JP2004522574A - 流体滅菌装置 - Google Patents
流体滅菌装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004522574A JP2004522574A JP2002559077A JP2002559077A JP2004522574A JP 2004522574 A JP2004522574 A JP 2004522574A JP 2002559077 A JP2002559077 A JP 2002559077A JP 2002559077 A JP2002559077 A JP 2002559077A JP 2004522574 A JP2004522574 A JP 2004522574A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fluid
- electron beam
- spray
- cavity
- wheel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
- A61L2/00—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor
- A61L2/02—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor using physical phenomena
- A61L2/08—Radiation
- A61L2/087—Particle radiation, e.g. electron-beam, alpha or beta radiation
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
- A61L2/00—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor
- A61L2/02—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor using physical phenomena
- A61L2/08—Radiation
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K5/00—Irradiation devices
- G21K5/10—Irradiation devices with provision for relative movement of beam source and object to be irradiated
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
- A61L2202/00—Aspects relating to methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects
- A61L2202/10—Apparatus features
- A61L2202/12—Apparatus for isolating biocidal substances from the environment
- A61L2202/122—Chambers for sterilisation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/30—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2303/00—Specific treatment goals
- C02F2303/04—Disinfection
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
Abstract
内部にキャビティを持つ滅菌室と、加圧された流体を受け取り、その流体のスプレーをキャビティ内に噴射するノズルとを含む流体滅菌装置。放射窓を持つ電子ビーム発生器が滅菌室に取り付けられ、電子ビームを放射窓を通して滅菌室のキャビティ内に放射して、流体のスプレーを照射する。ノズルは、流体のスプレーを、放射窓に対して近接させて、かつほぼ平行に噴射するように構成されている。
【選択図】図2
【選択図】図2
Description
【背景技術】
【0001】
廃棄物処理プラントによっては、滅菌の目的で汚水を照射するのに電子ビーム技術を用いている。例えば、汚水を落水として流下させ、落下する汚水のカーテンを電子ビーム発生器からの電子ビームで照射する。滅菌を確実にするには、通常、100万〜1000万eVの範囲の極めて大型の電子ビーム発生器を使用して、落下カーテンを透過しなければならない。配管系内を流れる水のような流体を照射するには、別の大型のシステムが使用されてきた。このようなシステムでは、流体は配管系内を流れる間に照射される。
【発明の開示】
【0002】
本発明は、大型の電子ビーム発生器を必要としない流体滅菌装置に関する。流体滅菌装置は、内部にキャビティを持つ滅菌室と、加圧された流体を受け取り、流体をキャビティ内に噴射するノズルとを含む。放射窓を持つ電子ビーム発生器が滅菌室に取り付けられ、電子ビームを、放射窓を介して滅菌室のキャビティ内に放射して流体のスプレーを照射する。ノズルは、流体のスプレーを、放射窓に対して近接させて、かつほぼ平行に噴射するように構成されている。
【0003】
好ましい実施形態では、流体はポンプにより圧送され、流体中の粒子はフィルタにより濾過される。ノズルは、薄い、平坦な流体膜を滅菌室に導く。1つの実施形態では、流体の膜は0.004〜0.005インチ厚み(0.10〜0.13mm)である。滅菌室のキャビティは、滅菌済みの流体を排出するための流出口を備えている。1つの実施形態では、滅菌室のキャビティに再循環通路を設けて、流体のスプレーの一部を再循環させることにより、その流体のスプレーの一部をさらに照射することができる。この実施形態では、キャビティの流出口と再循環通路との間の壁は、壁を通り越して再循環通路に入ることができない流体のスプレーの一部を誘導する。
【0004】
本発明はまた、流体供給のためのコンテナを含む流体滅菌装置に関するものである。外周面を持つホイールシステムは、コンテナ内に回転可能に取り付けられている。ホイールシステムは、そのホイールシステムの一部を流体供給源上に設けることにより、流体の膜をその回転により流体供給源から外周面上に汲み上げる。ホイールシステムの外周面上の流体の膜の厚みを制御するために、調節部材(doctoring member)が配置されている。電子ビーム発生器を配置し、電子ビームを流体膜に照射して流体を滅菌する。滅菌された流体をホイールシステムから除去するために、流体除去部材が配置されている。
【0005】
好ましい実施形態では、ホイールシステムは、コンテナ内に回転可能に取り付けられた第1ホイールを備え、そのホイールにより、供給流体から流体の膜を汲み上げる。1つの実施形態では、ホイールシステムはさらに第1ホイールに回転可能に接触する第2ホイールを備え、その第2ホイールが、第1ホイールから電子ビーム発生器により照射される流体を受け取る。
【0006】
本発明の流体滅菌装置は、滅菌領域と電子ビーム発生器とを持つことができ、その何れもがコンパクトなサイズである、したがって、本発明は、従来の大型システムに比較して比較的低コストで製作できる。コンパクトなサイズであれば、本発明の装置は、流体滅菌を必要とする新しいシステムもしくは既存のシステム、または装置の両方に容易に取り付けできるほどに小さく、さらに、ポータブルユニットにもできる。
【0007】
本発明の前述およびその他の目的、特徴、および利点は、添付図面に示す本発明の好ましい実施形態の以下の詳細な説明から明らかになるであろう。図面では、同一参照符号は、異なる図面においても同一部品を示す。図面は、必ずしも縮尺通りでなく、本発明の原理を説明することに重点が置かれている。
【発明を実施するための最良の形態】
【0008】
図1および2の流体滅菌装置10は、流体を滅菌するのに用いられる本発明の1つの実施形態である。このような流体42には、水、機械装置用の冷却液等が含まれる。流体滅菌装置10は、流体貯蔵槽54(図1)から滅菌される流体64を圧送するポンプ16と、流体64から粒子を濾過するフィルタ14と、滅菌のために流体64が噴射される反応または滅菌室24と、流体64を電子ビーム38(図2)により照射するために滅菌室24に取り付けられた電子ビーム発生器12とを含む。電子ビーム発生器12は、電子ビーム38が放射される放射窓36を備え、滅菌室24は、滅菌室24内のキャビティまたは通路34に向けられたノズル28を備える。滅菌される流体64は、電子ビーム発生器12(図2)の放射窓36に近接するキャビティ34に向けられたノズル28により、流体64のスプレー42として送り込まれる。電子ビーム発生器12からの電子ビーム38は、キャビティ34内で電子ビームe−により流体64のスプレー42を照射し、これにより流体64内の微生物、ウィルスおよびバクテリアを死滅させて流体64を滅菌する。その後滅菌した流体を流出口32から回収して、再使用または廃棄できる。
【0009】
次に流体滅菌装置10の詳細な説明を行う。ポンプ16は、流体貯蔵槽54(図1)から滅菌される流体を圧送するための流体流入口18を備える。ポンプ16は、流体コンジット20によりポンプ16と連結されているフィルタ14に加圧された流体64を送る。濾過された流体64は、フィルタ14と滅菌室24とを連結する流体コンジット22を介して滅菌室24に送られる。
【0010】
濾過された流体64は、矢印A(図2)で示されるように、通路26を通り加圧されて滅菌室24に送られる。通路26は、キャビティ34の上流にあるノズル28と流体連結している。通常、ノズル28は流体64のスプレー42(流体64の比較的平坦で、薄く、水平な膜)をキャビティ34内に形成するように構成されている。流体64のスプレー42は、噴射口40を経てキャビティ34に入り、図示するようにキャビティ34を通過する際にその膜の厚さが僅かに広がる。1つの実施形態におけるノズル28は、約0.004〜0.020インチ(約0.1〜0.5mm)厚みの薄い、平坦な流体膜を生成するために、水平スロットのような単一ノズルから成っている。約0.004〜0.020インチ(約0.1〜0.5mm)厚みの流体42のスプレーを形成するために、ノズルアセンブリは、直径が約0.004〜0.020インチ(約0.1〜0.5mm)の開口であってもよい。代替として、ノズル28は一連の水平に配置されたノズルにしてもよい。
【0011】
キャビティ34はノズル28に近接する第1部分34aを有し、その第1部分は、一般に薄く、電子ビーム発生器12の放射窓36に最も近い、滅菌室24の上部に形成されている。図1および2では、第1部分34aは細長く図示されている。キャビティ34の第1部分34aは、流体のスプレー42が導かれる反応または滅菌領域30を形成している上部領域と、キャビティ34の第2部分または下流端34bに位置する流体流出口32に向かって下方に傾斜する下部壁33とを備える。キャビティ34の上部は、電子ビーム発生器12の放射窓36に対して水平または平行であるため、流体64のスプレー42は放射窓36に対して水平または平行に通過することができる。流体64のスプレー42は通常、放射窓36から1インチ(25.4mm)以内のところを通り、さらに好ましくは約1/4インチ(約6.4mm)離れて通る。キャビティ34の下部壁33の傾斜により、その上のすべての流体64が流体流出口32に向かって下方に流れる。通常、滅菌室24はステンレススチールにより形成されるが、代替的には、別の適切な材料で形成することも可能である。
【0012】
電子ビーム発生器12と滅菌室24間の取付け/シール機構51は、電子ビーム発生器12と滅菌室24とを一緒に取付けおよびシールすることにより、放射窓36がキャビティ34に近接しながらキャビティ34上でシールされる(図2)。電子ビーム発生器12の放射窓36は、滅菌領域30の上方に配置される。キャビティ34に開口する照射窓または開口52が、電子ビーム発生器12の放射窓36に対面することにより、電子ビーム38をキャビティ34内に放射することができる。キャビティ34が外部環境からシールされ、密封されることにより、流体64以外の外部汚染物は侵入できず、その結果、キャビティ34は運転中比較的無菌状態に保たれる。電子ビーム発生器12は通常密封されたデザインであり、米国特許No.5,962,955、および米国特許出願No.09/349,592(1999年7月9日に出願)、および米国特許出願No.09/209,024(1998年12月10日に出願)に記載された発生器と類似する。前記出願の内容は、その全文が参照により本明細書に引用されている。通常電子ビーム発生器12は、125KV〜300KVの範囲で動作する。代替的には、別の適切な電子ビーム発生器を使用することができ、同様に、125KV以下および300KV以上の電圧でも使用できる。
【0013】
流体64のスプレー42が滅菌室24(図2)のキャビティ34に噴射されるとき、電子ビーム38の電子e−は流体64のスプレー42を透過し、流体内のすべての微生物、バクテリア、またはウィルスの生体構造に損傷を与えるかまたは破壊する。これにより微生物、バクテリア、またはウィルスを不能にするか、または死滅させ、その結果、流体は滅菌される。場合によっては、流体内の化学的汚染物を破壊することもできる。ノズル28は、キャビティ34および電子発生器12を基準に構成および配置されており、これにより流体64のスプレー42を電子ビーム発生器12の放射窓36に対して近接させて、かつほぼ平行に向け(噴射し)、また電子ビーム38の照射が最大になるように電子ビーム38に対して垂直に向く(噴射する)ようにする。これはスプレー42を放射窓36にできる限り近づけることになるので、スプレー42は、強度が最大で、照射時間が最長となる電子ビーム38により照射される。キャビティ34には通常空気が充満しているために、電子ビーム38の強度は放射窓36からの距離の増加と共に低下する。さらに、薄く、平坦な膜の流体64のスプレー42により、電子ビーム38の流体64への透過度を最大にして完全な滅菌を可能にする。流体64のスプレー42を0.004〜0.020インチ(0.1〜0.5mm)厚みの薄い平坦な膜に形成することにより、125KV〜300KVの出力で動作する電子ビーム発生器12の電子ビーム38が、スプレーを充分透過して滅菌を可能にする。通常、流体64のスプレー42の厚さは、約125KVで動作する電子ビーム発生器12により放射された電子ビーム38が透過するために約0.004インチ(約0.1mm)とされ、150KVの場合には約0.005インチ(約0.13mm)、また約300KVの場合には約0.020インチ(約0.5mm)とされる。0.004インチ〜0.005インチ(0.1〜0.13mm)とされる厚みは、それぞれ125KV〜150KVで動作する電子ビーム発生器12を用いる場合の厚みである。1つの実施形態においては、ヘリウムのような低密度ガスをキャビティ34にポンプで送り込むことにより、電子ビーム38の範囲を拡大できる。代替的には、キャビティ34を真空化することにより、電子ビームの範囲を拡大できる。
【0014】
滅菌された流体は、キャビティ34の湾曲した後壁により下方に導かれ、その後矢印Bに示されるように、滅菌室24から下方に流れて流体流出口32から出て、回収その他に利用される。滅菌された流体は、流体貯蔵槽54または別の所望の場所に戻すことができる。ポンプ16を利用して流体を連続的に再循環して連続的に滅菌することも、またはポンプ16を周期的に運転して定期的に滅菌することもできる。定期的な運転だけが必要とされる場合は、流体滅菌装置10をポータブルユニットにし、必要な時にのみ流体供給源に接続して流体を滅菌することができる。用途によっては、週1回の滅菌だけが要求されることもある。
【0015】
1つの実施形態では、電子ビーム発生器12の直径は約11インチ(約280mm)である。電子ビーム発生器12と、このようなサイズの電子ビーム発生器用の滅菌室24とを合わせた高さは約18.5インチ(約460mm)である。このように小型の流体滅菌装置10は、流体滅菌用の新しいシステムもしくは既存のシステム、または装置の中に容易に取り付けできる。小型サイズにより、流体滅菌装置10を可般式にすることもできる。さらに流体滅菌装置10のサイズを、2つ以上のシステムまたは装置に対応した、流体を滅菌するためのサイズにすることもできる。この場合には、中央流体貯蔵槽を設置することができる。流体滅菌装置の流体の流入口18と流出口38は、中央貯蔵槽と流体連結するように構成される。また電子ビーム発生器12と滅菌室24のサイズは、装置能力の増減に応じて、例えば流体64のスプレー42が厚いかまたは薄いかに応じて増減させることができる。適切なすべての流体源は、流体滅菌装置10を用いて滅菌できることは明らかである。典型的な用途には、飲料水または他の流体の滅菌を含むが、これに限定されるものではない。
【0016】
図3によれば、滅菌室50は滅菌室24とは異なる別の好ましい滅菌室アセンブリであり、この滅菌室50は、流体流出口32と下方に傾斜する再循環通路46との間に壁44を有するキャビティ35を備える。通常、ノズル28が最初に流体64を噴射し始めるとき、壁44は、壁44の上を通過しない流体64のスプレー42aを集める、または捕集する収集領域48を形成する。収集領域48に集められた流体64は、通常、容認できる滅菌レベルまで充分照射されることはない。不十分な照射に関しては、電子ビーム38の一部のみによる照射か、または放射窓36から大きく離れた、電子ビーム38の強度が低下する場所を電子ビーム38が通過する照射を挙げることができる。収集された流体64は再照射のために再循環通路46を矢印Cの方向に流下される。再循環通路46は、流体64を流体貯蔵槽54またはポンプに戻すことができ、このポンプは流体64を通路26の直前のシステム内に戻すことができる。壁44の上を通過する流体64のスプレー42は、放射窓36に対して近接かつほぼ平行でしているために、電子ビーム38により充分に滅菌される。その後、滅菌された流体は流体流出口32を介して滅菌室アセンブリブリ50から出て行く。滅菌室50の構造は、電子ビーム38により照射される滅菌領域30が下流に、または壁44を越えて広がるように構成できる。滅菌室50は、化学薬品による洗浄の代わりに電子ビーム発生器12を用いて滅菌されるように設計されている。壁44は、ノズル28の方向に傾斜する表面を持つように図示されているが、これとは異なり、壁44は直線、湾曲した表面、またはノズル28とは離れる方向に延びる表面を持つことも可能である。
【0017】
図4によれば、流体滅菌装置55は本発明の別の実施形態を示す。流体滅菌装置55は、滅菌処理する流体64を流体貯蔵槽54から供給される照射アセンブリ60を含む。流体64は、ポンプ56によりコンジット58およびノズル58aを介して照射アセンブリ60のコンテナ62に圧送される。コンテナ62は、流体64の供給源64aを含むことができる。照射アセンブリ60は、コンテナ62の中でピボット点68を中心として回転可能な形で取り付けられて、矢印Rの方向に回転するホイール66を有するホイールシステムを含む。ホイール66は、任意の適切な従来の手段により駆動することができる。ホイール66の一部は、流体64の供給源64a上に位置している。ホイール66の回転により、流体72の最初の膜を流体64の供給源64aから上方に、ホイール66の外周面66a上に汲み上げる。通常、直線的な縁部を持つ調節部材またはブレード70が、ホイール66の外周面67を基準として位置決めされており、それにより、膜72の厚みを制御または減少させて照射に適した流体74のより薄い膜を形成する。調節部材70は、余剰の流体64を流体64の供給源64aに向かって下方に押し戻す。通常好ましい膜厚みは0.004〜0.020インチ(0.1〜0.5mm)である。流体74の膜は、ホイール66上を矢印Dの方向に移動し、電子ビーム発生器12からの電子ビーム38の電子e−により滅菌領域76内で照射されて滅菌される。流体74の膜は充分に薄いため、電子ビーム38が透過して微生物、ウィルスおよびバクテリアを死滅または破壊する。電子ビーム発生器12は、流体滅菌装置10に用いられるものと同様であり、通常125KV〜300KVの範囲で動作する。照射後、流体80の滅菌された膜を、ホイール66の外周面67に接触し、かつ下方に傾斜している流体除去部材78によりホイール66から掻き落とし、滅菌された流体80を所望の場所または貯蔵槽54に戻る方向に流して回収できる。通常、流体除去部材78は、ホイール66に接触し、かつ滅菌された流体80をホイールから掻き落とす直線的な縁部を備える。滅菌装置55は、ホイール66が流体64を供給源64aから上方に汲み上げる必要がある理由から、ホイール66が回転している時にのみ流体64を電子ビーム発生器12に通過させ、流すように設計されている。ホイール66が回転しない時には、流体はコンテナ62の中にとどまる。したがって滅菌装置55が作動していない時には、流体64はコンテナ62から漏れ出すことはない。通常、流体74の膜は、約125KVで作動する電子ビーム発生器12から放射される電子ビーム38が透過し、滅菌するには約0.004インチ(約0.1mm)の厚さとされており、約150KVで作動する場合には、その厚みは約0.005インチ(約0.13mm)となり、また約300KVで作動する場合の厚みは約0.020インチ(約0.5mm)となる。0.004〜0.005インチ(0.1〜0.13mm)の厚みが最も用いられる。また別に、0.004インチ(0.1mm)より薄いか、また0.020インチ(0.5mm)よりも厚い流体の膜は、適切なサイズの電子ビーム発生器12を備えることにより、充分な滅菌を実現できる。ホイール66が約6インチ〜12インチ(約152〜305mm)の直径を持つように製作して、流体滅菌装置55を 可搬式に適するサイズにまで小さくできる。また別に、ホイール66をさらに小さく、または大きくすることもできる。
【0018】
図5によれば、流体滅菌装置85は流体滅菌装置55とは異なる本発明の別の実施形態であり、照射アセンブリ84がピボット点68aを中心として回転し、かつ流体64の供給源64aの上方で第1ホイール66と回転接触する第2ホイール66aを有するホイールシステムを備える。一般にホイール66aはホイール66により駆動するが、これとは別に独立に駆動することもできる。ホイール66aは、矢印R1の方向に回転し、流体74の膜をホイール66からホイール66aに移動させ、それにより流体82の膜を形成する。流体82の膜は、矢印D1の方向に移動し、電子ビーム発生器12からの電子ビーム38により照射される。その後、流体80の滅菌された膜は、流体除去部材78によりホイール66aから除去される。ホイール66aを独立して駆動する場合には、ホイール66aをホイール66から僅かに間隔を空けて設け、何れの方向にも回転させることができる。
【0019】
本発明を好ましい実施形態により詳細に図示し、説明してきたが、当業者には、添付の特許請求項に包含される本発明の範囲から逸脱することなく、形状または細部に各種の変更が実行可能であることは理解されるであろう。
【0020】
例えば流体滅菌装置10の流体64のスプレー42は、水平方向であることを示しているが、これとは別に、流体64のスプレー42と電子ビーム発生器12は、図に示されている角度とは異なった角度に配置(例えば90°、または180°およびその間の任意の角度)することができる。したがって、上部、底部、水平などの本発明を説明するのに使用した用語は、図示されたコンポネントの相対位置を説明するのに用いられ、本発明の方向を限定することを意味するものではない。さらに流体42のスプレーは、平坦でなく円形のような異なった形状を持つことができる。さらにフィルタ14は、ポンプ16の上流側に配置することができる。ノズルアセンブリ28に供給される流体は、ポンプ16以外の、例えば加圧ガスによるか、または貯蔵槽の底部から流体を汲み出すこと、その他により加圧することができる。また前述の各流体滅菌装置を利用して、硬化または化学反応を開始するなどの滅菌以外の目的で流体を処理でき、および水以外をベースとする流体を処理することもできる。最後に本発明のそれぞれの実施形態の各種のコンポネントは、組み合わせるか、または省略でき、さらに考慮している用途に適合するサイズにすることができる。
【図面の簡単な説明】
【0021】
【図1】本発明の流体滅菌装置の1つの実施形態の側面図である。
【図2】図1の反対側から見た電子ビーム発生器および滅菌室の下部の拡大図である。
【図3】滅菌室の別の実施形態の部分断面図である。
【図4】本発明の流体滅菌装置の別の実施形態の概略側面図である。
【図5】本発明の流体滅菌装置のさらに別の実施形態の概略側面図である。
【符号の説明】
【0022】
10 流体滅菌装置
12 電子ビーム発生器
14 フィルタ
16 ポンプ
24 滅菌室
28 ノズル
30 滅菌領域
36 放射窓
38 電子ビーム
64 流体
【0001】
廃棄物処理プラントによっては、滅菌の目的で汚水を照射するのに電子ビーム技術を用いている。例えば、汚水を落水として流下させ、落下する汚水のカーテンを電子ビーム発生器からの電子ビームで照射する。滅菌を確実にするには、通常、100万〜1000万eVの範囲の極めて大型の電子ビーム発生器を使用して、落下カーテンを透過しなければならない。配管系内を流れる水のような流体を照射するには、別の大型のシステムが使用されてきた。このようなシステムでは、流体は配管系内を流れる間に照射される。
【発明の開示】
【0002】
本発明は、大型の電子ビーム発生器を必要としない流体滅菌装置に関する。流体滅菌装置は、内部にキャビティを持つ滅菌室と、加圧された流体を受け取り、流体をキャビティ内に噴射するノズルとを含む。放射窓を持つ電子ビーム発生器が滅菌室に取り付けられ、電子ビームを、放射窓を介して滅菌室のキャビティ内に放射して流体のスプレーを照射する。ノズルは、流体のスプレーを、放射窓に対して近接させて、かつほぼ平行に噴射するように構成されている。
【0003】
好ましい実施形態では、流体はポンプにより圧送され、流体中の粒子はフィルタにより濾過される。ノズルは、薄い、平坦な流体膜を滅菌室に導く。1つの実施形態では、流体の膜は0.004〜0.005インチ厚み(0.10〜0.13mm)である。滅菌室のキャビティは、滅菌済みの流体を排出するための流出口を備えている。1つの実施形態では、滅菌室のキャビティに再循環通路を設けて、流体のスプレーの一部を再循環させることにより、その流体のスプレーの一部をさらに照射することができる。この実施形態では、キャビティの流出口と再循環通路との間の壁は、壁を通り越して再循環通路に入ることができない流体のスプレーの一部を誘導する。
【0004】
本発明はまた、流体供給のためのコンテナを含む流体滅菌装置に関するものである。外周面を持つホイールシステムは、コンテナ内に回転可能に取り付けられている。ホイールシステムは、そのホイールシステムの一部を流体供給源上に設けることにより、流体の膜をその回転により流体供給源から外周面上に汲み上げる。ホイールシステムの外周面上の流体の膜の厚みを制御するために、調節部材(doctoring member)が配置されている。電子ビーム発生器を配置し、電子ビームを流体膜に照射して流体を滅菌する。滅菌された流体をホイールシステムから除去するために、流体除去部材が配置されている。
【0005】
好ましい実施形態では、ホイールシステムは、コンテナ内に回転可能に取り付けられた第1ホイールを備え、そのホイールにより、供給流体から流体の膜を汲み上げる。1つの実施形態では、ホイールシステムはさらに第1ホイールに回転可能に接触する第2ホイールを備え、その第2ホイールが、第1ホイールから電子ビーム発生器により照射される流体を受け取る。
【0006】
本発明の流体滅菌装置は、滅菌領域と電子ビーム発生器とを持つことができ、その何れもがコンパクトなサイズである、したがって、本発明は、従来の大型システムに比較して比較的低コストで製作できる。コンパクトなサイズであれば、本発明の装置は、流体滅菌を必要とする新しいシステムもしくは既存のシステム、または装置の両方に容易に取り付けできるほどに小さく、さらに、ポータブルユニットにもできる。
【0007】
本発明の前述およびその他の目的、特徴、および利点は、添付図面に示す本発明の好ましい実施形態の以下の詳細な説明から明らかになるであろう。図面では、同一参照符号は、異なる図面においても同一部品を示す。図面は、必ずしも縮尺通りでなく、本発明の原理を説明することに重点が置かれている。
【発明を実施するための最良の形態】
【0008】
図1および2の流体滅菌装置10は、流体を滅菌するのに用いられる本発明の1つの実施形態である。このような流体42には、水、機械装置用の冷却液等が含まれる。流体滅菌装置10は、流体貯蔵槽54(図1)から滅菌される流体64を圧送するポンプ16と、流体64から粒子を濾過するフィルタ14と、滅菌のために流体64が噴射される反応または滅菌室24と、流体64を電子ビーム38(図2)により照射するために滅菌室24に取り付けられた電子ビーム発生器12とを含む。電子ビーム発生器12は、電子ビーム38が放射される放射窓36を備え、滅菌室24は、滅菌室24内のキャビティまたは通路34に向けられたノズル28を備える。滅菌される流体64は、電子ビーム発生器12(図2)の放射窓36に近接するキャビティ34に向けられたノズル28により、流体64のスプレー42として送り込まれる。電子ビーム発生器12からの電子ビーム38は、キャビティ34内で電子ビームe−により流体64のスプレー42を照射し、これにより流体64内の微生物、ウィルスおよびバクテリアを死滅させて流体64を滅菌する。その後滅菌した流体を流出口32から回収して、再使用または廃棄できる。
【0009】
次に流体滅菌装置10の詳細な説明を行う。ポンプ16は、流体貯蔵槽54(図1)から滅菌される流体を圧送するための流体流入口18を備える。ポンプ16は、流体コンジット20によりポンプ16と連結されているフィルタ14に加圧された流体64を送る。濾過された流体64は、フィルタ14と滅菌室24とを連結する流体コンジット22を介して滅菌室24に送られる。
【0010】
濾過された流体64は、矢印A(図2)で示されるように、通路26を通り加圧されて滅菌室24に送られる。通路26は、キャビティ34の上流にあるノズル28と流体連結している。通常、ノズル28は流体64のスプレー42(流体64の比較的平坦で、薄く、水平な膜)をキャビティ34内に形成するように構成されている。流体64のスプレー42は、噴射口40を経てキャビティ34に入り、図示するようにキャビティ34を通過する際にその膜の厚さが僅かに広がる。1つの実施形態におけるノズル28は、約0.004〜0.020インチ(約0.1〜0.5mm)厚みの薄い、平坦な流体膜を生成するために、水平スロットのような単一ノズルから成っている。約0.004〜0.020インチ(約0.1〜0.5mm)厚みの流体42のスプレーを形成するために、ノズルアセンブリは、直径が約0.004〜0.020インチ(約0.1〜0.5mm)の開口であってもよい。代替として、ノズル28は一連の水平に配置されたノズルにしてもよい。
【0011】
キャビティ34はノズル28に近接する第1部分34aを有し、その第1部分は、一般に薄く、電子ビーム発生器12の放射窓36に最も近い、滅菌室24の上部に形成されている。図1および2では、第1部分34aは細長く図示されている。キャビティ34の第1部分34aは、流体のスプレー42が導かれる反応または滅菌領域30を形成している上部領域と、キャビティ34の第2部分または下流端34bに位置する流体流出口32に向かって下方に傾斜する下部壁33とを備える。キャビティ34の上部は、電子ビーム発生器12の放射窓36に対して水平または平行であるため、流体64のスプレー42は放射窓36に対して水平または平行に通過することができる。流体64のスプレー42は通常、放射窓36から1インチ(25.4mm)以内のところを通り、さらに好ましくは約1/4インチ(約6.4mm)離れて通る。キャビティ34の下部壁33の傾斜により、その上のすべての流体64が流体流出口32に向かって下方に流れる。通常、滅菌室24はステンレススチールにより形成されるが、代替的には、別の適切な材料で形成することも可能である。
【0012】
電子ビーム発生器12と滅菌室24間の取付け/シール機構51は、電子ビーム発生器12と滅菌室24とを一緒に取付けおよびシールすることにより、放射窓36がキャビティ34に近接しながらキャビティ34上でシールされる(図2)。電子ビーム発生器12の放射窓36は、滅菌領域30の上方に配置される。キャビティ34に開口する照射窓または開口52が、電子ビーム発生器12の放射窓36に対面することにより、電子ビーム38をキャビティ34内に放射することができる。キャビティ34が外部環境からシールされ、密封されることにより、流体64以外の外部汚染物は侵入できず、その結果、キャビティ34は運転中比較的無菌状態に保たれる。電子ビーム発生器12は通常密封されたデザインであり、米国特許No.5,962,955、および米国特許出願No.09/349,592(1999年7月9日に出願)、および米国特許出願No.09/209,024(1998年12月10日に出願)に記載された発生器と類似する。前記出願の内容は、その全文が参照により本明細書に引用されている。通常電子ビーム発生器12は、125KV〜300KVの範囲で動作する。代替的には、別の適切な電子ビーム発生器を使用することができ、同様に、125KV以下および300KV以上の電圧でも使用できる。
【0013】
流体64のスプレー42が滅菌室24(図2)のキャビティ34に噴射されるとき、電子ビーム38の電子e−は流体64のスプレー42を透過し、流体内のすべての微生物、バクテリア、またはウィルスの生体構造に損傷を与えるかまたは破壊する。これにより微生物、バクテリア、またはウィルスを不能にするか、または死滅させ、その結果、流体は滅菌される。場合によっては、流体内の化学的汚染物を破壊することもできる。ノズル28は、キャビティ34および電子発生器12を基準に構成および配置されており、これにより流体64のスプレー42を電子ビーム発生器12の放射窓36に対して近接させて、かつほぼ平行に向け(噴射し)、また電子ビーム38の照射が最大になるように電子ビーム38に対して垂直に向く(噴射する)ようにする。これはスプレー42を放射窓36にできる限り近づけることになるので、スプレー42は、強度が最大で、照射時間が最長となる電子ビーム38により照射される。キャビティ34には通常空気が充満しているために、電子ビーム38の強度は放射窓36からの距離の増加と共に低下する。さらに、薄く、平坦な膜の流体64のスプレー42により、電子ビーム38の流体64への透過度を最大にして完全な滅菌を可能にする。流体64のスプレー42を0.004〜0.020インチ(0.1〜0.5mm)厚みの薄い平坦な膜に形成することにより、125KV〜300KVの出力で動作する電子ビーム発生器12の電子ビーム38が、スプレーを充分透過して滅菌を可能にする。通常、流体64のスプレー42の厚さは、約125KVで動作する電子ビーム発生器12により放射された電子ビーム38が透過するために約0.004インチ(約0.1mm)とされ、150KVの場合には約0.005インチ(約0.13mm)、また約300KVの場合には約0.020インチ(約0.5mm)とされる。0.004インチ〜0.005インチ(0.1〜0.13mm)とされる厚みは、それぞれ125KV〜150KVで動作する電子ビーム発生器12を用いる場合の厚みである。1つの実施形態においては、ヘリウムのような低密度ガスをキャビティ34にポンプで送り込むことにより、電子ビーム38の範囲を拡大できる。代替的には、キャビティ34を真空化することにより、電子ビームの範囲を拡大できる。
【0014】
滅菌された流体は、キャビティ34の湾曲した後壁により下方に導かれ、その後矢印Bに示されるように、滅菌室24から下方に流れて流体流出口32から出て、回収その他に利用される。滅菌された流体は、流体貯蔵槽54または別の所望の場所に戻すことができる。ポンプ16を利用して流体を連続的に再循環して連続的に滅菌することも、またはポンプ16を周期的に運転して定期的に滅菌することもできる。定期的な運転だけが必要とされる場合は、流体滅菌装置10をポータブルユニットにし、必要な時にのみ流体供給源に接続して流体を滅菌することができる。用途によっては、週1回の滅菌だけが要求されることもある。
【0015】
1つの実施形態では、電子ビーム発生器12の直径は約11インチ(約280mm)である。電子ビーム発生器12と、このようなサイズの電子ビーム発生器用の滅菌室24とを合わせた高さは約18.5インチ(約460mm)である。このように小型の流体滅菌装置10は、流体滅菌用の新しいシステムもしくは既存のシステム、または装置の中に容易に取り付けできる。小型サイズにより、流体滅菌装置10を可般式にすることもできる。さらに流体滅菌装置10のサイズを、2つ以上のシステムまたは装置に対応した、流体を滅菌するためのサイズにすることもできる。この場合には、中央流体貯蔵槽を設置することができる。流体滅菌装置の流体の流入口18と流出口38は、中央貯蔵槽と流体連結するように構成される。また電子ビーム発生器12と滅菌室24のサイズは、装置能力の増減に応じて、例えば流体64のスプレー42が厚いかまたは薄いかに応じて増減させることができる。適切なすべての流体源は、流体滅菌装置10を用いて滅菌できることは明らかである。典型的な用途には、飲料水または他の流体の滅菌を含むが、これに限定されるものではない。
【0016】
図3によれば、滅菌室50は滅菌室24とは異なる別の好ましい滅菌室アセンブリであり、この滅菌室50は、流体流出口32と下方に傾斜する再循環通路46との間に壁44を有するキャビティ35を備える。通常、ノズル28が最初に流体64を噴射し始めるとき、壁44は、壁44の上を通過しない流体64のスプレー42aを集める、または捕集する収集領域48を形成する。収集領域48に集められた流体64は、通常、容認できる滅菌レベルまで充分照射されることはない。不十分な照射に関しては、電子ビーム38の一部のみによる照射か、または放射窓36から大きく離れた、電子ビーム38の強度が低下する場所を電子ビーム38が通過する照射を挙げることができる。収集された流体64は再照射のために再循環通路46を矢印Cの方向に流下される。再循環通路46は、流体64を流体貯蔵槽54またはポンプに戻すことができ、このポンプは流体64を通路26の直前のシステム内に戻すことができる。壁44の上を通過する流体64のスプレー42は、放射窓36に対して近接かつほぼ平行でしているために、電子ビーム38により充分に滅菌される。その後、滅菌された流体は流体流出口32を介して滅菌室アセンブリブリ50から出て行く。滅菌室50の構造は、電子ビーム38により照射される滅菌領域30が下流に、または壁44を越えて広がるように構成できる。滅菌室50は、化学薬品による洗浄の代わりに電子ビーム発生器12を用いて滅菌されるように設計されている。壁44は、ノズル28の方向に傾斜する表面を持つように図示されているが、これとは異なり、壁44は直線、湾曲した表面、またはノズル28とは離れる方向に延びる表面を持つことも可能である。
【0017】
図4によれば、流体滅菌装置55は本発明の別の実施形態を示す。流体滅菌装置55は、滅菌処理する流体64を流体貯蔵槽54から供給される照射アセンブリ60を含む。流体64は、ポンプ56によりコンジット58およびノズル58aを介して照射アセンブリ60のコンテナ62に圧送される。コンテナ62は、流体64の供給源64aを含むことができる。照射アセンブリ60は、コンテナ62の中でピボット点68を中心として回転可能な形で取り付けられて、矢印Rの方向に回転するホイール66を有するホイールシステムを含む。ホイール66は、任意の適切な従来の手段により駆動することができる。ホイール66の一部は、流体64の供給源64a上に位置している。ホイール66の回転により、流体72の最初の膜を流体64の供給源64aから上方に、ホイール66の外周面66a上に汲み上げる。通常、直線的な縁部を持つ調節部材またはブレード70が、ホイール66の外周面67を基準として位置決めされており、それにより、膜72の厚みを制御または減少させて照射に適した流体74のより薄い膜を形成する。調節部材70は、余剰の流体64を流体64の供給源64aに向かって下方に押し戻す。通常好ましい膜厚みは0.004〜0.020インチ(0.1〜0.5mm)である。流体74の膜は、ホイール66上を矢印Dの方向に移動し、電子ビーム発生器12からの電子ビーム38の電子e−により滅菌領域76内で照射されて滅菌される。流体74の膜は充分に薄いため、電子ビーム38が透過して微生物、ウィルスおよびバクテリアを死滅または破壊する。電子ビーム発生器12は、流体滅菌装置10に用いられるものと同様であり、通常125KV〜300KVの範囲で動作する。照射後、流体80の滅菌された膜を、ホイール66の外周面67に接触し、かつ下方に傾斜している流体除去部材78によりホイール66から掻き落とし、滅菌された流体80を所望の場所または貯蔵槽54に戻る方向に流して回収できる。通常、流体除去部材78は、ホイール66に接触し、かつ滅菌された流体80をホイールから掻き落とす直線的な縁部を備える。滅菌装置55は、ホイール66が流体64を供給源64aから上方に汲み上げる必要がある理由から、ホイール66が回転している時にのみ流体64を電子ビーム発生器12に通過させ、流すように設計されている。ホイール66が回転しない時には、流体はコンテナ62の中にとどまる。したがって滅菌装置55が作動していない時には、流体64はコンテナ62から漏れ出すことはない。通常、流体74の膜は、約125KVで作動する電子ビーム発生器12から放射される電子ビーム38が透過し、滅菌するには約0.004インチ(約0.1mm)の厚さとされており、約150KVで作動する場合には、その厚みは約0.005インチ(約0.13mm)となり、また約300KVで作動する場合の厚みは約0.020インチ(約0.5mm)となる。0.004〜0.005インチ(0.1〜0.13mm)の厚みが最も用いられる。また別に、0.004インチ(0.1mm)より薄いか、また0.020インチ(0.5mm)よりも厚い流体の膜は、適切なサイズの電子ビーム発生器12を備えることにより、充分な滅菌を実現できる。ホイール66が約6インチ〜12インチ(約152〜305mm)の直径を持つように製作して、流体滅菌装置55を 可搬式に適するサイズにまで小さくできる。また別に、ホイール66をさらに小さく、または大きくすることもできる。
【0018】
図5によれば、流体滅菌装置85は流体滅菌装置55とは異なる本発明の別の実施形態であり、照射アセンブリ84がピボット点68aを中心として回転し、かつ流体64の供給源64aの上方で第1ホイール66と回転接触する第2ホイール66aを有するホイールシステムを備える。一般にホイール66aはホイール66により駆動するが、これとは別に独立に駆動することもできる。ホイール66aは、矢印R1の方向に回転し、流体74の膜をホイール66からホイール66aに移動させ、それにより流体82の膜を形成する。流体82の膜は、矢印D1の方向に移動し、電子ビーム発生器12からの電子ビーム38により照射される。その後、流体80の滅菌された膜は、流体除去部材78によりホイール66aから除去される。ホイール66aを独立して駆動する場合には、ホイール66aをホイール66から僅かに間隔を空けて設け、何れの方向にも回転させることができる。
【0019】
本発明を好ましい実施形態により詳細に図示し、説明してきたが、当業者には、添付の特許請求項に包含される本発明の範囲から逸脱することなく、形状または細部に各種の変更が実行可能であることは理解されるであろう。
【0020】
例えば流体滅菌装置10の流体64のスプレー42は、水平方向であることを示しているが、これとは別に、流体64のスプレー42と電子ビーム発生器12は、図に示されている角度とは異なった角度に配置(例えば90°、または180°およびその間の任意の角度)することができる。したがって、上部、底部、水平などの本発明を説明するのに使用した用語は、図示されたコンポネントの相対位置を説明するのに用いられ、本発明の方向を限定することを意味するものではない。さらに流体42のスプレーは、平坦でなく円形のような異なった形状を持つことができる。さらにフィルタ14は、ポンプ16の上流側に配置することができる。ノズルアセンブリ28に供給される流体は、ポンプ16以外の、例えば加圧ガスによるか、または貯蔵槽の底部から流体を汲み出すこと、その他により加圧することができる。また前述の各流体滅菌装置を利用して、硬化または化学反応を開始するなどの滅菌以外の目的で流体を処理でき、および水以外をベースとする流体を処理することもできる。最後に本発明のそれぞれの実施形態の各種のコンポネントは、組み合わせるか、または省略でき、さらに考慮している用途に適合するサイズにすることができる。
【図面の簡単な説明】
【0021】
【図1】本発明の流体滅菌装置の1つの実施形態の側面図である。
【図2】図1の反対側から見た電子ビーム発生器および滅菌室の下部の拡大図である。
【図3】滅菌室の別の実施形態の部分断面図である。
【図4】本発明の流体滅菌装置の別の実施形態の概略側面図である。
【図5】本発明の流体滅菌装置のさらに別の実施形態の概略側面図である。
【符号の説明】
【0022】
10 流体滅菌装置
12 電子ビーム発生器
14 フィルタ
16 ポンプ
24 滅菌室
28 ノズル
30 滅菌領域
36 放射窓
38 電子ビーム
64 流体
Claims (36)
- 内部にキャビティを有する滅菌室と、
加圧された流体を受け取り、流体のスプレーをキャビティ内に噴射するノズルと、 放射窓を有する電子ビーム発生器であって、前記滅菌室に取り付けられており、電子ビームを前記放射窓を介して滅菌室のキャビティに放出して流体のスプレーを照射する電子ビーム発生器とを備え、
前記ノズルが、前記流体のスプレーを前記放射窓に対して近接させて、かつほぼ平行に噴射するように構成されている流体滅菌装置。 - 請求項1において、さらに、流体を圧送するためのポンプを備えている流体滅菌装置。
- 請求項2において、さらに、流体から粒子を濾過するためのフィルタを備えている流体滅菌装置。
- 請求項1において、ノズルが滅菌室内で流体の薄く、平坦な膜を噴射する流体滅菌装置。
- 請求項4において、前記流体の膜が約0.004〜0.005インチ(約0.1〜0.13mm)の厚みである流体滅菌装置。
- 請求項4において、前記滅菌室のキャビティが、滅菌された流体を除去する流流出口を備えている流体滅菌装置。
- 請求項6において、前記滅菌室のキャビティが、再循環通路を設けて、前記流体のスプレーの一部を再循環させることにより、そのスプレーの一部をさらに照射する流体滅菌装置。
- 請求項7において、キャビティがキャビティ流流出口と再循環通路間に壁を備えることにより、その壁上を通過できない流体のスプレーの一部を再循環通路に誘導する流体滅菌装置。
- 内部にキャビティを有する滅菌室と、
加圧された流体を受け取り、薄い、平坦な膜である、流体のスプレーをキャビティ内に噴射するノズルと、
前記滅菌室に取り付けられて、電子ビームを前記滅菌室のキャビティ内に放射することにより、流体のスプレーを照射する電子ビーム発生器とを備えている流体滅菌装置。 - 請求項9において、前記流体の膜が0.004〜0.005インチ(0.1〜0.13mm)厚みである流体滅菌装置。
- 流体の供給源を収容するコンテナと、
外周面を持つホイールシステムであって、前記コンテナ内に回転可能に取り付けられ、また前記ホイールシステムの一部が前記流体供給源上に位置して、その回転により流体の膜を流体供給源から上方に前記外周面上に汲み上げるホイールシステムと、
前記ホイールシステムの外周面上の前記流体の膜の厚みを制御する調節部材(doctoring member)と、
電子ビームで前記流体の膜を照射することにより、流体を滅菌する電子ビーム発生器と、
滅菌された流体を前記ホイールシステムから除去する流体除去部材とを備えている流体滅菌装置。 - 請求項11において、前記ホイールシステムが、前記コンテナ内に回転可能に取り付けられて、前記流体供給源から流体の膜を汲み上げる第1ホイールを備えている流体滅菌装置。
- 請求項12において、前記ホイールシステムがさらに、前記第1ホイールに回転接触する第2ホイールを備え、この第2ホイールが前記第1ホイールから流体を受け取って、電子ビーム発生器による照射を行う流体滅菌装置。
- 内部にキャビティを有する滅菌室を設けるステップと、
加圧された流体を受け取り、その流体のスプレーをキャビティ内に噴射するノズルを形成するステップと、
電子ビーム発生器を前記滅菌室に取り付けるステップと、を含み、
前記電子ビーム発生器が放射窓を有し、その放射窓を介して電子ビームを滅菌室のキャビティ内に放射して流体のスプレーを照射し、前記ノズルが流体のスプレーを放射窓に対して近接させて、かつほぼ平行に噴射するように構成されている流体滅菌装置を形成する方法。 - 請求項14において、さらに、前記流体を圧送するポンプを設けるステップを含む方法。
- 請求項15において、さらに、前記流体から粒子を濾過するフィルタを設けるステップを含む方法。
- 請求項14において、さらに、前記流体の薄く、平坦な膜を生成できるノズルを形成するステップを含む方法。
- 請求項17において、さらに、流体の0.004〜0.005インチ(0.1〜0.13mm)厚みの膜を生成できるノズルを形成するステップを含む方法。
- 請求項17において、さらに、滅菌された流体が通過して除去される流流出口を有する滅菌室のキャビティを形成するステップを含む方法。
- 請求項19において、さらに、前記滅菌室のキャビティ内に再循環通路を形成して、流体のスプレーの一部を再循環することにより、そのスプレーの一部をさらに照射するステップを含む方法。
- 請求項20において、さらに、キャビティ内のキャビティ流出口と再循環通路との間に壁を形成し、壁の上を通過できない流体のスプレーからの流体を前記再循環通路に誘導するステップを含む、方法。
- ノズルアセンブリからの加圧された流体のスプレーを滅菌室のキャビティ内に噴射するステップと、
前記滅菌室に取り付けられた電子ビーム発生器からの電子のビームにより前記流体のスプレーを照射するステップとを含み、
前記電子ビーム発生器は、電子ビームが通過して放射される放射窓を有し、前記ノズルが流体のスプレーを放射窓に対して近接させて、かつほぼ平行に噴射するように構成されている、流体を滅菌する方法。 - 請求項22において、さらに、前記流体をポンプを用いてノズルアセンブリに圧送するステップを含む方法。
- 請求項23において、さらに、フィルタを用いて前記流体から粒子を濾過するステップを包む方法。
- 請求項22において、さらに、前記流体のスプレーを薄い、平坦な膜として形成するステップを含む、方法。
- 請求項25において、さらに、前記流体の膜を約0.004〜0.005インチ(約0.1〜0.13mm)厚みに形成するステップを含む方法。
- 請求項25において、さらに、滅菌された流体を滅菌室のキャビティから流流出口を介して除去するステップを含む方法。
- 請求項27において、さらに、前記流体のスプレーの一部を再循環通路を介して再循環させて、そのスプレーの一部をさらに照射するステップを含む方法。
- 請求項28において、さらに、流体の最初のスプレーを再循環するステップを含む方法。
- 請求項29において、さらに、前記キャビティ内のキャビティ流流出口と再循環通路間の壁の上を通過できない流体を再循環通路に誘導するステップを含む方法。
- 流体の供給源を収容できるコンテナを設けるステップと、
前記コンテナ内に外周面を有するホイールシステムを回転可能に取り付けることにより、そのホイールシステムのホイールの一部が流体供給源上に位置して、その回転と共に流体の膜を流体供給源から上方に前記外周面上に汲み上げるステップと、
調節部材を設けて、前記ホイールシステムの前記外周面上の前記流体の膜の厚みを制御するステップと、
電子ビーム発生器を設けて、電子ビームにより前記流体の膜を照射して流体を滅菌するステップと、
滅菌された流体を前記ホイールシステムから除去する流体除去部材を設けるステップとを含む流体滅菌装置を形成する方法。 - 請求項31において、さらに、前記コンテナ内に回転可能に取り付けられた第1ホイールを有するホイールシステムを設けて、流体の供給源から流体の膜を汲み上げるステップを含む方法。
- 請求項32において、さらに、前記第1ホイールと回転接触する第2ホイールを有するホイールシステムを設けて、電子ビーム発生器により照射する流体を前記第1ホイールから受け取るステップを含む方法。
- 流体の膜を、コンテナ内の流体供給源から、同コンテナ内に回転可能に取り付けられた回転ホイールシステムの外周面上に上方に汲み上げるステップであって、前記ホイールシステムの一部が流体の供給源上に位置しているステップと、
前記ホイールシステムの外周面上の流体の膜の厚みを調節部材により制御するステップと、
電子ビーム発生器からの電子のビームで流体の膜を照射して流体を滅菌するステップと、
滅菌された流体を、流体除去部材を用いて前記ホイールシステムから除去するステップとを含む、流体を滅菌する方法。 - 請求項34において、さらに、前記ホイールシステムの第1ホイールを用いて流体供給源から流体の膜を汲み上げるステップを含む方法。
- 請求項35において、さらに、前記ホイールシステムの第2ホイールを第1ホイールに接触させることにより、前記第1ホイールから流体を受け取り、その流体を電子ビーム発生器により照射するステップを含む方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US25121000P | 2000-12-04 | 2000-12-04 | |
PCT/US2001/046376 WO2002058743A2 (en) | 2000-12-04 | 2001-12-04 | Fluid sterilization apparatus |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004522574A true JP2004522574A (ja) | 2004-07-29 |
JP2004522574A5 JP2004522574A5 (ja) | 2005-12-22 |
Family
ID=22950945
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002559077A Pending JP2004522574A (ja) | 2000-12-04 | 2001-12-04 | 流体滅菌装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6756597B2 (ja) |
JP (1) | JP2004522574A (ja) |
BR (1) | BR0116189A (ja) |
WO (1) | WO2002058743A2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20190047698A (ko) * | 2016-09-01 | 2019-05-08 | 프라운호퍼-게젤샤프트 추어 푀르더룽 데어 안게반텐 포르슝 에.파우. | 생물학적 매질에서 병원균의 비활성화 |
WO2022062312A1 (zh) * | 2020-09-27 | 2022-03-31 | 中广核达胜加速器技术有限公司 | 一种医疗废水电子束辐照处理装置和处理方法 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2865135B1 (fr) * | 2004-01-20 | 2007-10-05 | Serac Group | Installation de sterilisation d'articles par bombardement electronique |
WO2007095205A2 (en) | 2006-02-14 | 2007-08-23 | Advanced Electron Beams, Inc. | Electron beam emitter |
KR100998185B1 (ko) * | 2010-04-06 | 2010-12-03 | 이비테크(주) | 전자빔을 이용한 선박의 밸러스트수 처리장치 및 처리방법 |
WO2020023942A2 (en) | 2018-07-27 | 2020-01-30 | Terumo Bct Biotechnologies, Llc | Fluid flow-through |
DE102020205036B4 (de) * | 2020-04-21 | 2022-08-11 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung eines Flüssigkeitsfilms eines flüssigen Mediums in einem Folienbeutel, sowie Anordnung zur kontrollierten Exposition eines flüssigen Mediums in einem Folienbeutel mit physikalischer Strahlung |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2340890A (en) | 1941-02-25 | 1944-02-08 | Lang Alphonse | Method and apparatus for sterilizing, preserving, and irradiating of various liquid substances |
FR2031747A5 (ja) | 1969-02-06 | 1970-11-20 | Commissariat Energie Atomique | |
US3974391A (en) | 1972-11-29 | 1976-08-10 | Licentia Patent-Verwaltungs-G.M.B.H. | High energy electron irradiation of flowable materials |
DE2258393B1 (de) | 1972-11-29 | 1973-10-11 | Licentia Gmbh | Verfahren und Einrichtung zur Bestrahlung von Fluessigkeiten und aehnlichen Medien mit energiereichen Elektronen |
US3988588A (en) | 1972-11-29 | 1976-10-26 | Licentia Patent-Verwaltungs-G.M.B.H. | High energy electron irradiation of flowable materials |
US3901807A (en) | 1973-06-27 | 1975-08-26 | High Voltage Engineering Corp | High energy electron treatment of water |
CH577940A5 (ja) * | 1974-11-20 | 1976-07-30 | Bbc Brown Boveri & Cie | |
CH583063A5 (ja) | 1974-12-23 | 1976-12-31 | Sulzer Ag | |
CH583586A5 (ja) | 1974-12-23 | 1977-01-14 | Sulzer Ag | |
DE2547261A1 (de) | 1975-10-22 | 1977-04-28 | Licentia Gmbh | Einrichtung zur bestrahlung von fluessigen und pastoesen bestrahlungsguetern |
DE2721316C3 (de) | 1977-05-04 | 1979-10-11 | Gebrueder Sulzer Ag, Winterthur (Schweiz) | Vorrichtung zum Bestrahlen fließbaren Gutes, insbesondere Klärschlamm, mittels Elektronenstrahlung |
DE2746917A1 (de) | 1977-10-19 | 1979-04-26 | Licentia Gmbh | Anordnung zur bestrahlung von fluessigkeiten und pastoesen massen, insbesondere klaerschlamm |
US4230947A (en) | 1979-07-02 | 1980-10-28 | High Voltage Engineering Corporation | Apparatus for treating flowable material |
JP2757213B2 (ja) | 1989-09-22 | 1998-05-25 | 日本原子力研究所 | 水流殺菌装置 |
US5530255A (en) | 1990-08-17 | 1996-06-25 | Raychem Corporation | Apparatus and methods for electron beam irradiation |
US5357291A (en) | 1992-09-08 | 1994-10-18 | Zapit Technology, Inc. | Transportable electron beam system and method |
US5451790A (en) | 1994-01-21 | 1995-09-19 | Ion Physics Corporation | Method of treating waste or drinking water with high-energy electrons and apparatus therefor |
US6083387A (en) | 1996-06-20 | 2000-07-04 | Burnham Technologies Ltd. | Apparatus for the disinfection of fluids |
US5807491A (en) | 1996-08-29 | 1998-09-15 | Advanced Oxidation Systems, Inc. | Electron beam process and apparatus for the treatment of an organically contaminated inorganic liquid or gas |
JP3263616B2 (ja) | 1996-12-04 | 2002-03-04 | 三菱重工業株式会社 | 給水用電子滅菌装置 |
-
2001
- 2001-12-04 WO PCT/US2001/046376 patent/WO2002058743A2/en active Application Filing
- 2001-12-04 BR BR0116189-0A patent/BR0116189A/pt not_active IP Right Cessation
- 2001-12-04 US US10/005,194 patent/US6756597B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2001-12-04 JP JP2002559077A patent/JP2004522574A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20190047698A (ko) * | 2016-09-01 | 2019-05-08 | 프라운호퍼-게젤샤프트 추어 푀르더룽 데어 안게반텐 포르슝 에.파우. | 생물학적 매질에서 병원균의 비활성화 |
KR102407147B1 (ko) | 2016-09-01 | 2022-06-08 | 프라운호퍼-게젤샤프트 추어 푀르더룽 데어 안게반텐 포르슝 에.파우. | 생물학적 매질에서 병원균의 비활성화 |
WO2022062312A1 (zh) * | 2020-09-27 | 2022-03-31 | 中广核达胜加速器技术有限公司 | 一种医疗废水电子束辐照处理装置和处理方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2002058743A3 (en) | 2003-01-03 |
US20020088948A1 (en) | 2002-07-11 |
BR0116189A (pt) | 2003-12-16 |
WO2002058743A2 (en) | 2002-08-01 |
US6756597B2 (en) | 2004-06-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP1071479B1 (en) | A sterilisation apparatus | |
US6180000B1 (en) | Surgical waste liquid and smoke disposal system | |
US7758025B2 (en) | Apparatus for air treatment and surface treatment installation having the same | |
US8153074B2 (en) | Ozone sterilizing system for water dispensing system | |
KR101708799B1 (ko) | 히드록실 라디칼을 이용한 살균 정화 장치 | |
JP2007503960A5 (ja) | ||
AU4361296A (en) | Method and apparatus for treatment of fluids | |
KR20170000048A (ko) | 살균 장치 | |
JP4247117B2 (ja) | 人間医学の療法において水溶液を清浄化する装置 | |
JP2004522574A (ja) | 流体滅菌装置 | |
US5861123A (en) | Ultraviolet light irradiated ebullating mass transfer system | |
KR101890361B1 (ko) | 배오존 재순환 형식의 uv 소독 시스템 | |
JP5808030B1 (ja) | 空気清浄装置 | |
KR102370130B1 (ko) | 오존수를 활용한 세정장치 | |
KR102193361B1 (ko) | 의료용 프로브 멸균장치 및 그 멸균방법 | |
CN111380116A (zh) | 加湿器 | |
JPH09155160A (ja) | 揮発性有機化合物の分解除去装置及び方法 | |
JPH11294788A (ja) | 冷却器 | |
JP3860943B2 (ja) | オゾン脱臭装置 | |
JP4069167B2 (ja) | 貯留水の微生物増殖抑制方法及び装置 | |
JP2003199814A (ja) | 霧化殺菌消臭装置 | |
JP2003334432A (ja) | 気体溶解器及び水処理器それらを備えた水処理装置 | |
JP2977852B2 (ja) | オゾン水発生装置 | |
JP3870296B2 (ja) | パチンコ玉洗浄装置 | |
JPS6314948Y2 (ja) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20041202 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041202 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080527 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20081028 |