JP2004316801A - スローリーク弁 - Google Patents
スローリーク弁 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004316801A JP2004316801A JP2003112639A JP2003112639A JP2004316801A JP 2004316801 A JP2004316801 A JP 2004316801A JP 2003112639 A JP2003112639 A JP 2003112639A JP 2003112639 A JP2003112639 A JP 2003112639A JP 2004316801 A JP2004316801 A JP 2004316801A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- valve
- slow leak
- flow path
- valve seat
- closed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Fluid-Driven Valves (AREA)
Abstract
【課題】ライン構成を単純にして省スペース化するスローリーク弁を提供すること。
【解決手段】駆動手段4によって弁体31を弁座32bに押し付けることにより、1次側流路11と2次側流路12との間に形成された弁孔32aを塞いで閉弁させ、その閉弁時にも2次側流路12にガスを少流量流し続けるようにしたものであって、弁のボディ2には、1次側流路11と2次側流路12の他にガス流入流路13が形成され、閉弁時にも少流量のガスが2次側流路12に常に流れるようにすべく、ガス流入流路13と2次側流路12とが弁孔32aの周りを通って連通するオリフィス部13b,33bが形成されたスローリーク弁1A。
【選択図】 図2
【解決手段】駆動手段4によって弁体31を弁座32bに押し付けることにより、1次側流路11と2次側流路12との間に形成された弁孔32aを塞いで閉弁させ、その閉弁時にも2次側流路12にガスを少流量流し続けるようにしたものであって、弁のボディ2には、1次側流路11と2次側流路12の他にガス流入流路13が形成され、閉弁時にも少流量のガスが2次側流路12に常に流れるようにすべく、ガス流入流路13と2次側流路12とが弁孔32aの周りを通って連通するオリフィス部13b,33bが形成されたスローリーク弁1A。
【選択図】 図2
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば半導体製造装置の配管系に用いるスローリーク弁に関し、特に配管構成をシンプルにするためのスローリーク弁に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体製造装置の配管系では、2次側から逆流した大気が残存したプロセスガスと反応すると、酸化物を生成して配管内を汚染させてしまったり、配管などを腐食させてしまう。また、流れの悪い狭い部分ではプロセスガスが滞留してしまい、パーティクルを発生させてしまう。そして、腐食やパーティクルの発生などは、その後の半導体製造に悪影響を及ぼすことになる。そのため、こうした問題を解決するための手段として、特開平7−35248号公報には定流量リーク弁が提案されている。
【0003】
ここで図8は、同公報に記載された定流量リーク弁を示した部分断面図である。この定流量リーク弁100は、弁本体101の上部開口部に樹脂製のシートリング102が取付けられ、シートリング102に対向して配置されたメタルダイアフラム103が、その周縁をダイアフラム押え104で挾着され、中央部を押圧コマ105が弁棒106を介してシリンダ機構107によって押圧し、シートリング102に圧接して閉弁するように構成されている。本体101には、流入流路111と流出流路112が略直線上に配置されており、直立する隔壁113によって両者は仕切られている。そして直線上の流路がぶつかる隔壁113には、これを貫通するパイプ115がホルダー116を介して設けられている。
【0004】
この定流量リーク弁100は、弁が開のときはほとんどの流体が流入流路111から上部のシート部分を通過して流出流路112に導かれる。このときパイプ115からも少量の流体がリークして2次側へ送られている。一方弁を閉にしたときに2次側は大気開放し、1次側にそれ以上の所定の圧力がかかると、パイプ115を通じて流体が1次側から2次側へ送られる。
従って、この定流量リーク弁100によれば、メタルダイアフラム103が開のときは比較的大流量のガスを2次側へ供給でき、閉じていてもパイプ115から比較的小流量のガスを常に2次側へ流すことができるので、大気の逆流やプロセスガスの滞留を防止する。
【0005】
【特許文献1】
特開平7−35248号公報(第2−3頁、図1)
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、こうした従来の定流量リーク弁100を使用して、大気の逆流やプロセスガスの滞留を防止したのでは、ライン構成が複雑になり占有スペースも大きくなる結果、コストアップの原因になっていた。
図9は、定流量リーク弁100を用いた半導体製造装置のガスラインの一部を示した回路図である。この図に示すように、定流量リーク弁100の場合には、プロセスガスライン210に開閉弁200が配管され、そのプロセスガスライン210に接続されたパージガスライン220に定流量リーク弁100が配管されていた。従って、プロセスガスライン210の他に定流量リーク弁100を配管するパージガスライン220を設けなければならず、前述したようにライン構成が複雑になってしまい、その分占有スペースが大きくなり、コストをアップさせる原因になっていた。
【0007】
そこで本発明は、かかる課題を解決すべく、ライン構成を単純にして省スペース化するスローリーク弁を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明に係るスローリーク弁は、駆動手段によって弁体を弁座に押し付けることにより、1次側流路と2次側流路との間に形成された弁孔を塞いで閉弁させ、その閉弁時にも2次側流路にガスを少流量流し続けるようにしたものであって、弁のボディには、前記1次側流路と2次側流路の他にガス流入流路が形成され、前記閉弁時にも少流量のガスが前記2次側流路に常に流れるようにすべく、ガス流入流路と前記2次側流路とが前記弁孔の周りを通って連通するオリフィス部が形成されたものであることを特徴とする。
【0009】
よって、本発明によれば、閉弁時でもガスが弁の2次側流路に常に少流量ずつ流れるため、前述した定流量リーク弁の例のように大気の逆流やプロセスガスの滞留を防止することができる。そして、特に本発明では、プロセスガスの流れを制御する弁とパージガスを閉弁時にも流し続けるオリフィス部とを一体に設けたので、従来のように定流量リーク弁を設ける必要がなくなり、ライン構成を単純にして省スペース化することが可能になる。
【0010】
また、本発明に係るスローリーク弁は、前記ボディには、前記1次側流路、2次側流路及びガス流入流路の開口部が底面に開けられた弁組立部が形成され、その弁組立部内に前記弁孔及び弁座を有する弁シートと、その弁シートを位置決めする弁シート押えとを装填するようにしたものであって、前記オリフィス部が、その弁体組立部に形成された溝や弁シート押えに形成された細孔などによって任意に形成できるようにしたものであることを特徴とする。
【0011】
よって、本発明によれば、弁及びオリフィス部を弁シート及び弁シート押えによって構成するので、劣化による取り替えを容易に行うことができる。また、オリフィス部の構成を任意に設計できるため、変更も容易に行うことができる。
そして、こうしたスローリーク弁の実施態様として次のようなものがある。
【0012】
前記弁体がダイアフラムであって、前記2次側流路及びガス流入流路に対応して前記弁シート押えに穿設された貫通孔が、閉弁時のダイアフラムと弁シート押えとによって構成される狭い空間を介してつながり、前記ガス流入流路と弁シートの貫通孔は、前記弁組立部の底面に形成された溝を介して連通しているものであること。
前記弁組立部の底面に開設された前記2次側流路及びガス流入流路の開口部が、その弁組立部の底面に形成された溝を介してつながっているものであること。
更に、前記弁体がダイアフラムであって、前記弁シート押えには、前記2次側流路に対応して穿設された貫通孔と前記ガス流入流路に対応して穿設された細孔とが、閉弁時のダイアフラムと弁シート押えとによって構成される狭い空間を介してつながるようにしたものであること。
【0013】
【発明の実施の形態】
次に、本発明に係るスローリーク弁の一実施形態を図面を参照しながら以下に説明する。図1は、本実施形態のスローリーク弁を示した回路図である。このスローリーク弁1は、プロセスガスの流れを制御する開閉弁1aと、パージガスをその2次側に少流量ずつ流すためのオリフィス部1bとを一体的に設けたものである。具体的な構成については、以下に説明する。
【0014】
図2は、スローリーク弁の第1実施形態を示した断面図であり、図(a)及び図(b)は、それぞれ90度角度を変えて切断した断面を示している(図3のA−A断面とB−B断面)。図3は、ボディを示した平面図である。
このスローリーク弁1Aは、ボディ2にアダプタ3を介してシリンダ4が一体に構成されたものである。スローリーク弁1Aを構成するボディ2には、側方に突き出して1次側流路11と2次側流路12が一直線上に形成されている。ボディ2には更に、その裏面からパージガス流入流路13が形成されている。こうして形成された1次側流路11、2次側流路12及びパージガス流入流路13は、いずれもボディ2中央に形成された円筒形状の弁組立部15の底面に開設されている。
【0015】
一方、アダプタ3を介して一体になったシリンダ4は、そのシリンダ4内を上下に摺動するピストン21が組み込まれている。ピストン21にはロッド22が一体的に形成され、円筒形状をした弁組立部15との同軸上を上下動するように配置されている。ピストン21は上方からスプリング23によって付勢され、ロッド22にを介して下方へその付勢力が伝えられるように構成されている。そして、そのロッド22には、シリンダ4のエア供給部4aから送り込まれる圧縮エアをピストン21の下方へ供給するエア供給路22aが形成されている。
【0016】
こうしてスプリング23と圧縮エアによって上下動するピストン21に固定されたロッド22は、アダプタ3を貫通してボディ2の弁組立部15側に突設されている。そして、弁組立部15にはダイアフラム弁体31が配置され、そのダイアフラム弁体31に対して下降するロッド22からの付勢力が押圧コマ25を介して伝えられ、シリンダ3内で駆動するピストン21によって開閉する弁が構成されている。
【0017】
弁組立部15に構成された弁は、1次側流路11と2次側流路12との間を開閉するものである。1次側流路11は、弁組立部15の中心位置に開口部11aが開けられ、その開口部11aに重なるように弁孔32aが穿設された弁シート32が設置されている。すなわち、その弁シート32は、弁組立部15内周側面に緊密にはめ込まれた弁シート押え33と組み合わされ、その弁孔32aが1次側流路11の開口部11aと重なるように弁組立部15の中心に位置決めされている。
【0018】
こうしてボディ2には、その弁組立部15の底に弁シート32と弁シート押え33とが装填され、その上に配置されたダイアフラム弁体31が、弁シート押え33と、押圧コマ25を摺動支持するダイヤフラム押え34とによって周縁部が挟持されている。弁シート32には、弁孔32aの外周に弁座32bが突設され、ダイアフラム弁体31は、押圧コマ25によってこの弁座32bに押し付けられるようになっている。
【0019】
弁シート押え33は四方に貫通孔が形成され、その一つの貫通孔33aが2次側流路12の開口部12aに重ねられ、もう一つの貫通孔33bが、パージガス流入流路13の開口部13aと連通するように配置される。パージガス流入流路13の開口部13a部分には、図3に示すよに弁組立部15の底面に細い溝13bが形成され、その溝13bによって構成される細い流路を通してパージガス流入流路13と連通孔33bとが連通している。また、弁シート押え33は、ダイアフラム弁体31を支持する周縁部分の内側が薄肉に形成され、図示するような閉弁時でも貫通孔33a,33bが環状の隙間空間10によってつながるようになっている。
【0020】
そこで次に、こうした構成のスローリーク弁1Aの作用について説明する。スローリーク弁1Aは、図示する状態で閉弁し、エア供給部4aから圧縮エアがシリンダ4内に供給されて開弁する。シリンダ4内に供給された圧縮エアは、ロッド22のエア供給路22aを通ってピストン21下方の気密室に送り込まれる。ピストン21は、圧縮エアの供給によって作用するエア圧でスプリング23の付勢力に抗して上方に押し上げられる。すると、ロッド22の上昇によって押圧コア25を介して作用していた力から解放されたダイアフラム弁体31が上方に撓み、弁座32bから離れて弁が開けられる。
【0021】
これにより、ダイアフラム弁体31によって塞がれていた弁孔32aが開放され、ダイアフラム弁体31下の弁室空間を介して弁シート押え33の貫通孔33aとつながる。従って、1次側流路11に流れ込んだプロセスガスは、弁シート32の弁孔32aと通って弁室へ流れ、更にそこから弁シート押え33の貫通孔33aから入って2次側流路12へと流れる。
【0022】
一方、シリンダ4内に供給された圧縮エアが逆にエア供給部4aから排出されると、ピストン21はスプリング23の付勢力によって押し下げられる。ピストン21を押し下げるスプリング23の付勢力は、ロッド22の下降によって押圧コア25に伝えられ、ダイアフラム弁体31が上方の押圧コア25によって押し付けられる。このとき弁シート32の弁座32bにダイアフラム弁体31が押し付けられ、弁孔32aがそのダイアフラム弁体31によって塞がれる。
【0023】
弁孔32aがダイアフラム弁体31に塞がれた閉弁状態では、1次側流路11と2次側流路12とは遮断されてプロセスガスの流れが止められることになるが、このときでもパージガス流入流路13と2次側流路12とは連通状態にあって、パージガスが弁の2次側、すなわち2次側流路12へは常に流れている。
【0024】
パージガスが流れ込むパージガス流入流路13は、ボディ2に形成された溝13bを介して弁シート押え33の貫通孔33bに連通している。また、その貫通孔33bは、弁シート押え33が環状形成された薄肉部分がダイアフラム弁体31との間に隙間をつくっているため、貫通孔33bと貫通孔33aとがその隙間空間10を介してつながっている。従って、図2に示すように閉弁状態であっても、パージガス流入流路13から流れ込んだパージガスは、溝13bから貫通孔33bを通り、隙間空間10を流れてさらに貫通孔33aから2次側流路12内へと流れ込むことになる。
【0025】
よって、第1実施形態のスローリーク弁1Aでは、閉弁時でもパージガスが弁の2次側に常に少流量ずつ流れるため、大気の逆流やプロセスガスの滞留を防止することができる。そして、特にスローリーク弁1Aは、図1に示すようにプロセスガスの流れを制御する弁1aとパージガスを閉弁時にも流し続けるオリフィス部1bとを一体に設けたので、従来のように定流量リーク弁を設ける必要がなくなり、ライン構成を単純にして省スペース化することが可能になった。また、その一体化により取り扱いも容易かつ確実になった。
更に、プロセスガスは常温常圧のときに気体であるものばかりでなく液化しやすいものも多く使用されているため、弁を加熱シートを覆うなどする必要があるが、本実施形態のスローリーク弁1Aでは、従来に比べて弁の数が減ったためヒーティング作業の簡素化にもなった。
【0026】
次に、スローリーク弁の第2実施形態について説明する。図4は、スローリーク弁の第2実施形態を示した断面図であり、図(a)及び図(b)は、それぞれ90度角度を変えて切断した断面を示している(図5のC−C断面とD−D断面)。また図5は、ボディを示した平面図である。このスローリーク弁1Bが前記第1実施形態のスローリーク弁1Aと異なるのは、閉弁時にパージガスをリークさせるオリフィス部である。そこで、本実施形態では、前記第1実施形態で示したスローリーク弁1Aと共通する構成については同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。
【0027】
先ず、ボディ2に形成されたパージガス流入流路16は、その開口部16aが弁シート押え42に穿設された貫通孔42bと重なるように形成され、開口部16aには、図5に示すように、弁組立部15の底面に2次側流路12の開口部12aとつながる溝16bが形成されている。本実施形態の弁シート41は、図5に示すように凸部41pが開口部16aを塞いでいるため、パージガスをリークさせる流路はこの細い溝16bとなる。
【0028】
そこで、弁孔41aがダイアフラム弁体31に塞がれて、1次側流路11と2次側流路12とが遮断された閉弁時には、パージガス流入流路16と2次側流路12とが連通状態にあって、パージガスが弁の2次側、すなわち2次側流路12へ常に流れることになる。具体的には、パージガスが流れ込むパージガス流入流路16は、ボディ2に形成された溝16bを介して2次側流路12の開口部12aに回り込み、2次側流路12内に流れ込むことになる。
【0029】
よって、第2実施形態のスローリーク弁1Bでは、閉弁時でもパージガスが弁の2次側に常に少流量ずつ流れるため、大気の逆流やプロセスガスの滞留を防止することができる。そして、特にスローリーク弁1Bでも、図1に示すようにプロセスガスの流れを制御する弁とパージガスを閉弁時にも流し続けるオリフィス部とを一体に設けたので、従来のように定流量リーク弁を設ける必要がなくなり、ライン構成を単純にして省スペース化することが可能になった。また、その一体化により取り扱いも容易かつ確実になった。
更に、プロセスガスは常温常圧で気体であるものばかりでなく液化しやすいものも多く使用されているため、弁を加熱シートを覆うなどする必要があるが、本実施形態のスローリーク弁1Bでも、従来に比べて弁の数が減ったためヒーティング作業の簡素化にもなった。
【0030】
次に、スローリーク弁の第3実施形態について説明する。図6は、スローリーク弁の第3実施形態を示した断面図であり、図(a)及び図(b)は、それぞれ90度角度を変えて切断した断面を示している(図7のE−E断面とF−F断面)。また図7は、ボディ2を示した平面図である。本実施形態のスローリーク弁1Cがスローリーク弁1A及び1Bと異なるのは、閉弁時にパージガスをリークさせるオリフィス部である。そこで、前記第1及び第2実施形態で示したスローリーク弁1A又は1Bと共通する構成については同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。
【0031】
本実施形態の弁シート45は、中心に穿設された弁孔45aの他、図7に示すように90度の間隔で、貫通孔45b,45cが穿設されている。貫通孔45cは2次側流路12の開口部12aに重なるように、そして、貫通孔45bはパージガス流入流路16の開口部16aに重なるように形成され、そして配置される。この弁シート45を位置決めする弁シート押え46は、図7に示すように、細孔のオリフィス46aと貫通孔46bとが90度の間隔で穿設されている。
【0032】
オリフィス46aと貫通孔46bとは、それぞれ弁シート45の貫通孔45b,45cと重なる位置に配置され、さらにはパージガス流入流路16の開口部16aと2次側流路12の開口部12aとにそれぞれ重ねられている。弁シート押え46は、その上面が環状に凹んでおり、図示する閉弁時にはダイアフラム弁体31との間に形成される弁室の狭い隙間空間10を介してオリフィス46aと貫通孔46bとが連通するようになっている。
【0033】
そこで、弁孔がダイアフラム弁体31に塞がれて、1次側流路11と2次側流路12とが遮断された閉弁時には、パージガス流入流路16と2次側流路12とが連通状態にあって、パージガスが弁の2次側、すなわち2次側流路12へ常に流れることになる。具体的には、パージガス流入流路16から流れ込んだパージガスは、弁シート45の貫通孔45bから弁シート押え46のオリフィス46aを通って流れる。そして、ダイアフラム弁体31によって塞がれた隙間空間10を通って、弁シート押え46及び弁シート45の貫通孔46b,45cとを通って2次側流路12へと流れる。
【0034】
よって、第3実施形態のスローリーク弁1Cでは、閉弁時でもパージガスが弁の2次側に常に少流量ずつ流れるため、大気の逆流やプロセスガスの滞留を防止することができる。そして、特にスローリーク弁1Cは、図1に示すようにプロセスガスの流れを制御する弁とパージガスを閉弁時にも流し続けるオリフィス部とを一体に設けたので、従来のように定流量リーク弁を設ける必要がなくなり、ライン構成を単純にして省スペース化することが可能になった。また、その一体化により取り扱いも容易かつ確実になった。
更に、プロセスガスは常温常圧で気体であるものばかりでなく液化しやすいものも多く使用されているため、弁を加熱シートを覆うなどする必要があるが、本実施形態のスローリーク弁1Cでも、従来に比べて弁の数が減ったためヒーティング作業の簡素化にもなった。
【0035】
なお、本発明は、前記実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲で様々に変更することができる。
【0036】
【発明の効果】
本発明は、弁のボディには、1次側流路と2次側流路の他にガス流入流路を形成し、閉弁時にも少流量のガスが2次側流路に常に流れるように、ガス流入流路と2次側流路とが弁孔の周りを通って連通するオリフィス部を形成するようにしたので、このオリフィス部を弁と一体に構成することができ、ライン構成を単純にして省スペース化するスローリーク弁を提供することが可能になった。
【図面の簡単な説明】
【図1】スローリーク弁を示した回路図である。
【図2】スローリーク弁の第1実施形態を示した断面図である。
【図3】弁組立部を示したボディの平面図である。
【図4】スローリーク弁の第2実施形態を示した断面図である。
【図5】弁組立部を示したボディの平面図である。
【図6】スローリーク弁の第3実施形態を示した断面図である。
【図7】弁組立部を示したボディの平面図である。
【図8】定流量リーク弁を示した部分断面図である。
【図9】定流量リーク弁を用いた半導体製造装置のガスラインの一部を示した回路図である。
【符号の説明】
1 スローリーク弁
2 ボディ
3 アダプタ
4 シリンダ
11 1次側流路
12 2次側流路
13 パージガス流入流路
15 弁組立部
21 ピストン
22 ロッド
31 ダイアフラム
32 弁シート
33 弁シート押え
13a 溝
32a 弁孔
32b 弁座
33a,33b 貫通孔
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば半導体製造装置の配管系に用いるスローリーク弁に関し、特に配管構成をシンプルにするためのスローリーク弁に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体製造装置の配管系では、2次側から逆流した大気が残存したプロセスガスと反応すると、酸化物を生成して配管内を汚染させてしまったり、配管などを腐食させてしまう。また、流れの悪い狭い部分ではプロセスガスが滞留してしまい、パーティクルを発生させてしまう。そして、腐食やパーティクルの発生などは、その後の半導体製造に悪影響を及ぼすことになる。そのため、こうした問題を解決するための手段として、特開平7−35248号公報には定流量リーク弁が提案されている。
【0003】
ここで図8は、同公報に記載された定流量リーク弁を示した部分断面図である。この定流量リーク弁100は、弁本体101の上部開口部に樹脂製のシートリング102が取付けられ、シートリング102に対向して配置されたメタルダイアフラム103が、その周縁をダイアフラム押え104で挾着され、中央部を押圧コマ105が弁棒106を介してシリンダ機構107によって押圧し、シートリング102に圧接して閉弁するように構成されている。本体101には、流入流路111と流出流路112が略直線上に配置されており、直立する隔壁113によって両者は仕切られている。そして直線上の流路がぶつかる隔壁113には、これを貫通するパイプ115がホルダー116を介して設けられている。
【0004】
この定流量リーク弁100は、弁が開のときはほとんどの流体が流入流路111から上部のシート部分を通過して流出流路112に導かれる。このときパイプ115からも少量の流体がリークして2次側へ送られている。一方弁を閉にしたときに2次側は大気開放し、1次側にそれ以上の所定の圧力がかかると、パイプ115を通じて流体が1次側から2次側へ送られる。
従って、この定流量リーク弁100によれば、メタルダイアフラム103が開のときは比較的大流量のガスを2次側へ供給でき、閉じていてもパイプ115から比較的小流量のガスを常に2次側へ流すことができるので、大気の逆流やプロセスガスの滞留を防止する。
【0005】
【特許文献1】
特開平7−35248号公報(第2−3頁、図1)
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、こうした従来の定流量リーク弁100を使用して、大気の逆流やプロセスガスの滞留を防止したのでは、ライン構成が複雑になり占有スペースも大きくなる結果、コストアップの原因になっていた。
図9は、定流量リーク弁100を用いた半導体製造装置のガスラインの一部を示した回路図である。この図に示すように、定流量リーク弁100の場合には、プロセスガスライン210に開閉弁200が配管され、そのプロセスガスライン210に接続されたパージガスライン220に定流量リーク弁100が配管されていた。従って、プロセスガスライン210の他に定流量リーク弁100を配管するパージガスライン220を設けなければならず、前述したようにライン構成が複雑になってしまい、その分占有スペースが大きくなり、コストをアップさせる原因になっていた。
【0007】
そこで本発明は、かかる課題を解決すべく、ライン構成を単純にして省スペース化するスローリーク弁を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明に係るスローリーク弁は、駆動手段によって弁体を弁座に押し付けることにより、1次側流路と2次側流路との間に形成された弁孔を塞いで閉弁させ、その閉弁時にも2次側流路にガスを少流量流し続けるようにしたものであって、弁のボディには、前記1次側流路と2次側流路の他にガス流入流路が形成され、前記閉弁時にも少流量のガスが前記2次側流路に常に流れるようにすべく、ガス流入流路と前記2次側流路とが前記弁孔の周りを通って連通するオリフィス部が形成されたものであることを特徴とする。
【0009】
よって、本発明によれば、閉弁時でもガスが弁の2次側流路に常に少流量ずつ流れるため、前述した定流量リーク弁の例のように大気の逆流やプロセスガスの滞留を防止することができる。そして、特に本発明では、プロセスガスの流れを制御する弁とパージガスを閉弁時にも流し続けるオリフィス部とを一体に設けたので、従来のように定流量リーク弁を設ける必要がなくなり、ライン構成を単純にして省スペース化することが可能になる。
【0010】
また、本発明に係るスローリーク弁は、前記ボディには、前記1次側流路、2次側流路及びガス流入流路の開口部が底面に開けられた弁組立部が形成され、その弁組立部内に前記弁孔及び弁座を有する弁シートと、その弁シートを位置決めする弁シート押えとを装填するようにしたものであって、前記オリフィス部が、その弁体組立部に形成された溝や弁シート押えに形成された細孔などによって任意に形成できるようにしたものであることを特徴とする。
【0011】
よって、本発明によれば、弁及びオリフィス部を弁シート及び弁シート押えによって構成するので、劣化による取り替えを容易に行うことができる。また、オリフィス部の構成を任意に設計できるため、変更も容易に行うことができる。
そして、こうしたスローリーク弁の実施態様として次のようなものがある。
【0012】
前記弁体がダイアフラムであって、前記2次側流路及びガス流入流路に対応して前記弁シート押えに穿設された貫通孔が、閉弁時のダイアフラムと弁シート押えとによって構成される狭い空間を介してつながり、前記ガス流入流路と弁シートの貫通孔は、前記弁組立部の底面に形成された溝を介して連通しているものであること。
前記弁組立部の底面に開設された前記2次側流路及びガス流入流路の開口部が、その弁組立部の底面に形成された溝を介してつながっているものであること。
更に、前記弁体がダイアフラムであって、前記弁シート押えには、前記2次側流路に対応して穿設された貫通孔と前記ガス流入流路に対応して穿設された細孔とが、閉弁時のダイアフラムと弁シート押えとによって構成される狭い空間を介してつながるようにしたものであること。
【0013】
【発明の実施の形態】
次に、本発明に係るスローリーク弁の一実施形態を図面を参照しながら以下に説明する。図1は、本実施形態のスローリーク弁を示した回路図である。このスローリーク弁1は、プロセスガスの流れを制御する開閉弁1aと、パージガスをその2次側に少流量ずつ流すためのオリフィス部1bとを一体的に設けたものである。具体的な構成については、以下に説明する。
【0014】
図2は、スローリーク弁の第1実施形態を示した断面図であり、図(a)及び図(b)は、それぞれ90度角度を変えて切断した断面を示している(図3のA−A断面とB−B断面)。図3は、ボディを示した平面図である。
このスローリーク弁1Aは、ボディ2にアダプタ3を介してシリンダ4が一体に構成されたものである。スローリーク弁1Aを構成するボディ2には、側方に突き出して1次側流路11と2次側流路12が一直線上に形成されている。ボディ2には更に、その裏面からパージガス流入流路13が形成されている。こうして形成された1次側流路11、2次側流路12及びパージガス流入流路13は、いずれもボディ2中央に形成された円筒形状の弁組立部15の底面に開設されている。
【0015】
一方、アダプタ3を介して一体になったシリンダ4は、そのシリンダ4内を上下に摺動するピストン21が組み込まれている。ピストン21にはロッド22が一体的に形成され、円筒形状をした弁組立部15との同軸上を上下動するように配置されている。ピストン21は上方からスプリング23によって付勢され、ロッド22にを介して下方へその付勢力が伝えられるように構成されている。そして、そのロッド22には、シリンダ4のエア供給部4aから送り込まれる圧縮エアをピストン21の下方へ供給するエア供給路22aが形成されている。
【0016】
こうしてスプリング23と圧縮エアによって上下動するピストン21に固定されたロッド22は、アダプタ3を貫通してボディ2の弁組立部15側に突設されている。そして、弁組立部15にはダイアフラム弁体31が配置され、そのダイアフラム弁体31に対して下降するロッド22からの付勢力が押圧コマ25を介して伝えられ、シリンダ3内で駆動するピストン21によって開閉する弁が構成されている。
【0017】
弁組立部15に構成された弁は、1次側流路11と2次側流路12との間を開閉するものである。1次側流路11は、弁組立部15の中心位置に開口部11aが開けられ、その開口部11aに重なるように弁孔32aが穿設された弁シート32が設置されている。すなわち、その弁シート32は、弁組立部15内周側面に緊密にはめ込まれた弁シート押え33と組み合わされ、その弁孔32aが1次側流路11の開口部11aと重なるように弁組立部15の中心に位置決めされている。
【0018】
こうしてボディ2には、その弁組立部15の底に弁シート32と弁シート押え33とが装填され、その上に配置されたダイアフラム弁体31が、弁シート押え33と、押圧コマ25を摺動支持するダイヤフラム押え34とによって周縁部が挟持されている。弁シート32には、弁孔32aの外周に弁座32bが突設され、ダイアフラム弁体31は、押圧コマ25によってこの弁座32bに押し付けられるようになっている。
【0019】
弁シート押え33は四方に貫通孔が形成され、その一つの貫通孔33aが2次側流路12の開口部12aに重ねられ、もう一つの貫通孔33bが、パージガス流入流路13の開口部13aと連通するように配置される。パージガス流入流路13の開口部13a部分には、図3に示すよに弁組立部15の底面に細い溝13bが形成され、その溝13bによって構成される細い流路を通してパージガス流入流路13と連通孔33bとが連通している。また、弁シート押え33は、ダイアフラム弁体31を支持する周縁部分の内側が薄肉に形成され、図示するような閉弁時でも貫通孔33a,33bが環状の隙間空間10によってつながるようになっている。
【0020】
そこで次に、こうした構成のスローリーク弁1Aの作用について説明する。スローリーク弁1Aは、図示する状態で閉弁し、エア供給部4aから圧縮エアがシリンダ4内に供給されて開弁する。シリンダ4内に供給された圧縮エアは、ロッド22のエア供給路22aを通ってピストン21下方の気密室に送り込まれる。ピストン21は、圧縮エアの供給によって作用するエア圧でスプリング23の付勢力に抗して上方に押し上げられる。すると、ロッド22の上昇によって押圧コア25を介して作用していた力から解放されたダイアフラム弁体31が上方に撓み、弁座32bから離れて弁が開けられる。
【0021】
これにより、ダイアフラム弁体31によって塞がれていた弁孔32aが開放され、ダイアフラム弁体31下の弁室空間を介して弁シート押え33の貫通孔33aとつながる。従って、1次側流路11に流れ込んだプロセスガスは、弁シート32の弁孔32aと通って弁室へ流れ、更にそこから弁シート押え33の貫通孔33aから入って2次側流路12へと流れる。
【0022】
一方、シリンダ4内に供給された圧縮エアが逆にエア供給部4aから排出されると、ピストン21はスプリング23の付勢力によって押し下げられる。ピストン21を押し下げるスプリング23の付勢力は、ロッド22の下降によって押圧コア25に伝えられ、ダイアフラム弁体31が上方の押圧コア25によって押し付けられる。このとき弁シート32の弁座32bにダイアフラム弁体31が押し付けられ、弁孔32aがそのダイアフラム弁体31によって塞がれる。
【0023】
弁孔32aがダイアフラム弁体31に塞がれた閉弁状態では、1次側流路11と2次側流路12とは遮断されてプロセスガスの流れが止められることになるが、このときでもパージガス流入流路13と2次側流路12とは連通状態にあって、パージガスが弁の2次側、すなわち2次側流路12へは常に流れている。
【0024】
パージガスが流れ込むパージガス流入流路13は、ボディ2に形成された溝13bを介して弁シート押え33の貫通孔33bに連通している。また、その貫通孔33bは、弁シート押え33が環状形成された薄肉部分がダイアフラム弁体31との間に隙間をつくっているため、貫通孔33bと貫通孔33aとがその隙間空間10を介してつながっている。従って、図2に示すように閉弁状態であっても、パージガス流入流路13から流れ込んだパージガスは、溝13bから貫通孔33bを通り、隙間空間10を流れてさらに貫通孔33aから2次側流路12内へと流れ込むことになる。
【0025】
よって、第1実施形態のスローリーク弁1Aでは、閉弁時でもパージガスが弁の2次側に常に少流量ずつ流れるため、大気の逆流やプロセスガスの滞留を防止することができる。そして、特にスローリーク弁1Aは、図1に示すようにプロセスガスの流れを制御する弁1aとパージガスを閉弁時にも流し続けるオリフィス部1bとを一体に設けたので、従来のように定流量リーク弁を設ける必要がなくなり、ライン構成を単純にして省スペース化することが可能になった。また、その一体化により取り扱いも容易かつ確実になった。
更に、プロセスガスは常温常圧のときに気体であるものばかりでなく液化しやすいものも多く使用されているため、弁を加熱シートを覆うなどする必要があるが、本実施形態のスローリーク弁1Aでは、従来に比べて弁の数が減ったためヒーティング作業の簡素化にもなった。
【0026】
次に、スローリーク弁の第2実施形態について説明する。図4は、スローリーク弁の第2実施形態を示した断面図であり、図(a)及び図(b)は、それぞれ90度角度を変えて切断した断面を示している(図5のC−C断面とD−D断面)。また図5は、ボディを示した平面図である。このスローリーク弁1Bが前記第1実施形態のスローリーク弁1Aと異なるのは、閉弁時にパージガスをリークさせるオリフィス部である。そこで、本実施形態では、前記第1実施形態で示したスローリーク弁1Aと共通する構成については同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。
【0027】
先ず、ボディ2に形成されたパージガス流入流路16は、その開口部16aが弁シート押え42に穿設された貫通孔42bと重なるように形成され、開口部16aには、図5に示すように、弁組立部15の底面に2次側流路12の開口部12aとつながる溝16bが形成されている。本実施形態の弁シート41は、図5に示すように凸部41pが開口部16aを塞いでいるため、パージガスをリークさせる流路はこの細い溝16bとなる。
【0028】
そこで、弁孔41aがダイアフラム弁体31に塞がれて、1次側流路11と2次側流路12とが遮断された閉弁時には、パージガス流入流路16と2次側流路12とが連通状態にあって、パージガスが弁の2次側、すなわち2次側流路12へ常に流れることになる。具体的には、パージガスが流れ込むパージガス流入流路16は、ボディ2に形成された溝16bを介して2次側流路12の開口部12aに回り込み、2次側流路12内に流れ込むことになる。
【0029】
よって、第2実施形態のスローリーク弁1Bでは、閉弁時でもパージガスが弁の2次側に常に少流量ずつ流れるため、大気の逆流やプロセスガスの滞留を防止することができる。そして、特にスローリーク弁1Bでも、図1に示すようにプロセスガスの流れを制御する弁とパージガスを閉弁時にも流し続けるオリフィス部とを一体に設けたので、従来のように定流量リーク弁を設ける必要がなくなり、ライン構成を単純にして省スペース化することが可能になった。また、その一体化により取り扱いも容易かつ確実になった。
更に、プロセスガスは常温常圧で気体であるものばかりでなく液化しやすいものも多く使用されているため、弁を加熱シートを覆うなどする必要があるが、本実施形態のスローリーク弁1Bでも、従来に比べて弁の数が減ったためヒーティング作業の簡素化にもなった。
【0030】
次に、スローリーク弁の第3実施形態について説明する。図6は、スローリーク弁の第3実施形態を示した断面図であり、図(a)及び図(b)は、それぞれ90度角度を変えて切断した断面を示している(図7のE−E断面とF−F断面)。また図7は、ボディ2を示した平面図である。本実施形態のスローリーク弁1Cがスローリーク弁1A及び1Bと異なるのは、閉弁時にパージガスをリークさせるオリフィス部である。そこで、前記第1及び第2実施形態で示したスローリーク弁1A又は1Bと共通する構成については同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。
【0031】
本実施形態の弁シート45は、中心に穿設された弁孔45aの他、図7に示すように90度の間隔で、貫通孔45b,45cが穿設されている。貫通孔45cは2次側流路12の開口部12aに重なるように、そして、貫通孔45bはパージガス流入流路16の開口部16aに重なるように形成され、そして配置される。この弁シート45を位置決めする弁シート押え46は、図7に示すように、細孔のオリフィス46aと貫通孔46bとが90度の間隔で穿設されている。
【0032】
オリフィス46aと貫通孔46bとは、それぞれ弁シート45の貫通孔45b,45cと重なる位置に配置され、さらにはパージガス流入流路16の開口部16aと2次側流路12の開口部12aとにそれぞれ重ねられている。弁シート押え46は、その上面が環状に凹んでおり、図示する閉弁時にはダイアフラム弁体31との間に形成される弁室の狭い隙間空間10を介してオリフィス46aと貫通孔46bとが連通するようになっている。
【0033】
そこで、弁孔がダイアフラム弁体31に塞がれて、1次側流路11と2次側流路12とが遮断された閉弁時には、パージガス流入流路16と2次側流路12とが連通状態にあって、パージガスが弁の2次側、すなわち2次側流路12へ常に流れることになる。具体的には、パージガス流入流路16から流れ込んだパージガスは、弁シート45の貫通孔45bから弁シート押え46のオリフィス46aを通って流れる。そして、ダイアフラム弁体31によって塞がれた隙間空間10を通って、弁シート押え46及び弁シート45の貫通孔46b,45cとを通って2次側流路12へと流れる。
【0034】
よって、第3実施形態のスローリーク弁1Cでは、閉弁時でもパージガスが弁の2次側に常に少流量ずつ流れるため、大気の逆流やプロセスガスの滞留を防止することができる。そして、特にスローリーク弁1Cは、図1に示すようにプロセスガスの流れを制御する弁とパージガスを閉弁時にも流し続けるオリフィス部とを一体に設けたので、従来のように定流量リーク弁を設ける必要がなくなり、ライン構成を単純にして省スペース化することが可能になった。また、その一体化により取り扱いも容易かつ確実になった。
更に、プロセスガスは常温常圧で気体であるものばかりでなく液化しやすいものも多く使用されているため、弁を加熱シートを覆うなどする必要があるが、本実施形態のスローリーク弁1Cでも、従来に比べて弁の数が減ったためヒーティング作業の簡素化にもなった。
【0035】
なお、本発明は、前記実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲で様々に変更することができる。
【0036】
【発明の効果】
本発明は、弁のボディには、1次側流路と2次側流路の他にガス流入流路を形成し、閉弁時にも少流量のガスが2次側流路に常に流れるように、ガス流入流路と2次側流路とが弁孔の周りを通って連通するオリフィス部を形成するようにしたので、このオリフィス部を弁と一体に構成することができ、ライン構成を単純にして省スペース化するスローリーク弁を提供することが可能になった。
【図面の簡単な説明】
【図1】スローリーク弁を示した回路図である。
【図2】スローリーク弁の第1実施形態を示した断面図である。
【図3】弁組立部を示したボディの平面図である。
【図4】スローリーク弁の第2実施形態を示した断面図である。
【図5】弁組立部を示したボディの平面図である。
【図6】スローリーク弁の第3実施形態を示した断面図である。
【図7】弁組立部を示したボディの平面図である。
【図8】定流量リーク弁を示した部分断面図である。
【図9】定流量リーク弁を用いた半導体製造装置のガスラインの一部を示した回路図である。
【符号の説明】
1 スローリーク弁
2 ボディ
3 アダプタ
4 シリンダ
11 1次側流路
12 2次側流路
13 パージガス流入流路
15 弁組立部
21 ピストン
22 ロッド
31 ダイアフラム
32 弁シート
33 弁シート押え
13a 溝
32a 弁孔
32b 弁座
33a,33b 貫通孔
Claims (5)
- 駆動手段によって弁体を弁座に押し付けることにより、1次側流路と2次側流路との間に形成された弁孔を塞いで閉弁させ、その閉弁時にも2次側流路にガスを少流量流し続けるようにしたスローリーク弁であって、
弁のボディには、前記1次側流路と2次側流路の他にガス流入流路が形成され、前記閉弁時にも少流量のガスが前記2次側流路に常に流れるようにすべく、ガス流入流路と前記2次側流路とが前記弁孔の周りを通って連通するオリフィス部が形成されたものであることを特徴とするスローリーク弁。 - 請求項1に記載するスローリーク弁において、
前記ボディには、前記1次側流路、2次側流路及びガス流入流路の開口部が底面に開けられた弁組立部が形成され、その弁組立部内に前記弁孔及び弁座を有する弁シートと、その弁シートを位置決めする弁シート押えとを装填するようにしたものであって、前記オリフィス部が、その弁体組立部に形成された溝や弁シート押えに形成された細孔などによって任意に形成できるようにしたものであることを特徴とするスローリーク弁。 - 請求項2に記載するスローリーク弁において、
前記弁体がダイアフラムであって、前記2次側流路及びガス流入流路に対応して前記弁シート押えに穿設された貫通孔が、閉弁時のダイアフラムと弁シート押えとによって構成される狭い空間を介してつながり、
前記ガス流入流路と弁シートの貫通孔は、前記弁組立部の底面に形成された溝を介して連通しているものであることを特徴とするスローリーク弁。 - 請求項2に記載するスローリーク弁において、
前記弁組立部の底面に開設された前記2次側流路及びガス流入流路の開口部が、その弁組立部の底面に形成された溝を介してつながっているものであることを特徴とするスローリーク弁。 - 請求項2に記載するスローリーク弁において、
前記弁体がダイアフラムであって、前記弁シート押えには、前記2次側流路に対応して穿設された貫通孔と前記ガス流入流路に対応して穿設された細孔とが、閉弁時のダイアフラムと弁シート押えとによって構成される狭い空間を介してつながるようにしたものであることを特徴とするスローリーク弁。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003112639A JP2004316801A (ja) | 2003-04-17 | 2003-04-17 | スローリーク弁 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003112639A JP2004316801A (ja) | 2003-04-17 | 2003-04-17 | スローリーク弁 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004316801A true JP2004316801A (ja) | 2004-11-11 |
Family
ID=33472781
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003112639A Pending JP2004316801A (ja) | 2003-04-17 | 2003-04-17 | スローリーク弁 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2004316801A (ja) |
-
2003
- 2003-04-17 JP JP2003112639A patent/JP2004316801A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6893362B2 (ja) | オリフィス内蔵弁および圧力式流量制御装置 | |
JP7257056B2 (ja) | バルブ装置および流体制御装置、流体制御方法、半導体製造装置及び半導体製造方法 | |
JP2006162043A (ja) | ダイアフラム弁 | |
JP2003029848A (ja) | 定圧レギュレータ | |
TW201923270A (zh) | 閥裝置 | |
US9304517B2 (en) | Flow control device | |
WO2019107139A1 (ja) | バルブ装置、このバルブ装置を用いた流体制御装置および半導体製造装置 | |
JP2010112539A (ja) | 圧力バランス型制御弁 | |
TW201923265A (zh) | 閥裝置 | |
JPH06295209A (ja) | 流体コントロールバルブ | |
KR20170022714A (ko) | 고압밸브 | |
US6105933A (en) | Diaphragm valve structure | |
US5865423A (en) | High flow diaphragm valve | |
TWI698729B (zh) | 閥裝置、流體控制裝置、流體控制方法、半導體製造裝置及半導體製造方法 | |
JP2004316801A (ja) | スローリーク弁 | |
JPH04337171A (ja) | 弁装置 | |
JP7217504B2 (ja) | 膨張弁 | |
JP6033912B2 (ja) | ダイヤフラムバルブ | |
WO2010058726A1 (ja) | ダイヤフラムバルブ | |
JP2004045399A (ja) | 可変流量調整器 | |
JP2005180527A (ja) | リーク弁 | |
JP3737050B2 (ja) | 定圧レギュレータ | |
JP4464489B2 (ja) | 逆止弁 | |
JP2010144765A (ja) | ダイヤフラム弁 | |
JP2006057819A (ja) | 電磁比例弁 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060306 |
|
A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20080925 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081014 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090303 |