JP2004343099A - 研磨パッドおよび化学機械研磨方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 (A)架橋ジエンエラストマーおよび(B)酸無水物構造を有する重合体からなり、上記(A)成分および上記(B)成分の合計量を100質量%とした場合に、上記(A)成分が70〜99.9質量%であり、上記(B)成分が0.1〜30質量%でありそして比重が0.9〜1.2である研磨パッド。
【選択図】 なし
Description
芳香族単量体としては、例えばスチレン、α−メチルスチレン、o−ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシスチレン等;
(メタ)アクリル酸エステル化合物としては、例えばメチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシメチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノメチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート等をそれぞれ挙げることができる。
上記ジエン(共)重合体としては、例えば、ブタジエンゴム、1,2−ポリブタジエン、スチレン/ブタジエン共重合体、イソプレンゴム等をそれぞれ挙げることができる。
分子内に酸無水物構造とカルボキシル基を有する化合物としては、例えば無水トリメリット酸等をそれぞれ挙げることができる。
実施例1
90質量%の(a)1,2−ポリブタジエン(JSR(株)製、商品名「JSR RB830」)、10質量%の(b)無水マレイン酸変性ポリプロピレン(三洋化成工業(株)製、商品名「ユーメックス1010」(酸価;52mg KOH/g)、並びに上記(a)および(b)の合計に対して5体積%の(c)水溶性物質であるβ−シクロデキストリン((株)横浜国際バイオ研究所製、商品名「デキシーパールβ−100」)、を120℃に加熱されたニーダーにて混練した。その後、有機過酸化物(日本油脂(株)製、商品名「パークミルD40」)を上記(a)および(b)の合計100質量部に対して1質量部添加し、さらに混練した後、金型内にて170℃で18分間架橋反応させて成形し、直径60cm、厚さ2.8mmの研磨パッド(比重;0.95)を得た。なお、このパッドには、この成型体の一面に切削加工機((株)加藤機械製)を用いて、溝幅0.5mm、ピッチ2mm、溝深さ1.4mmの同心円状の溝が形成されている。
70質量%の実施例1で用いた(a)1,2−ポリブタジエン、30質量%の(b)無水マレイン酸変性スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体の水素添加物(旭化成工業(株)製、商品名「タフテック1911」(酸価;2mg CH3ONa/g、2.07mg KOH/gに相当))、並びに上記(a)および(b)の合計に対して20体積%の実施例1で用いた(c)水溶性物質を120℃に加熱されたニーダーにて混練した。その後、実施例1で用いた有機過酸化物を上記(a)100質量部に対して1質量部添加した以外は実施例1と同様にして研磨パッド(比重;1.08)を得た。
98質量%の実施例1で用いた(a)1,2−ポリブタジエン、2質量%の(b)無水マレイン酸変性ポリプロピレン(三洋化成工業(株)製、商品名「ユーメックス1001」(酸価;26mg KOH/g))、並びに上記(a)および(b)の合計に対して1体積%の実施例1で用いた(c)水溶性物質を120℃に加熱されたニーダーにて混練した。その後、実施例1で用いた有機過酸化物を上記(a)100質量部に対して1質量部添加した以外は実施例1と同様にして研磨パッド(比重;0.94)を得た。
90質量%の実施例1で用いた(a)1,2−ポリブタジエン、10質量%の(b)無水マレイン酸変性ポリエチレン(三洋化成工業(株)製、商品名「ユーメックス2000」(酸価;30mg KOH/g)、並びに上記(a)および(b)の合計に対して5体積%の実施例1で用いた(c)水溶性物質を120℃に加熱されたニーダーにて混練した。その後、実施例1で用いた有機過酸化物を上記(a)100質量部に対して1質量部添加した以外は実施例1と同様にして研磨パッド(比重;0.95)を得た。
70体積%の実施例1で用いた(a)1,2−ポリブタジエン、および30体積%の実施例1で用いた(c)水溶性物質、を120℃に加熱されたニーダーにて混練した。その後、実施例1で用いた有機過酸化物を上記(a)100質量部に対して1質量部添加した以外は実施例1と同様にして研磨パッド(比重;0.96)を得た。
99質量%の実施例1で用いた(a)1,2−ポリブタジエン、1質量%の(b)両末端ヒドロキシル基含有ポリブタジエン(日本曹達(株)製、商品名「NISSO−PB G3000」)、並びに上記(a)および(b)の合計に対して30体積%の実施例1で用いた(c)水溶性物質を120℃に加熱されたニーダーにて混練した。その後、実施例1で用いた有機過酸化物を上記(a)および(b)の合計100質量部に対して1質量部添加した以外は、実施例1と同様にして研磨パッド(比重;1.07)を得た。
まず、ラウリル硫酸ナトリウムを乳化剤、ベンゾイルパーオキシドを重合開始剤として、ブタジエン/アクリロニトリル/メタクリル酸/2−ヒドロキシブチルメタクリレート/エチレングリコールジメタクリレート/ジビニルベンゼン=62/20/5/11/1/2(モル%)の割合の単量体をエマルジョン重合した。次いで、得られた共重合体エマルジョンを凝固し、乾燥して(d)官能基含有共重合体を調製した。このときの重合転化率は、ほぼ100%であった。
(1)研磨速度の評価
実施例1〜4および比較例1〜3で得られた各研磨パッドをそれぞれ研磨機(SFT社製、型式「ラップマスター LGP510」)の定盤上に装着し、定盤回転数50rpm、スラリーの流量100ml/分の条件で銅膜およびシリカ膜ウェハを研磨し、各研磨パッドによる研磨性能の違いを評価し、表1に示した。なお、スラリーとして、熱酸化膜(シリカ)用はCMS1101(JSR(株)製)、銅用としてiCue5003(キャボット社製)を使用した。研磨速度は光学式膜厚計による膜厚変化測定により求めた。
半導体ウェハ(種々の配線巾、スペース巾を備えた研磨テスト用ウエハ:SKW社製、商品名「SKW−7」)を下記の条件により研磨した後、微細形状測定装置(KLA-Tencor社製、型式「P−10」)によりライン アンド スペースが250μm and 250μmの箇所でディッシングを測定した。その結果を表1に記載した。
化学機械研磨装置;EPO112((株)荏原製作所製)
スラリー供給量;200ml/分
研磨荷重;400g/cm2
定盤回転数;70rpm
ヘッド回転数;70rpm
研磨速度;400nm/分
研磨時間;5.75分(15%オーバーポリッシュ)
11;シリコン基板
12;絶縁膜
13;絶縁膜
14;PETEOS膜
15;バリアメタル膜
16;銅膜
Claims (10)
- (A)架橋ジエンエラストマーおよび(B)酸無水物構造を有する重合体からなり、上記(A)成分および上記(B)成分の合計量を100質量%とした場合に、上記(A)成分が70〜99.9質量%であり、上記(B)成分が0.1〜30質量%でありそして比重が0.9〜1.2であることを特徴とする研磨パッド。
- 架橋ジエンエラストマー(A)が架橋ブタジエンエラストマーまたは架橋イソプレンエラストマーである請求項1に記載の研磨パッド。
- 酸無水物構造を有する重合体(B)が主鎖のみに酸無水物構造を有する重合体、側鎖のみに酸無水物構造を有する重合体または主鎖と側鎖のいずれにも酸無水物構造を有する重合体である請求項1に記載の研磨パッド。
- 主鎖のみに酸無水物構造を有する重合体が無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸および無水エンドメチレンテトラヒドロフタル酸よりなる群から選ばれる少なくとも1種の不飽和ジカルボン酸無水物の(共)重合体または該少なくとも1種の不飽和ジカルボン酸無水物と酸無水物構造を有さない単量体との共重合体である請求項3に記載の研磨パッド。
- 側鎖のみに酸無水物構造を有する重合体が酸無水物構造を有さない重合体が、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸および無水エンドメチレンテトラヒドロフタル酸よりなる群から選ばれる少なくとも1種の不飽和ジカルボン酸無水物で変性された重合体である請求項3に記載の研磨パッド。
- 側鎖のみに酸無水物構造を有する重合体が無水マレイン酸変性ポリエチレン、無水マレイン酸変性ポリプロピレンまたは無水マレイン酸変性スチレン/ブタジエン共重合体である請求項3または5に記載の研磨パッド。
- 主鎖と側鎖のいずれにも酸無水物構造を有する重合体が主鎖のみに酸無水物構造を有する重合体が、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸および無水エンドメチレンテトラヒドロフタル酸よりなる群から選ばれる少なくとも1種の不飽和ジカルボン酸無水物で変性された重合体である請求項3に記載の研磨パッド。
- 酸無水物構造を有する重合体(B)の酸価が0.1〜500mgKOH/gである請求項1に記載の研磨パッド。
- 架橋ジエンエラストマー(A)と酸無水物構造を有する重合体(B)がマトリックス材を形成し、そのマトリックス材の中に水溶性物質(C)をさらに含有する請求項1に記載の研磨パッド。
- 被研磨体の表面を請求項1の研磨パッドで化学機械研磨に付して被研磨体の該表面を平坦にすることを特徴とする、被研磨体の化学機械研磨法。
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