JP2004502308A - フォトマスクの臨界寸法偏差を補償するための装置および方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明は、フォトマスクにわたる臨界寸法偏差を補償するための装置および方法を提供する。
【解決手段】この方法において、フォトマスクは複数の区域に分割される。その後、フォトマスクの各区域において臨界寸法が測定される。測定された臨界寸法に基づいて、フォトマスクの各区域における目標寸法からの臨界寸法の偏差を示す偏差マップが形成される。偏差マップから、フォトマスクの各区域において、目標寸法からの臨界寸法偏差を補償するために必要な化学線減衰量が決定される。決定された化学線の減衰量に基づいて、フォトマスクの各区域を通じた化学線の透過を減少され、これにより、フォトマスクの各区域において、臨界寸法偏差が目標寸法へと補正される。
【選択図】図1
【解決手段】この方法において、フォトマスクは複数の区域に分割される。その後、フォトマスクの各区域において臨界寸法が測定される。測定された臨界寸法に基づいて、フォトマスクの各区域における目標寸法からの臨界寸法の偏差を示す偏差マップが形成される。偏差マップから、フォトマスクの各区域において、目標寸法からの臨界寸法偏差を補償するために必要な化学線減衰量が決定される。決定された化学線の減衰量に基づいて、フォトマスクの各区域を通じた化学線の透過を減少され、これにより、フォトマスクの各区域において、臨界寸法偏差が目標寸法へと補正される。
【選択図】図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、一般に、半導体処理の分野に関する。特に、本発明は、半導体ウエハの露光領域上にフォトレジストパターンを形成することに関する。
【0002】
【従来の技術】
集積回路(IC)チップの製造は多くの処理を含んでいる。ICチップを製造する際の主な処理の1つはフォトリソグラフィである。フォトリソグラフィは、パターンを有するマスクをシリコンウエハの表面に移すために使用される処理である。フォトリソグラフィ処理においては、ウエハの表面上にパターンを印刷するために、光源を使用して、パターンがマスクからフォトレジストと呼ばれる感光材料へと移される。その後、ケミカルエッチングもしくはプラズマエッチングが使用されて、パターンがフォトレジストからウエハの表面に移される。ICチップの製造は、ICチップ内の回路の複雑度に応じて、多くのフォトリソグラフィ処理を必要とする場合がある。
【0003】
今日、IC部品の寸法は著しく小さくなっている。デバイスの寸法を小さくすればするほど、多くの回路デバイスをICチップ内に設けることができる。したがって、適切に機能する半導体ICデバイスを製造する場合において、各種の処理、特にフォトリソグラフィの精度および正確度は重要である。
【0004】
フォトリソグラフィ処理において、シリコンウエハ上におけるマスクパターンの印刷は、一般に、投影露光装置およびステッピングデバイスを使用して行なわれる。従来の投影露光装置およびステッピングデバイスは、「フォトリソグラフィシステムにおける照明の均一性を向上させるための装置および方法」と題される米国特許出願09/141,807号に詳細に記載されている。ステッピングデバイスを使用する場合、例えば、ステッピングデバイスに晒される半導体ウエハの領域は、露光領域として一般に知られている。ステッピングデバイスは、マスクパターンを印刷するために、ウエハの表面の領域にわたって「段付け(step)」する。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
残念ながら、マスク製造プロセスにおける不均一性により、マスクにわたってマスクパターンの線幅がしばしば変化する。一般に、マスクの臨界寸法は、マスクにわたって複製される試験特徴(test feature)において測定される。集積回路チップの顧客は、一般に、目標値からの最大偏差と、測定された平均値からのマスクにわたる偏差との両方の仕様を定める。一般に、マスクにわたる偏差は、顧客によって使用される場合、例えばステッピングデバイスの露光領域にわたって線幅変化を引き起こす。特定のフォトレジスト層を半導体ウエハの露光領域上に形成するために共通の化学線露光量が使用されると、マスクの目標臨界寸法からの臨界寸法偏差は、フォトレジスト層内で体系的なレジスト線幅偏差が引き起こされる。そのような線幅の変化によって、ICチップが不良品となり或は用途の規格を果たさなくなることは言うまでもない。
【0006】
以上のことを考慮すると、必要なものは、フォトマスクにわたる臨界寸法偏差を補償してICチップの性能及び歩留まりを向上させる装置および方法である。
【0007】
【課題を解決するための手段】
概して、本発明は、フォトマスクの臨界寸法偏差を補償する装置および方法を提供することによって、これらの条件を満たす。本発明は、プロセス、装置、システム、デバイスあるいは方法を含む多数の手段で実施できることは言うまでもない。以下、本発明の工夫に富んだ複数の実施形態を説明する。
【0008】
一実施形態において、本発明は、フォトレジストパターンを半導体ウエハの露光領域上に形成するための装置を提供する。この装置は、光源と、レンズと、フィルタと、フォトマスクとを有している。光源は、半導体ウエハの露光領域上にフォトマスクパターンを照射するための化学線を形成するようになっている。レンズは、光源からの化学線をフィルタへと集束させる。フィルタは、レンズからの化学線を濾過する。フォトマスクは基板と焦点板の層とを有している。フォトマスクの基板は化学線を透過し、焦点板の層は1または複数のフォトレジストパターンを規定する。フォトマスクは、複数の区域に分割されるとともに、レンズからの化学線を1または複数の区域で減衰して1または複数の区域における目標臨界寸法からの臨界寸法偏差を補償するようになっている。フィルタの複数の区域は、フィルタからの化学線をフォトマスクへと透過させて、半導体ウエハの露光領域を照明し、露光領域上にフォトレジストパターンを形成する。
【0009】
他の実施形態において、本発明は、フォトマスクにおけるフォトレジストパターンの臨界寸法の偏差を補償する方法を提供する。この方法において、フォトマスクは複数の区域に分割される。その後、フォトマスクの各区域において臨界寸法が測定される。測定された臨界寸法に基づいて、フォトマスクの各区域における目標寸法からの臨界寸法の偏差を示す偏差マップが形成される。偏差マップから、フォトマスクの各区域において、目標寸法からの臨界寸法偏差を補償するために必要な化学線減衰量が決定される。決定された化学線の減衰量に基づいて、フォトマスクの各区域を通じた化学線の透過が減少され、これにより、フォトマスクの各区域において、臨界寸法偏差が目標寸法へと補償される。
【0010】
更に他の実施形態において、本発明は、フォトマスクにおけるフォトレジストパターンの臨界寸法の偏差を補償するようにフォトマスクを形成する方法を提供する。方法は、(a)化学線を透過する基板と1または複数のフォトレジストパターンを規定する焦点板の層とを有するフォトマスクを複数の区域に分割し、(b)フォトマスクの各区域における臨界寸法を測定し、(c)フォトマスクの各区域における目標寸法からの臨界寸法の偏差を示す偏差マップを形成し、(c)フォトマスクの各区域における目標寸法からの臨界寸法偏差を補償するために必要な化学線減衰量を決定し、(d)フォトマスクの1または複数の区域に1または複数の光減衰材料を添加し、光減衰材料は、決定された化学線の減衰量だけフォトマスクの各区域を通じた化学線の透過を減少させ、これにより、フォトマスクの各区域において、臨界寸法偏差が目標寸法へと補正される,ことを含んでいる。
【0011】
好ましい実施形態において、化学線は、光減衰材料を埋め込み或は堆積させることによって、フォトマスクの区域を通じて減衰される。ポジレジストが使用される場合、目標臨界寸法値は、臨界寸法マップから選択される最大臨界寸法値である。この場合、埋め込まれ或は堆積された材料は、区域の臨界寸法を目標臨界寸法まで増大させる。一方、ネガレジストが使用される場合、目標臨界寸法値は、臨界寸法マップから選択される最小臨界寸法値である。この場合、光減衰材料が埋め込まれ或は堆積されると、区域の臨界寸法が目標臨界寸法まで減少される。
【0012】
マスクの選択された区域に光減衰材料を埋め込み或は堆積させると、幾つかの利益が得られる。例えば、本発明の装置および方法は、略均一な臨界寸法がデバイス性能を向上させて故障を減らすため、集積回路チップの製造において高い歩留まりを提供する。光減衰材料の埋め込みは更なる利益を与える。例えば、フィルタの層の厚さを変化させるのではなく、光吸収材料を埋め込むことにより、入射光の位相が変化しない。したがって、フィルタは、リソグラフィに悪影響を与えない。本発明の他の形態および利点は、本発明の原理を一例として示す図面および以下の詳細な説明から明らかとなる。
【0013】
本発明は、添付図面および以下の詳細な説明によって容易に理解される。同様の参照符号は同様の構成要素を示している。
【0014】
【発明の実施の形態】
本発明は、フォトマスクにわたる臨界寸法偏差(critical dimension deviation)を補償するための装置および方法に関して述べられている。しかしながら、当業者であれば分かるように、本発明は、これらの特定の内容の幾つか或は全てを無くして実施されても良い。本発明は、これらの特定の内容の幾つか或は全てを無くして実施されても良い。一方、良く知られた回路、システム、処理操作については、本発明を不必要に曖昧にしないように、詳細に説明しない。
【0015】
図1は、本発明の一実施形態にしたがって半導体ウエハ102上にフォトレジストパターンを形成するための典型的な光学装置100を示している。この装置100において、光源104は、ウエハ102上にマスクパターンを照射するための化学線の形態を成す光を形成する。例えば、光源104は、様々な波長(例えば、193nm,150nm,365nm,248nmなど)のX線や深部紫外光(deep UV light)等の化学線を形成しても良い。化学線は、半導体ウエハの露光領域上にフォトレジスト材料を印刷する際に、光化学作用を生じさせるようになっている。
【0016】
光源104からの光は集光レンズ106に方向付けられる。集光レンズ106は、光を集束させるとともに、集束された光をフィルタ108に送る。フィルタ108は、レンズ106からの光を濾過する。フィルタを通った光は、その後、ウエハ102上の露光領域112に移される1または複数のパターン116を有するマスク110へと方向付けられる。以下に詳細に説明するように、マスク110は、マスクにわたる臨界寸法の変化を補償するようになっている。
【0017】
一実施形態において、マスク110には、マスク110の1または複数の区域に光吸収材料が埋め込まれている。光吸収材料および半透明材料は、マスク110を透過する光を調節して、線幅の変化を補償するようになっている。例えば、レンズからの光を異なる量で吸収もしくは減衰するように、マスク110の区域における光吸収材料の量を変えても良い。
【0018】
他の実施形態においては、様々な厚さの半透明材料がマスク110の1または複数の区域に堆積される。半透明材料の堆積は、マスク110を通じた露光量を調節して、マスクパターンの臨界寸法の変化を補償するように成される。したがって、光吸収材料の埋め込み、あるいは、半透明材料の堆積は、ポジフォトレジストが使用される場合には線幅を更に大きくし、ネガフォトレジストが使用される場合には線幅を更に小さくするという効果を有する。
【0019】
典型的には、マスク110上のパターン116のサイズは、露光領域112上に印刷されるパターンのサイズよりも整数倍だけ大きい。例えば、パターン116のサイズは、露光領域112上に印刷される実際のパターンのサイズよりもN倍大きい場合がある。ここで、Nは1よりも大きい整数である。パターン116のサイズを露光領域112上で所望のサイズまで小さくするために、フィルタ108からの光は、マスク110のパターン116を、リダクションレンズ114を介して、ウエハの領域112(例えば、露光領域)上に露光させ、すなわち、照射する。これによって、リダクションレンズ114は、ウエハ102の露光領域112上に印刷されるパターンのサイズを減少させる。
【0020】
マスク110を通じた露光によって、ウエハ102の領域112上にマスクパターン116を印刷すなわち形成することができる。マスク110に対する光吸収材料の埋め込みや半透明材料の堆積は、マスク110にわたる線幅の変化を補償する。マスク110は、化学線に晒されると、領域112内に形成されるパターンの臨界寸法線幅の変化を最小限に抑える。領域112上にパターン116を印刷した後、ウエハ102の他の領域または他のウエハの他の領域を同様の方法で露光してフォトレジストパターンを形成しても良い。
【0021】
図2Aは、マスクパターンの臨界寸法変化を補償する本発明の一実施形態に係るマスク110を形成するための方法200のフローチャートを示している。操作202においては、印刷されるパターンを有するマスクが複数の区域に分割される。例えば、マスクがN×M行列の区域に分割されても良い。ここで、NおよびMは、1よりも大きい整数である。NおよびMは、行列がN×N行列となるように等しいことが好ましい。
【0022】
マスクを複数の区域に分割した後、操作204では、マスクパターンの線幅を測定して、各区域における平均CD値を得る。区域に関する平均CD値は、平均CDマップを規定する。操作206では、区域におけるCD値に基づいて、目標臨界寸法からの偏差を補償するために必要な光調整が各区域毎に決定される。一例として、比例定数αは、線幅当たりの単位面積におけるエネルギの単位を与える、線幅変化当たりの臨界寸法変化として規定されても良い。全体の光照射線量(露光量)Eおよび必要な偏差補正Cが与えられると、必要な光吸収量Aは、A=(α*C)/Eとして規定される。線幅を17nmだけ増加するためには、例えばE=170Joules/m2およびα=700(Joules/m2)/μmが与えられると、ポジレジストを使用した場合、7%の露光量の減少が必要である。
【0023】
マスクの区域を介した光調整が評価されたら、操作208で、臨界寸法偏差を補償するように光減衰材料をマスクの複数の区域に添加することによってマスク110が形成される。具体的には、基板およびフォトレジストパターンを有するマスクの各区域を通じた光の透過は、1または複数の光減衰(減少)材料を各区域に添加することによって変化する。一実施形態において、化学線に対して安定な半透明材料の層がマスクの区域に堆積される。例えば、線幅寸法を目標寸法まで増大するために光減衰を必要とするマスクの区域に線漏れクロム(leaky chrome)を堆積させても良い。
【0024】
他の実施形態において、調整が必要なマスクの区域に光吸収材料が埋め込まれても良い。光吸収材料は、化学線を吸収して、マスクの区域を通じた光透過を減らす。露光量を減らすことによって線幅寸法を目標寸法まで増大させるために、ホウ素、酸素、ナトリウム等の光吸収材料がマスクの基板領域に埋め込まれても良い。このように、マスクの選択された区域に光減衰材料を添加すると、装置100を使用してウエハの露光領域上にマスクパターンを印刷する際に、マスクにわたる線幅の変化が補償される。
【0025】
本発明によれば、ポジレジストまたはネガレジストのいずれかを使用して露光領域にパターンを印刷することができる。いずれのタイプのレジストにおいても、平均臨界寸法マップから偏差マップおよび減衰(減少)マップが形成される。図2Bは、ポジレジストもしくはネガレジストにおける各区域のCD変化を補償するために必要な光調整量を評価するための操作206のより詳細なフローチャートを示している。操作252では、露光領域112上にパターン116を形成するためのレジストがポジレジストであるか或はネガレジストであるかが決定される。レジストがポジレジストである場合には、最大CD値よりも小さい臨界寸法を有する区域で光量を減少させて、CD寸法を最大CD値まで増加させる必要がある。この場合、ポジレジストにおける偏差マップは、平均臨界寸法マップからの局所的なCD偏差値と最大CD値との間の差を評価することによって形成される。次に、操作256で、最大CD値からの偏差を補償するためにマスクで必要な光の減少が、マスクの各区域毎に決定される。
【0026】
一方、レジストがネガレジストである場合には、最小CD値よりも大きい特徴を有する区域で化学線量が減少されて、CD寸法が最小CD値まで減少される。この場合、ネガレジストにおける偏差マップは、操作258で示されるように、平均臨界寸法マップからの最小CD値と局所的なCD偏差値との間の差を評価することによって形成される。次に、操作260で、最小CD値からの偏差を補償するためにマスクで必要な光の減少が、マスクの各区域毎に決定される。
【0027】
図3は、本発明の一実施形態に係る非補償マスクの典型的な平均CDマップ300を示している。マスクは、5×5行列を形成するように配置された25個の区域に分割されている。マスクの寸法は、ウエハの露光領域上に印刷される実際の寸法の5倍である。例えば、1.25μの寸法を有するマスク上のパターンは、ウエハ上に印刷される際には、0.25μの寸法になる。したがって、ウエハのレベルでの目標寸法0.25μは、マスクのレベルでは目標寸法1.25μとなる。
【0028】
非補償マスクのCDマップ300は、各区域302〜350における平均線幅値を示している。例えば、区域302,304,306,308,310はそれぞれ、1.21μm、1.23μm、1.23μm、1.22μm、1.21μmの平均線幅によって特徴付けられ、一方、区域322,324,326,328,330は、1.22μm、1.26μm、1.25μm、1.23μm、1.22μmの平均線幅を呈している。この線幅マップ300において、最小線幅は、区域302,310,342,348,350における1.21μmであり、最大線幅は、区域324における1.26μmである。
【0029】
図4Aは、本発明の一実施形態に係る図2Bの操作254においてポジレジストに関し平均臨界寸法マップ300から形成された典型的な偏差マップ400を示している。各区域における臨界寸法偏差値を決定するために、平均CDマップ300から最も高い平均臨界寸法が最大CD値として選択される。その後、平均CDマップ300の局所的な平均CD値と最大CD値との間の差を計算することによって、各区域における臨界寸法偏差値が評価される。
【0030】
例えば、平均CDマップ300においては、区域324における最も高いCD値1.26μmが最大臨界寸法として選択される。その後、平均臨界寸法マップ300の各区域における平均臨界寸法と最大臨界寸法との間の差が計算されて、臨界寸法偏差が決定され、偏差マップ400が形成される。一例として、区域302,304,306,308,310はそれぞれ、0.05μm、0.03μm、0.03μm、0.04μm、0.05μmという最大臨界寸法1.26μmからの臨界寸法偏差を示している。マップ400の他の区域における臨界寸法偏差値は、同様の方法で得られる。
【0031】
臨界寸法偏差マップ500が形成されたら、各区域における光減少(光減衰)を示すマスクの減衰(減少)マップが形成される。図4Bは、本発明の一実施形態に係るポジレジストを使用した図2Bの操作256で形成される減衰マップ450を示している。例えば、区域322の臨界寸法偏差を目標最大臨界寸法1.26μmに達するように補償するためには、縮小率5が与えられると、0.04μmだけ線幅を増大させる光減衰を行なう必要がある。先に説明した方程式A=(α*C)/Eを使用するとともに、E=170Joules/m2およびα=700(Joules/m2)/μmが与えられると、区域322の臨界寸法を0.04μmだけ増大するために必要な全体の光照射線量(露光量)は、(α*C)すなわち(0.04μm)(700Joules/m2)/μm)によって与えられ、28Joules/m2となる。その後、0.04μmだけ臨界寸法を増大させるために必要な正規化露光量(すなわち、光減衰すなわちフィルタリングの割合)は、ポジレジストを使用して、100%*(α*C)/(E*縮小率)、すなわち、(0.04μm)(700Joules/m2)/μm)/(170Joules/m2*5)*100%、つまり3.3%の露光量の減少によって得られる。
【0032】
減衰マップ550の他の区域における光減衰量も同様の方法で得られる。例えば、区域324,326,328,330の露光量は、0%、0.8%、2.5%、3.3%だけそれぞれ減少(減衰)される。なお、減衰マップ450を、マップ450の各区域において100%から光減衰量を差し引くことによって透過される光量を示す透過マップに変えても良い。
【0033】
本発明の他の実施形態において、図5Aは、図2Bの操作258においてネガレジストに関し平均臨界寸法マップ300から形成された偏差マップ500を示している。各区域における臨界寸法偏差値を決定するために、平均CDマップ300から最も低い平均臨界寸法が最小CD値として選択される。その後、平均CDマップ300の局所的な平均CD値と最大CD値との間の差を計算することによって、各区域における臨界寸法偏差値が評価される。
【0034】
例えば、平均CDマップ300に示されるように、区域302における最も低いCD値1.21μmが最小臨界寸法として選択されても良い。その後、平均臨界寸法マップ300の各区域における平均臨界寸法と最小臨界寸法との間の差が計算されて、臨界寸法偏差が決定され、偏差マップ500が形成される。一例として、区域302,304,306,308,310はそれぞれ、0μm、0.02μm、0.02μm、0.01μm、0μmという最小臨界寸法1.21μmからの臨界寸法偏差を示している。マップ500の他の区域における臨界寸法偏差値は、同様の方法で得られる。
【0035】
臨界寸法偏差マップ500が得られたら、各区域における光減少(光減衰)を示すマスクの減衰(減少)マップが形成される。図5Bは、本発明の一実施形態にしたがって先に説明した方程式A=(α*C)/Eを使用するとともに、E=170Joules/m2およびα=700(Joules/m2)/μmが与えられた図2Bの操作260で形成されるマスクの減衰マップ550を示している。一例として、区域304の臨界寸法偏差を目標最小臨界寸法1.21μmに達するように補償するためには、0.02μmだけ線幅を減少させる光減衰を行なう必要がある。区域310の臨界寸法を0.02μmだけ減少するために必要な全体の光照射線量(露光量)は、(α*C)すなわち(0.02μm)(700Joules/m2)/μm)によって与えられ、14Joules/m2となる。その後、縮小率5が与えられると、0.02μmだけ臨界寸法を減少させるために必要な正規化露光量(すなわち、光減衰すなわちフィルタリングの割合)は、ネガレジストを使用して、100%*(α*C)/(E*縮小率)、すなわち、(0.02μm)(700Joules/m2)/μm)/(170Joules/m2*5)*100%、つまり1.6%の露光量の減少によって得られる。
【0036】
減衰マップ550の他の区域における光減衰量も同様の方法で得られる。例えば、区域302,306,308,310の露光量は、0%、1.6%、0.8%、0%だけそれぞれ減少(減衰)される。なお、マスクの減衰マップ550を、マップ550の各区域において100%から光減衰量を差し引くことによって透過される光量を示す透過マップに変えても良い。
【0037】
このように、臨界寸法偏差マップ400,500は、各区域毎に補正される臨界寸法の量を示している。ポジレジストを使用すると、最大CD値を有する区域は補償されないが、最大CD値よりも少ない他の区域は、マスクの対応する領域に光吸収材料を埋め込み或は堆積させることによって補償される。一方、ネガレジストを使用すると、最小CD値を有する区域は補償されないが、他の区域は、マスクに光吸収材料を埋め込み或は堆積させることによって補償される。
【0038】
一実施形態において、光減衰マップ550,650は、ドーパントでマスクを選択的に埋め込むために使用される。ドーパントは、フィルタ内に埋め込まれて化学線を吸収し、レジストがポジレジストであるかネガレジストであるかに応じて区域の臨界寸法線幅を増大もしくは減少させる。例えば、化学線の吸収を調整するために、ドーパントがマスクに埋め込まれる。
【0039】
図6Aは、本発明の一実施形態にしたがってポジレジストを使用した時の線幅変化を補償するマスク110の断面図を示している。この図において、マスク110の断面は、図3のB−B’によって規定される線に沿ってとられており、したがって、マスク110の区域322〜330を示している。マスク110は、化学線を透過する例えばガラス、石英、透明プラスチック、石英ガラス、フッ化カルシウム等の基板602から成る。印刷されるフォトレジストパターン116を有する焦点板604の層が基板602上に形成される。
【0040】
線幅を最大偏差値もしくは目標偏差値まで増大させるために、ドーパント606が区域322,326,328,330で基板602に埋め込まれ、化学線が吸収される。例えば、ホウ素、酸素、ナトリウムなどの光吸収材料606は、様々な波長(例えば、150nm,152nm,193nm,248nm,365nm)の化学線を吸収するために基板602に埋め込まれても良い。光吸収材料の埋め込みは、例えばイオン衝撃やCVD法等によって行なわれても良い。例えば、ホウ素が埋め込まれた石英基板は、埋め込まれていない石英と比べて、248nmの化学線(例えばDUV)を吸収する。
【0041】
区域322,330は0.04μmを補償する必要があり、また、区域326,328は0.01μmおよび0.03μmの補正が必要であるため、区域322,330には区域326,328よりも多くのドーパント606が埋め込まれる。同様に、区域328には区域326よりも多くのドーパントが埋め込まれる。なお、区域324のように、区域の寸法が目標寸法と一致する場合には、その区域に光減衰材料は添加されない。マスクの他の区域には同様の方法で光吸収材料が埋め込まれ、目標寸法と一致するように線幅が増大される。
【0042】
他の実施形態においては、マスク110の区域を通じた光の透過を選択的に調整するために、光減衰材料の層がマスク上に堆積される。図6Bは、本発明の一実施形態にしたがってポジレジストを使用した時の線幅変化を補償するマスク110の断面図を示している。この図において、マスク110の断面は、図3のC−C’によって規定される線に沿ってとられており、したがって、マスク110の区域302〜310を示している。線幅を最大偏差値もしくは目標偏差値まで増大させるために、光減衰材料の層650がマスク110の区域302,310上に選択的に堆積され、この区域を通じて化学線を減衰させる。例えば線漏れクロム等のように化学線に対して安定し且つ比較的容易に堆積される光減衰材料が、様々な波長(例えば、150nm,152nm,193nm,248nm,365nm)の化学線を減衰させるために基板602の区域302,306,308,310上に堆積される。更に多くの光減衰を必要とする区域には、更に多くの光減衰材料が堆積される。例えば、区域302は0.05μmを補償する必要があり、また、区域306は0.03μmの補正が必要であるため、区域302には区域306よりも厚い光減衰材料の層452が堆積される。なお、区域304のように、区域の寸法が目標寸法と一致する場合には、その区域に光減衰材料は堆積されない。他の区域には同様の方法で光吸収材料が堆積され、目標寸法と一致するように線幅が増大される。
【0043】
幾つかの実施形態においては、最大もしくは最小臨界寸法値を使用する代わりに、目標CD値が設定されても良い。この場合、ポジレジストを使用した場合、臨界寸法を目標値まで増大させるために、目標CD値よりも小さい偏差値を有するフィルタ108の区域に光吸収材料が埋め込まれ或は堆積される。同様に、ネガレジストを使用した場合、臨界寸法を目標値まで減少させるために、目標値よりも大きい臨界寸法値を有するフィルタ108の領域に光吸収材料が埋め込まれ或は堆積される。
【0044】
光吸収材料もしくは光減衰材料の埋め込み或は堆積は、ウエハ上の露光領域へと透過される光量を減少するように成される。この露光量の減少は、区域に添加される材料の量に応じて、露光領域の区域の線幅を増大させる効果を有する。したがって、光吸収材料が埋め込まれた露光領域の区域において、マスク110が線幅の変化を補償するとともに、略均一な線幅を有する露光領域の区域をマスク110によって形成することができる。
【0045】
マスク110の選択された区域に光減衰材料を埋め込み或は堆積させると、幾つかの利点が得られる。例えば、本発明の装置および方法は、略均一な臨界寸法がデバイス性能を向上させるとともに故障を減らすため、集積回路チップの製造において高い歩留まりを与える。光吸収材料の埋め込みは更なる利点を与える。例えば、フィルタの層の厚さを変化させるのではなく、光吸収材料を埋め込むことにより、入射光の位相が変化しない。したがって、フィルタは、リソグラフィに悪影響を与えない。更に、埋め込まれる様々な量の種を与えるために、異なる露光量でインプラントビーム下でフィルタを走査することにより、フィルタリソグラフィなしでフィルタを構成することができる。
【0046】
複数の好ましい実施形態に関して本発明を説明してきたが、本発明の範囲に入る変形、並び替え、等価物がある。また、本発明の方法、装置、システムを共に実施する他の方法もある。したがって、以下の添付のクレームは、本発明の思想および範囲内のそのような変形、並び替え、等価物を全て含むように解釈されることを意図している。
【図面の簡単な説明】
【図1】
半導体ウエハ上にフォトレジストパターンを形成するための本発明の一実施形態に係る典型的な光学装置を示している。
【図2A】
本発明の一実施形態に係るマスクパターンの臨界寸法変化を補償するマスクを形成する方法のフローチャートを示している。
【図2B】
ポジレジストもしくはネガレジストにおける各区域のCD変化を補償するために必要な光調整量を評価する方法のフローチャートを示している。
【図3】
本発明の一実施形態に係る非補償マスクの典型的な平均CDマップを示している。
【図4A】
本発明の一実施形態に係るポジレジストにおける平均臨界寸法マップから形成された典型的な偏差マップを示している。
【図4B】
本発明の一実施形態に係るポジレジストを使用して偏差マップから形成される減衰マップを示している。
【図5A】
本発明の一実施形態に係るネガレジストにおける平均臨界寸法マップから形成された偏差マップを示している。
【図5B】
本発明の一実施形態に係るネガレジストにおける偏差マップから形成されたマスクの減衰マップを示している。
【図6A】
ポジレジストを使用した時の線幅変化を補償する本発明の一実施形態に係るマスクの断面図を示している。
【図6B】
ポジレジストを使用した時の線幅変化を補償する本発明の一実施形態に係るマスクの断面図を示している。
【発明の属する技術分野】
この発明は、一般に、半導体処理の分野に関する。特に、本発明は、半導体ウエハの露光領域上にフォトレジストパターンを形成することに関する。
【0002】
【従来の技術】
集積回路(IC)チップの製造は多くの処理を含んでいる。ICチップを製造する際の主な処理の1つはフォトリソグラフィである。フォトリソグラフィは、パターンを有するマスクをシリコンウエハの表面に移すために使用される処理である。フォトリソグラフィ処理においては、ウエハの表面上にパターンを印刷するために、光源を使用して、パターンがマスクからフォトレジストと呼ばれる感光材料へと移される。その後、ケミカルエッチングもしくはプラズマエッチングが使用されて、パターンがフォトレジストからウエハの表面に移される。ICチップの製造は、ICチップ内の回路の複雑度に応じて、多くのフォトリソグラフィ処理を必要とする場合がある。
【0003】
今日、IC部品の寸法は著しく小さくなっている。デバイスの寸法を小さくすればするほど、多くの回路デバイスをICチップ内に設けることができる。したがって、適切に機能する半導体ICデバイスを製造する場合において、各種の処理、特にフォトリソグラフィの精度および正確度は重要である。
【0004】
フォトリソグラフィ処理において、シリコンウエハ上におけるマスクパターンの印刷は、一般に、投影露光装置およびステッピングデバイスを使用して行なわれる。従来の投影露光装置およびステッピングデバイスは、「フォトリソグラフィシステムにおける照明の均一性を向上させるための装置および方法」と題される米国特許出願09/141,807号に詳細に記載されている。ステッピングデバイスを使用する場合、例えば、ステッピングデバイスに晒される半導体ウエハの領域は、露光領域として一般に知られている。ステッピングデバイスは、マスクパターンを印刷するために、ウエハの表面の領域にわたって「段付け(step)」する。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
残念ながら、マスク製造プロセスにおける不均一性により、マスクにわたってマスクパターンの線幅がしばしば変化する。一般に、マスクの臨界寸法は、マスクにわたって複製される試験特徴(test feature)において測定される。集積回路チップの顧客は、一般に、目標値からの最大偏差と、測定された平均値からのマスクにわたる偏差との両方の仕様を定める。一般に、マスクにわたる偏差は、顧客によって使用される場合、例えばステッピングデバイスの露光領域にわたって線幅変化を引き起こす。特定のフォトレジスト層を半導体ウエハの露光領域上に形成するために共通の化学線露光量が使用されると、マスクの目標臨界寸法からの臨界寸法偏差は、フォトレジスト層内で体系的なレジスト線幅偏差が引き起こされる。そのような線幅の変化によって、ICチップが不良品となり或は用途の規格を果たさなくなることは言うまでもない。
【0006】
以上のことを考慮すると、必要なものは、フォトマスクにわたる臨界寸法偏差を補償してICチップの性能及び歩留まりを向上させる装置および方法である。
【0007】
【課題を解決するための手段】
概して、本発明は、フォトマスクの臨界寸法偏差を補償する装置および方法を提供することによって、これらの条件を満たす。本発明は、プロセス、装置、システム、デバイスあるいは方法を含む多数の手段で実施できることは言うまでもない。以下、本発明の工夫に富んだ複数の実施形態を説明する。
【0008】
一実施形態において、本発明は、フォトレジストパターンを半導体ウエハの露光領域上に形成するための装置を提供する。この装置は、光源と、レンズと、フィルタと、フォトマスクとを有している。光源は、半導体ウエハの露光領域上にフォトマスクパターンを照射するための化学線を形成するようになっている。レンズは、光源からの化学線をフィルタへと集束させる。フィルタは、レンズからの化学線を濾過する。フォトマスクは基板と焦点板の層とを有している。フォトマスクの基板は化学線を透過し、焦点板の層は1または複数のフォトレジストパターンを規定する。フォトマスクは、複数の区域に分割されるとともに、レンズからの化学線を1または複数の区域で減衰して1または複数の区域における目標臨界寸法からの臨界寸法偏差を補償するようになっている。フィルタの複数の区域は、フィルタからの化学線をフォトマスクへと透過させて、半導体ウエハの露光領域を照明し、露光領域上にフォトレジストパターンを形成する。
【0009】
他の実施形態において、本発明は、フォトマスクにおけるフォトレジストパターンの臨界寸法の偏差を補償する方法を提供する。この方法において、フォトマスクは複数の区域に分割される。その後、フォトマスクの各区域において臨界寸法が測定される。測定された臨界寸法に基づいて、フォトマスクの各区域における目標寸法からの臨界寸法の偏差を示す偏差マップが形成される。偏差マップから、フォトマスクの各区域において、目標寸法からの臨界寸法偏差を補償するために必要な化学線減衰量が決定される。決定された化学線の減衰量に基づいて、フォトマスクの各区域を通じた化学線の透過が減少され、これにより、フォトマスクの各区域において、臨界寸法偏差が目標寸法へと補償される。
【0010】
更に他の実施形態において、本発明は、フォトマスクにおけるフォトレジストパターンの臨界寸法の偏差を補償するようにフォトマスクを形成する方法を提供する。方法は、(a)化学線を透過する基板と1または複数のフォトレジストパターンを規定する焦点板の層とを有するフォトマスクを複数の区域に分割し、(b)フォトマスクの各区域における臨界寸法を測定し、(c)フォトマスクの各区域における目標寸法からの臨界寸法の偏差を示す偏差マップを形成し、(c)フォトマスクの各区域における目標寸法からの臨界寸法偏差を補償するために必要な化学線減衰量を決定し、(d)フォトマスクの1または複数の区域に1または複数の光減衰材料を添加し、光減衰材料は、決定された化学線の減衰量だけフォトマスクの各区域を通じた化学線の透過を減少させ、これにより、フォトマスクの各区域において、臨界寸法偏差が目標寸法へと補正される,ことを含んでいる。
【0011】
好ましい実施形態において、化学線は、光減衰材料を埋め込み或は堆積させることによって、フォトマスクの区域を通じて減衰される。ポジレジストが使用される場合、目標臨界寸法値は、臨界寸法マップから選択される最大臨界寸法値である。この場合、埋め込まれ或は堆積された材料は、区域の臨界寸法を目標臨界寸法まで増大させる。一方、ネガレジストが使用される場合、目標臨界寸法値は、臨界寸法マップから選択される最小臨界寸法値である。この場合、光減衰材料が埋め込まれ或は堆積されると、区域の臨界寸法が目標臨界寸法まで減少される。
【0012】
マスクの選択された区域に光減衰材料を埋め込み或は堆積させると、幾つかの利益が得られる。例えば、本発明の装置および方法は、略均一な臨界寸法がデバイス性能を向上させて故障を減らすため、集積回路チップの製造において高い歩留まりを提供する。光減衰材料の埋め込みは更なる利益を与える。例えば、フィルタの層の厚さを変化させるのではなく、光吸収材料を埋め込むことにより、入射光の位相が変化しない。したがって、フィルタは、リソグラフィに悪影響を与えない。本発明の他の形態および利点は、本発明の原理を一例として示す図面および以下の詳細な説明から明らかとなる。
【0013】
本発明は、添付図面および以下の詳細な説明によって容易に理解される。同様の参照符号は同様の構成要素を示している。
【0014】
【発明の実施の形態】
本発明は、フォトマスクにわたる臨界寸法偏差(critical dimension deviation)を補償するための装置および方法に関して述べられている。しかしながら、当業者であれば分かるように、本発明は、これらの特定の内容の幾つか或は全てを無くして実施されても良い。本発明は、これらの特定の内容の幾つか或は全てを無くして実施されても良い。一方、良く知られた回路、システム、処理操作については、本発明を不必要に曖昧にしないように、詳細に説明しない。
【0015】
図1は、本発明の一実施形態にしたがって半導体ウエハ102上にフォトレジストパターンを形成するための典型的な光学装置100を示している。この装置100において、光源104は、ウエハ102上にマスクパターンを照射するための化学線の形態を成す光を形成する。例えば、光源104は、様々な波長(例えば、193nm,150nm,365nm,248nmなど)のX線や深部紫外光(deep UV light)等の化学線を形成しても良い。化学線は、半導体ウエハの露光領域上にフォトレジスト材料を印刷する際に、光化学作用を生じさせるようになっている。
【0016】
光源104からの光は集光レンズ106に方向付けられる。集光レンズ106は、光を集束させるとともに、集束された光をフィルタ108に送る。フィルタ108は、レンズ106からの光を濾過する。フィルタを通った光は、その後、ウエハ102上の露光領域112に移される1または複数のパターン116を有するマスク110へと方向付けられる。以下に詳細に説明するように、マスク110は、マスクにわたる臨界寸法の変化を補償するようになっている。
【0017】
一実施形態において、マスク110には、マスク110の1または複数の区域に光吸収材料が埋め込まれている。光吸収材料および半透明材料は、マスク110を透過する光を調節して、線幅の変化を補償するようになっている。例えば、レンズからの光を異なる量で吸収もしくは減衰するように、マスク110の区域における光吸収材料の量を変えても良い。
【0018】
他の実施形態においては、様々な厚さの半透明材料がマスク110の1または複数の区域に堆積される。半透明材料の堆積は、マスク110を通じた露光量を調節して、マスクパターンの臨界寸法の変化を補償するように成される。したがって、光吸収材料の埋め込み、あるいは、半透明材料の堆積は、ポジフォトレジストが使用される場合には線幅を更に大きくし、ネガフォトレジストが使用される場合には線幅を更に小さくするという効果を有する。
【0019】
典型的には、マスク110上のパターン116のサイズは、露光領域112上に印刷されるパターンのサイズよりも整数倍だけ大きい。例えば、パターン116のサイズは、露光領域112上に印刷される実際のパターンのサイズよりもN倍大きい場合がある。ここで、Nは1よりも大きい整数である。パターン116のサイズを露光領域112上で所望のサイズまで小さくするために、フィルタ108からの光は、マスク110のパターン116を、リダクションレンズ114を介して、ウエハの領域112(例えば、露光領域)上に露光させ、すなわち、照射する。これによって、リダクションレンズ114は、ウエハ102の露光領域112上に印刷されるパターンのサイズを減少させる。
【0020】
マスク110を通じた露光によって、ウエハ102の領域112上にマスクパターン116を印刷すなわち形成することができる。マスク110に対する光吸収材料の埋め込みや半透明材料の堆積は、マスク110にわたる線幅の変化を補償する。マスク110は、化学線に晒されると、領域112内に形成されるパターンの臨界寸法線幅の変化を最小限に抑える。領域112上にパターン116を印刷した後、ウエハ102の他の領域または他のウエハの他の領域を同様の方法で露光してフォトレジストパターンを形成しても良い。
【0021】
図2Aは、マスクパターンの臨界寸法変化を補償する本発明の一実施形態に係るマスク110を形成するための方法200のフローチャートを示している。操作202においては、印刷されるパターンを有するマスクが複数の区域に分割される。例えば、マスクがN×M行列の区域に分割されても良い。ここで、NおよびMは、1よりも大きい整数である。NおよびMは、行列がN×N行列となるように等しいことが好ましい。
【0022】
マスクを複数の区域に分割した後、操作204では、マスクパターンの線幅を測定して、各区域における平均CD値を得る。区域に関する平均CD値は、平均CDマップを規定する。操作206では、区域におけるCD値に基づいて、目標臨界寸法からの偏差を補償するために必要な光調整が各区域毎に決定される。一例として、比例定数αは、線幅当たりの単位面積におけるエネルギの単位を与える、線幅変化当たりの臨界寸法変化として規定されても良い。全体の光照射線量(露光量)Eおよび必要な偏差補正Cが与えられると、必要な光吸収量Aは、A=(α*C)/Eとして規定される。線幅を17nmだけ増加するためには、例えばE=170Joules/m2およびα=700(Joules/m2)/μmが与えられると、ポジレジストを使用した場合、7%の露光量の減少が必要である。
【0023】
マスクの区域を介した光調整が評価されたら、操作208で、臨界寸法偏差を補償するように光減衰材料をマスクの複数の区域に添加することによってマスク110が形成される。具体的には、基板およびフォトレジストパターンを有するマスクの各区域を通じた光の透過は、1または複数の光減衰(減少)材料を各区域に添加することによって変化する。一実施形態において、化学線に対して安定な半透明材料の層がマスクの区域に堆積される。例えば、線幅寸法を目標寸法まで増大するために光減衰を必要とするマスクの区域に線漏れクロム(leaky chrome)を堆積させても良い。
【0024】
他の実施形態において、調整が必要なマスクの区域に光吸収材料が埋め込まれても良い。光吸収材料は、化学線を吸収して、マスクの区域を通じた光透過を減らす。露光量を減らすことによって線幅寸法を目標寸法まで増大させるために、ホウ素、酸素、ナトリウム等の光吸収材料がマスクの基板領域に埋め込まれても良い。このように、マスクの選択された区域に光減衰材料を添加すると、装置100を使用してウエハの露光領域上にマスクパターンを印刷する際に、マスクにわたる線幅の変化が補償される。
【0025】
本発明によれば、ポジレジストまたはネガレジストのいずれかを使用して露光領域にパターンを印刷することができる。いずれのタイプのレジストにおいても、平均臨界寸法マップから偏差マップおよび減衰(減少)マップが形成される。図2Bは、ポジレジストもしくはネガレジストにおける各区域のCD変化を補償するために必要な光調整量を評価するための操作206のより詳細なフローチャートを示している。操作252では、露光領域112上にパターン116を形成するためのレジストがポジレジストであるか或はネガレジストであるかが決定される。レジストがポジレジストである場合には、最大CD値よりも小さい臨界寸法を有する区域で光量を減少させて、CD寸法を最大CD値まで増加させる必要がある。この場合、ポジレジストにおける偏差マップは、平均臨界寸法マップからの局所的なCD偏差値と最大CD値との間の差を評価することによって形成される。次に、操作256で、最大CD値からの偏差を補償するためにマスクで必要な光の減少が、マスクの各区域毎に決定される。
【0026】
一方、レジストがネガレジストである場合には、最小CD値よりも大きい特徴を有する区域で化学線量が減少されて、CD寸法が最小CD値まで減少される。この場合、ネガレジストにおける偏差マップは、操作258で示されるように、平均臨界寸法マップからの最小CD値と局所的なCD偏差値との間の差を評価することによって形成される。次に、操作260で、最小CD値からの偏差を補償するためにマスクで必要な光の減少が、マスクの各区域毎に決定される。
【0027】
図3は、本発明の一実施形態に係る非補償マスクの典型的な平均CDマップ300を示している。マスクは、5×5行列を形成するように配置された25個の区域に分割されている。マスクの寸法は、ウエハの露光領域上に印刷される実際の寸法の5倍である。例えば、1.25μの寸法を有するマスク上のパターンは、ウエハ上に印刷される際には、0.25μの寸法になる。したがって、ウエハのレベルでの目標寸法0.25μは、マスクのレベルでは目標寸法1.25μとなる。
【0028】
非補償マスクのCDマップ300は、各区域302〜350における平均線幅値を示している。例えば、区域302,304,306,308,310はそれぞれ、1.21μm、1.23μm、1.23μm、1.22μm、1.21μmの平均線幅によって特徴付けられ、一方、区域322,324,326,328,330は、1.22μm、1.26μm、1.25μm、1.23μm、1.22μmの平均線幅を呈している。この線幅マップ300において、最小線幅は、区域302,310,342,348,350における1.21μmであり、最大線幅は、区域324における1.26μmである。
【0029】
図4Aは、本発明の一実施形態に係る図2Bの操作254においてポジレジストに関し平均臨界寸法マップ300から形成された典型的な偏差マップ400を示している。各区域における臨界寸法偏差値を決定するために、平均CDマップ300から最も高い平均臨界寸法が最大CD値として選択される。その後、平均CDマップ300の局所的な平均CD値と最大CD値との間の差を計算することによって、各区域における臨界寸法偏差値が評価される。
【0030】
例えば、平均CDマップ300においては、区域324における最も高いCD値1.26μmが最大臨界寸法として選択される。その後、平均臨界寸法マップ300の各区域における平均臨界寸法と最大臨界寸法との間の差が計算されて、臨界寸法偏差が決定され、偏差マップ400が形成される。一例として、区域302,304,306,308,310はそれぞれ、0.05μm、0.03μm、0.03μm、0.04μm、0.05μmという最大臨界寸法1.26μmからの臨界寸法偏差を示している。マップ400の他の区域における臨界寸法偏差値は、同様の方法で得られる。
【0031】
臨界寸法偏差マップ500が形成されたら、各区域における光減少(光減衰)を示すマスクの減衰(減少)マップが形成される。図4Bは、本発明の一実施形態に係るポジレジストを使用した図2Bの操作256で形成される減衰マップ450を示している。例えば、区域322の臨界寸法偏差を目標最大臨界寸法1.26μmに達するように補償するためには、縮小率5が与えられると、0.04μmだけ線幅を増大させる光減衰を行なう必要がある。先に説明した方程式A=(α*C)/Eを使用するとともに、E=170Joules/m2およびα=700(Joules/m2)/μmが与えられると、区域322の臨界寸法を0.04μmだけ増大するために必要な全体の光照射線量(露光量)は、(α*C)すなわち(0.04μm)(700Joules/m2)/μm)によって与えられ、28Joules/m2となる。その後、0.04μmだけ臨界寸法を増大させるために必要な正規化露光量(すなわち、光減衰すなわちフィルタリングの割合)は、ポジレジストを使用して、100%*(α*C)/(E*縮小率)、すなわち、(0.04μm)(700Joules/m2)/μm)/(170Joules/m2*5)*100%、つまり3.3%の露光量の減少によって得られる。
【0032】
減衰マップ550の他の区域における光減衰量も同様の方法で得られる。例えば、区域324,326,328,330の露光量は、0%、0.8%、2.5%、3.3%だけそれぞれ減少(減衰)される。なお、減衰マップ450を、マップ450の各区域において100%から光減衰量を差し引くことによって透過される光量を示す透過マップに変えても良い。
【0033】
本発明の他の実施形態において、図5Aは、図2Bの操作258においてネガレジストに関し平均臨界寸法マップ300から形成された偏差マップ500を示している。各区域における臨界寸法偏差値を決定するために、平均CDマップ300から最も低い平均臨界寸法が最小CD値として選択される。その後、平均CDマップ300の局所的な平均CD値と最大CD値との間の差を計算することによって、各区域における臨界寸法偏差値が評価される。
【0034】
例えば、平均CDマップ300に示されるように、区域302における最も低いCD値1.21μmが最小臨界寸法として選択されても良い。その後、平均臨界寸法マップ300の各区域における平均臨界寸法と最小臨界寸法との間の差が計算されて、臨界寸法偏差が決定され、偏差マップ500が形成される。一例として、区域302,304,306,308,310はそれぞれ、0μm、0.02μm、0.02μm、0.01μm、0μmという最小臨界寸法1.21μmからの臨界寸法偏差を示している。マップ500の他の区域における臨界寸法偏差値は、同様の方法で得られる。
【0035】
臨界寸法偏差マップ500が得られたら、各区域における光減少(光減衰)を示すマスクの減衰(減少)マップが形成される。図5Bは、本発明の一実施形態にしたがって先に説明した方程式A=(α*C)/Eを使用するとともに、E=170Joules/m2およびα=700(Joules/m2)/μmが与えられた図2Bの操作260で形成されるマスクの減衰マップ550を示している。一例として、区域304の臨界寸法偏差を目標最小臨界寸法1.21μmに達するように補償するためには、0.02μmだけ線幅を減少させる光減衰を行なう必要がある。区域310の臨界寸法を0.02μmだけ減少するために必要な全体の光照射線量(露光量)は、(α*C)すなわち(0.02μm)(700Joules/m2)/μm)によって与えられ、14Joules/m2となる。その後、縮小率5が与えられると、0.02μmだけ臨界寸法を減少させるために必要な正規化露光量(すなわち、光減衰すなわちフィルタリングの割合)は、ネガレジストを使用して、100%*(α*C)/(E*縮小率)、すなわち、(0.02μm)(700Joules/m2)/μm)/(170Joules/m2*5)*100%、つまり1.6%の露光量の減少によって得られる。
【0036】
減衰マップ550の他の区域における光減衰量も同様の方法で得られる。例えば、区域302,306,308,310の露光量は、0%、1.6%、0.8%、0%だけそれぞれ減少(減衰)される。なお、マスクの減衰マップ550を、マップ550の各区域において100%から光減衰量を差し引くことによって透過される光量を示す透過マップに変えても良い。
【0037】
このように、臨界寸法偏差マップ400,500は、各区域毎に補正される臨界寸法の量を示している。ポジレジストを使用すると、最大CD値を有する区域は補償されないが、最大CD値よりも少ない他の区域は、マスクの対応する領域に光吸収材料を埋め込み或は堆積させることによって補償される。一方、ネガレジストを使用すると、最小CD値を有する区域は補償されないが、他の区域は、マスクに光吸収材料を埋め込み或は堆積させることによって補償される。
【0038】
一実施形態において、光減衰マップ550,650は、ドーパントでマスクを選択的に埋め込むために使用される。ドーパントは、フィルタ内に埋め込まれて化学線を吸収し、レジストがポジレジストであるかネガレジストであるかに応じて区域の臨界寸法線幅を増大もしくは減少させる。例えば、化学線の吸収を調整するために、ドーパントがマスクに埋め込まれる。
【0039】
図6Aは、本発明の一実施形態にしたがってポジレジストを使用した時の線幅変化を補償するマスク110の断面図を示している。この図において、マスク110の断面は、図3のB−B’によって規定される線に沿ってとられており、したがって、マスク110の区域322〜330を示している。マスク110は、化学線を透過する例えばガラス、石英、透明プラスチック、石英ガラス、フッ化カルシウム等の基板602から成る。印刷されるフォトレジストパターン116を有する焦点板604の層が基板602上に形成される。
【0040】
線幅を最大偏差値もしくは目標偏差値まで増大させるために、ドーパント606が区域322,326,328,330で基板602に埋め込まれ、化学線が吸収される。例えば、ホウ素、酸素、ナトリウムなどの光吸収材料606は、様々な波長(例えば、150nm,152nm,193nm,248nm,365nm)の化学線を吸収するために基板602に埋め込まれても良い。光吸収材料の埋め込みは、例えばイオン衝撃やCVD法等によって行なわれても良い。例えば、ホウ素が埋め込まれた石英基板は、埋め込まれていない石英と比べて、248nmの化学線(例えばDUV)を吸収する。
【0041】
区域322,330は0.04μmを補償する必要があり、また、区域326,328は0.01μmおよび0.03μmの補正が必要であるため、区域322,330には区域326,328よりも多くのドーパント606が埋め込まれる。同様に、区域328には区域326よりも多くのドーパントが埋め込まれる。なお、区域324のように、区域の寸法が目標寸法と一致する場合には、その区域に光減衰材料は添加されない。マスクの他の区域には同様の方法で光吸収材料が埋め込まれ、目標寸法と一致するように線幅が増大される。
【0042】
他の実施形態においては、マスク110の区域を通じた光の透過を選択的に調整するために、光減衰材料の層がマスク上に堆積される。図6Bは、本発明の一実施形態にしたがってポジレジストを使用した時の線幅変化を補償するマスク110の断面図を示している。この図において、マスク110の断面は、図3のC−C’によって規定される線に沿ってとられており、したがって、マスク110の区域302〜310を示している。線幅を最大偏差値もしくは目標偏差値まで増大させるために、光減衰材料の層650がマスク110の区域302,310上に選択的に堆積され、この区域を通じて化学線を減衰させる。例えば線漏れクロム等のように化学線に対して安定し且つ比較的容易に堆積される光減衰材料が、様々な波長(例えば、150nm,152nm,193nm,248nm,365nm)の化学線を減衰させるために基板602の区域302,306,308,310上に堆積される。更に多くの光減衰を必要とする区域には、更に多くの光減衰材料が堆積される。例えば、区域302は0.05μmを補償する必要があり、また、区域306は0.03μmの補正が必要であるため、区域302には区域306よりも厚い光減衰材料の層452が堆積される。なお、区域304のように、区域の寸法が目標寸法と一致する場合には、その区域に光減衰材料は堆積されない。他の区域には同様の方法で光吸収材料が堆積され、目標寸法と一致するように線幅が増大される。
【0043】
幾つかの実施形態においては、最大もしくは最小臨界寸法値を使用する代わりに、目標CD値が設定されても良い。この場合、ポジレジストを使用した場合、臨界寸法を目標値まで増大させるために、目標CD値よりも小さい偏差値を有するフィルタ108の区域に光吸収材料が埋め込まれ或は堆積される。同様に、ネガレジストを使用した場合、臨界寸法を目標値まで減少させるために、目標値よりも大きい臨界寸法値を有するフィルタ108の領域に光吸収材料が埋め込まれ或は堆積される。
【0044】
光吸収材料もしくは光減衰材料の埋め込み或は堆積は、ウエハ上の露光領域へと透過される光量を減少するように成される。この露光量の減少は、区域に添加される材料の量に応じて、露光領域の区域の線幅を増大させる効果を有する。したがって、光吸収材料が埋め込まれた露光領域の区域において、マスク110が線幅の変化を補償するとともに、略均一な線幅を有する露光領域の区域をマスク110によって形成することができる。
【0045】
マスク110の選択された区域に光減衰材料を埋め込み或は堆積させると、幾つかの利点が得られる。例えば、本発明の装置および方法は、略均一な臨界寸法がデバイス性能を向上させるとともに故障を減らすため、集積回路チップの製造において高い歩留まりを与える。光吸収材料の埋め込みは更なる利点を与える。例えば、フィルタの層の厚さを変化させるのではなく、光吸収材料を埋め込むことにより、入射光の位相が変化しない。したがって、フィルタは、リソグラフィに悪影響を与えない。更に、埋め込まれる様々な量の種を与えるために、異なる露光量でインプラントビーム下でフィルタを走査することにより、フィルタリソグラフィなしでフィルタを構成することができる。
【0046】
複数の好ましい実施形態に関して本発明を説明してきたが、本発明の範囲に入る変形、並び替え、等価物がある。また、本発明の方法、装置、システムを共に実施する他の方法もある。したがって、以下の添付のクレームは、本発明の思想および範囲内のそのような変形、並び替え、等価物を全て含むように解釈されることを意図している。
【図面の簡単な説明】
【図1】
半導体ウエハ上にフォトレジストパターンを形成するための本発明の一実施形態に係る典型的な光学装置を示している。
【図2A】
本発明の一実施形態に係るマスクパターンの臨界寸法変化を補償するマスクを形成する方法のフローチャートを示している。
【図2B】
ポジレジストもしくはネガレジストにおける各区域のCD変化を補償するために必要な光調整量を評価する方法のフローチャートを示している。
【図3】
本発明の一実施形態に係る非補償マスクの典型的な平均CDマップを示している。
【図4A】
本発明の一実施形態に係るポジレジストにおける平均臨界寸法マップから形成された典型的な偏差マップを示している。
【図4B】
本発明の一実施形態に係るポジレジストを使用して偏差マップから形成される減衰マップを示している。
【図5A】
本発明の一実施形態に係るネガレジストにおける平均臨界寸法マップから形成された偏差マップを示している。
【図5B】
本発明の一実施形態に係るネガレジストにおける偏差マップから形成されたマスクの減衰マップを示している。
【図6A】
ポジレジストを使用した時の線幅変化を補償する本発明の一実施形態に係るマスクの断面図を示している。
【図6B】
ポジレジストを使用した時の線幅変化を補償する本発明の一実施形態に係るマスクの断面図を示している。
Claims (33)
- フォトレジストパターンを半導体ウエハの露光領域上に形成するための装置において、
前記半導体ウエハの露光領域上にフォトマスクパターンを照射するための化学線を形成するようになっている光源と、
前記光源からの化学線を集束するためのレンズと、
前記レンズからの化学線を濾過するフィルタと、
基板と焦点板の層とを有し、前記基板は化学線を透過し、前記焦点板の層は1または複数のフォトレジストパターンを規定するフォトマスクであって、複数の区域に分割されるとともに、前記レンズからの化学線を1または複数の区域で減衰して1または複数の区域における目標臨界寸法からの臨界寸法偏差を補償するようになっており、前記フィルタの複数の区域からの化学線を受けて、半導体ウエハの露光領域を照明するフォトマスクを備えた、露光領域上にフォトレジストパターンを形成する装置。 - 前記基板の1または複数の区域にドーパントを埋め込むことによって前記化学線が減衰され、前記ドーパントは、1または複数の区域を通じた化学線の透過を減少させることを特徴とする、請求項1に記載の装置。
- 前記基板の1または複数の区域に、1または複数の区域を通じた前記化学線の透過を減衰させる半透明材料の層が堆積されることによって前記化学線が減衰されることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記化学線は、前記フォトレジストパターンを前記露光領域上に形成するための光化学作用を生じさせることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記ドーパントは、ホウ素、酸素、ナトリウムから成るグループから選択される化学薬品であることを特徴とする請求項2に記載の装置。
- 前記半透明材料が線漏れクロムであることを特徴とする請求項3に記載の装置。
- 前記基板は、ガラス、透明プラスチック、石英、石英ガラス、フッ化カルシウムから成るグループから選択される材料によって形成されていることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記臨界寸法が前記フォトレジストパターンの線幅であることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記化学線が深部紫外光またはX線であることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記複数の区域がN×N行列であり、Nは1よりも大きい整数であることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- フォトマスクにおけるフォトレジストパターンの臨界寸法の偏差を補償する方法において、
フォトマスクを複数の区域に分割し、
前記フォトマスクの各区域における臨界寸法を測定し、
前記フォトマスクの各区域における目標寸法からの前記臨界寸法の偏差を示す偏差マップを形成し、
前記フォトマスクの各区域における前記目標寸法からの臨界寸法偏差を補償するために必要な化学線減衰量を決定し、
前記決定された化学線の減衰量だけ前記フォトマスクの各区域を通じた化学線の透過を減少させ、これにより、前記フォトマスクの各区域において、前記臨界寸法偏差が前記目標寸法へと補正される方法。 - 前記フォトマスクは、
前記化学線を透過する基板と、
1または複数のフォトレジストパターンを規定する焦点板の層と、
を備えていることを特徴とする請求項11に記載の方法。 - 前記基板の1または複数の区域にドーパントを埋め込むことによって前記化学線の透過が減衰され、前記ドーパントは、1または複数の区域を通じた前記化学線の透過を減少させることを特徴とする請求項12に記載の方法。
- 前記基板の1または複数の区域に、1または複数の区域を通じた前記化学線の透過を減衰させる半透明材料の層が堆積されることによって前記化学線が減衰されることを特徴とする請求項12に記載の方法。
- 前記ドーパントは、前記目標寸法よりも小さい臨界寸法を有する前記1または複数の区域に埋め込まれ、前記ドーパントは、光源からの化学線を吸収して、前記1または複数の区域の臨界寸法を目標臨界寸法まで増大させることを特徴とする請求項13に記載の方法。
- 前記化学線は、前記フォトレジストパターンを半導体ウエハの露光領域上に形成するための光化学作用を生じることを特徴とする請求項11に記載の方法。
- 前記ドーパントは、ホウ素、酸素、ナトリウムから成るグループから選択される化学薬品であることを特徴とする請求項13に記載の方法。
- 前記半透明材料が線漏れクロムであることを特徴とする請求項14に記載の方法。
- 前記透明基板は、ガラス、透明プラスチック、石英、石英ガラス、フッ化カルシウムから成るグループから選択される材料によって形成されていることを特徴とする請求項12に記載の方法。
- 前記臨界寸法が前記フォトレジストパターンの線幅であることを特徴とする請求項11に記載の方法。
- 前記化学線が深部紫外光またはX線であることを特徴とする請求項11に記載の方法。
- 前記複数の区域がN×N行列であり、Nは1よりも大きい整数であることを特徴とする請求項11に記載の方法。
- フォトマスクにおけるフォトレジストパターンの臨界寸法の偏差を補償するようにフォトマスクを形成する方法において、
化学線を透過する基板と1または複数のフォトレジストパターンを規定する焦点板の層とを有するフォトマスクを複数の区域に分割し、
前記フォトマスクの各区域における臨界寸法を測定し、
前記フォトマスクの各区域における目標寸法からの前記臨界寸法の偏差を示す偏差マップを形成し、
前記フォトマスクの各区域における前記目標寸法からの前記臨界寸法偏差を補償するために必要な化学線減衰量を決定し、
前記フォトマスクの1または複数の区域に、1または複数の光減衰材料を添加し、前記光減衰材料は、決定された化学線の減衰量だけ前記フォトマスクの各区域を通じた前記化学線の透過を減少させ、これにより、前記フォトマスクの各区域において、前記臨界寸法偏差が前記目標寸法へと補償される方法。 - 前記基板の1または複数の区域にドーパントを埋め込むことによって前記化学線の透過が減衰され、前記ドーパントは、1または複数の区域を通じた化学線の透過を減少させるようになっている請求項23に記載の方法。
- 前記基板の1または複数の区域に前記フォトマスクの1または複数の区域を通じた前記化学線の透過を減衰させる半透明材料の層が堆積されることによって前記化学線が減衰されることを特徴とする請求項23に記載の方法。
- 前記ドーパントは、前記目標寸法よりも小さい臨界寸法を有する1または複数の区域に埋め込まれ、前記ドーパントは、光源からの化学線を吸収して、前記1または複数の区域の臨界寸法を前記目標臨界寸法まで増大させることを特徴とする請求項24に記載の方法。
- 前記化学線は、前記フォトレジストパターンを半導体ウエハの露光領域上に形成するための光化学作用を生じることを特徴とする請求項23に記載の方法。
- 前記ドーパントは、ホウ素、酸素、ナトリウムから成るグループから選択される化学薬品であることを特徴とする請求項24に記載の方法。
- 前記半透明材料が線漏れクロムであることを特徴とする請求項25に記載の方法。
- 前記基板は、ガラス、透明プラスチック、石英、石英ガラス、フッ化カルシウムから成るグループから選択される材料によって形成されていることを特徴とする請求項23に記載の方法。
- 前記臨界寸法が前記フォトレジストパターンの線幅であることを特徴とする請求項23に記載の方法。
- 前記化学線が深部紫外光またはX線であることを特徴とする請求項23に記載の方法。
- 前記複数の区域がN×N行列であり、Nは1よりも大きい整数であることを特徴とする請求項23に記載の方法。
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