JP2004524706A5 - - Google Patents

Claims (33)

1. Ａ）実質的に０．１ｐｍよりも大きいプレフィルタ帯域幅を形成する第１のパルス出力レーザビームを生成するように構成された第１のＦ₂レーザ光源と、
   Ｂ）前記第１のパルス出力レーザビームを受けるように位置決めされ、前記プレフィルタ帯域幅を尖鋭化して０．１ｐｍ又はそれ以下のポストフィルタ帯域幅を有する濾過されたビームを生成するプレ電力利得光学フィルタと、
   Ｃ）前記濾過されたビームを受け止め、それを増幅して３ｍＪよりも大きいエネルギを有し尖鋭化された出力帯域幅を形成するパルスを有する増幅されたパルスレーザビームを生成するように位置決めされた電力利得レーザと、
   を含むことを特徴とするＦ₂レーザシステム。
2. 前記増幅されたパルスレーザビームを受けるように位置決めされ、前記尖鋭化された出力帯域幅を更に尖鋭化するポスト出力フィルタを更に含むことを特徴とする請求項１に記載のレーザシステム。
3. 前記第１のＦ₂レーザ光源は、面平行光学共振器を有するＦ₂レーザであることを特徴とする請求項１に記載のレーザシステム。
4. 前記第１のＦ₂レーザ光源は、不安定共振器を有するＦ₂レーザであることを特徴とする請求項１に記載のレーザシステム。
5. 前記第１のＦ₂レーザ光源は、１０〜１００μＪの範囲の出力を生成するように構成されることを特徴とする請求項４に記載のレーザシステム。
6. 前記プレ利得フィルタは、単色光分光器を含むことを特徴とする請求項１に記載のレーザシステム。
7. 前記単色光分光器は、回折格子単色光分光器であることを特徴とする請求項６に記載のレーザシステム。
8. 前記回折格子単色光分光器は、 リスロー形態で配置された回折格子を含むことを特徴とする請求項７に記載のレーザシステム。
9. 前記単色光分光器は、熱による歪みを回避するように構成されたスリットを含むことを特徴とする請求項６に記載のレーザシステム。
10. 前記スリットは、屈折スリットであることを特徴とする請求項９に記載のレーザシステム。
11. 前記プレ利得フィルタは、波長モニタを含むことを特徴とする請求項６に記載のレーザシステム。
12. 前記波長モニタは、ビームスプリッタ及び線形検出器アレーを含むことを特徴とする請求項１１に記載のレーザシステム。
13. 前記波長モニタはまた、注入シードパルスエネルギモニタを含むことを特徴とする請求項１２に記載のレーザシステム。
14. 前記単色光分光器は、前記第１のパルス出力レーザビームの発散を小さくして前記回折格子を照明する低発散ビームを生成するように構成されたビームエキスパンダを含むことを特徴とする請求項８に記載のレーザシステム。
15. 前記単色光分光器はまた、出口スリットと、前記回折格子から反射された光を前記出口スリット上に集束させるための集束光学装置とを含むことを特徴とする請求項１４に記載のレーザシステム。
16. 前記単色光分光器はまた、波長モニタを含むことを特徴とする請求項１４に記載のレーザシステム。
17. 前記波長モニタは、ビームスプリッタ及び線形検出器アレーを含むことを特徴とする請求項１６に記載のレーザシステム。
18. 前記プレ利得フィルタは、エタロンフィルタであることを特徴とする請求項１に記載のレーザシステム。
19. 前記エタロンフィルタは、ビームエキスパンダ及び部分拡散器を含むことを特徴とする請求項１８に記載のレーザシステム。
20. 前記単色光分光器は、プロセッサコントローラと、前記第１の濾過ビームの波長を制御するためのフィードバックループとを含むことを特徴とする請求項７に記載のレーザシステム。
21. 前記プレ利得フィルタは、プロセッサコントローラと、前記第１の濾過ビームの波長を制御するためのフィードバックループとを含むことを特徴とする請求項１８に記載のレーザシステム。
22. 前記電力利得レーザは、電力発振器として構成されることを特徴とする請求項１に記載のレーザシステム。
23. 前記レーザは、フレネルコアを形成する共振器を含み、
    前記レーザはまた、高反射凸面ミラー及び高反射凹面ミラーを含む、
    ことを特徴とする請求項２２に記載のレーザシステム。
24. 前記電力利得レーザが、電力増幅器であることを特徴とする請求項１に記載のレーザシステム。
25. 前記電力増幅器は、軸外電力増幅器であることを特徴とする請求項２４に記載のレーザシステム。
26. 前記ポスト出力フィルタは、レーザシステムで生成された赤色光及び赤外線を濾過する赤色光及び赤外線フィルターであることを特徴とする請求項２に記載のレーザシステム。
27. 前記ポスト出力フィルタは、単色光分光器を含むことを特徴とする請求項２に記載のレーザシステム。
28. 前記ポスト出力フィルタは、エタロンを含むことを特徴とする請求項２に記載のレーザシステム。
29. Ａ）実質的に０．１ｐｍよりも大きいプレフィルタ帯域幅を形成する第１のパルス出力レーザビームを第１のＦ₂レーザにおいて生成する段階と、
    Ｂ）前記第１のパルス出力レーザビームを受けるように位置決めされ、前記プレフィルタ帯域幅を濾過して０．１ｐｍ又はそれ以下のポストフィルタ帯域幅を有する濾過ビームを生成するプレ電力利得光学フィルタで、前記第１のパルス出力レーザビームを濾過する段階と、
    Ｃ）３ｍＪよりも大きいエネルギを有し尖鋭化された出力帯域幅を形成するパルスを有する増幅されたパルスレーザビームを生成するために、電力利得レーザにおいて前記濾過ビームを増幅する段階と、
    を含むことを特徴とする、狭帯域パルス紫外線レーザビームを生成する方法。
30. 前記尖鋭化された出力帯域幅をポスト出力フィルタを用いて更に尖鋭化する段階を更に含むことを特徴とする請求項２９に記載の方法。
31. 前記第１のＦ₂レーザは、面平行光学共振器を含むことを特徴とする請求項２９に記載の方法。
32. 前記第１のＦ２レーザは、不安定共振器を有するＦ₂レーザであることを特徴とする請求項２９に記載の方法。
33. 前記プレ利得フィルタは、単色光分光器を含むことを特徴とする請求項１に記載のレーザシステム。