JP2004323806A

JP2004323806A - 遷移金属化合物、オレフィン類重合触媒、オレフィン化合物重合方法、およびオレフィン化合物重合体

Info

Publication number: JP2004323806A
Application number: JP2003132037A
Authority: JP
Inventors: Katsuhiko Ono; 勝彦大野; Tokifumi Masukawa; 解文益川
Original assignee: Chisso Petrochemical Corp; Chisso Corp
Current assignee: JNC Corp; JNC Petrochemical Corp
Priority date: 2003-03-03
Filing date: 2003-05-09
Publication date: 2004-11-18

Abstract

【課題】新規な遷移金属化合物およびそれを用いるオレフィン重合用触媒、該オレフィン重合用触媒を用いたオレフィンの重合方法を提供する。
【解決手段】遷移金属化合物は、一般式Ｋ_ｍＭＸ_ｌＬ_ｎで表される遷移金属化合物である。式中、Ｋ_ｍはイミノ基を含有するフェノール化合物残基であり、Ｌ_ｎはイミノ基を含有する（複素）５員環化合物残基であり、Ｍは周期表第３〜１１族の遷移金属原子であり、Ｘは水素原子、ハロゲン原子もしくは有機基である。
【選択図】なし

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は新規な遷移金属化合物およびそれを用いるオレフィン重合用触媒、該オレフィン重合用触媒を用いたオレフィンの重合方法に関するものである。また本発明は、該重合方法により得られるオレフィン重合体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
オレフィン重合用触媒としては、いわゆるカミンスキー触媒が良く知られている。この触媒は非常に重合活性が高く、分子量分布が狭い重合体が得られるという特徴がある。このようなカミンスキー触媒に用いられる遷移金属化合物としては、たとえばビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリドや、エチレンビス（４，５，６，７−テトラヒドロインデニル）ジルコニウムジクロリドなどが知られている（例えば特許文献１、２参照。）。また重合に用いる遷移金属化合物が異なると、オレフィン重合活性や得られたポリオレフィンの性状が大きく異なることも知られている。さらに最近新しいオレフィン重合用触媒としてジイミン構造の配位子を持った遷移金属化合物が提案されている（例えば特許文献３参照。）。さらに、イミノメチルピロリル配位子を有するクロム錯体化合物をα−オレフィン重合用触媒成分として用いる方法も知られている（例えば非特許文献１参照。）。
【０００３】
一般にポリオレフィンは、機械的特性などに優れているため、各種成形体など種々の分野に用いられているが、近年ポリオレフィンに対する物性の要求が多様化しており様々な性状のポリオレフィンが望まれている。また生産性の向上も望まれている。
このような状況のもと、オレフィン重合活性に優れ、しかも優れた性状を有するポリオレフィンを製造しうるようなオレフィン重合用触媒の出現が望まれており、またそのようなオレフィン重合用触媒成分となり得るような新たな遷移金属化合物の出現が望まれている。
【０００４】
【特許文献１】
特開昭５８−１９３０９号公報
【特許文献２】
特開昭６１−１３０３１４号公報
【特許文献３】
国際公開特許第９６２３０１０号公報
【非特許文献１】
Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１９９８，１６５１
【０００５】
【発明が解決する課題】
本発明は新たに見出した新規な化学構造を有する遷移金属化合物と、それを用いることを特徴とするオレフィン重合用触媒、また該オレフィン重合用触媒を用いたオレフィンの重合方法を提供することを目的とする。また本発明はかかる重合方法により得られる、押し出し成形や射出成形が可能な高分子量で且つ高融点のオレフィン重合体を提供することをも目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、オレフィン重合活性に優れ、しかも優れた性状を有するポリオレフィンを製造しうるオレフィン重合用触媒を開発すべく鋭意研究した結果、従来知られていない新規な配位構造を有する遷移金属化合物がオレフィン重合用の優れた触媒能を有するものであることを見出し本発明を完成した。かかる遷移金属化合物は相違する構造を有する有機配位子（同一配位子だけでない）がその金属に配位した化合物（いわば混合配位子型）であり、その構造的特徴は一般式（Ｉ）で表されるものであり、以下本発明に係わるオレフィン重合用触媒の説明中で詳しく説明されるものである。
本発明の錯体は、相違する構造を有する複数の配位子が遷移金属に配位した構造を有する点に特徴があるのであるが、これら配位子骨格の製造法、置換基の導入法等自体は、公知技術を用いて行うことができる。
すなわち、本発明に係わる第１のオレフィン重合用触媒は、下記一般式Ｋ_ｍＭＸ_ｌＬ_ｎで表される遷移金属化合物（Ａ）と、（Ｂ−１）有機金属化合物及び（Ｂ−２）活性化化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物（Ｂ）とからなることを特徴としている。
式中、Ｋ_ｍは下記式（Ｉ）で表される。Ｌ_ｎは下記式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）または（ＩＶ）で表される配位子のうちから選ばれる少なくとも１つの配位子を示す。
【０００７】
【化１２】

（式中、ＭＸ_ｌは前記式中のＭＸ_ｌを示す）
【０００８】
【化１３】

（式中、ＭＸ_ｌは前記式中のＭＸ_ｌを示す）
【０００９】
【化１４】

（式中、ＭＸ_ｌは前記式中のＭＸ_ｌを示す）
【００１０】
【化１５】

（式中、ＭＸ_ｌは前記式中のＭＸ_ｌを示す）
【００１１】
Ｅは、イオウ原子、セレン原子または窒素原子を示し、
Ｄは、窒素原子、結合基Ｒ２を有する炭素原子、または結合基Ｒ２を有していてもよいリン原子を示し、
Ｇは、窒素原子、結合基Ｒ８を有する炭素原子、または結合基Ｒ８を有していてもよいリン原子を示し、
Ｊは、窒素原子、結合基Ｒ９を有する炭素原子、または結合基Ｒ９を有していてもよいリン原子を示し、
Ｑは、窒素原子、結合基Ｒ１０を有する炭素原子、または結合基Ｒ１０を有していてもよいリン原子を示し、
Ｔは、窒素原子、結合基Ｒ１１を有する炭素原子、または結合基Ｒ１１を有していてもよいリン原子を示し、
Ｙは、窒素原子、結合基Ｒ１３を有する炭素原子、または結合基Ｒ１３を有していてもよいリン原子を示し、
Ｕは、窒素原子、結合基Ｒ１４を有する炭素原子、または結合基Ｒ１４を有していてもよいリン原子を示し、
Ｍは周期律表第３〜１１族の遷移金属原子を示し、
Ｎは窒素原子を示し、
ｍおよびｎは１〜６の整数を示し、
Ａは、酸素原子、イオウ原子、セレン原子または結合基Ｒ７を有する窒素原子を示し、
【００１２】
Ｒ１からＲ１９は、互いに同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、これらのうちの２個以上が互いに連結して環を形成してもよく、
また、ｍが２以上のとき、Ｋは互いに同一でも異なっていてもよく、１つのＫが有するＲ１〜Ｒ７のうちの少なくとも１つが、他のＫが有するＲ１〜Ｒ７のうちの少なくとも１つと連結していてもよい。また、ｎが２以上のとき、Ｌは互いに同一でも異なっていてもよく、１つのＬが有するＲ８〜Ｒ１９のうちの少なくとも１つが、他のＬが有するＲ８〜Ｒ１９のうちの少なくとも１つと連結していてもよい。
【００１３】
ｌはＭの原子価を満たす数であり、
Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、ｌが２以上の場合は、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される複数の基は互いに結合して環を形成していてもよい。）
【００１４】
本発明では、前記一般式Ｋ_ｍＭＸ_ｌＬ_ｎで表される遷移金属化合物が下記一般式（ＩＩ−ａ）で表される遷移金属化合物であることが好ましい。
【００１５】
【化１６】

（ここで式中、Ｍは周期律表第３〜１１族の遷移金属化合物を示し、ｍおよびｎは１〜３の整数を示し、Ａは、酸素原子、イオウ原子、セレン原子または結合基−Ｒ７を有する窒素原子を示し、Ｄは、置換基Ｒ２を有する炭素原子、窒素原子またはリン原子を示し、Ｅは、イオウ原子、セレン原子または窒素原子を示し、Ｇは、置換基Ｒ８を有する炭素原子、窒素原子またはリン原子を示し、Ｊは、置換基Ｒ９を有する炭素原子、窒素原子またはリン原子を示し、Ｑは、置換基Ｒ１０を有する炭素原子、窒素原子またはリン原子を示し、Ｔは、置換基Ｒ１１を有する炭素原子、窒素原子またはリン原子を示し、Ｒ１からＲ１２は、互いに同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、アシル基、エステル基、チオエステル基、アミド基、イミド基、アミノ基、イミノ基、スルホンエステル基、スルホンアミド基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、メルカプト基またはヒドロキシル基を示し、これらのうち２個以上が互いに連結して環を形成していてもよく、ｍまたはｎが２以上の場合には、Ｒ１〜Ｒ７およびＲ８〜Ｒ１２で示される基のうち２個以上が互いに連結されていてもよく（但し、Ｒ１同士およびＲ１２同士が結合されることはない）、ｌはＭの価数を満たす数であり、Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、ｌが２以上の場合は、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される複数の基は互いに結合して環を形成してもよい。）
【００１６】
前記一般式（ＩＩ−ａ）においてＲ６が、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、アシル基、エステル基、チオエステル基、アミド基、イミド基、アミノ基、イミノ基、スルフォンエステル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、メルカプト基またはヒドロキシル基であることが好ましい。
【００１７】
また、前記一般式Ｋ_ｍＭＸ_ｌＬ_ｎで表される遷移金属化合物が下記一般式（ＩＩ−ａ−１）で表される遷移金属化合物であることが好ましい。
【００１８】
【化１７】

式中、Ｍは周期律表第３〜１１族の遷移金属原子を示し、
ｍおよびｎは１〜６の整数を示し、
Ｒ１からＲ１２は、互いに同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、アシル基、エステル基、チオエステル基、アミド基、イミド基、アミノ基、イミノ基、スルホンエステル基、スルホンアミド基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、メルカプト基またはヒドロキシル基を示し、これらのうち２個以上が互いに連結して環を形成していてもよく、
また、ｍが２以上のとき、Ｋは互いに同一でも異なっていてもよく、１つのＫが有するＲ１〜Ｒ６のうちの少なくとも１つが、他のＫが有するＲ１〜Ｒ６のうちの少なくとも１つと連結していてもよい。また、ｎが２以上のとき、Ｌは互いに同一でも異なっていてもよく、１つのＬが有するＲ８〜Ｒ１２のうちの少なくとも１つが、他のＬが有するＲ８〜Ｒ１２のうちの少なくとも１つと連結していてもよい（但し、Ｒ１同士およびＲ１２同士が結合されることはない）。
ｌはＭの価数を満たす数であり、Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基またはケイ素含有基を示し、ｌが２以上の場合は、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される複数の基は互いに結合して環を形成してよい。
【００１９】
前記一般式（ＩＩ−ａ−１）においてＲ６が、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、アシル基、エステル基、チオエステル基、アミド基、イミド基、アミノ基、イミノ基、スルフォンエステル基、シアノ基、ニトロ基またはヒドロキシル基であることが好ましい。
【００２０】
本発明は、前記一般式Ｋ_ｍＭＸ_ｌＬ_ｎで表される遷移金属化合物が、下記一般式（ＩＩ−ｂ）で表される遷移金属化合物であることが好ましい。
【００２１】
【化１８】

（ここで式中、Ｍは周期律表第３〜１１族の遷移金属原子を示し、ｍおよびｎは１〜３の整数を示し、Ｒ１〜Ｒ１２は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、炭化水素置換シリル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、エステル基、アミド基、アミノ基、スルホンアミド基、ニトリル基またはニトロ基を示し、これらの内２個以上の基が互いに連結して環を形成していてもよく、ｍまたはｎが２以上の場合には、Ｒ１〜Ｒ６およびＲ８〜Ｒ１２で示される基のうち２個以上が互いに連結されていてもよい（但し、Ｒ１同士およびＲ１２同士が結合されることはない）。）
【００２２】
前記一般式（ＩＩ−ｂ）においてＲ６は、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、アシル基、エステル基、チオエステル基、アミド基、イミド基、アミノ基、イミノ基、スルフォンエステル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、メルカプト基またはヒドロキシル基であることが好ましい。
【００２３】
本発明は、前記一般式Ｋ_ｍＭＸ_ｌＬ_ｎで表される遷移金属化合物が、下記一般式（ＩＩＩ−ａ）で表される遷移金属化合物であることが好ましい。
【００２４】
【化１９】

（ここで式中、Ｍは周期律表第３〜１１族の遷移金属化合物を示し、ｍおよびｎは１〜３の整数を示し、Ａは、酸素原子、イオウ原子、セレン原子または結合基−Ｒ７を有する窒素原子を示し、Ｄは、置換基Ｒ２を有する炭素原子、窒素原子またはリン原子を示し、Ｅは、イオウ原子、セレン原子または窒素原子を示し、Ｇは、置換基Ｒ８を有する炭素原子、窒素原子またはリン原子を示し、Ｊは、置換基Ｒ９を有する炭素原子、窒素原子またはリン原子を示し、Ｑは、置換基Ｒ１０を有する炭素原子、窒素原子またはリン原子を示し、Ｔは、置換基Ｒ１１を有する炭素原子、窒素原子またはリン原子を示し、Ｙは、置換基Ｒ１３を有する炭素原子、窒素原子またはリン原子を示し、Ｕは、置換基Ｒ１４を有する炭素原子、窒素原子またはリン原子を示し、Ｒ１からＲ１５は、互いに同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、これらのうちの２個以上が互いに連結して環を形成してもよく、ｍまたはｎが２以上の場合は、Ｒ１〜Ｒ７およびＲ８〜Ｒ１５で示される基のうち２個以上が互いに連結されていてもよく（但しＲ１同士、Ｒ１５同士が結合することはない）、ｌはＭの原子価を満たす数であり、Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、ｌが２以上の場合は、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される複数の基は互いに結合して環を形成してもよい。）
【００２５】
前記一般式（ＩＩＩ−ａ）においてＲ６が、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基であることが好ましい。
【００２６】
本発明は、前記一般式Ｋ_ｍＭＸ_ｌＬ_ｎで表される遷移金属化合物が、下記一般式（ＩＩＩ−ａ−１）で表される遷移金属化合物であることが好ましい。
【００２７】
【化２０】

式中、Ｍは周期律表第３〜１１族の遷移金属原子を示し、
ｍおよびｎは１〜６の整数を示し、
Ｒ１からＲ１５は、互いに同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、アシル基、エステル基、チオエステル基、アミド基、イミド基、アミノ基、イミノ基、スルホンエステル基、スルホンアミド基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、メルカプト基またはヒドロキシル基を示し、これらのうち２個以上が互いに連結して環を形成していてもよく、
また、ｍが２以上のとき、Ｋは互いに同一でも異なっていてもよく、１つのＫが有するＲ１〜Ｒ６のうちの少なくとも１つが、他のＫが有するＲ１〜Ｒ６のうちの少なくとも１つと連結していてもよい。また、ｎが２以上のとき、Ｌは互いに同一でも異なっていてもよく、１つのＬが有するＲ８〜Ｒ１５のうちの少なくとも１つが、他のＬが有するＲ８〜Ｒ１５のうちの少なくとも１つと連結していてもよい（但し、Ｒ１同士およびＲ１５同士が結合されることはない）。
ｌはＭの価数を満たす数であり、Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基またはケイ素含有基を示し、ｌが２以上の場合は、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される複数の基は互いに結合して環を形成してよい。
【００２８】
前記一般式（ＩＩＩ−ａ−１）においてＲ６が、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、アシル基、エステル基、チオエステル基、アミド基、イミド基、アミノ基、イミノ基、スルフォンエステル基、シアノ基、ニトロ基またはヒドロキシル基であることが好ましい。
【００２９】
本発明は、前記一般式Ｋ_ｍＭＸ_ｌＬ_ｎで表される遷移金属化合物が、下記一般式（ＩＩＩ−ｂ）で表される遷移金属化合物であることが好ましい。
【００３０】
【化２１】

（ここで式中、Ｍは周期律表第３〜１１族の遷移金属原子を示し、ｍおよびｎは１〜６の整数を示し、Ｒ１〜Ｒ１５は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、炭化水素置換シリル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、エステル基、アミド基、アミノ基、スルホンアミド基、ニトリル基またはニトロ基を示し、これらの内２個以上の基が互いに連結して環を形成していてもよく、ｍまたはｎが２以上の場合は、Ｒ１〜Ｒ６およびＲ８〜Ｒ１５で示される基のうち２個以上が互いに連結されていてもよく（但し、Ｒ１同士およびＲ１２同士が結合されることはない）。）
【００３１】
前記一般式（ＩＩＩ−ｂ）においてＲ６が、ハロゲン原子、炭化水素基、炭化水素置換シリル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、エステル基、アミド基、アミノ基スルホンアミド基、シアノ基またはニトロ基であることが好ましい。
【００３２】
本発明は、前記一般式Ｋ_ｍＭＸ_ｌＬ_ｎで表される遷移金属化合物が、下記一般式（ＩＶ−ａ）で表される遷移金属化合物であることが好ましい。
【００３３】
【化２２】

【００３４】
式中、Ｍは周期律表第３〜１１族の遷移金属化合物を示し、ｍおよびｎは１〜３の整数を示し、Ａは、酸素原子、イオウ原子、セレン原子または結合基−Ｒ７を有する窒素原子を示し、Ｄは、置換基Ｒ２を有する炭素原子、窒素原子またはリン原子を示し、Ｒ１からＲ１９は、互いに同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、これらのうちの２個以上が互いに連結して環を形成してもよく、ｍまたはｎが２以上の場合は、Ｒ１〜Ｒ７およびＲ１５〜Ｒ１９で示される基のうち２個以上が互いに連結されていてもよく（但しＲ１同士が結合することはない）、ｌはＭの原子価を満たす数であり、Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、ｌが２以上の場合は、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される複数の基は互いに結合して環を形成してもよい。
【００３５】
前記一般式（ＩＶ−ａ）においてＲ６が、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基であることが好ましい。
本発明は、前記一般式Ｋ_ｍＭＸ_ｌＬ_ｎで表される遷移金属化合物が下記一般式（ＩＶ−ａ−１）で表される遷移金属化合物であることが好ましい。
【００３６】
【化２３】

式中、Ｍは周期律表第３〜１１族の遷移金属原子を示し、
ｍおよびｎは１〜６の整数を示し、
Ｒ１からＲ１９は、互いに同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、アシル基、エステル基、チオエステル基、アミド基、イミド基、アミノ基、イミノ基、スルホンエステル基、スルホンアミド基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、メルカプト基またはヒドロキシル基を示し、これらのうち２個以上が互いに連結して環を形成していてもよく、
また、ｍが２以上のとき、Ｋは互いに同一でも異なっていてもよく、１つのＫが有するＲ１〜Ｒ６のうちの少なくとも１つが、他のＫが有するＲ１〜Ｒ６のうちの少なくとも１つと連結していてもよい。また、ｎが２以上のとき、Ｌは互いに同一でも異なっていてもよく、１つのＬが有するＲ１５〜Ｒ１９のうちの少なくとも１つが、他のＬが有するＲ１５〜Ｒ１９のうちの少なくとも１つと連結していてもよい（但し、Ｒ１同士およびＲ１５同士が結合されることはない）。
ｌはＭの価数を満たす数であり、Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基またはケイ素含有基を示し、ｌが２以上の場合は、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される複数の基は互いに結合して環を形成してよい。
【００３７】
前記一般式（ＩＶ−ａ−１）においてＲ６が、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、アシル基、エステル基、チオエステル基、アミド基、イミド基、アミノ基、イミノ基、スルフォンエステル基、シアノ基、ニトロ基またはヒドロキシル基であることが好ましい。
【００３８】
本発明は、前記一般式Ｋ_ｍＭＸ_ｌＬ_ｎで表される遷移金属化合物が、下記一般式（ＩＶ−ｂ）で表される遷移金属化合物であることが好ましい。
【００３９】
【化２４】

（ここで式中、Ｍは周期律表第３〜１１族の遷移金属原子を示し、ｍおよびｎは１〜６の整数を示し、Ｒ１〜Ｒ１９は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、炭化水素置換シリル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、エステル基、アミド基、アミノ基、スルホンアミド基、ニトリル基またはニトロ基を示し、これらの内２個以上の基が互いに連結して環を形成していてもよく、ｍまたはｎが２以上の場合は、Ｒ１〜Ｒ６およびＲ１５〜Ｒ１９で示される基のうち２個以上が互いに連結されていてもよく（但し、Ｒ１同士が結合されることはない）、ｌはＭの原子価を満たす数であり、Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、ｌが２以上の場合は、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される複数の基は互いに結合して環を形成してもよい。）
【００４０】
前記一般式（ＩＶ−ｂ）においてＲ６が、ハロゲン原子、炭化水素基、炭化水素置換シリル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、エステル基、アミド基、アミノ基スルホンアミド基、シアノ基またはニトロ基であることが好ましい。
遷移金属化合物（Ａ）において、Ｍが周期律表第３〜５族および第９族から選ばれる少なくとも一種の遷移金属化合物であることが好ましい。
本発明に係わる第１のオレフィンの重合触媒では、前記遷移金属化合物（Ａ）と、（Ｂ−１）有機金属化合物、（Ｂ−２）活性化化合物から選ばれる少なくとも一種の化合物（Ｂ）に加えて、担体（Ｃ）を含んでいてもよい。
【００４１】
本発明に係わる第１のオレフィンの重合方法は、前記のような触媒の存在下にオレフィンを重合または共重合することを特徴としている。
本発明に係わる第２のオレフィン重合用触媒は、下記一般式（Ｖ）で表される遷移金属化合物（Ａ′）と、（Ｂ−１）有機金属化合物及び（Ｂ−２）活性化化合物（Ｂ）から選ばれる少なくとも１種の化合物とからなることを特徴としている。
【００４２】
【化２５】

式中、Ｍは周期律表第３〜１１族の遷移金属原子を示し、
Ｌ′およびＬ″は、それらが互いに異なるという条件のもとに、下記式（ＶＩ）、（ＶＩＩ）または（ＶＩＩＩ）
【００４３】
【化２６】

（式中、ＭＸ_ｌは前記式（Ｖ）中のＭＸ_ｌを示す）
【００４４】
【化２７】

（式中、ＭＸ_ｌは前記式（Ｖ）中のＭＸ_ｌを示す）
【００４５】
【化２８】

（式中、ＭＸ_ｌは前記式（Ｖ）中のＭＸ_ｌを示す）
で表される配位子の群から選ばれる少なくとも一つの配位子を示し、
【００４６】
Ｅは、イオウ原子、セレン原子または窒素原子を示し、
Ｄは、窒素原子、結合基Ｒ２を有する炭素原子、または結合基Ｒ２を有していてもよいリン原子を示し、
Ｇは、窒素原子、結合基Ｒ８を有する炭素原子、または結合基Ｒ８を有していてもよいリン原子を示し、
Ｊは、窒素原子、結合基Ｒ９を有する炭素原子、または結合基Ｒ９を有していてもよいリン原子を示し、
Ｑは、窒素原子、結合基Ｒ１０を有する炭素原子、または結合基Ｒ１０を有していてもよいリン原子を示し、
Ｔは、窒素原子、結合基Ｒ１１を有する炭素原子、または結合基Ｒ１１を有していてもよいリン原子を示し、
Ｙは、窒素原子、結合基Ｒ１３を有する炭素原子、または結合基Ｒ１３を有していてもよいリン原子を示し、
Ｕは、窒素原子、結合基Ｒ１４を有する炭素原子、または結合基Ｒ１４を有していてもよいリン原子を示し、
Ｍは周期律表第３〜１１族の遷移金属原子を示し、
Ｎは窒素原子を示し、
ｍおよびｎは１〜６の整数を示し、
Ａは、酸素原子、イオウ原子、セレン原子または結合基Ｒ７を有する窒素原子を示し、
【００４７】
Ｒ１からＲ１９は、互いに同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、これらのうちの２個以上が互いに連結して環を形成してもよく、
また、ｍが２以上のとき、Ｌ′は互いに同一でも異なっていてもよく、１つのＬ′が有するＲ８〜Ｒ１９のうちの少なくとも１つが、他のＬ′が有するＲ８〜Ｒ１９のうちの少なくとも１つと連結していてもよい。また、ｎが２以上のとき、Ｌ″は互いに同一でも異なっていてもよく、１つのＬ″が有するＲ８〜Ｒ１９のうちの少なくとも１つが、他のＬ″が有するＲ８〜Ｒ１９のうちの少なくとも１つと連結していてもよい。
【００４８】
ｌはＭの原子価を満たす数であり、
Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、ｌが２以上の場合は、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される複数の基は互いに結合して環を形成してもよい。
【００４９】
前記一般式（Ｖ）においてＲ６が、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基であることが好ましい。
遷移金属化合物（Ａ）において、Ｍが周期律表第３〜５族および第９族から選ばれる少なくとも一種の遷移金属化合物であることが好ましい。
【００５０】
本発明に係わる第２のオレフィンの重合触媒では、前記遷移金属化合物（Ａ′）と（Ｂ−１）有機金属化合物、（Ｂ−２）活性化化合物から選ばれる少なくとも一種の化合物（Ｂ）に加えて、担体（Ｃ）を含んでいてもよい。
本発明に係わる第２のオレフィンの重合方法は、前記のような触媒の存在下にオレフィンを重合または共重合することを特徴としている。
【００５１】
ここで本発明に係わる新規な遷移金属化合物としては、下記一般式（ＩＸ）で表される遷移金属化合物がより好ましい。
【００５２】
【化２９】

（ここで式中、Ｍは周期律表第４または第５族の遷移金属原子を示し、ｍおよびｎは１〜６の整数を示し、Ｒ１およびＲ１２は、炭化水素基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、エステル基、チオエステル基、スルフォンエステル基またはヒドロキシ基を示し、Ｒ２〜Ｒ５、Ｒ８〜Ｒ１２は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、エステル基、チオエステル基、アミド基、イミド基、アミノ基、イミノ基、スルホンエステル基、スルホンアミド基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、メルカプト基またはヒドロキシ基を示し、Ｒ６は、ハロゲン原子、炭化水素基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、チオエステル基、アミド基、イミド基、アミノ基、イミノ基、スルホンエステル基、スルホンアミド基またはシアノ基を示し、Ｒ１からＲ１２のうち２個以上が互いに連結して環を形成していてもよく、ｍまたはｎが２以上の場合は、Ｒ１〜Ｒ６およびＲ８〜Ｒ１２で示される基のうち２個以上が互いに連結されていてもよく（但し、Ｒ１同士およびＲ１２同士が結合されることはない）、
ｌはＭの価数を満たす数であり、Ｘは、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、ｌが２以上の場合は、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される複数の基は互いに結合して環を形成していてもよい。）
前記遷移金属化合物は、下記一般式（ＩＸ−ａ）で表されるものが更に好ましい。
【００５３】
【化３０】

（ここで式中、Ｍは周期律表第４または第５族の遷移金属原子を示し、ｍおよびｎは１〜６の整数を示し、Ｒ１〜Ｒ５およびＲ７〜Ｒ１２は互いに同一でも異なっていてもよく、炭化水素基、アルコキシ基または炭化水素置換シリル基を示し、Ｒ６は、ハロゲン原子、炭化水素基、炭化水素置換シリル基、アルコキシ基、アルキルチオ基またシアノ基を示し、Ｒ１からＲ１２のうち２個以上が互いに連結して環を形成していてもよく、ｍまたはｎが２以上の場合は、Ｒ１〜Ｒ６およびＲ７〜Ｒ１２で示される基のうち２個以上が互いに連結されていてもよく（但し、Ｒ１同士およびＲ１２同士が結合されることはない）、ｌはＭの価数を満たす数であり、Ｘは、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ハロゲン現有基またはケイ素含有基を示し、ｌが２以上の場合は、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される複数の基は互いに結合して環を形成してもよい。）
また、本発明に係わる新規な遷移金属化合物は、下記一般式（Ｘ）で表されるものも好ましい。
【００５４】
【化３１】

（ここで式中、Ｍは周期律表第４または第５族の遷移金属原子を示し、ｍおよびｎは１〜６の整数を示し、Ｒ１およびＲ１５は、炭化水素基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、エステル基、チオエステル基、スルフォンエステル基またはヒドロキシ基を示し、Ｒ２〜Ｒ５、Ｒ８〜Ｒ１５は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、エステル基、チオエステル基、アミド基、イミド基、アミノ基、イミノ基、スルホンエステル基、スルホンアミド基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、メルカプト基またはヒドロキシ基を示し、Ｒ６は、ハロゲン原子、炭化水素基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、チオエステル基、アミド基、イミド基、アミノ基、イミノ基、スルホンエステル基、スルホンアミド基またはシアノ基を示し、Ｒ１からＲ１５のうち２個以上が互いに連結して環を形成していてもよく、ｍまたはｎが２以上の場合は、Ｒ１〜Ｒ６およびＲ８〜Ｒ１５で示される基のうち２個以上が互いに連結されていてもよく（但し、Ｒ１同士およびＲ１５同士が結合されることはない）、ｌはＭの価数を満たす数であり、Ｘは、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、ｌが２以上の場合は、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される複数の基は互いに結合して環を形成していてもよい。）
また、前記遷移金属化合物は、下記一般式（Ｘ−ａ）で表されるものが更に好ましい。
【００５５】
【化３２】

（ここで式中、Ｍは周期律表第４または第５族の遷移金属原子を示し、ｍおよびｎは１〜６の整数を示し、Ｒ１〜Ｒ５およびＲ８〜Ｒ１５は互いに同一でも異なっていてもよく、炭化水素基、アルコキシ基または炭化水素置換シリル基を示し、Ｒ６は、ハロゲン原子、炭化水素基、炭化水素置換シリル基、アルコキシ基、アルキルチオ基またシアノ基を示し、Ｒ１からＲ１２のうち２個以上が互いに連結して環を形成していてもよく、ｍまたはｎが２以上の場合は、Ｒ１〜Ｒ６およびＲ８〜Ｒ１５で示される基のうち２個以上が互いに連結されていてもよく（但し、Ｒ１同士およびＲ１５同士が結合されることはない）、ｌはＭの価数を満たす数であり、Ｘは、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ハロゲン現有基またはケイ素含有基を示し、ｌが２以上の場合は、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される複数の基は互いに結合して環を形成してもよい。）
【００５６】
本発明に係わる新規な遷移金属化合物としては、下記一般式（ＸＩ）で表されるものも好ましい。
【００５７】
【化３３】

（ここで式中、Ｍは周期律表第４または第５族の遷移金属原子を示し、ｍおよびｎは１〜６の整数を示し、Ｒ１は、炭化水素基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、エステル基、チオエステル基、スルフォンエステル基またはヒドロキシ基を示し、Ｒ２〜Ｒ５、Ｒ１５〜Ｒ１９は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、エステル基、チオエステル基、アミド基、イミド基、アミノ基、イミノ基、スルホンエステル基、スルホンアミド基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、メルカプト基またはヒドロキシ基を示し、Ｒ６は、ハロゲン原子、炭化水素基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、チオエステル基、アミド基、イミド基、アミノ基、イミノ基、スルホンエステル基、スルホンアミド基またはシアノ基を示し、Ｒ１からＲ１９のうち２個以上が互いに連結して環を形成していてもよく、ｍまたはｎが２以上の場合は、Ｒ１〜Ｒ６およびＲ１５〜Ｒ１９で示される基のうち２個以上が互いに連結されていてもよく（但し、Ｒ１同士が結合されることはない）、ｌはＭの価数を満たす数であり、Ｘは、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、ｌが２以上の場合は、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される複数の基は互いに結合して環を形成していてもよい。）
【００５８】
また、前記遷移金属化合物は、下記一般式（ＸＩ−ａ）で表されるものが更に好ましい。
【００５９】
【化３４】

（ここで式中、Ｍは周期律表第４または第５族の遷移金属原子を示し、ｍおよびｎは１〜６の整数を示し、Ｒ１〜Ｒ５およびＲ１５〜Ｒ１９は互いに同一でも異なっていてもよく、炭化水素基、アルコキシ基または炭化水素置換シリル基を示し、Ｒ６は、ハロゲン原子、炭化水素基、炭化水素置換シリル基、アルコキシ基、アルキルチオ基またシアノ基を示し、Ｒ１からＲ１９のうち２個以上が互いに連結して環を形成していてもよく、ｍまたはｎが２以上の場合は、Ｒ１〜Ｒ６およびＲ１５〜Ｒ１９で示される基のうち２個以上が互いに連結されていてもよく（但し、Ｒ１同士が結合されることはない）、ｌはＭの価数を満たす数であり、Ｘは、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ハロゲン現有基またはケイ素含有基を示し、ｌが２以上の場合は、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される複数の基は互いに結合して環を形成してもよい。）
さらに本発明に係わる、オレフィン重合体は、オレフィンがプロピレンおよび／またはエチレン、１−ブテンであることが好ましい。
【００６０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明における新規な遷移金属化合物、それを用いたオレフィン重合用触媒及びこの触媒を用いたオレフィンの重合方法について発明の実施の形態に即して具体的に説明する。
なお、本明細書において「重合」という語は、単独重合だけでなく、共重合をも包含した意味で用いられることがあり、「重合体」という語は、単独重合体だけでなく、共重合体をも包含した意味で用いられることがある。
【００６１】
（遷移金属化合物及びオレフィン重合用触媒）
第１のオレフィン重合用触媒
本発明に係わる第１のオレフィン重合用触媒は、（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される遷移金属化合物と、（Ｂ）（Ｂ−１）有機金属化合物、（Ｂ−２）活性化化合物から選ばれる少なくとも一種の化合物とから形成されている。
まず、本発明のオレフィン重合用触媒を形成する各触媒成分について説明する。
【００６２】
（Ａ）遷移金属化合物
本発明で用いられる遷移金属化合物は一般式Ｋ_ｍＭＸ_ｌＬ_ｎで表される。
式中、Ｋ_ｍは下記式（Ｉ）で表される。Ｌ_ｎは下記式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）または（ＩＶ）で表される配位子のうちから選ばれる少なくとも１つの配位子を示す。
【００６３】
【化３５】

（式中、ＭＸ_ｌは前記式中のＭＸ_ｌを示す）
【００６４】
【化３６】

（式中、ＭＸ_ｌは前記式中のＭＸ_ｌを示す）
【００６５】
【化３７】

（式中、ＭＸ_ｌは前記式中のＭＸ_ｌを示す）
【００６６】
【化３８】

（式中、ＭＸ_ｌは前記式中のＭＸ_ｌを示す）
【００６７】
Ｅは、イオウ原子、セレン原子または窒素原子を示し、
Ｄは、窒素原子、結合基Ｒ２を有する炭素原子、または結合基Ｒ２を有していてもよいリン原子を示し、
Ｇは、窒素原子、結合基Ｒ８を有する炭素原子、または結合基Ｒ８を有していてもよいリン原子を示し、
Ｊは、窒素原子、結合基Ｒ９を有する炭素原子、または結合基Ｒ９を有していてもよいリン原子を示し、
Ｑは、窒素原子、結合基Ｒ１０を有する炭素原子、または結合基Ｒ１０を有していてもよいリン原子を示し、
Ｔは、窒素原子、結合基Ｒ１１を有する炭素原子、または結合基Ｒ１１を有していてもよいリン原子を示し、
Ｙは、窒素原子、結合基Ｒ１３を有する炭素原子、または結合基Ｒ１３を有していてもよいリン原子を示し、
Ｕは、窒素原子、結合基Ｒ１４を有する炭素原子、または結合基Ｒ１４を有していてもよいリン原子を示し、
Ｎは窒素原子を示し、
ｍおよびｎは１〜６の整数を示し、
Ａは、酸素原子、イオウ原子、セレン原子または結合基Ｒ７を有する窒素原子を示し、
Ｒ１からＲ１９は、互いに同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、これらのうちの２個以上が互いに連結して環を形成してもよく、
また、ｍが２以上のとき、Ｋは互いに同一でも異なっていてもよく、１つのＫが有するＲ１〜Ｒ７のうちの少なくとも１つが、他のＫが有するＲ１〜Ｒ７のうちの少なくとも１つと連結していてもよい。また、ｎが２以上のとき、Ｌは互いに同一でも異なっていてもよく、１つのＬが有するＲ８〜Ｒ１９のうちの少なくとも１つが、他のＬが有するＲ８〜Ｒ１９のうちの少なくとも１つと連結していてもよい。
【００６８】
ｌはＭの原子価を満たす数であり、
Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、ｌが２以上の場合は、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される複数の基は互いに結合して環を形成していてもよい。
【００６９】
式中、Ｍは周期律表第３〜１１族の遷移金属原子（３族にはランタノイドも含まれる）を示し、好ましくは３〜９族（３族にはランタノイドも含まれる）の金属原子であり、より好ましくは３〜５族及び９族の金属原子であり、特に好ましくは４族または５族の金属原子である。具体的には、スカンジウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、コバルト、ロジウム、イットリウム、クロム、モリブテン、タングステン、マンガン、レニウム、鉄、ルテニウムなどであり、好ましくは、スカンジウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、コバルト、ロジウムなどであり、より好ましくは、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、コバルト、ロジウム、バナジウム、ニオブ、タンタルなどであり、特に好ましくは、チタン、ジルコニウム、ハフニウムである。
【００７０】
ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。炭化水素基として具体的には、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ネオペンチル、ｎ−ヘキシルなどの炭素原子数が１〜３０、好ましくは１〜２０の直鎖状または分岐状のアルキル基；ビニル、アリル、イソプロペニルなどの炭素原子数が１〜３０、好ましくは２〜２０の直鎖状または分岐状のアルケニル基；エチニル、プロパギルなど炭素原子数が２〜３０、好ましくは２〜２０の直鎖状または分岐状のアルキニル基；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、アダマンチルなどの炭素原子数が３〜３０、好ましくは３〜２０の環状飽和炭化水素基；シクロペンタジエニル、インデニル、フルオレニルなどの炭素原子数が５〜３０の環状不飽和炭化水素基；フェニル、ベンジル、ナフチル、ビフェニル、ターフェニル、フェナントリル、アントラセニルなどの炭素原子数が６〜３０、好ましくは６〜２０のアリール基；トリル、ｉｓｏ−プロピルフェニル、ｔ−ブチルフェニル、ジメチルフェニル、ジ−ｔ−ブチルフェニルなどのアルキル置換アリール基などが挙げられる。
【００７１】
上記炭化水素基は、水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよく、例えばトリフロオロメチル、ペンタフルオロフェニル、クロロフェニルなどの炭素原子数１〜３０、好ましくは１〜２０のハロゲン化炭化水素基が挙げられる。
【００７２】
また、上記炭化水素基は、他の炭化水素基で置換されていてもよく、たとえば、ベンジル、クミルなどのアリール基置換アルキル基などが挙げられる。さらにまた、上記炭化水素基は、ヘテロ環式化合物残基；アルコキシ基、アリーロキシ基、エステル基、エーテル基、アシル基、カルボキシル基、カルボナート基、ヒドロキシ基、ペルオキシ基、カルボン酸無水物などの酸素含有基；アミノ基、イミノ基、アミド基、イミド基、ヒドラジノ基、ヒドラゾノ基、ニトロ基、ニトロソ基、シアノ基、イソシアノ基、シアン酸エステル基、アミジノ基、ジアゾ基、アミノ基かアンモニウム塩となたものなどの窒素含有化合物；ボランジイル基、ボラントリイル基、ジボラニル基などのホウ素含有基；メルカプト基、チオエステル基、ジチオエステル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、チオアシル基、チオエーテル基、チオシアン酸エステル基、イソシアン酸エステル基、スルホンエステル基、スルホンアミド基、チオカルボキシル基、ジチオカルボキシル基、スルホ基、スルホニル基、スルフィニル基、スルフェニル基などのイオウ含有化合物；ホスフィド基、ホスフォリル基、チオホスフォリル基、ホスファイト基などのリン含有化合物；ケイ素含有化合物、ゲルマニウム含有化合物、またはスズ含有基を有していてもよい。
【００７３】
これらのうち、特に、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ネオペンチル、ｎ−ヘキシルなどの炭素原子数１〜３０、好ましくは１〜２０の直鎖状または分岐状のアルキル基；フェニル、ナフチル、ビフェニル、ターフェニル、フェナントリル、アントラセニルなどの炭素原子数６〜３０、好ましくは６〜２０のアリール基；これらののアリール基にハロゲン原子、炭素原子数１〜３０、好ましくは１〜２０ののアルキル基またはアルコキシ基、炭素原子数６〜３０、好ましくは６〜２０のアリール基またはアリーロキシ基などの置換基が１〜５個置換した置換アリール基などが好ましい。
【００７４】
酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基としては、上記例示したものと同様なものが挙げられる。ヘテロ環式化合物残基としては、ピロール、ピリジン、ピリミジン、キノリン、トリアジンなどの含窒素化合物、フラン、ピランなどの含酸素化合物、チオフェンなどの含硫黄化合物などの残基、およびこれらのヘテロ環式化合物残基に炭素原子数が１〜３０、好ましくは１〜２０のアルキル基、アルコキシ基などの置換基がさらに置換した基などが挙げられる。
【００７５】
ケイ素含有基としては、シリル基、シロキシ基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基など、具体的には、メチルシリル、ジメチルシリル、トリメチルシリル、エチルシリル、ジエチルシリル、トリエチルシリル、ジフェニルメチルシリル、トリフェニルシリル、ジメチルフェニルシリル、ジメチル−ｔ−ブチルシリル、ジメチル（ペンタフルオロフェニル）シリルなどが挙げられる。これらの中では、メチルシリル、ジメチルシリル、トリメチルシリル、エチルシリル、ジエチルシリル、トリエチルシリル、ジメチルフェニルシリル、トリフェニルシリルなどが好ましい。特にトリメチルシリル、トリエチルシリル、トリフェニルシリル、ジメチルフェニルシリルが好ましい。炭化水素置換シロキシ基として具体的には、トリメチルシロキシなどが挙げられる。
ゲルマニウム含有基およびスズ含有基としては、前記ケイ素含有基のケイ素をゲルマニウムおよびスズに置換したものが挙げられる。
【００７６】
次に上記で説明したＲ１からＲ１９の例についてより具体的に説明する。
アルコキシ基として具体的には、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシなどが挙げられる。アリキルチオ基として具体的には、メチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。
【００７７】
アリーロキシ基として具体的には、フェノキシ、２，６−ジメチルフェノキシ、２，４，６，−トリメチルフェノキシなどが挙げられる。アリールチオ基として具体的には、フェニルチオ、メチルフェニルチオ、ナフチルチオなどが挙げられる。
【００７８】
アシル基として具体的には、フォルミル基、アセチル基、ベンゾイル基、ｐ−クロロベンゾイル基、ｐ−メトキシベンゾイル基などが挙げられる。エステル基として具体的には、アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ、メトキシカルボニル、フェノキシカルボニル、ｐ−クロロフェノキシカルボニルなどが挙げられる。
【００７９】
チオエステル基として具体的には、アセチルチオ、ベンゾイルチオ、、メチルチオカルボニル、フェニルチオカルボニルなどが挙げられる。アミド基として具体的には、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ−メチルベンズアミドなどが挙げられる。
【００８０】
イミド基として具体的には、アセトイミド、ベンズイミドなどが挙げられる。アミノ基として具体的には、ジメチルアミノ、エチルメチルアミノ、ジフェニルアミノなどが挙げられる。
【００８１】
イミノ基として具体的には、メチルイミノ、エチルイミノ、プロピルイミノ、ブチルイミノ、フェニルイミノなどが挙げられる。スルフォンエステル基として具体的には、スルフォン酸メチル、スルフォン酸エチル、スルフォン酸フェニルなどが挙げられる。
【００８２】
スルフォンアミド基として具体的には、フェニルスルフォンアミド、Ｎ−メチルスルフォンアミド、Ｎ−メチル−ｐ−トルエンスルフォンアミドなどが挙げられる。なお、Ｒ６は水素以外の置換基であることが好ましい。すなわちＲ６は、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基またはスズ含有基が好ましい。特にＲ６は、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、アシル基、エステル基、チオエステル基、アミド基、アミノ基、イミド基、イミノ基、スルフォンエステル基、スルフォンアミド基、シアノ基、ニトロ基またはヒドロキシ基であることが好ましい。
【００８３】
Ｒ６として好ましい炭化水素基としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ネオペンチル、ｎ−ヘキシルなどの炭素原子数が１〜３０、好ましくは１〜２０の直鎖状または分岐状のアルキル基；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、アダマンチルなどの炭素原子数が３〜３０、好ましくは３〜２０の環状飽和炭化水素基；フェニル、ベンジル、ナフチル、ビフェニル、トリフェニルなどの炭素原子数が６〜３０、好ましくは６〜２０のアリール基；および、これらの基に炭素原子数が１〜３０、好ましくは１〜２０のアルキル基またはアルコキシ基、炭素原子数が１〜３０、好ましくは１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素原子数が６〜３０、好ましくは６〜２０のアリール基またはアリーロキシ基、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基などの置換基がさらに置換した基などが好ましく挙げられる。
【００８４】
Ｒ６として好ましい炭化水素置換シリル基としては、メチルシリル、ジメチルシリル、トリメチルシリル、エチルシリル、ジエチルシリル、トリエチルシリル、ジフェニルメチルシリル、トリフェニルシリル、ジメチルフェニルシリル、ジメチル−ｔ−ブチルシリル、ジメチル（ペンタフルオロフェニル）シリルなどが挙げられる。特に好ましくは、トリメチルシリル、トリエチルフェニル、ジフェニルメチルシリル、イソフェニルシリル、ジメチルフェニルシリル、ジメチル−ｔ−ブチルシリル、ジメチル（ペンタフルオロフェニル）シリルなどが挙げられる。
【００８５】
本発明では、Ｒ６としては特に、イソプロピル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ネオペンチルなどの炭素原子数が３〜３０、好ましくは３〜２０の分岐状アルキル基、及びこれらの基の水素原子を炭素原子数が６〜３０、好ましくは６〜２０のアリール基で置換した基（クミル基など）、アダマンチル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどの炭素原子数が３〜３０、好ましくは３〜２０の環状飽和炭化水素基から選ばれる基であることが好ましく、あるいはフェニル、ナフチル、フルオレニル、アントラニル、フェナントリルなどの炭素原子数６〜３０、好ましくは６〜２０のアリール基、または炭化水素置換シリル基であることも好ましい。
【００８６】
Ｒ１〜Ｒ１９は、これらのうちの２個以上の基、好ましくは隣接する基が互いに連結して脂肪環、芳香族環または、窒素原子などの異原子を含む炭化水素環を形成していてもよく、これらの環はさらに置換基を有していてもよい。
また、ｍまたはｎが２以上の場合には、Ｒ１〜Ｒ７、およびＲ８〜Ｒ１９で示される基のうち２個以上の基が連結されていてもよい。ただし、Ｒ１およびＲ１１同士は結合されることはない。さらに、ｍまたはｎが２以上の場合には、Ｒ１同士、Ｒ２同士、Ｒ３同士、Ｒ４同士、Ｒ５同士、Ｒ６同士、Ｒ７同士、Ｒ８同士、Ｒ９同士、Ｒ１０同士、Ｒ１１同士、Ｒ１２同士、Ｒ１３同士、Ｒ１４同士、Ｒ１５同士、Ｒ１６同士、Ｒ１７同士、Ｒ１８同士、Ｒ１９同士は、互いに同じであっても異なっていてもよい。
【００８７】
ｌは、Ｍの原子価を満たす数であり、具体的には０〜５、好ましくは１〜４、より好ましくは１〜３の整数である。Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示す。なおｌが２以上の場合には、互いに同一であっても、異なっていてもよい。
【００８８】
ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。炭化水素基としては前記Ｒ１〜Ｒ１９で例示したものと同様のものが挙げられる。具体的には、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシル、アイコシルなどのアルキル基；シクロペンチル、シクロヘキシル、ノルボニル、アダマンチルなどの炭素原子数が３〜３０のシクロアルキル基；ビニル、プロペニル、シクロヘキセニル、などのアルケニル基；ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピルなどのアリールアルキル基；フェニル、トリル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、エチルフェニル、プロピルフェニル、ビフェニル、ナフチル、メチルナフチル、アントリル、フェナントリルなどのアリール基などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、これらの炭化水素基には、ハロゲン化炭化水素、具体的には炭素原子数１〜２０の炭化水素基の少なくとも一つの水素がハロゲンに置換した基も含まれる。
【００８９】
これらのうち、炭素原子数が１〜２０のものが好ましい。ヘテロ環式化合物残基としては、前記Ｒ１〜Ｒ１９で例示したものと同様のものが挙げられる。
【００９０】
酸素含有基としては、前記Ｒ１〜Ｒ１９で例示したものと同様のものが挙げられ、具体的には、ヒドロキシ基；メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシなどのアルコキシ基；フェノキシ、メチルフェノキシ、ジメチルフェノキシ、ナフトキシなどのアリーロキシ基；フェニルメトキシ、フェニルエトキシ等のアリールアルコキシ基；アセトキシ基；カルボニル基などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００９１】
イオウ含有基としては、前記Ｒ１〜Ｒ１１で例示したものと同様のものが挙げられ、具体的には、メチルスルフォネート、トリフルオロメタンスルフォネート、フェニルスルフォネート、ベンジルスルフォネート、ｐ−トルエンスルフォネート、トリメチルベンゼンスルフォネート、トリイソブチルベンゼンスルフォネート、ｐ−クロルベンゼンスルフォネート、ペンタフルオロベンゼンスルフォネートなどのスルフォネート基；メチルスルフィネート、フェニルスルフィネート、ベンジルスルフィネート、ｐ−トルエンスルフィネート、トリメチルベンゼンスルフィネート、ペンタフルオロベンゼンスルフィネートなどのスルフィネート基；アルキルチオ基；アリールチオ基などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００９２】
窒素含有基として具体的には、前記Ｒ１〜Ｒ１９で例示したものと同様のものが挙げられ、具体的には、アミノ基；メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ジシクロヘキシルアミノなどのアミノアルキル基；フェニルアミノ、ジフェニルアミノ、ジトリルアミノ、ジナフチルアミノ、メチルフェニルアミノなどのアリールアミノ基またはアルキルアリールアミノ基などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００９３】
ホウ素含有基として具体的には、ＢＲ_４（Ｒは水素、アルキル基、置換基を有してもよいアリール基、ハロゲン原子などを示す）が挙げられる。リン含有基として具体的には、トリメチルフォスフィン、トリブチルフォスフィン、トリシクロヘキシルフォスフィンなどのトリアルキルフォスフィン基；トリフェニルフォスフィン、トリトリルフォスフィンなどのトリアリールフォスフィン基；メチルフォスファイト、エチルフォスファイト、フェニルフォスファイトなどのフォスファイト基（フォスフィド基）；フォスフォン酸基；フォスフィン酸基などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００９４】
ケイ素含有基として具体的には、前記Ｒ１〜Ｒ１９で例示したものと同様のものが挙げられ、具体的には、フェニルシリル、ジフェニルシリル、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリプロピルシリル、とりシクロヘキシルシリル、トリフェニルシリル、メチルジフェニルシリル、トリトリルシリル、トリナフチルシリルなどの炭化水素置換チリル基；トリメチルシリルエーテルなどの炭化水素置換シリルエーテル基；トリメチルシルメチルなどのケイ素置換アルキル基；トリメチルシリルフェニルなどのケイ素置換アリール基などが挙げられる。
【００９５】
ゲルマニウム含有基として具体的には、前記Ｒ１〜Ｒ１９で例示したものと同様のものが挙げられ、具体的には、前記ケイ素含有基のケイ素をゲルマニウムに置換した基が挙げられる。
【００９６】
スズ含有基として具体的には、前記Ｒ１〜Ｒ１９で例示したものと同様のものがあげられ、より具体的には、前記ケイ素含有基のケイ素をスズに置換した基が挙げられる。
【００９７】
ハロゲン含有基として具体的には、ＰＦ_６、ＢＦ_４などのフッ素含有基、ＣｌＯ_４、ＳｂＣｌ_６などの塩素含有基、ＩＯ_４などのヨウ素含有基などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００９８】
アルミニウム含有基として具体的には、ＡｌＲ_４（Ｒは水素、アルキル基、置換基を有してもよいアリール基、ハロゲン原子などを示す）が挙げられるが、これら仁限定されるものではない。
【００９９】
なお、ｌが２以上の場合は、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される複数の基は互いに結合して缶を形成してもよい。
【０１００】
遷移金属化合物（ＩＩ −ａ）
このような式Ｋ_ｍＭＸ_ｌＬ_ｎで表される遷移金属化合物としては、下記一般式（ＩＩ−ａ）で表される化合物が好ましい。
【０１０１】
【化３９】

【０１０２】
式（ＩＩ−ａ）中、Ｍは周期律表第３〜１１族の遷移金属化合物を示し、前記と同様のものが挙げられる。ｍおよびｎは、１〜３の整数であり、好ましくはｍおよびｎは１である。Ａは、酸素原子、イオウ原子、または結合基−Ｒ７を有する窒素原子を示し、好ましくは、酸素原子、または結合基−Ｒ７を有する窒素原子である。Ｄは、置換基Ｒ２を有する炭素原子、または窒素原子を示し、好ましくは、置換基Ｒ２を有する炭素原子である。
【０１０３】
Ｅは、イオウ原子、セレン原子または窒素原子を示し、Ｇは、置換基Ｒ８を有する炭素原子、窒素原子またはリン原子を示し、Ｊは、置換基Ｒ９を有する炭素原子、窒素原子またはリン原子を示し、Ｑは、置換基Ｒ１０を有する炭素原子、窒素原子またはリン原子を示し、Ｔは、置換基Ｒ１１を有する炭素原子、窒素原子またはリン原子を示し、好ましくは、Ｅは、イオウ原子、または窒素原子を示し、Ｇは、置換基Ｒ８を有する炭素原子、または窒素原子を示し、Ｊは、置換基Ｒ９を有する炭素原子、または窒素原子を示し、Ｑは、置換基Ｒ１０を有する炭素原子、または窒素原子を示し、Ｔは、置換基Ｒ１１を有する炭素原子、または窒素原子を示し、より好ましくは、Ｅは、窒素原子を示し、Ｇは、置換基Ｒ８を有する炭素原子を示し、Ｊは、置換基Ｒ９を有する炭素原子を示し、Ｑは、置換基Ｒ１０を有する炭素原子を示し、Ｔは、置換基Ｒ１１を有する炭素原子を示す。
【０１０４】
Ｒ１〜Ｒ１２は、互いに同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、アシル基、エステル基、チオエステル基、アミド基、イミド基、アミノ基、イミノ基、スルホンエステル基、スルホンアミド基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、メルカプト基またはヒドロキシル基を示し、これらのうち２個以上が互いに連結して環を形成していてもよい。こられの基としては前記と同様なものが挙げられる。
【０１０５】
なお、ｍまたはｎが２以上の場合には、Ｒ１〜Ｒ７、およびＲ８〜Ｒ１２で示される基のうち２個以上の基が連結されていてもよい。ただし、Ｒ１およびＲ１２同士は結合されることはない。ｌはＭの価数を満たす数であり、具体的には、０〜５、好ましくは１〜４、より好ましくは１〜３の整数である。
【０１０６】
Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、具体的には前記と同様のものが挙げられる。
【０１０７】
なお、ｌが２以上の場合は、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される複数の基は互いに結合して環を形成してもよい。このような遷移金属化合物として、特に下記一般式（ＩＩ−ａ−１）で示される化合物が好ましい。
【０１０８】
【化４０】

【０１０９】
式（ＩＩ−ａ−１）中、Ｒ１〜Ｒ１２、ＭおよびＸとしては前記と同様のものが挙げられるが、特に以下のものが好ましい。
Ｍは周期律表第３〜１１族の遷移金属原子を示し、好ましくは３〜５族及び９族の金属原子であり、好ましくは、スカンジウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、コバルト、ロジウムなどであり、より好ましくは、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、コバルト、ロジウムなどであり、特に好ましくは、チタン、ジルコニウム、ハフニウムである。
【０１１０】
ｍおよびｎは、１〜３の整数である。Ｒ１〜Ｒ１２は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、チオエステル基、エステル基、アシル基、アミド基、イミド基、アミノ基、イミノ基、スルフォンエステル基、スルフォンアミド基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシル基などを示す。これらの中では特に、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、炭化水素置換シリル基、アルコキシル基、アリーロキシ基、エステル基、アミド基、アミノ基、スルフォンアミド基、シアノ基またはニトロ基が好ましい。
【０１１１】
ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。炭化水素基として具体的には、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ネオペンチル、ヘキシルなどの炭素原子数が１〜２０の直鎖状または分岐状のアルキル基；ビニル、アリル、イソプロペニルなどの炭素原子数が２〜２０の直鎖状または分岐状のアルケニル基；エチニル、プロパギルなど炭素原子数が２〜２０の直鎖状または分岐状のアルキニル基；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、アダマンチルなどの炭素原子数が３〜２０の環状飽和炭化水素基；フェニル、ベンジル、ナフチル、ビフェニル、トリフェニルなどの炭素原子数が６〜２０のアリール基；シクロペンタジエニル、インデニル、フルオレニルなどの炭素原子数が５〜２０の環状不飽和炭化水素基；および、これらの基に炭素原子数が１〜２０のアルキル基、炭素原子数が１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素原子数が６〜２０のアリール基、炭素原子数が１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数が６〜２０のアリーロキシ基、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基などの置換基がさらに置換した基などが挙げられる。これらの中では特に、
メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシルなどの炭素原子数が１〜２０の直鎖もしくは分岐状のアルキル基；フェニル、ナフチルなどの炭素原子数が６〜２０のアリール基；これらのアリール基に前記炭素原子数が１〜２０のアルキル基、炭素原子数が６〜２０のアリール基、炭素原子数が１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数が６〜２０のアリーロキシ基などの置換基が１〜５個置換した置換アリール基などが好ましい。
【０１１２】
ヘテロ環式化合物残基としては、ピロール、ピリジン、ピリミジン、キノリン、トリアジンなどの含窒素化合物、フラン、ピランなどの含酸素化合物、チオフェンなどの含硫黄化合物などの残基、及びこれらのヘテロ環式化合物残基に炭素原子数が１〜２０のアルキル基、アルコキシ基などの置換基がさらに置換した基などが挙げられる。
【０１１３】
炭化水素置換シリル基として具体的には、メチルシリル、ジメチルシリル、トリメチルシリル、エチルシリル、ジエチルシリル、トリエチルシリル、ジフェニルメチルシリル、トリフェニルシリル、ジメチルフェニルシリル、ジメチル−ｔ−ブチルシリル、ジメチル（ペンタフルオロフェニル）シリルなどが挙げられる。これらの中では特に、メチルシリル、ジメチルシリル、トリメチルシリル、エチルシリル、ジエチルシリル、トリエチルシリル、トリフェニルシリルなどが好ましい。
【０１１４】
炭化水素置換シロキシ基として具体的には、トリメチルシロキシなどが挙げられる。アルコキシ基として具体的には、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシなどが挙げられる。
【０１１５】
アリキルチオ基として具体的には、メチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。アリーロキシ基として具体的には、フェノキシ、２，６−ジメチルフェノキシ、２，４，６−トリメチルフェノキシなどが挙げられる。
【０１１６】
アリールチオ基として具体的には、フェニルチオ、メチルフェニルチオ、ナフチルチオなどが挙げられる。アシル基として具体的には、フォルミル基、アセチル基、ベンゾイル基、ｐ−クロロベンゾイル基、ｐ−メトキシベンゾイル基などが挙げられる。
【０１１７】
エステル基として具体的には、アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ、メトキシカルボニル、フェノキシカルボニル、ｐ−クロロフェノキシカルボニルなどが挙げられる。
【０１１８】
チオエステル基として具体的には、アセチルチオ、ベンゾイルチオ、メチルチオカルボニル、フェニルチオカルボニルなどが挙げられる。アミド基として具体的には、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ−メチルベンズアミドなどが挙げられる。
【０１１９】
イミド基として具体的には、アセトイミド、ベンズイミドなどが挙げられる。アミノ基として具体的には、ジメチルアミノ、エチルメチルアミノ、ジフェニルアミノなどが挙げられる。
【０１２０】
イミノ基として具体的には、メチルイミノ、エチルイミノ、プロピルイミノ、ブチルイミノ、フェニルイミノなどが挙げられる。スルフォンエステル基として具体的には、スルフォン酸メチル、スルフォン酸エチル、スルフォン酸フェニルなどが挙げられる。
【０１２１】
スルフォンアミド基として具体的には、フェニルスルフォンアミド、Ｎ−メチルスルフォンアミド、Ｎ−メチル−ｐ−トルエンスルフォンアミドなどが挙げられる。なお、Ｒ６は水素以外の置換基であることが好ましい。すなわちＲ６は、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、炭化水素置換シリル基。炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、アシル基、エステル基、チオエステル基、アミド基、アミノ基、イミド基、イミノ基、スルフォンエステル基、スルフォンアミド基、シアノ基、ニトロ基またはヒドロキシ基であることが好ましい。
【０１２２】
Ｒ６として好ましい炭化水素基としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ネオペンチル、ｎ−ヘキシルなどの炭素原子数が１〜２０の直鎖状または分岐状のアルキル基；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、アダマンチルなどの炭素原子数が３〜２０の環状飽和炭化水素基；フェニル、ベンジル、ナフチル、ビフェニル、トリフェニルなどの炭素原子数が６〜２０のアリール基；および、これらの基に炭素原子数が１〜２０のアルキル基、炭素原子数が１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素原子数が６〜２０のアリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基などの置換基がさらに置換した基などが好ましく挙げられる。
【０１２３】
Ｒ６として好ましい炭化水素置換シリル基としては、メチルシリル、ジメチルシリル、トリメチルシリル、エチルシリル、ジエチルシリル、トリエチルシリル、ジフェニルメチルシリル、トリフェニルシリル、ジメチルフェニルシリル、ジメチル−ｔ−ブチルシリル、ジメチル（ペンタフルオロフェニル）シリルなどが挙げられる。
【０１２４】
本発明では、Ｒ６としては特に、イソプロピル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチルなどの炭素原子数が３〜２０の分岐状アルキル基、およびこれらの基の水素原子を炭素原子数が６〜２０のアリール基で置換した基（クミル基など）、アダマンチル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどの炭素原子数が３〜２０の環状飽和炭化水素基から選ばれる基であることが好ましく、あるいは炭化水素置換シリル基であることも好ましい。
【０１２５】
Ｒ１〜Ｒ１２は、これらのうちの２個以上の基、好ましくは隣接する基が互いに連結して脂肪環、芳香族環または、窒素原子などの異原子を含む炭化水素環を形成していてもよく、これらの環はさらに置換基を有していてもよい。
【０１２６】
また、ｍまたはｎが２以上の場合には、Ｒ１〜Ｒ７、およびＲ８〜Ｒ１２で示される基のうち２個以上の基が連結されていてもよい。ただし、Ｒ１およびＲ１２同士は結合されることはない。さらに、ｍまたはｎが２以上の場合には、Ｒ１同士、Ｒ２同士、Ｒ３同士、Ｒ４同士、Ｒ５同士、Ｒ６同士、Ｒ７同士、Ｒ８同士、Ｒ９同士、Ｒ１０同士、Ｒ１１同士、Ｒ１２同士は、互いに同一であっても異なっていてもよい。
【０１２７】
ｌは、Ｍの原子価を満たす数であり、具体的には１〜３の整数である。Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、ケイ素含有基などを示し、ｌが２以上の場合には、互いに同一であっても、異なっていてもよい。
【０１２８】
ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。炭素原子数が１〜２０の炭化水素基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリールアルキル基、アリール基などが挙げられる。より具体的には、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシル、アイコシルなどのアルキル基；シクロペンチル、シクロヘキシル、ノルボニル、アダマンチルなどのシクロアルキル基；ビニル、プロペニル、シクロヘキセニルなどのアルケニル基；ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピルなどのアリールアルキル基；フェニル、トリル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、エチルフェニル、プロピルフェニル、ビフェニル、ナフチル、メチルナフチル、アントリル、フェナントリルなどのアリール基などが挙げられる。
【０１２９】
炭素原子数が１〜２０のハロゲン化炭化水素基としては、前記炭素原子数が１〜２０の炭化水素基にハロゲンが置換した基が挙げられる。酸素含有基としては、ヒドロキシ基；メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシなどのアルコキシ基；フェノキシ、メチルフェノキシ、ジメチルフェノキシ、ナフトキシなどのアリーロキシ基；フェニルメトキシ、フェニルエトキシなどのアリールアルコキシ基などが挙げられる。
【０１３０】
イオウ含有基としては、前記酸素含有基の酸素がイオウに置換した置換基、ならびに、メチルスルフォネート、トリフルオロメタンスルフォネート、フェニルスルフォネート、ベンジルスルフォネート、ｐ−トルエンスルフォネート、トリメチルベンゼンスルフォネート、トリイソブチルベンゼンスルフォネート、ｐ−クロルベンゼンスルフォネート、ペンタフルオロベンゼンスルフォネートなどのスルフォネート基；メチルスルフィネート、フェニルスルフィネート、ベンジルスルフィネート、ｐ−トルエンスルフィネート、トリメチルベンゼンスルフィネート、ペンタフルオロベンゼンスルフィネートなどのスルフィネート基などが挙げられる。
【０１３１】
ケイ素含有基としては、メチルシリル、フェニルシリルなどのモノ炭化水素置換シリル基；ジメチルシリル、ジフェニルシリルなどのジ炭化水素置換シリル基；トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリプロピルシリル、トリシクロヘキシルシリル、トリフェニルシリル、ジメチルフェニルシリル、メチルジフェニルシリル、トリトリルシリル、トリナフチルシリルなどのトリ炭化水素置換シリル基；トリメチルシリルエーテルなどの炭化水素置換シリルのシリルエーテル基；トリメチルシリルメチルなどのケイ素置換アルキル基；トリメチルシリルフェニルなどのケイ素置換アリール基などが挙げられる。
【０１３２】
Ｘで示される基としては、これらのうち、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜２０の炭化水素基またはスルフォネート基であることが好ましい。またｌが２以上の場合は、Ｘで示される基は互いに同一でも異なっていてもよく、あるいは互いに連結して環を形成していてもよい。
【０１３３】
以下に、上記一般式（ＩＩ−ａ−１）で表される遷移金属化合物の具体的な例を示すが、これらに限定されるものではない。なお、下記具体例においてＭは遷移金属元素であり、個々には、Ｓｃ（ＩＩＩ）、Ｔｉ（ＩＩＩ）、Ｔｉ（ＩＶ）、Ｚｒ（ＩＩＩ）、Ｚｒ（ＩＶ）、Ｈｆ（ＩＶ）、Ｖ（ＩＶ）、Ｎｂ（Ｖ）、Ｔａ（Ｖ）、Ｃｏ（ＩＩ）、Ｃｏ（ＩＩＩ）、Ｒｈ（ＩＩ）、Ｒｈ（ＩＩＩ）、Ｒｈ（ＩＶ）を示すが、これらに限定されるものではない。これらのなかで特に、Ｔｉ（ＩＶ）、Ｚｒ（ＩＶ）、Ｈｆ（ＩＶ）が好ましい。
【０１３４】
Ｘは、Ｃｌ、Ｂｒなどのハロゲン、もしくはメチル等のアルキル基を示すが、これらに限定されるものではない。また、Ｘが複数ある場合は、これらは同じであっても、異なっていても良い。
【０１３５】
ｎは金属Ｍの価数により決定される。例えば、２種のモノアニオン種が金属に結合している場合、２価金属ではｌ＝０、３価金属ではｌ＝１、４価金属ではｌ＝２、５価金属ではｌ＝３になる。例えば金属がＴｉ（ＩＶ）の場合は、ｌ＝２であり、Ｈｆ（ＩＶ）の場合はｌ＝２である。
【０１３６】
【化４１】

【０１３７】
【化４２】

【０１３８】
【化４３】

【０１３９】
【化４４】

【０１４０】
【化４５】

【０１４１】
【化４６】

【０１４２】
【化４７】

【０１４３】
【化４８】

【０１４４】
【化４９】

【０１４５】
【化５０】

【０１４６】
【化５１】

【０１４７】
【化５２】

【０１４８】
【化５３】

【０１４９】
【化５４】

【０１５０】
なお、上記例示中、Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル基、ｉＰｒはｉｓｏ−プロピル基、ｔｅｒｔ−Ｂｕはｔｅｒｔ−ブチル基、Ｐｈはフェニル基を示す。さらにＴｉを中心金属とする場合についてより具体的に例示すると、以下のようなものが挙げられる。また、これらの化合物においてチタンをジルコニウム、ハフニウム、コバルトまたはロジウムに置き換えた化合物も挙げられる。
【０１５１】
【化５５】

【０１５２】
【化５６】

【０１５３】
【化５７】

【０１５４】
【化５８】

【０１５５】
【化５９】

【０１５６】
【化６０】

【０１５７】
【化６１】

【０１５８】
【化６２】

【０１５９】
【化６３】

【０１６０】
【化６４】

【０１６１】
【化６５】

【０１６２】
【化６６】

【０１６３】
【化６７】

【０１６４】
【化６８】

【０１６５】
遷移金属化合物（ＩＩ −ｂ）
また、本発明では（Ａ）遷移金属化合物として、下記一般式（ＩＩ−ｂ）で表される遷移金属化合物を用いることもできる。
【０１６６】
【化６９】

【０１６７】
式（ＩＩ−ｂ）中、Ｍは周期表第３〜１１族の遷移金属原子を示し、好ましくは第３〜５族または第９族、特に好ましくは第４族または第５族の遷移金属原子であり、特にチタン、ジルコニウム、ハフニウム、コバルトまたはロジウムである。
【０１６８】
Ｒ１〜Ｒ１２は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、炭化水素置換シリル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、エステル基、アミド基、アミノ基、スルホンアミド基、シアノ基、ニトロ基を示す。これらの基のうち、特に、ハロゲン原子、炭化水素基、炭化水素置換シリル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、エステル基、アミド基、アミノ基、スルホンアミド基、シアノ基、ニトロ基が好ましい。
【０１６９】
これらの基Ｒ１〜Ｒ１２としては、前記一般式（ＩＩ−ａ）および（ＩＩ−ａ−１）で表される遷移金属化合物において例示したものと同様のものが挙げられる。また、Ｒ１〜Ｒ１２は、これらのうちの２個以上の基、好ましくは隣接する基が互いに連結して環を形成してもよい。但し、Ｒ１とＲ１２が連結されることはない。
以下に、上記一般式（ＩＩ−ｂ）で表される遷移金属化合物の具体的な例を示すが、これらに限定されるものではない。
【０１７０】
【化７０】

【０１７１】
【化７１】

【０１７２】
本発明では、上記のような化合物において、コバルト金属をチタン、ジルコニウム、ハフニウム、鉄、銅、ロジウムなどの金属に置き換えた遷移金属化合物を用いることもできる。
【０１７３】
（Ａ）成分として下記の一般式（ＩＸ）の新規な遷移金属化合物を用いることが特に好ましい。
【０１７４】
（遷移金属化合物）
本発明に係る新規な遷移金属化合物は下記一般式（ＩＸ）で表される。
【化７２】

【０１７５】
式（ＩＸ）中、Ｍは周期律表第４または５族の遷移金属原子を示し、Ｒ１およびＲ１２は、炭化水素基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、エステル基、チオエステル基、スルホンエステル基またはヒドロキシ基を示し、Ｒ２〜Ｒ１１は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、エステル基、チオエステル基、アミド基、イミド基、アミノ基、イミノ基、スルホンエステル基、スルホンアミド基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、メルカプト基またはヒドロキシ基を示し、Ｒ６は、ハロゲン原子、炭化水素基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、エステル基、チオエステル基、アミド基、イミド基、イミノ基、スルホンエステル基、スルホンアミド基またはシアノ基を示し、Ｒ１〜Ｒ１２のうちの２個以上が互いに連結して環を形成していてもよく、また、Ｒ１〜Ｒ１２で示される基のうち２個の基が連結されていてもよく（但し、Ｒ１とＲ１２が結合されることはない）、ｎは、Ｍの価数を満たす数であり、Ｘは、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、ｎが２以上の場合は、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される複数の基は互いに結合して環を形成してもよい。
【０１７６】
一般式（ＩＸ）の遷移金属化合物のうち、下記一般式（ＩＸ−ａ）で表されるものが好ましい。
【化７３】

【０１７７】
式（ＩＸ−ａ）中、Ｍは周期律表第４または５族の遷移金属原子を示し、具体的には、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブである。
Ｒ１〜Ｒ１２は、互いに同一でも異なっていてもよく、炭化水素基、アルコキシ基または炭化水素置換シリル基を示し、Ｒ６は、ハロゲン原子、炭化水素基、炭化水素置換シリル基、アルコキシ基、アルキルチオ基またはシアノ基を示し、Ｒ１〜Ｒ１２のうちの２個以上が互いに連結して環を形成していてもよく、またＲ１〜Ｒ１２で示される基のうち２個の基が連結されていてもよく（但し、Ｒ１とＲ１２が結合されることはない）、ｎは、Ｍの価数を満たす数であり、Ｘは、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ハロゲン含有基またはケイ素含有基を示し、ｎが２以上の場合は、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される複数の基は互いに結合して環を形成してもよい。これらのうち、Ｘはハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、ケイ素含有基であることが好ましい。
【０１７８】
一般式（ＩＸ−ａ）におけるＲ１〜Ｒ１２およびＸの個々の例としては、前記一般式（ＩＸ）で挙げたものと同じ基を挙げることができる。新規な遷移金属化合物としては、以下のものが例示される。
【０１７９】
【化７４】

【０１８０】
【化７５】

【０１８１】
【化７６】

【０１８２】
【化７７】

【０１８３】
【化７８】

【０１８４】
【化７９】

【０１８５】
【化８０】

【０１８６】
一般式（ＩＸ）、好ましくは一般式（ＩＸ−ａ）表される本発明に係る新規な遷移金属化合物は、たとえば、オレフィン重合用触媒として好適に用いることができる。
【０１８７】
遷移金属化合物（ＩＩＩ −ａ）
一般式Ｋ_ｍＭＸ_ｌＬ_ｎで表される遷移金属化合物としては、下記一般式（ＩＩＩ−ａ）で表される化合物が好ましい。
【０１８８】
【化８１】

【０１８９】
式（ＩＩＩ−ａ）中、Ｍは周期律表第３〜１１族の遷移金属化合物を示し、前記と同様のものが挙げられる。ｍおよびｎは、１〜３の整数であり、好ましくはｍおよびｎは１である。Ａは、酸素原子、イオウ原子、または結合基−Ｒ７を有する窒素原子を示し、好ましくは、酸素原子、または結合基−Ｒ７を有する窒素原子である。Ｄは、置換基Ｒ２を有する炭素原子、または窒素原子を示し、好ましくは、置換基Ｒ２を有する炭素原子である。
【０１９０】
Ｅは、イオウ原子、セレン原子または窒素原子を示し、Ｇは、置換基Ｒ８を有する炭素原子、窒素原子またはリン原子を示し、Ｊは、置換基Ｒ９を有する炭素原子、窒素原子またはリン原子を示し、Ｑは、置換基Ｒ１０を有する炭素原子、窒素原子またはリン原子を示し、Ｔは、置換基Ｒ１１を有する炭素原子、窒素原子またはリン原子を示し、Ｙは、置換基Ｒ１３を有する炭素原子、窒素原子またはリン原子を示し、Ｕは、置換基Ｒ１４を有する炭素原子、窒素原子またはリン原子を示し、好ましくは、Ｅは、イオウ原子、または窒素原子を示し、Ｇは、置換基Ｒ８を有する炭素原子、または窒素原子を示し、Ｊは、置換基Ｒ９を有する炭素原子、または窒素原子を示し、Ｑは、置換基Ｒ１０を有する炭素原子、または窒素原子を示し、Ｔは、置換基Ｒ１１を有する炭素原子、または窒素原子を示し、Ｙは、置換基Ｒ１３を有する炭素原子、または窒素原子を示し、Ｕは、置換基Ｒ１４を有する炭素原子、または窒素原子であり。より好ましくは、Ｅは、窒素原子を示し、Ｇは、置換基Ｒ８を有する炭素原子を示し、Ｊは、置換基Ｒ９を有する炭素原子を示し、Ｑは、置換基Ｒ１０を有する炭素原子を示し、Ｔは、置換基Ｒ１１を有する炭素原子を示し、Ｙは、置換基Ｒ１３を有する炭素原子を示し、Ｕは、置換基Ｒ１４を有する炭素原子である。
【０１９１】
Ｒ１〜Ｒ１５は、互いに同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、アシル基、エステル基、チオエステル基、アミド基、イミド基、アミノ基、イミノ基、スルホンエステル基、スルホンアミド基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、メルカプト基またはヒドロキシル基を示し、これらのうち２個以上が互いに連結して環を形成していてもよい。こられの基としては前記と同様なものが挙げられる。
【０１９２】
なお、ｍまたはｎが２以上の場合には、Ｒ１〜Ｒ７、およびＲ８〜Ｒ１５で示される基のうち２個以上の基が連結されていてもよい。ただし、Ｒ１およびＲ１５同士は結合されることはない。ｌはＭの価数を満たす数であり、具体的には、０〜５、好ましくは１〜４、より好ましくは１〜３の整数である。
【０１９３】
Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、具体的には前記と同様のものが挙げられる。
【０１９４】
なお、ｌが２以上の場合は、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される複数の基は互いに結合して環を形成してもよい。このような遷移金属化合物として、特に下記一般式（ＩＩＩ−ａ−１）で示される化合物が好ましい。
【０１９５】
【化８２】

【０１９６】
式（ＩＩＩ−ａ−１）中、Ｒ１〜Ｒ１５、ＭおよびＸとしては前記と同様のものが挙げられるが、特に以下のものが好ましい。
【０１９７】
Ｍは周期律表第３〜１１族の遷移金属原子を示し、好ましくは３〜５族及び９族の金属原子であり、好ましくは、スカンジウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、コバルト、ロジウムなどであり、より好ましくは、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、コバルト、ロジウムなどであり、特に好ましくは、チタン、ジルコニウム、ハフニウムである。
【０１９８】
ｍおよびｎは、１〜３の整数である。Ｒ１〜Ｒ１５は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、チオエステル基、エステル基、アシル基、アミド基、イミド基、アミノ基、イミノ基、スルフォンエステル基、スルフォンアミド基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシル基などを示す。これらの中では特に、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、炭化水素置換シリル基、アルコキシル基、アリーロキシ基、エステル基、アミド基、アミノ基、スルフォンアミド基、シアノ基またはニトロ基が好ましい。
【０１９９】
ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。炭化水素基として具体的には、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ネオペンチル、ヘキシルなどの炭素原子数が１〜２０の直鎖状または分岐状のアルキル基；ビニル、アリル、イソプロペニルなどの炭素原子数が２〜２０の直鎖状または分岐状のアルケニル基；エチニル、プロパギルなど炭素原子数が２〜２０の直鎖状または分岐状のアルキニル基；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、アダマンチルなどの炭素原子数が３〜２０の環状飽和炭化水素基；フェニル、ベンジル、ナフチル、ビフェニル、トリフェニルなどの炭素原子数が６〜２０のアリール基；シクロペンタジエニル、インデニル、フルオレニルなどの炭素原子数が５〜２０の環状不飽和炭化水素基；および、これらの基に炭素原子数が１〜２０のアルキル基、炭素原子数が１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素原子数が６〜２０のアリール基、炭素原子数が１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数が６〜２０のアリーロキシ基、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基などの置換基がさらに置換した基などが挙げられる。これらの中では特に、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシルなどの炭素原子数が１〜２０の直鎖もしくは分岐状のアルキル基；フェニル、ナフチルなどの炭素原子数が６〜２０のアリール基；これらのアリール基に前記炭素原子数が１〜２０のアルキル基、炭素原子数が６〜２０のアリール基、炭素原子数が１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数が６〜２０のアリーロキシ基などの置換基が１〜５個置換した置換アリール基などが好ましい。
【０２００】
ヘテロ環式化合物残基としては、ピロール、ピリジン、ピリミジン、キノリン、トリアジンなどの含窒素化合物、フラン、ピランなどの含酸素化合物、チオフェンなどの含硫黄化合物などの残基、及びこれらのヘテロ環式化合物残基に炭素原子数が１〜２０のアルキル基、アルコキシ基などの置換基がさらに置換した基などが挙げられる。
【０２０１】
炭化水素置換シリル基として具体的には、メチルシリル、ジメチルシリル、トリメチルシリル、エチルシリル、ジエチルシリル、トリエチルシリル、ジフェニルメチルシリル、トリフェニルシリル、ジメチルフェニルシリル、ジメチル−ｔ−ブチルシリル、ジメチル（ペンタフルオロフェニル）シリルなどが挙げられる。これらの中では特に、メチルシリル、ジメチルシリル、トリメチルシリル、エチルシリル、ジエチルシリル、トリエチルシリル、トリフェニルシリルなどが好ましい。
【０２０２】
炭化水素置換シロキシ基として具体的には、トリメチルシロキシなどが挙げられる。アルコキシ基として具体的には、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシなどが挙げられる
【０２０３】
アリキルチオ基として具体的には、メチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。アリーロキシ基として具体的には、フェノキシ、２，６−ジメチルフェノキシ、２，４，６−トリメチルフェノキシなどが挙げられる。
アリールチオ基として具体的には、フェニルチオ、メチルフェニルチオ、ナフチルチオなどが挙げられる。アシル基として具体的には、フォルミル基、アセチル基、ベンゾイル基、ｐ−クロロベンゾイル基、ｐ−メトキシベンゾイル基などが挙げられる。
【０２０４】
エステル基として具体的には、アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ、メトキシカルボニル、フェノキシカルボニル、ｐ−クロロフェノキシカルボニルなどが挙げられる。
チオエステル基として具体的には、アセチルチオ、ベンゾイルチオ、メチルチオカルボニル、フェニルチオカルボニルなどが挙げられる。アミド基として具体的には、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ−メチルベンズアミドなどが挙げられる。
【０２０５】
イミド基として具体的には、アセトイミド、ベンズイミドなどが挙げられる。アミノ基として具体的には、ジメチルアミノ、エチルメチルアミノ、ジフェニルアミノなどが挙げられる。
イミノ基として具体的には、メチルイミノ、エチルイミノ、プロピルイミノ、ブチルイミノ、フェニルイミノなどが挙げられる。スルフォンエステル基として具体的には、スルフォン酸メチル、スルフォン酸エチル、スルフォン酸フェニルなどが挙げられる。
【０２０６】
スルフォンアミド基として具体的には、フェニルスルフォンアミド、Ｎ−メチルスルフォンアミド、Ｎ−メチル−ｐ−トルエンスルフォンアミドなどが挙げられる。なお、Ｒ６は水素以外の置換基であることが好ましい。すなわちＲ６は、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、炭化水素置換シリル基。炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、アシル基、エステル基、チオエステル基、アミド基、アミノ基、イミド基、イミノ基、スルフォンエステル基、スルフォンアミド基、シアノ基、ニトロ基またはヒドロキシ基であることが好ましい。
【０２０７】
Ｒ６として好ましい炭化水素基としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ネオペンチル、ｎ−ヘキシルなどの炭素原子数が１〜２０の直鎖状または分岐状のアルキル基；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、アダマンチルなどの炭素原子数が３〜２０の環状飽和炭化水素基；フェニル、ベンジル、ナフチル、ビフェニル、トリフェニルなどの炭素原子数が６〜２０のアリール基；および、これらの基に炭素原子数が１〜２０のアルキル基、炭素原子数が１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素原子数が６〜２０のアリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基などの置換基がさらに置換した基などが好ましく挙げられる。
【０２０８】
Ｒ６として好ましい炭化水素置換シリル基としては、メチルシリル、ジメチルシリル、トリメチルシリル、エチルシリル、ジエチルシリル、トリエチルシリル、ジフェニルメチルシリル、トリフェニルシリル、ジメチルフェニルシリル、ジメチル−ｔ−ブチルシリル、ジメチル（ペンタフルオロフェニル）シリルなどが挙げられる。
【０２０９】
本発明では、Ｒ６としては特に、イソプロピル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチルなどの炭素原子数が３〜２０の分岐状アルキル基、およびこれらの基の水素原子を炭素原子数が６〜２０のアリール基で置換した基（クミル基など）、アダマンチル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどの炭素原子数が３〜２０の環状飽和炭化水素基から選ばれる基であることが好ましく、あるいは炭化水素置換シリル基であることも好ましい。
【０２１０】
Ｒ１〜Ｒ１５は、これらのうちの２個以上の基、好ましくは隣接する基が互いに連結して脂肪環、芳香族環または、窒素原子などの異原子を含む炭化水素環を形成していてもよく、これらの環はさらに置換基を有していてもよい。
また、ｍまたはｎが２以上の場合には、Ｒ１〜Ｒ６、およびＲ８〜Ｒ１５で示される基のうち２個以上の基が連結されていてもよい。ただし、Ｒ１およびＲ１５同士は結合されることはない。さらに、ｍまたはｎが２以上の場合には、Ｒ１同士、Ｒ２同士、Ｒ３同士、Ｒ４同士、Ｒ５同士、Ｒ６同士、Ｒ７同士、Ｒ８同士、Ｒ９同士、Ｒ１０同士、Ｒ１１同士、Ｒ１３同士、Ｒ１４同士。Ｒ１５同士は、互いに同一であっても異なっていてもよい。
【０２１１】
ｌは、Ｍの原子価を満たす数であり、具体的には１〜３の整数である。Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、ケイ素含有基などを示し、ｌが２以上の場合には、互いに同一であっても、異なっていてもよい。
ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。炭素原子数が１〜２０の炭化水素基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリールアルキル基、アリール基などが挙げられる。より具体的には、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシル、アイコシルなどのアルキル基；シクロペンチル、シクロヘキシル、ノルボニル、アダマンチルなどのシクロアルキル基；ビニル、プロペニル、シクロヘキセニルなどのアルケニル基；ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピルなどのアリールアルキル基；フェニル、トリル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、エチルフェニル、プロピルフェニル、ビフェニル、ナフチル、メチルナフチル、アントリル、フェナントリルなどのアリール基などが挙げられる。
【０２１２】
炭素原子数が１〜２０のハロゲン化炭化水素基としては、前記炭素原子数が１〜２０の炭化水素基にハロゲンが置換した基が挙げられる。酸素含有基としては、ヒドロキシ基；メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシなどのアルコキシ基；フェノキシ、メチルフェノキシ、ジメチルフェノキシ、ナフトキシなどのアリーロキシ基；フェニルメトキシ、フェニルエトキシなどのアリールアルコキシ基などが挙げられる。
【０２１３】
イオウ含有基としては、前記酸素含有基の酸素がイオウに置換した置換基、ならびに、メチルスルフォネート、トリフルオロメタンスルフォネート、フェニルスルフォネート、ベンジルスルフォネート、ｐ−トルエンスルフォネート、トリメチルベンゼンスルフォネート、トリイソブチルベンゼンスルフォネート、ｐ−クロルベンゼンスルフォネート、ペンタフルオロベンゼンスルフォネートなどのスルフォネート基；メチルスルフィネート、フェニルスルフィネート、ベンジルスルフィネート、ｐ−トルエンスルフィネート、トリメチルベンゼンスルフィネート、ペンタフルオロベンゼンスルフィネートなどのスルフィネート基などが挙げられる。
【０２１４】
ケイ素含有基としては、メチルシリル、フェニルシリルなどのモノ炭化水素置換シリル基；ジメチルシリル、ジフェニルシリルなどのジ炭化水素置換シリル基；トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリプロピルシリル、トリシクロヘキシルシリル、トリフェニルシリル、ジメチルフェニルシリル、メチルジフェニルシリル、トリトリルシリル、トリナフチルシリルなどのトリ炭化水素置換シリル基；トリメチルシリルエーテルなどの炭化水素置換シリルのシリルエーテル基；トリメチルシリルメチルなどのケイ素置換アルキル基；トリメチルシリルフェニルなどのケイ素置換アリール基などが挙げられる。
【０２１５】
Ｘで示される基としては、これらのうち、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜２０の炭化水素基またはスルフォネート基であることが好ましい。またｌが２以上の場合は、Ｘで示される基は互いに同一でも異なっていてもよく、あるいは互いに連結して環を形成していてもよい。
【０２１６】
以下に、上記一般式（ＩＩＩ−ａ−１）で表される遷移金属化合物の具体的な例を示すが、これらに限定されるものではない。なお、下記具体例においてＭは遷移金属元素であり、個々には、Ｓｃ（ＩＩＩ）、Ｔｉ（ＩＩＩ）、Ｔｉ（ＩＶ）、Ｚｒ（ＩＩＩ）、Ｚｒ（ＩＶ）、Ｈｆ（ＩＶ）、Ｖ（ＩＶ）、Ｎｂ（Ｖ）、Ｔａ（Ｖ）、Ｃｏ（ＩＩ）、Ｃｏ（ＩＩＩ）、Ｒｈ（ＩＩ）、Ｒｈ（ＩＩＩ）、Ｒｈ（ＩＶ）を示すが、これらに限定されるものではない。これらのなかで特に、Ｔｉ（ＩＶ）、Ｚｒ（ＩＶ）、Ｈｆ（ＩＶ）が好ましい。
【０２１７】
Ｘは、Ｃｌ、Ｂｒなどのハロゲン、もしくはメチル等のアルキル基を示すが、これらに限定されるものではない。また、Ｘが複数ある場合は、これらは同じであっても、異なっていても良い。
ｎは金属Ｍの価数により決定される。例えば、２種のモノアニオン種が金属に結合している場合、２価金属ではｌ＝０、３価金属ではｌ＝１、４価金属ではｌ＝２、５価金属ではｌ＝３になる。例えば金属がＴｉ（ＩＶ）の場合は、ｌ＝２であり、Ｈｆ（ＩＶ）の場合はｌ＝２である。
【０２１８】
【化８３】

【０２１９】
【化８４】

【０２２０】
【化８５】

【０２２１】
【化８６】

【０２２２】
【化８７】

【０２２３】
【化８８】

【０２２４】
【化８９】

【０２２５】
【化９０】

【０２２６】
なお、上記例示中、Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル基、ｉＰｒはｉｓｏ−プロピル基、ｔｅｒｔ−Ｂｕはｔｅｒｔ−ブチル基、Ｐｈはフェニル基を示す。さらにＴｉを中心金属とする場合についてより具体的に例示すると、以下のようなものが挙げられる。また、これらの化合物においてチタンをジルコニウム、ハフニウム、コバルトまたはロジウムに置き換えた化合物も挙げられる。
【０２２７】
【化９１】

【０２２８】
【化９２】

【０２２９】
【化９３】

【０２３０】
【化９４】

【０２３１】
【化９５】

【０２３２】
遷移金属化合物（ＩＩＩ −ｂ）
また、本発明では（Ａ）遷移金属化合物として、下記一般式（ＩＩＩ−ｂ）で表される遷移金属化合物を用いることもできる。
【０２３３】
【化９６】

【０２３４】
式（ＩＩＩ−ｂ）中、Ｍは周期表第３〜１１族の遷移金属原子を示し、好ましくは第３〜５族または第９族、特に好ましくは第４族または第５族の遷移金属原子であり、特にチタン、ジルコニウム、ハフニウム、コバルトまたはロジウムである。
【０２３５】
Ｒ１〜Ｒ１５は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、炭化水素置換シリル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、エステル基、アミド基、アミノ基、スルホンアミド基、シアノ基、ニトロ基を示す。これらの基のうち、特に、ハロゲン原子、炭化水素基、炭化水素置換シリル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、エステル基、アミド基、アミノ基、スルホンアミド基、シアノ基、ニトロ基が好ましい。
【０２３６】
これらの基Ｒ１〜Ｒ１５としては、前記一般式（ＩＩＩ−ａ）および（ＩＩＩ−ａ−１）で表される遷移金属化合物において例示したものと同様のものが挙げられる。また、Ｒ１〜Ｒ１５は、これらのうちの２個以上の基、好ましくは隣接する基が互いに連結して環を形成してもよい。但し、Ｒ１とＲ１５が連結されることはない。
【０２３７】
以下に、上記一般式（ＩＩＩ−ｂ）で表される遷移金属化合物の具体的な例を示すが、これらに限定されるものではない。
【０２３８】
【化９７】

【０２３９】
【化９８】

【０２４０】
【化９９】

【０２４１】
本発明では、上記のような化合物において、コバルト金属をチタン、ジルコニウム、ハフニウム、鉄、銅、ロジウムなどの金属に置き換えた遷移金属化合物を用いることもできる。
【０２４２】
（Ａ）成分として下記一般式（Ｘ）の新規な遷移金属化合物を用いることが特に好ましい。
【０２４３】
【化１００】

【０２４４】
式（Ｘ）中、Ｍは周期律表第４または５族の遷移金属原子を示し、Ｒ１およびＲ１５は、炭化水素基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、エステル基、チオエステル基、スルホンエステル基またはヒドロキシ基を示し、Ｒ２〜Ｒ１４は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、エステル基、チオエステル基、アミド基、イミド基、アミノ基、イミノ基、スルホンエステル基、スルホンアミド基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、メルカプト基またはヒドロキシ基を示し、Ｒ６は、ハロゲン原子、炭化水素基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、エステル基、チオエステル基、アミド基、イミド基、イミノ基、スルホンエステル基、スルホンアミド基またはシアノ基を示し、Ｒ１〜Ｒ１５のうちの２個以上が互いに連結して環を形成していてもよく、また、Ｒ１〜Ｒ１５で示される基のうち２個の基が連結されていてもよく（但し、Ｒ１とＲ１５が結合されることはない）、ｎは、Ｍの価数を満たす数であり、Ｘは、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、ｎが２以上の場合は、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される複数の基は互いに結合して環を形成してもよい。
【０２４５】
一般式（Ｘ）の遷移金属化合物のうち、下記一般式（Ｘ−ａ）で表されるものが好ましい。
【０２４６】
【化１０１】

式（Ｘ−ａ）中、Ｍは周期律表第４または５族の遷移金属原子を示し、具体的には、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブである。
【０２４７】
Ｒ１〜Ｒ１５は、互いに同一でも異なっていてもよく、炭化水素基、アルコキシ基または炭化水素置換シリル基を示し、Ｒ６は、ハロゲン原子、炭化水素基、炭化水素置換シリル基、アルコキシ基、アルキルチオ基またはシアノ基を示し、Ｒ１〜Ｒ１５のうちの２個以上が互いに連結して環を形成していてもよく、またＲ１〜Ｒ１５で示される基のうち２個の基が連結されていてもよく（但し、Ｒ１とＲ１２が結合されることはない）、ｎは、Ｍの価数を満たす数であり、Ｘは、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ハロゲン含有基またはケイ素含有基を示し、ｎが２以上の場合は、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される複数の基は互いに結合して環を形成してもよい。これらのうち、Ｘはハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、ケイ素含有基であることが好ましい。
【０２４８】
一般式（Ｘ−ａ）におけるＲ１〜Ｒ１５およびＸの個々の例としては、前記一般式（Ｘ）で挙げたものと同じ基を挙げることができる。新規な遷移金属化合物としては、以下のものが例示される。
【０２４９】
【化１０２】

【０２５０】
【化１０３】

【０２５１】
【化１０４】

【０２５２】
【化１０５】

【０２５３】
式（Ｘ）、好ましくは一般式（Ｘ−ａ）表される本発明に係る新規な遷移金属化合物は、たとえば、オレフィン重合用触媒として好適に用いることができる。
【０２５４】
遷移金属化合物（ＩＶ −ａ）
一般式Ｋ_ｍＭＸ_ｌＬ_ｎで表される遷移金属化合物としては、下記一般式（ＩＶ−ａ）で表される化合物が好ましい。
【０２５５】
【化１０６】

【０２５６】
式（ＩＶ−ａ）中、Ｍは周期律表第３〜１１族の遷移金属化合物を示し、前記と同様のものが挙げられる。ｍおよびｎは、１〜３の整数であり、好ましくはｍおよびｎは１である。Ａは、酸素原子、イオウ原子、または結合基Ｒ７を有する窒素原子を示し、好ましくは、酸素原子、または結合基Ｒ７を有する窒素原子である。Ｄは、置換基Ｒ２を有する炭素原子、または窒素原子を示し、好ましくは、置換基Ｒ２を有する炭素原子である。
【０２５７】
Ｒ１〜Ｒ１９は、互いに同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、アシル基、エステル基、チオエステル基、アミド基、イミド基、アミノ基、イミノ基、スルホンエステル基、スルホンアミド基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、メルカプト基またはヒドロキシル基を示し、これらのうち２個以上が互いに連結して環を形成していてもよい。こられの基としては前記と同様なものが挙げられる。
【０２５８】
なお、ｍまたはｎが２以上の場合には、Ｒ１〜Ｒ７、およびＲ１５〜Ｒ１９で示される基のうち２個以上の基が連結されていてもよい。ただし、Ｒ１同士は結合されることはない。ｌはＭの価数を満たす数であり、具体的には、０〜５、好ましくは１〜４、より好ましくは１〜３の整数である。
【０２５９】
Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、具体的には前記と同様のものが挙げられる。
なお、ｌが２以上の場合は、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される複数の基は互いに結合して環を形成してもよい。
【０２６０】
前記一般式（ＩＶ−ａ）においてＲ６が、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基であることが好ましい。
このような遷移金属化合物として、特に下記一般式（ＩＶ−ａ−１）で示される化合物が好ましい。
【０２６１】
【化１０７】

【０２６２】
式（ＩＶ−ａ−１）中、Ｒ１〜Ｒ１９、ＭおよびＸとしては前記と同様のものが挙げられるが、特に以下のものが好ましい。
Ｍは周期律表第３〜１１族の遷移金属原子を示し、好ましくは３〜５族及び９族の金属原子であり、好ましくは、スカンジウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、コバルト、ロジウムなどであり、より好ましくは、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、コバルト、ロジウムなどであり、特に好ましくは、チタン、ジルコニウム、ハフニウムである。
【０２６３】
ｍおよびｎは、１〜３の整数である。Ｒ１〜Ｒ１９は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、チオエステル基、エステル基、アシル基、アミド基、イミド基、アミノ基、イミノ基、スルフォンエステル基、スルフォンアミド基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシル基などを示す。これらの中では特に、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、炭化水素置換シリル基、アルコキシル基、アリーロキシ基、エステル基、アミド基、アミノ基、スルフォンアミド基、シアノ基またはニトロ基が好ましい。
【０２６４】
ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。炭化水素基として具体的には、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ネオペンチル、ヘキシルなどの炭素原子数が１〜２０の直鎖状または分岐状のアルキル基；ビニル、アリル、イソプロペニルなどの炭素原子数が２〜２０の直鎖状または分岐状のアルケニル基；エチニル、プロパギルなど炭素原子数が２〜２０の直鎖状または分岐状のアルキニル基；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、アダマンチルなどの炭素原子数が３〜２０の環状飽和炭化水素基；フェニル、ベンジル、ナフチル、ビフェニル、トリフェニルなどの炭素原子数が６〜２０のアリール基；シクロペンタジエニル、インデニル、フルオレニルなどの炭素原子数が５〜２０の環状不飽和炭化水素基；および、これらの基に炭素原子数が１〜２０のアルキル基、炭素原子数が１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素原子数が６〜２０のアリール基、炭素原子数が１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数が６〜２０のアリーロキシ基、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基などの置換基がさらに置換した基などが挙げられる。これらの中では特に、
メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシルなどの炭素原子数が１〜２０の直鎖もしくは分岐状のアルキル基；フェニル、ナフチルなどの炭素原子数が６〜２０のアリール基；これらのアリール基に前記炭素原子数が１〜２０のアルキル基、炭素原子数が６〜２０のアリール基、炭素原子数が１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数が６〜２０のアリーロキシ基などの置換基が１〜５個置換した置換アリール基などが好ましい。
【０２６５】
ヘテロ環式化合物残基としては、ピロール、ピリジン、ピリミジン、キノリン、トリアジンなどの含窒素化合物、フラン、ピランなどの含酸素化合物、チオフェンなどの含硫黄化合物などの残基、及びこれらのヘテロ環式化合物残基に炭素原子数が１〜２０のアルキル基、アルコキシ基などの置換基がさらに置換した基などが挙げられる。
【０２６６】
炭化水素置換シリル基として具体的には、メチルシリル、ジメチルシリル、トリメチルシリル、エチルシリル、ジエチルシリル、トリエチルシリル、ジフェニルメチルシリル、トリフェニルシリル、ジメチルフェニルシリル、ジメチル−ｔ−ブチルシリル、ジメチル（ペンタフルオロフェニル）シリルなどが挙げられる。これらの中では特に、メチルシリル、ジメチルシリル、トリメチルシリル、エチルシリル、ジエチルシリル、トリエチルシリル、トリフェニルシリルなどが好ましい。
【０２６７】
炭化水素置換シロキシ基として具体的には、トリメチルシロキシなどが挙げられる。アルコキシ基として具体的には、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシなどが挙げられる。
アリキルチオ基として具体的には、メチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。アリーロキシ基として具体的には、フェノキシ、２，６−ジメチルフェノキシ、２，４，６−トリメチルフェノキシなどが挙げられる。
【０２６８】
アリールチオ基として具体的には、フェニルチオ、メチルフェニルチオ、ナフチルチオなどが挙げられる。アシル基として具体的には、フォルミル基、アセチル基、ベンゾイル基、ｐ−クロロベンゾイル基、ｐ−メトキシベンゾイル基などが挙げられる。
エステル基として具体的には、アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ、メトキシカルボニル、フェノキシカルボニル、ｐ−クロロフェノキシカルボニルなどが挙げられる。
【０２６９】
チオエステル基として具体的には、アセチルチオ、ベンゾイルチオ、メチルチオカルボニル、フェニルチオカルボニルなどが挙げられる。アミド基として具体的には、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ−メチルベンズアミドなどが挙げられる。
イミド基として具体的には、アセトイミド、ベンズイミドなどが挙げられる。アミノ基として具体的には、ジメチルアミノ、エチルメチルアミノ、ジフェニルアミノなどが挙げられる。
【０２７０】
イミノ基として具体的には、メチルイミノ、エチルイミノ、プロピルイミノ、ブチルイミノ、フェニルイミノなどが挙げられる。スルフォンエステル基として具体的には、スルフォン酸メチル、スルフォン酸エチル、スルフォン酸フェニルなどが挙げられる。
スルフォンアミド基として具体的には、フェニルスルフォンアミド、Ｎ−メチルスルフォンアミド、Ｎ−メチル−ｐ−トルエンスルフォンアミドなどが挙げられる。なお、Ｒ６は水素以外の置換基であることが好ましい。すなわちＲ６は、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、炭化水素置換シリル基。炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、アシル基、エステル基、チオエステル基、アミド基、アミノ基、イミド基、イミノ基、スルフォンエステル基、スルフォンアミド基、シアノ基、ニトロ基またはヒドロキシ基であることが好ましい。
【０２７１】
Ｒ６として好ましい炭化水素基としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ネオペンチル、ｎ−ヘキシルなどの炭素原子数が１〜２０の直鎖状または分岐状のアルキル基；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、アダマンチルなどの炭素原子数が３〜２０の環状飽和炭化水素基；フェニル、ベンジル、ナフチル、ビフェニル、トリフェニルなどの炭素原子数が６〜２０のアリール基；および、これらの基に炭素原子数が１〜２０のアルキル基、炭素原子数が１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素原子数が６〜２０のアリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基などの置換基がさらに置換した基などが好ましく挙げられる。
【０２７２】
Ｒ６として好ましい炭化水素置換シリル基としては、メチルシリル、ジメチルシリル、トリメチルシリル、エチルシリル、ジエチルシリル、トリエチルシリル、ジフェニルメチルシリル、トリフェニルシリル、ジメチルフェニルシリル、ジメチル−ｔ−ブチルシリル、ジメチル（ペンタフルオロフェニル）シリルなどが挙げられる。
本発明では、Ｒ６としては特に、イソプロピル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチルなどの炭素原子数が３〜２０の分岐状アルキル基、およびこれらの基の水素原子を炭素原子数が６〜２０のアリール基で置換した基（クミル基など）、アダマンチル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどの炭素原子数が３〜２０の環状飽和炭化水素基から選ばれる基であることが好ましく、あるいは炭化水素置換シリル基であることも好ましい。
【０２７３】
Ｒ１〜Ｒ１９は、これらのうちの２個以上の基、好ましくは隣接する基が互いに連結して脂肪環、芳香族環または、窒素原子などの異原子を含む炭化水素環を形成していてもよく、これらの環はさらに置換基を有していてもよい。
また、ｍまたはｎが２以上の場合には、Ｒ１〜Ｒ６、およびＲ１５〜Ｒ１９で示される基のうち２個以上の基が連結されていてもよい。ただし、Ｒ１同士は結合されることはない。さらに、ｍまたはｎが２以上の場合には、Ｒ１同士、Ｒ２同士、Ｒ３同士、Ｒ４同士、Ｒ５同士、Ｒ６同士、Ｒ１５同士、Ｒ１６同士、Ｒ１７同士、Ｒ１８同士、Ｒ１９同士は、互いに同一であっても異なっていてもよい。
【０２７４】
ｌは、Ｍの原子価を満たす数であり、具体的には１〜３の整数である。Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、ケイ素含有基などを示し、ｌが２以上の場合には、互いに同一であっても、異なっていてもよい。
【０２７５】
ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。炭素原子数が１〜２０の炭化水素基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリールアルキル基、アリール基などが挙げられる。より具体的には、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシル、アイコシルなどのアルキル基；シクロペンチル、シクロヘキシル、ノルボニル、アダマンチルなどのシクロアルキル基；ビニル、プロペニル、シクロヘキセニルなどのアルケニル基；ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピルなどのアリールアルキル基；フェニル、トリル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、エチルフェニル、プロピルフェニル、ビフェニル、ナフチル、メチルナフチル、アントリル、フェナントリルなどのアリール基などが挙げられる。
【０２７６】
炭素原子数が１〜２０のハロゲン化炭化水素基としては、前記炭素原子数が１〜２０の炭化水素基にハロゲンが置換した基が挙げられる。酸素含有基としては、ヒドロキシ基；メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシなどのアルコキシ基；フェノキシ、メチルフェノキシ、ジメチルフェノキシ、ナフトキシなどのアリーロキシ基；フェニルメトキシ、フェニルエトキシなどのアリールアルコキシ基などが挙げられる。
【０２７７】
イオウ含有基としては、前記酸素含有基の酸素がイオウに置換した置換基、ならびに、メチルスルフォネート、トリフルオロメタンスルフォネート、フェニルスルフォネート、ベンジルスルフォネート、ｐ−トルエンスルフォネート、トリメチルベンゼンスルフォネート、トリイソブチルベンゼンスルフォネート、ｐ−クロルベンゼンスルフォネート、ペンタフルオロベンゼンスルフォネートなどのスルフォネート基；メチルスルフィネート、フェニルスルフィネート、ベンジルスルフィネート、ｐ−トルエンスルフィネート、トリメチルベンゼンスルフィネート、ペンタフルオロベンゼンスルフィネートなどのスルフィネート基などが挙げられる。
【０２７８】
ケイ素含有基としては、メチルシリル、フェニルシリルなどのモノ炭化水素置換シリル基；ジメチルシリル、ジフェニルシリルなどのジ炭化水素置換シリル基；トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリプロピルシリル、トリシクロヘキシルシリル、トリフェニルシリル、ジメチルフェニルシリル、メチルジフェニルシリル、トリトリルシリル、トリナフチルシリルなどのトリ炭化水素置換シリル基；トリメチルシリルエーテルなどの炭化水素置換シリルのシリルエーテル基；トリメチルシリルメチルなどのケイ素置換アルキル基；トリメチルシリルフェニルなどのケイ素置換アリール基などが挙げられる。
【０２７９】
Ｘで示される基としては、これらのうち、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜２０の炭化水素基またはスルフォネート基であることが好ましい。またｌが２以上の場合は、Ｘで示される基は互いに同一でも異なっていてもよく、あるいは互いに連結して環を形成していてもよい。
以下に、上記一般式（ＩＶ−ａ−１）で表される遷移金属化合物の具体的な例を示すが、これらに限定されるものではない。なお、下記具体例においてＭは遷移金属元素であり、個々には、Ｓｃ（ＩＩＩ）、Ｔｉ（ＩＩＩ）、Ｔｉ（ＩＶ）、Ｚｒ（ＩＩＩ）、Ｚｒ（ＩＶ）、Ｈｆ（ＩＶ）、Ｖ（ＩＶ）、Ｎｂ（Ｖ）、Ｔａ（Ｖ）、Ｃｏ（ＩＩ）、Ｃｏ（ＩＩＩ）、Ｒｈ（ＩＩ）、Ｒｈ（ＩＩＩ）、Ｒｈ（ＩＶ）を示すが、これらに限定されるものではない。これらのなかで特に、Ｔｉ（ＩＶ）、Ｚｒ（ＩＶ）、Ｈｆ（ＩＶ）が好ましい。
【０２８０】
Ｘは、Ｃｌ、Ｂｒなどのハロゲン、もしくはメチル等のアルキル基を示すが、これらに限定されるものではない。また、Ｘが複数ある場合は、これらは同じであっても、異なっていても良い。
ｎは金属Ｍの価数により決定される。例えば、２種のモノアニオン種が金属に結合している場合、２価金属ではｌ＝０、３価金属ではｌ＝１、４価金属ではｌ＝２、５価金属ではｌ＝３になる。例えば金属がＴｉ（ＩＶ）の場合は、ｌ＝２であり、Ｈｆ（ＩＶ）の場合はｌ＝２である。
【０２８１】
【化１０８】

【０２８２】
【化１０９】

【０２８３】
【化１１０】

【０２８４】
【化１１１】

【０２８５】
なお、上記例示中、Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル基、ｉＰｒはｉｓｏ−プロピル基、ｔｅｒｔ−Ｂｕはｔｅｒｔ−ブチル基、Ｐｈはフェニル基を示す。さらにＺｒを中心金属とする場合についてより具体的に例示すると、以下のようなものが挙げられる。また、これらの化合物においてチタンをジルコニウム、ハフニウム、コバルトまたはロジウムに置き換えた化合物も挙げられる。
【０２８６】
【化１１２】

【０２８７】
【化１１３】

【０２８８】
遷移金属化合物（ＩＶ −ｂ）
また、本発明では（Ａ）遷移金属化合物として、下記一般式（ＩＶ−ｂ）で表される遷移金属化合物を用いることもできる。
【０２８９】
【化１１４】

【０２９０】
式（ＩＶ−ｂ）中、Ｍは周期表第３〜１１族の遷移金属原子を示し、好ましくは第３〜５族または第９族、特に好ましくは第４族または第５族の遷移金属原子であり、特にチタン、ジルコニウム、ハフニウム、コバルトまたはロジウムである。
【０２９１】
Ｒ１〜Ｒ６およびＲ１５〜Ｒ１９は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、炭化水素置換シリル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、エステル基、アミド基、アミノ基、スルホンアミド基、シアノ基、ニトロ基を示す。
これらの基のうち、特に、ハロゲン原子、炭化水素基、炭化水素置換シリル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、エステル基、アミド基、アミノ基、スルホンアミド基、シアノ基、ニトロ基が好ましい。
【０２９２】
これらの基Ｒ１〜Ｒ１９としては、前記一般式（ＩＶ−ａ）および（ＩＶ−ａ−１）で表される遷移金属化合物において例示したものと同様のものが挙げられる。また、Ｒ１〜Ｒ１９は、これらのうちの２個以上の基、好ましくは隣接する基が互いに連結して環を形成してもよい。
【０２９３】
以下に、上記一般式（ＩＶ−ｂ）で表される遷移金属化合物の具体的な例を示すが、これらに限定されるものではない。
【０２９４】
【化１１５】

【０２９５】
本発明では、上記のような化合物において、コバルト金属をチタン、ジルコニウム、ハフニウム、鉄、銅、ロジウムなどの金属に置き換えた遷移金属化合物を用いることもできる。
【０２９６】
本発明に係るオレフィン重合用触媒において、（Ａ）成分として下記一般式（ＸＩＩ）の新規な遷移金属化合物を用いることが特に好ましい。
【０２９７】
【化１１６】

【０２９８】
式（ＸＩＩ）中、Ｍは周期律表第４または５族の遷移金属原子を示し、Ｒ１は、炭化水素基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、エステル基、チオエステル基、スルホンエステル基またはヒドロキシ基を示し、Ｒ２〜Ｒ６およびＲ１５〜Ｒ１９は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、エステル基、チオエステル基、アミド基、イミド基、アミノ基、イミノ基、スルホンエステル基、スルホンアミド基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、メルカプト基またはヒドロキシ基を示し、Ｒ６は、ハロゲン原子、炭化水素基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、エステル基、チオエステル基、アミド基、イミド基、イミノ基、スルホンエステル基、スルホンアミド基またはシアノ基を示し、Ｒ１〜Ｒ１５のうちの２個以上が互いに連結して環を形成していてもよく、また、Ｒ１〜Ｒ１９で示される基のうち２個の基が連結されていてもよく、ｎは、Ｍの価数を満たす数であり、Ｘは、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、ｎが２以上の場合は、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される複数の基は互いに結合して環を形成してもよい。
【０２９９】
一般式（ＸＩＩ）の遷移金属化合物のうち、下記一般式（ＸＩＩ−ａ）で表されるものが好ましい。
【０３００】
【化１１７】

【０３０１】
式（ＸＩＩ−ａ）中、Ｍは周期律表第４または５族の遷移金属原子を示し、具体的には、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブである。
Ｒ１〜Ｒ１９は、互いに同一でも異なっていてもよく、炭化水素基、アルコキシ基または炭化水素置換シリル基を示し、Ｒ６は、ハロゲン原子、炭化水素基、炭化水素置換シリル基、アルコキシ基、アルキルチオ基またはシアノ基を示し、Ｒ１〜Ｒ１９のうちの２個以上が互いに連結して環を形成していてもよく、またＲ１〜Ｒ１９で示される基のうち２個の基が連結されていてもよく、ｎは、Ｍの価数を満たす数であり、Ｘは、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ハロゲン含有基またはケイ素含有基を示し、ｎが２以上の場合は、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される複数の基は互いに結合して環を形成してもよい。これらのうち、Ｘはハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、ケイ素含有基であることが好ましい。
【０３０２】
一般式（ＸＩＩ−ａ）におけるＲ１〜Ｒ１９およびＸの個々の例としては、前記一般式（Ｉ）で挙げたものと同じ基を挙げることができる。新規な遷移金属化合物としては、以下のものが例示される。
【０３０３】
【化１１８】

【０３０４】
【化１１９】

【０３０５】
【化１２０】

【０３０６】
【化１２１】

【０３０７】
式（ＸＩＩ）、好ましくは一般式（ＸＩＩ−ａ）で表される本発明に係る新規な遷移金属化合物は、たとえば、オレフィン重合用触媒として好適に用いることができる。
新規な遷移金属化合物をオレフィン重合用触媒として用いると、高い重合活性で、分子量分布が狭いオレフィン（共）重合体を合成できる。
【０３０８】
第２のオレフィン重合用触媒
本発明に係わる第２のオレフィン重合用触媒は、（Ａ′）下記一般式（Ｖ）で表される遷移金属化合物と、（Ｂ）（Ｂ−１）有機金属化合物、（Ｂ−２）有機アルミニウムオキシ化合物、および（Ｂ−３）遷移金属化合物（Ａ′）と反応してイオン対を形成する化合物から選ばれる少なくとも一種の化合物とから形成されている。
【０３０９】
まず、本発明のオレフィン重合用触媒を形成する各触媒成分について説明する。
（Ａ′）遷移金属化合物
本発明で用いられる（Ａ′）遷移金属化合物は、下記一般式（Ｖ）で表される化合物である。
【０３１０】
【化１２２】

【０３１１】
なお、ここでＮ・・・・・・Ｍは、一般的には配位していることを示すが、本発明においては配位していなくともよい。
式中、ＭおよびＸは前記と同様のものが挙げられるが、特に以下のものが好ましい。
【０３１２】
Ｍは周期律表第３〜１１族の遷移金属原子（３族にはランタノイドも含まれる）を示し、好ましくは３〜５族及び９族の金属原子であり、より好ましくは４族または５族の金属原子である。具体的には、スカンジウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、コバルト、ロジウムなどであり、好ましくは、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、コバルト、ロジウム、バナジウム、ニオブ、タンタルなどであり、より好ましくは、チタン、ジルコニウム、ハフニウムである。
【０３１３】
ｍおよびｎは１〜６、好ましくは１〜４の整数を示す。Ａは、酸素原子、イオウ原子、セレン原子または結合基Ｒ７を有する窒素原子を示し、好ましくは、酸素原子、イオウ原子または結合基Ｒ７を有する窒素原子を示し、より好ましくは、酸素原子、または結合基Ｒ７を有する窒素原子である。Ｄは、置換基Ｒ２を有する炭素原子、窒素原子またはリン原子を示し、好ましくは、置換基Ｒ２を有する炭素原子、または窒素原子を示し、より好ましくは、置換基Ｒ２を有する炭素原子である。ｌは、Ｍの原子価を満たす整数である。
【０３１４】
Ｌ′およびＬ″は前記Ｌと同様なものが挙げられるが、具体的には式（ＶＩ）、（ＶＩＩ）または（ＶＩＩＩ）のうちから選ばれる少なくとも一つで表される配位子を示し、Ｌ′とＬ″は互いに異なる。
【０３１５】
【化１２３】

【０３１６】
式中、ＭＸ_ｌは前記式（Ｖ）中のＭＸ_ｌを示し、Ｅは、イオウ原子または窒素原子を示し、Ｇは、置換基Ｒ８を有する炭素原子、窒素原子またはリン原子を示し、Ｊは、置換基Ｒ９を有する炭素原子、窒素原子またはリン原子を示し、Ｑは、置換基Ｒ１０を有する炭素原子、窒素原子またはリン原子を示し、Ｔは、置換基Ｒ１１を有する炭素原子、窒素原子またはリン原子を示し、好ましくは、Ｅは、イオウ原子、または窒素原子を示し、Ｇは、置換基Ｒ８を有する炭素原子、または窒素原子を示し、Ｊは、置換基Ｒ９を有する炭素原子、または窒素原子を示し、Ｑは、置換基Ｒ１０を有する炭素原子、または窒素原子を示し、Ｔは、置換基Ｒ１１を有する炭素原子、または窒素原子を示し、より好ましくは、Ｅは、窒素原子を示し、Ｇは、置換基Ｒ８を有する炭素原子を示し、Ｊは、置換基Ｒ９を有する炭素原子を示し、Ｑは、置換基Ｒ１０を有する炭素原子を示し、Ｔは、置換基Ｒ１１を有する炭素原子を示す。
【０３１７】
【化１２４】

【０３１８】
式中、ＭＸ_ｌは前記式（Ｖ）中のＭＸ_ｌを示し、Ｅは、イオウ原子または窒素原子を示し、Ｇは、置換基Ｒ８を有する炭素原子、窒素原子またはリン原子を示し、Ｊは、置換基Ｒ９を有する炭素原子、窒素原子またはリン原子を示し、Ｑは、置換基Ｒ１０を有する炭素原子、窒素原子またはリン原子を示し、Ｔは、置換基Ｒ１１を有する炭素原子、窒素原子またはリン原子を示し、Ｙは、置換基Ｒ１３を有する炭素原子、窒素原子またはリン原子を示し、Ｕは、置換基Ｒ１４を有する炭素原子、窒素原子またはリン原子を示し、好ましくは、Ｅは、イオウ原子、または窒素原子を示し、Ｇは、置換基Ｒ８を有する炭素原子、または窒素原子を示し、Ｊは、置換基Ｒ９を有する炭素原子、または窒素原子を示し、Ｑは、置換基Ｒ１０を有する炭素原子、または窒素原子を示し、Ｔは、置換基Ｒ１１を有する炭素原子、または窒素原子を示し、Ｙは、置換基Ｒ１３を有する炭素原子、または窒素原子を示し、Ｕは、置換基Ｒ１４を有する炭素原子、または窒素原子を示し、より好ましくは、Ｅは、窒素原子を示し、Ｇは、置換基Ｒ８を有する炭素原子を示し、Ｊは、置換基Ｒ９を有する炭素原子を示し、Ｑは、置換基Ｒ１０を有する炭素原子を示し、Ｔは、置換基Ｒ１１を有する炭素原子を示し、Ｙは、置換基Ｒ１３を有する炭素原子を示し、Ｕは、置換基Ｒ１４を有する炭素原子を示す。
【０３１９】
【化１２５】

【０３２０】
式中、ＭＸ_ｌは前記式（Ｖ）中のＭＸ_ｌを示す。
前記式（Ｖ）〜（ＶＩＩＩ）中、Ｒ１〜Ｒ１９は、互いに同一でも異なっていてもよく、前記式（Ｉ）〜（ＩＶ）中のＲ１〜Ｒ１９と同様のものが挙げられるが、具体的には水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、これらの内２個以上が互いに連結して環を形成していてもよい。
【０３２１】
なお、Ｒ６は水素以外の置換基であることが好ましい。すなわちＲ６は、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基またはスズ含有基が好ましい。特にＲ６は、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、アシル基、エステル基、チオエステル基、アミド基、アミノ基、イミド基、イミノ基、スルフォンエステル基、スルフォンアミド基、シアノ基、ニトロ基またはヒドロキシ基であることが好ましい。
【０３２２】
本発明では、Ｒ６としては特に、イソプロピル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ネオペンチルなどの炭素原子数が３〜３０、好ましくは３〜２０の分岐状アルキル基、及びこれらの基の水素原子を炭素原子数が６〜３０、好ましくは６〜２０のアリール基で置換した基（クミル基など）、アダマンチル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどの炭素原子数が３〜３０、好ましくは３〜２０の環状飽和炭化水素基から選ばれる基であることが好ましく、あるいはフェニル、ナフチル、フルオレニル、アントラニル、フェナントリルなどの炭素原子数６〜３０、好ましくは６〜２０のアリール基、または炭化水素置換シリル基であることも好ましい。
【０３２３】
Ｒ１〜Ｒ１９は、これらのうちの２個以上の基、好ましくは隣接する基が互いに連結して脂肪環、芳香族環または、窒素原子などの異原子を含む炭化水素環を形成していてもよく、これらの環はさらに置換基を有していてもよい。
また、ｍまたはｎが２以上の場合には、Ｒ１〜Ｒ７、およびＲ８〜Ｒ１９で示される基のうち２個以上の基が連結されていてもよい。ただし、Ｒ１およびＲ１１同士は結合されることはない。さらに、ｍまたはｎが２以上の場合には、Ｒ１同士、Ｒ２同士、Ｒ３同士、Ｒ４同士、Ｒ５同士、Ｒ６同士、Ｒ７同士、Ｒ８同士、Ｒ９同士、Ｒ１０同士、Ｒ１１同士、Ｒ１２同士、Ｒ１３同士、Ｒ１４同士、Ｒ１５同士、Ｒ１６同士、Ｒ１７同士、Ｒ１８同士、Ｒ１９同士は、互いに同じであっても異なっていてもよい。
【０３２４】
ｌは、Ｍの原子価を満たす数であり、具体的には０〜５、好ましくは１〜４、より好ましくは１〜３の整数である。Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示す。なおｌが２以上の場合には、互いに同一であっても、異なっていてもよく、またＸで示される複数の基は互いに結合して環を形成してもよい。
以下に、上記一般式（Ｖ）で表される遷移金属化合物の具体的な例を示すが、これらに限定されるものではない。
【０３２５】
【化１２６】

【０３２６】
なお、上記例示中、Ｍｅはメチル気、Ｅｔはエチル気、ｉＰｒはｉｓｏ−プロピル基、ｔｅｒｔ−Ｂｕはてｒｔ−ブチル基、Ｐｈはフェニル基を示す。さらに中心金属をチタンからジルコニウム、ハフニウム、コバルトまたはレロジウムに置き換えた化合物も挙げられる。
以上のような遷移金属化合物（Ａ）および（Ａ′）は、１種単独または２種以上組み合わせて用いられる。また、上記以外の遷移金属化合物、例えば窒素、酸素、硫黄、硼素または燐などのヘテロ原子を含有する配位子からなる公知の遷移金属化合物と組み合わせて用いることもできる。
【０３２７】
さらに、遷移金属化合物（Ａ）および（Ａ′）には、下記のような遷移金属化合物を使用することもできる。
（ａ−１）下記式で表される遷移金属イミド化合物（Ｉ−ｃ）
【０３２８】
【化１２７】

【０３２９】
式中、Ｍは、周期表第８〜１０族の遷移金属原子を示し、好ましくはニッケル、パラジウムまたは白金である。Ｒ２１〜Ｒ２４は、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素数１〜５０の炭化水素基、炭素数１〜５０のハロゲン化炭化水素基、炭化水素置換シリル基または窒素、酸素、リン、イオウおよびケイ素から選ばれる少なくとも１種の元素を含む置換基で置換された炭化水素基を示す。
Ｒ２１〜Ｒ２４で表される基は、これらのうちの２個以上、好ましくは隣接する基が互いに連結して環を形成していてもよい。ｑは０〜４の整数を示す。
Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、ケイ素含有基または窒素含有基を示し、ｑが２以上の場合には、Ｘで示される複数の基は互いに同一であっても、異なっていてもよい。
（ａ−２）下記式で表される遷移金属アミド化合物（Ｉ−ｄ）
【０３３０】
【化１２８】

【０３３１】
式中、Ｍは、周期表第３〜６族の遷移金属原子を示し、チタン、ジルコニウムまたはハフニウムであることが好ましい。Ｒ′およびＲ″は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、炭素数１〜５０の炭化水素基、炭素数１〜５０のハロゲン化炭化水素基、炭化水素置換シリル基、または、窒素、酸素、リン、硫黄およびケイ素から選ばれる少なくとも１種の元素を有する置換基を示す。
ｍは、０〜２の整数である。ｎは、１〜５の整数である。Ａは、周期表第１３〜１６族の原子を示し、具体的には、ホウ素、炭素、窒素、酸素、ケイ素、リン、硫黄、ゲルマニウム、セレン、スズなどが挙げられ、炭素またはケイ素であることが好ましい。ｎが２以上の場合には、複数のＡは、互いに同一でも異なっていてもよい。
Ｅは、炭素、水素、酸素、ハロゲン、窒素、硫黄、リン、ホウ素およびケイ素から選ばれる少なくとも１種の元素を有する置換基である。ｍが２の場合、２個のＥは、互いに同一でも異なっていてもよく、あるいは互いに連結して環を形成していてもよい。
【０３３２】
ｐは、０〜４の整数である。Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜２０の炭化水素基、炭素原子数が１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、ケイ素含有基または窒素含有基を示す。なおｐが２以上の場合には、Ｘで示される複数の基は、互いに同一でも異なっていてもよい。これらのうち、Ｘはハロゲン原子、炭素原子数が１〜２０の炭化水素基またはスルホネート基であることが好ましい。
（ａ−３）下記式で表される遷移金属ジフェノキシ化合物（Ｉ−ｅ）
【０３３３】
【化１２９】

【０３３４】
式中、Ｍは周期律表第３〜１１族の遷移金属原子を示し、ｌおよびｍはそれぞれ０または１の整数であり、ＡおよびＡ′は炭素原子数１〜５０の炭化水素基、炭素原子数１〜５０のハロゲン化炭化水素、または、酸素、硫黄またはケイ素を含有する置換基を持つ炭化水素基、または炭素原子数１〜５０のハロゲン化炭化水素基であり、ＡとＡ′は同一でも異なっていてもよい。
【０３３５】
Ｂは、炭素原子数０〜５０の炭化水素基、炭素原子数１〜５０のハロゲン化炭化水素基、Ｒ１Ｒ２Ｚで表される基、酸素または硫黄であり、ここで、Ｒ１およびＲ２は炭素原子数１〜２０の炭化水素基または少なくとも１個のヘテロ原子を含む炭素原子数１〜２０の炭化水素基であり、Ｚは炭素、窒素、硫黄、リンまたはケイ素を示す。
【０３３６】
ｎは、Ｍの価数を満たす数である。Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、ケイ素含有基または窒素含有基を示し、ｎが２以上の場合は、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、あるいは互いに結合して環を形成してもよい。
（ａ−４）下記式で表される少なくとも１個のヘテロ原子を含むシクロペンタジエニル骨格を有する配位子を含む遷移金属化合物（Ｉ−ｆ）
【０３３７】
【化１３０】

【０３３８】
式中、Ｍは周期律表３〜１１族の遷移金属原子を示す。Ｘは、周期律表第１３、１４または１５族の原子を示し、Ｘのうちの少なくとも１つは炭素以外の元素である。
ａは、０または１を示す。Ｒは、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、炭化水素基置換シリル基、または窒素、酸素、リン、イオウおよびケイ素から選ばれる少なくとも１種の元素を含む置換基で置換された炭化水素基を示し、２個以上のＲが互いに連結して環を形成していてもよい。
【０３３９】
ｂは、１〜４の整数であり、ｂが２以上の場合、各［（（Ｒ）ａ）５−Ｘ５］基は同一でも異なっていてもよく、さらにＲ同士が架橋していてもよい。ｃは、Ｍの価数を満たす数である。
Ｙは、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、ケイ素含有基または窒素含有基を示す。
【０３４０】
ｃが２以上の場合は、Ｙで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＹで示される複数の基は互いに結合して環を形成してもよい。
（ａ−５）式ＲＢ（Ｐｚ）３ＭＸｎで表される遷移金属化合物式中、Ｍは、周期律表３〜１１族遷移金属化合物を示し、Ｒは水素原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基または炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基を示し、Ｐｚは、ピラゾイル基または置換ピラゾイル基を示す。
【０３４１】
ｎは、Ｍの価数を満たす数である。Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、ケイ素含有基または窒素含有基を示す。ｎが２以上の場合は、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、あるいは互いに結合して環を形成してもよい。
（ａ−６）下記式で示される遷移金属化合物（Ｉ−ｇ）
【０３４２】
【化１３１】

【０３４３】
式中、Ｙ１およびＹ３は、互いに同一であっても異なっていてもよく、周期律表第１５族の元素であり、Ｙ２は周期律表第１６族の元素である。Ｒ２１〜Ｒ２８は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基またはケイ素含有基を示し、これらのうち２個以上が互いに連結して環を形成していてもよい。
（ａ−７）下記式（Ｉ−ｈ）で表される化合物とＶＩＩＩ族の遷移金属原子との化合物
【０３４４】
【化１３２】

【０３４５】
式中、Ｒ３１〜Ｒ３４は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基または炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基であり、これらのうち２個以上が互いに連結して環を形成していてもよい。
（ａ−８）下記式（Ｉ−ｉ）で示される遷移金属化合物
【０３４６】
【化１３３】

【０３４７】
式中、Ｍは、周期律表第３〜１１族の遷移金属原子を示し、ｍは、０〜３の整数であり、ｎは、０または１の整数であり、ｐは、１〜３の整数であり、ｑは、Ｍの価数を満たす数である。
【０３４８】
Ｒ４１〜Ｒ４８は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、ケイ素含有基または窒素含有基を示し、これらのうちの２個以上が互いに連結して環を形成していてもよい。
【０３４９】
Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、ケイ素含有基または窒素含有基を示し、ｑが２以上の場合は、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またはＸで示される複数の基は互いに結合して環を形成してもよい。
Ｙは、ボラータベンゼン環を架橋する基であり、炭素、ケイ素またはゲルマニウムを示す。Ａは、周期律表第１４、１５または１６族の元素を示す。
【０３５０】
（Ｂ−１）有機金属化合物
本発明で用いられる（Ｂ−１）有機金属化合物として、具体的には下記のような周期律表第１、２族および第１２、１３族の有機金属化合物が用いられる。
（Ｂ−１ａ）
一般式ＲａｍＡｌ（ＯＲｂ）ｎＨｐＸｑ（式中、ＲａおよびＲｂは、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、ｍは０＜ｍ≦３、ｎは０≦ｎ＜３、ｐは０≦ｐ＜３、ｑは０≦ｑ＜３の数であり、かつｍ＋ｎ＋ｐ＋ｑ＝３である。）で表される有機アルミニウム化合物。
【０３５１】
（Ｂ−１ｂ）
一般式Ｍ２ＡｌＲａ４（式中、ＭはＬｉ、ＮａまたはＫを示し、Ｒａは炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示す。）で表される周期律表第１族金属とアルミニウムとの錯アルキル化物。
【０３５２】
（Ｂ−１ｃ）
一般式ＲａＲｂＭ３（式中、ＲａおよびＲｂは、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、Ｍ３はＭｇ、ＺｎまたはＣｄである。）で表される周期律表第２族または第１２族金属のジアルキル化合物。
前記（Ｂ−１ａ）に属する有機アルミニウム化合物としては、次のような化合物などを例示できる。一般式ＲａｍＡｌ（ＯＲｂ）３−ｍ（式中、ＲａおよびＲｂは、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、ｍは好ましくは１．５≦ｍ≦３の数である。）で表される有機アルミニウム化合物、一般式ＲａｍＡｌＸ３−ｍ（式中、Ｒａは炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、ｍは好ましくは０＜ｍ＜３である。）で表される有機アルミニウム化合物、一般式ＲａｍＡｌＨ３−ｍ（式中、Ｒａは炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、ｍは好ましくは２≦ｍ＜３である。）で表される有機アルミニウム化合物、一般式ＲａｍＡｌ（ＯＲｂ）ｎＸｑ（式中、ＲａおよびＲｂは、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、ｍは０＜ｍ≦３、ｎは０≦ｎ＜３、ｑは０≦ｑ＜３の数であり、かつｍ＋ｎ＋ｑ＝３である。）で表される有機アルミニウム化合物。
【０３５３】
（Ｂ−１ａ）に属する有機アルミニウム化合物としてより具体的にはトリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリｎ−ブチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリペンチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム、トリデシルアルミニウムなどのトリｎ−アルキルアルミニウム；トリイソプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリｓｅｃ−ブチルアルミニウム、トリｔｅｒｔ−ブチルアルミニウム、トリ２−メチルブチルアルミニウム、トリ３−メチルブチルアルミニウム、トリ２−メチルペンチルアルミニウム、トリ３−メチルペンチルアルミニウム、トリ４−メチルペンチルアルミニウム、トリ２−メチルヘキシルアルミニウム、トリ３−メチルヘキシルアルミニウム、トリ２−エチルヘキシルアルミニウムなどのトリ分岐鎖アルキルアルミニウム；トリシクロヘキシルアルミニウム、トリシクロオクチルアルミニウムなどのトリシクロアルキルアルミニウム；トリフェニルアルミニウム、トリトリルアルミニウムなどのトリアリールアルミニウム；ジイソブチルアルミニウムハイドライドなどのジアルキルアルミニウムハイドライド；（ｉ−Ｃ_４Ｈ_９）_ｘＡｌ_ｙ（Ｃ_５Ｈ_１０）_ｚ（式中、ｘ、ｙ、ｚは正の数であり、ｚ≧２ｘである。）などで表されるトリイソプレニルアルミニウムなどのトリアルケニルアルミニウム；イソブチルアルミニウムメトキシド、イソブチルアルミニウムエトキシド、イソブチルアルミニウムイソプロポキシドなどのアルキルアルミニウムアルコキシド；ジメチルアルミニウムメトキシド、ジエチルアルミニウムエトキシド、ジブチルアルミニウムブトキシドなどのジアルキルアルミニウムアルコキシド；エチルアルミニウムセスキエトキシド、ブチルアルミニウムセスキブトキシドなどのアルキルアルミニウムセスキアルコキシド；Ｒａ_２．５Ａｌ（ＯＲｂ）_０．５などで表される平均組成を有する部分的にアルコキシ化されたアルキルアルミニウム；ジエチルアルミニウムフェノキシド、ジエチルアルミニウム（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノキシド）、エチルアルミニウムビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノキシド）、ジイソブチルアルミニウム（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノキシド）、イソブチルアルミニウムビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノキシド）などのジアルキルアルミニウムアリーロキシド；ジメチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムクロリド、ジブチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムブロミド、ジイソブチルアルミニウムクロリドなどのジアルキルアルミニウムハライド；エチルアルミニウムセスキクロリド、ブチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウムセスキブロミドなどのアルキルアルミニウムセスキハライド；エチルアルミニウムジクロリド、プロピルアルミニウムジクロリド、ブチルアルミニウムジブロミドなどのアルキルアルミニウムジハライドなどの部分的にハロゲン化されたアルキルアルミニウム；ジエチルアルミニウムヒドリド、ジブチルアルミニウムヒドリドなどのジアルキルアルミニウムヒドリド；エチルアルミニウムジヒドリド、プロピルアルミニウムジヒドリドなどのアルキルアルミニウムジヒドリドなどその他の部分的に水素化されたアルキルアルミニウム；エチルアルミニウムエトキシクロリド、ブチルアルミニウムブトキシクロリド、エチルアルミニウムエトキシブロミドなどの部分的にアルコキシ化およびハロゲン化されたアルキルアルミニウムなどを挙げることができる。
【０３５４】
また（Ｂ−１ａ）に類似する化合物も使用することができ、たとえば窒素原子を介して２以上のアルミニウム化合物が結合した有機アルミニウム化合物を挙げることができる。このような化合物として具体的には、（Ｃ_２Ｈ_５）_２ＡｌＮ（Ｃ_２Ｈ_５）Ａｌ（Ｃ_２Ｈ_５）_２などを挙げることができる。
前記（Ｂ−１ｂ）に属する化合物としては、ＬｉＡｌ（Ｃ_２Ｈ_５）_４、ＬｉＡｌ（Ｃ_７Ｈ_１５）_４などを挙げることができる。またその他にも、（Ｂ−１）有機金属化合物としては、メチルリチウム、エチルリチウム、プロピルリチウム、ブチルリチウム、メチルマグネシウムブロミド、メチルマグネシウムクロリド、エチルマグネシウムブロミド、エチルマグネシウムクロリド、プロピルマグネシウムブロミド、プロピルマグネシウムクロリド、ブチルマグネシウムブロミド、ブチルマグネシウムクロリド、ジメチルマグネシウム、ジエチルマグネシウム、ジブチルマグネシウム、ブチルエチルマグネシウムなどを使用することもできる。
【０３５５】
また重合系内で上記有機アルミニウム化合物が形成されるような化合物、たとえばハロゲン化アルミニウムとアルキルリチウムとの組み合わせ、またはハロゲン化アルミニウムとアルキルマグネシウムとの組み合わせなどを使用することもできる。
（Ｂ−１）有機金属化合物のなかでは、有機アルミニウム化合物が好ましい。上記のような（Ｂ−１）有機金属化合物は、１種単独でまたは２種以上組み合わせて用いられる。
【０３５６】
（Ｂ−２）活性化化合物
本発明で用いられる活性化化合物は、遷移金属化合物と反応してイオン対を形成する化合物であり、（Ｂ−２ａ）有機アルミニウムオキシ化合物、および（Ｂ−２ｂ）その他の活性化化合物を挙げることができる。
【０３５７】
（Ｂ−２ａ）有機アルミニウムオキシ化合物
本発明で用いられる（Ｂ−２ａ）有機アルミニウムオキシ化合物は、従来公知のアルミノキサンであってもよく、また特開平２−７８６８７号公報に例示されているようなベンゼン不溶性の有機アルミニウムオキシ化合物であってもよい。
【０３５８】
従来公知のアルミノキサンは、たとえば下記のような方法によって製造することができ、通常、炭化水素溶媒の溶液として得られる。（１）吸着水を含有する化合物または結晶水を含有する塩類、たとえば塩化マグネシウム水和物、硫酸銅水和物、硫酸アルミニウム水和物、硫酸ニッケル水和物、塩化第１セリウム水和物などの炭化水素媒体懸濁液に、トリアルキルアルミニウムなどの有機アルミニウム化合物を添加して、吸着水または結晶水と有機アルミニウム化合物とを反応させる方法。（２）ベンゼン、トルエン、エチルエーテル、テトラヒドロフランなどの媒体中で、トリアルキルアルミニウムなどの有機アルミニウム化合物に直接水、氷または水蒸気を作用させる方法。（３）デカン、ベンゼン、トルエンなどの媒体中でトリアルキルアルミニウムなどの有機アルミニウム化合物に、ジメチルスズオキシド、ジブチルスズオキシドなどの有機スズ酸化物を反応させる方法。
【０３５９】
なお該アルミノキサンは、少量の有機金属成分を含有してもよい。また回収された上記のアルミノキサンの溶液から溶媒または未反応有機アルミニウム化合物を蒸留して除去した後、溶媒に再溶解またはアルミノキサンの貧溶媒に懸濁させてもよい。
アルミノキサンを調製する際に用いられる有機アルミニウム化合物として具体的には、前記（Ｂ−１ａ）に属する有機アルミニウム化合物として例示したものと同様の有機アルミニウム化合物を挙げることができる。
これらのうち、トリアルキルアルミニウム、トリシクロアルキルアルミニウムが好ましく、トリメチルアルミニウムが特に好ましい。上記のような有機アルミニウム化合物は、１種単独でまたは２種以上組み合わせて用いられる。
【０３６０】
アルミノキサンの調製に用いられる溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン、シメンなどの芳香族炭化水素、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ドデカン、ヘキサデカン、オクタデカンなどの脂肪族炭化水素、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロオクタン、メチルシクロペンタンなどの脂環族炭化水素、ガソリン、灯油、軽油などの石油留分または上記芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、脂環族炭化水素のハロゲン化物とりわけ、塩素化物、臭素化物などの炭化水素溶媒が挙げられる。さらにエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類を用いることもできる。これらの溶媒のうち特に芳香族炭化水素または脂肪族炭化水素が好ましい。
【０３６１】
また本発明で用いられるベンゼン不溶性の有機アルミニウムオキシ化合物は、６０℃のベンゼンに溶解するＡｌ成分がＡｌ原子換算で通常１０％以下、好ましくは５％以下、特に好ましくは２％以下であるもの、すなわち、ベンゼンに対して不溶性または難溶性であるものが好ましい。
本発明で用いられる有機アルミニウムオキシ化合物としては、下記一般式（１）で表されるボロンを含んだ有機アルミニウムオキシ化合物を挙げることもできる。
【０３６２】
【化１３４】

【０３６３】
式中、Ｒ１７は炭素原子数が１〜１０の炭化水素基を示す。Ｒ１８は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜１０の炭化水素基を示す。
前記一般式（１）で表されるボロンを含んだ有機アルミニウムオキシ化合物は、下記一般式（２）で表されるアルキルボロン酸と
Ｒ１７−Ｂ−（ＯＨ）_２ …（２）
（式中、Ｒ１７は前記と同じ基を示す。）有機アルミニウム化合物とを、不活性ガス雰囲気下に不活性溶媒中で、−８０℃〜室温の温度で１分〜２４時間反応させることにより製造できる。
【０３６４】
前記一般式（２）で表されるアルキルボロン酸の具体的なものとしては、メチルボロン酸、エチルボロン酸、イソプロピルボロン酸、ｎ−プロピルボロン酸、ｎ−ブチルボロン酸、イソブチルボロン酸、ｎ−ヘキシルボロン酸、シクロヘキシルボロン酸、フェニルボロン酸、３，５−ジフルオロボロン酸、ペンタフルオロフェニルボロン酸、３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルボロン酸などが挙げられる。これらの中では、メチルボロン酸、ｎ−ブチルボロン酸、イソブチルボロン酸、３，５−ジフルオロフェニルボロン酸、ペンタフルオロフェニルボロン酸が好ましい。これらは１種単独でまたは２種以上組み合わせて用いられる。
【０３６５】
このようなアルキルボロン酸と反応させる有機アルミニウム化合物として具体的には、前記（Ｂ−１ａ）に属する有機アルミニウム化合物として例示したものと同様の有機アルミニウム化合物を挙げることができる。
これらのうち、トリアルキルアルミニウム、トリシクロアルキルアルミニウムが好ましく、特にトリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウムが好ましい。これらは１種単独でまたは２種以上組み合わせて用いられる。
【０３６６】
上記のような（Ｂ−２）有機アルミニウムオキシ化合物は、１種単独でまたは２種以上組み合わせて用いられる。
【０３６７】
（Ｂ−２ｂ）遷移金属化合物と反応してイオン対を形成するその他の活性化化合物
本発明で用いられる遷移金属化合物と反応してイオン対を形成する有機アルミニウムオキシ化合物以外の化合物（Ｂ−２ｂ）としては、特開平１−５０１９５０号公報、特開平１−５０２０３６号公報、特開平３−１７９００５号公報、特開平３−１７９００６号公報、特開平３−２０７７０３号公報、特開平３−２０７７０４号公報、ＵＳＰ−５３２１１０６号などに記載されたルイス酸、イオン性化合物、ボラン化合物およびカルボラン化合物などを挙げることができる。さらに、ヘテロポリ化合物およびイソポリ化合物も挙げることができる。
【０３６８】
具体的には、ルイス酸としては、ＢＲ_３（Ｒは、フッ素、メチル基、トリフルオロメチル基などの置換基を有していてもよいフェニル基またはフッ素である。）で示される化合物が挙げられ、たとえばトリフルオロボロン、トリフェニルボロン、トリス（４−フルオロフェニル）ボロン、トリス（３，５−ジフルオロフェニル）ボロン、トリス（４−フルオロメチルフェニル）ボロン、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボロン、トリス（ｐ−トリル）ボロン、トリス（ｏ−トリル）ボロン、トリス（３，５−ジメチルフェニル）ボロンなどが挙げられる。
イオン性化合物としては、たとえば下記一般式（３）で表される化合物が挙げられる。
【０３６９】
【化１３５】

【０３７０】
式中、Ｒ１９としては、Ｈ＋、カルボニウムカチオン、オキソニウムカチオン、アンモニウムカチオン、ホスホニウムカチオン、シクロヘプチルトリエニルカチオン、遷移金属を有するフェロセニウムカチオンなどが挙げられる。
【０３７１】
Ｒ２０〜Ｒ２３は、互いに同一でも異なっていてもよく、有機基、好ましくはアリール基または置換アリール基である。前記カルボニウムカチオンとして具体的には、トリフェニルカルボニウムカチオン、トリ（メチルフェニル）カルボニウムカチオン、トリ（ジメチルフェニル）カルボニウムカチオンなどの三置換カルボニウムカチオンなどが挙げられる。
【０３７２】
前記アンモニウムカチオンとして具体的には、トリメチルアンモニウムカチオン、トリエチルアンモニウムカチオン、トリプロピルアンモニウムカチオン、トリブチルアンモニウムカチオン、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムカチオンなどのトリアルキルアンモニウムカチオン；Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−２，４，６−ペンタメチルアニリニウムカチオンなどのＮ，Ｎ−ジアルキルアニリニウムカチオン；ジ（イソプロピル）アンモニウムカチオン、ジシクロヘキシルアンモニウムカチオンなどのジアルキルアンモニウムカチオンなどが挙げられる。
【０３７３】
前記ホスホニウムカチオンとして具体的には、トリフェニルホスホニウムカチオン、トリ（メチルフェニル）ホスホニウムカチオン、トリ（ジメチルフェニル）ホスホニウムカチオンなどのトリアリールホスホニウムカチオンなどが挙げられる。
Ｒ１９としては、カルボニウムカチオン、アンモニウムカチオンなどが好ましく、特にトリフェニルカルボニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムカチオンが好ましい。
またイオン性化合物として、トリアルキル置換アンモニウム塩、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリニウム塩、ジアルキルアンモニウム塩、トリアリールホスフォニウム塩などを挙げることもできる。
【０３７４】
トリアルキル置換アンモニウム塩として具体的には、たとえばトリエチルアンモニウムテトラ（フェニル）ホウ素、トリプロピルアンモニウムテトラ（フェニル）ホウ素、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムテトラ（フェニル）ホウ素、トリメチルアンモニウムテトラ（ｐ−トリル）ホウ素、トリメチルアンモニウムテトラ（ｏ−トリル）ホウ素、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ホウ素、トリプロピルアンモニウムテトラ（ｏ，ｐ−ジメチルフェニル）ホウ素、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムテトラ（ｍ，ｍ−ジメチルフェニル）ホウ素、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムテトラ（ｐ−トリフルオロメチルフェニル）ホウ素、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムテトラ（３，５−ジトリフルオロメチルフェニル）ホウ素、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムテトラ（ｏ−トリル）ホウ素などが挙げられる。
【０３７５】
Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリニウム塩として具体的には、たとえばＮ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラ（フェニル）ホウ素、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムテトラ（フェニル）ホウ素、Ｎ，Ｎ−２，４，６−ペンタメチルアニリニウムテトラ（フェニル）ホウ素などが挙げられる。
ジアルキルアンモニウム塩として具体的にはは、たとえばジ（１−プロピル）アンモニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ホウ素、ジシクロヘキシルアンモニウムテトラ（フェニル）ホウ素などが挙げられる。
【０３７６】
さらにイオン性化合物として、トリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、フェロセニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルカルベニウムペンタフェニルシクロペンタジエニル錯体、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムペンタフェニルシクロペンタジエニル錯体、下記式（４）または（５）で表されるホウ素化合物などを挙げることもできる。
【０３７７】
【化１３６】

（式中、Ｅｔはエチル基を示す。）
【０３７８】
【化１３７】

【０３７９】
ボラン化合物として具体的には、たとえばデカボラン（１４）；ビス〔トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム〕ノナボレート、ビス〔トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム〕デカボレート、ビス〔トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム〕ウンデカボレート、ビス〔トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム〕ドデカボレート、ビス〔トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム〕デカクロロデカボレート、ビス〔トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム〕ドデカクロロドデカボレートなどのアニオンの塩；トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムビス（ドデカハイドライドドデカボレート）コバルト酸塩（ＩＩＩ）、ビス〔トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム〕ビス（ドデカハイドライドドデカボレート）ニッケル酸塩（ＩＩＩ）などの金属ボランアニオンの塩などが挙げられる。
カルボラン化合物として具体的には、たとえば４−カルバノナボラン（１４）、１，３−ジカルバノナボラン（１３）、６，９−ジカルバデカボラン（１４）、ドデカハイドライド−１−フェニル−１，３−ジカルバノナボラン、ドデカハイドライド−１−メチル−１，３−ジカルバノナボラン、ウンデカハイドライド−１，３−ジメチル−１，３−ジカルバノナボラン、７，８−ジカルバウンデカボラン（１３）、２，７−ジカルバウンデカボラン（１３）、ウンデカハイドライド−７，８−ジメチル−７，８−ジカルバウンデカボラン、ドデカハイドライド−１１−メチル−２，７−ジカルバウンデカボラン、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム１−カルバデカボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム１−カルバウンデカボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム１−カルバドデカボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム１−トリメチルシリル−１−カルバデカボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムブロモ−１−カルバドデカボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム６−カルバデカボレート（１４）、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム６−カルバデカボレート（１２）、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム７−カルバウンデカボレート（１３）、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム７，８−ジカルバウンデカボレート（１２）、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム２，９−ジカルバウンデカボレート（１２）、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムドデカハイドライド−８−メチル−７，９−ジカルバウンデカボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムウンデカハイドライド−８−エチル−７，９−ジカルバウンデカボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムウンデカハイドライド−８−ブチル−７，９−ジカルバウンデカボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムウンデカハイドライド−８−アリル−７，９−ジカルバウンデカボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムウンデカハイドライド−９−トリメチルシリル−７，８−ジカルバウンデカボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムウンデカハイドライド−４，６−ジブロモ−７−カルバウンデカボレートなどのアニオンの塩；トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムビス（ノナハイドライド−１，３−ジカルバノナボレート）コバルト酸塩（ＩＩＩ）、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムビス（ウンデカハイドライド−７，８−ジカルバウンデカボレート）鉄酸塩（ＩＩＩ）、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムビス（ウンデカハイドライド−７，８−ジカルバウンデカボレート）コバルト酸塩（ＩＩＩ）、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムビス（ウンデカハイドライド−７，８−ジカルバウンデカボレート）ニッケル酸塩（ＩＩＩ）、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムビス（ウンデカハイドライド−７，８−ジカルバウンデカボレート）銅酸塩（ＩＩＩ）、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムビス（ウンデカハイドライド−７，８−ジカルバウンデカボレート）金酸塩（ＩＩＩ）、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムビス（ノナハイドライド−７，８−ジメチル−７，８−ジカルバウンデカボレート）鉄酸塩（ＩＩＩ）、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムビス（ノナハイドライド−７，８−ジメチル−７，８−ジカルバウンデカボレート）クロム酸塩（ＩＩＩ）、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムビス（トリブロモオクタハイドライド−７，８−ジカルバウンデカボレート）コバルト酸塩（ＩＩＩ）、トリス〔トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム〕ビス（ウンデカハイドライド−７−カルバウンデカボレート）クロム酸塩（ＩＩＩ）、ビス〔トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム〕ビス（ウンデカハイドライド−７−カルバウンデカボレート）マンガン酸塩（ＩＶ）、ビス〔トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム〕ビス（ウンデカハイドライド−７−カルバウンデカボレート）コバルト酸塩（ＩＩＩ）、ビス〔トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム〕ビス（ウンデカハイドライド−７−カルバウンデカボレート）ニッケル酸塩（ＩＶ）などの金属カルボランアニオンの塩などが挙げられる。
【０３８０】
ヘテロポリ化合物は、ケイ素、リン、チタン、ゲルマニウム、ヒ素もしくは錫からなる原子と、バナジウム、ニオブ、モリブデンおよびタングステンから選ばれる１種または２種以上の原子からなっている。具体的には、リンバナジン酸、ゲルマノバナジン酸、ヒ素バナジン酸、リンニオブ酸、ゲルマノニオブ酸、シリコノモリブデン酸、リンモリブデン酸、チタンモリブデン酸、ゲルマノモリブデン酸、ヒ素モリブデン酸、錫モリブデン酸、リンタングステン酸、ゲルマノタングステン酸、錫タングステン酸、リンモリブドバナジン酸、リンタングストバナジンン酸、ゲルマノタングストバナジンン酸、リンモリブドタングストバナジン酸、ゲルマノモリブドタングストバナジン酸、リンモリブドタングステン酸、リンモリブドニオブ酸、これらの酸の塩、例えば周期律表第Ｉａ族またはＩＩａ族の金属、具体的には、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム等との塩、およびトリフェニルエチル塩等の有機塩、およびイソポリ化合物を使用できるが、この限りではない。
【０３８１】
ヘテロポリ化合物およびイソポリ化合物としては、上記の化合物の中の１種に限らず、２種以上用いることができる。上記のような（Ｂ−３）イオン化イオン性化合物は、１種単独でまたは２種以上組み合わせて用いられる。
本発明に係る遷移金属化合物を触媒とする場合、助触媒成分としてのメチルアルミノキサンなどの有機アルミニウムオキシ化合物（Ｂ−２）とを併用すると、オレフィン化合物に対して非常に高い重合活性を示す。また助触媒成分としてトリフェニルカルボニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなどのイオン化イオン性化合物（Ｂ−３）を用いると良好な活性で非常に分子量の高いオレフィン重合体が得られる。
【０３８２】
また、本発明に係るオレフィン重合用触媒は、上記説明した、遷移金属化合物（Ａ）、（Ｂ−１）有機金属化合物、（Ｂ−２）活性化化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物（Ｂ）とともに、必要に応じて後述するような担体（Ｃ）を用いることもできる。
【０３８３】
（Ｃ）担体
本発明で用いられる（Ｃ）担体は、無機または有機の化合物であって、顆粒状ないしは微粒子状の固体である。
このうち無機化合物としては、多孔質酸化物、無機塩化物、粘土、粘土鉱物またはイオン交換性層状化合物が好ましい。多孔質酸化物として、具体的にはＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＭｇＯ、ＺｒＯ、ＴｉＯ_２、Ｂ_２Ｏ_３、ＣａＯ、ＺｎＯ、ＢａＯ、ＴｈＯ_２など、またはこれらを含む複合物または混合物を使用、例えば天然または合成ゼオライト、ＳｉＯ_２−ＭｇＯ、ＳｉＯ_２−Ａｌ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２−ＴｉＯ_２、ＳｉＯ_２−Ｖ_２Ｏ_５、ＳｉＯ_２−Ｃｒ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２−ＴｉＯ_２−ＭｇＯなどを使用することができる。これらのうち、ＳｉＯ_２および／またはＡｌ_２Ｏ_３を主成分とするものが好ましい。
【０３８４】
なお、上記無機酸化物は、少量のＮａ_２ＣＯ_３、Ｋ_２ＣＯ_３、ＣａＣＯ_３、ＭｇＣＯ_３、Ｎａ_２ＳＯ_４、Ａｌ_２（ＳＯ_４）_３、ＢａＳＯ_４、ＫＮＯ_３、Ｍｇ（ＮＯ_３）_２、Ａｌ（ＮＯ_３）_３、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏ、Ｌｉ_２Ｏなどの炭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、酸化物成分を含有していても差し支えない。
このような多孔質酸化物は、種類および製法によりその性状は異なるが、本発明に好ましく用いられる担体は、粒径が１０〜３００μｍ、好ましくは２０〜２００μｍであって、比表面積が５０〜１０００ｍ^２／ｇ、好ましくは１００〜７００ｍ^２／ｇの範囲にあり、細孔容積が０．３〜３．０ｃｍ^３／ｇの範囲にあることが望ましい。このような担体は、必要に応じて１００〜１０００℃、好ましくは１５０〜７００℃で焼成して使用される。
【０３８５】
無機塩化物としては、ＭｇＣｌ_２、ＭｇＢｒ_２、ＭｎＣｌ_２、ＭｎＢｒ_２等が用いられる。無機塩化物は、そのまま用いてもよいし、ボールミル、振動ミルにより粉砕した後に用いてもよい。また、アルコールなどの溶媒に無機塩化物を溶解させた後、析出剤によってを微粒子状に析出させたものを用いることもできる。
本発明で用いられる粘土は、通常粘土鉱物を主成分として構成される。また、本発明で用いられるイオン交換性層状化合物は、イオン結合などによって構成される面が互いに弱い結合力で平行に積み重なった結晶構造を有する化合物であり、含有するイオンが交換可能なものである。大部分の粘土鉱物はイオン交換性層状化合物である。また、これらの粘土、粘土鉱物、イオン交換性層状化合物としては、天然産のものに限らず、人工合成物を使用することもできる。
【０３８６】
また、粘土、粘土鉱物またはイオン交換性層状化合物として、粘土、粘土鉱物、また、六方細密パッキング型、アンチモン型、ＣｄＣｌ_２型、ＣｄＩ_２型などの層状の結晶構造を有するイオン結晶性化合物などを例示することができる。
このような粘土、粘土鉱物としては、カオリン、ベントナイト、木節粘土、ガイロメ粘土、アロフェン、ヒシンゲル石、パイロフィライト、ウンモ群、モンモリロナイト群、バーミキュライト、リョクデイ石群、パリゴルスカイト、カオリナイト、ナクライト、ディッカイト、ハロイサイトなどが挙げられ、イオン交換性層状化合物としては、α−Ｚｒ（ＨＡｓＯ_４）_２・Ｈ_２Ｏ、α−Ｚｒ（ＨＰＯ_４）_２、α−Ｚｒ（ＫＰＯ_４）_２・３Ｈ_２Ｏ、α−Ｔｉ（ＨＰＯ_４）_２、α−Ｔｉ（ＨＡｓＯ_４）_２・Ｈ_２Ｏ、α−Ｓｎ（ＨＰＯ_４）_２・Ｈ_２Ｏ、γ―Ｚｒ（ＨＰＯ_４）_２、γ−Ｔｉ（ＨＰＯ_４）_２、γ−Ｔｉ（ＮＨ_４ＰＯ_４）_２・Ｈ_２Ｏなどの多価金属の結晶性酸性塩などが挙げられる。
【０３８７】
このような粘土、粘土鉱物またはイオン交換性層状化合物は、水銀圧入法で測定した半径２０オングストローム以上の細孔容積が０．１ｃｃ／ｇ以上のものが好ましく、０．３〜５ｃｃ／ｇのものが特に好ましい。ここで、細孔容積は、水銀ポロシメーターを用いた水銀圧入法により、細孔半径２０〜３×１０^４Åの範囲について測定される。
【０３８８】
半径２０Å以上の細孔容積が０．１ｃｃ／ｇより小さいものを担体として用いた場合には、高い重合活性が得られにくい傾向がある。本発明で用いられる粘土、粘土鉱物には、化学処理を施すことも好ましい。化学処理としては、表面に付着している不純物を除去する表面処理、粘土の結晶構造に影響を与える処理など、何れも使用できる。化学処理として具体的には、酸処理、アルカリ処理、塩類処理、有機物処理などが挙げられる。酸処理は、表面の不純物を取り除くほか、結晶構造中のＡｌ、Ｆｅ、Ｍｇなどの陽イオンを溶出させることによって表面積を増大させる。アルカリ処理では粘土の結晶構造が破壊され、粘土の構造の変化をもたらす。また、塩類処理、有機物処理では、イオン複合体、分子複合体、有機誘導体などを形成し、表面積や層間距離を変えることができる。
【０３８９】
本発明で用いられるイオン交換性層状化合物は、イオン交換性を利用し、層間の交換性イオンを別の大きな嵩高いイオンと交換することにより、層間が拡大した状態の層状化合物であってもよい。このような嵩高いイオンは、層状構造を支える支柱的な役割を担っており、通常、ピラーと呼ばれる。また、このように層状化合物の層間に別の物質を導入することをインターカレーションという。インターカレーションするゲスト化合物としては、ＴｉＣｌ４、ＺｒＣｌ４などの陽イオン性無機化合物、Ｔｉ（ＯＲ）_４、Ｚｒ（ＯＲ）_４、ＰＯ（ＯＲ）_３、Ｂ（ＯＲ）_３などの金属アルコキシド（Ｒは炭化水素基など）、［Ａｌ_１３Ｏ_４（ＯＨ）_２４］^７＋、［Ｚｒ_４（ＯＨ）_１４］^２＋、［Ｆｅ_３Ｏ（ＯＣＯＣＨ_３）_６］^＋などの金属水酸化物イオンなどが挙げられる。これらの化合物は単独でまたは２種以上組み合わせて用いられる。また、これらの化合物をインターカレーションする際に、Ｓｉ（ＯＲ）_４、Ａｌ（ＯＲ）_３、Ｇｅ（ＯＲ）_４などの金属アルコキシド（Ｒは炭化水素基など）などを加水分解して得た重合物、ＳｉＯ_２などのコロイド状無機化合物などを共存させることもできる。また、ピラーとしては、上記金属水酸化物イオンを層間にインターカレーションした後に加熱脱水することにより生成する酸化物などが挙げられる。
【０３９０】
本発明で用いられる粘土、粘土鉱物、イオン交換性層状化合物は、そのまま用いてもよく、またボールミル、ふるい分けなどの処理を行った後に用いてもよい。また、新たに水を添加吸着させ、あるいは加熱脱水処理した後に用いてもよい。さらに、単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
これらのうち、好ましいものは粘土または粘土鉱物であり、特に好ましいものはモンモリロナイト、バーミキュライト、ペクトライト、テニオライトおよび合成雲母である。
【０３９１】
有機化合物としては、粒径が１０〜３００μｍの範囲にある顆粒状ないしは微粒子状固体を挙げることができる。具体的には、エチレン、プロピレン、１−ブテン、４−メチル−１−ペンテンなどの炭素原子数が２〜１４のα−オレフィンを主成分として生成される（共）重合体またはビニルシクロヘキサン、スチレンを主成分として生成される（共）重合体、およびびそれらの変成体を例示することができる。
さらに、本発明に係る第一のオレフィン重合用触媒は、上記遷移金属化合物（Ａ）、（Ｂ−１）有機金属化合物、（Ｂ−２）活性化化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物（Ｂ）、必要に応じて担体（Ｃ）と共に、必要に応じて後述するような特定の有機化合物（Ｄ）を含むこともできる。
【０３９２】
（Ｄ）有機化合物成分
本発明において、（Ｄ）有機化合物成分は、必要に応じて、重合性能および生成ポリマーの物性を向上させる目的で使用される。このような有機化合物としては、アルコール類、フェノール性化合物、カルボン酸、リン化合物およびスルホン酸塩等が挙げられるが、この限りではない。
【０３９３】
アルコール類およびフェノール性化合物としては、通常、Ｒ３１−ＯＨで表されるものが使用され、ここで、Ｒ３１は炭素原子数１〜５０の炭化水素基または炭素原子数１〜５０のハロゲン化炭化水素基を示す。
アルコール類としては、Ｒ３１がハロゲン化炭化水素のものが好ましい。また、フェノール性化合物としては、水酸基のα，α′−位が炭素数１〜２０の炭化水素で置換されたものが好ましい。
【０３９４】
カルボン酸としては、通常、Ｒ３２−ＣＯＯＨで表されるものが使用される。Ｒ３２は炭素原子数１〜５０の炭化水素基または炭素原子数１〜５０のハロゲン化炭化水素基を示し、特に、炭素原子数１〜５０のハロゲン化炭化水素基
が好ましい。
燐化合物としては、Ｐ−Ｏ−Ｈ結合を有する燐酸類、Ｐ−ＯＲ、Ｐ＝Ｏ結合を有するホスフェート、ホスフィンオキシド化合物が好ましく使用される。スルホン酸塩としては、下記一般式（６）で表されるものが使用される。
【０３９５】
【化１３８】

【０３９６】
式中、Ｍは周期律表１−１４族の元素である。Ｒ３３は水素、炭素原子数１〜２０の炭化水素基または炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基である。
Ｘは水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜２０の炭化水素基、炭素原子数が１〜２０のハロゲン化炭化水素基である。ｍは１〜７の整数であり、ｎは１≦ｎ≦７である。
【０３９７】
（オレフィン重合触媒の調製）
図１に、本発明に係る第一のオレフィン重合触媒の調製工程を示す。重合の際、各成分の使用法、添加順序は任意に選ばれるが、以下のような方法が例示される。
（１）成分（Ａ）と、（Ｂ−１）有機金属化合物、（Ｂ−２）有機アルミニウムオキシ化合物および（Ｂ−３）イオン化イオン性化合物から選ばれる少なくとも１種の成分（Ｂ）（以下単に「成分（Ｂ）」という。）とを任意の順序で重合器に添加する方法。
（２）成分（Ａ）と成分（Ｂ）とを予め接触させた触媒を重合器に添加する方法。
（３）成分（Ａ）と成分（Ｂ）を予め接触させた触媒成分、および成分（Ｂ）を任意の順序で重合器に添加する方法。この場合、成分（Ｂ）は、同一でも異なっていてもよい。
（４）成分（Ａ）を担体（Ｃ）に担持した触媒成分、および成分（Ｂ）を任意の順序で重合器に添加する方法。
（５）成分（Ａ）と成分（Ｂ）とを担体（Ｃ）に担持した触媒を重合器に添加する方法。
【０３９８】
（６）成分（Ａ）と成分（Ｂ）とを担体（Ｃ）に担持した触媒成分、および成分（Ｂ）を任意の順序で重合器に添加する方法。この場合、成分（Ｂ）は、同一でも異なっていてもよい。
（７）成分（Ｂ）を担体（Ｃ）に担持した触媒成分、および成分（Ａ）を任意の順序で重合器に添加する方法。
（８）成分（Ｂ）を担体（Ｃ）に担持した触媒成分、成分（Ａ）、および成分（Ｂ）を任意の順序で重合器に添加する方法。この場合、成分（Ｂ）は、同一でも異なっていてもよい。
（９）成分（Ａ）を担体（Ｃ）に担持した成分、および成分（Ｂ）を担体（Ｃ）に担持した成分を任意の順序で重合器に添加する方法。
（１０）成分（Ａ）を担体（Ｃ）に担持した成分、成分（Ｂ）を担体（Ｃ）に担持した成分、および成分（Ｂ）を任意の順序重合器に添加する方法。この場合、成分（Ｂ）は、同一でも異なっていてもよい。
【０３９９】
（１１）成分（Ａ）、成分（Ｂ）、および有機化合物成分（Ｄ）を任意の順序で重合器に添加する方法。
（１２）成分（Ｂ）と成分（Ｄ）をあらかじめ接触させた成分、および成分（Ａ）を任意の順序で重合器に添加する方法。
（１３）成分（Ｂ）と成分（Ｄ）を担体（Ｃ）に担持した成分、および成分（Ａ）を任意の順序で重合器に添加する方法。
（１４）成分（Ａ）と成分（Ｂ）を予め接触させた触媒成分、および成分（Ｄ）を任意の順序で重合器に添加する方法。
（１５）成分（Ａ）と成分（Ｂ）を予め接触させた触媒成分、および成分（Ｂ）、成分（Ｄ）を任意の順序で重合器に添加する方法。
【０４００】
（１６）成分（Ａ）と成分（Ｂ）を予め接触させた触媒成分、および成分（Ｂ）と成分（Ｄ）をあらかじめ接触させた成分を任意の順序で重合器に添加する方法。
（１７）成分（Ａ）を担体（Ｃ）に担持した成分、成分（Ｂ）、および成分（Ｄ）を任意の順序で重合器に添加する方法。
（１８）成分（Ａ）を担体（Ｃ）に担持した成分、および成分（Ｂ）と成分（Ｄ）をあらかじめ接触させた成分を任意の順序で重合器に添加する方法。
（１９）成分（Ａ）と成分（Ｂ）と成分（Ｄ）を予め任意の順序で接触させた触媒成分を重合器に添加する方法。
（２０）成分（Ａ）と成分（Ｂ）と成分（Ｄ）を予め接触させた触媒成分、および成分（Ｂ）を任意の順序で重合器に添加する方法。この場合、成分（Ｂ）は、同一でも異なっていてもよい。
【０４０１】
（２１）成分（Ａ）と成分（Ｂ）と成分（Ｄ）を担体（Ｃ）に担持した触媒を重合器に添加方法。
（２２）成分（Ａ）と成分（Ｂ）と成分（Ｄ）を担体（Ｃ）に担持した触媒成分、および成分（Ｂ）を任意の順序で重合器に添加する方法。この場合、成分（Ｂ）は、同一でも異なっていてもよい。
上記の担体（Ｃ）に成分（Ａ）および成分（Ｂ）が担持された固体触媒成分はオレフィンが予備重合されていてもよい。本発明に係る第１のオレフィンの重合方法では、上記のようなオレフィン重合触媒の存在下に、オレフィンを重合または共重合することによりオレフィン重合体を得る。
【０４０２】
（重合反応）
本発明では、重合は溶解重合、懸濁重合などの液相重合法または気相重合法のいずれにおいても実施できる。液相重合法において用いられる不活性炭化水素媒体として具体的には、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ドデカン、灯油などの脂肪族炭化水素；シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロペンタンなどの脂環族炭化水素；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素；エチレンクロリド、クロルベンゼン、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素またはこれらの混合物などを挙げることができ、オレフィン自身を溶媒として用いることもできる。
【０４０３】
上記のようなオレフィン重合用触媒を用いて、オレフィンの重合を行うに際して、成分（Ａ）は、反応容積１リットル当り、通常１０−１２〜１０−２モル、好ましくは１０−１０〜１０−３モルとなるような量で用いられる。本発明では、成分（Ａ）を、比較的薄い濃度で用いた場合であっても、高い重合活性でオレフィンを重合することができる。ここで、「反応容積」とは、液相重合においては溶媒の容積であり、気相重合においては反応器の容積である。
【０４０４】
成分（Ｂ−１）は、成分（Ｂ−１）と、成分（Ａ）中の遷移金属原子（Ｍ）とのモル比〔（Ｂ−１）／Ｍ〕が、通常０．０１〜１０００００、好ましくは０．０５〜５００００となるような量で用いられる。成分（Ｂ−２ａ）は、成分（Ｂ−２ａ）中のアルミニウム原子と、成分（Ａ）中の遷移金属原子（Ｍ）とのモル比〔（Ｂ−２ａ）／Ｍ〕が、通常１０〜５０００００、好ましくは２０〜１０００００となるような量で用いられる。成分（Ｂ−２ｂ）は、成分（Ｂ−２ｂ）と、成分（Ａ）中の遷移金属原子（Ｍ）とのモル比〔（Ｂ−２ｂ）／Ｍ〕が、通常１〜１０、好ましくは１〜５となるような量で用いられる。
【０４０５】
成分（Ｄ）は成分（Ｂ）に対して、成分（Ｂ−１）の場合は、モル比〔（Ｄ）／（Ｂ−１）〕が通常０．０１〜１０、好ましくは０．１〜５となるような量で、成分（Ｂ−２ａ）の場合は、成分（Ｄ）と成分（Ｂ−２ａ）中のアルミニウム原子とのモル比〔（Ｄ）／（Ｂ−２ａ）〕が通常０．００１〜２、好ましくは０．００５〜１となるような量で、成分（Ｂ−２ｂ）の場合は、モル比〔（Ｄ）／（Ｂ−２ｂ）〕が通常０．０１〜１０、好ましくは０．１〜５となるような量で用いられる。
【０４０６】
また、このようなオレフィン重合触媒を用いたオレフィンの重合温度は、通常−５０〜＋２００℃、好ましくは０〜１７０℃の範囲である。重合圧力は、通常常圧〜１００ｋｇ／ｃｍ^２、好ましくは常圧〜５０ｋｇ／ｃｍ^２の条件下であり、重合反応は、回分式、半連続式、連続式のいずれの方法においても行うことができる。さらに重合を反応条件の異なる２段以上に分けて行うことも可能である。
得られるオレフィン重合体の分子量は、重合系に水素を存在させるか、または重合温度を変化させることによって調節することができる。さらに、使用する成分（Ｂ）の違いにより調節することもできる。
【０４０７】
本発明の遷移金属化合物を触媒に用いて重合することができる脂肪族オレフィン化合物としては、炭素原子数が２〜３０、好ましくは２〜２０の直鎖状または分岐状のα−オレフィン、たとえばエチレン、プロピレン、１−ブテン、２−ブテン、１−ペンテン、３−メチル−１−ブテン、１−ヘキセン、４−メチル−１−ペンテン、３−メチル−１−ペンテン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセン、１−ヘキサデセン、１−オクタデセン、１−エイコセン；炭素原子数が３〜３０、好ましくは３〜２０の環状オレフィン、たとえばシクロペンテン、シクロヘプテン、ノルボルネン、５−メチル−２−ノルボルネン、テトラシクロドデセン、２−メチル１，４，５，８−ジメタノ−１，２，３，４，４ａ，５，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン；極性モノマー、たとえば、アクリル酸、メタクリル酸、フマル酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、ビシクロ（２，２，１）−５−ヘプテン−２，３−ジカルボン酸無水物などのα，β−不飽和カルボン酸、およびこれらのナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩、亜鉛塩、マグネシウム塩、カルシウム塩などの金属塩；アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−プロピル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ｎ−プロピル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸イソブチルなどのα，β−不飽和カルボン酸エステル；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、カプロン酸ビニル、カプリン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、トリフルオロ酢酸ビニルなどのビニルエステル類；アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、イタコン酸モノグリシジルエステルなどの不飽和グリシジルなどを挙げることができる。また、ビニルシクロヘキサン、ジエンまたはポリエンなどを用いることもできる。ジエンまたはポリエンとしては、炭素原子数が４〜３０、好ましくは４〜２０であり二個以上の二重結合を有する環状又は鎖状の化合物が用いられる。具体的には、ブタジエン、イソプレン、４−メチル−１，３−ペンタジエン、１，３−ペンタジエン、１，４−ペンタジエン、１，５−ヘキサジエン、１，４−ヘキサジエン、１，３−ヘキサジエン、１，３−オクタジエン、１，４−オクタジエン、１，５−オクタジエン、１，６−オクタジエン、１，７−オクタジエン、エチリデンノルボルネン、ビニルノルボルネン、ジシクロペンタジエン；７−メチル−１，６−オクタジエン、４−エチリデン−８−メチル−１，７−ノナジエン、５，９−ジメチル−１，４，８−デカトリエン；さらに芳香族ビニル化合物、例えばスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ，ｐ−ジメチルスチレン、ｏ−エチルスチレン、ｍ−エチルスチレン、ｐ−エチルスチレンなどのモノもしくはポリアルキルスチレン；メトキシスチレン、エトキシスチレン、ビニル安息香酸、ビニル安息香酸メチル、ビニルベンジルアセテート、ヒドロキシスチレン、ｏ−クロロスチレン、ｐ−クロロスチレン、ジビニルベンゼンなどの官能基含有スチレン誘導体；および３−フェニルプロピレン、４−フェニルプロピレン、α−メチルスチレンなどが挙げられる。
【０４０８】
本発明の遷移金属化合物を触媒に用いて重合可能な芳香族オレフィン化合物としては以下のスチレン類やビニルナフタレン類ならびにそれらの側鎖および（または）核置換体が挙げられる。
ここでスチレン類としては、特に制限はなく、スチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−エチルスチレン、ｐ−プロピルスチレン、ｐ−イソプロピルスチレン、ｐ−ブチルスチレン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルスチレン、ｐ−フェニルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｏ−エチルスチレン、ｏ−プロピルスチレン、ｏ−イソプロピルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｍ−エチルスチレン、ｍ−イソプロピルスチレン、ｍ−ブチルスチレン、メシチルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、２，５−ジメチルスチレン、３，５−ジメチルスチレン等のアルキルスチレン類、ｐ−メトキシスチレン、ｏ−メトキシスチレン、ｍ−メトキシスチレン等のアルコキシスチレン類、ｐ−クロロスチレン、ｍ−クロロスチレン、ｏ−クロロスチレン、ｐ−ブロモスチレン、ｍ−ブロモスチレン、ｏ−ブロモスチレン、ｐ−フルオロスチレン、ｍ−フルオロスチレン、ｏ−フルオロスチレン、ｏ−メチル−ｐ−フルオロスチレン等のハロゲン化スチレン、更にはトリメチルシリルスチレン、ビニル安息香酸エステル、３−フェニルプロピレン、４−フェニルプロピレン、α−メチルスチレン、ジビニルベンゼン等を挙げることができる。
上記のスチレン類の中でもスチレン、アルキルスチレン類、ジビニルベンゼンが好ましい。中でも、スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ジビニルベンゼンが好ましい。
【０４０９】
また共役ジエンとしては、たとえば１，３−ブタジエン、イソプレン、クロロプレン、１，３−シクロヘキサジエン、１，３−ペンタジエン、４−メチル−１，３−ペンタジエン、１，３−ヘキサジエン、１，３−オクタジエンなどの炭素原子数が４〜３０、好ましくは４〜２０の脂肪族共役ジエンが挙げられる。これらの共役ジエンは、１種単独でまたは２種以上組み合わせて用いることができる。
【０４１０】
本発明では、α−オレフィンと共役ジエンとを共重合させるに際して、さらに非共役ジエンまたはポリエンを用いることができ、非共役ジエンまたはポリエンとしては、１，４−ペンタジエン、１，５−ヘキサジエン、１，４−ヘキサジエン、１，４−オクタジエン、１，５−オクタジエン、１，６−オクタジエン、１，７−オクタジエン、エチリデンノルボルネン、ビニルノルボルネン、ジシクロペンタジエン、７−メチル−１，６−オクタジエン、４−エチリデン−８−メチル−１，７− ノナジエン、５，９−ジメチル−１，４，８−
デカトリエン等を挙げることができる。
【０４１１】
（オレフィン重合体）
本発明に係るオレフィン重合体の製造方法においては、前述のようにして得られたオレフィン重合用触媒の存在下に、オレフィン類の単独重合、又はオレフィンと他のオレフィン類及び／又は他の単量体との共重合（つまり、異種のオレフィン類相互との共重合、オレフィン類と他の単量体との共重合、あるいは異種のオレフィン類相互と他の単量体との共重合）を好適に行うことができる。
【０４１２】
ここで用いられるオレフィンとしては、α−オレフィンが好ましく、上記と同様の炭素原子数が２〜３０、好ましくは２〜２０の直鎖状または分岐状のα−オレフィンが挙げられる。なかでもエチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、４−メチル−１−ペンテン、１−オクテンが好ましく、エチレン、プロピレンが特に好ましい。これらのα−オレフィンは、１種単独でまたは２種以上組み合わせて用いることができる。
【０４１３】
また共役ジエンとしては、たとえば１，３−ブタジエン、イソプレン、クロロプレン、１，３−シクロヘキサジエン、１，３−ペンタジエン、４−メチル−１，３−ペンタジエン、１，３−ヘキサジエン、１，３−オクタジエンなどの炭素原子数が４〜３０、好ましくは４〜２０の脂肪族共役ジエンが挙げられる。これらの共役ジエンは、１種単独でまたは２種以上組み合わせて用いることができる。
【０４１４】
本発明では、α−オレフィンと共役ジエンとを共重合させるほかに、さらに非共役ジエンまたはポリエンを用いることができ、非共役ジエンまたはポリエンとしては、１，４−ペンタジエン、１，５−ヘキサジエン、１，４−ヘキサジエン、１，４−オクタジエン、１，５−オクタジエン、１，６−オクタジエン、１，７−オクタジエン、エチリデンノルボルネン、ビニルノルボルネン、ジシクロペンタジエン、７−メチル−１，６−オクタジエン、４−エチリデン−８−メチル−１，７− ノナジエン、５，９−ジメチル−１，４，８− デカトリエン等を挙げることができる。
【０４１５】
また、オレフィン重合体は、３．５以下の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）の値を示し、均一な組成分布を有し、分子量は重量平均分子量（Ｍｗ）で１０００以上、好ましくは５０００以上である。
本発明において、α−オレフィンと共役ジエン、非共役ジエンまたはポリエンは、主鎖または側鎖に２重結合を有することにより、各種変性が可能である。例えば過酸化物変性により、２重結合をエポキシ化し、共重合体中に反応性に富むエポキシ基を導入することができる。これにより、熱硬化型樹脂としての利用、または反応性樹脂としての利用も可能となる。さらには、ディールスアルダー反応、マイケル付加反応等にも２重結合は利用可能である。その他、主鎖に２重結合を有する場合には、２重結合を選択的に水素添加し、飽和することによって、耐熱性、耐オゾン性もさらに向上する。
【０４１６】
本発明において、オレフィン共重合体の一部または全部を不飽和カルボン酸、その誘導体、または芳香族ビニル化合物で変性してもよく、その変性量は０．０１〜３０重量％の範囲であることが好ましい。
【０４１７】
変性に用いられるモノマー（以下、「グラフトモノマー」という。）としては、不飽和カルボン酸、その誘導体、または芳香族ビニル化合物が挙げられる。不飽和カルボン酸としては、具体的には、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸などが挙げられる。また不飽和カルボン酸の誘導体としては、酸無水物、エステル、アミド、イミド、金属塩などが挙げられ、具体的には、無水マレイン酸、無水シトラコン酸、無水イタコン酸、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、メタクリル酸ブチル、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、マレイン酸モノエチルエステル、マレイン酸ジエチルエステル、フマル酸モノメチルエステル、フマル酸ジメチルエステル、イタコン酸モノメチルエステル、イタコン酸ジエチルエステル、アクリルアミド、メタクリルアミド、マレイン酸モノアミド、マレイン酸ジアミド、マレイン酸−Ｎ−モノエチルアミド、マレイン酸−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミド、マレイン酸−Ｎ−モノブチルアミド、マレイン酸−Ｎ，Ｎ−ジブチルアミド、フマル酸モノアミド、フマル酸ジアミド、フマル酸−Ｎ−モノエチルアミド、フマル酸−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミド、フマル酸−Ｎ−モノブチルアミド、フマル酸−Ｎ，Ｎ−ジブチルアミド、マレイミド、Ｎ−ブチルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、アクリル酸ナトリウム、メタクリル酸ナトリウム、アクリル酸カリウム、メタクリル酸カリウムなどが挙げられる。これらのグラフトモノマーの中では無水マレイン酸を使用することが好ましい。
【０４１８】
芳香族ビニル化合物としては具体的に、スチレン；ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ，ｐ−ジメチルスチレン、ｏ−エチルスチレン、ｍ−エチルスチレン、ｐ−エチルスチレンなどのモノもしくはポリアルキルスチレン；メトキシスチレン、エトキシスチレン、ビニル安息香酸、ビニル安息香酸メチル、ビニルベンジルアセテート、ヒドロキシスチレン、ｏ−クロロスチレン、ｐ−クロロスチレン、ジビニルベンゼンなどの官能基含有スチレン誘導体；３−フェニルプロピレン、４−フェニルブテン、α−メチルスチレンなどが挙げられる。これらのなかではスチレンまたは４−メトキシスチレンが好ましい。
【０４１９】
グラフトモノマーをα−オレフィン共重合体にグラフト共重合して変性共重合体を製造するには、公知の種々の方法を採用することができる。例えば、α−オレフィン共重合体およびグラフトモノマーを溶媒の存在下または不存在下で、ラジカル開始剤を添加してまたは添加せずに高温で加熱することによってグラフト共重合を行なう方法がある。反応に際し、グラフトモノマーは、２種以上併用してもよい。
【０４２０】
グラフト率が０．０１〜３０重量％の一部または全部が変性されたグラフト変性α−オレフィン系共重合体を製造するには、工業的製造上からは、グラフト率のより高いグラフト変性α−オレフィン共重合体を製造しておき、次に未変性α−オレフィン共重合体にこのグラフト変性α−オレフィン共重合体を混合してグラフト率を調整する方法が、組成物中のグラフトモノマーの濃度を適当に調整できるため好ましい方法であるが、最初からα−オレフィン共重合体を所定量のグラフトモノマーでグラフト変性しても差し支えない。
【０４２１】
α−オレフィン共重合体へのグラフトモノマーによる変性量は、上記のような樹脂組成物全体におけるグラフト率が０．０１〜３０重量％、特に０．０５〜１０重量％の範囲にあることが好ましい。
本発明に係るα−オレフィン共重合体（上記の変性物を含む）は、（ｉ）ポリオレフィン樹脂、および必要に応じ（ｉｉ）充填剤とブレンドして樹脂組成物とし、種々の用途に使用できる。
【０４２２】
（ｉ）ポリオレフィン樹脂
本発明に係るα−オレフィン・共役ジエン系共重合体にブレンドできる（ｉ）ポリオレフィン樹脂としては、結晶性ポリオレフィンであっても、非晶性ポリオレフィンであってもよく、また複数種のポリオレフィン樹脂の混合物であってもよい。
結晶性ポリオレフィンとしては、炭素原子数が２〜２０のα−オレフィンまたは環状オレフィンの単独重合体または共重合体が挙げられる。また、非晶性ポリオレフィンとしては、１種類以上の炭素原子数が２〜２０のα−オレフィンと１種類以上の環状オレフィンとの共重合体が挙げられる。
【０４２３】
この炭素原子数が２〜２０のα−オレフィンとしては、エチレン、プロピレン、１−ブテン、２−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、４−メチル−１−ペンテン、４，４ージメチル−１−ペンテン、３−メチル−１−ペンテン、４−メチル−１−ヘキセン、３−エチル−１−ヘキセン、４−エチル−１−ヘキセン、４，４−ジメチル−１−ヘキセン、１−オクテン、３−メチル−１−ブテン、１−ノネン、１−デセン、１−ウンデセン、１−ドデセン、１−テトラデセン、１−ヘキサデセン、１−オクタデセン、１−エイコセンなどが挙げられる。
【０４２４】
環状オレフィンとしては、シクロペンテン、シクロヘプテン、シクロヘキセン、ノルボルネン、５−エチル−２−ノルボルネン、テトラシクロドデセン、２−エチル−１，４，５，８−ジメタノ−１，２，３，４，４ａ，５，８，８ａ−オクタヒドロナフタレンなどが挙げられる。結晶性ポリオレフィン樹脂の具体的な例としては、下記の（１）〜（１１）に示すような（共）重合体が挙げられ、特に下記の（３）および（５）が好ましい。（１）エチレン単独重合体（製法は、低圧法、高圧法のいずれでも良い）（２）エチレンと、２０モル％以下の他のα−オレフィンまたはビニルモノマー（例：酢酸ビニル、エチルアクリレートなど）または環状オレフィンとの共重合体（３）プロピレン単独重合体（４）プロピレンと２０モル％以下の他のα−オレフィンとのランダム共重合体（５）プロピレンと３０モル％以下の他のα−オレフィンとのブロック共重合体（６）１−ブテン単独重合体（７）１−ブテンと２０モル％以下の他のα−オレフィンとのランダム共重合体（８）４−メチル−１−ペンテン単独重合体（９）４−メチル−１−ペンテンと２０モル％以下の他のα−オレフィンとのランダム共重合体（１０）シクロペンテン単独重合体（１１）シクロペンテンと２０モル％以下の他のα−オレフィンとのランダム共重合体など。
【０４２５】
上記（１）〜（１１）における「他のα−オレフィン」としては、上記例示のα−オレフィンのうちでは好ましくは、エチレン、プロピレン、１−ブテン、４−メチル−１−ペンテン、１−ヘキセン、１−オクテンが用いられる。また、環状オレフィンとしては、好ましくは、シクロペンテン、シクロヘキセン、ノルボルネン、テトラシクロドデセンが用いられる。
【０４２６】
このような結晶性ポリオレフィン樹脂は、メルトフローレート（ＡＳＴＭＤ１２３８−６５Ｔに従い２３０℃、２．１６ｋｇ荷重の条件下に測定）が０．０１〜１００ｇ／１０分、好ましくは０．３〜７０ｇ／１０分の範囲にあることが望ましい。また、Ｘ線回折法により求めた結晶化度は通常５〜１００％、好ましくは２０〜８０％の範囲にあることが望ましい。
【０４２７】
このような結晶性ポリオレフィン樹脂は、従来より公知の方法により製造することができる。非晶性ポリオレフィン樹脂の具体的な例としては、以下のような（共）重合体を挙げることができる。（１）ノルボルネンの単独重合体（２）エチレンとノルボルネンの共重合体、またはエチレンとノルボルネンと他のα−オレフィンとの共重合体（３）エチレンとテトラシクロドデセンの共重合体、またはエチレンとテトラシクロドデセンと他のα−オレフィンとの共重合体など。
【０４２８】
（ｉｉ）充填剤
本発明に係るα−オレフィン共重合体にブレンドできる充填剤としては、特に制限なく一般に用いられるものを必要に応じて用いることができる。
無機充填剤として、具体的には、微粉末タルク、カオリナイト、焼成クレー、パイロフィライト、セリサイト、ウォラスナイトなどの珪酸塩、沈降性炭酸カルシウム、重質炭酸カルシウム、炭酸マグネシウムなどの炭酸塩、水産化アルミニウム、水酸化マグネシウムなどの水酸化物、酸化亜鉛、亜鉛華、酸化マグネシウムなどの酸化物、含水珪酸カルシウム、含水珪酸アルミニウム、含水珪酸、無水珪酸などの合成珪酸または珪酸塩などの粉末状充填剤；マイカなどのフレーク状充填剤；塩基性硫酸マグネシウムウィスカー、チタン酸カルシウムウィスカー、ホウ酸アルミニウムウィスカー、セピオライト、ＰＭＦ（ＰｒｏｃｅｓｓｅｄＭｉｎｅｒａｌＦｉｂｅｒ）、ゾノトライト、チタン酸カリ、エレスタダイトなどの繊維状充填剤；ガラスバルン、フライアッシュバルンなどのバルン状充填剤；などを挙げることができる。
【０４２９】
これらの充填剤は、１種または２種以上組み合わせて用いることができる。本発明に係るα−オレフィン共重合体に、前記（ｉ）ポリオレフィン樹脂および（ｉｉ）充填剤をブレンドする場合、得られる組成物の合計量を１００重量部とするとき、α−オレフィン共重合体は１０〜９０重量部、好ましくは１５〜８０重量部、さらに好ましくは２０〜７５重量部の量で含有されていることが望ましい。
α−オレフィン共重合体を上記のような範囲の量で用いると、耐衝撃性、耐候性、熱安定性に優れるとともに、剛性、強度、耐熱性に優れた成形体を提供し得る、成形性に優れたα−オレフィン共重合体組成物が得られる。
【０４３０】
（ｉ）ポリオレフィン樹脂は、得られる組成物の合計量を１００重量部とするとき、１〜９９重量部、好ましくは１０〜８５重量部、さらに好ましくは２０〜８０重量部の量で含有されていることが望ましい。
（ｉ）ポリオレフィン樹脂を上記のような範囲の量で用いると、耐衝撃性、耐寒性に優れるとともに、剛性、強度、耐熱性、成形性に優れたα−オレフィン共重合体組成物が得られる。
【０４３１】
（ｉｉ）充填剤は、得られる組成物の合計量を１００重量部とするとき、０〜４０重量部、好ましくは０〜３０重量部の範囲の量で含有されていることが望ましい。このような量で（ｉｉ）充填剤を用いると、剛性、表面外観、耐熱性等に優れた組成物が得られる。
さらに、本発明に係るα−オレフィン共重合体には、本発明の目的を損なわない範囲で、核剤、酸化防止剤、塩酸吸収剤、耐熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤、難燃剤、顔料、染料、分散剤、銅害防止剤、中和剤、発泡剤、可塑剤、気泡防止剤、架橋剤、架橋助剤、架橋促進剤、過酸化物などの流れ性改良剤、ウェルド強度改良剤、加工助剤、耐候安定剤、ブルーミング防止剤などの添加剤を添加してもよい。これら任意の添加剤は、２種以上組み合わせて用いてもよい。
【０４３２】
【実施例】
以下、実施例に基づいて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。ここで合成実施例で得られた化合物の構造は、２７０ＭＨｚ ^１Ｈ−ＮＭＲ（日本電子ＧＳＨ−２７０）を用いて決定した。本実施例において、極限粘度［η］は、１３５℃デカリン中で測定した。分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、ｏ−ジクロルベンゼンを溶媒として、１４０℃におけるゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定して求めた。
以下に具体的な配位子合成例を示す。
【０４３３】
（配位子合成例１）配位子（Ｌ１）の合成
充分に窒素置換した１００ｍｌの反応器にエタノール５０ｍｌ、無水硫酸ナトリウム（５ｇ）、アニリン２．９５ｇ（３１．６８ｍｍｏｌ）および３−ｔ−ブチルサリチルアルデヒド５．０ｇ（２８．０５ｍｍｏｌ）を装入し、室温で２４時間撹拌を続けた。反応液を濾過し、減圧濃縮して溶媒を除去し、シリカゲルカラムで分別してＬ１で示される橙色オイルの化合物を６．７１ｇ（２６．５２ｍｍｏｌ、収率９５％）を得た。
【０４３４】
【化１３９】

１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：１．４７（ｓ、９Ｈ）６．７８−７．４４（ｍ、８Ｈ）８．６２（ｓ、１Ｈ）１３．９０（ｓ、１Ｈ）
【０４３５】
（配位子合成例２）配位子（Ｌ２）の合成
充分に窒素置換した２００ｍｌの反応器にトルエン１００ｍｌ、アニリン２．９５ｇ（３１．６１ｍｍｏｌ）、ｐ−ＴｓＯＨ（少量）およびピロ−ル−２−カルボキシアルデヒド２０．００ｇ（２１．０３ｍｍｏｌ）を装入し、モレキュラーシーブス３Ａを５ｇを添加後、室温下２４時間撹拌を続けた。この反応液を減圧濃縮し、シリカゲルカラムにより精製して、Ｌ２で示される黒褐色の固体化合物を２．１７ｇ（１２．７６ｍｍｏｌ、収率６１％）得た。
【０４３６】
【化１４０】

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：６．３６（ｓ、１Ｈ）６．７８（ｓ、１Ｈ）７．０８（ｓ、１Ｈ）７．２２−７．４４（ｍ、５Ｈ）８．３６（ｓ、１Ｈ）９．５（ｓ（Ｂｒｏａｄ）、１Ｈ）
【０４３７】
（配位子合成例３）配位子（Ｌ３）の合成
充分に窒素置換した３００ｍｌの反応器にトルエン１００ｍｌ、ｐ−ＴｓＯＨ（少量）、ペンタフルオロアニリン１０．３４ｇ（５６．６２ｍｍｏｌ）および３−ｔ−ブチルサリチルアルデヒド５．００ｇ（２８．０５ｍｍｏｌ）を装入し、還流下で７時間撹拌を続けた。この反応液に無水硫酸ナトリウムを加え乾燥したのち、減圧濃縮し、シリカゲルカラムにより精製することで、Ｌ３で示される黄橙色の固体化合物を１１．９１ｇ（３４．７２ｍｍｏｌ、収率９５％）得た。
【０４３８】
【化１４１】

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：１．３５（ｓ、９Ｈ）７．０３（ｔ、１Ｈ）７．２９（ｄ−ｄ、１Ｈ）７．６４（ｄ−ｄ、１Ｈ）８．８２（ｓ、１Ｈ）１２．８８（ｓ、１Ｈ）
【０４３９】
（配位子合成例４）配位子（Ｌ４）の合成
充分に窒素置換した３００ｍｌの反応器にトルエン１５０ｍｌ、ペンタフルオロアニリン７．７１ｇ（４２．１１ｍｍｏｌ）、ｐ−ＴｓＯＨ（少量）およびピロ−ル−２−カルボキシアルデヒド２．００ｇ（２１．０３ｍｍｏｌ）を装入し、モレキュラーシーブス３Ａを５ｇを添加後、室温下１２時間撹拌し、さらに還流下で８時間撹拌を続けた。この反応液を減圧濃縮し、シリカゲルカラムにより精製して、Ｌ４で示される黒褐色の固体化合物を３．１７ｇ（１２．１９ｍｍｏｌ、収率５８％）得た。
【０４４０】
【化１４２】

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：６．３６（ｓ、１Ｈ）６．７８（ｓ、１Ｈ）７．０８（ｓ、１Ｈ）８．３６（ｓ、１Ｈ）９．５（ｓ（Ｂｒｏａｄ）、１Ｈ）
以下に本発明に係る遷移金属化合物の具体的な合成例を示す。
【０４４１】
（合成実施例１）化合物Ａ−１の合成：
充分に乾燥、窒素置換した１００ｍｌの反応器に、化合物Ｌ１；１．５２ｇ（６．００ｍｍｏｌ）とジエチルエーテル６０ｍｌを仕込み、−７８℃に冷却し、撹拌した。これにｎ−ブチルリチウム（１．６０ｍｍｏｌ／ｍｌｎ−ヘキサン溶液、６．３ｍｍｏｌ）を滴下し、その後ゆっくりと室温まで昇温し、室温で６時間撹拌を続け、リチウム塩溶液を調製した。この溶液を、−７８℃に冷却した四塩化チタン溶液（６ｍｍｏｌ（１．０ｍｍｏｌ／ｍｌトルエン溶液）とジエチルエーテル１６０ｍｌの混合溶液に徐々に滴下した。
【０４４２】
滴下終了後、ゆっくりと室温まで昇温しながら撹拌を続けた。さらに室温で１６時間撹拌した後、この反応液をグラスフィルターで濾過し、さらに得られた固体を塩化メチレンで溶解洗浄し、不溶物を除去した。ろ液を減圧濃縮し、析出した固体を塩化メチレン１０ｍｌに溶解し、ジエチルエーテール１６０ｍｌを添加し、Ｌ１−四塩化チタン−ジエチルエーテル混合溶液を調整し、この混合液を−７８℃に冷却し撹拌した。
【０４４３】
別途、充分に乾燥、窒素置換した１００ｍｌの反応器に、化合物Ｌ２；１．０２ｇ（６．００ｍｍｏｌ）とジエチルエーテル６０ｍｌを仕込み、−７８℃に冷却し、撹拌した。これにｎ−ブチルリチウム（１．６０ｍｍｏｌ／ｍｌｎ−ヘキサン溶液、６．３ｍｍｏｌ）を滴下し、その後ゆっくりと室温まで昇温し、室温で６時間撹拌を続け、リチウム塩溶液を調製した。この溶液を、先に調整したＬ１−四塩化チタン−ジエチルエーテル混合液に−７８℃でゆっくりと滴下した。
【０４４４】
滴下終了後、ゆっくりと室温まで昇温しながら撹拌を続けた。さらに室温で１６時間撹拌した後、この反応液をグラスフィルターで濾過し、さらに得られた固体を塩化メチレンで溶解洗浄し、不溶物を除去した。ろ液を減圧濃縮し、析出した固体を塩化メチレン１０ｍｌに溶解し、さらにｎ−ヘキサン１５０ｍｌを加え、固体を析出させた。固体をろ別し、ヘキサンで洗浄後、減圧乾燥させることにより下記式で示される。黒褐色の化合物Ａ−１、０．８０９ｇ（１．５ｍｍｏｌ、収率２５％）得た。
【０４４５】
【化１４３】

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：１．３５（ｓ、９Ｈ）６．２３−７．８５（ｍ、１６Ｈ）８．０８（ｓ、１Ｈ）８．２２（ｓ、１Ｈ）
【０４４６】
（合成実施例２）化合物Ｂ−１の合成：
充分に乾燥、窒素置換した３００ｍｌの反応器に、化合物Ｌ１；１．５２ｇ（６．００ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）６０ｍｌを仕込み、−７８℃に冷却し、撹拌した。これにｎ−ブチルリチウム（１．６０ｍｍｏｌ／ｍｌｎ−ヘキサン溶液、６．３ｍｍｏｌ）を滴下し、その後ゆっくりと室温まで昇温し、室温で６時間撹拌を続け、リチウム塩溶液を調製した。この溶液を、−７８℃に冷却した四塩化ジルコニウム溶液（６ｍｍｏｌ（１．０ｍｍｏｌ／ｍｌトルエン溶液）とエチルエーテル１６０ｍｌの混合溶液に徐々に滴下した。
【０４４７】
滴下終了後、ゆっくりと室温まで昇温しながら撹拌を続けた。さらに室温で１６時間撹拌した後、この反応液をグラスフィルターで濾過し、さらに得られた固体を塩化メチレンで溶解洗浄し、不溶物を除去した。ろ液を減圧濃縮し、析出した固体を塩化メチレン１０ｍｌに溶解し、ＴＨＦ１６０ｍｌを添加し、Ｌ１−四塩化ジルコニウム−ＴＨＦ溶液を調整した。この混合液を−７８℃に冷却し撹拌した。
【０４４８】
別途、充分に乾燥、窒素置換した３００ｍｌの反応器に、化合物Ｌ２；１．０２ｇ（６．００ｍｍｏｌ）とジエチルエーテル６０ｍｌを仕込み、−７８℃に冷却し、撹拌した。これにｎ−ブチルリチウム（１．６０ｍｍｏｌ／ｍｌｎ−ヘキサン溶液、６．３ｍｍｏｌ）を滴下し、その後ゆっくりと室温まで昇温し、室温で６時間撹拌を続け、リチウム塩溶液を調製した。この溶液を、先に調整したＬ１−四塩化ジルコニウム−ＴＨＦ溶液に−７８℃でゆっくりと滴下した。
【０４４９】
滴下終了後、ゆっくりと室温まで昇温しながら撹拌を続けた。さらに室温で４時間撹拌した後、この反応液をグラスフィルターで濾過し、さらに得られた固体を塩化メチレンで溶解洗浄し、不溶物を除去した。ろ液を減圧濃縮し、析出した固体を塩化メチレン１０ｍｌに溶解し、さらにｎ−ヘキサン１５０ｍｌを加え、固体を析出させた。固体をろ別し、ヘキサンで洗浄後、減圧乾燥させることにより下記式で示される。黄白色の化合物Ｂ−１、１．４６ｇ（２．５１ｍｍｏｌ、収率４２％）を得た。
【０４５０】
【化１４４】

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：１．３３（ｓ、９Ｈ）６．２０−７．８０（ｍ、１６Ｈ）８．１２（ｓ、１Ｈ）８．９５（ｓ、１Ｈ）
【０４５１】
（合成実施例４）化合物ａ−１、化合物Ａ−２の合成
充分に乾燥、窒素置換した２００ｍｌの反応器に化合物Ｌ３；２．０６ｇ（６．００ｍｍｏｌ）とジエチルエーテル６０ｍｌを仕込み、−７８℃に冷却し撹拌した。これにｎ−ブチルリチウム３．９ｍｌ（１．６ｍｍｏｌ／ｍｌｎ−ヘキサン溶液、６．３ｍｍｏｌ）を滴下し、その後ゆっくりと室温まで昇温し、さらに室温で４時間撹拌を続け、リチウム塩溶液を調製した。この溶液を、−７８℃に冷却した四塩化チタン溶液（９ｍｍｏｌ（１．０ｍｍｏｌ／ｍｌトルエン溶液）とジエチルエーテル１６０ｍｌの混合溶液に徐々に滴下した。
滴下終了後、ゆっくりと室温まで昇温しながら撹拌を続けた。さらに室温で１６時間撹拌した後、この反応液を減圧濃縮し、ｎ−ヘキサン１５０ｍｌを加え固体を析出させた。得られた固体を濾別し、さらにｎ−ヘキサンで洗浄し、赤褐色固体ａ−１を２．６７ｇ（５．３８ｍｍｏｌ、収率９０％）を得た。
【０４５２】
【化１４５】

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：１．５７（ｓ、９Ｈ）、７．２６−７．８７（ｍ、３Ｈ）８．５７（ｓ、１Ｈ）
【０４５３】
別途、充分に乾燥、窒素置換した３００ｍｌの反応器に、化合物Ｌ４；１．５６ｇ（６．００ｍｍｏｌ）とジエチルエーテル６０ｍｌを仕込み、−７８℃に冷却し、撹拌した。これにｎ−ブチルリチウム（１．６０ｍｍｏｌ／ｍｌｎ−ヘキサン溶液、６．３ｍｍｏｌ）を滴下し、その後ゆっくりと室温まで昇温し、室温で４時間撹拌を続け、リチウム塩溶液を調製した。
この溶液を、先に合成した（ａ−１）２．６７ｇ（５．３８ｍｍｏｌ）のジエチルエーテル（１５０ｍｌ）溶液に−７８℃でゆっくりと滴下した。滴下終了後、ゆっくりと室温まで昇温しながら撹拌を続けた。さらに室温で４８時間撹拌した後、この反応液をグラスフィルターで濾過し、さらに得られた固体を塩化メチレンで溶解洗浄し、不溶物を除去した。ろ液を減圧濃縮し、析出した固体を塩化メチレン１０ｍｌに溶解し、さらにｎ−ヘキサン１５０ｍｌを加え、固体を析出させた。固体をろ別し、ヘキサンで洗浄後、減圧乾燥させることにより下記式で示される。黒褐色の化合物Ａ−２、１．０８ｇ（１．５０ｍｍｏｌ、収率２５％）得た。
【０４５４】
【化１４６】

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：１．３４（ｓ、９Ｈ）６．１５−６．８７（ｍ、３Ｈ）７．０１−７．８５（ｍ，３Ｈ）８．１９（ｓ、１Ｈ）、８．４２（ｓ、１Ｈ）
【０４５５】
（合成実施例５）化合物Ｂ−２の合成
充分に乾燥、窒素置換した２００ｍｌの反応器に化合物Ｌ３；２．０６ｇ（６．００ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）６０ｍｌを仕込み、−７８℃に冷却し、撹拌した。これにｎ−ブチルリチウム（１．６０ｍｍｏｌ／ｍｌｎ−ヘキサン溶液、６．３ｍｍｏｌ）を滴下し、その後ゆっくりと室温まで昇温し、室温で６時間撹拌を続け、リチウム塩溶液を調製した。この溶液を、−７８℃に冷却した四塩化ジルコニウム溶液（６ｍｍｏｌ（１．０ｍｍｏｌ／ｍｌトルエン溶液））とエチルエーテル１６０ｍｌの混合溶液に徐々に滴下した。
【０４５６】
滴下終了後、ゆっくりと室温まで昇温しながら撹拌を続けた。さらに室温で１６時間撹拌した後、この反応液をグラスフィルターで濾過し、さらに得られた固体を塩化メチレンで溶解洗浄し、不溶物を除去した。ろ液を減圧濃縮し、析出した固体を塩化メチレン１０ｍｌに溶解し、ＴＨＦ１６０ｍｌを添加し、Ｌ３−四塩化ジルコニウム−ＴＨＦ混合溶液を調整した。この混合液を−７８℃に冷却し撹拌した。
【０４５７】
別途、充分に乾燥、窒素置換した３００ｍｌの反応器に、化合物Ｌ２；１．０２ｇ（６．００ｍｍｏｌ）とジエチルエーテル６０ｍｌを仕込み、−７８℃に冷却し、撹拌した。これにｎ−ブチルリチウム（１．６０ｍｍｏｌ／ｍｌｎ−ヘキサン溶液、６．３ｍｍｏｌ）を滴下し、その後ゆっくりと室温まで昇温し、室温で４時間撹拌を続け、リチウム塩溶液を調製した。この溶液を、先に調整したＬ３−四塩化ジルコニウム−ＴＨＦ混合溶液に−７８℃でゆっくりと滴下した。
【０４５８】
滴下終了後、ゆっくりと室温まで昇温しながら撹拌を続けた。さらに室温で２４時間撹拌した後、この反応液をグラスフィルターで濾過し、さらに得られた固体を塩化メチレンで溶解洗浄し、不溶物を除去した。ろ液を減圧濃縮し、析出した固体を塩化メチレン１０ｍｌに溶解し、さらにｎ−ヘキサン１５０ｍｌを加え、固体を析出させた。固体をろ別し、ヘキサンで洗浄後、減圧乾燥させることにより下記式で示される。黒褐色の化合物Ｂ−２、１．４１ｇ（２．０９ｍｍｏｌ、収率３５％）得た。
【０４５９】
【化１４７】

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：１．３４（ｓ、９Ｈ）６．１０−７．９０（ｍ、１１Ｈ）８．２２（ｓ、１Ｈ）、８．４９（ｓ、１Ｈ）
【０４６０】
（合成実施例６）化合物Ｂ−３の合成
充分に乾燥、窒素置換した３００ｍｌの反応器に、化合物Ｌ１；１．５２ｇ（６．００ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）６０ｍｌを仕込み、−７８℃に冷却し、撹拌した。これにｎ−ブチルリチウム（１．６０ｍｍｏｌ／ｍｌｎ−ヘキサン溶液、６．３ｍｍｏｌ）を滴下し、その後ゆっくりと室温まで昇温し、室温で４時間撹拌を続け、リチウム塩溶液を調製した。この溶液を、−７８℃に冷却した四塩化ジルコニウム溶液（６ｍｍｏｌ（１．０ｍｍｏｌ／ｍｌトルエン溶液）とエチルエーテル１６０ｍｌの混合溶液に徐々に滴下した。
【０４６１】
滴下終了後、ゆっくりと室温まで昇温しながら撹拌を続けた。さらに室温で１６時間撹拌した後、この反応液をグラスフィルターで濾過し、さらに得られた固体を塩化メチレンで溶解洗浄し、不溶物を除去した。ろ液を減圧濃縮し、析出した固体を塩化メチレン１０ｍｌに溶解し、ＴＨＦ１６０ｍｌを添加し、Ｌ１−四塩化ジルコニウム−ＴＨＦ混合溶液を調整し、−７８℃に冷却し撹拌した。
別途、充分に乾燥、窒素置換した３００ｍｌの反応器に、化合物Ｌ４；１．５６ｇ（６．００ｍｍｏｌ）とジエチルエーテル６０ｍｌを仕込み、−７８℃に冷却し、撹拌した。これにｎ−ブチルリチウム（１．６０ｍｍｏｌ／ｍｌｎ−ヘキサン溶液、６．３ｍｍｏｌ）を滴下し、その後ゆっくりと室温まで昇温し、室温で４時間撹拌を続け、リチウム塩溶液を調製した。この溶液を、先に調整したＬ１−四塩化ジルコニウム−ＴＨＦ混合溶液に−７８℃でゆっくりと滴下した。
【０４６２】
滴下終了後、ゆっくりと室温まで昇温しながら撹拌を続けた。さらに室温で２４時間撹拌した後、この反応液をグラスフィルターで濾過し、さらに得られた固体を塩化メチレンで溶解洗浄し、不溶物を除去した。ろ液を減圧濃縮し、析出した固体を塩化メチレン１０ｍｌに溶解し、さらにｎ−ヘキサン１５０ｍｌを加え、固体を析出させた。固体をろ別し、ヘキサンで洗浄後、減圧乾燥させることにより下記式で示される。黒褐色の化合物Ｂ−３、０．６０６ｇ（０．９ｍｍｏｌ、収率１５％）得た。
【０４６３】
【化１４８】

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：１．５１（ｓ、９Ｈ）６．２０−７．８３（ｍ、１１Ｈ）、８．１５（ｓ、１Ｈ）８．４１（ｓ、１Ｈ）
【０４６４】
（配位子合成例５）配位子（Ｌ５）の合成
充分に窒素置換した３００ｍｌの反応器にトルエン１５０ｍｌ、アニリン２．９５ｇ（３１．６１ｍｍｏｌ）、ｐ−ＴｓＯＨ（少量）および７−フォルミルインドール１．４５ｇ（１０．００ｍｍｏｌ）を装入し、無水硫酸ナトリウムを５ｇを添加後、室温下で２４時間撹拌を続けた。この反応液を減圧濃縮し、シリカゲルカラムにより精製して、Ｌ５で示される黒褐色の固体化合物を０．７７ｇ（３．５２ｍｍｏｌ、収率３５％）得た。
【０４６５】
【化１４９】

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：６．２０−７．８（ｍ、１０Ｈ）８．２３（ｓ、１Ｈ）８．３４（ｓ、１Ｈ）
【０４６６】
（配位子合成例６）配位子（Ｌ６）の合成
充分に窒素置換した３００ｍｌの反応器にトルエン１５０ｍｌ、ペンタフルオロアニリン７．７１ｇ（４２．１１ｍｍｏｌ）、ｐ−ＴｓＯＨ（少量）および７−フォルミルインドール２．９０ｇ（１９．９８ｍｍｏｌ）を装入し、無水硫酸ナトリウムを５ｇを添加後、還流下で６０時間撹拌を続けた。この反応液を減圧濃縮し、シリカゲルカラムにより精製して、Ｌ５で示される黒褐色の固体化合物を２．４８ｇ（８．００ｍｍｏｌ、収率４０％）得た。
【０４６７】
【化１５０】

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：６．２０−７．５０（ｍ、５Ｈ）８．２３（ｓ、１Ｈ）８．３４（ｓ、１Ｈ）
【０４６８】
（合成実施例７）化合物ａ−２、化合物Ａ−３の合成
充分に乾燥、窒素置換した２００ｍｌの反応器に化合物Ｌ１；１．５２ｇ（６．００ｍｍｏｌ）とジエチルエーテル６０ｍｌを仕込み、−７８℃に冷却し撹拌した。これにｎ−ブチルリチウム３．９ｍｌ（１．６ｍｍｏｌ／ｍｌｎ−ヘキサン溶液、６．３ｍｍｏｌ）を滴下し、その後ゆっくりと室温まで昇温し、さらに室温で４時間撹拌を続け、リチウム塩溶液を調製した。この溶液を、−７８℃に冷却した四塩化チタン溶液（９ｍｍｏｌ（１．０ｍｍｏｌ／ｍｌトルエン溶液）とジエチルエーテル１６０ｍｌの混合溶液に徐々に滴下した。
【０４６９】
滴下終了後、ゆっくりと室温まで昇温しながら撹拌を続けた。さらに室温で１６時間撹拌した後、この反応液を減圧濃縮し、ｎ−ヘキサン１５０ｍｌを加え固体を析出させた。得られた固体を濾別し、さらにｎ−ヘキサンで洗浄し、赤褐色固体ａ−２を１．９９ｇ（４．８９ｍｍｏｌ、収率８２％）を得た。
【０４７０】
【化１５１】

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：１．３７（ｓ、９Ｈ）、７．０６−７．８３（ｍ、８Ｈ）８．４２（ｓ、１Ｈ）
【０４７１】
充分に乾燥、窒素置換した３００ｍｌの反応器に、化合物Ｌ５；１．３２ｇ（６．００ｍｍｏｌ）とジエチルエーテル６０ｍｌを仕込み、−７８℃に冷却し、撹拌した。これにｎ−ブチルリチウム（１．６０ｍｍｏｌ／ｍｌｎ−ヘキサン溶液、６．３ｍｍｏｌ）を滴下し、その後ゆっくりと室温まで昇温し、室温で４時間撹拌を続け、リチウム塩溶液を調製した。
【０４７２】
この溶液を、先に合成した（ａ−２）２．６９ｇ（６．６０ｍｍｏｌ）のジエチルエーテル（１５０ｍｌ）溶液に−７８℃でゆっくりと滴下した。滴下終了後、ゆっくりと室温まで昇温しながら撹拌を続けた。さらに室温で４８時間撹拌した後、この反応液をグラスフィルターで濾過し、さらに得られた固体を塩化メチレンで溶解洗浄し、不溶物を除去した。ろ液を減圧濃縮し、析出した固体を塩化メチレン１０ｍｌに溶解し、さらにｎ−ヘキサン１５０ｍｌを加え、固体を析出させた。固体をろ別し、ヘキサンで洗浄後、減圧乾燥させることにより下記式で示される。黒褐色の化合物Ａ−３、１．１８ｇ（２．５０ｍｍｏｌ、収率４２％）得た。
【０４７３】
【化１５２】

【０４７４】
（合成実施例８）化合物Ａ−４の合成
充分に乾燥、窒素置換した３００ｍｌの反応器に、化合物Ｌ５；１．８６ｇ（６．００ｍｍｏｌ）とジエチルエーテル６０ｍｌを仕込み、−７８℃に冷却し、撹拌した。これにｎ−ブチルリチウム（１．６０ｍｍｏｌ／ｍｌｎ−ヘキサン溶液、６．３ｍｍｏｌ）を滴下し、その後ゆっくりと室温まで昇温し、室温で４時間撹拌を続け、リチウム塩溶液を調製した。
【０４７５】
この溶液を、先に合成した（ａ−１）３．２８ｇ（６．６０ｍｍｏｌ）のジエチルエーテル（１５０ｍｌ）溶液に−７８℃でゆっくりと滴下した。滴下終了後、ゆっくりと室温まで昇温しながら撹拌を続けた。さらに室温で４８時間撹拌した後、この反応液をグラスフィルターで濾過し、さらに得られた固体を塩化メチレンで溶解洗浄し、不溶物を除去した。ろ液を減圧濃縮し、析出した固体を塩化メチレン１０ｍｌに溶解し、さらにｎ−ヘキサン１５０ｍｌを加え、固体を析出させた。固体をろ別し、ヘキサンで洗浄後、減圧乾燥させることにより下記式で示される。黒褐色の化合物Ａ−４、１．６９ｇ（２．２０ｍｍｏｌ、収率３７％）得た。
【０４７６】
【化１５３】

【０４７７】
以下の実施例には本発明に係る重合方法の具体的な実施例を示す。
（実施例１）
充分に窒素置換した内容積１．５Ｌのステンレス製オートクレーブにトルエン７５０ｍｌを装入し、エチレン１００リットル／ｈｒで液相および気相をエチレンで飽和させた。その後、メチルアルミノキサン（ＭＡＯ）をアルミニウム原子換算で３７．５ｍｍｏｌ、引き続き、前記合成実施例１で得られた化合物Ａ−１を０．００１５ｍｍｏｌ加え重合を開始した。常圧のエチレンガス雰囲気下、２５℃で１０分間反応させた後、少量のメタノールを添加することにより重合を停止した。重合終了後、反応物を大量のメタノールに投入してポリマーを全量析出させた後、塩酸を加えて濾過した。ポリマーを８０℃、１０時間で減圧乾燥した後、ポリエチレン（ＰＥ）を３．０８ｇ得た。
重合活性は１２３２０ｇ／ｍｍｏｌ−Ｔｉ・ｈであり、得られたポリエチレンの極限粘度［η］は０．５５ｄｌ／ｇであった。
【０４７８】
（実施例２）
充分に窒素置換した内容積１．５Ｌのステンレス製オートクレーブに、トルエン７５０ｍｌを装入し、エチレン１００リットル／ｈｒで液相、及び気相を飽和させた。その後、メチルアルミノキサンをアルミニウム原子換算で２０．０ｍｍｏｌ、化合物Ａ−２を０．０１ｍｍｏｌ加え、重合を開始した。２５℃にて１０分間重合を行った後、少量のメタノールを添加することにより重合を停止した。
得られたポリマ−懸濁液を、少量の塩酸を含む３．０リットルのメタノール中に加えてポリマーを析出させた。グラスフィルターでろ過し溶媒を除いた後、メタノールで洗浄し、８０℃にて１０時間減圧乾燥した。得られたポリエチレンは、１３．６ｇであり、重合活性は８１６０ｇ／ｍｍｏｌ−Ｔｉ・ｈであり、極限粘度［η］は１．４２ｄｌ／ｇであった。
【０４７９】
（実施例３）
重合温度を５０℃にした以外は実施例２と同様に重合を行った。結果を表１に示す。
（実施例４）
重合温度を７５℃にした以外は実施例２と同様に重合を行った。結果を表１に示す。
（実施例５〜実施例９）
化合物Ａ−１の代わりに表１に示す化合物を用いた以外は、実施例１と同様にしてエチレンの重合を行った。結果を表１に示す。
（実施例１０）：ポリスチレンの実施例
充分に窒素置換した内容積１．５Ｌのステンレス製オートクレーブに、トルエン７５０ｍｌおよびスチレン１００ｇを装入した。その後、メチルアルミノキサンをアルミニウム原子換算で５０．０ｍｍｏｌ、化合物Ａ−２を０．１５ｍｍｏｌ加え、重合を開始した。５０℃にて１２０分間重合を行った後、少量のメタノールを添加することにより重合を停止した。
得られたポリマー懸濁液を、少量の塩酸を含む３．０リットルのメタノール中に加えてポリマーを析出させた。グラスフィルターでろ過し溶媒を除いた後、メタノールで洗浄し、８０℃にて１０時間減圧乾燥した。得られたポリスチレンは、４．２ｇであり、重合活性は２８ｇ／ｍｍｏｌ−Ｔｉ・ｈであり、融点は２６９℃であった。また、得られたポリスチレンの１３Ｃ−ＮＭＲで測定したラセミダイアッド（ｒ）は０．８２であった。
【０４８０】
（比較例）
実施例２と同様の条件下、シクロペンタジエニルチタントリクロリドを０．０１ｍｍｏｌ加え重合を開始した。
常圧のエチレンガス雰囲気下、２５℃で３０分間反応させた後、実施例１と同様の後処理を行ったところ、ポリエチレン０．５４ｇ得た。重合活性は、１１０ｇ／ｍｍｏｌ−Ｔｉ・ｈであり、得られたポリエチレンの極限粘度［η］は、１３．５ｄｌ／ｇであった。
【表１】

【０４８１】
【発明の効果】
本発明に係るオレフィン重合用触媒は、上で説明したような化学構造を有する遷移金属化合物を含むものであることから、オレフィンに対して高い重合活性を有し、高い重合活性でオレフィン（共）重合体を製造できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は本発明に係わるオレフィン重合用触媒の調整工程を示す。

Claims

一般式Ｋ_ｍＭＸ_ｌＬ_ｎで表される遷移金属化合物。
式中、Ｋ_ｍは下記式（Ｉ）で表される。Ｌ_ｎは下記式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）または（ＩＶ）で表される配位子のうちから選ばれる少なくとも１つの配位子を示す。

（式中、ＭＸ_ｌは前記式中のＭＸ_ｌを示す）

（式中、ＭＸ_ｌは前記式中のＭＸ_ｌを示す）

（式中、ＭＸ_ｌは前記式中のＭＸ_ｌを示す）

（式中、ＭＸ_ｌは前記式中のＭＸ_ｌを示す）
Ｅは、イオウ原子、セレン原子または窒素原子を示し、
Ｄは、窒素原子、結合基Ｒ２を有する炭素原子、または結合基Ｒ２を有していてもよいリン原子を示し、
Ｇは、窒素原子、結合基Ｒ８を有する炭素原子、または結合基Ｒ８を有していてもよいリン原子を示し、
Ｊは、窒素原子、結合基Ｒ９を有する炭素原子、または結合基Ｒ９を有していてもよいリン原子を示し、
Ｑは、窒素原子、結合基Ｒ１０を有する炭素原子、または結合基Ｒ１０を有していてもよいリン原子を示し、
Ｔは、窒素原子、結合基Ｒ１１を有する炭素原子、または結合基Ｒ１１を有していてもよいリン原子を示し、
Ｙは、窒素原子、結合基Ｒ１３を有する炭素原子、または結合基Ｒ１３を有していてもよいリン原子を示し、
Ｕは、窒素原子、結合基Ｒ１４を有する炭素原子、または結合基Ｒ１４を有していてもよいリン原子を示し、
Ｍは周期律表第３〜１１族の遷移金属原子を示し、
Ｎは窒素原子を示し、
ｍおよびｎは１〜６の整数を示し、
Ａは、酸素原子、イオウ原子、セレン原子または結合基Ｒ７を有する窒素原子を示し、
Ｒ１からＲ１９は、互いに同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、これらのうちの２個以上が互いに連結して環を形成してもよく、また、ｍが２以上のとき、Ｋは互いに同一でも異なっていてもよく、１つのＫが有するＲ１〜Ｒ７のうちの少なくとも１つが、他のＫが有するＲ１〜Ｒ７のうちの少なくとも１つと連結していてもよい。また、ｎが２以上のとき、Ｌは互いに同一でも異なっていてもよく、１つのＬが有するＲ８〜Ｒ１９のうちの少なくとも１つが、他のＬが有するＲ８〜Ｒ１９のうちの少なくとも１つと連結していてもよい。
ｌはＭの原子価を満たす数であり、
Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、ｌが２以上の場合は、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される複数の基は互いに結合して環を形成していてもよい。
前記一般式（Ｉ）においてＲ６が、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基である請求項１に記載の遷移金属化合物。
前記一般式Ｋ_ｍＭＸ_ｌＬ_ｎで表される遷移金属化合物が下記一般式（ＩＩ−ａ−１）で表される遷移金属化合物であることを特徴とする請求項１に記載の遷移金属化合物。

式中、Ｍは周期律表第３〜１１族の遷移金属原子を示し、
ｍおよびｎは１〜６の整数を示し、
Ｒ１からＲ１２は、互いに同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、アシル基、エステル基、チオエステル基、アミド基、イミド基、アミノ基、イミノ基、スルホンエステル基、スルホンアミド基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、メルカプト基またはヒドロキシル基を示し、これらのうち２個以上が互いに連結して環を形成していてもよく、
また、ｍが２以上のとき、Ｋは互いに同一でも異なっていてもよく、１つのＫが有するＲ１〜Ｒ６のうちの少なくとも１つが、他のＫが有するＲ１〜Ｒ６のうちの少なくとも１つと連結していてもよい。また、ｎが２以上のとき、Ｌは互いに同一でも異なっていてもよく、１つのＬが有するＲ８〜Ｒ１２のうちの少なくとも１つが、他のＬが有するＲ８〜Ｒ１２のうちの少なくとも１つと連結していてもよい（但し、Ｒ１同士およびＲ１２同士が結合されることはない）。
ｌはＭの価数を満たす数であり、Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基またはケイ素含有基を示し、ｌが２以上の場合は、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される複数の基は互いに結合して環を形成してよい。
前記一般式（ＩＩ−ａ−１）においてＲ６が、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、アシル基、エステル基、チオエステル基、アミド基、イミド基、アミノ基、イミノ基、スルフォンエステル基、シアノ基、ニトロ基またはヒドロキシル基である請求項３に記載の遷移金属化合物。
前記一般式Ｋ_ｍＭＸ_ｌＬ_ｎで表される遷移金属化合物が下記一般式（ＩＩＩ−ａ−１）で表される、請求項１に記載の遷移金属化合物。

式中、Ｍは周期律表第３〜１１族の遷移金属原子を示し、
ｍおよびｎは１〜６の整数を示し、
Ｒ１からＲ１５は、互いに同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、アシル基、エステル基、チオエステル基、アミド基、イミド基、アミノ基、イミノ基、スルホンエステル基、スルホンアミド基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、メルカプト基またはヒドロキシル基を示し、これらのうち２個以上が互いに連結して環を形成していてもよく、
また、ｍが２以上のとき、Ｋは互いに同一でも異なっていてもよく、１つのＫが有するＲ１〜Ｒ６のうちの少なくとも１つが、他のＫが有するＲ１〜Ｒ６のうちの少なくとも１つと連結していてもよい。また、ｎが２以上のとき、Ｌは互いに同一でも異なっていてもよく、１つのＬが有するＲ８〜Ｒ１５のうちの少なくとも１つが、他のＬが有するＲ８〜Ｒ１５のうちの少なくとも１つと連結していてもよい（但し、Ｒ１同士およびＲ１５同士が結合されることはない）。
ｌはＭの価数を満たす数であり、Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基またはケイ素含有基を示し、ｌが２以上の場合は、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される複数の基は互いに結合して環を形成してよい。
前記一般式（ＩＩＩ−ａ−１）においてＲ６が、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、アシル基、エステル基、チオエステル基、アミド基、イミド基、アミノ基、イミノ基、スルフォンエステル基、シアノ基、ニトロ基またはヒドロキシル基である請求項５に記載の遷移金属化合物。
前記一般式Ｋ_ｍＭＸ_ｌＬ_ｎで表される遷移金属化合物が下記一般式（ＩＶ−ａ−１）で表される、請求項１に記載の遷移金属化合物。

式中、Ｍは周期律表第３〜１１族の遷移金属原子を示し、
ｍおよびｎは１〜６の整数を示し、
Ｒ１からＲ１９は、互いに同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、アシル基、エステル基、チオエステル基、アミド基、イミド基、アミノ基、イミノ基、スルホンエステル基、スルホンアミド基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、メルカプト基またはヒドロキシル基を示し、これらのうち２個以上が互いに連結して環を形成していてもよく、
また、ｍが２以上のとき、Ｋは互いに同一でも異なっていてもよく、１つのＫが有するＲ１〜Ｒ６のうちの少なくとも１つが、他のＫが有するＲ１〜Ｒ６のうちの少なくとも１つと連結していてもよい。また、ｎが２以上のとき、Ｌは互いに同一でも異なっていてもよく、１つのＬが有するＲ１５〜Ｒ１９のうちの少なくとも１つが、他のＬが有するＲ１５〜Ｒ１９のうちの少なくとも１つと連結していてもよい（但し、Ｒ１同士およびＲ１５同士が結合されることはない）。
ｌはＭの価数を満たす数であり、Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基またはケイ素含有基を示し、ｌが２以上の場合は、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される複数の基は互いに結合して環を形成してよい。
前記一般式（ＩＶ−ａ−１）においてＲ６が、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリーロキシ基、アリールチオ基、アシル基、エステル基、チオエステル基、アミド基、イミド基、アミノ基、イミノ基、スルフォンエステル基、シアノ基、ニトロ基またはヒドロキシル基である請求項７に記載の遷移金属化合物。
（Ａ）下記一般式（Ｖ）で表される遷移金属化合物。

式中、Ｍは周期律表第３〜１１族の遷移金属原子を示し、
Ｌ′およびＬ″は、それらが互いに異なるという条件のもとに、下記式（ＶＩ）、（ＶＩＩ）または（ＶＩＩＩ）

（式中、ＭＸ_ｌは前記式（Ｖ）中のＭＸ_ｌを示す）

（式中、ＭＸ_ｌは前記式（Ｖ）中のＭＸ_ｌを示す）

（式中、ＭＸ_ｌは前記式（Ｖ）中のＭＸ_ｌを示す）
で表される配位子の群から選ばれる少なくとも一つの配位子を示し、
Ｅは、イオウ原子、セレン原子または窒素原子を示し、
Ｄは、窒素原子、結合基Ｒ２を有する炭素原子、または結合基Ｒ２を有していてもよいリン原子を示し、
Ｇは、窒素原子、結合基Ｒ８を有する炭素原子、または結合基Ｒ８を有していてもよいリン原子を示し、
Ｊは、窒素原子、結合基Ｒ９を有する炭素原子、または結合基Ｒ９を有していてもよいリン原子を示し、
Ｑは、窒素原子、結合基Ｒ１０を有する炭素原子、または結合基Ｒ１０を有していてもよいリン原子を示し、
Ｔは、窒素原子、結合基Ｒ１１を有する炭素原子、または結合基Ｒ１１を有していてもよいリン原子を示し、
Ｙは、窒素原子、結合基Ｒ１３を有する炭素原子、または結合基Ｒ１３を有していてもよいリン原子を示し、
Ｕは、窒素原子、結合基Ｒ１４を有する炭素原子、または結合基Ｒ１４を有していてもよいリン原子を示し、
Ｍは周期律表第３〜１１族の遷移金属原子を示し、
Ｎは窒素原子を示し、
ｍおよびｎは１〜６の整数を示し、
Ａは、酸素原子、イオウ原子、セレン原子または結合基Ｒ７を有する窒素原子を示し、
Ｒ１からＲ１９は、互いに同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、これらのうちの２個以上が互いに連結して環を形成してもよく、
また、ｍが２以上のとき、Ｌ′は互いに同一でも異なっていてもよく、１つのＬ′が有するＲ８〜Ｒ１９のうちの少なくとも１つが、他のＬ′が有するＲ８〜Ｒ１９のうちの少なくとも１つと連結していてもよい。また、ｎが２以上のとき、Ｌ″は互いに同一でも異なっていてもよく、１つのＬ″が有するＲ８〜Ｒ１９のうちの少なくとも１つが、他のＬ″が有するＲ８〜Ｒ１９のうちの少なくとも１つと連結していてもよい。
ｌはＭの原子価を満たす数であり、
Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、ｌが２以上の場合は、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される複数の基は互いに結合して環を形成してもよい。
前記一般式（Ｖ）においてＲ６が、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基である請求項９に記載の遷移金属化合物。
ｍおよびｎが１〜３の整数であることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれかに記載の遷移金属化合物。
遷移金属化合物（Ａ）において、Ｍが周期律表第３〜５族および第９族から選ばれる少なくとも一種の遷移金属原子であることを特徴とする請求項１〜１１のいずれかに記載の遷移金属化合物。
請求項１〜１２のいずれかに記載の遷移金属化合物（Ａ）と、（Ｂ−１）有機金属化合物及び（Ｂ−２）活性化化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物（Ｂ）とからなることを特徴とするオレフィン類重合用触媒。
請求項１〜１２のいずれかに記載の遷移金属化合物（Ａ）と、（Ｂ−１）有機金属化合物及び（Ｂ−２）活性化化合物から選ばれる少なくとも一種の化合物（Ｂ）に加えて、担体（Ｃ）を含むことを特徴とするオレフィン類重合用触媒。
請求項１３または１４のいずれかに記載のオレフィン類重合用触媒の存在下に脂肪族オレフィン化合物を重合または共重合することを特徴とする脂肪族オレフィン化合物の重合方法。
請求項１５に記載の方法で製造されることを特徴とする、脂肪族オレフィン化合物重合体。
請求項１３または１４のいずれかに記載のオレフィン類重合用触媒の存在下に芳香族オレフィン化合物を重合または共重合することを特徴とする、芳香族オレフィン化合物の重合方法。
請求項１７に記載の方法で製造されることを特徴とする、芳香族オレフィン化合物重合体。