TH30523B - การทำเครื่องหมายบนอัญมณีที่ยังไม่ได้เจียระไนหรือเพชรที่ใช้ทางด้านอุตสาหกรรม - Google Patents
การทำเครื่องหมายบนอัญมณีที่ยังไม่ได้เจียระไนหรือเพชรที่ใช้ทางด้านอุตสาหกรรมInfo
- Publication number
- TH30523B TH30523B TH201000502A TH0201000502A TH30523B TH 30523 B TH30523 B TH 30523B TH 201000502 A TH201000502 A TH 201000502A TH 0201000502 A TH0201000502 A TH 0201000502A TH 30523 B TH30523 B TH 30523B
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- irradiation
- image
- radioactivity
- mask
- adjustment
- Prior art date
Links
Abstract
DC60 เพื่อทำเครื่องหมายขนาดเล็กบนผิวหน้าที่ตัดเรียบ (7a) ของเพชร (7) นั้น ที่ยึดจับหรือ ดอพ (11) กับเพชร (7) ได้ถูกหมุน, น้ำยาไวแสงได้ถูกนำมาใช้กับผิวหน้าที่ตัดเรียบ (7a), ฉนวนชุบได้ถูกอบ โดยการให้ ความร้อนที่ฐานของดอพ (11) และดอพ (11) ถูกส่งต่อไปยังผิวหน้าที่ตัดเรียบ (30) ของเครื่องมือสำหรับการ ฉายแสงฉนวนชุบ ฉนวนชุบถูกฉายโดยการใช้กัมมันตรังสีสำหรับการฉายแสงด้วยรูปแบบที่ซึ่งเป็นภาพที่ ถูกลดขนาดลงของหน้ากาก (35) ซึ่งทำงานผ่านเลนส์วัตถุ (38) กัมมันตรังสีสำหรับการฉายแสงถูกฉายโดย แหล่งกัมมันตรังสี (31) และสามารถมีความยาวคลื่น 350 ถึง 450 นาโนเมตร เนื่องด้วยการจัดวางตำแหน่ง, การปรับทิศทางและโฟกัสภาพนั้น แหล่งกัมมันตรังสี (31) ได้ถูกจัดเรียงให้ฉายแสงในช่วงความยาวคลื่น 500 ถึง 550 นาโนเมตร ซึ่งไม่มีผลต่อฉนวนชุบ ซึ่งทำภาพสำหรับการปรับตั้งบนผิวหน้าที่ตัดเรีบบ (7a) ภาพ สำหรับการปรับตั้งได้ถูกมองในระนาบสังเกต (44) ผ่านเลนส์วัตถุ (38) และเครื่องแยกลำแสง (36) หลังจาก การฉายแล้วฉนวนชุบถูกทำให้ปรากฏเด่นชัดและบริเวณที่ฉายของผิวหน้าที่ตัดเรียบ (7a) ถูกไสออกโดยการ ใช้พลาสมา (รูปที่ 2) เพื่อทำขึ้นเครื่องหมายขนาดเล็กบนผิวหน้าที่ตัดเรียบ (7a)ของเพชร (7) นั้น ที่ยึดจับหรือดอพ (11) กับเพชร (7) ได้ถูกหมุน,น้ำยาไวแสงได้ถูกนำมาใช้กับผิวหน้าที่ตัดเรียบ (7a), ฉนวนชุบได้ถูกอบโดยการให้ ความร้อนที่ฐานของดอพ (11) และดอพ (11) ถูกส่งต่อไปยังผิวหน้าที่ตัดเรียบ (30) ของเครื่องมือสำหรับการ ฉายแสงฉนวนชุบ ฉนวนชุบถูกฉายโดยการใช้กัมมันตรังสีสำหรับการฉายแสงด้วยรูปแบบที่ซึ่งเป็นภาพที่ ถูกลดขนาดลงของหน้ากาก (35) ซึ่งทำงานผ่านเลนส์วัตถุ (38) กัมมันตรังสีสำหรับการฉายแสงถูกฉายโดย แหล่งกัมมันตรังสี 31 และสามารถมีความยาวคลื่น 350 ถึง 450 นาโนเมตรเนื่องด้วยการจัดวางตำแหน่ง, การปรับทิศทางและโฟกัสภาพนั้น แหล่งกัมมันตรังสี (31)ได้ถูกจัดเรียงให้ฉายแสงในช่วงความยาวคลื่น 500 ถึง 550 นาโนเมตร ซึ่งไม่มีผลต่อฉนวนชุบ ซึ่งทำภาพสำหรับการปรับตั้งบนผิวหน้าที่ตัดเรีบบ (7a)ภาพ สำหรับการปรับตั้งได้ถูกมองในระนาบสังเกต (44) ผ่านเลนส์วัตถุ (38)และเครื่องแยกลำแสง (36) หลังจาก การฉายแล้วฉนวนชุบถูกทำให้ปรากฏเด่นชัดและบริเวณที่ฉายของผิวหน้าที่ตัดเรียบ (7a)ถูกคว้านออกโดยการ ใช้พลาสมา (รูปที่ 2)
Claims (1)
1.วิธีการของทำเครื่องหมายบนอัญมณีที่ยังไม่ได้เจียระไนหรือเพชรที่ใช้ทาง อุตสาหกรรม ซึ่งประกอบด้วยการฉายกัมมันตรังสีสำหรับการฉายแสงไปบนอัญมณีที่ยังไม่ได้ เจียระไนหรือเพชรเพื่อทำภาพที่เกิดจากการฉายแสงไปบนนั้น และวิธีการที่ซึ่งยังประกอบด้วยการ จัดวางตำแหน่ง, การปรับทิศทาง และ/หรือการโฟกัสสภาพที่เกิดจากการฉายแสงโดยการ ฉายไปบนอัญมณีที่ยังไม่ได้เจียระไนหรือเพชร ด้วยกัมมันตรังสีสำหรับการปรับตั้งที่แตกต่างไป จากกัมมันตรังสีสำหรับการฉายแสงอีกด้วย เพื่อทำภาพสำหรับการปรับตั้งไปบนอัญมณีที่ยังไม่ได้ เจียระไนหรือเพชร, กัมมันตรังสีสำหรับการปรับตั้งไม่ได้มีผลกระทบกันบอัญมณีที่ยังไม่ได้เจียระไน หรือเพชร ในวิถีทางซึ่งเครื่องหมายถูกหรือจะถูกทำขึ้นนั้น ภาพสำหรับการปรับตั้งบนอัญมณีที่ยัง ไม่ได้เจียระไนหรือเพชรจะถูกรับรู้สัมผัสทางด้านนอกของเส้นทางเดินของแสง ซึ่งตามด้วย กัมมันตรังสีสำหรับปรับตั้งก่อนที่มันจะเข้าถึงอัญมณีที่ยังไม่ได้เจียระไนหรือเพชร และการจัดวาง ตำแหน่ง, การปรับทิศทาง, และ/หรือการโฟกัสของภาพสำหรับการปรับตั้งบนอัญมณีที่ยัง ไม่ได้เจียระไนหรือเพชรจะถูกปรับ ซึ่งทำให้มีการปรับการจัดวางตำแหน่ง,และ/หรือการปรับ ทิศทาง, และ/หรือการ โฟกัสของภาพที่เกิดจากการฉายแสง 2.วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ที่ซึ่งภาพสำหรับการปรับตั้งได้ถูกฉายผ่านทะลุเลนส์ วัตถุ หรือระบบเลนส์ และถูกรับรู้สัมผัสผ่านทะลุเลนส์วัตถุ หรือระบบเลนส์ 3.วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 1 หรือ 2 ที่ซึ่งกัมมันตรังสีสำหรับการปรับตั้งและ สำหรับการฉายแสงได้มีความยางคลื่นที่แตกต่างกัน 4.วิธีการตามทั้งข้อถือสิทธิข้อที่ 2 และข้อถือสิทธิข้อที่ 3 ที่ซึ่งเลนส์วัตถุ หรือระบบ เลนส์ถูกปรับแก้ไขสำหรับกัมมันตรังสีสำหรับการปรับตั้งและสำหรับกัมมันตรังสีสำหรับการฉายแสง 5.วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 1 หรือ 2 ที่ซึ่งกัมมันตรังสีสำหรับการปรับตั้งและ สำหรับการฉายแสงมีความยาวคลื่นหรือแถบของความยาวคลื่นเดียวกัน แต่กัมมันตรังสีสำหรับการ ปรับตั้งมีความเข้มต่ำกว่าของกัมมันตรังสีสำหรับการฉายแสง 6.วิธีการตามข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งเครื่องหมายได้ถูกทำขึ้นโดย เทคนิคการพิมพ์แม่พิมพ์เรียบ(lithography)และน้ำยาไวแสง (photoresist)ได้ถูกประยุกต์ใช้กับอัญมณี ที่ยังไม่ได้เจียระไนหรือเพชรที่ใช้ทางอุตหสากรรมฉนวนชุบ (resist) ที่ไม่ไวต่อกัมมันตรังสี สำหรับการปรับตั้งดังกล่าว 7. วิธีการตามข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งกัมมันตรังสีสำหรับการ ปรับตั้งอยู่ในช่วงที่สามารถมองเห็นได้ด้วยตาเปล่า 8.วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 7 ที่ซึ่งภาพสำหรับการปรับตั้งถูกมองเห็นได้ด้วยตา 9. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ถึง 7 ข้อใดข้อหนึ่งที่ซึ่งภาพสำหรับการปรับตั้งถูก รับรู้สัมผัสโดยเครื่องตรวจจับภาพอิเลคทรอนิค (electronic image detector) 10.วิธีการตามข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งภาพสำหรับการปรับตั้งถูกทำ ขึ้นโดยการฉายกัมมันตรังสีสำหรับการปรับตั้งผ่านหน้ากาก และภาพที่เกิดจากการฉายแสงถูกทำ ขึ้นโดยการฉายกัมมันตรังสีสำหรับการฉายแสงผ่านหน้ากาก 11.วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 10 ที่ซึ่งหน้ากากสำหรับการปรับตั้งอย่างน้อยที่สุดเป็น ส่วนเช่นเดียวกับหน้ากากสำหรับการฉายแสง ทั้งกัมมันตรังสีสำหรับการปรับตั้งกับกัมมันตรังสี สำหรับการฉายแสงซึ่งถูกฉายผ่านหน้ากาก และระบบเชิงแสงที่ถูกปรับแก้ไขสำหรับกัมมันตรังสี สำหรับการปรับตั้งกัมมันตรังสีสำหรับการฉายแสง 12.วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ถึง 9 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งภาพสำหรับการปรับตั้งและ สำหรับการฉายแสงได้ถูกทำขึ้น โดยการยื่นกัมมันตรังสีสำหรับปรับตั้งและกัมมันตรังสีสำหรับการ ฉายแสงผ่านหน้ากากที่ซึ่งประกอบด้วยอย่างน้อยที่สุดบริเวณที่ปรับตั้งบริเวณหนึ่ง ซึ่งทึบแสงต่อ กัมมันตรังสีสำหรับการฉายแสง แต่โปร่งแสงต่อกัมมันตรังสีสำหรับปรับตั้ง และอย่างน้อยที่สุด บริเวณที่ฉายแสงหนึ่งบริเวณที่ซึ่งโปรงแสงต่อกัมมันตรังสีสำหรับการฉายแสง บริเวณที่ปรับตั้ง ซึ่งกำหนดรูปร่างสำหรับการจัดการตำแหน่ง, และ /หรือ การปรับทิศทางและ/หรือการโฟกัสภาพที่ เกิดจากการฉายแสงบนอัญมณีที่ยังไม่ได้เจียระไนหรือเพชร, วิธีการที่ซึ่งประกอบด้วยการฉาย กัมมันตรังสีสำหรับการปรับตั้งผ่านหน้ากาก เพื่อทำภาพสำหรับการปรับตั้งบนอัญมณีที่ยังไม่ได้ เจียระไนหรือเพชร, การจัดวางตำแหน่ง, การปรับทิศทาง และ/หรือการโฟกัสภาพสำหรับ การปรับตั้งดังกล่าวบนอัญมณีที่ยังไม่ได้เจียระไปหรือเพชร และการฉายกัมมันตรังสีสำหรับการ ฉายแสงผ่านหน้ากากเพื่อทำภาพที่เกิดจากการฉายแสงบนอัญมณีที่ยังไม่ได้เจียระไนหรือเพชรและ เป็นผลทำให้เกิด การทำเครื่องหมายดังกล่าวบนอัญมณีที่ยังไม่ได้เจียระไปหรือเพชร 13.วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 12 ที่ซึ่งบริเวณที่ฉายได้ระบุร่างที่สอดคล้องกับของ เครื่องหมายที่จะถูกทำขึ้น 14.วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 12 ที่ซึ่งปริเวณที่ฉายเป็นบริเวณที่โปร่งแสงต่อ กัมมันตรังสีสำหรับการฉายแสง, กัมมันตรังสีสำหรับการฉายแสงจะถูกฉายกวาด 15.วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ถึง 13 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งภาพที่เกิดจากการฉายแสงถูก ทำขึ้นโดยการฉายกัมมันตรังสีสำหรับการฉายแสงผ่านหน้ากากด้วยการย่อขนาดลงอย่างเหมาะสม 16.วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 15ที่ซึ่งภาพที่เกิดจากการฉายแสงมีขนาดไม่เกิน ประมาณ 1 ใน 10 ของขนาดตามยาวของหน้ากาก 17. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ถึง 9 หรือ 13 ถึง 16 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งภาพที่เกิดจาก การฉายแสงถูกทำขึ้นโดยการฉายกัมมันตรังสีสำหรับการฉายแสงผ่านหน้ากาก, หน้ากากที่ซึ่ง ประกอบด้วยบริเวณที่ถูกทำขึ้นโดยพิกเซลล์แต่ละอัน ( indivdual pixels)เป็นอย่างน้อย โดยที่ผล จากหน้ากากสามารถเปลี่ยนแปลงได้ตามต้องการ ดังนั้นอัญมณีที่ยังไม่ได้เจียระไนหรือเพชรที่ ต่อเนื่องกันสามารถมีภาพที่เกิดจากการฉายแสงซึ่งถูกฉายไว้บนนั้นแตกต่างกันได้ 18.วิธีการตามข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งกัมมันตรังสีสำหรับการ ปรับตั้งและสำหรับการฉายแสงได้ถูกฉายผ่านเครื่องแยกสำแสง และภาพสำหรับการปรับตั้งได้ถูก มองผ่านเครื่องแยกลำแสง 19.วิธีการของการทำเครื่องหมายบนอัญมณีที่ยังไม่ได้เจียระไนตามที่ได้ขอถือสิทธิในข้อ ถือสิทธิข้อที่ 1 ถึง 18 ข้อใดข้อหนึ่งที่ซึ่งกัมมันตรังสีสำหรับฉายแสงถูกทำให้ยื่นผ่านหน้ากากไป บนอัญมณีที่ยังไม่ได้เจียระไน เพื่อทำภาพที่เกิดจากการฉายแสงไว้บนนั้น หน้ากากที่ซึ่ง ประกอบด้วยบริเวณที่ถูกทำขึ้น โดยพิกเซลล์แต่ละอัน ( indivdual pixels )เป็นอย่างน้อย โดยที่ผล จากหน้ากากสามารถเปลี่ยนแปลงได้ตามต้องการ และฉายภาพที่แตกต่างกันที่เกิดจากาการฉายแสง ไปบนอัญมณีที่ยังไม่ได้เจียระไนที่ต่อเนื่องกันโดยการเปลี่ยนแปลงผลจากหน้ากากาของหน้ากากนั้น 20.วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 19 ที่ซึ่งหน้ากากประกอบด้วยวาล์วแสงผลึกแหลว (liwquid crystal light valves) 20. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 19 ที่ซึ่งหน้ากากประกอบด้วยแถวกระจกขนาดเล็ก 22. เครื่องมือสำหรับใช้ในการทำเครื่องหมายบนอัญมณีที่ยังไม่ได้เจียระไนหรือเพชร ซึ่งใช้กัมมันตรีงสีสำหรับการฉายแสง ประกอบด้วย ระบบเชิงซ้อนสำหรับการฉายภาพไปบนอัญมณีที่ยังไม่ได้เจียระไนหรือเพชร วิถีทางสำหรับการฉายกัมมันตรังสีสำหรับการฉายแสงเพื่อทำภาพที่เกิดจากการฉายแสง ไปบนอัญมณีที่ยังไม่ได้เจียระไนหรือเพชร วิถีทางสำหรับการฉายกัมมันตรังสีสำหรับการปรับตั้งเพื่อทำภาพสำหรับการปรับตั้ง ไปบนอัญมณีที่ยังไม่ได้เจียระไนหรือเพชร กัมมันตรังสีสำหรับการปรับตั้งไม่มีผลกระทบกับ บนอัญมณีที่ยังไม่ได้เจียระไนหรือเพชร ในแนวทางที่เครื่องหมายถูกหรือจะถูกทำขึ้น; วิถีทางสำหรับการรับรู้สัมผัสภาพสำหรับการปรับตั้ง บนบนอัญมณีที่ยังไม่ได้เจียระไน หรือเพชร ซึ่งวิถีทางนั้นอยู่ด้านนอกเส้นทางเดินของแสงที่ซึ่งถูกตามด้วยกัมมันตรังสีสำหรับการ ปรับตั้งก่อนที่มันเข้าถึงอัญมณีที่ยังไม่ได้เจียระไนหรือเพชร และ วิถีทางสำหรับการปรับการจัดวางตำแหน่ง,และ/หรือการปรับทิศทางและ/หรือการ โฟกัสของภาพสำหรับการปรับตั้งบนอัญมณีที่ยังไม่ได้เจียระไปหรือเพชร ทำให้เกิดการปรับการจัด วางตำแหน่งและ/หรือการ ปรับทิศทาง และ /หรือการ โฟกัสของภาพที่เกิดจากการฉายแสงไปบนอัญ มณีที่ยังไม่ได้เจียระไปหรือเพชร 23.เครื่องมือตามทั้งข้อถือสิทธิข้อที่ 22 ที่ซึ่งภาพสำหรับการปรับตั้งถูกฉายผ่านเลนส์ วัตถุหรือระบบเลนส์ และถูกรับรู้สัมผัส่ผานเลนส์วัตถุหรือระบบเลนส์ 24. เครื่องมือตามทั้งข้อถือสิทธิข้อที่ 22 หรือ 23 ที่ซึ่งกัมมันตรังสีสำหรับการปรับตั้งและ สำหรับการฉายแสงมีความยาวคลื่นที่แตกต่างกัน 25. เครื่องมือตามทั้งข้อถือสิทธิข้อที่ 23 และข้อถือสิทธิข้อที่ 24 ที่ซึ่งเลนส์วัตถุ หรือ ระบบเลนส์วัตถุถูกปรับแก้ไขทั้งสำหรับกัมตรังสีสำหรับการฉายแสงและสำหรับกัมมันตรังสี สำหรับการปรับตั้ง 26. เครื่องมือตามข้อถือสิทธิข้อที่ 22 ถึง 23 ที่ซึ่งกัมมันตรังสีสำหรับการปรับตั้ง และ สำหรับการฉายแสงมีความยาวคลื่นหรือแถบของความยาวคลื่นเดียวกัน แต่กัมมันตรีงสีสำหรับการ ปรับตั้งมีความเข้มต่ำกว่าของกำมันตรีงสีสำหรับการฉายแสง 27. เครื่องมือตามข้อถือสิทธิข้อที่ 22 ถึง 26 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งกัมมันตรีงสีสกำหรับการ ปรังตั้งอยู่ในช่วงที่สามารถมองเห็นได้ด้วยตาเปล่า 28. เครื่องมือตามข้อถือสิทธิข้อที่ 27 ที่ซึ่งภาพสำหรับการปรับตั้งสามารถถูกมองได้ ด้วยตา สำหรับการปรับด้วยตาของการจัดการตำแหน่ง และ/หรือการปรับทิศทาง และ/หรือการ โฟกัสสำหรับการปรับตั้งบนอัญมณีที่ยังไม่ได้เจียระไนหรือเพชร 29. เครื่องมือตามทั้งข้อถือสิทธิข้อที่ 28 และยังประกอบด้วยเครื่องมือขยายสำหรับการ มองภาพสำหรับการปรับตั้งด้วยตา 30. เครื่องมือตามข้อถือสิทธิข้อที่ 22 ถึง 27 ข้อใดข้อหนึ่งที่ซึ่งประกอบ ด้วยเครื่องตรวจจับภาพอิเลคทรอนิค (an electronec imaging dector) สำหรับการตรวจจับเครื่องหมาย ที่ปรับตั้งขึ้น จึงจัดให้มีสัญญาณสำหรับการปรับการปรับการจัดวางตำแหน่งและ/หรือการโฟกัสภาพ สำหรับการปรับตั้งบนอัญมณีที่ยังไม่ได้เจียระไนหรือเพชร 31.เครื่องมือตามข้อถือสิทธิข้อที่ 22 ถึง 29 ข้อใดข้อหนึ่งที่หนึ่งที่ซึ่งประกอบด้วยเครื่องมือ สำหรับการยึดหน้ากาก, ระบบเชิงแสงที่ซึ่งมีไว้สำหรับการฉายภาพของหน้ากากไปบนอัญมณีที่ยัง ไม่ได้เจียระไนหรือเพชร 32.เครื่องมือตามข้อถือสิทธิข้อที่ 31 ที่ซึ่งระบบเชิงแสงได้ฉายภาพของเครื่องหมาย ด้วยการย่อขนาดลงอย่างเหมาะสม 33.เครื่องมือตามข้อถือสิทธิข้อที่ 302 ที่ซึ่งภาพที่เกิดจากการฉายแสงมีขนาดไม่เกิน ประมาณ 1 ใน 10 ของขนาดตามยาวของหน้ากาก 34.เครื่องมือตามข้อถือสิทธิข้อที่ 31 ถึง 33ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งหน้ากากประกอบด้วย บริเวณที่ถูกทำขึ้นโดยพิกเซลล์แต่ละอัน ( individual pixels) เป็นอย่างน้อย โดยที่ผลจากหน้ากาก สามารถเปลี่ยนแปลงได้ตามต้องการ ดังนั้นอัญมณีที่ยังไม่ได้เจียระไนหรือเพชรที่ต่อเนื่องกัน สามารถมีภาพที่เกิดจากการฉายแสงซึ่งถูกฉายไว้บนนั้นแตกต่างกันได้ 35.เครื่องมือตามข้อถือสิทธิข้อที่ 31 ถึง 34 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งหน้ากากประกอบด้วย วาล์วแสงผนึกเหลว 36.เครื่องมือตามข้อถือสิทธิข้อที่ 31 ถึง 34 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งหน้ากากประกอบด้วย แถวกระจกขนาดเล็ก
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH54120A TH54120A (th) | 2002-11-25 |
| TH30523B true TH30523B (th) | 2011-08-22 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA2442584A1 (en) | Forming a mark on a gemstone or industrial diamond | |
| JP2004523794A5 (th) | ||
| KR100445767B1 (ko) | 마킹 다이아몬드 | |
| AU2002230007A1 (en) | Forming a mark on a gemstone or industrial diamond | |
| TWI422962B (zh) | 灰階光罩之檢查方法、液晶裝置製造用灰階光罩之製造方法以及圖案轉印方法 | |
| NL9002036A (nl) | Inrichting en werkwijze voor het met elektromagnetisch straling aanbrengen van merktekens op een voorwerp, en een voorwerp voorzien van merktekens. | |
| TWI428686B (zh) | 光罩之檢查裝置、光罩之檢查方法、液晶裝置製造用光罩之製造方法以及圖案轉印方法 | |
| TWI252381B (en) | Lithographic apparatus and methods for use thereof | |
| US20120212717A1 (en) | Exposure apparatus and photo mask | |
| TWI351586B (en) | Method and apparatus for compensated illumination | |
| JP4666157B2 (ja) | 人工水晶部材、露光装置、及び露光装置の製造方法 | |
| JP2019109236A (ja) | 検査装置、検査方法 | |
| WO2005015310A3 (en) | Illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus | |
| ATE238732T1 (de) | Ophthalmologisches gerät mit einem beleuchtungs- und/oder strahlenbehandlungsstrahl, dessen flächige intensitätsverteilung einstellbar ist, sowie anordnung mit diesem gerät zur augenbehandlung | |
| TWI295413B (en) | Lithographic apparatus and method to determine beam size and divergence. | |
| TH54120A (th) | การทำเครื่องหมายบนอัญมณีที่ยังไม่ได้เจียระไนหรือเพชรที่ใช้ทางด้านอุตสาหกรรม | |
| US7507448B2 (en) | Process for optical alignment | |
| US9429849B2 (en) | Adjusting method of pattern transferring plate, laser application machine and pattern transferring plate | |
| KR20120032426A (ko) | 광 조사 장치 및 광 조사 방법 | |
| TW200719094A (en) | Laser beam/uv-irradiation peripheral exposure apparatus and method therefor | |
| JP2001023884A (ja) | 真空紫外光リソグラフィー装置、その製造方法、及びフッ化物結晶材料の検査方法 | |
| KR20180117370A (ko) | 주문 제작 기반의 빔질 향상용 디오이 렌즈 제조 방법 및 이에 의해 제조된 빔질 향상용 디오이 렌즈 | |
| JP2022013060A (ja) | システム及び光のパターン情報の形成方法 | |
| KR20180030485A (ko) | 광배향 조사장치 | |
| JPH01180406A (ja) | 表面粗さ測定装置 |