JP2004537060A - 直接パターンライター - Google Patents
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Abstract
【選択図】図27
Description
【0001】
本出願は、2001年1月4日に出願された米国特許仮出願番号60/259,587号の利益を請求する。その内容は、この参照によりその全体を本出願に組み込まれる。
本発明は、概して、パルス化光ビームを使用してパターンを書き込むための装置に係り、特にモードロック式のレーザーを使用する装置に関する。本発明の重要な用途は、印刷回路基板を製造することにある。
【背景技術】
【0002】
例えば印刷回路基板(PCB)等の用途において、銅被覆基板上のフォトレジストコーティング上にパターンを露光させるためレーザーを使用することができる。ドイツのLISのDP100等の、イスラエルのヤブネのオルボテック社から販売されている、典型的な露光システムでは、CWUVレーザービームがPCB表面に亘って走査され、その強度は、発生されるべきラスターパターンに従って変調される。変調装置は、制御回路により供給された電子ピクセルデータを受け取る。現代のPCB製造では、高いデータレートで製造速度を増加させるように操作するのが望ましい。実際のデータレートは、変調レート及び/又は利用可能なレーザーパワーにより制限される。
【0003】
UV感光フォトレジストを利用するPCBの製造では、CWアルゴンイオンレーザーがしばしば使用される。それらは、UV光源として幅広く利用されているが、ガスレーザーである、アルゴンレーザーは、例えば、それらは複雑で、操作上神経を使い、維持能力が低く及び/又は高価であるといった幾つかの欠点を有する。
【0004】
UVレーザー放射を生成するための様々な方法が知られている。例えば、そのような方法の一つは、モードロックで高い繰り返しレートのレーザー光パルスを発生するため、IRソリッドステートレーザーオッシレーターを利用する。IRモードロック式レーザー光の波長は、モードロック式IR光パルスを非線形媒体を通して通過させることにより、UVに転化される。しかし、高いデータレートでフォトレジストを露光するためそのようなレーザーの利用は、非常に非線形的な、周波数変換プロセスに固有のパラドックスにより厳しく制限される。周波数変換は、パワーが増加するにつれてより効率的になる。
【0005】
モードロックは、高効率の周波数変換を促進するため必要とされるとき、各々が高いピークパワーを有するレーザーパルスを得る上で有用であるが、例えば上昇したデータレートを達成するためレーザーパルスの繰り返しレートが増加するとき、個々のパルスにおけるピークパワーは減少し、その結果生成された平均UVパワーは急激に低下する。かくして、与えられた平均IRパワーに対して、周波数変換後の平均ピークパワーは、レーザーパルスの繰り返しレートが増加するにつれて低下し、UV発生効率の減少へと導く。
【0006】
実際には、ラスターパターンを書き込むためパルス化されたレーザーを使用することは、様々な理由のため問題を含みものとなる。モードロックされたレーザーのパルス繰り返しレートに厳密に等しいレートでデータを変調することは、高速パルス及びデータ同期化における困難さに起因して問題がある。逆に、モードロックされたレーザーのパルス繰り返しレートとは異なるレートでデータを変調することは、書き込まれ即ち露光されるものと考えられるピクセルを書き込み又は露光するため必要となる厳密な時刻ではパルスが利用可能ではなくなるタイミングエラーに起因して問題がある。この後者の問題は、ピクセルを書き込むためのデータレートが、例えばモードロックされたレーザー等の露光放射源のパルスレートに達するか又はそれを超えるとき、特に広まる。
【0007】
加えて、スケールから反射された光のフィードバックがデータフローを制御するため使用される、例えばDP−100システム等のシステムでは、スケールによってのみ変調された、「クリーン」な信号は、当該信号がデータを制御するため直接使用されたにしろ、又は、DP−100システムにおけるように、それが入力をロック式(PLL)パルス発生器に提供したときのいずれかにしても、必要となるものと考えられた。
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明の幾つかの実施例の一つの幅広い態様は、情報を転送するため、特に感光表面を露光するため、例えばパルス化されたUVレーザービーム等の第1の光ビームの変調の使用を取り扱う。本発明の幾つかの実施例では、表面は、ラスターパターンで露光され、情報変調が、光パルスのパルス繰り返しレートと非同期となる。本発明の幾つかの実施例では、第1の光ビームはパルス化されない。
【0009】
本発明の幾つかの実施例では、第2のパルス化ビームは、第1の光ビームと共に表面を走査する。第2のビームの位置は、決定され、第1の光ビームの変調を制御するため使用される。
【0010】
本発明の幾つかの実施例では、第1及び第2のビームが高い繰り返しレートでパルス化される。ここで、高いパルス繰り返しレートの光ビームは、例えば、、ソリッドステートレーザーダイオードでポンピングされたモードロックのレーザーにより提供され、「準CW」と称される。高いパルス繰り返しレートのモードロックのレーザー放射等による、非同期に変調するパルス化放射は、「準CW変調」と称される。
【0011】
準CW変調システムを用いる本発明の幾つかの実施例では、パルス繰り返しレートは、変調データレートの増分毎に一つのレーザーパルスより小さくなり得る。他方では、それは、変調データレートよりも高くなり得る。
【0012】
本発明の一つの幅広い態様は、走査経路に沿った複数の位置で、走査されたパルス化レーザービームの存在を決定するためのシステム及び方法に関する。標識形成されたスケールが設けられ、光学式クロックが、当該スケールから反射されたものとして発生される。本発明の幾つかの実施例では、パルス化ビームの瞬間的位置は、マーキングの間の距離よりも高い精度に決定される。加えて、第2のレーザービームを変調するためのデータは、第1のビームの反射に応答して制御することができる。
【0013】
本発明の別の幅広い態様は、走査経路に沿って走査されるとき、複数の位置で、パルス化されたデータ変調式の走査パルス化レーザービームの存在を決定し、次に、ビームの決定された位置に少なくとも部分的に応答してデータを変調するためのシステム及び方法に関する。ビームの存在の決定は、走査経路の少なくとも3つの位置でなされるが、そのような決定は、任意数の位置でなすことができる。
【0014】
本発明の幾つかの実施例によれば、システムは、パルス化UVレーザー光源と、UVレーザー光のパルス繰り返しレートを増倍するパルスレート増倍装置と、を備える。そのようなパルスレート増倍装置は、しかし、絶対に必要というわけではない。一つの態様では、本発明の幾つかの実施例は、増倍より前に、レーザーのパルス繰り返しレートより高いデータレートを可能にする。加えて、又は、その代わりに、UVレーザー光の一部分は、準CWで変調されるのに適したデータレートで独立に空間的に変調され、各部分を変調するため使用されるデータレートは、全体に亘るデータレートよりも低い。
【0015】
本発明の幾つかの実施例では、例えば、直接画像形成PCBのためのレーザー書き込みシステムが設けられる。このシステムは、比較的長い波長及び低い繰り返しレートで、高いパワーのソリッドステートパルス化レーザー、例えば、オプションで少なくとも1つの1Wの平均パワーを有する、約80MHzで作動するIRモードロック式レーザーオッシレーターを利用する。本システムは、このレーザー光を、例えば、非線形光学媒体を使用して、UVに変換する。当該媒体は、レーザー空洞部の外側に配置されていてもよい。パルス化UV光は、振幅変調され、パターンを形成するためUV感光レジストで被覆されたPCBを走査し、露光するように使用される。
【0016】
本発明の幾つかの実施例では、UV光は、上述されたように準CWのパルス列を含み、当該技術分野で知られている方法は、該UV光を変調し、それを利用して露光されるべき領域を走査するため使用される。
【0017】
かくして、本発明の一例としての実施例によれば、表面に亘ってビームを走査するための装置は、表面に亘ってパルス化レーザービームを走査するスキャナーと、該表面に亘る複数の位置で該パルス化レーザビームからの入力を受け取り、該表面に沿ったパルス化レーザービームの位置を示す位置表示を出力する、位置表示手段と、を含んでいる。
【0018】
本発明の一実施例では、表面は、変調されたパルス化レーザービームが該表面から反射されるように、複数の間隔を隔てたマーキングを備えている。
本発明の一実施例では、位置表示手段は、検出器を備えており、該検出器は、前記変調されたパルス化レーザービームを受け取り、変調された信号を提供する。
【0019】
本発明の一実施例では、前記検出器の応答時間は、前記パルスのパルスレートよりも緩慢であり、該検出器が、該パルスを大方区別しない信号を出力するようにしている。
本発明の一実施例では、装置は、前記位置表示手段に応答してデータ保持レーザービームを変調するデータモジュレータを備えている。
【0020】
本発明の一実施例では、装置は、クロック信号を発生するクロック発生手段と、前記位置表示を受け取り、前記位置表示に応答して前記クロック発生手段を制御する、コントローラと、を備えている。本発明の一実施例では、本装置は、前記クロック信号に応答して、データ保持レーザービームを変調するデータモジュレータを備えている。
【0021】
かくして、本発明の一例としての実施例によれば、表面に亘ってビームを走査するための装置が更に提供される。本装置は、第1のビームと、前記第1のビームをその入力部分で受け取り、変調信号に基づいて、変調されたビームをその出力部分で生成する、モジュレータと、パルス化された第2のビームと、前記変調されたビーム及び前記第2のビームを受け取り、前記表面に亘る第1のビーム経路で、該変調されたビームを走査し、該第1のビーム経路に略平行な第2のビーム経路に沿って前記第2のビームを走査する、スキャナーと、前記第2のビームを検出し、前記第2のビーム経路上にあり得る少なくとも1つの位置で前記第2のビームの検出位置を周期的に示す、センサーと、前記第2のビーム経路における前記第2のビームの検出位置に少なくとも部分的に応答して、前記モジュレータに前記変調信号を提供する、コントローラと、を含む。
【0022】
本発明の一実施例では、変調信号は、所定のデータレートで制御され、前記第1及び第2のビームは、前記データレートよりも実質的に高いレートでパルス化されている。その代替例では、変調信号は、所定のデータレートで制御され、前記第1及び第2のビームは、前記データレートよりも実質的に低いレートでパルス化されている。更なる代替例では、変調信号は、所定のデータレートで制御され、前記第1及び第2のビームは、前記データレートよりも実質的に同じレートでパルス化されている。
【0023】
オプションで、第1及び第2のビームは実質的に同じ波長を有する。
オプションで、前記第1のビームは、前記第2のビームの波長と異なる波長でエネルギーを備える。
【0024】
本発明の一実施例では、本装置は、標識化スケールを備えており、前記第2のビームが、該標識化スケールに当たり該スケールから反射されて、変調された反射パルス化ビームを形成する。オプションで、該第2のビームは、その表面に所定の角度をなして前記スケール上に当たり、前記変調された反射パルス化ビームは、所定軸に沿って反射され、該軸は、前記第2のパルス化ビームが前記スケール上に沿って当たるところの軸とは異なっている。オプションで、前記センサーは検出器を備え、該検出器は、前記変調された反射パルス化ビームを受け取り、そこから変調信号を発生し、前記コントローラは、前記変調信号に調整されたタイミングに基づいて前記変調を提供する。
【0025】
本発明の一実施例では、本コントローラは、前記変調された信号を受け取り、且つ、該変調信号の周波数に制御可能に関連付けられたクロック周波数を有するタイミングクロックを発生する、クロック発生器を備えている。オプションで、当該クロック発生器は、中間クロックと、これと同じ周波数で逆位相を有する逆中間クロックと、を発生する第1の発生器と、前記中間クロック及び前記逆中間クロックを各々受け取る2つの入力部と、該2つの入力部の一方におけるクロックが選択的に切り替えられるところのタイミングクロック出力部と、を有し、該出力部における該タイミングクロックの平均周波数が、前記選択的な切り替えにより制御されるようにした、スイッチング回路と、を備える。オプションで、前記スイッチング回路は、クロック訂正情報に応答して、前記入力部を前記出力部に切り替える。
【0026】
本発明の一実施例では、本装置は、格納された変調情報を含むデータ格納部を備えており、該データ格納部は、前記安定クロックのタイミングに基づいて、前記第1のビームを変調するため前記モジュレータに前記情報をパスする。
【0027】
本発明の一実施例では、前記変調された光ビームは、第1の方向に前記表面に亘って走査し、該表面は、該表面がラスター走査により照明されるように、走査方向に垂直な方向に移動する。
【0028】
オプションで、前記表面は、感光性フォトレジストを含んでいる。
オプションで、前記第1のビーム及び前記第2のビームは、レーザービームを各々含んでいる。
【0029】
オプションで、前記変調された光ビームの変調は、前記第2のパルス化ビームのパルスと非同期である。
本発明の一例としての実施例によれば、基板上にパターンを記録するためのシステムが提供される。本システムは、パルス化レーザービームを出力するパルス化レーザーと、前記パルス化レーザービームを受け取り、ピクセル画成信号に応答して、変調されたパルス化ビームを生成するモジュレータと、変調されたパルス化ビームを受け取り、前記基板の表面に亘って該ビームを走査して前記表面上のピクセルにより画成されたパターンを記録する、スキャナーと、を含み、前記ピクセル画成信号の立ち上がり時間は、前記ピクセルのピクセル周期よりも少ない。
【0030】
本発明の一例としての実施例によれば、電子回路を製造するための方法が更に提供される。本方法は、位置変調パルス化レーザービームを提供するため、標識形成表面に亘ってパルス化レーザービームを走査し、前記位置変調パルス化レーザービームを検出し、該検出に少なくとも部分的に応答して、前記標識形成表面上の前記パルス化レーザービームの位置を示す、位置表示を出力し、電子回路基板上に形成された感光表面に亘ってデータ変調レーザービームを走査し、所定の電子回路パターンに従って、前記感光表面を露光するため、前記位置表示に応答して、前記データ変調レーザービームを変調する、各工程を含む。
【0031】
本発明の一例としての実施例によれば、電子回路を製造するための装置が更に提供される。本装置は、位置変調パルス化レーザービームを提供するため、標識形成表面に亘ってパルス化レーザービームを走査すると共に、電子回路基板上に形成された感光表面に亘ってデータ変調レーザービームを走査する、スキャナーと、前記位置変調パルス化レーザービームを検出し、前記標識形成表面上の前記パルス化レーザービームの位置を示す位置表示を出力するように作動するビーム位置決定器と、前記感光表面上に所定のパターンを記録するため、前記位置表示信号に少なくとも部分的に応答して、前記データ変調レーザービームを変調する、モジュレータと、を含んでいる。
【実施例】
【0032】
本発明の一例としての実施例を、添付図面を参照して、次の記載において説明する。これらの図面では、同一及び類似の構成物は、1つ以上の図面で現れるその構成要素又は部分は、一般に、それらが現れている図面において同じか又は類似の参照番号が付与されている。図面に示された構成要素及び特徴の寸法は、主要には与えられたものの利便性及び明瞭さのため選ばれており、必ずしもスケール通りではない。
【0033】
以下に説明された本発明の実施例は、パルス化されたレーザーを使用して基板の感光表面上にパターンを露光するためのシステム及び方法に関する。そのような感光表面は、製造中に印刷回路基板上に見出され、パターンは、基板上に形成されるべき電子回路の一部分である。例えば、連続波レーザー光を使用した基板の感光表面上にパターンを露光するための市販されているシステムの一つは、イスラエルのヤブネのオーボテック社から販売されているDP−100直接画像形成システムである。マスクの使用無しに、感光基板上に画像を直接露光するためのシステムは、一般に直接画像形成システムと称されている。
【0034】
レーザー技術の近年の進歩は、直接画像システム中のパルス化ソリッドステートレーザーの使用を商業上実行可能としている。直接画像形成システムの一例としての実施例の次に書かれた説明は、パルス化されたレーザー直接画像形成システムで用いられる技術、並びに、それが直接画像形成システムで走査されるとき、パルス化されたレーザービームの位置を決定するため用いられる技術及びサブシステムの説明の一般的な背景を含んでいる。一般的な背景議論は、以下に説明され請求された本発明の範囲を制限する任意の仕方で解釈されるべきではないが、任意数の他の可能な他の適切な方法論の中で、適切な方法論の例の表現としてのみ考えられるべきである。以下に説明され請求された本発明を実行するため、任意数の他の可能な適切な方法論の中で、適切な方法論の例の表現としてのみ考えられるべきである。
【0035】
PCB上でUV感光性フォトレジスト層を露光するためアルゴンイオンレーザーを使用する欠点を克服する一つの方法は、「発明の背景」のところで説明したように、IR又は他の比較的長い波長のレーザー、例えば、モードロックされたIR出力を提供するソリッドステートレーザーで開始し、次に、UV放射が得られるまで、その光学的周波数(即ち波長)を二倍又は他のように変換することである。光学的周波数におけるこの増加は、少なくとも1度、光の光学的周波数を二倍にすることにより達成される。
【0036】
ソリッドステートレーザーは、ポンピング及び光学的周波数変換により充分に高いパワーでモードロックされたUVレーザーを得ることを容易にする、比較的効率的であり、信頼性の高いものである。
【0037】
光学的周波数変換は、その効率が、増大する初期レーザーパワーと共に増加する非線形プロセスであるので、UVレーザー放射は、例えば、高パワーIR又は赤色レーザーにより生成されたレーザービームの経路に配置された非線形結晶を使用した、高調波発生により得られる。市販されている周波数変換レーザー出力UVレーザー光は、スペクトラフィジックスレーザー(Spectra-Physics Lasers)から販売されている「VANGUARD」(登録商標)レーザーである。パルス化されたUVレーザー光を発生するための一つの代替例は、スペクトラフィジックスのミレニア(Millenia)レーザー等のレーザーによりポンピングされた、スペクトラフィジックスレーザーから販売されているツナミモードロック式Ti:サファイアレーザーである。「VANGUARD」(登録商標)レーザーのパルス繰り返しレートは、80MHzのオーダーにあり、高々、PCB製造のため高速度書き込みで有用となるデータレートと同じ範囲にあるが、パルス/データ同期化の上述した問題は、それを使用することに関して問題を孕むものとする。その上、モードロックされたレーザーにより発生されるパルスの自然の繰り返しレートは、情報がパルスレートと同期して変調される、情報の変調の従来方法を使用した可能なデータレートに制限を設定する。
【0038】
かくして、本発明の幾つかの実施例によれば、パルス繰り返しレートは、本発明の実施例に従って構成されたシステムを使用することにより、モードロックされたレーザーにより発生された自然のパルス繰り返しレートから更に増大される。オプションで、パルスレート増倍システムは、レーザービームの波長が転換された後、レーザーハウジングの外側で作動するようにしてもよい。かくして、幾つかの実施例によれば、レーザーパルスがなおも比較的低いパルス繰り返しレートにあり、該パルスレートに比べて個々のパルス当たりで高いピークパワーにあるとき、波長の変換が実行され、パルスレートの増倍後のピークパワーが実行される。本発明の一例としての実施例によれば、このようにしてパルスレートの増倍後に達成されたパルス繰り返しレートは、情報の高いデータレートのストリームに対して、このようにして発生されたパルス化レーザービームの準CW変調を可能とする上で充分に高い。
【0039】
かくして、例えば、パルスレートの増倍器を用いた用途において、パルス繰り返しレートの増倍は、レーザーが比較的高い効率でUVレーザー光を発生することを可能とするように、レーザーの作動条件とは干渉しない高パワーUVレーザーの外側に、オプションでその下流側にある装置により達成される。
【0040】
本発明の他の幾つかの実施例によれば、単一の入力レーザービームが設けられ、該ビームの空間的部分は、同時に且つ独立に、データチャンネルのアレイにおいてデータチャンネルにより各々情報変調される。各々のチャンネルは、全ビームに対して全体的なデータ増加レートが得られる間に、入力レーザービームの空間的部分の準CW変調に適した減少データレートを有する。
【0041】
ここで、図1を参照すると、フォトレジスト上に直接書き込みする際に使用され、本発明の実施例に従って構成された、パルス化レーザー源と、パルス繰り返しレート増倍器とを用いる、一例としてのUVレーザー露光システム10の基本的作動原理が概略的に表されている。高いパワーパルス化レーザー14から得られたパルス化UVレーザービーム12は、例えば、レーザーキャビティの内部又は外部にある非線形結晶等の波長コンバーター16を通過しても又は通過しなくてもよく、パルス繰り返ししレートf0を有して、初期のパルス化ビームをN個のビーム20へと分割するビーム分割装置18に入射する。N個の分割ビームは、結合されたビーム30を形成するためビーム結合器26により順次結合されるN個の時間遅延パルス化ビーム24を形成するように遅延光学回路22により各々遅延される。
【0042】
結合されたビーム30は、ビーム30又はビームの部分34をデータ変調するように作動する、モジュレータ32を通過させられる。一つの可能なモジュレータは、図6を参照してより詳細に後述される。結合されたビーム30は、例えばPCB等の基板40上のフォトレジスト上にパターンを露光するため、単一ターゲット36又は複数のターゲット38に更に指向される。その代わりに、N個の時間遅延ビーム24の各々が、複数のモジュレータ(例えば、図6に示されるように)により情報変調され、N個の時間遅延ビーム24の各々の再結合無しに、基板40上のターゲット36及び38を露光するように相互に指向されることも考えられる。
【0043】
nΔtに等しい時間遅延Tnが、それらの遅延光学回路22により、N個のビーム20(ここで、nは、0からN−1までのビームの番号インデックスである)の各々に課されるとき、そのパルスがΔtだけ時間的にシフトされる、一連の時間遅延パルス化ビーム24が得られる。時間遅延パルス化ビーム24は、図1に示された光学構成が使用されたとき、空間的にも分離されている。一連の時間遅延パルス化ビーム24のビームのパルス繰り返しレートは、ビーム12のパルス繰り返しレートと同じであるが、時間遅延パルス化ビームの間のパルスの時間的オフセットは、遅延Tn及び遅延ライン数Nの関数である。
【0044】
これらの遅延ビームが満たさなければならない唯一の一般的条件は、
N*Δt<1/f0 (1)
となる。ここで、Nは、ビーム20の数であり、f0はレーザー14のパルス繰り返しレートである。時間遅延パルス化ビーム24におけるN番目のパルス((N−1)*Δtの遅延)の端部では、ビーム12内の引き続くパルスが、ビーム分割装置18に入り、分割遅延プロセスは、それ自体を繰り返す。NΔt=1/f0の場合には、時間遅延されたパルスビーム24のパルスにおけるN番目のパルスは、ビーム12内の引き続くパルスに関連した第1のパルスのΔt前に生じることになる。遅延Tnは、(1)式の条件が満たされる限り、周期t0=1/f0に亘って変動してもよく或いは一定値を保っていてもよい。一般には、一方のシリーズのパルスのN番目のパルスと、次のシリーズのパルスの第1のパルスとの間の時間が厳密にΔtに等しくあるべきという必要は必ずしもない。更には、パルス間の時間が厳密に同じであるべしという必要もなく、パルスが、少なくともPCB上の書き込みのため正確に同じエネルギーであるべしという必要性もない。時間遅延されたパルス化ビーム24は、ビーム結合装置26に入り、該装置において、個々の時間遅延されたパルス化ビーム24は、所定の枠組に従って結合される。
【0045】
理想的には、N個のパルスの全てが、ほぼ同じエネルギーで、等間隔に並ぶべきである。この状態は、必ずしも必要とはされないが、レーザーパワーの最小の変動を生じさせるので、一般には好ましい。本発明の幾つかの実施例では、エネルギーの変動は、複数のターゲット38を含むパターンを露光するようにビーム30を走査することにより補償される。この露光では、結合されたビーム30の別々の部分34が、一列のターゲットを各々露光する。複数のターゲット38における各々のターゲットは、WO00/02424に示され説明された方法に従って連続的走査で、結合されたビーム30を部分的に重ね合わせることにより、少なくとも2倍露光される。この公報の開示内容は、これに言及したことにより、本明細書に組み込まれる。
【0046】
次のセクションは、(a)N個のビーム20を発生するため入力ビーム12を分割し、(b)時間遅延されたパルスビーム24を発生するためN個のビームのうち少なくとも幾つかにおけるパルスを遅延させ、(c)時間遅延されたパルス化ビーム24を再結合し、(d)結合されたビーム30を再指向する、本発明の実施例に全てに係る、各工程の詳細を説明している。
【0047】
ここで、図2を参照すると、本発明の実施例に従って、構成され、作用する、パルス繰り返しレート増倍装置50が示されている。繰り返しレートの増倍装置50は、ビーム分割装置18と、遅延光学回路22と、図1に示されたビーム結合器26と、を備えていてもよく、それは、当該技術分野で周知されているように、例えば、高調波発生により、波長コンバーター16により、その光学的周波数が変換されるレーザー14の外部で用いられる。
【0048】
パルス化された光学的に平行にされたUVレーザービーム12は、第1の部分反射前方表面ミラー52に当たるように作られている。初期のパルス化ビーム12は、2つのビームに分割され、そのうちの一方は、透過され(54)、他方は、反射される(56)。透過されたビーム54は、100%反射ミラー58により反射される。その結果生じた後反射透過ビーム(54’)は、第2の部分反射前方表面ミラー60に向けられる。後反射透過ビーム54’は、ミラー60により、第2の透過ビーム(62)、及び、ミラー58に向けられた第2の反射ビーム(64)へと分割される。反射ビーム64は、ビーム64’を形成するためミラー58により再び反射される。ビーム54及び64は、図2に示されるように単一ミラー58上に当たるように、又は、その代わりに、2つの分離ミラー(明瞭さのため図2では図示せず)上に当たるように形成されてもよい。
【0049】
初期パルス化レーザーから、図1の時間遅延パルスビーム24を一緒に形成すると共に、一般に、図2に示された構成において等しいピークパワーのパルスを有する3つのビーム56、62及び64’を得るために、部分反射ミラー52及び60の反射率及び透過率は、理想的には、次の通りであるべきである。即ち、部分反射ミラー52は、反射率33、33%、透過率66、67%となり、部分反射ミラー60は、反射率及び透過率が共に50%となる。このようにして、ビーム56、62及び64’は、全て、パワーPf=Pi/3である。ここで、Pfは、各ビームの最終的パワーであり、Piは、ビーム12の初期パワーである。分割ビーム56、62及び64’の各々のパワーは、かくして、部分反射ミラー52及び60の反射率により制御される。この分割は、無損失ミラーに基づいている。ミラーに何らかの損失がある場合、反射率は、該損失に従って理想的に調整される。
【0050】
図2に示された実施例は、1/N、1/(N−1)、...1/2により各々与えられる反射率値を有する例えば52及び60等の一連の無損失部分反射ミラーを用いることによって、任意の所望数Nの等しいパワーの時間遅延パルス化ビームを形成するように、拡張することができる。
【0051】
図2に示された実施例では、長さAB、ACDE及びACDFGは、ビーム56、62及び64’の間で時間遅延を制御する。長さAB、ACDE及びACDFGは、距離66及び/又は68と、一方側のミラー52、58及び他方側のミラー58、60の間の角度とによって制御される。ビーム12の各初期パルスから3つの(時間的に)略等間隔のパルスを得るため、長さは、実質的に、ACDFG−ACDE=ACDE−AB=(t0/3)*cであるべきである。ここで、cは適切な媒体中の光速度である。当該距離は、ミラー52及び60の厚さ及び屈折率に従って変更されなければならないことは当業者には認められよう。
【0052】
図1において時間遅延パルス化ビーム24に対応する、ビーム56、62及び64’は、例えば、ビーム結合装置26(図示されたレンズは、一例としての実施例である)によって、結合ビーム30へと結合され、モジュレータ32上に当たり、該モジュレータは、情報をビーム30内に転調するように作用する。パルス化ビーム12に適用される「分割−結合−再指向」のサイクルの終わりでは、ビーム12における引き続くパルスが、ミラー52上のポイントAに到達し、全ビームの「分割−結合−再指向」のサイクルが繰り返される。ビーム12での各パルスを3つのパルスに分割することは、レーザー14の初期のパルス繰り返しレートを、パルスレート増倍装置50の作用によって3倍にすることを意味する。
【0053】
本発明の幾つかの実施例では、ミラー52、58及び60並びにビーム結合装置26は、スタンドアローン型のパルス繰り返しレート増倍装置を得るため、単一の機械光学式構造へと一体化されている。そのようなスタンドアローン型のユニットは、パルス化レーザー14へ改装され、異なるレーザーを異なる回数で作動させる可能性を持っている。レーザー14の外部で作動させることによって、パルスレート増倍装置50は、レーザーの適切な作動又はその効率にをかき乱さない。パルス繰り返しレート増倍装置50は、モードロック式レーザーで使用されたとき、レーザーの元々のパルス繰り返しレートの増倍を、その共鳴空洞長さ又は他の任意の特徴を変えること無く可能にする。
【0054】
ここで、図3を参照すると、パルス繰り返しレート増倍装置50に入力されたビーム12におけるタイミング及びピークパワーと、ビーム56、62及び64’中のタイミング及びピークパワーと、図2に示された実施例に係るモジュレーター32上に当たる結合ビーム30におけるパルスのタイミング及びピークパワーと、が示されているタイミンググラフが表されている。図3に示されるように、ビーム12は、パルス70を有し、その各々は、ピークパワーpiを持ち、t0だけ時間的にオフセットされている。ビーム56、62及び64’の各々は、それらの各々がピークパワーpi/3を持ち、時間t0だけ同じビームないで他のパルス72から時間的にオフセットされている。ビーム12中のパルス70から生じたビーム56、62及び64’の一つにおける各パルス72は、ビーム56、62及び64’のうち他の2つにおけるパルス70から生じた対応するパルス72に対し、夫々、t0/3又は2t0/3だけオフセットされている。ビーム56、62及び64’を結合したとき、結合ビーム30は、パルス74を持ち、その各々は、ピークパワーpi/3を有し、時間間隔t0/3だけ時間的に分離されている。かくして、結合ビーム30は、ビーム12中のパルス繰り返しレート及びデューティ比の3倍を有する。各パルス74のピークパワーが各パルス70の1/3であるが、同じ平均パワーが維持される。
【0055】
ここで、図4を参照すると、本発明の実施例に係る、図2のビーム結合変調領域80の詳細が示されている。各々のビーム56、62及び64’は、モジュレータ32の入力表面86上に結合ビーム30を形成するように、球状レンズ82(負のレンズ及び図示の正のレンズも使用することができる)と、円柱レンズ84とを組み合わせることにより、モジュレータ32の作動アパーチャ部分(図示せず)上に映像化される。結合されたビーム30は、モジュレータ32の作動アパーチャ部分と、他の特性とを合致させるように光学的に更に形成される必要があり得る。例えば、その光軸がレンズ84に対して90°なして配位された、光学円柱レンズ(図示せず)を、ビーム30をモジュレータ32において所望のスリット状形状へと形成するためビーム経路内に介設してもよい。この画像形成の枠組によれば、各々のビーム56、62及び64’は、一緒に結合ビーム30を形成し、モジュレータ32の活動アパーチャ部分を光学的に完全に照明し、モジュレータ32は、発生されるべきパターンに従って、データレートで結合ビーム30を変調する。モジュレータ32により変調された後、境界88及び90の内部の結合ビーム30の一部分は、図示を簡単にするため単一のレンズ94が示されている、画像形成光学系92により、多面体の回転ポリゴンミラー96(単一面及びその運動方向97が示されている)を介して、基板40上のターゲット36上に結像される。ポリゴンミラー96は、例えば、X軸に沿って、走査方向98でターゲット36の一ラインを走査するように回転し、例えば、フォトレジスト被覆PCB等の基板40は、Y軸に対応する略直交方向に運動する。
【0056】
本発明の幾つかの実施例によれば、結合ビーム30の一部分34は、互いに空間的に夫々オフセットされている多重ターゲット38(図1)を書き込むためモジュレータ32により同時に独立に変調される。
【0057】
図4において、モジュレータ32、レンズ94及びポリゴン96の間の相対的距離は単なる概略的な表現にしか過ぎないことは、当業者によって認められる。本発明の幾つかの実施例では、レンズ82、84は、図5に示されるように、モジュレータ32上でビーム56、62及び64’を結合する、プリズム99により置換されている。当該技術分野で知られているように、ビームを走査する他の方法も使用してもよい。
【0058】
図2のレンズ26の代わりに、3つの個々のレンズが、分割ビーム56、62及び64’に位置決めされている場合、これらのビームを、同時に、3つの異なるターゲット38に向かって方向付けることができる。更には、各ビームを、ラインを形成するため広げることができ、例えば当該技術分野で知られているような変調の枠組を、ビーム56、62及び64’の各々により形成されたラインにおいて個々のピクセルを変調するため設けてもよい。
【0059】
図2において距離66及び68を変更することによって、可変/異なる時間遅延を、ビーム62及び64’に適用することができる。一方の側のミラー52及び60と、他方の側のミラー58との間の角度を変えることにより(図2)、ビーム56、62及び64’の方向を制御することができる。加えて、入力ビーム12の直径を、光学形状を適合するように最適化してもよい。図示の角度は、非常に誇張されていることが理解されるべきである。一般に、モジュラー32上に当たるビームの間の角度は非常に小さい。
【0060】
ここで、図6を参照すると、本発明の幾つかの実施例に係る、入力レーザービームの分離部分を同時に独立にデータ変調することにより基板の表面上にラスターパターンを書き込むためのレーザー書き込みシステム100が概略的に示されている。
【0061】
本発明の幾つかの実施例によれば、パルス化レーザービーム12は、レーザーパルスのストリームを発生するように作動するモードロック式レーザー等のレーザー14により放射される。ビーム12は、適切な光学系(図示せず)により成形され、音響光学多チャンネルモジュレーター104の入力表面102上に映像化される。多チャンネルモジュレーター104は、レーザー波長の放射を伝達する、例えば結晶質クォーツ等の適切な材料から形成された、複数のレーザービーム変調チャンネル106をオプションで備えている。チャンネル106の各々は、所定のデータレートでデータを変調するため、データ発生器108〜116の一つにより独立に制御される。
【0062】
レーザービーム12は、チャンネル106の各々と連係されたモジュレーター媒体を通過する。該チャンネルの各々は、レーザービーム12の空間的に画定された部分118を独立に変調する。チャンネル106の各々の中央平面の画像は、回転式ポリゴン120を介して適切な光学系(図示せず)により投影され、次に、基板40上に複数のターゲット38のところに投影され、ピクセルをラスターパターンで形成する。ポリゴン120が矢印122の方向に回転するとき、チャンネル106の中央平面の画像が、基板40に亘って走査方向124に連続的に走査されると共に、データが所定のデータレートで変調される。かくして、音波がチャンネル106内に存在するとき、夫々のレーザービーム部分118は、当該部分が基板40のピクセル126等のターゲット38の一つを露光するように偏向される。音波がチャンネル106内に存在しないとき、夫々の部分118は、ターゲット、例えばピクセル128を露光しない。データレートは、モジュレータが、音波を発生したり発生を停止するためオンオフされる際のレートであり、音波は、一般に、非瞬間的な立ち上がり時間と、モジュレータ104内でチャンネルを形成する媒体を通過する移動時間と、を持っていると認められる。
【0063】
しかし、発生器108〜116の一つにより提供される信号の立ち上がり時間は、ターゲット38内で連続的に露光するため偏向されたレーザー部分により取られる時間よりも短い。典型的には、モジュレータ104のチャンネル106の各々の立ち上がり時間は、ピクセル周期よりも小さい。
【0064】
本発明の幾つかの実施例では、モジュレータ32は、例えば、アブラハム・グロスに付与された米国特許番号5,309,178号に、更にはWO00/02424で説明された作動原理を用いたモジュレータであってもよく、それら両方の公報は、これに触れたことにより本明細書に組み込まれたことになる。レーザービームを多チャンネル音響光学モジュレータ上に投影し、該レーザービームを走査してPCB上にパターンを発生するための光学系の一例としての構成もWO00/02424に説明されている。
【0065】
一般に、部分118は、少なくとも部分的に互いに重なり合っており、チャンネル106の合計数は、一般に、基板40上に同時に書き込まれるべきパターン中のピクセルラインの数に対応している。本発明の幾つかの実施例によれば、基板40上に投影されたときの走査方向124での各チャンネルの画像のサイズは、例えば、3ピクセルに等しい。
【0066】
なお、データが空間的領域に亘って分割されている限り、様々に空間的に画定された部分118を同時に変調するように作動する多チャンネルモジュレータを用いてレーザービーム12を変調することにより、各チャンネル106に提供されるデータレートを同時に減少させる間に、所望の全体データレートを得ることができる。かくして、モジュレータ32が合計N個のデータ変調チャンネルを持っており、Sが与えられた時間内でラスターパターンを書き込むのに要求される合計データレートであるとすると、レーザービーム12の各部分118は、S/Nであるデータレートで一時的に変調される。
【0067】
本発明の幾つかの一例としての実施例では、モジュレータ32は、少なくとも24個の隣接チャンネル106を備えている。データが、300〜1200メガピクセル/秒のデータレートで書き込まれるべきであると仮定すると、各チャンネルにより書き込まれた変調データは、12.5〜50メガピクセル/秒の間の範囲に亘っている。レーザー12が、約80MHzのパルスのストリームを発生すると仮定すると、各ピクセルは、各チャンネルでデータレートの関数として1.6〜6.4レーザーパルスの間にある平均値のパルスにより書き込まれる。
【0068】
かくして、ピクセルを露光するのに利用することができるパルスの平均数は、例えば、レーザー14及びモジュレータ32の間に、装置50(図2)等のパルス繰り返しレート増倍器を介設することにより、パルスの繰り返しレートを増加させることにより、増加させることができる。その代わりに、チャンネル辺りの有効データレートを減少させてもよい。チャンネル当たりのデータレートの減少は、全体データレートSを減少させるか、又は、チャンネル106の数を増加させるかのいずれかによって達成することができる。
【0069】
レーザービーム12の個々に変調された部分は、空間的に重なり合った部分又は別々の部分であってもよく、それらの各々は、モジュレータ32のチャンネル又は別のモジュレータにより独立に変調されることは、当業者により認められよう。
【0070】
データストリームにピクセルを書き込むため利用可能となるレーザー12中のパルス数が、ピクセル当たり1パルス以下となったとき、従来の変調方法を使用して準CW書き込みモードにより書き込まれるパターンは、タイミングエラーに、より敏感となる。書き込まれるピクセルを表すデータビットが、例えばデータ発生器108〜116の一つにより提供されるとき、レーザービーム12中のパルスにより、全体的に又は部分的に失われる場合に、タイミングエラーは発生する。タイミングエラーが生じたとき、書き込まれるべきターゲット36中のピクセルは、部分的にのみ書かれるか、或いは、全く書かれないことになる。
【0071】
ラスターパターンを書き込むためのシステムでは、タイミングエラーは、露光されるべき領域と、露光されるべきではない領域との間を延在するエッジに沿って特に現れることは当業者には明らかであろう。タイミングエラーを考慮しないことは、典型的には、エッジの位置における不規則性又はドリフトを結果として生じさせる。本発明の幾つかの実施例によれば、基板上にラスターパターンを露光するためのシステム100等のパルス化レーザービーム書き込みシステムは、連続的に形成されるパルスの間に、ピクセル列を露光するレーザービームの一部分のエッジ位置が、基板40上に露光されるべき所望位置に実質的に固定されるように構成される。エッジの固定は、例えば、モジュレータ32内の音波の速度及び走査速度を調整することにより、達成される。好ましくは、基板40上に画像形成光学系94により形成された音波の画像の速度、及び、モジュレータ32の変調部分の画像を走査する速度は、大きさがほぼ等しく(好ましくは、±25%)であるが、互いに反対方向に向いているのがよい。従って、音波の投影画像の相対方向及び相対速度、並びに、走査速度を調整することは、図8A乃至図16Gを参照してより詳細に図示され後述されるように、基板40上のモジュレータ32の音波の画像を有効に凍結する。
【0072】
エッジ固定の結果として、音波の画像位置は、基板上で実質的に「無運動」となり、連続するパルスにより露光される領域中のエッジの位置は、レーザーパルスから生じた光フラッシュの厳密なタイミングに鈍感となる。レーザー光部分118により形成されたスポットの空間的範囲が走査方向における単一のピクセル幅例えば走査方向に約3ピクセル幅より大きい限り、適切な数の露光パルスが、それが基板40に亘って掃くときビームにより当てられたあらゆるポイントで形成される。スポットのサイズが、走査方向に単一ピクセル幅よりも多きが、特徴エッジの位置決めは、ピクセルが各モジュレータチャンネル106で当てられたデータレート及び走査速度の関数である、当てられている要素のサイズにより最適に決定される。ピクセルレートに対するレーザーパルスの比率を更に減少させることは、走査方向にレーザービームのガウスエネルギー分布に起因した露光の不均等性から生じるパターンエラーにより究極的に制限される。
【0073】
前述した効果は、(a)モジュレータの音波の有限速度及び(b)レーザー照明器の連続的性質により引き起こされた発生パターンの空間的ぼけを最小にするため従来から使用されている、周知のスコフォニー(Scophony)走査効果に類似している。本発明の幾つかの実施例によれば、モジュレータチャンネル106の音波の有限速度は、データピクセルに対応する音波信号が、連続パルスにより形成された多重光フラッシュにより当てられることを可能にする。このように、基板40上に書き込まれるべき、エッジに対して固定された音波のエッジにより空間的に制限された、互いに部分的に重なり合った多重画像は、基板40上に投影される。なお、過去においてスコフォニー効果がCW照明に適用されたが、パルス化走査への応用は、新しいものと信じられている。そのような応用は、CW照明に充分画定されたエッジを書かせる必要はないが、パルス化照明及び特に準CWパルス化照明は、当該効果と関連して、鋭いエッジを形成することもできるという認識に基づいている。
【0074】
ここで、図7を参照すると、走査の軸に沿ったレーザービームパルスのエネルギー分布のグラフが示されている。本発明の幾つかの実施例によれば、走査124の方向におけるレーザービーム12のエネルギー分布130(図6)は、一般に、ガウス分布である。音響光学モジュレータチャンネル106内の音波の伝播の時間スケールに対して、及び、基板40上のピクセルを走査する時間に対して、モードロック式レーザーパルスは本質的に瞬間的である。各パルスは、レーザービーム12内のパルスの繰り返しレート及び当該繰り返しレートが上述したようにパルス繰り返しレート増倍器を使用して増倍されているか否かに依存して、3乃至50ナノ秒の範囲に亘る時間インターバルにより隔てられている。パルス内のターゲット38に分配されるエネルギーの量は、ターゲット38に達したレーザーエネルギー分布130の一区分の関数である。レーザーパルス中のレーザーエネルギー分布の一区分は、例えば音響光学モジュレータの音波の存在及び位置により、モジュレータ104により提供された変調により決定される。
【0075】
ここで、図8A乃至図8Gを参照すると、例えばビーム変調チャンネル106(図6)の一つに関連するような音響光学モジュレータの変調領域142において、その伝播の連続的な各段階での音波140が簡略的に示されている。図9A乃至図9Gを参照すると、本発明の実施例に従って露光されるべき、フォトレジスト被覆PCB等の基板40上のピクセル146、148、150及び152を含む一並びのピクセル144の露光における、図8A乃至図8Gに示された各段階に対応した様々な段階が簡単に示されている。並び144における陰影描画部分は、レーザービームパルスにより露光されたことを示している。図8A乃至図9Gは、タイミングエラーを最小にするため用いることができる一例としての方法を示しており、該方法は、準CW変調形態においてピクセルを露光するのに利用可能となるレーザーパルスの数が、ピクセル当たり平均2パルスより小さくなり、ピクセル当たり1パルス以下に達したか又はそれより小さくなったときでさえ利用可能である。図8A〜図9Gで示されるように、約7個の連続パルスのシーケンスが、平均ピクセル当たり約1.75パルスに対応する、4ピクセルの直線領域を露光するため用いられる。
【0076】
図8A乃至図8Gの各々は、レーザービームパルスの存在に対応する時間の瞬間で、ビーム部分118(図6)を変調するため使用される音波140の状態の瞬間的なスナップショットを表している。かくして、図8A乃至図8Gの各々は、レーザーパルス繰り返しレートに依存して、3〜50ナノ秒の間、一般には約12.5ナノ秒だけ時間的に隔てられている。本発明の幾つかの実施例では、変調活性領域142の幅は、基板40上に画像形成されるべき2〜5ピクセルの間、理想的には約3ピクセルに一致する(光学系による適切な縮小の後)。図示のように、音響光学モジュレータにおける音波140の発生は、瞬間的ではないが、音波140は、材料形成変調活性領域142の物理的特性の関数であるレートで、方向156に変調活性領域142に亘って伝播する。その上、図8A乃至図10Gに示されるように、音波のエッジは、変調活性領域142全体を充填すること無く、固定位置で書き込まれるべき特徴のエッジを形成するため、レーザービームパルスにより基板上に映像化することができる。典型的には、音波は、1ピクセルより小さい空間内で変調活性領域142を通って伝播し始めた後には、基板上にエッジを形成するため映像化するのに適している。ただし、幾つかの実施例では、1ピクセルより大きいスパンが要求され得る。
【0077】
ここで、図9A乃至図9Gを参照する。本発明の幾つかの実施例によれば、図示を簡単にするため、走査される領域の上方に示されている、変調活性領域142の画像158は、変調活性領域142における映像化波140の伝播の速度にほぼ等しく且つ方向が反対の速度で基板40に亘って走査される。理想的には、前進及び伝播の夫々のレートで±25%より小さい差異が存在する。走査方向124は、波140が伝播する方向156に反対である。図9A乃至図9Gに示されたように、レーザービーム160の一区分は、画像158に存在する。一区分160が、変調活性領域142内の波140の位置に対応し、各フラッシュのスポットのサイズは、変調活性領域142の波140の位置、場所の関数として時間的に変化する。図9A乃至図9Gに示される概略的表現では、画像158は、走査窓として役立ち、音波140は、該窓の全て又は一部分を入射レーザービームにより充填されることを可能にするアパーチャとして役立っている。ピクセル146〜152は、ほとんど瞬間的なレーザーパルスの連続により露光される。パルスにより露光される基板40の領域は、画像158の瞬間的な位置、及び、基板40に対する変調音波140の一区分160により決定される。エネルギー分布は、一区分160と、画像158に対して固定されているレーザービーム分布130との間の重なり合いにより決定される。
【0078】
図9A〜図9Gの表現は鋭いエッジが描かれている程度に概略的であることが当業者により認められよう。実際には、基板40に達する一区分160により形成されたスポットのサイズ及び分布は、当該システムの回折効果及び光学収差によって大いに規定されている。上述したようなボケが、前述した概略説明の一般性及び有効性から損なわれないように、基板40を形成する感光記録媒体の引き続く現像プロセスにおいて露光プロセスで生じるエッジぼけを補償することができる。
【0079】
その上、当業者により認められるように、波140の伝播速度及び画像158の走査速度が略等しいが、反対方向にある限り、波140の前方エッジ162及び後方エッジ164は、実質的に、レーザービーム160の一区分が一並びのピクセル144のエッジ166及び168を書き込むところの位置を固定する。画像158の速度が、波140の速度に等しく、その方向が反対である限り、エッジの固定は、フラッシュの間に画像158により横切られた距離から独立している。かくして、エッジ166及び168は、画像158が、ピクセルの全数又は部分ピクセルの任意数だけ、フラッシュ間を進行するか否かにかかわらず、固定されている。
【0080】
かくして、本発明の幾つかの実施例によれば、一並びの露光ピクセル144の位置が、平均数のレーザーパルスから実質的に独立しており、該平均数のレーザーパルスにより、ピクセル146〜152は、パルス繰り返しレート、及び、ビーム又は画像158が走査されるところの速度の間で露光され、又は、同期化される。かくして、ピクセルは、連続するパルスによりピクセル146〜152に分配された蓄積エネルギーの関数として露光されたり、或いは、露光されなかったりする。
【0081】
ここで、図10A乃至図10Gを参照すると、図9A乃至図9Gに示された露光の各段階の各々に対応する一並びのピクセル144に沿ったレーザー露光エネルギー分布を示すエネルギーグラフが示されている。なお、単一でない曲線170〜182の下の領域は、個々のピクセル146〜152と一致しているが、一緒に取られた曲線170〜182の全ての下の領域は、露光されるべきピクセル144の並びと一致している。その上、図10Gの個々の露光分布170〜182の総和は、一並び144におけるピクセル146〜152の全てに提供された略均一レベルのエネルギーを生じさせる。
【0082】
要約すると、図8A乃至図10Gに示されたように、データを変調する音波140は、画定された非瞬間的な時間インターバルに亘って媒体形成変調活性領域142を伝播し、変調活性領域142内の音波140の存在及び範囲は、時間と共に変化し、音波140が変調活性領域142内の音波140の形状変化に従って変化する形状を有するレーザービームの一区分160を基板40に偏向させるように、多重パルスは、該音波が内部に存在する時間の間に変調活性領域142上に当たる。その上、図9A乃至図9Gに示されるように、各パルスにより露光されたラスター画像内の領域は、以前のパルスにより露光された領域と部分的に重なり合い、音波162により偏向された各パルスの一区分のサイズは、そのエッジ166及び168に近接したところに書き込まれるべきパターン内のその位置の関数として変動し、各パルスにより露光される領域のサイズが露光されるべきピクセル並びより小さく、ピクセル並びが複数のパルスにより露光され、各パルスがピクセル並びより小さい領域を露光し、ピクセル並びの総合した露光が、複数の互いに重なり合うパルスによる露光の総和となる。
【0083】
ここで、図11A乃至図11Gを参照すると、例えばビーム変調チャンネル106(図6)の一つと連係された音響光学モジュレータ結晶の変調活性領域142におけるその発生の連続段階における音波140の簡略した図が示されている。また、図12A乃至図12Gを参照すると、本発明の実施例に従って露光されるべき、フォトレジスト被覆PCB等の基板40上に、ピクセル146、148、150及び152を備えるピクセル144の一並びの露光における図11A乃至図11Gに示された段階に対応する様々な段階を示す簡略した図が示されている。一並び144における陰影部分は、レーザービームパルスによる露光を示している。図11A乃至図12Gは、図8A乃至9Gに関する説明の観点で、それに略類似しており、自明なものとなっている。
【0084】
しかし、図11A乃至図11Gは、図8A乃至図8Gにおけるものと同じインターバルで分離された時間において音波140の伝播を示しているが、レーザーパルスは、図11A、11C、11E及び11Gに示された段階に対応した時間にのみ存在していることに着目されたい。かくして、図11A乃至図11Gにおける各パルスの間の時間インターバルは、図8A乃至図8Gにおけるパルス間の時間インターバルの2倍となっている。このように、レーザービームの一区分160は、図12A、12C,12E及び12Gに示されるように、画像158においてのみ、一並び144の一部分を露光するため存在していることが理解されよう。かくして、図12A乃至図12Fに示されるように、並び144におけるエッジ166及び168の位置の完全さが維持されている間に、4パルスが、4ピクセルから構成される並び144を露光する。
【0085】
ここで、図13A乃至図13Gを参照すると、図12A乃至図図12Gに示された露光の段階の各々においてピクセル144の並びに沿って蓄積されたレーザーエネルギーを示すエネルギーグラフが示されている。図13A乃至図13Gは、図10A乃至図10Gに関する説明の観点で、それらに類似しており、自明なものとなっている。しかし、より少ないパルスが並び144を露光するが、並び144に亘るエネルギーの蓄積は、レーザーパルスの重なり合いにより少なくとも部分的に生じていることに着目されたい。このようにして最小エネルギーの閾値を超える並び144の全ての部分が露光される。本発明の幾つかの実施例に対して、露光される領域の幾つかの部分は、1より多いパルスにより露光され、一部分を露光するパルスの数は、1程度であることに着目されたい。これらの部分は、パルス上の異なる空間的領域により露光され得ることにも着目されたい。これらの効果及びピクセルを露光するため必要となる露出は、満足のいくパターン書き込みを生じさせる最低のパルスレートを決定することができる。
【0086】
ここで、図14A乃至図14Gを参照すると、例えばビームチャンネル106(図6)の一つと連係された、音響光学モジュレータの変調活性領域におけるその発生の連続段階での簡略した図を示している。また、図15A乃至図15Gを参照すると、本発明の実施例に従って露光されるべき、フォトレジスト被覆PCB等の基板40上に、ピクセル146、148、150及び152を備えるピクセル144の並びの露光における図14A乃至図14Gに示された段階に対応する様々な段階を示す簡略した図が示されている。並び144における陰影部分は、レーザービームパルスによる露光を示している。図14A乃至図15Gは、図8A乃至9G及び図11A乃至図12Gに関する説明の観点で、それに略類似しており、自明なものとなっている。
【0087】
しかし、図14A乃至図14Gは、図8A乃至図8Gにおけるものと同じインターバルで分離された時間において音波140の伝播を示しているが、レーザーパルスは、図14B、14D及び14Fに示された段階に対応した時間にのみ存在していることに着目されたい。かくして、図14A乃至図14Gにおける各パルスの間の時間インターバルは、図11A乃至図11Gにおけるパルス間の時間インターバルに等しくなっている。このように、レーザービームの一区分160は、図15B、15D及び15Fに示されるように、画像158においてのみ、一並び144の一部分を露光するため存在していることが理解されよう。かくして、図15A乃至図15Fに示されるように、パルスの間の時間インターバルは図11A乃至図11Gのものと同じであるが、3パルスのみが並び144を露光するように、パルスタイミングは、相対的にオフセットされている。かくして、本発明のこれらの実施例によれば、並び144におけるエッジ166及び168の位置の完全さは、パルスの間の時間インターバルと、パルスが画像158の相対位置及び露光されるべきピクセル並び144に到達する時間と、から独立に維持されていることが認められる。
【0088】
ここで、図16A乃至図16Gを参照すると、図15A乃至図15Gに示された露光の各段階におけるピクセル並び144に沿ったレーザーエネルギー分布を示すエネルギーグラフが示されている。図16A乃至図16Gは、図10A乃至10G及び図131A乃至図13Gに関する説明の観点で、それに略類似しており、自明なものとなっている。しかし、3つのパルスのみが並び144を露光しているが、エネルギーの蓄積は、レーザーパルスの重なり合いによって少なくとも部分的に生じている。かくして、最小エネルギー閾値を越える並び144の全ての部分が露光される。
【0089】
パルスの幾つかの部分が、音波140の前方エッジ162又は後方エッジ164が内部に存在している間に、変調活性領域142に当たる限り、エネルギーの総和がピクセルを露光するのに充分である場合には、エッジ166及び168の位置は、パルスがその上に当たる時間、又は、変調媒体142の前方エッジ162又は後方エッジの位置には鈍感となることに着目されたい。
【0090】
露光されるべきピクセル並びのエッジに対して露光パルスのエッジを固定するように作動する、上述した一例としての実施例の制限条件は、ピクセルを露光するため多重パルスによる充分なレーザーエネルギーの分配であることが認められる。かくして、本発明の幾つかの実施例によれば、多重チャンネルモジュレータは、ビーム12の別々の部分118(図6)を変調するため用いられ、ビーム12の引き続く走査は、基板40上の以前の走査と部分的に重なり合うようになされる。かくして、露光されるべきピクセルの各ラインは、少なくとも2つの引き続く走査が通過するときモジュレータ102の異なるチャンネルにより取り組まれ、引き続く重なり合った走査において、追加のパルスが、露光されるべきピクセルの並びに分配されるようにされ、実質的に等しく充分な量のレーザエネルギーが露光されるべき各ピクセルに分配されることを確実にする。
【0091】
図1乃至図5に示されるように、パルス化レーザーのパルス繰り返しレートを増加させ、パルスレーザーを使用してラスター画像を書き込むための様々な形態の装置は、前記に触れたWO00/11766号に示されている。しかし、本発明の実施例は、パルス繰り返しレートを増大させる装置を用いても、或いは、用いなくても実施することができることに着目されたい。その上、本発明の実施例は、サブシステム及び本文中で説明された方法論を用いても、或いは、用いなくても実施することができ、当該データレートより小さいパルス繰り返しレートに適合するように使用することができる。その結果、本発明の実施例は、パルス繰り返しレートが、データレートより小さいか、等しいか、或いは、大きいところの任意の適切なシステム、又は、パルス繰り返しレートがデータレートに同期しているか、或いは、同期していない任意の適切なシステムで実行することができる。
【0092】
ここで、図17を参照すると、本発明のPCB製造ラインへの統合化を示す概略図が示されている。直線偏光され、パルス化されたUVレーザービーム280は、例えば、高出力モードロック式IRレーザー282により発生され、高調波発生によりレーザー280の周波数を変換するように作動する周波数コンバーター284を通過される。例えば、ビーム280は、スペクトラフィジックス(Spectra Physics)から販売されている、約355nmの波長及び約80MHzのパルスレートを有する、「VANGUARD」(登録商標)UVパルス化レーザーから得られる。その代わりに、ビーム280は、スペクトラフィジックスレーザーからも販売されている、ツナミのモードロック式Ti:サファイアレーザーをポンピングする532nmの波長の、スペクトラフィジックスレーザーのミレニアレーザーから得ることができる。ツナミのモードロック式Ti:サファイアレーザーの出力ビームは、中国のフジャンカシックスレーザー(Fujian Casix Laser Inc)社から市販されている、LBO結晶により、レーザー空洞部の外側で、約390nmへと、周波数を2倍にされる。IRレーザーの繰り返しレートは、例えば、約82MHzであり、その波長は、約780nmである。幾つかの実施例によれば、UVビーム280のパルス繰り返しレートは、上述されたパルスレート増倍装置50及び215等のパルスレート増倍装置286により乗算される(例えば、2×、4×等々)が、この構成要素は、本発明を実行する上では必ずしも必要ではない。装置286から出た出力ビーム288は、光学書き込み装置290上に当たり、X方向に、ポリゴンミラー294の接続作用によりPCBの製造で使用され、Y方向に、PCB292の側面変位で使用される、フォトレジスト被覆PCB292の表面に亘って走査される。一例としての実施例では、ビーム288は、ラインへと広げられ、その一部分は、上述されたように独立に変調される。ビーム288が光学書き込み装置290により変調されるデータレートが、ビーム288のパルスデータレートと比較して充分に低い場合、パルスレート増倍装置286の使用が不要にされることが理解されよう。このことは、例えば、光学書き込み装置が、ビーム280の複数の空間的部分を同時に独立に変調する場合に起こり得る。
【0093】
かくして、本発明の幾つかの実施例では、より大きな乗算のために繰り返しレートを4倍以上にするのに対して、入力ビーム280のパルス繰り返しレートは、80MHz(繰り返しレートが2倍にされない場合に対して)乃至320MHzの間で変動し得るが、その一方で、データに対するパルスの比率が書き込まれるべきピクセル当たり平均して0.75パルス(又はそれより小さい)乃至8パルスの間で変動し得る。特に、低いデータ対パルス比が使用されるとき、多重レーザービームパルスによる露光の間に書き込まれるべき領域のエッジを固定するように作動するモジュレータを用いることが一般に好ましい。
【0094】
上記で指摘されたように、パルス化露光は、WO00/02424で説明されたレーザー書き込みシステムで使用することができるが、これは所望の態様でパターンを露光するためであり、それが走査されているとき、走査軸に沿ってレーザービームの位置を正確に決定することが必要となる。これは、レーザービームがパルス化されるときには、ささいなことではない。WO00/02424の直接書き込みシステムへのパルス化レーザー書き込みの応用を更に説明するため、図1乃至図3及び図9乃至図14(図18乃至図26として再付番されている)が本願に含まれている。図面と連係されたテキストの適合が次に続く。比較の容易さのための、図面中の参照番号には1000が追加されている。
システム概要
ここで、図18乃至図20を参照すると、本発明の一例としての実施例に係る、一例としての直接書き込み回路基板スキャナー1010が示されている。スキャナー1010は、パルス化レーザー源1012を備え、その出力波長は、フォトレジストコーティングを露光するのに適している。図26及び図27は、走査位置を導出するためのシステムを、より詳細に示している。本発明の一実施例では、上記したように、355nmで作動し、約80MHzで約4ワットの最大パワーを供給する、紫外線レーザーシステムが適切であることが見出された。適切なレーザーは、上記に触れたVANGUARD(登録商標)モードロック式パルスレーザーである。使用されるフォトレジスト材料と両立可能である場合には、類似の又は異なる出力を有する他の任意のレーザーを使用することができることが認められる。ビーム1014は、パルス化レーザー源1012から出て、第1のビームスプリッター(又は部分的な反射ミラー)1020によって、2つのビーム、即ち主要ビーム1016及びテストビーム1018へと分割される。以下で説明されるように、主要ビーム1016(破線で示されている)は、(事実上)印刷回路基板上のフォトレジストを走査し露光するため使用される。テストビーム1018(点線で示されている)は、主要ビーム1016の走査位置を決定するため、及び、後述されるように、所定の他のテスト及び整列機能のため、使用される。オプションで、スプリッター1020及びミラー並びに後述される他のスプリッターは、前方表面ミラー及びスプリッターである。オプションで、ミラー及びスプリッターは、誘電前方表面ミラーである。
【0095】
テストのために要求されるパワーは、書き込みのためのパワーよりも遙かに低いため、ビームスプリッター1020は、透過するよりも遙かに多くのパワーを反射するのが好ましい。オプションで、ビーム1014のパワーの99%のオーダーのものが、主要ビーム1016へと反射される。次の説明では、ビームの伝播軸に垂直な2つの方向が、「走査方向」及び「交差走査方向」として指定される。これらの方向は、夫々、走査軸に沿っている書き込みビームの走査方向、及び、ビーム軸及び走査方向の両方に垂直な方向に、対応している。この専門用語の意味は、以下で明らかとなることが理解されるべきである。
【0096】
説明の容易さのため、主要ビーム1016の光学的経路が最初に論じられる。主要ビーム1016は、一連の光学要素1022、1024、1025及び1026(図18に示されている)を通過され、それら光学要素の機能は、第1のミラー1030からのビームの反射の後、モジュレータ1028内部の変調表面上にビームを合焦させることである。図18乃至図20の一例としての実施例に対しtえ、これらの光学要素は、第1の交差走査円柱レンズ1022、第2の交差走査円柱レンズ1024、第1の球状レンズ1025及び第1の走査円柱レンズ1026である。その上、ビーム1016は、第1のスプリッター1020からの反射の後、ほぼ円形になるが、それがモジュレータ1028に入射するときには、走査方向より交差走査方向で長くなる長円形となる。ビームがモジュレータ1028を通過するとき、交差走査方向におけるビームの区分は、モジュレータ1028により独立に変調される。そのようなビームは、並んで移動する、複数の別々に変調されたビームを備えるものと考えることができる。しかし、視覚化の容易さのための、単一のビーム経路のみが、主要ビーム1016に対して示されている。交差走査方向は、モジュレータ1028からの出口において垂直方向である(図20上で参照番号1029により示されている)。
【0097】
主要ビームは、一例としての実施例では、複数の別々に変調されたサブビームを備える単一ビームであるものとして説明されたが、本発明の幾つかの態様に対して、ビーム1016が、例えばビームスプリッター、複数のレーザーエミッター又ハウジング他の適切な手段により形成された複数の離散的ビームから形成することができることは、容易に理解されよう。
【0098】
この一例としての実施例に対して、第1のミラー1030は、主要ビームを90°反射しないことに着目されたい。ビーム1016は、正確な角度でミラー1030から反射され、それは、それがモジュレータから出た角度とは異なる角度でモジュレータ1029上に当たる。モジュレータ1028は、例えば、技術分野で周知され、1994年にマーセル・デッカー社により発行された、アキス・P・ゴウツオウリス及びデニス・R・パパにより編集された、「音響光学式装置の設計製作」の94頁ffに説明されている音響光学式モジュレータなどのようなものである。変調後には、ビームは、それを走査用に準備するため、例えばアナモルフィックレンズシステムを通して、更に光学的に処理されなければならない。図18乃至20及び27の一例としての実施例では、パルス化ビームは、最初に第2の球状レンズ1032を通過させられ、次に、第3の交差走査円柱レンズ1034、第3の球状レンズ1036及び第4の交差走査円柱レンズ38を順次通過させられる。主要ビーム1016は、第2のミラー1040、第3のミラー1042及び第4のミラー1044から反射される。ミラー1044からの反射後に、ビーム1016は、回転するポリゴン1046の切子面に向けられる。当該ビームは、ポリゴン1046に当たる前に、レンズ1048を通過する。以下に示されるように、レンズ1036のz位置を、異なる厚さのPC基板上にビームを合焦させるため(例えば、図示しないモーター駆動マウントの運動により)調整することができる。レンズは、融解石英又は他の適切な光学材料から構成されることができる。
【0099】
図18から、レンズ1038を通過した後、ビーム1016は、反射器1050及び1052の組(視覚化の簡単さのため図20では図示せず)により折り畳まれることが記されよう。これらの反射器の目的は、ビーム経路長さを増大させ、ビームのサイズを増加させ、これにより光学表面上の光学パワー密度を減少させるようにすることである。
【0100】
一例としての実施例に関して、交差走査方向における合焦距離(focusing)は、走査方向におけるそれよりも遙かに大きいということが更に記されよう。本発明の一例としての実施例では、ビーム1016は、交差走査方向に切子面上で合焦されてポリゴンの揺れにより引き起こされる誤差を減少させ、走査方向に、合焦を外されて(平行化されて)、それにより切子面内を超えないで当たり(underfil)、パワーを失わないようにしている。
【0101】
テストビーム1018の経路に着目する。第1のビームスプリッター1020を通過した後、テストビーム1018は、好ましくは、その経路が主要ビーム1016のそれに略平行となるように、第5のミラー1054により反射される。ビーム回転器1055はその軸の回りに、ビーム1018を90°回転させる。一連のミラーとして構成することができる、回転器は、回転以外では、ビーム1016の軸を変化させないのが好ましい。
【0102】
ビーム1018の一部分1056は、第2のスプリッター1058によりテストビームを分割され、その作用が後述されるレーザー整列装置1060に向けられる。本発明の一例としての実施例では、スプリッター58は、50−50スプリッターであるが、事実上異なる比率を使用することもできる。ビーム1018は、第6のミラー1062の側へと通過し、第7のミラー1064に当たる。第7のミラーは該ビームを反射させ、モジュレータ1028から離れた後、それが好ましくはビーム1016に略平行となるようにしている。ビーム1016及び1018は、それらの経路のこの脚部上で比較的離れていることが記されよう。ビーム1018は、2つの円柱レンズ1065及び1066により交差走査方向に合焦作用を受ける。ミラー対1068、1070は、ビーム1018を反射させ、それがレンズ1048を介してポリゴン1046に向かってミラー1042及び1044により反射させられるようにする。しかし、ビーム1016及び1018は、それらがミラー1042に到達したときには、もはや平行ではない。ミラー1070は、オプションで、ビーム16及び18が、互いに向かって、ある角度をなして移動するように、所定角度をなして配置されている。好ましくは、当該角度は、これらのビームが、ポリゴンの切子面で略一致するようになっている。切子面からの反射後に、それらは発散する。
【0103】
ビーム1016及び1018は、オプションで、それらがミラー1042から離れたとき、垂直(交差走査)平面内にあることが記されよう。これは、それらがポリゴンの切子面からの反射後に走査軸に沿ってほぼ同じ走査位置で走査することを確実にする。かくして、ビーム1018は、例えば、ポリゴン1046上に当たる前にビーム1016の上方にあり、ポリゴン1046からの反射後にはビーム1016の下方にある。
【0104】
単一切子面を超えないで当たる主要ビーム1016とは異なり、テストビーム1018は、交差走査方向に切子面で合焦され、走査方向に2より多い切子面を超えて当たる。ポリゴンが回転するとき、主要ビーム1016は、後述されるように、切子面上をトレースされる。これと同時に、当該切子面は、総合したビームからビーム1018の一部分を切断する。テストビーム1018がガウス分布であるとき、この切断された部分の総合パワーは、走査角度に従って変化する。
【0105】
走査光学系1072は、両方のビームがポリゴン1046により光学系1072に亘って走査されるとき、これらのビームを合焦させる。一般には、光学系1072は、両方のビームを、走査方向及び交差走査方向に合焦させるように球状光学系となっている。これらのビームは、走査ミラー1074によりレンズ1076に向かって反射される。ビーム1016は、円柱(交差走査)レンズ1082を通過した後、フォトレジスト被覆印刷回路基板1078に当たりる。レンズシステム1072は、レンズ1076と共に、ポリゴンによりビームに分与された角度変化を基板に亘る直線運動に変換する準f−θ光学系を形成する。
【0106】
ところで、ビーム1016から発散したビーム1018は、円柱レンズ1082を通過すること無く、スケール1080上に当たる。ビーム1016及び1018の走査位置は、テストビーム1018の走査位置の測定がビーム1016の位置を確定するように略同一である。
【0107】
スケール1080は、オプションで、ビーム1018の方向の法線から(走査方向軸の回りで)僅かな角度で配位されている。このようにして、ビーム1018は、それがスケールに到着したとき、ほとんど同じ方向にスケールから反射される一方で、僅かな角度が、入射ビームと、反射ビームとの間に導入される。説明の明瞭さのため、反射ビームは、実行可能である場合、図面及び説明において、ビーム1018’として示される。
【0108】
ビーム1018’は、レンズ1076、ミラー1074、光学系1072、ポリゴン1046、レンズ1048、ミラー1044、1042、1070及び1068を通過し、レンズ1066及び1065を通ってミラー1064へといたる。ビームがミラー1062に到達する時間によって、ビーム1018及び1018’は、ミラー1062がビーム1018’を捕らえてそれを反射してレンズ1085を介して検出器1084へと至らせるように、分離されている。走査軸に沿ってビーム1016の位置を示すように作動するX座標決定器(図27に示される)の一部分である検出器1084は、スケール1080上のマーキングによりビーム上に印加された変調を検出する。そのような変調に少なくとも部分的に応答して、ビーム1018の存在、よってビーム1016の存在は、走査軸に沿った多重位置で走査の間に決定される。これらの検出信号は、走査ビーム1016の位置上の情報を含んでおり、データ制御ユニット1100の一部分として、後述されるように、オプションで、モジュレータ1028によりビーム1016の変調を制御するように使用される。
【0109】
ここで、スプリッター1052によりテストビーム1018から導出されるビーム1056に戻る。ビーム1056は、オプションで、第1の球状レンズ(図示せず)を通過した後、ビームスプリッター1086に当たる。ビームの一部分は、オプションで、第2の球状レンズ(図示せず)を通過した後、第1の4倍検出器1088へと送られる。第1及び第2の球状レンズは、検出器1088からの信号が、走査方向及び交差走査方向におけるビームの偏差を示すように、レーザービームのくびれ部分を検出器1088に投影する。
【0110】
ビーム1056の第2の部分は、スプリッター1052により、一対のレンズ(明瞭にするため図示せず)を介して、第2の4重検出器1090に送られる。該一対のレンズは、検出器1090からの信号が、走査方向及び交差走査方向の両方で角度偏差を示すように、f−θレンズとして作動するように構成されている。オプションで、回路1091は、該信号を受け取り、それらをシステムコントローラへ回す。
【0111】
システムが最初に整列されたとき、検出器は、それらの偏差信号が全てゼロとなるように、位置決めされ、調整される。レーザーが置換されるとき、全システムは再整列される必要が無くなる。レーザーをそのマウントに配置し、検出器1088及び1090の両方がゼロの偏差信号を生成するように、その高さ位置及び角度位置を調整することで充分である。そのようなゼロの偏差信号は、当該システムが最初に整列されるときに用いられるレーザーと同じビーム経路を正確に持つビームを生成するためレーザーが適切に整列されるときのみ生成される。レーザーを整列すると、全システムが整列される結果が導かれる。
【0112】
当該システムは、オプションで、安定性のため、人工花崗岩のベース1092上に取り付けられる。構成部品の多くは、オプションで、PCT特許出願WO00/55592号に説明されているような取り付け方法を利用して、レイル1094上に取り付けられる。その開示内容は、当該公報に触れたことにより本願に組み込まれる。この取り付けの枠組は、全光学系の再整列も、置換された構成部品さえの再整列も無い状態でも、構成部品の容易な置換を可能にする。
【0113】
本発明の一例としての実施例によれば、改善された光学システムが提供される。この光学システムは、それらの機能的タスクに従って、2つの部分に小分割される。即ち、モジュレータ照明システムと、印刷回路基板の画像形成システムに対するモジュレータと、である。当該システムは、予備走査光学系と、走査光学系と、に小分割することもできる。予備走査光学系は、レーザー及びポリゴンの間で存在する、全てのレンズを備えている。走査光学系は、ポリゴンと、基板平面との間の光学系を備えている。この偏差は、これら2つの部分に対して非常に異なる要求の故に望ましい。予備走査光学系の構成要素は、ビームが小さいため、サイズが小さい。しかし、しかし、パワー密度は、問題を引き起こしかねないほど高い。
【0114】
ビームサイズ及びパワー密度に関する要求は、一般に正反対である。
主要ビーム光学システムの更なる詳細は、WO00/02424で見出すことができる。
走査方向位置測定
直接画像形成システムにおけるPC基板の正確な直接レーザー書き込みにおける最も重要な要素は、PC基板上でのビームの位置の知識である。この知識は、走査ラインの位置における、正確なデータでビーム(又は、より正確には、走査ライン)の適切な変調を可能にしている。PC基板は、交差走査方向に移動し、ビームは走査方向に走査する。かくして、ビームの位置は、PC基板1078が取り付けられているテーブル1079の交差走査位置、及び、走査軸に沿ったビームの走査位置についての知識から完全に決定することができる。
【0115】
テーブルの交差走査位置を決定することは、簡単である。当該技術分野で知られている、周知のエンコーダーの任意のものを使用することができる。本発明の実施例では、テーブルは、2つのx形状レイル1096に沿って輸送され、光学式エンコーダーが測定用に使用される。エンコーダーに連係されるスケール1098が図18に示されている。例えば、ドイツ、ジェーナの、ニューメリック・ジェーナGmbH(Numerik Jena GmbH)によるタイプLIE5エンコーダーシステム(精度2μm、解像度0.2μm)が、使用される。オプションで、交差走査位置測定は、±2又は3μmの精度、±0.1μmの解像度でなされるが、他の解像度及び精度を、システムの要求に応じて使用することができる。
【0116】
なお、印刷回路基板上の各特徴は、ビーム16の幾つかの区分により書き込まれる。かくして、交差走査位置の知識を、最小要求特徴サイズより大きい位置精度に、ビームの変調を決定するため使用することができる。データ位置は、走査ラインの間隔に等しい位置精度へと調整することができる。これは、一般に、要求された精度より遙かに小さい。
【0117】
走査方向における複数の位置でビームの位置を決定する一般的原理は、図18乃至20及び27を参照して、概略的に説明される。ビームの走査方向位置を非常な精度で決定することは困難であることが認められる。この問題は、位置に関して変動する走査速度の使用によって、幾分更に困難になる。これは、データ源からのデータストリームに亘ってより正確な制御を要求し、パルス化レーザービームの使用により更に複雑になるからである。
【0118】
図21は、本発明の一例としての実施例に係るスキャナーのためのデータ制御システム1100の簡単化されたブロック図である。
制御システム1100は、検出器回路1084から信号を受け取る。これらの信号は、スケール1080上のマーキングにより変調されたとき、ビーム1018’のパワーの変動を表している。一般に、これらのマーキングは、比較的低いパルスレートでアナログ信号(光学式クロック)を発生するが、これは、システムのためのデータクロックレートよりも遙かに低い。かくして、ビーム1018’におけるパルスレートは、スケール1080上のマーキングによる変調の結果であり、図1におけるパルス化レーザービーム12のパルスレートとは異なっている。事実、レーザービーム12のパルスは、ビーム1018’のパルスから生じた光学式クロックの各々について望ましくないノイズを構成する。クロック発生器1102は、X−クロック(データクロック)と、位置検出器信号からの走査開始信号と、を発生する。走査信号からx−クロックを発生する一例としての方法が以下に説明される。
【0119】
クロックの次の特徴が記載されるべきである。
(1) 平均x−クロックレートは、オプションで、走査の長さに亘って一定ではない。
(2) データは、瞬間的なx−クロックカウント及び走査開始信号に基づいてモジュレータ1028に送られる。
【0120】
データがx−クロックに応答してモジュレータに送られるが、ビームがPC基板上で書き込むための正確な位置にある時間を除いて、送られるデータは存在しないことが理解されるべきである。かくして、ビームが当たる切子面が変わる周期に亘って、又は、走査の開始若しくは終了の間に、ビームが書き込み位置にはないとき、データは停止されたモジュレータに送られないことになる。
【0121】
クロック発生器1102は、x−クロック信号及び走査開始信号を、走査されるべきPC基板の二進数マップを含むデータベース1104に送る。その代わりに、データは、ベクトル形態にあることもでき、オンラインでビットマップ形態に変換されることもできる。このデータは、オプションで、圧縮形態としてもよい。走査開始信号の発生は、別個の検出器に基づいていてもよい。これは、クロック発生器に走査開始信号(図示せず)を送る。オプションで、走査開始信号は、例えば走査の開始及び/又は終了で発生された長い信号により、走査信号それ自身に基づいている。
【0122】
クロック発生器1102は、y−同調信号もコントローラ(図示せず)に送る。このコントローラは、y走査信号と同期して、テーブルの運動を制御する。この信号は、走査開始と同期されており、データストリームと、テーブルの位置を同期化するための手段を提供する。
【0123】
データベース1104は、多重ラインデータバッファー及び走査ライン発生器1106に複数のデータ走査ラインを送る。好ましくは、多重ラインデータバッファー1106は、現時点の走査及び次の走査に対して要求されるデータのラインの全てを含んでいる。
【0124】
交差走査位置信号及びPC基板位置情報に基づいて、多重ラインデータバッファー及び走査ライン発生器は、走査ラインデータを発生し、該走査ラインデータを、走査ライバッファー及び制御部1108に転送する。このデータは、クロックに応答した時刻で1ビット分を様々なモジュレータに供給される。これは、走査開始信号に応じた時刻で開始される。
【0125】
図21は、機能ブロック図のみを表しており、図21の機能を実行するための様々な装置及び方法が当業者により想到されることが理解されるべきである。更には、ブロックの一つと連係された機能の幾つかは、別のブロックにより実行することができ、又は、これらのブロックを実際に結合することもできる。更には、これらの機能のうち全部又は幾つかは、ハードウェア、ソフトウェア又はファームウェア、或いは、ハードウェア、ソフトウェア又はファームウェアの組み合わせ、及び/又は、一般若しくは特殊な目的のコンピュータで実行することができる。しかし、一般には、非常に速いシステムのために、専用のハードウェアシステムが望ましい。そのようなシステムは、一般に、ハードウェアデータの解凍、データを保持するための先入れ先出し法、先入れ先出しデータからのデータをビームに切り替えるためのスイッチ、及び、印刷回路基板の位置に基づいてデータを遅延させるプログラム可能な遅延回路を使用する。そのようなシステム(36走査ラインの発生に対して、そのうちの24ラインのみが音響光学式モジュレータ(AOM)に実際に書き込まれ、12ラインが後述される交差走査修正のため使用される)の一般的な図が、図22Aに示されている。図22Aは、本発明の一例としての実施例に係る、バッファー/発生器1106と、走査ラインバッファー及び制御部1108とを示している。図22Bは、図22Aのハードウェアロジック回路の実装を示している。図23は、図22Bの急速切り替え器が、いずれのデータラインが上述された走査制御信号に基づいてAOMに送られるかを制御するように、如何に作動するかを示している。当該システムは、各方向においてモジュレータ信号のための6までの走査ラインオフセットを可能にする。
【0126】
なお、図23に示された高速切り替え器は、走査位置に関連した交差走査誤差の修正を可能にしている。そのような誤差は、例えば、走査光学系の残存収差により引き起こされ得る。そのような誤差は、時間と共に変化せず、スキャナーの使用期間中に一度測定することができる。これらの誤差は、メモリ中に格納され、高速切り替え器への信号のための基礎を形成する。
【0127】
特に、図23は、切り替えシステムに入るビームとして36のデータ入力ストリームと、当該システムを離れる、モジュレータ1028におけるビーム変調チャンネルに各々対応する24の出力データストリーム(参照公報の図6のシステムに関しては、30のビームがシステムを離れる)と、を示している。入射するデータストリームは、その通常の位置に従って、基板上の与えられた走査ラインに対応している。図24に示されているものは、3つのボックス1310〜1312であり、これらは、切り替え器のための3つの一例としての位置を指し示している。各々のボックス1310〜1312は、走査光学系における欠陥に起因して生じ得る、所与の走査位置に対する基板上のビームの一例としての交差走査オフセット位置に対応している。位置1310では、交差走査オフセットはゼロである。この場合には、入力ラインN=0からN=23が、モジュレータに送られる。参照番号1311は、交差走査位置における2つの走査ラインによりビームがオフセットされている状況を示している。補償するため、入力ラインN=−2からN=21は、サブビームがこれら入力ラインからのデータにより変調されるように、モジュレータに送られる。これは、ビームが走査中に交差走査方向に移動したとしても、当該情報が、基板上の適切な位置に書き込まれることを確実にする。同様に、参照番号1312は、入力ラインN=1からN=24がモジュレータに送られるように、一つの走査ラインによりオフセットが反対方向にある状況を表している。
【0128】
図24は、本発明の一例としての実施例に係る、走査軸に沿った任意の複数の位置でビーム1016及び1018の位置を正確に決定するためのクロックであるX−クロックを生成するためのクロック発生器1102の概略図である。この回路及びそれが実行する方法が好ましいが、当該技術分野で知られているように、低いレートの信号から高いレートのクロックを発生する他の方法が本発明の他の実施例で使用することができることが理解されるべきである。かくして、本発明の一例としての実施例によれば、比較的高いパルスレートのレーザーが、比較的低いパルスレートの位置信号、即ち光学式クロックを発生するため用いられ、走査軸に沿った多重の位置でパルス化された位置を正確に決定するための高いレートのクロックを発生させ及び/又はこれと同期させるために使用される。
【0129】
検出器回路1084からの光学式クロック信号は、位相化された固定式ループ(PLL)とVCO1140とのための固定信号を提供するために使用される。PLL及びVCO1140は、光学式クロックに類似したPLL信号に基づいてVCO信号を生成するため16で除算する回路1142を備えたループを形成する。PLLクロックは、次の点で光学式クロック(opt-clock)とは異なっている。
(1) PLLクロックは、光学式クロックよりも安定している(非常に短い期間)
(2) PLLクロックは、光学式クロックよりも鋭く且つ安定した遷移を持っている。
(3) PLLクロックは、連続的である。光学式クロックは、切子面の切り替えの間に消失する。光学式クロックが再び現れるとき、PLLクロックは、該PLLクロックを光学式クロックに対して係止する。幾つかのサイクルの間、位相の相違が存在し得る。しかし、この期間の間に、データはトリガーされない。ビームは、データがまだ書き込まれるべきではないとき走査開始点にあるからである。
【0130】
パルス化レーザーが、ビーム走査1018のため使用されるとき、検出器信号もパルス化されるということが理解されるべきである。本発明の一例としての実施例では、検出器は、モードロック式レーザーのレーザーパルスをきれいに通過させるのに充分に高い周波数応答を持っていない検出器が使用され、これにより、光学式クロックの出力信号におけるレーザーパルスを不鮮明にする。しかし、本願出願人は、驚くべきことに、残っている任意の残存パルス変調が、PLLの固定にも、上述されたようにテストビームの整列にも干渉しないことを発見した。レーザーパルスレートが80MHzであるときの検出器回路中で使用するための適切な検出器は、ハママツから販売されている、モデルs6468PINフォトダイオードである。
【0131】
PLL及びVCO1140は、2つのクロック(VCO及び逆VCO)を生成し、それらの両方は、PLL及び光学式クロックの16倍も高速である。標準回路を、この除算のために使用することができる。この除算を実行するためAD9850BRS(USAのアナログ装置社から販売されている)を使用して、他の除算(例えば、15,999又は16.001等)を、40ビットの精度で達成することができる。これは、任意に要求された線形スケーリングを発生することを可能にする。
【0132】
VCOクロックは、走査開始信号及びY−位相信号を生成するためロジック回路1144により使用される。ロジック回路1144は、走査修正メモリ1146からスケール因子及び走査修正値も受け取る。
【0133】
本発明の一例としての実施例では、スケールにより発生されたときのVCOクロックは、モジュレータへの実際の所望のデータストリーム周波数より僅かに高い周波数を有する。この生来の誤差及びシステムの他の誤差は、図25のクロックトレースに示されたクロック発生の枠組により修正される。このラインに示された信号は、X−クロック(データクロック)を形成するためVCOクロック及び逆VCOクロックの両方を利用する。なお、これらのクロックの間の各対のスイッチは、信号カウントの損失を生じさせる。かくして、VCOクロックのカウント周波数が故意に高く設定されている場合、当該周波数を、必要な範囲にまで、要求された周波数にまで、減少させることが可能となる。ロジック1144は、次の点を修正するのに充分なスイッチの周波数を発生させる。
(1) スケールの予備歪により引き起こされた、故意に高いVCO周波数。この周波数は、約75%高くなり得る。
(2) 基板のスケール因子
(3) スケール測定値と、書き込みビームの位置との間の位置誤差。これらの誤差は、主要には、2つのビームが同じ経路に従わず、且つ、走査レンズが、テレセントリックではあるが、残存非テレセントリック誤差を有する故に、発生する。かくして、ビームの間のオフセット及びビームの異なる長さは、小さい再現可能な誤差を生じさせる。これらの誤差の値は、訂正メモリ1146中に格納される。
【0134】
ロジック回路は、上述されたように、例えば、光学式クロックそれ自身から走査開始信号を発生する。この信号は、ポリゴンとテーブルのy運動との間の実際の同期化を決定するy−位相信号により増補される。
【0135】
説明の簡単さのため、他のデータ修正が説明されなかったことが理解されるべきである。しかし、オプションで、モジュレータに送られるデータを決定する際に、走査の読み取り値における既知の誤差が考慮に入れられる。電子クロックベースのデータ切り替えと、基板上の光学ビームの当たりと、の間のタイミングの遅延に対して、更なる修正がなされる。タイミング遅延の結果として、例えば、現在のポリゴン速度に応じて、走査方向に追加の位置決め遅延が存在するであろう。本発明の一例としての実施例では、図26に示されたように、位置測定システムに基づく自動整列機構が使用される。このシステムの詳細は、WO00/02424により詳細に記載されている。
【0136】
光ガイド1152の領域(図26)の外側のテーブル位置において、好ましくは、基板がビームの下方にはない場合に、データ信号が既知のX−クロック位置で送られる。しかし、電子システム、特にモジュレータ1028の切り替え時刻における遅延は、データが送られているときからのオフセット時間で、基板において変調を生成する。これは、基板上での位置決めオフセット誤差を生じさせる。この位置決め誤差は、主要には、ポリゴン速度が要因である。ポリゴン速度を変更した後の位置オフセットを測定するために、データ信号が、第1のx−位置においてモジュレータに送られ、光パイプからの光信号が第2のx−位置で受信される。
【0137】
第1及び第2の位置の間のX−クロックパルスの数は、タイミング遅延を表しており、X−クロック発生器のための追加の遅延として使用される。
幾つかのX−クロック位置における幾つかのタイミング遅延は、より良い精度を提供するため使用することができることが理解されるべきである。
【0138】
当該システムは、オプションで、レーザーをオンにする必要無しに、回路をテストするため使用されるテストクロックを備えてもよい。
本発明の範囲は、上述し、上記に概観した構成に限定されるものでも、パルス化UVレーザービームに限定されるものでもないことは、当業者には明らかであろう。
【0139】
図18乃至図26で説明された装置は、パルス化直接書き込みシステムを提供するためのベストモードを説明しているが、本発明は、例えば、テストビームの波長が、書き込みビームの波長とは異なるときのように、他の直接レーザー書き込みシステムにも適用できる。更には、パルス化レーザー書き込みシステムは、当該データレートより高い又は低いパルスレーザーレートを持つこともできることが理解されるべきである。
【0140】
更には、上述されたような準CW変調の枠組を利用する本発明の態様は、必ずしもUVで作動する必要はなく、また、必ずしも周波数2倍化レーザーを利用する必要もない。本発明の幅広い態様では、例えば、表面を走査し又はデータを伝達したりすることに対して、そのような準CW変調光から任意の使用をなすことができる。
【0141】
更には、本発明は、例を用いて提供されるその一例としての実施例の詳細な説明を使用して記載されたが、これに限定されず、本発明の範囲を制限するわけではない。様々な実施例からの特徴の組み合わせを含む本発明の実施例の変形は、当業者には明らかである。かくして、本発明の範囲は、請求の範囲によってのみ制限される。更には、請求の発明に関する一切の疑義を回避するため、「備える」、「備えている、」、「含む」、「含んでいる」といった用語は、当該物を含んでいるが、必ずしもそれのみに限定されるわけではないことを意味するように、請求の範囲で使用されている。
【図面の簡単な説明】
【0142】
【図1】図1は、本発明の幾つかの実施例の基本的作動原理を示す概略図である。
【図2】図2は、本発明の実施例に係るパルス繰り返しレートの増倍装置を示す概略図である。
【図3】図3は、図2に概略的に示されたパルス繰り返しレートの増倍装置に入出力される、入力ビームパルス、中間ビームパルス及び出力ビームパルスのタイミング図である。
【図4】図4は、本発明の実施例に係る、一例としてのビーム再結合構成の概略図である。
【図5】図5は、本発明の実施例に係る、代替のビーム再結合構成要素の概略図である。、
【図6】図6は、入力レーザービームの分離部分を同時に独立にデータ変調することにより基板の表面上にラスターパターンを書き込むためのシステムの概略図である。
【図7】図7は、走査軸線に沿ったレーザービームパルスのエネルギー分布のグラフである。
【図8】図8A乃至図8Gは、レーザービームパルスの音響光学変調結晶において、レーザーパルスを第1のパルスレートで提供したときの音波の発生の各連続段階を示した簡略図である。
【図9】図9A乃至図9Gは、第1のパルスレートで露光されるべき基板上のピクセル並びの露光についての8A乃至図8Gに示された段階に対応する様々な段階を示す簡略図面である。
【図10】図10A乃至図10Gは、図9A乃至図9Gに示された露光段階の各々でピクセル並びに沿って積算されたレーザーエネルギーを示すエネルギーグラフである。
【図11】図11A乃至図11Gは、音響光学変調結晶における音波の発生の連続段階と、第2のパルスレートで提供されるレーザーパルスと、を示した簡略図である。
【図12】図12A乃至図12Gは、第2のパルスレートで露光されるべき基板上のピクセル並びの露光についての図11A乃至図11Gに示された段階に対応する様々な段階を示す簡略図である。
【図13】図13A乃至図13Gは、図12A乃至図12Gに示された露光の各段階におけるピクセル並びに沿った積算レーザーエネルギーを示すエネルギーグラフである。
【図14】図14A乃至図14Gは、音響光学変調結晶における音波の発生の連続段階と、図11A乃至図11Gに示されたものとは異なる第2のパルスレートで提供されるレーザーパルスと、を示した簡略図である。
【図15】図15A乃至図15Gは、第2のパルスレートで露光されるべき基板上のピクセル並びの露光についての図14A乃至図14Gに示された段階に対応する様々な段階を示した、簡単な図である。
【図16】図16A乃至図16Gは、図15A乃至図15Gに示された露出の各段階におけるピクセル並びに沿って蓄積されたレーザーエネルギーを示すエネルギーグラフである。
【図17】図17は、本発明の幾つかの実施例が、PCB製造ラインで集積される仕方を示す集積図である。
【図18】図18は、本発明の一例としての実施例に係る印刷回路基板直接書き込みスキャナーの概略斜視図である。
【図19】図19は、図18のスキャナーの概略頂面図である。
【図20】図20は、スキャナーの構成要素が、表現の明瞭さのため、マウント無しでスケール通りではなく示されている、図18及び図19のスキャナーの概略斜視図である。
【図21】図21は、本発明の一例としての実施例に係るスキャナーのデータ制御システムのための簡単なブロック図である。
【図22−A】図22Aは、本発明の一例としての実施例に係る、図21のシステムの一部分の全体的なブロック図である。
【図22−B】図22Bは、本発明の一例としての実施例に係る、図22Aのハードウェアロジックの実施回路を示す。
【図23】図23は、本発明の一例としての実施例に係る、走査制御信号に基づく、音響光学モジュレーターに送られた、図22Bの回路の一部分の作用を示している、概略図である。
【図24】図24は、本発明の実施例に係る、データブロックを提供するため役立つ装置のブロック図である。データラインが示されている、
【図25】図25は、図24の装置を理解するとき有用となる、クロックパルスの概略図である。
【図26】図26は、とりわけ本発明の実施例に係る、走査方向におけるビームの位置を決定するために使用される構造体を示す簡単な概略図である。
【図27】図27は、とりわけ本発明の実施例に係る、走査方向におけるビームの位置を決定するために使用される構造体を示す簡単な概略図である。
Claims (27)
- 表面に亘ってビームを走査するための装置であって、
表面に亘ってパルス化レーザービームを走査するスキャナーと、
前記表面の複数の位置で前記パルス化レーザービームからの入力を受け取り、前記表面に沿った前記パルス化レーザービームの位置を示す、位置表示を出力する、位置表示手段と、
を含んでいる、装置。 - 前記表面は、変調されたパルス化レーザービームが前記表面から反射されるように、複数の間隔を隔てたマーキングを備えている、請求項1に記載の装置。
- 前記位置表示手段は、検出器を備え、該検出器は、前記変調されたパルス化レーザービームを受け取り、変調信号を提供する、請求項2に記載の装置。
- 前記パルスを識別しない信号を前記検出器が出力するように、前記検出器の応答時間は、前記パルスのパルスレートよりも緩慢である、請求項3に記載の装置。
- 前記位置表示に応答して、データを保持したレーザービームを変調する、データモジュレータを備えている、請求項1乃至4のいずれか1項に記載の装置。
- クロック信号を発生するクロック発生手段と、
前記位置表示を受け取り、前記位置表示に応答して前記クロック発生手段を制御する、コントローラと、
を備えている、請求項1乃至4のいずれか1項に記載の装置。 - 前記クロック信号に応答して、データ保持レーザービームを変調するデータモジュレータを備えている、請求項6に記載の装置。
- 表面に亘ってビームを走査するための装置であって、
第1のビームと、
前記第1のビームをその入力部分で受け取り、変調信号に基づいて、変調されたビームをその出力部分で生成する、モジュレータと、
パルス化された第2のビームと、
前記変調されたビーム及び前記第2のビームを受け取り、前記表面に亘る第1のビーム経路で、該変調されたビームを走査し、該第1のビーム経路に略平行な第2のビーム経路に沿って前記第2のビームを走査する、スキャナーと、
前記第2のビームを検出し、前記第2のビーム経路上にあり得る少なくとも1つの位置で前記第2のビームの検出位置を周期的に示す、センサーと、
前記第2のビーム経路における前記第2のビームの検出位置に少なくとも部分的に応答して、前記モジュレータに前記変調信号を提供する、コントローラと、
を含む、装置。 - 前記変調信号は、所定のデータレートで制御され、前記第1及び第2のビームは、前記データレートよりも実質的に高いレートでパルス化されている、請求項8に記載の装置。
- 前記変調信号は、所定のデータレートで制御され、前記第1及び第2のビームは、前記データレートよりも実質的に低いレートでパルス化されている、請求項8に記載の装置。
- 前記変調信号は、所定のデータレートで制御され、前記第1及び第2のビームは、前記データレートよりも実質的に同じレートでパルス化されている、請求項8に記載の装置。
- 前記第1及び第2のビームは実質的に同じ波長を有する、請求項8に記載の装置。
- 前記第1のビームは、前記第2のビームの波長と異なる波長でエネルギーを備える、請求項8に記載の装置。
- 標識化スケールを備えており、前記第2のビームが、該標識化スケールに当たり該スケールから反射されて、変調された反射パルス化ビームを形成する、請求項8乃至13のいずれか1項に記載の装置。
- 前記第2のビームは、その表面に所定の角度をなして前記スケール上に当たり、前記変調された反射パルス化ビームは、所定軸に沿って反射され、該軸は、前記第2のパルス化ビームが前記スケール上に沿って当たるところの軸とは異なっている、請求項14に記載の装置。
- 前記センサーは検出器を備え、該検出器は、前記変調された反射パルス化ビームを受け取り、そこから変調信号を発生し、前記コントローラは、前記変調信号に調整されたタイミングに基づいて前記変調を提供する、請求項14に記載の装置。
- 前記コントローラは、
前記変調された信号を受け取り、且つ、該変調信号の周波数に制御可能に関連付けられたクロック周波数を有するタイミングクロックを発生する、クロック発生器を備えている、請求項16に記載の装置。 - 前記クロック発生器は、
中間クロックと、これと同じ周波数で逆位相を有する逆中間クロックと、を発生する第1の発生器と、
前記中間クロック及び前記逆中間クロックを各々受け取る2つの入力部と、該2つの入力部の一方におけるクロックが選択的に切り替えられるところのタイミングクロック出力部と、を有し、該出力部における該タイミングクロックの平均周波数が、前記選択的な切り替えにより制御されるようにした、スイッチング回路と、
を備える、請求項17に記載の装置。 - 前記スイッチング回路は、クロック訂正情報に応答して、前記入力部を前記出力部に切り替える、請求項18に記載の装置。
- 格納された変調情報を含むデータ格納部を備えており、該データ格納部は、前記安定クロックのタイミングに基づいて、前記第1のビームを変調するため前記モジュレータに前記情報をパスする、請求項16に記載の装置。
- 前記変調された光ビームは、第1の方向に前記表面に亘って走査し、該表面は、該表面がラスター走査により照明されるように、走査方向に垂直な方向に移動する、請求項8乃至13のいずれか1項に記載の装置。
- 前記表面は、感光性フォトレジストを含んでいる、請求項8乃至13のいずれか1項に記載の装置。
- 前記第1のビーム及び前記第2のビームは、レーザービームを各々含んでいる、請求項8乃至13のいずれか1項に記載の装置。
- 前記変調された光ビームの変調は、前記第2のパルス化ビームのパルスと非同期である、請求項8乃至13のいずれか1項に記載の装置。
- 基板上にパターンを記録するためのシステムであって、
パルス化レーザービームを出力するパルス化レーザーと、
前記パルス化レーザービームを受け取り、ピクセル画成信号に応答して、変調されたパルス化ビームを生成するモジュレータと、
変調されたパルス化ビームを受け取り、前記基板の表面に亘って該ビームを走査して前記表面上のピクセルにより画成されたパターンを記録する、スキャナーと、
を含み、
前記ピクセル画成信号の立ち上がり時間は、前記ピクセルのピクセル周期よりも少ない、前記システム。 - 電子回路を製造するための方法であって、
位置変調パルス化レーザービームを提供するため、標識形成表面に亘ってパルス化レーザービームを走査し、
前記位置変調パルス化レーザービームを検出し、該検出に少なくとも部分的に応答して、前記標識形成表面上の前記パルス化レーザービームの位置を示す、位置表示を出力し、
電子回路基板上に形成された感光表面に亘ってデータ変調レーザービームを走査し、
所定の電子回路パターンに従って、前記感光表面を露光するため、前記位置表示に応答して、前記データ変調レーザービームを変調する、各工程を含む、方法。 - 電子回路を製造するための装置であって、
位置変調パルス化レーザービームを提供するため、標識形成表面に亘ってパルス化レーザービームを走査すると共に、電子回路基板上に形成された感光表面に亘ってデータ変調レーザービームを走査する、スキャナーと、
前記位置変調パルス化レーザービームを検出し、前記標識形成表面上の前記パルス化レーザービームの位置を示す位置表示を出力するように作動するビーム位置決定器と、
前記感光表面上に所定のパターンを記録するため、前記位置表示信号に少なくとも部分的に応答して、前記データ変調レーザービームを変調する、モジュレータと、
を含んでいる、装置。
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