JP2004523794A5 - - Google Patents

Claims (37)

1. 前記宝石用原石又はダイヤモンド上に露光像を形成するよう前記宝石用原石又はダイヤモンド上に露光放射線を投射する段階を含む、宝石用原石又は工業用ダイヤモンド上にマークを形成する方法であって、
   前記宝石用原石又はダイヤモンド上にセットアップ像を形成するよう、前記露光放射線とは異なるセットアップ放射線を前記宝石用原石又はダイヤモンド上に投射することにより前記露光像を位置決めし、方向付けし、及び／又は、合焦する段階を更に含み、
   前記セットアップ放射線はマークが形成されるようには又は形成されるであろうといったようには前記宝石用原石又はダイヤモンドに影響を与えず、
   前記宝石用原石又はダイヤモンド上のセットアップ像は前記宝石用原石又はダイヤモンドに到達する前に前記セットアップ放射線が辿る光学路の外側で検出され、
   前記宝石用原石又はダイヤモンド上のセットアップ像の位置決め及び／又は方向付け及び／又は合焦は、それによって前記露光像の位置決め及び／又は方向付け及び／又は合焦を調整するよう調整される、方法。
2. 前記セットアップ像は、対物レンズ又はレンズ系を通して投射され、前記対物レンズ又はレンズ系を通して検出される、請求項１記載の方法。
3. 前記セットアップ放射線と露光放射線は異なった波長を有する、請求項１又は２記載の方法。
4. 前記対物レンズ又はレンズ系は前記セットアップ放射線に対して及び前記露光放射線に対して補正される、請求項２及び３記載の方法。
5. 前記セットアップ放射線及び前記露光放射線は、同じ波長又は波長の帯域を有するが、前記セットアップ放射線は前記露光放射線よりも低い強度を有する、請求項１又は２記載の方法。
6. 前記マークはリソグラフィーによって形成され、前記宝石用原石又は工業用ダイヤモンドにフォトレジストが塗布され、前記レジストは前記セットアップ放射線に対して感度がない、請求項１乃至５のうちいずれか一項記載の方法。
7. 前記セットアップ放射線は可視範囲にある、請求項１乃至６のうちいずれか一項記載の方法。
8. 前記セットアップ像は目で見られる、請求項７記載の方法。
9. 前記セットアップ像は電子像検出器によって検出される、請求項１乃至７のうちいずれか一項記載の方法。
10. 前記セットアップ像はマスクを通じて前記セットアップ放射線を投射することによって形成され、前記露光像はマスクを通じて前記露光放射線を投射することによって形成される、請求項１乃至９のうちいずれか一項記載の方法。
11. 前記セットアップマスクは、少なくとも部分的には前記露光マスクと同じであり、前記セットアップ放射線及び前記露光放射線は共に前記マスクを通じて投射され、前記光学系は前記セットアップ放射線及び前記露光放射線に対して補正される、請求項１０記載の方法。
12. 前記セットアップ像及び前記露光像は、前記露光放射線に対して不透明であるが前記セットアップ放射線に対して透過性のある少なくとも１つのセットアップ領域と、前記露光放射線に対して透過性のある少なくとも１つの露光領域とを含むマスクを通じてセットアップ放射線及び露光放射線を投射することによって形成され、
    前記セットアップ領域は前記宝石用原石又はダイヤモンド上に前記露光像を位置決めし、及び／又は、方向付けし、及び／又は、合焦するための形状を画成し、
    前記方法は、前記宝石用原石又はダイヤモンド上にセットアップ像を形成するよう前記マスクを通じて前記セットアップ放射線を投射する段階と、前記セットアップ像を前記宝石用原石又はダイヤモンド上に位置決めし、及び／又は、方向付けし、及び／又は、合焦する段階と、前記宝石用原石又はダイヤモンド上に露光像を形成するよう前記マスクを通じて前記露光放射線を投射する段階と、結果として前記宝石用原石又はダイヤモンド上に前記マークを形成する段階とを含む、請求項１乃至９のうちいずれか一項記載の方法。
13. 前記露光領域は、形成されるべきマークの形状に対応する形状を画成する、請求項１２記載の方法。
14. 前記露光領域は前記露光放射線に対して透過性のある領域であり、前記露光放射線は走査される、請求項１２記載の方法。
15. 前記露光像は、実質的な縮小を伴うマスクを通じて前記露光放射線を投射することによって形成される、請求項１乃至１３のうちいずれか一項記載の方法。
16. 前記露光像は、多くともマスクの線形寸法の約１０分の１である、請求項１５記載の方法。
17. 前記露光像はマスクを通じて前記露光放射線を投射することによって形成され、前記マスクは、そのマスキング効果が自由に変更可能な個々の画素によって形成される少なくとも１つのゾーンを含み、連続する宝石用原石又はダイヤモンドの上には異なった露光像が投射されうる、請求項１乃至９又は１３乃至１６のうちいずれか一項記載の方法。
18. 前記セットアップ放射線及び露光放射線はビームスプリッタを通じて放射され、前記セットアップ像は前記ビームスプリッタを通じて見られる、請求項１乃至１７のうちいずれか一項記載の方法。
19. 前記露光放射線は前記宝石用原石上に露光像を形成するよう前記宝石用原石上にマスクを通じて投射され、前記マスクは、そのマスキング効果が自由に変更可能な個々の画素によって形成される少なくとも１つのゾーンを含み、前記マスクのマスキング効果を変更させることにより連続する前記宝石用原上に異なった露光像を投影する、
    請求項１乃至１８のうちいずれか一項記載の宝石用原石上にマークを形成する方法。
20. 前記マスクは液晶光弁を含む、請求項１９記載の方法。
21. 前記マスクはマイクロミラーアレイを含む、請求項１９記載の方法。
22. 宝石用原石又はダイヤモンド上に像を投射する光学系と、
    宝石用原石又はダイヤモンド上に露光像を形成するよう露光放射線を投射する手段と、
    宝石用原石又はダイヤモンド上にセットアップ像を形成するよう、マークが形成されるようには又は形成されるであろうといったようには前記宝石用原石又はダイヤモンドに影響を与えないセットアップ放射線を投射する手段と、
    前記宝石用原石又はダイヤモンドに到達する前に前記セットアップ放射線が辿る光学路の外側にあり、前記宝石用原石又はダイヤモンド上のセットアップ像を検出する手段と、
    前記宝石用原石又はダイヤモンド上のセットアップ像の位置決め、及び／又は、方向付け、及び／又は合焦を調整し、それによって前記露光像の位置決め、及び／又は、方向付け、及び／又は合焦を調整する手段とを有する、
    露光放射線を用いて宝石用原石又はダイヤモンド上にマークを形成するのに使用される装置。
23. 前記セットアップ像は、対物レンズ又はレンズ系を通して投射され、対物レンズ又はレンズ系を通して検出される、請求項２２記載の装置。
24. 前記セットアップ放射線と露光放射線は異なった波長を有する、請求項２２又は２３記載の装置。
25. 前記対物レンズ又はレンズ系は前記セットアップ放射線に対して及び前記露光放射線に対して補正される、請求項２３及び２４記載の装置。
26. 前記セットアップ放射線及び前記露光放射線は、同じ波長又は波長の帯域を有するが、前記セットアップ放射線は前記露光放射線よりも低い強度を有する、請求項２２又は２３記載の装置。
27. 前記セットアップ放射線は可視範囲にある、請求項２２乃至２６のうちいずれか一項記載の装置。
28. 前記セットアップ像は、前記宝石用原石又はダイヤモンド上のセットアップ像の位置決め、及び／又は、方向付け、及び／又は合焦を調整するよう、目で見ることができる、請求項２７記載の装置。
29. 前記セットアップ像を目で見るための拡大手段を含む、請求項２８記載の装置。
30. 前記宝石用原石又はダイヤモンド上のセットアップ像の位置決め及び／又は合焦を調整するための信号を与えるよう、前記セットアップマークを検出する電子像検出器を含む、請求項２２乃至２７のうちいずれか一項記載の装置。
31. マスクを保持する手段を含み、前記光学系は前記宝石用原石又はダイヤモンド上に前記マスクの像を投射する、請求項２２乃至２９のうちいずれか一項記載の装置。
32. 前記光学系は、実質的な縮小を伴って前記マークの像を投射する、請求項３１記載の装置。
33. 前記露光像は、多くともマスクの線形寸法の約１０分の１である、請求項３２記載の装置。
34. 前記マスクは、そのマスキング効果が自由に変更可能な個々の画素によって形成される少なくとも１つのゾーンを含み、連続する宝石用原石又はダイヤモンドの上に異なった露光像が投射されうる、請求項３１乃至３３のうちいずれか一項記載の装置。
35. 前記マスクは液晶光弁を含む、請求項３１乃至３４のうちいずれか一項記載の装置。
36. 前記マスクはマイクロミラーアレイを含む、請求項３１乃至３４のうちいずれか一項記載の装置。
37. 請求項１乃至２１のいずれか一項記載の方法によってその上にマークが形成された宝石用原石又は工業用ダイヤモンド。