JP2005015833A - 電鋳品製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】母型に形成された微細パターンを正確に銅電鋳品に転写することができる電鋳品製造方法を提供する。
【解決手段】銅電鋳品を製造する電鋳品製造方法において、フォトポリマ40を用いて母型であるスタバックス金型10のパターンが転写された反転型を製造し、その後、反転型を用いて銅電鋳品を製造するようにした。
【選択図】 図2
【解決手段】銅電鋳品を製造する電鋳品製造方法において、フォトポリマ40を用いて母型であるスタバックス金型10のパターンが転写された反転型を製造し、その後、反転型を用いて銅電鋳品を製造するようにした。
【選択図】 図2
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は銅電鋳品を製造する電鋳品製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、微細パターンが施された母型の表面に厚いめっき皮膜を形成し、その皮膜を電鋳品として母型から剥離する電鋳品製造方法がある。この電鋳品はそのまま構造体として利用されたり、樹脂成型の金型として利用されたりする。
【0003】
一般に、電鋳に使用されるめっき液にはニッケル、銅、鉄、銀、金、錫、コバルト、亜鉛等が用いられる。特に、ニッケル及び銅が多く用いられている。
【0004】
【特許文献】
特開2000−230849号公報
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、銅電鋳には硫酸銅と硫酸とを主成分とするめっき液が多く使用されている。
【0006】
しかし、上記めっき液は強酸であるため、鉄等の金属で形成された母型がめっき液によって腐食される。したがって、母型に形成された微細パターンを正確に銅電鋳品に転写できないという問題がある。
【0007】
特に、いわゆるマイクロマシンやマイクロマシン用の部品等の小さく・薄い電鋳品に所望のパターンを正確に転写させることは難しい。
【0008】
この発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、その課題は母型に形成された微細パターンを正確に銅電鋳品に転写することができる電鋳品製造方法を提供することである。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため請求項1記載の発明は、銅電鋳品を製造する電鋳品製造方法において、フォトポリマを用いて母型パターンが転写された反転型を製造する転写工程と、前記転写工程の後、前記反転型を用いて銅電鋳品を製造する電鋳工程とを含むことを特徴とする。
【0010】
請求項2記載の発明は、請求項1記載の電鋳品製造方法において、前記転写工程の前に前記母型パターンの表面にニッケルスパッタ膜を形成する工程を含むことを特徴とする。
【0011】
請求項3記載の発明は、請求項1又は2項記載の電鋳品製造方法において、前記電鋳工程の前に前記転写工程によって形成された前記反転型の表面に銅スパッタ膜を形成する工程を含むことを特徴とする。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
【0013】
図1はこの発明の一実施形態に係る電鋳品製造方法に使用される金型を説明するための図である。
【0014】
金型は以下のように製造される。
【0015】
(a)スタバックス(SUS420)金型材料を平面研削盤(図示せず)上にセットする。
【0016】
(b)必要とするV溝11の反転型のダイヤモンドバイトを平面研削盤にセットする。
【0017】
(c)5回に分けてスタバックス金型材料の研削を行ない、スタバックス金型材料の表面に深さ20μmのV溝11を形成する。
【0018】
スタバックス金型10の表面には機械加工によって複数のV溝11で構成される所定の機械加工パターン(母型パターン)が形成される。
【0019】
なお、ここでは機械加工によってスタバックス金型材料の表面にパターンを形成したが、この方法に限られるものではなく、例えばリソグラフィによってパターンを形成してもよい。
【0020】
図2(A)〜(D)はこの発明の一実施形態に係る電鋳品製造方法の転写工程を説明するための図である。
【0021】
転写工程は以下の順序で行なわれる。
【0022】
(a)剥離膜成膜
スタバックス金型10の表面に剥離膜としてのニッケルスパッタ膜20を成膜させる。ニッケルスパッタ膜20の厚さは300Åである(図2(A)参照)。
【0023】
(b)シラン処理
(1)γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(シランカップリング剤)20gをビーカー(図示せず)に秤量した後、スターラで攪拌しながら0.01規定塩酸4.57gを徐々に添加し加水分解を行なった。加水分解を終了した後、5℃に設定された恒温槽内に24時間保管し、加水分解物を得た。
【0024】
(2)スピナを所定条件で回転させ、透明なガラス基板30の表面に加水分解物を均一な厚さに塗布する。加水分解物を塗布した後、ガラス基板30を100℃に設定されたクリーンオーブン(図示せず)内に30分間入れてガラス基板30の表面とシランカップリング剤の加水分解物とを反応させた。
【0025】
(c)フォトポリマ塗布
(1)必要とされる膜厚に相当する重量のフォトポリマ40を秤量し、このフォトポリマ40をニッケルスパッタ膜20が成膜されたスタバックス金型10の表面に滴下する(図2(B)参照)。
【0026】
(2)シラン処理されたガラス基板30の表面をフォトポリマ40に押し付け、フォトポリマ40を薄く・均一に伸ばす。このとき、真空脱泡等によって泡を除去する。
【0027】
この結果、ガラス基板30とフォトポリマ40との接着性又は密着性が高まり、ガラス基板30とフォトポリマ40との剥離が生じないようになる。
【0028】
(d)露光
ガラス基板30の裏面から(矢印に示す方向から)フォトポリマ40を露光する(図2(C)参照)。露光にはUV光を使用した。露光エネルギーは1000mJである。
【0029】
(e)離型
露光後、くさび状治具(図示せず)を用いてフォトポリマパターンが形成されたガラス基板30を金型10から剥離する。その結果、機械加工パターンの反転型が製造される。このとき、ニッケルスパッタ膜20はスタバックス金型10の表面に付着したままである。
【0030】
(f)導電膜
フォトポリマパターンの表面に電鋳用の電極としての銅スパッタ膜50を成膜させる(図2(D)参照)。
【0031】
図3(A)〜(B)はこの発明の一実施形態に係る電鋳品製造方法の電鋳工程を説明するための図である。
【0032】
電鋳工程は以下の順序で行なわれる。
【0033】
(a)電鋳
フォトポリマパターンの表面に銅スパッタ膜50を成膜させたガラス基板30に水洗や脱脂等のめっき前処理を行なった後、硫酸銅を主成分とする銅めっき液浴(図示せず)中に入れ、銅電鋳を行う。電鋳条件である温度、電流密度及び時間はそれぞれ25℃、3A/dm2及び83hrである。その結果、ガラス基板30の表面に厚さ約3mmの銅電鋳品60が得られた(図3(A)参照)。
【0034】
(b)離型
電鋳後、くさび状治具(図示せず)を用いてフォトポリマパターンが形成されたガラス基板30から銅電鋳品60を剥離する。
【0035】
その結果、図1(A)に示す機械加工パターンと同じパターン形状を有する銅電鋳品60が得られた(図3(B)参照)。
【0036】
この実施形態によれば、電鋳工程でスタバックス金型10を硫酸銅を主成分とする銅めっき液浴中に入れないので、スタバックス金型10の腐食を防止することができ、スタバックス金型10に形成された微細パターンを正確に銅電鋳品60に転写することができる。すなわち、マイクロマシンやマイクロマシン用の部品等の小さく・薄い電鋳品に所望のパターンを正確に転写することができる。
【0037】
また、スタバックス金型10を原版として使用し、フォトポリマ40を用いて何度でも機械加工パターンの反転型を製造することができるので、スタバックス金型10の製造のコストを削減することができる。
【0038】
【発明の効果】
以上に説明したようにこの発明によれば、母型に形成された微細パターンを正確に銅電鋳品に転写することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1はこの発明の一実施形態に係る電鋳品製造方法に使用される金型を説明するための図である。
【図2】図2(A)〜(D)はこの発明の一実施形態に係る電鋳品製造方法の転写工程を説明するための図である。
【図3】図3(A)〜(B)はこの発明の一実施形態に係る電鋳品製造方法の電鋳工程を説明するための図である。
【符号の説明】
10 スタバックス金型
20 ニッケルスパッタ膜
40 フォトポリマ
50 銅スパッタ膜
60 銅電鋳品
【発明の属する技術分野】
この発明は銅電鋳品を製造する電鋳品製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、微細パターンが施された母型の表面に厚いめっき皮膜を形成し、その皮膜を電鋳品として母型から剥離する電鋳品製造方法がある。この電鋳品はそのまま構造体として利用されたり、樹脂成型の金型として利用されたりする。
【0003】
一般に、電鋳に使用されるめっき液にはニッケル、銅、鉄、銀、金、錫、コバルト、亜鉛等が用いられる。特に、ニッケル及び銅が多く用いられている。
【0004】
【特許文献】
特開2000−230849号公報
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、銅電鋳には硫酸銅と硫酸とを主成分とするめっき液が多く使用されている。
【0006】
しかし、上記めっき液は強酸であるため、鉄等の金属で形成された母型がめっき液によって腐食される。したがって、母型に形成された微細パターンを正確に銅電鋳品に転写できないという問題がある。
【0007】
特に、いわゆるマイクロマシンやマイクロマシン用の部品等の小さく・薄い電鋳品に所望のパターンを正確に転写させることは難しい。
【0008】
この発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、その課題は母型に形成された微細パターンを正確に銅電鋳品に転写することができる電鋳品製造方法を提供することである。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため請求項1記載の発明は、銅電鋳品を製造する電鋳品製造方法において、フォトポリマを用いて母型パターンが転写された反転型を製造する転写工程と、前記転写工程の後、前記反転型を用いて銅電鋳品を製造する電鋳工程とを含むことを特徴とする。
【0010】
請求項2記載の発明は、請求項1記載の電鋳品製造方法において、前記転写工程の前に前記母型パターンの表面にニッケルスパッタ膜を形成する工程を含むことを特徴とする。
【0011】
請求項3記載の発明は、請求項1又は2項記載の電鋳品製造方法において、前記電鋳工程の前に前記転写工程によって形成された前記反転型の表面に銅スパッタ膜を形成する工程を含むことを特徴とする。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
【0013】
図1はこの発明の一実施形態に係る電鋳品製造方法に使用される金型を説明するための図である。
【0014】
金型は以下のように製造される。
【0015】
(a)スタバックス(SUS420)金型材料を平面研削盤(図示せず)上にセットする。
【0016】
(b)必要とするV溝11の反転型のダイヤモンドバイトを平面研削盤にセットする。
【0017】
(c)5回に分けてスタバックス金型材料の研削を行ない、スタバックス金型材料の表面に深さ20μmのV溝11を形成する。
【0018】
スタバックス金型10の表面には機械加工によって複数のV溝11で構成される所定の機械加工パターン(母型パターン)が形成される。
【0019】
なお、ここでは機械加工によってスタバックス金型材料の表面にパターンを形成したが、この方法に限られるものではなく、例えばリソグラフィによってパターンを形成してもよい。
【0020】
図2(A)〜(D)はこの発明の一実施形態に係る電鋳品製造方法の転写工程を説明するための図である。
【0021】
転写工程は以下の順序で行なわれる。
【0022】
(a)剥離膜成膜
スタバックス金型10の表面に剥離膜としてのニッケルスパッタ膜20を成膜させる。ニッケルスパッタ膜20の厚さは300Åである(図2(A)参照)。
【0023】
(b)シラン処理
(1)γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(シランカップリング剤)20gをビーカー(図示せず)に秤量した後、スターラで攪拌しながら0.01規定塩酸4.57gを徐々に添加し加水分解を行なった。加水分解を終了した後、5℃に設定された恒温槽内に24時間保管し、加水分解物を得た。
【0024】
(2)スピナを所定条件で回転させ、透明なガラス基板30の表面に加水分解物を均一な厚さに塗布する。加水分解物を塗布した後、ガラス基板30を100℃に設定されたクリーンオーブン(図示せず)内に30分間入れてガラス基板30の表面とシランカップリング剤の加水分解物とを反応させた。
【0025】
(c)フォトポリマ塗布
(1)必要とされる膜厚に相当する重量のフォトポリマ40を秤量し、このフォトポリマ40をニッケルスパッタ膜20が成膜されたスタバックス金型10の表面に滴下する(図2(B)参照)。
【0026】
(2)シラン処理されたガラス基板30の表面をフォトポリマ40に押し付け、フォトポリマ40を薄く・均一に伸ばす。このとき、真空脱泡等によって泡を除去する。
【0027】
この結果、ガラス基板30とフォトポリマ40との接着性又は密着性が高まり、ガラス基板30とフォトポリマ40との剥離が生じないようになる。
【0028】
(d)露光
ガラス基板30の裏面から(矢印に示す方向から)フォトポリマ40を露光する(図2(C)参照)。露光にはUV光を使用した。露光エネルギーは1000mJである。
【0029】
(e)離型
露光後、くさび状治具(図示せず)を用いてフォトポリマパターンが形成されたガラス基板30を金型10から剥離する。その結果、機械加工パターンの反転型が製造される。このとき、ニッケルスパッタ膜20はスタバックス金型10の表面に付着したままである。
【0030】
(f)導電膜
フォトポリマパターンの表面に電鋳用の電極としての銅スパッタ膜50を成膜させる(図2(D)参照)。
【0031】
図3(A)〜(B)はこの発明の一実施形態に係る電鋳品製造方法の電鋳工程を説明するための図である。
【0032】
電鋳工程は以下の順序で行なわれる。
【0033】
(a)電鋳
フォトポリマパターンの表面に銅スパッタ膜50を成膜させたガラス基板30に水洗や脱脂等のめっき前処理を行なった後、硫酸銅を主成分とする銅めっき液浴(図示せず)中に入れ、銅電鋳を行う。電鋳条件である温度、電流密度及び時間はそれぞれ25℃、3A/dm2及び83hrである。その結果、ガラス基板30の表面に厚さ約3mmの銅電鋳品60が得られた(図3(A)参照)。
【0034】
(b)離型
電鋳後、くさび状治具(図示せず)を用いてフォトポリマパターンが形成されたガラス基板30から銅電鋳品60を剥離する。
【0035】
その結果、図1(A)に示す機械加工パターンと同じパターン形状を有する銅電鋳品60が得られた(図3(B)参照)。
【0036】
この実施形態によれば、電鋳工程でスタバックス金型10を硫酸銅を主成分とする銅めっき液浴中に入れないので、スタバックス金型10の腐食を防止することができ、スタバックス金型10に形成された微細パターンを正確に銅電鋳品60に転写することができる。すなわち、マイクロマシンやマイクロマシン用の部品等の小さく・薄い電鋳品に所望のパターンを正確に転写することができる。
【0037】
また、スタバックス金型10を原版として使用し、フォトポリマ40を用いて何度でも機械加工パターンの反転型を製造することができるので、スタバックス金型10の製造のコストを削減することができる。
【0038】
【発明の効果】
以上に説明したようにこの発明によれば、母型に形成された微細パターンを正確に銅電鋳品に転写することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1はこの発明の一実施形態に係る電鋳品製造方法に使用される金型を説明するための図である。
【図2】図2(A)〜(D)はこの発明の一実施形態に係る電鋳品製造方法の転写工程を説明するための図である。
【図3】図3(A)〜(B)はこの発明の一実施形態に係る電鋳品製造方法の電鋳工程を説明するための図である。
【符号の説明】
10 スタバックス金型
20 ニッケルスパッタ膜
40 フォトポリマ
50 銅スパッタ膜
60 銅電鋳品
Claims (3)
- 銅電鋳品を製造する電鋳品製造方法において、
フォトポリマを用いて母型パターンが転写された反転型を製造する転写工程と、
前記転写工程の後、前記反転型を用いて銅電鋳品を製造する電鋳工程と
を含むことを特徴とする電鋳品製造方法。 - 前記転写工程の前に前記母型パターンの表面にニッケルスパッタ膜を形成する工程を含むことを特徴とする請求項1記載の電鋳品製造方法。
- 前記電鋳工程の前に前記転写工程によって形成された前記反転型の表面に銅スパッタ膜を形成する工程を含むことを特徴とする請求項1又は2記載の電鋳品製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003180725A JP2005015833A (ja) | 2003-06-25 | 2003-06-25 | 電鋳品製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003180725A JP2005015833A (ja) | 2003-06-25 | 2003-06-25 | 電鋳品製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005015833A true JP2005015833A (ja) | 2005-01-20 |
Family
ID=34181629
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003180725A Withdrawn JP2005015833A (ja) | 2003-06-25 | 2003-06-25 | 電鋳品製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2005015833A (ja) |
-
2003
- 2003-06-25 JP JP2003180725A patent/JP2005015833A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20060905 |