JP2004510680A - 微孔性結晶性物質(itq−17)、該物質の製法並びに有機化合物の分離法および変換法における該物質の使用 - Google Patents

微孔性結晶性物質(itq−17)、該物質の製法並びに有機化合物の分離法および変換法における該物質の使用 Download PDF

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Abstract

下記の実験式で表されるゼオライト特性を有する微孔性結晶性物質:
x(M1/nXO):yYO:zGeO:(1−z)TO
[式中、xは0〜0.2の値を示し、yは0〜0.1の値を示し、zは0〜1の値を示し、MはHおよび+n価の無機カチオンから選択されるカチオンを示し、Xは+3の酸化状態の少なくとも1つの化学元素を示し、Yは+4の酸化状態の少なくとも1つの化学元素を示し、Tは+4の酸化状態の少なくとも1つの化学元素を示す(但し、z、xおよびyの少なくとも1つは0より大きい値を示す)]
このゼオライト物質は特徴的なX線回折図形および微孔性特性によっても特徴づけられる。また、このゼオライト物質は有機化合物の分離と変換における触媒または酸化剤として用いることができる。

Description

【0001】
(技術分野)
本発明は微孔性の結晶性物質、特にゼオライト特性を有する物質、並びに有機化合物の分離および変換(transformation)において有用なゼオライト特性を有する物質に関する。
【0002】
(背景技術)
ゼオライトは四面体T04の結晶性網状構造(network)によって形成される微孔性結晶性物質である。該四面体の頂点は、分子次元の溝(channel)および/空洞(cavity)を有する三次元構造の形成に関与する。ゼオライトは種々の組成を有しており、Tは一般に+3または+4の酸化状態にある原子、例えば、Si、Ge、Ti、Al、BおよびGa等を示す。T原子のいずれかが+4よりも小さな酸化状態にあると、形成される結晶性網状構造は、該溝および空洞内の有機または無機カチオンの存在によって補償される負の荷電を示す。有機分子およびHOも該溝および空洞内に存在することがあるので、ゼオライトの化学的組成は一般的には次の実験式によって表すことができる:
x(M1/nXO):yYO:zR:wH
(式中、Mは+n価の1種または種々の有機または無機のカチオンを示し、Xは1種または種々の3価元素を示し、Yは1種または種々の4価元素(一般的にはSi)を示し、Rは1種または種々の有機物質を示す)
合成の後処理によって、M、X、YおよびRの特性並びにx、y、zおよびwの値を変化させることができるが、ゼオライトの合成時またはか焼後の化学組成は、得られる各々のゼオライトとその製法に対して特徴的な範囲を有する。
【0003】
一方、溝と空洞の特有の系を有する各々のゼオライトの結晶性構造は特徴的なX線回折図形を示す。従って、ゼオライトは各々の化学組成の範囲とX線回折図形によって差別化される。この2種類の特徴(結晶性構造および化学組成)は各々のゼオライトの物理的および化学的特性並びに異なる工業的プロセスにおけるその可能な用途も決定する。
【0004】
(発明の開示)
(発明が解決しようとする技術的課題)
本発明は、ゼオライト特性を有する微孔性結晶性物質(ITQ−17と命名される)、該物質の製法並びに有機化合物の分離および変換のプロセスにおける該物質の使用法を提供する。
【0005】
(その解決方法)
この物質(本明細書においては「ITQ−17ゼオライト」として同定される)はそのX線回折図形と化学組成によって特徴づけられる。無水のか焼形態においては、ITQ−17の化学組成は次の実験式によって表される:
x(M1/nXO):yYO:zGeO:(1−z)TO
式中、xは0.2より小さい値(好ましくは0.067よりも小さい値、より好ましくは0.05より小さい値)を示し、0であってもよい。
yは0.1よりも小さい値(好ましくは0.05よりも小さい値、より好ましくは0.02よりも小さい値)を示し、0であってもよい。
zは0〜1の値(好ましくは0.01〜0.67の値、より好ましくは0.025〜0.5の値)を示す。
MはHまたは1もしくは複数の+n価の無機カチオンを示す。
Xは1もしくは複数の+3の酸化状態の化学元素(例えば、Al、Ga、B、Cr)を示す。
Yは1もしくは複数の+4の酸化状態の化学元素(例えば、Ti、Sn、V)を示す。
Tは少なくとも1種の+4の酸化状態の化学元素(例えば、Si、Ti、Sn、V)を示す。
x、yおよびzのうちの少なくとも1つは0よりも大きい値を示す。
【0006】
合成法およびか焼法もしくは後処理法の観点からは、結晶性ネットワーク中に欠陥が存在する可能性があり、これはSi−OH基(シラノール基)の存在によって示される。このような欠陥は上記の実験式には含まれていない。
【0007】
本発明による物質は、以下の表1に示すような角度(2θ)と相対強度(I/I)を有するX線回折図形によっても特徴づけられる:
【表1】
Figure 2004510680
【0008】
一般的には、該ITQ−17物質は、必ずしも必須ではないが、上記の表1に示すデータのほかに、以下の表2に記載の角度(θ)と相対強度(I/I)を有するX線回折図形を示す:
【表2】
Figure 2004510680
【0009】
一方、か焼した無水のITQ−17物質は以下の表3に記載のX線回折図形を示す:
【表3】
Figure 2004510680
【0010】
一般的には、該ITQ−17物質は、必ずしも必須ではないが、上記の表1に示すデータのほかに、以下の表4に記載の角度(θ)と相対強度(I/I)を有するX線回折図形を示す:
【表4】
Figure 2004510680
【0011】
上記の表に詳細に示した回折ピーク以外のピークの位置、幅および相対強度は、該物質の化学組成[構造化剤(structuring agent)のタイプ、Si/Ge比、ネットワーク中におけるケイ素原子および/またはゲルマニウム原子以外の他の3価および/または4価の1または複数のヘテロ原子(例えば、アルミニウム原子、ホウ素原子、チタン原子およびバナジウム原子等)の存在]、水和度および結晶のサイズによって修正してもよい。
【0012】
合成したときの本発明によるITQ−17ゼオライト物質の代表的なX線回折図形を以下の表5に示す。この場合、測定誤差による角度2θの測定値の変動は±0.5度である。
表5に示すデータは、構造化剤としてDABCO−ベンジルを用いて調製されるITQ−17ゼオライト物質(Si/Ge=5)についての特に代表的な例である。
【0013】
【表5】
Figure 2004510680
【0014】
他方、表5に示すX線回折図形を示すITQ−17の試料を580℃でか焼することによって該ゼオライトの内部に吸蔵された有機化合物を除去した後の粉末のX線回折図形(角度:2θ;相対強度:I/I)を以下の表6に示す。
【表6】
Figure 2004510680
【0015】
合成したときのITQ−17ゼオライトのX線回折図形は、PW1710コントローラーを備えたPW1830回折計(フィリップス社製)を使用し、CUKα放射線および固定発散スリットを用いる粉末法に従って得た。
【0016】
角度2θと相対強度(I/I)の%値に関しては、Iは最も強いピーク強度を示し、100%の値が帰属される。測定誤差に起因する角度θの測定値の変動は±0.5度である。
【0017】
一方、上記の表中の相対強度の意義は以下の通りである。
「w」:弱い強度(0〜20%)
「m」:中間の強度(20〜40%)
「s」強い強度(40〜60%)
「vs」:非常に強い強度(60〜100%)
【0018】
ITQ−17ゼオライトの第1の態様においては、TはSiを示すので、実験式は次式で表される:
x(M1/nXO):yYO:zGeO:(1−z)SiO
式中、xは0.2よりも小さい値を示し、yは0.1よりも小さい値を示し、zは0〜1の値を示し、MはHまたは1もしくは複数の+n価の無機カチオンを示し、Xは1もしくは複数の+3の酸化状態の化学元素(例えば、Al、Ga、B、CrまたはFe)を示し、Yは1または複数の+4の酸化状態の化学元素(例えば、Ti、SnまたはV)を示す。
【0019】
ITQ−17ゼオライトの第2の態様においては、TはSiを示し、yは0を示すので、実験式は次式で表される:
x(M1/nXO):zGeO:(1−z)SiO
式中、xは0.2よりも小さい値(好ましくは、0.067よりも小さい値、より好ましくは0.05よりも小さい値)を示し、0であってもよく、zは0〜1の値(好ましくは0.01〜0.67の値、より好ましくは0.025〜0.5の値)を示し、MはHまたは1もしくは複数の+n価の無機カチオンを示し、Xは1もしくは複数の+3の酸化状態の化学元素(例えば、Al、Ga、B、CrまたはFe)を示す。
【0020】
ITQ−17ゼオライトの第3の態様においては、xは0を示し、TはSiを示すので、実験式は次式で表される:
yYO:zGeO:(1−z)SiO
式中、yは0.1よりも小さい値(好ましくは0.05よりも小さい値、より好ましくは0.02よりも小さい値)を示し、0であってもよく、zは0〜1の値(好ましくは0.01〜0.67の値、より好ましくは0.25〜0.5の値)を示し、Yは1もしくは複数の+4の酸化状態の化学元素(例えば、Ti、SnまたはV)を示す。
【0021】
ITQ−17ゼオライトの第4の態様においては、MはHを示し、TはSiを示し、yは0を示すので、実験式は次式で表される:
x(HXO):zGeO:(1−z)SiO
式中、Xは3価元素(例えば、Al、Ga、B、CrまたはFe)を示し、xは0.2よりも小さい値(好ましくは0.067よりも小さい値、より好ましくは0.05よりも小さい値)を示し、0であってもよく、また、zは0〜1の値(好ましくは0.01〜0.67の値、より好ましくは0.025〜0.5の値)を示す。
【0022】
ITQ−17ゼオライトの第5の態様においては、xとyは0を示し、TはSiを示すので、実験式は次式で表される:
zGeO:(1−z)SiO
式中、zは0〜1の値(好ましくは0.01〜0.67の値、より好ましくは0.025〜0.5の値)を示す。
【0023】
ITQ−17ゼオライトの第6の態様においては、zとyは0を示すので、実験式は次式で表される:
x(M1/nXO):TO
式中、xは0.2よりも小さい値を示し、MはHまたは1もしくは複数の+n価の無機カチオンを示し、Xは1もしくは複数の+3の酸化状態の化学元素(例えば、Al、Ga、B、CrまたはFe)を示し、Tは1もしくは複数の+4の酸化状態の化学元素(例えばSi、Ti、SnまたはV)を示す(好ましくはSiのみを示すか、または少なくとも主としてSiを示す)。
【0024】
ITQ−17ゼオライトは、下記の構造を有する構造規定剤(structure directing agent)であるQ−ベンジルカチオンおよびDABCO−ベンジルカチオンを含有する反応混合物を80℃〜200℃(好ましくは100℃〜200℃、より好ましくは130℃〜175℃)の温度まで加熱することに基づく調製法によって得ることができる。
【化1】
Figure 2004510680
【化2】
Figure 2004510680
【0025】
合成混合物はケイ素源(無定形シリカ、コロイドシリカ、シリカゲル、シリカハライドおよび/またはテトラアルキルオルトシリケートが随意に好ましい)も含有するが、好ましくはゲルマニウム源(例えば、酸化ゲルマニウム、ハロゲン化ゲルマニウムおよび/またはゲルマニウムアルコキシド)を添加することができる。合成混合物は選択成分として3価元素(例えば、Al、B、Ga、Cr、Fe)を含んでいてもよく、および/または選択成分としてチタン源および/またはバナジウム源(例えばチタンのハロゲン化物もしくはアルコキシドおよびバナジウムのアルコキシドもしくはスルフェート)、およびSnを含んでいてもよい。最後に、合成混合物は鉱化剤としてフッ化物アニオン源を含有することができる。
【0026】
ITQ−17を合成するために必要な合成組成物は使用する構造規定剤によって左右される。
【0027】
一般的な合成法においては、シリカおよび所望によるゲルマニウム源を、本発明において権利請求されている1もしくは複数の構造規定剤(DABCO−ベンジルおよびQ−ベンジル)に溶解させる。次いで、必要ならば、3価元素源および/または4価元素源(ケイ素とゲルマニウム以外の元素源)を添加する。最後に、フッ化物アニオンを添加する。混合物の最終的なpHは6〜9である。
【0028】
合成混合物の組成は次の一般的な実験式に対応する。
rRKM:aM1/nOH:xX:yYO:zGeO:(1−z)SiO:fHF:wH
式中、MはHまたは1もしくは複数の+n価の無機カチオンを示し、Xは1もしくは複数の3価元素(好ましくはAl、B、Ga、FeまたはCr)を示し、Yは1もしくは複数の4価元素(好ましくはTi、SnまたはV)を示し、Rは有機カチオン(好ましくはDABCO−ベンジル、Q−ベンジルまたはこれらの混合物)を示し、Kはアニオン(好ましくはハロゲン化物、水酸化物またはこれらの混合物)を示す。
【0029】
構造規定剤としてDABCO−ベンジルカチオンを使用する場合、r、a、x、y、z、fおよびwの値は以下の範囲内にある。
r=(DABCO−ベンジル)/(SiO+GeO)=0.01〜3(好ましくは0.03〜1)
a=M1/nOH/(SiO+GeO)=0〜1.0(好ましくは0〜0.2)
x=X/(SiO+GeO)=0〜0.1(好ましくは0〜0.033、より好ましくは0〜0.025)
y=YO/(SiO+GeO)=0〜0.1(好ましくは0〜0.05、より好ましくは0〜0.02)
z=GeO/(SiO+GeO)=0〜0.67(好ましくは0.1〜0.5、より好ましくは0.025〜0.5)
w=HO/(SiO+GeO)=0〜100(好ましくは1〜50、より好ましくは1〜25)
f=HF/(SiO+GeO)=0.01〜3(好ましくは0.03〜1)
【0030】
構造規定剤としてQ−ベンジルを使用する場合、r、a、x、y、z、fおよびwの値は以下の範囲内にある。
r=(Q−ベンジル)/(SiO+GeO)=0.01〜3(好ましくは0.03〜1)
a=M1/nOH/(SiO+GeO)=0〜1.0(好ましくは0〜0.2)
x=X/(SiO+GeO)=0〜0.1(好ましくは0〜0.033、より好ましくは0〜0.0065)
y=YO/(SiO+GeO)=0〜0.1(好ましくは0〜0.05、より好ましくは0〜0.02)
z=GeO/(SiO+GeO)=0〜0.5(好ましくは0.04〜0.33、より好ましくは0.125〜0.33)
w=HO/(SiO+GeO)=0〜100(好ましくは1〜50、より好ましくは1〜25)
f=HF/(SiO+GeO)=0.01〜3(好ましくは0.03〜1)
【0031】
構造規定剤としてDABCO−ベンジルとQ−ベンジルの混合物を使用する場合、r、a、x、y、z、fおよびwの値は以下の範囲内にある[(DABCO−ベンジル)/(DABCO−ベンジル+Q−ベンジル)の比は0〜1の範囲内で変化させることができ、0と1は除外される]。
r=(DABCO−ベンジル+Q−ベンジル)/(SiO+GeO)=0.01〜3(好ましくは0.03〜1)
a=M1/nOH/(SiO+GeO)=0〜1.0(好ましくは0〜0.2)
x=X/(SiO+GeO)=0〜0.1(好ましくは0〜0.033、より好ましくは0〜0.025)
y=YO/(SiO+GeO)=0〜0.1(好ましくは0〜0.05、より好ましくは0〜0.02)
z=GeO/(SiO+GeO)=0〜0.67(好ましくは0.01〜0.5、より好ましくは0.025〜0.05)
w=HO/(SiO+GeO)=0〜100(好ましくは1〜50、より好ましくは1〜25)
f=HF/(SiO+GeO)=0.01〜3(好ましくは0.03〜1)
【0032】
合成混合物中へは、種結晶として結晶、好ましくはゼオライト、より好ましくはITQ−17ゼオライトを導入することができる。種結晶は適当な液体中への結晶の懸濁液、プレオルガノゲルまたは乾燥した固体として添加することができる。
【0033】
反応混合物の熱処理は静的におこなってもよく、あるいは撹拌下でおこなってもよい。
【0034】
この合成法によって得られるITQ−17ゼオライトは濾過処理または遠心分離処理によって母液から分離することができ、また、該ゼオライト中に含まれる有機化合物を除去するために真空下、空気中、N中、またはその他の不活性ガス中でか焼することができる。か焼のための温度は少なくとも250℃、より好ましくは400℃よりも高い温度である。
【0035】
か焼しない物質のX線回折図形は表1に示すITQ−17ゼオライトのX線回折図形に相当する。
【0036】
このゼオライト物質をか焼すると(T=Si)、下記の一般式に対応する:
x(M1/nXO):yYO:zGeO:(1−z)SiO
式中、xは0.2よりも小さい値(好ましくは0.067よりも小さい値、より好ましくは0.05よりも小さい値)を示し、0であってもよく、yは0.1よりも小さい値(好ましくは0.05よりも小さい値、より好ましくは0.02よりも小さい値)を示し、0であってもよく、zは1〜0の間の値(好ましくは0.67〜0.01、より好ましくは0.5〜0.025)を示し、MはHまたは+n価の1もしくは複数の無機カチオンを示し、Xは+3の酸化状態の1もしくは複数の化学元素(例えば、Al、Ga、B、CrまたはFe)を示し、Yは+4の酸化状態の1もしくは複数の化学元素(例えば、Ti、SnまたはV)を示す。
【0037】
本明細書において権利請求されている合成法によって得られる物質は、オレフィンとアルコールを用いる芳香族化合物のアルキル化用触媒、特にプロピレンを用いるベンゼンのアルキル化用触媒、および炭化水素の接触分解用の触媒もしくは添加剤として有用である。本発明によって合成されるITQ−17ゼオライトは、水素化分解触媒用成分、炭化水素および有機化合物一般のソフト水素化分解触媒用成分、脱パラフィンおよびイソ脱パラフィン用触媒、置換芳香族化合物のアシル化反応およびメールワイン−ポンドルフ−バーレイ反応における触媒として権利請求されており、また、この合成法によって合成されるTi含有物質は、オレフィンからエポキシドとアルコールへの酸化用触媒、チオエーテルからスルホキシドとスルホンへの酸化用触媒、NHを用いるシクロヘキサノンからシクロヘキサノンオキシムへのアンモキシメーション(ammoximation)用触媒として権利請求されている。さらに、この合成法によって得られるSn含有ITQ−17物質の用途は、メールワイン−ポンドルフ−バーレイ反応および酸化剤としてHを用いるバイヤー−ビリガー反応における触媒として権利請求されている。
【0038】
本発明の理解を容易にするために、添付図に基づく本発明の実施態様のいくつかの例を以下の実施例により説明する。なお、添付図も本明細書の一部を成すものである。
実施例1
この実施例においては、SiとGeを含有するITQ−17(Si/Ge=5)を、構造規定剤としてDABCO−ベンジルカチオンを用いて合成する例を示す。
DABCO−ベンジルの水溶液[DABCO−ベンジル(OH)9.98×10−4モル/g]16.7g中においてテトラエチルオルトシリケート(TEOS)5.79gを加水分解させた。次いで、GeO0.581gを添加した。混合物を撹拌下で放置し、TEOSの加水分解中に生成したエタノールおよび水7.26gを蒸発させた。最後に、HF(50%水溶液)0.67gを添加した。得られた混合物を、PTFEで内張りしたオートクレーブ内において150℃で加熱した。加熱を14時間おこなった後、混合物を濾過処理に付すことによって、合成ゲル100gあたり18gのITQ−17ゼオライトを得た。該ゼオライトは580℃でのか焼処理に付した。
上記の合成のときに得られたゼオライトのX線回折図形を図1に示し、また、該ゼオライトをか焼して無水状態にしたときのゼオライトのX線回折図形を図2に示す。
【0039】
実施例2
この実施例においては、SiとGeを含有するITQ−17(Si/Ge=2)を、構造規定剤としてDABCO−ベンジルカチオンを用いて合成する例を示す。
DABCO−ベンジルの水溶液[DABCO−ベンジル(OH)2×10−3モル/g]7.5g中においてテトラエチルオルトシリケート(TEOS)4.17gを加水分解させた。次いで、GeO1.045gおよび水0.3gを添加した。混合物を撹拌下で放置し、TEOSの加水分解中に生成したエタノールを蒸発させた。最後に、HF(50%水溶液)0.60gを添加した。得られた混合物を、PTFEで内張りしたオートクレーブ内において150℃で加熱した。加熱を12時間おこなった後、混合物を濾過処理に付すことによって、合成ゲル100gあたり13gのITQ−17ゼオライトを得た。該ゼオライトのX線回折図形を図3に示す。
【0040】
実施例3
この実施例においては、SiとGeを含有するITQ−17(Si/Ge=5)を、構造規定剤としてQ−ベンジルカチオンを用いて合成する例を示す。
Q−ベンジルの水溶液[Q−ベンジル(OH)7.8×10−4モル/g]21.4g中においてテトラエチルオルトシリケート(TEOS)5.8gを加水分解させた。次いで、GeO0.58gおよび水0.3gを添加した。混合物を撹拌下で放置し、TEOSの加水分解中に生成したエタノールおよび水12.55gを蒸発させた。最後に、HF(50%水溶液)0.667gを添加した。得られた混合物を、PTFEで内張りしたオートクレーブ内において150℃で加熱した。加熱を14時間おこなった後、混合物を濾過処理に付すことによって、合成ゲル100gあたり24gのITQ−17ゼオライトを得た。該ゼオライトのX線回折図形を図4に示す。
【0041】
実施例4
この実施例においては、Si、AlおよびGeを含有するITQ−17(Si/Ge=15)を、構造規定剤としてDABCO−ベンジルカチオンを用いて合成する例を示す。
DABCO−ベンジルの水溶液[DABCO−ベンジル(OH)9.27×10−4モル/g]21.8g中においてテトラエチルオルトシリケート(TEOS)7.32gを加水分解させた。次いで、GeO0.245gおよびアルミニウムイソプロポキシド0.306gを添加した。混合物を撹拌下で放置し、TEOSの加水分解中に生成したエタノールおよび水5.6gを蒸発させた。最後に、HF(50%水溶液)0.75gを添加した。得られた混合物を、PTFEで内張りしたオートクレーブ内において150℃で加熱した。加熱を5日間おこなった後、混合物を濾過処理に付すことによって、合成ゲル100gあたり9gのITQ−17ゼオライトを得た。該ゼオライトのX線回折図形を図5に示す。
【0042】
実施例5
この実施例においては、SiとGeを含有するITQ−17(Si/Ge=15)を、構造規定剤としてDABCO−ベンジルカチオンを用いて合成する例を示す。
DABCO−ベンジルの水溶液[DABCO−ベンジル(OH)9.98×10−4モル/g]16.7g中においてテトラエチルオルトシリケート(TEOS)6.51gを加水分解させた。次いで、GeO0.218gを添加した。混合物を撹拌下で放置し、TEOSの加水分解中に生成したエタノールおよび水7.13gを蒸発させた。最後に、HF(50%水溶液)0.67gを添加した。得られた混合物を、PTFEで内張りしたオートクレーブ内において150℃で加熱した。加熱を39時間おこなった後、混合物を濾過処理に付すことによって、合成ゲル100gあたり15gのITQ−17ゼオライトを得た。該ゼオライトのX線回折図形を図6に示す。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1で合成した物質のX線回折図形である。
【図2】実施例1で合成した物質のか焼後のX線回折図形である。
【図3】実施例2で合成した物質のX線回折図形である。
【図4】実施例3で合成した物質のX線回折図形である。
【図5】実施例4で合成した物質のX線回折図形である。
【図6】実施例5で合成した物質のX線回折図形である。

Claims (27)

  1. か焼された無水状態において下記の実験式によって表される化学組成を有するゼオライト特性を示す微孔性結晶性物質であって、合成された状態においては下記のX線回折図形(A)を示し、か焼された無水状態においては下記のX線回折図形(B)を示す微孔性結晶性物質:
    x(M1/nXO):yYO:zGeO:(1−z)TO
    (式中、xは0〜0.2の値を示し、yは0〜0.1の値を示し、zは0〜1の値を示し、z、xおよびyのうちの少なくとも1つは0よりも大きい値を示し、MはHおよび+n価の無機カチオンから選択されるカチオンを示し、Xは少なくとも1つの+3の酸化状態の化学元素を示し、Yは少なくとも1つの+4の酸化状態の化学元素を示し、Tは少なくとも1つの+4の酸化状態の化学元素を示す)
    Figure 2004510680
    (上記のX線回折図形(A)および(B)において、wは弱い相対強度(0〜20%)を示し、mは平均的相対強度(20〜40%)を示し、vsは非常に強い相対強度(60〜100%)を示す。)
  2. 合成された状態で下記のX線回折図形(C)(角度θ2;相対強度I/I)を示し、か焼された無水状態において下記のX線回折図形(D)(角度:2θ;相対強度:I/I)を示す請求項1記載の物質:
    Figure 2004510680
  3. TがSiである請求項1または2記載の物質。
  4. TがSiであり、yが0である請求項1または2記載の物質。
  5. xが0であり、TがSiである請求項1または2記載の物質。
  6. MがHであり、TがSiであり、yが0である請求項1または2記載の物質。
  7. xおよびyが0であり、TがSiである請求項1または2記載の物質。
  8. zおよびyが0である請求項1または2記載の物質。
  9. zおよびyが0であり、TがSiである請求項1または2記載の物質。
  10. TがSi、Ge、Ti、SnおよびVから選択される請求項1から8いずれかに記載の物質。
  11. XがAl、Ga、B、CrおよびFeから選択される請求項1、2、3、4および8いずれかに記載の物質。
  12. YがTi、SnおよびVから選択される請求項1、2、3および5いずれかに記載の物質。
  13. xが0.067よりも小さく、0よりも大きい値を示す請求項1、2、3、4、6、8および9いずれかに記載の物質。
  14. yが0.05よりも小さく、0よりも大きい値を示す請求項1、2、3および5いずれかに記載の物質。
  15. zが0.1〜0.67の値を示す請求項1から7いずれかに記載の物質。
  16. xが0.05よりも小さい値を示す請求項1、2、3、4、6、8および9いずれかに記載の物質。
  17. yが0.02よりも小さい値を示す請求項1、2、3および5いずれかに記載の物質。
  18. zが0.025〜0.5の値を示す請求項1〜7いずれかに記載の物質。
  19. (i)SiO源、(ii)所望によるGeO源、(iii)少なくとも1つの他の4価Y元素(好ましくはTi、VまたはSn)源、(iv)所望による少なくとも1つの他の3価X元素(好ましくはAl、Ga、FeまたはCr)源、(v)DABCO−ベンジルカチオン、Q−ベンジルカチオンおよびDABCO−ベンジルカチオンとQ−ベンジルカチオンとの混合物[DABCO−ベンジル/(DABCO−ベンジル+Q−ベンジル)比:0〜1]から選択される有機カチオン、(vi)フルオライドアニオン源および(vii)水を含有する反応混合物であって、下記の実験式で表される組成を有する反応混合物を80〜200℃(好ましくは130〜200℃)の温度における加熱処理に該反応混合物の結晶化が達成されるまで付すことを含む請求項1から18いずれかに記載のゼオライト物質の合成方法:
    rRKM:aM1/nOH:xX:yYO:zGeO:(1−z)SiO:fHF:wH
    式中、r、a、x、y、z、f、w、M、X、Y、RおよびKは下記の意義を有する(x、zおよびyのうちの少なくとも1つは0よりも大きい値を示す):
    r=(有機カチオン)/(SiO+GeO)=0.01〜3(好ましくは0.03〜1)
    a=M1/nOH/(SiO+GeO)=0〜1.0(好ましくは0〜0.2)
    x=X/(SiO+GeO)=0〜0.1(好ましくは0〜0.033であり、また、有機カチオンがDABCO−ベンジルカチオンまたはDABCO−ベンジルカチオンとQ−ベンジルカチオンとの混合カチオンであるときには、より好ましくは0〜0.025であり、さらにまた、有機カチオンがQ−ベンジルカチオンのみのときには、より好ましくは0.000625である)
    y=YO/(SiO+GeO)=0〜0.1(好ましくは0〜0.05、より好ましくは0〜0.02)
    z=GeO/(SiO+GeO):有機カチオンがDABCO−ベンジルカチオンまたはDABCO−ベンジルカチオンとQ−ベンジルカチオンとの混合カチオンのときには、0〜0.67(好ましくは0.01〜0.5、より好ましくは0.025〜0.5)であり、また、有機カチオンがQ−ベンジルカチオンのみのときには0〜0.5(好ましくは0.04〜0.33、より好ましくは0.125〜0.33)である。
    w=HO/(SiO+GeO)=0〜100(好ましくは1〜50、より好ましくは1〜25)
    f=HF/(SiO+GeO)=0.01〜3(好ましくは0.03〜1)
    M:Hおよび少なくとも1つの+n価の無機カチオンから選択される。
    X:少なくとも1つの3価元素(好ましくはAl、B、Ga、FeまたはCr)
    Y:少なくとも1つの4価元素(好ましくはTi、SnまたはV)
    R:有機カチオン
    K:アニオン(好ましくはハロゲン化物、水酸化物またはこれらの混合物)
  20. 有機カチオンを、水酸化物の形態または水酸化物と他の塩(好ましくはハロゲン化物)との混合物の形態で反応混合物中へ添加する請求項19記載の方法。
  21. 結晶化促進剤として、添加されるシリカの全重量に対して0.01〜15重量%(好ましくは0.05〜5重量%)の結晶性物質を反応性混合物中へ添加する請求項19または20記載の方法。
  22. 結晶化促進剤として添加される結晶性物質が、請求項1から18いずれかに記載の結晶性物質である請求項21記載の方法。
  23. 請求項1から18いずれかに記載の結晶性物質を次のプロセス群から選択されるプロセスにおける反応成分と接触させることを含む、該結晶性物質の該プロセスにおける触媒としての使用方法:クラッキング、水素化分解、炭化水素および/または官能化炭化水素のソフト水素化分解、オレフィンの水素化異性化、イソパラフィンを用いるオレフィンのアルキル化、オレフィンまたはアコルールを用いる芳香族化合物のアルキル化およびプロピレンを用いるベンゼンのアルキル化。
  24. 請求項1から18いずれかに記載の結晶性物質を、Hまたは有機過酸化物もしくはヒドロペルオキシドを用いる有機化合物の選択的酸化法における反応成分と接触させることを含む、該結晶性物質の該選択的酸化反応におけるオキシダントとしての使用方法。
  25. 請求項1、2、3、5、8、10、14および17いずれかに記載のSn含有結晶性物質をバイヤー−ビリガータイプの酸化反応における反応成分と接触させることを含む、該結晶性物質の該酸化反応におけるオキシダントとしての使用方法。
  26. 請求項1、2、3、5、8、10、14および17いずれかに記載のSn含有結晶性物質をメールワイン−ポンドルフ−バーレイタンプのプロセスにおける反応成分と接触させることを含む、該結晶性物質の該プロセスにおける触媒としての使用方法。
  27. 請求項1、2、3、5、8、10、14および17いずれかに記載のTi含有結晶性物質を次のプロセスから選択されるプロセスにおける反応成分と接触させることを含む、該プロセスにおける該結晶性物質の酸化触媒としての使用方法:オレフィンからエポキシドとアルコールへの反応、チオエーテルからスルホキシドとスルホンへの酸化、NHを用いるシクロヘキサノンからシクロヘキサノンオキシムへのアンモキシメーション。
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