化合物Ｎｏ．２６）の合成
【化６９】

１００ｍｌのナスフラスコに化合物Ｎｏ．２５を０．７ｇ（２．１ミリモル）、ピリジン５ｍｌ、Ｏ−メチルヒドロキシルアミン塩酸塩０．２５ｇ（３ミリモル）を仕込み、１６時間反応させた。反応終了後、反応混合物を５％塩酸１５０ｍｌで希釈し、生じた結晶を濾過し水で洗浄した。減圧下で乾燥して、０．５ｇ（１．３５ミリモル、収率６４％）の化合物Ｎｏ．２６を得た。このものはほぼ純粋なＥ体であった。
融点（℃）：１７５．４−１７６．５
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^−１）：３０９９，２９２３，２８５５，１７２８，１６７４，１４８８，１３７３，１０４３
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，ｐｐｍ）：７．７６（ｄ，１Ｈ），７．０３−７．０５（ｍ，２Ｈ），６．３７（ｓ，１Ｈ），４．２５（ｔ，２Ｈ），３．９４（ｓ，３Ｈ），３．５４（ｄ，３Ｈ），２．８９（ｔ，２Ｈ）
【００９８】
製造実施例２７
４−エトキシイミノ−６−（３，６−ジヒドロ−２，６−ジオキソ−３−メチル−４−トリフルオロメチル−１（２Ｈ）−ピリミジニル）クロマン（化合物Ｎｏ．２７）の合成
【化７０】

１００ｍｌのナスフラスコに化合物Ｎｏ．２５を０．７ｇ（２．１ミリモル）、ピリジン５ｍｌ、Ｏ−エチルヒドロキシルアミン塩酸塩０．２９ｇ（３ミリモル）を仕込み、１００℃で２時間反応させた。反応終了後、放冷し、反応混合物を５％塩酸１５０ｍｌで希釈し、生じた結晶を濾過し水で洗浄した。減圧下で乾燥して、化合物Ｎｏ．２７をＥ／Ｚ混合物として０．７ｇ（１．８ミリモル、収率８６％）得た。
融点（℃）：１６５．７−１６７．９
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^−１）：２９２９，１７２４，１６８４，１４８９，１３７４，１１４１
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，ｐｐｍ）：７．７７（ｄ，１Ｈ），７．０２−７．０４（ｍ，２Ｈ），６．３７（ｓ，１Ｈ），４．２２（ｔ，２Ｈ），４．２０（ｑｕａｒｔｅｔ，２Ｈ），３．５４（ｄ，３Ｈ），２．９０（ｔ，２Ｈ），１．２９（ｔ，３Ｈ）
【００９９】
製造実施例２８
６−（３，６−ジヒドロ−２，６−ジオキソ−３−メチル−４−トリフルオロメチル−１（２Ｈ）−ピリミジニル）クロマン４−オキシム（化合物Ｎｏ．２８）の合成
【化７１】

１００ｍｌのナスフラスコに化合物Ｎｏ．２５を１．４ｇ（４．１ミリモル）、ピリジン１０ｍｌ、ヒドロキシルアミン塩酸塩０．３０ｇ（４．３ミリモル）を仕込み、２日間反応させた。反応終了後、反応混合物を５％塩酸１５０ｍｌで希釈し、生じた結晶を濾過し水で洗浄した。減圧下で乾燥して、化合物Ｎｏ．２８をＥ／Ｚ混合物として１．２ｇ（３．４ミリモル、収率８２％）得た。
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^−１）：２９２５，１７１７，１６６９，１４８８，１３７７
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，ｐｐｍ）：８．２−８．６（ｂｒｏａｄ，１Ｈ），７．６７（ｄ，１Ｈ），７．０３−７．０５（ｍ，２Ｈ），６．３７（ｓ，１Ｈ），４．２６（ｔ，２Ｈ），３．５３（ｄ，３Ｈ），２．９２（ｔ，２Ｈ）
【０１００】
製造実施例２９
４−（２−メトキシ）エチルオキシイミノ−６−（３，６−ジヒドロ−２，６−ジオキソ−３−メチル−４−トリフルオロメチル−１（２Ｈ）−ピリミジニル）クロマン（化合物Ｎｏ．２９）の合成
【化７２】

１００ｍｌのナスフラスコに水素化ナトリウム０．１ｇ（６０重量％、２．５ミリモル）、ＤＭＦ３ｍｌを仕込み、化合物Ｎｏ．２８を０．７１ｇ（２ミリモル）を加えて反応させた。水素の発生が終了後さらに１０分間反応させ、２−ブロモエチルメチルエーテル０．５６ｇ（４ミリモル）を加え、１時間反応させた。反応終了後、反応混合物を５０ｍｌの水で希釈し酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル溶液を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、減圧下で溶媒を除去し、残渣をシリカゲルカラムで精製した（溶出液：酢酸エチル：ｎ−ヘキサン重量比＝１：２（重量比））。化合物Ｎｏ．２９がＥ体として０．３５ｇ（０．８５ミリモル、収率４０％）得られた。
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^−１）：２９２３，２８５３，１７２８，１６８３，１４８８，１３７５，１２５６，１１８５
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，ｐｐｍ）：７．７５（ｄ，１Ｈ），６．９３−７．０５（ｍ，２Ｈ），６．３７（ｓ，１Ｈ），４．２３（ｔ，２Ｈ），３．６６（ｔ，２Ｈ），３．５５（ｄ，３Ｈ），３．３９（ｓ，３Ｈ），３．０８（ｔ，２Ｈ），２．８６（ｔ，２Ｈ）
【０１０１】
製造実施例３０
６−（３，６−ジヒドロ−２，６−ジオキソ−３−メチル−４−トリフルオロメチル−１（２Ｈ）−ピリミジニル）クロマン４−Ｎ，Ｎ−ジメチルヒドラゾン（化合物Ｎｏ．３０）の合成
【化７３】

１００ｍｌのナスフラスコに、化合物Ｎｏ．２５を１．２ｇ（３．５ミリモル）、１，１−ジメチルヒドラジン０．７２ｇ（１２ミリモル）、パラトルエンスルホン酸１水和物０．０２ｇ（０．１１ミリモル）およびトルエン５０ｍｌを仕込み、ディーンスタークコンデンサーを用いて、生成する水を除去しながら１６時間加熱還流した。反応終了後、放冷した反応混合物から減圧下で溶媒を除去し、残渣に水と塩化メチレンを加えた。塩化メチレン相を分離し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、減圧下で溶媒を除去して、１．０ｇ（２．６ミリモル、収率７４％）の化合物Ｎｏ．３０を得た。
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^−１）：１７２０，１６８２，１４８８，１３７４，１１８２，１１４１
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，ｐｐｍ）：７．８８（ｄ，１Ｈ），７．０１−７．０５（ｍ，２Ｈ），６．３６（ｓ，１Ｈ），４．２９（ｔ，２Ｈ），３．５４（ｄ，３Ｈ），２．９１（ｔ，２Ｈ），２．５５（ｓ，６Ｈ）
【０１０２】
除草試験例
（１）除草剤組成物の調製
担体としてタルク（商品名：ジークライト、ジークライト工業（株）社製）９７重量部、界面活性剤としてアルキルアリールスルホン酸塩（商品名：ネオペレックス、花王アトラス（株）社製）１．５重量部およびノニオン型とアニオン型の界面活性剤（ソルポール８００Ａ、東邦化学工業（株）社製）１．５重量部を均一に粉砕混合して水和剤用担体を得た。この水和剤用担体９０重量部と本発明化合物各１０重量部を均一に粉砕混合してそれぞれ除草剤組成物を得た。
【０１０３】
（２）除草効果、作物薬害の判定基準
下記式：
（処理区の残草重／無処理区の残草重）×１００
から求めた残草重無処理比を除草効果および作物薬害の基準とした。
【０１０４】
除草効果残草重無処理比（％）
０８１〜１００
１６１〜８０
２４１〜６０
３２１〜４０
４１〜２０
５０
【０１０５】
作物薬害残草重無処理比（％）
− １００
± ９５〜９９
＋９０〜９４
＋＋８０〜８９
＋＋＋０〜７９
【０１０６】
（３）生物試験（畑地茎葉処理試験）
畑地土壌を充填した１／５０００アールのワグネルポットにイチビ、ハコベ、ノビエの雑草種子およびイネ、コムギの種子を播種し、覆土後、温室内で育成した。これら植物の３〜４葉期に上記（１）で得た所定量の除草剤組成物を水に懸濁し２０００リットル／ヘクタール相当の液量で茎葉部へ均一にスプレー散布した。その後温室内で育成し処理後３０日目に除草効果およびイネ、コムギへの薬害を（２）の基準に従い判定した。結果を第１表に示す。
【０１０７】
第１表（茎葉処理試験）

【０１０８】
第１表の結果から、本発明のウラシル誘導体は、イネおよびコムギに対して無害あるいは微害であり、且つ単子葉から双子葉までの畑地雑草を選択的に防除できることが確認された。
【０１０９】
（４）生物試験（畑地土壌処理試験）
畑地土壌を充填した１／５０００アールのワグネルポットにイチビ、ハコベ、アキノエノコログサの雑草種子およびトウモロコシ、コムギの種子を播種し、覆土後、上記（１）で得た所定量の除草剤組成物を水に懸濁し２０００リットル／ヘクタール相当の液量で茎葉部へ均一にスプレー散布した。その後温室内で育成し、処理後３０日目に除草効果およびトウモロコシ、コムギへの薬害を（２）の基準に従い判定した。結果を第２表に示す。
【０１１０】
第２表（茎葉処理試験）

【０１１１】
第２表の結果から、本発明のウラシル誘導体は、トウモロコシ、コムギに対し無害または微害であり、且つ単子葉から双子葉までの畑地雑草を選択的に防除できることが確認された。
【０１１２】
【発明の効果】
本発明のウラシル誘導体は、新規化合物であって、栽培植物に薬害をもたらすことなく、対象雑草のみを選択的に、かつ望ましい場所に発生する多種多様な雑草を速やかに、しかも環境に大きな不可を与えない低薬量で防除し得る除草活性を有している。

Claims

一般式（Ｉ）：

〔式中、Ｘ^１及びＸ^２は、それぞれ独立に酸素又は硫黄を示し；
Ｙは酸素、硫黄、ＳＯ、又はＳＯ_２を示し；
Ｚは一般式（Ｚ^１）〜（Ｚ^５）：

（ただし、Ｒ^８〜Ｒ^１３は、それぞれ独立に水素、ハロゲン、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基又はＣ_１〜Ｃ_４ハロアルキル基を示し、右側の結合手がＹと結合する。）で表されるアルキレン基及びアルケニレン基の中から選ばれる基を示し；
Ｒ^１は水素、ハロゲン、ニトロ基、シアノ基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルコキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルコキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキルチオ基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキルスルフィニル基又はＣ_１〜Ｃ_４アルキルスルフォニル基を示し；
Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に水素、ハロゲン、ニトロ基、シアノ基、メルカプトキ基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基、Ｃ_３〜Ｃ_６シクロアルキル基、−ＣＯ_２Ｒ^１４、−ＣＯＮＲ^１５Ｒ^１６、−ＮＲ^１５Ｒ^１６、−ＮＲ^１５ＯＲ^１４、−ＯＲ^１７、−ＮＨＣＯＲ^１８、−ＮＨＣＯ_２Ｒ^１４、−ＮＨＳＯ_２Ｒ^１８、−ＳＲ^１８、−ＳＯＲ^１８、−ＳＯ_２Ｒ^１８、ＳＯ_２ＮＲ^１５Ｒ^１６又は−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ^１５Ｒ^１６を示し、該Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基及びＣ_３〜Ｃ_６シクロアルキル基は、ハロゲン、Ｃ_１〜Ｃ_４アルコキシ基、または１個若しくは２個の酸素又は硫黄により中断されていてもよいＣ_３〜Ｃ_６シクロアルキル基によって置換されていてもよく、或いは又、Ｒ^２及びＲ^３は、それらが結合している炭素原子と共に、下記の構造

を示してもよく；
Ｒ^１４は水素原子又はＣ_１〜Ｃ_４アルコキシ基若しくはハロゲンで置換されていてもよいＣ_１〜Ｃ_６アルキル基を示し；
Ｒ^１５及びＲ^１６は、それぞれ独立に水素、ハロゲン及び／又はＣ_１〜Ｃ_４アルコキシ基で置換されていてもよいＣ_１〜Ｃ_４アルキル基、又はハロゲン、ニトロ基、カルボキシル基、シアノ基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルコキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルコキシ基、（Ｃ_１〜Ｃ_４アルコキシ）カルボニル基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキルチオ基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキルスルフィニル基、及びＣ_１〜Ｃ_４アルキルスルフォニル基からなる群より選ばれた１又は２個の置換基で置換されていてもよいフェニル基を示し；
Ｒ^１７は水素、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基、Ｃ_３〜Ｃ_６シクロアルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_４アルケニル基、Ｃ_２〜Ｃ_４アルキニル基、−ＣＯＲ^１８、−ＣＯ_２Ｒ^１４、−ＣＯＮＲ^１５Ｒ^１６、−ＣＨＲ^１４ＣＮ、−ＣＨＲ^１４ＣＯＲ^１８、−ＣＨＲ^１４ＣＯ_２Ｒ^１９、−ＣＨＲ^１４ＣＯＮＲ^１５Ｒ^１６、又は−ＳＯ_２Ｒ^１８（Ｒ^１４，Ｒ^１５，Ｒ^１６は上記と同じ意味を有する。）を示し、前記Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基はハロゲン、Ｃ_１〜Ｃ_４アルコキシ基、１個若しくは２個の酸素又は硫黄により中断されていてもよいＣ_３〜Ｃ_６シクロアルキル基、又はハロゲン、ニトロ基、カルボキシル基、シアノ基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルコキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルコキシ基、（Ｃ_１〜Ｃ_４アルコキシ）カルボニル基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキルチオ基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキルスルフィニル基、及びＣ_１〜Ｃ_４アルキルスルフォニル基からなる群より選ばれた１又は２個の置換基で置換されていてもよいフェニル基で置換されていてもよく、又、前記Ｃ_３〜Ｃ_６シクロアルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_４アルケニル基及びＣ_２〜Ｃ_４アルキニル基は、ハロゲン又はＣ_１〜Ｃ_４アルコキシ基によって置換されていてもよく；
Ｒ^１８はハロゲン若しくはＣ_１〜Ｃ_４アルコキシ基で置換されていてもよいＣ_１〜Ｃ_４アルキル基、又はハロゲン、ニトロ基、カルボキシル基、シアノ基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルコキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルコキシ基、（Ｃ_１〜Ｃ_４アルコキシ）カルボニル基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキルチオ基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキルスルフィニル基、及びＣ_１〜Ｃ_４アルキルスルフォニル基からなる群より選ばれた１又は２個の置換基で置換されていてもよいフェニル基を示し；
Ｒ^１９は水素又はＣ_１〜Ｃ_４アルキル基を示し；
Ｘ^３〜Ｘ^７は酸素又は硫黄を示し、Ｘ^４とＸ^５はたがいに同一でも異なっていてもよく、Ｘ^６とＸ^７はたがいに同一でも異なっていてもよく；
Ｒ^２０〜Ｒ^２５は、それぞれ独立に水素、ハロゲン、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_４ハロアルキル基を示し；
Ｒ^４は水素、ハロゲン、ニトロ基、カルボキシル基、シアノ基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルコキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルコキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルコキシカルボニル基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキルチオ基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキルスルフィニル基又はＣ_１〜Ｃ_４アルキルスルフォニル基を示し；
Ｒ^５は水素、ハロゲン、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基又はＣ_１〜Ｃ_４ハロアルキル基を示し；
Ｒ^６はＣ_１〜Ｃ_４アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキル基、又はハロゲン、ニトロ基、カルボキシル基、シアノ基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルコキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_４ハロアルコキシ基、（Ｃ_１〜Ｃ_４アルコキシ）カルボニル基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキルチオ基、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキルスルフィニル基、及びＣ_１〜Ｃ_４アルキルスルフォニル基からなる群より選ばれた１又は２個の置換基で置換されていてもよいフェニル基を示し；
Ｒ^７は水素、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基又はＣ_１〜Ｃ_４ハロアルキル基を示す。〕
で表されるウラシル誘導体。
一般式（Ｉ′）：

〔式中、Ｘ^１、Ｘ^２及びＲ^１〜Ｒ^７は一般式（Ｉ）と同じであり、Ｙａは酸素又は硫黄を示し、Ｚａは、一般式（Ｚ^１）、（Ｚ^２）又は（Ｚ^３）：

（Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１２及びＲ^１３は一般式（Ｉ）と同じである。）で表される基を示す。〕
で表される化合物である請求項１記載のウラシル誘導体。
一般式（Ｉ）で表されるウラシル誘導体及び／又はその塩を有効成分として含む除草剤組成物。