JP2004354372A5

JP2004354372A5 -

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Publication number: JP2004354372A5
Application number: JP2004129868A
Authority: JP
Filing date: 2004-04-26
Publication date: 2007-06-07

Claims

薄膜形成装置により製造される所与の光学特性を有する光学多層膜構造体の光学膜厚の制御装置において、

ｎ層からなる、前記光学多層膜構造体のサブアッセンブリについて、少なくとも所定の光波長帯域内の光透過率又は光反射率の分光特性のシミュレーション理論値を記憶している装置、

前記サブアッセンブリのｎ番目層を形成している際中に、所定のくり返し周期で前記光波長帯域内の複数の異なる波長における前記サブアッセンブリの光透過率又は光反射率の値を実測する手段、

前記くり返し周期毎に、前記記憶していた分光特性の理論値と前記複数の異なる波長での前記実測した光透過率又は光反射率の値とを対比させ、前記実測した値が理論値の目標範囲内になったときに、薄膜形成装置での前記ｎ番目の層の形成を停止する指示を出力する処理装置とからなり、

前記実測する手段は波長可変レーザーと受光した光を光電変換する装置を含み、

前記サブアッセンブリの前記ｎ番目層を形成する際中に、該波長可変レーザーは、前記光波長帯域内の複数の異なる波長の光を前記くり返し周期で出力して形成中の前記サブアッセンブリに照射し、

前記光電変換装置は、形成中の前記サブアッセンブリに照射された前記波長可変レーザーからの光の透過成分又は反射成分を受光して、前記くり返し周期毎に前記複数の異なる波長での光透過率又は光反射率の実測値を得ている光学膜厚制御装置。
請求項１の制御装置において、前記光学多層膜構造体が波長分割多重光伝送用の狭帯域バンドパスフィルタであり、前記光波長帯域の中心が前記狭帯域バンドパスフィルタの透過帯域の中心波長である光学膜厚制御装置。
請求項１又は２の制御装置において、

ｍ層からなる、前記光学多層膜構造体のサブアッセンブリのｍ番目層を形成している際中に、前記波長可変レーザーは選択された固定波長の光出力を前記形成中の前記ｍ層のサブアッセンブリに照射しており、

前記光電変換装置は、前記選択された固定波長における形成中の前記ｍ層のサブアッセンブリの光透過率又は光反射率の実測値を所定の時間間隔で得ており、

前記処理装置は、前記時間間隔毎に得られた前記ｍ層のサブアッセンブリの光透過率又は光反射率の実測値に基いて、該実測値の変化量によって該実測値の極値を検出したとき薄膜形成装置での前記ｍ番目層の形成を停止する指示を出力しており、

前記ｎ番目層の形成時には前記波長可変レーザーを波長可変モードにし、前記ｍ番目層の形成時には前記波長可変レーザーを選択された固定波長モードに切り換える手段を含む、光学膜厚制御装置。
薄膜形成装置により製造される所与の光学特性を有する光学多層膜構造体の光学膜厚の制御方法において、

ｎ層からなる、前記光学多層膜構造体のサブアッセンブリについて、少なくとも所定の光波長帯域内の光透過率又は光反射率の分光特性のシミュレーション理論値を記憶し、

前記サブアッセンブリのｎ番目層を形成している際中に、所定のくり返し周期で前記光波長帯域内の複数の異なる波長における前記サブアッセンブリの光透過率又は光反射率の値を実測し、

前記くり返し周期毎に、前記記憶していた分光特性の理論値と前記複数の異なる波長での前記実測した光透過率又は光反射率の値とを対比させ、前記実測した値が理論値の目標範囲内になったときに、薄膜形成装置での前記ｎ番目の層の形成を停止する指示を出力することとからなり、

前記光透過率又は光反射率の値の実測は波長可変レーザーと受光した光を光電変換する装置で行なわれ、

前記サブアッセンブリの前記ｎ番目層を形成する際中に、該波長可変レーザーは、前記光波長帯域内の複数の異なる波長の光を前記くり返し周期で出力して形成中の前記サブアッセンブリに照射し、

前記光電変換装置は、形成中の前記サブアッセンブリに照射された前記波長可変レーザーからの光の透過成分又は反射成分を受光して、前記くり返し周期毎に前記複数の異なる波長での光透過率又は光反射率の実測値を得ている光学多層膜構造体の光学膜厚の制御方法。
請求項４の制御方法において、前記光学多層膜構造体が波長分割多重光伝送用の狭帯域バンドパスフィルタであり、前記光波長帯域の中心が前記狭帯域バンドパスフィルタの透過帯域の中心波長である光学膜厚の制御方法。
請求項４又は５の方法において、

ｍ層からなる、前記光学多層膜構造体のサブアッセンブリのｍ番目層を形成している際中に、前記波長可変レーザーは選択された固定波長の光出力を前記形成中の前記ｍ層のサブアッセンブリに照射しており、

前記光電変換装置は、前記選択された固定波長における形成中の前記ｍ層のサブアッセンブリの光透過率又は光反射率の実測値を所定の時間間隔で得ており、

前記時間間隔毎に得られた前記ｍ層のサブアッセンブリの光透過率又は光反射率の実測値に基いて、該実測値の変化量によって該実測値の極値を検出したとき薄膜形成装置での前記ｍ番目層の形成を停止する指示を出力しており、

前記ｎ番目層の形成時には前記波長可変レーザーを波長可変モードにし、前記ｍ番目層の形成時には前記波長可変レーザーを選択された固定波長モードに切り換ている光学多層膜構造体の光学膜厚の制御方法。
請求項６の方法において、

前記光学多層膜構造体は狭帯域バンド・パス・フィルタであり、該狭帯域バンド・パス・フィルタはファブリペロー構造のフィルタを結合層を介して複数段接続したマルチキャビテイー構成を有し、

該結合層を前記ｎ番目層とし、前記ファブリペロー構造を構成する層を前記ｍ番目層として、前記モード切換え手段は波長可変レーザーの波長モードと固定モードを切り換えている光学多層膜構造体の光学膜厚の制御方法。
請求項６の方法において、

前記光学多層膜構造体の最後に形成される層又は補正膜を前記ｎ番目の層としている光学多層膜構造体の光学膜厚の制御方法。
請求項１に記載の多層光学膜厚制御装置、真空チャンバ、該真空チャンバ内の多層膜形成基板上に光学膜材料を蒸着させる手段、及び該蒸着を阻止するシャッターとからなる多層光学膜形成装置であって、

層の形成の停止を指示する出力は、前記シャッターを制御して該蒸着を阻止している多層光学膜構造体製造装置。