JP2717562B2

JP2717562B2 - 走査式描画装置

Info

Publication number: JP2717562B2
Application number: JP63307452A
Authority: JP
Inventors: 紘明安東; 道夫大島; 祐二松井; 隆志奥山; 利隆吉村; 秀孝山口; 安池田; 純野中; 民博三好; 光雄柿本; 正俊岩間; 英行森田; 悟立原; 玲森本; 明大脇
Original assignee: 旭光学工業株式会社
Priority date: 1988-12-05
Filing date: 1988-12-05
Publication date: 1998-02-18
Anticipated expiration: 2013-02-18
Also published as: JPH02151499A; DE3940204A1; US5117106A

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）この発明は、走査式描画装置に関し、詳しくはビーム
光射出装置から射出されるビーム光を被露光体の面上に
走査しながら、描画メモリに記憶されている描画データ
に基づいて前記ビーム光射出装置から出力されるビーム
光を制御して被露光体の面上を描画していく走査式描画
装置に関する。

（従来の技術）一般に、液晶の電極やシャドーマスク等のパターンの
描画には走査式描画装置が使用される。この走査式描画
装置は、第９図に概略的に示すように、レーザー光201
をシャッタ装置202に向けて射出するレーザー光射出装
置203と、シャッタ装置202を通過してきたレーザー光20
1をシャドーマスク等の基板（被露光体）204上に走査す
る走査装置205と、描画データを記憶しているメモリ206
と、メモリ206の読み出しや走査装置205の制御を行うコ
ントローラ207等から構成されている。

コントローラ207は走査装置205によるレーザー光201
の走査に対応してタイミングパルスを出力してメモリ20
8から描画データを出力させるものであり、そして、こ
の描画データに基づいてシャッタ装置202がオン・オフ
し、これにより、レーザー光201が描画データに基づい
て基板204上を露光して描画して行くものである。

なお、レーザー光の一走査期間におけるメモリ206か
ら出力されるデータの数とタイミングパルス数とは一致
している。

（発明が解決しようとする課題）ところで、近年、液晶パネルの高画質化や集積回路の
高密度化等により液晶電極やシャドーマスクのパターン
の精密化が要求されている。この要求に応えるため、レ
ーザー光のスポット径を小さくして、ドットを細かくす
るとともにドットの密度を高めて描画の画素数を増加さ
せて精密な描画が描けるようにしている。

しかしながら、描画の画素数の増加に対応してメモリ
に記憶されるデータの数が増加するので、データの増加
にともないそのデータを読み出すタイミングパルスの周
波数を高くする必要がある。このタイミングパルスの周
波数が高くなると、そのタイミングパルスの制御が難し
く、さらに妨害電波が発生する等の種々の問題があっ
た。

（発明の目的）そこで、この発明は、上記問題点に鑑みてなされたも
ので、その目的とするところは、タイミングパルスの周
波数を低くしても短時間に多くのデータを読み出すこと
ができ、もって精密なパーンを描画することのできる描
画装置を提供することにある。

（課題を解決するための手段）この発明は、上記の目的を達成するため、ビーム光射
出手段から射出されるビーム光を被露光体の面上に走査
しながら、描画メモリに記憶されている描画データに基
づいて前記ビーム光射出手段から出力されるビーム光を
制御して被露光体の面上を描画していく走査式描画装置
であって、前記ビーム光が所定量走査される毎に走査パルスを発
生する走査パルス発生手段と、前記走査パルスを、所定時間づつ遅延させた複数のタ
イミングパルスに変換するとともに、これらタイミング
パルスをパラレルに出力して、それぞれのタイミングパ
ルスで前記描画メモリの描画データを読み出していく遅
延手段とを備えたものである。

（作用）ビーム光が所定量走査される毎に走査パルス発生手段
から走査パルスが発生し、遅延手段が、この走査パルス
を、所定時間づつ遅延させた複数のタイミングパルスに
変換するとともに、これらタイミングパルスをパラレル
に出力して、それぞれのタイミングパルスで描画メモリ
の描画データを読み出していくので、各タイミングパル
スの周波数が低くても、短時間に多くの描画データを読
み出すことができ、妨害電波を出さずに精密なパターン
を描画することができる。

（実施例）以下、この発明に係わる走査式描画装置の実施例を図
面を参照しつつ説明する。

第２図は走査式描画装置の概略構成を示す図であっ
て、10は本体部、11、12はその脚部、13はＸテーブル、
14はＹテーブルである。Ｘテーブル15は矢印Ｘ方向にス
ライドされ、Ｙテーブル14は矢印Ｙ方向にスライドさ
れ、Ｙテーブル14には描画板部15が設けられている。Ｘ
テーブル13、Ｙテーブル14はレーザー測長器によって位
置出しされるもので、本体部10の光学ヘッド部16には測
長用レーザー光源17が設けられ、Ｙテーブル14にはＸ軸
用反射ミラー18とＹ軸用反射ミラー19とが設けられ、測
長用レーザー光源17から射出された測長用レーザービー
ムは２分割されて各反射ミラー18、19に導かれ、その各
反射ミラー18、19により反射された測長用レーザービー
ムを受光することによりＸテーブルは13、Ｙテーブル14
の位置出しが行われるものとなっている。

光学ヘッド部16は、レーザー光源20を有する。このレ
ーザー光源20から出射されたレーザービーム光はシャッ
ター21を通過してハーフミラー22に導かれる。このハー
フミラー22は反射光量が略５％に設定されている。レー
ザービーム光はこのハーフミラー22によって分割され、
一部はビームベンダー23に向けて反射されてモニター光
L₀として用いられ、大部分はそのハーフミラー22を透過
して二分の一波長板24に導かれて後述する走査ビームと
なる。

二分の一波長板24は後述する光変調器としてのAO変調
器（音響光学素子を用いた超音波光学変調器）に対して
レーザー光がＳ偏光として入射しかつ後述する偏光合成
器に対してＰ偏光として入射するように偏光方向を90°
回転させる機能を有する。その二分の一波長板24を通過
したレーザー光はビームスプリッタ25に導かれ、そのレ
ーザー光の半分はそのビームスプリッタ25により反射さ
れて第１描画光L₁としてビームベンダー26を介してレン
ズ27に導かれ、そのレーザー光の残りの半分はそのビー
ムスプリッタ25を透過して第２描画光L₂としてレンズ28
に導かれる。ここで２本の第1,第２描画光L₁、L₂を用い
ることにしたのは描画スピードの向上を図るためであ
る。

第1,第２描画光L₁、L₂はそのレンズ27、28によりAO変
調器29、30が設けられている箇所に集光される。AO変調
器29、30はスイープオシレータ81,82（第１図参照）か
ら入力される超音波により制御されて、被露光面４上
（第８図参照）でのドット形成の際のスポットのオン・
オフに用いられる。

このAO変調器29,30は、超音波の入力により第1,第２
描画光L₁、L₂を透過光から回折光へと切り換えるもので
あり、そのAO変調器29、30から出射される一次の回折光
が描画に用いられる。そのスイープオシレータ81,82は
ドット単位の露光情報に基づき超音波をAO変調器29,30
に入力させるが、露光情報は走査線の１ライン毎に対応
して後述するラインメモリに記憶されているので、各ス
イープオシレータ81,82は１ライン毎にずれた露光情報
に基づき駆動される。

各回折光はそれぞれレンズ31、32に導かれて、平行光
束とされる。レンズ31により平行光束とされた一次の回
折光はプリズムからなる光軸微調部33、34により所定の
微小角度偏向されて、レンズ系35に導かれる。レンズ32
により平行光束とされた一次の回折光は光軸微調部36、
ビームベンダー37、光軸微調部38、ビームベンダー39を
介してレンズ系35に入射される。ここで、光軸微調部3
3、34、36、38は被露光面上での走査ビームのスポット
を微小量分離すると共に、各スポットの収束性能を高く
保つ作用を果たす。

レンズ系35を通過した第1,第２描画光L₁，L₂はポリゴ
ンミラー１の分割面倒れに基づき反射方向が正規の反射
方向からずれるのを補正するための補正用AO変調器40に
導かれる。

補正用AO変調器40から出射された第1,第２描画光L₁、
L₂は、リレーレンズ系41、レンズ系42を介して光量調整
用のバリアブルフィルター43に導かれ、このバリアブル
フィルター43を透過してビームベンダー44により光路を
偏向されて偏光合成器45に導あれる。この偏光合成器45
はモニター光L₀の光路と第1,第２描画光L₁，L₂の光路と
を合成する機能を有するもので、モニター光L₀は光軸微
調部46,47、ビームベンダー48,49を経由して偏光合成器
45に導かれるものである。モニター光L₀は偏光合成器45
に対してＳ偏光として入射するのでその偏光合成器45に
より二分の一波長板50に向けて反射され、第1,第２描画
光L₁，L₂は偏光合成器45に対してＰ偏光として入射する
ためその偏光合成器45を透過して二分の一波長板50に導
かれる。なお、レンズ系35,42はビームエキスパンダー
を構成するもので、そのレンズ系35に入射前の第1,第２
描画光L₁，L₂の直径をレンズ系42から出射されるときに
1.67倍に拡大する機能を有する。

第1,第２描画光L₁，L₂とモニター光L₀とは、二分の一
波長板50によりそれぞれ偏光方向が90°回転され、レン
ズ系51、ビームベンダー52を介してレンズ系53に導かれ
る。そして、このレンズ系53を通過した第1,第２描画光
L₁、L₂とモニター光l₀とは、ビームベンダー54、55、56
を介してポリゴンミラー１に向けて偏向され、このポリ
ゴンミラー１の分割面２によって描画板部15の被露光面
４に向けて反射される。なお、レンズ系51とレンズ系53
とは、そのレンズ系51に入射する第1,第２描画光L₁、L₂
のレーザービームの光束径とモニター光L₀の光束径とを
略21倍に拡大するビームエキスパンダーとして機能す
る。これは、被露光面４上でのビームウエストを小さく
絞ることによりスポット径を極力収束させるためであ
る。また、リレーレンズ系41は、補正用AO変調器40とポ
リゴンミラー１の分割面２とを共役とする役割を果た
す。これは、ポリゴンミラー１の各分割面２の倒れ角θ
に基づく反射方向のずれを補正するために補正用AO変調
器40により回折光の出射方向を偏向することにすると、
ポリゴンミラー１の分割面２における反射箇所が出射方
向変更前の反射箇所からずれるので、これを防止するた
めである。

モニター光L₀はポリゴンミラー１の分割面２により反
射された後、ｆθレンジ70を介してビームスプリッタ71
に導かれ、このビームスプリッタ71により反射されて、
モニター部69に導かれる。このモニター部69は走査方向
に長く延びるスケール73と受光ファイバー系73とから大
略構成され、スケール72には幅80μｍのスリット72a
（第１図参照）が160μｍのピッチで走査方向に複数形
成されている。この受光ファイバー系73は、光ファイバ
ー73aとこの光ファイバー73aの両端に設置された受光セ
ンサ73b（第２図参照）とから構成され、受光センサ73b
がそのモニター光L₀の透過光量の変化に基づき走査速度
に比例する周波数のパルスを出力する。このパルスから
走査アドレス情報としての位置パルス（後述する）を生
成するのに用いられる。

ポリゴンミラー１による走査ビームは、ｆθレンズ70
によって収束され、偏光ビームスプリッター71を透過
し、被露光面４に直径５μｍの２つの第1,第２スポット
R₁，R₂（第７図参照）を形成し、その二つのスポット
は、主走査方向に対して20μｍ、副走査方向に対して2.
5μｍだけ離間して形成され、被露光面４は２本の走査
ビームにより同時に走査される。

また、第３図に示すように、ポリゴンミラー１の分割
面２の所定区間Ｋだけ第1,第２描画光L₁，L₂が当たるよ
うになっており、その所定区間Ｋは、第８図に示す被露
光体４の露光開始位置4aと露光終了位置4bとの区間に対
応している。

なお、レーザー光源20とAO変調器29,30等からビーム
光射出手段が構成される。

第１図は、受光ファイバ系73の受光センサ73bから出
力されるパルスに基づいて描画データの読み出しやAO変
調器等を制御する制御系の構成を示したブロック図であ
り、図において、58はポリゴンミラー１の一回転を検出
するための回転位置検出センサーで、このセンサー58は
回転スリット板60と発光・受光部61とからなり、回転ス
リット板60には１個のスリット62が形成されている。

回転スリット板60はポリゴンミラー１と一体に回転す
るもので、発光・受光部61はポリゴンミラー１の一回転
毎に１個のパルス（回転信号）を出力する。その発光・
受光部61のパルスは後述するタイミングコントローラ10
1に入力する。

100は受光センサ73bから出力されるパルスを第４図の
（Ａ）に示すように波形成形するパルス生成器（走査パ
ルス発生手段）である。受光センサ73bから出力される
パルスの同期Ｔはスケール72に形成されたシリット72a
のピッチ160μｍに対応している。

101は、パルス生成器100から出力される位置パルス
と、回転位置検出センサー58から出力される回転信号と
に基づいて後述するラインメモリ111〜114の読出し・書
込みのタイミングやシリアル変換器120,150の変換タイ
ミング等を制御するタイミングコントローラである。

なお、タイミングコントローラ101は、回転位置セン
サー58の出力からポリゴンミラー１の回転を検出すると
共に、この一回転の間を電気的に８分割してポリゴンミ
ラー１の反射面の切り替わりを判断する。

このタイミングコントローラ101は、後述するラスタ
ーエンジン102からデータを読み出すための第１読出し
タイミング信号と、ラインメモリ111〜114を指定する指
定信号と、ラインメモリ111〜114からデータを読み出す
第２読出しタイミング信号を出力する。また、タイミン
グコントローラ101は第４図に示すように、ラインメモ
リ101〜104からデータを読み出す時期t₁になったとき、
すなわち、パルス生成器100から所定数Ｚのパルスが発
生したとき、走査パルスＦを順次出力していくものであ
る。この走査パルスの幅はパルス生成器100から出力さ
れるパルスを８分割したもの、すなわち20μｍに相当
し、周期は40μｍに相当する。

102は図示しない入力装置によって入力された、被露
光体４の面上に描かれるべき描画像の描画データを作成
して該描画データを記憶し、タイミングコントローラ10
1から出力される第１読出しタイミング信号により描画
データの一ラインづつのラインデータを順次出力してい
くラスターエンジン、103はラスターエンジン102から出
力されるラインデータを記憶するラインメモリ111〜114
をタイミングコントローラ101から出力される指定信号
に基づいて指定するゲート回路である。

ラインメモリ111〜114は、ラスターエンジン102から
出力されたラインデータを記憶し、タイミングコントロ
ーラ101から出力される第２読出しタイミング信号によ
り、記憶したラインデータを32ビットのパラレル信号と
して順次出力していくものである。なお、ラスターエン
ジン102とラインメモリ111〜114がこの発明にいう描画
メモリに相当する。

ラインメモリ111,112は第１描画光L₁を制御するため
のデータを記憶するものであり、ラインメモリ113,114
は第２描画光L₂を制御するためのデータを記憶するもの
である。

ラインメモリ111,112には先ず最初に、一番目，三番
目の走査ラインのラインデータM₁，M₃がそれぞれ記憶さ
れ、ラインメモリ113,114には二番目，四番目の走査ラ
インのラインデータM₂，M₄がそれぞれ記憶される。

そして、ラインメモリ111,113から一番目，二番目の
走査ラインのラインデータM₁，M₂が読み出されて第1,第
２描画光L₁，L₂の制御が行われる。この第1,第２描画光
L₁，L₂により一回目の走査が終了すると、ラインメモリ
112,114から三番目，四番目の走査ラインのデータM₃，M
₄が読み出されて２回目の走査が行われる。

一方、この２回目の走査が行われているとき、すなわ
ち、ラインメモリ112,114から三番目，四番目のライン
データM₃，M₄がが読み出されているときラインメモリ11
1,113には五番目，六番目のラインデータが書き込まれ
る。同様に、ラインメモリ111,113から五番目，六番目
のラインデータが読み出されているとき、ラインメモリ
112,114には七番目，八番目のラインデータが書き込ま
れる。

このようにして、ラインデータの書き込みと読み込出
しを交互に行いながら第1,第２描画光L₁，L₂の走査を連
続的に行うものである。

シリアル変換器120,150は、ラインメモリ111〜114か
ら32ビットづつパラレルに出力されるラインデータをシ
リアルに変換するものである。

これは、第５図に示すように、ラインメモリ111〜114
から32ビットづつパラレルに出力されるラインデータを
８ビットづつ４つに分割する制御器125,155と、４つに
分割された８ビットのパラレルデータを記憶しタイミン
グコントローラ101から出力される転送信号によりその
記憶したデータをパラレルに転送する８ビットメモリ12
1〜124,151〜154と、８ビットメモリ121〜124,151〜154
から転送される８ビットのパラレルデータを後述するタ
イミングパルスの立上りによってシリアルデータに変換
して順次出力していく８ビットのゲート回路131,161
と、上記の転送される８ビットのパラレルデータを前記
のタイミングパルスの立下がりによってシリアルデータ
に変換して順次出力していく８ビットのゲート回路132,
162と、オア回路133,163と、走査パルスＦが入力される
ラインH₁，H₂に並列接続されたデイレイライン（遅延手
段）140〜148,190〜198,170〜178,180〜188等とから構
成されている。Ｇはバスである。

なお、制御器125,155によるデータの分割,8ビットメ
モリ121〜124,151〜154のデータの書き込み，そのデー
タの転送等はタイミングコントローラ101によって行わ
れる。

これら、デイレイライン140〜148,190〜198,170〜17
8,180〜188は、タイミングコントローラ101から出力さ
れる走査パルスＦを、所定時間づつ遅延させて９個のタ
イミングパルスＰに変換するとともに、これらタイミン
グパルスＰをゲート回路131,132,161,162に入力させる
ものである。

そして、その遅延時間は2.5μｍに相当し、デイレイ
ライン141はデイレイライン140より2.5μｍ長い遅延時
間を有している。同様に、デイレイライン142〜148はデ
イレイライン141〜147より2.5μｍ長い遅延時間を有し
ている。また、デイレイライン140〜148とデイレイライ
ン190〜198,170〜178,180〜188とは同一の遅延時間を有
している。

いま、ラインメモリ111から32ビットのパラレルデー
タが出力され、そのパラレルデータが制御器125により
４つの８ビットのパラレルデータD₁，D₂，D₃，D₄に分割
されて、８ビットメモリ121〜124に例えば第５図におい
て上のメモリからそれぞれ順番にパラレルデータD₁，
D₂，D₃，D₄が記憶されると、８ビットメモリ121から８
ビットのパラレルデータD₁がゲート回路131に転送さ
れ、８ビットメモリ122から８ビットのパラレルデータD
₂がゲート回路132に転送される。

そして、タイミングコントローラ101から第４図に示
す走査パルスＦが出力されて、第６図に示すように、デ
イレイライン140〜148により９個のタイミングパルスＰ
に変換され、デイレイライン140を介してタイミングパ
ルスＰの立上りP₀がゲート回路131に入力する。する
と、例えば、ゲート回路131に転送されたパラレルデー
タが第６図のD₁に示すように、「01110001」である場
合、データ「０」がゲート回路131から出力される。次
に、デイレイライン142によって所定時間遅延されたタ
イミングパルスＰの立上りP₁がゲート回路131に入力さ
れると、データ「１」がゲート回路131から出力され
る。同様に、デイレイライン143〜148によって所定時間
づつ遅延されたタイミングパルスＰの立上りP₂〜P₇がゲ
ート回路131に順次入力されると、データ「１」「１」
「０」「０」「０」「１」がシリーズに順次出力されて
いく。

次いで、デイレイライン149によってタイミングパル
スＰの立上りP₈がゲート回路131に入力されると、前記
の立上りP₇によってゲート回路131から出力されている
データ「１」の出力が停止される。

ところで、ゲート回路132にもタイミングパルスＰの
立上りP₀〜P₈が入力されるが、ゲート回路132は、パル
スの立上りでデータを出力しないものであるから、ゲー
ト回路131からデータD₁が出力されている間データD₂を
出力しない。

上記の立上りP₈のゲート回路131への入力と同時に、
デイレイライン190によるタイミングパルスＰの立下が
りP₉がゲート回路132に入力される。これにより、パラ
レルデータD₂（第６図参照）の「０」が出力される。次
いで、デイレイライン191〜198によって所定時間づつ遅
延されたタイミングパルスＰの立下りP₁₀〜P₁₆が順次ゲ
ート回路132へ入力されると、上記と同様に、データ
「０」「１」「１」「１」「０」「０」「１」がシリー
ズにゲート回路132から順次出力される。

そして、タイミングパルスＰの立下りP₁₇がゲート回
路132に入力されると、ゲート回路132から出力されてい
るデータ「１」の出力が停止される。

ゲート回路132からデータD₂が出力されているとき、
ゲート回路131にタイミングパルスＰの立下りP₉〜P₁₇が
入力されるが、ゲート回路131は、パルスの立下りでデ
ータを出力しないものであるから、そのデータD₂が出力
されている間データを出力しない。

このように、周波数の低い複数のタイミングパルスを
所定時間づつ遅延させてゲート回路131,132に入力させ
たものであるから、短時間に多くの描画データを読み出
すことができ、しかもタイミングパルスの周波数が低い
ので妨害電波の発生は少ないものとなる。

一方、ゲート回路132からシリアルデータD₂が読み出
されているとき、ゲート回路131には８ビットメモリ123
に記憶されたパラレルデータD₃が転送される。同様に、
ゲート回路131からシリアルデータD₃が読み出されてい
るとき、ゲート回路132には８ビットメモリ124に記憶さ
れているパラレルデータD₄が転送される。このようにし
て、32ビットのパラレルデータがシリアルデータに変換
されて順次出力されていくものである。

ところで、８ビットメモリ121〜124に記憶されたパラ
レルデータD₁〜D₄がゲート回路131,132へ順次転送され
ていき、８ビットメモリ121〜124が順次空いていくが、
この空いた８ビットメモリ121〜124には、新たな32ビッ
トのパラレルデータD₁′〜D₄′が順次記憶されていく。
そして、上記と同様にして、そのデータD₁′〜D₄′がゲ
ート回路131,132に順次転送される。

これら動作が繰り返し行われることによってラインメ
モリ111に記憶された一ラインのラインデータがシリア
ルに出力されることとなる。

ゲート回路131,132から出力されるシリアルデータは
オア回路133を介してスイープオシレータ80に入力され
る。スイープオシレータ80はそのデータが「１」のとき
超音波AO変調器29に入力させて、第１描画光L₁を回折光
に切換え、被露光体４の所定位置を露光させる。データ
が「０」のとき超音波の入力を停止させて、第１描画光
L₁を透過光に切換え、被露光体４の所定位置を非露光状
態とする。このようにして、被露光体４の面上に精密な
描画が行なわれる。

シリアル変換器150の動作はシリアル変換器120と全く
同一なので、その説明は省略する。

ところで、被露光面４の露光開始位置4a,露光終了位
置4bとスケール72の位置S₁，S₂とは第８図に示すように
対応しており、モニター光L₀と第1,第２描画光L₁，L₂と
の位置関係は、第７図に示すように、第１描画光L₁がモ
ニター光L₀よりも10μｍ前方に位置し、第２描画光L₂が
モニター光L₀よりも10μｍ後方に位置するようになって
いる。

したがって、モニター光L₀が第７図に示す位置S₀にき
たとき、シリアル変換器120からラインデータを読み出
さなければならない。これは、モニター光L₀がスケール
72のスリット72aが形成されている位置72cから位置S₀ま
で走査したときにパルス生成器100から出力されるパル
ス数を予め測定しておき、タイミングコントローラ101
がパルス生成器100から出力されるパルスをカウントし
てそのカウント数が測定したカウント数になったとき走
査パルスＦを出力すればよい。

また、第１描画光L₁と第２描画光L₂とは主走査方向に
対して20μｍ離間しているので、リアル変換器120のラ
インH₁に走査パルスＦが入力された時点t₁から位置パル
スは１個発生した後走査パルスＦをシリアル変換器150
のラインH₂に入力させて、第２描画光L₂用のデータの読
み出しを遅らせている。すなわち、第４図に示す時点t₁
からラインデータM₁が読み出されてから、位置パルスの
１パルスの分遅れた時点t₂からラインデータM₂が読み出
されることとなる。

（効果）以上のように、この発明によれば、ビーム光が所定量
走査される毎に走査パルス発生手段から走査パルスが発
生し、遅延手段が、この走査パルスを、所定時間づつ遅
延させた複数のタイミングパルスに変換するとともに、
これらタイミングパルスをパラレルに出力して、それぞ
れのタイミングパルスで描画メモリの描画データを読み
出していくので、各タイミングパルスの周波数が低くて
も、短時間に多くの描画データを読み出すことができ、
妨害電波を出さずに精密なパターンを描画することがで
きる等の効果を有する。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明に係わる走査式描画装置の制御系の構
成を示したブロック図、第２図は走査式描画装置の概略
構成を示す斜視図、第３図はポリゴンミラーの説明図、
第４図は位置パルスと走査パルス等との関係を示した説
明図、第５図はシリアル変換器の回路図、第６図はタイ
ミングパルスの説明図、第７図はモニター光と第1,第２
描画との位置関係を示した説明図、第８図はスケールと
被露光体における描画光の走査範囲との対応関係を示し
た説明図、第９図は従来の走査式描画装置の構成を概略
的に示した概略構成図である。１…ポリゴンミラー、４…被露光面 20…レーザー光源、29,30…AO変調器 80,81…スイープオシレータ 100…パルス生成器 102…ラスターエンジン 111〜114…ラインメモリ 140〜148,190〜198…デイレイライン 170〜178,180〜188…デイレイライン

フロントページの続き (72)発明者奥山隆志東京都板橋区前野町２丁目36番９号旭光学工業株式会社内 (72)発明者吉村利隆東京都板橋区前野町２丁目36番９号旭光学工業株式会社内 (72)発明者山口秀孝東京都板橋区前野町２丁目36番９号旭光学工業株式会社内 (72)発明者池田安東京都板橋区前野町２丁目36番９号旭光学工業株式会社内 (72)発明者野中純東京都板橋区前野町２丁目36番９号旭光学工業株式会社内 (72)発明者三好民博東京都板橋区前野町２丁目36番９号旭光学工業株式会社内 (72)発明者柿本光雄東京都板橋区前野町２丁目36番９号旭光学工業株式会社内 (72)発明者岩間正俊東京都板橋区前野町２丁目36番９号旭光学工業株式会社内 (72)発明者森田英行東京都板橋区前野町２丁目36番９号旭光学工業株式会社内 (72)発明者立原悟東京都板橋区前野町２丁目36番９号旭光学工業株式会社内 (72)発明者森本玲東京都板橋区前野町２丁目36番９号旭光学工業株式会社内 (72)発明者大脇明東京都板橋区前野町２丁目36番９号旭光学工業株式会社内 (56)参考文献特開昭56−42693（ＪＰ，Ａ)

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】ビーム光射出手段から射出されるビーム光
を被露光体の面上に走査しながら、描画メモリに記憶さ
れている描画データに基づいて前記ビーム光射出手段か
ら出力されるビーム光を制御して被露光体の面上を描画
していく走査式描画装置であって、前記ビーム光が所定量走査される毎に走査パルスを発生
する走査パルス発生手段と、前記走査パルスを、所定時間づつ遅延させた複数のタイ
ミングパルスに変換するとともに、これらタイミングパ
ルスをパラレルに出力して、それぞれのタイミングパル
スで前記描画メモリの描画データを読み出していく遅延
手段とを備えていることを特徴とする走査式描画装置。