JP2004300307A - 芳香族ビニル化合物の重合抑制剤組成物 - Google Patents

芳香族ビニル化合物の重合抑制剤組成物 Download PDF

Info

Publication number
JP2004300307A
JP2004300307A JP2003095714A JP2003095714A JP2004300307A JP 2004300307 A JP2004300307 A JP 2004300307A JP 2003095714 A JP2003095714 A JP 2003095714A JP 2003095714 A JP2003095714 A JP 2003095714A JP 2004300307 A JP2004300307 A JP 2004300307A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
aromatic vinyl
group
component
carbon atoms
compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2003095714A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4165816B2 (ja
Inventor
Seiji Tanizaki
青磁 谷崎
Junichi Nakajima
淳一 中嶋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hakuto Co Ltd
Original Assignee
Hakuto Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hakuto Co Ltd filed Critical Hakuto Co Ltd
Priority to JP2003095714A priority Critical patent/JP4165816B2/ja
Publication of JP2004300307A publication Critical patent/JP2004300307A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4165816B2 publication Critical patent/JP4165816B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Abstract

【課題】芳香族ビニル化合物の製造、精製、貯蔵、あるいは輸送工程において、芳香族ビニル化合物の重合を長時間抑制し、且つ、取り扱い性に優れた芳香族ビニル化合物の重合抑制剤組成物を提供する。
【解決手段】芳香族ビニル化合物の重合抑制剤組成物において、(A) 重合抑制効果を有するニトロフェノール化合物と、(B)スルホン酸化合物と、(C)特定の(i) オキソ基を持つ環状化合物、(ii) N−置換アミド、(iii) スルホキシド、(iv) アルコールから選ばれる1種以上を含んでなる芳香族ビニル化合物の重合抑制剤組成物。
【選択図】 なし

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は芳香族ビニル化合物の製造、精製、貯蔵或いは輸送工程に添加して芳香族ビニル化合物あるいはこれを含有するプロセス流体の重合を抑制するのに有効な芳香族ビニル化合物の重合抑制剤組成物に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
芳香族ビニル化合物、特にスチレンはポリスチレン、合成ゴム、ABS樹脂などの製造原料として産業上非常に重要な化合物であり、工業的に大量に生産されている。
【0003】
一般に芳香族ビニル化合物は極めて重合し易く、製造あるいは精製工程において、熱が加わる等の要因により容易に重合し、芳香族ビニル化合物モノマーの収率を低下させ、さらに関連設備の中にファウリング(汚れ)を生じ設備の運転上、支障を来すなどの問題がある。そこで、種々の対策が提案されている。例えば、重合抑制剤としてフェノール類、ニトロソフェノール類、ニトロフェノール類をプロセス流中に添加する方法(例えば、特許文献1参照)、ニトロフェノール類とピペリジンオキシル類を組合わせて用いる方法(例えば、特許文献2参照)、アルキルスルホン酸とジアルキルヒドロキシルアミンの組み合わせて用いる方法(例えば、特許文献3参照)、燐酸エステルとアルキルスルホン酸を組み合わせて使用する方法(例えば、特許文献4参照)、7−アリールキノンメチドを使用する方法(例えば、特許文献5参照)オレフィン製造プロセスでの粘度上昇を抑制するためにフェノール系、アミン系、ニトロソ系重合禁止剤とドデシルベンゼンスルホン酸等のスルホン酸化合物およびその塩を添加する方法(例えば、特許文献6参照)、ビニル化合物を扱う工程でのファウリングを防止するためにキノン系、ハイドロキノン系、ニトロソ系、フェニレンジアミン等のアミン系重合禁止剤とドデシルベンゼンスルホン酸等のスルホン酸化合物およびその塩を添加する方法(例えば、特許文献7参照)、2,4−ジニトロフェノール(DNP)、2,6−ジニトロ―4−メチルフェノール、2,4−ジニトロ−6−第二ブチルフェノール(DNBP)等のニトロフェノール類が、芳香族ビニル化合物の重合抑制剤として多用されている。しかし、ニトロフェノール類は重合速度の増加を抑制する効果がある反面、毒物に該当するため、その取り扱いに厳重な注意を要する。そのためにニトロフェノール類の重合抑制効果を維持し、その使用量を低減できる方法が強く望まれていた。
【0004】
【特許文献1】
特開昭63−316745号公報
【特許文献2】
特開平6−166636号公報
【特許文献3】
米国特許第4,654,450明細書
【特許文献4】
米国特許第4,425,223明細書
【特許文献5】
特開平9−165408号公報
【特許文献6】
特開平7−166152号公報
【特許文献7】
特開平8−34748号公報
【0005】
先に、本発明者は(A) 下記一般式(1)で表されるニトロフェノール化合物と、(B) 下記一般式(2)で表されるスルホン酸化合物と組み合わせて使用したときは、ニトロフェノール類単独系よりも芳香族ビニル化合物或いはこれを含有するプロセス流体の重合を効率よく抑制し、且つその効果が長く持続することを見出し、特許出願した(特許文献8参照)。
【0006】
【化4】
Figure 2004300307
(式中、A、B、C、Dはそれぞれ独立して水素、ニトロ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、炭素数1〜12の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示す)
【0007】
【化5】
Figure 2004300307
(式中、Rはヒドロキシル基、炭素数1〜32の直鎖もしくは分岐のアルキル基、少なくとも1つの炭素数1〜32の直鎖もしくは分岐のアルキル基を持つアルキルフェニル基あるいはアルキルナフチル基を示す)
【0008】
【特許文献8】
特開2003−12708号公報
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、特開2003−12708号発明の主題である、ニトロフェノール化合物とスルホン酸化合物の2成分系からなる芳香族ビニル化合物の重合抑制剤組成物の改良に係り、更にニトロフェノール化合物の使用量を低減し、芳香族ビニル化合物の重合を長時間抑制し得る第3成分を含有してなる芳香族ビニル化合物の重合抑制剤組成物を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、引き続き、芳香族ビニル化合物の重合反応を詳細に検討した結果、ニトロフェノール系重合抑制剤とスルホン酸化合物の2成分系に特定のオキソ基を持った環状化合物、N−置換アミド、スルホキシド、アルコールの中の一種以上とを共存させることにより、ニトロフェノール系重合抑制剤のコストパフォーマンスを著しく高めることを見出し、本発明をなすに至った。
【0011】
すなわち、請求項1に係る発明は、(A) 一般式(1)で表されるニトロフェノール化合物と、(B) 一般式(2)で表されるスルホン酸化合物と、(C) (i) 一般式(3)で表されるオキソ基を持つ環状化合物、(ii) 一般式(4)で表されるN−置換アミド、(iii) 一般式(5)で表されるスルホキシドおよび(iv) 一般式(6)で表されるアルコールから選ばれる1種以上を含んでなる芳香族ビニル化合物の重合抑制剤組成物。
【0012】
【化6】
Figure 2004300307
(式中、A、B、C、Dはそれぞれ独立して水素、ニトロ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、炭素数1〜12の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示す)
【0013】
【化7】
Figure 2004300307
(式中、Rはヒドロキシル基、炭素数1〜32の直鎖もしくは分岐のアルキル基、少なくとも1つの炭素数1〜32の直鎖もしくは分岐のアルキル基を持つアルキルフェニル基あるいはアルキルナフチル基を示す)
【0014】
【化8】
Figure 2004300307
(式中、Rは窒素原子または酸素原子を示し、Rが窒素原子の場合にはRは水素原子または炭素数1〜3のアルキル基を示し、Kは炭素数3〜5のアルキレン基を示す)
【0015】
−CO−NR (4)
(式中、R、R、Rはそれぞれ独立に水素原子または炭素数1〜3のアルキル基を示す)
【0016】
−SO−R (5)
(式中、R、Rはそれぞれ独立に水素原子または炭素数1〜3のアルキル基を示す)
【0017】
−(OCHCH−OH (6)
(式中、Rは水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を示し、nは1〜5の整数を示す)
【0018】
請求項2に係る発明は、請求項1記載の芳香族ビニル化合物の重合抑制剤組成物であり、(A)成分のニトロフェノール化合物が2,4−ジニトロフェノール、2,6−ジニトロフェノール、2,6−ジニトロ−4−メチルフェノールおよび2,4−ジニトロ−6−第二ブチルフェノールから選ばれる1種以上であることを特徴としている。
【0019】
請求項3に係る発明は、請求項1ないし2のいずれか記載の芳香族ビニル化合物の重合抑制剤組成物であり、(B) 成分のスルホン酸化合物がトルエンスルホン酸、キシレンスルホン酸、クメンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ペンタデシルベンゼンスルホン酸およびジノニルナフタレンスルホン酸から選ばれる1種以上であることを特徴としている。
【0020】
請求項4に係る発明は、請求項1ないし3のいずれか記載の芳香族ビニル化合物の重合抑制剤組成物であり、(C) 成分がγ−ブチロラクトン、ε−カプロラクタム、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジエチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテルおよびプロピレングリコールから選ばれる1種以上であることを特徴としている。
【0021】
請求項5に係る発明は、請求項1ないし4のいずれか記載の芳香族ビニル化合物の重合抑制剤組成物であり、(B) 成分と(C) 成分の配合比が、モル比で1:0.5〜1:2であることを特徴としている。
【0022】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明は、芳香族ビニル化合物の製造、精製、貯蔵、あるいは輸送工程における重合の抑制および重合によって生じる汚れの防止を効果的に達成し得る重合抑制剤組成物であり、(A) 芳香族ビニル化合物に対して重合抑制効果を有するニトロフェノール化合物(以下、「(A)成分」とする)と、(B)スルホン酸化合物(以下、「(B)成分」とする)と、(C) 特定の(i) オキソ基を持つ環状化合物、(ii) N−置換アミド、(iii) スルホキシド、(iv) アルコールから選ばれる1種以上(以下、これらを一括して「(C)成分」とする)を含んでなる芳香族ビニル化合物の重合抑制剤組成物である。更に詳しくは、(A)成分に、特定の比率からなる(B)成分と(C)成分の配合物を加えることにより、(A)成分の重合抑制効果を予想し得ないほど、著しく向上させた重合抑制剤組成物である。
【0023】
本発明における芳香族ビニル化合物は、スチレン、メチルスチレン、エチルスチレン、ジビニルベンゼンである。
【0024】
本発明における(A)成分のニトロフェノール化合物は、上記一般式(1)で表されるように、ベンゼン環に結合したヒドロキシル基とニトロ基がオルト位の位置関係にあり、式中のA、B、C、Dはそれぞれ独立に水素、ニトロ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、炭素数1〜12の直鎖もしくは分岐のアルキル基であって、重合抑制効果を有し、一般のニトロフェノール系重合抑制剤に配合されているニトロフェノール化合物である。具体的には2,4−ジニトロフェノール、2,6−ジニトロフェノール、2,6−ジニトロ−4−メチルフェノール、2,4−ジニトロ−6−メチルフェノール、2,4−ジニトロ−6−第二ブチルフェノールおよび2,4−ジニトロ−4−第二ブチルフェノールであり、これらの1種以上が用いられる。
【0025】
本発明における(B)成分のスルホン酸化合物は、単独では芳香族ビニル化合物の重合抑制効果をほとんど有していないが、(A)成分のニトロフェノール化合物と併用することにより重合抑制作用が向上させる効果を有する化合物である。(B)成分のスルホン酸化合物は上記一般式(2)で表示されるもので、式中、Rはヒドロキシル基、炭素数1〜32の直鎖もしくは分岐のアルキル基、少なくとも1つの炭素数1〜32の直鎖もしくは分岐のアルキル基を持つアルキルフェニル基あるいはアルキルナフチル基であって、具体的には硫酸、トルエンスルホン酸、キシレンスルホン酸、クメンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ペンタデシルベンゼンスルホン酸、ジノニルナフタレンスルホン酸等が挙げられ、特に芳香族ビニル化合物への溶解性、価格、取り扱い性等からペンタデシルスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸が好ましい。これらの中の1種あるいは2種以上が用いられる。有機スルホン酸は遊離のスルホン酸であり、ナトリウムやカリウム等のアルカリ金属塩、カルシウム等のアルカリ土類金属塩、アミンとの塩、その他錯体を形成しているものは、本発明の効果を得ることができない。
【0026】
本発明の(C)成分は、特定の(i) オキソ基を有する環状化合物、(ii) N−置換アミド、(iii) スルホキシドおよび(iv) アルコールから選ばれる1種以上からなり、これを(B)成分のスルホン酸化合物と特定の比率で配合して(A)成分のニトロフェノール化合物と併用することにより、予想し得ないほど(A)成分の重合抑制効果が向上した重合抑制剤組成物が得られる。
【0027】
(i) オキソ基を有する環状化合物は、前記一般式(3)で表されたオキソ基を有する環状の有機化合物であり、式中、Rは窒素原子または酸素原子を示し、Rが窒素原子の場合にはRは水素原子、炭素数1〜3のアルキル基を示し、Kは炭素数3〜5のアルキレン基を示す。具体的にはγ−ブチロラクトン、ε−カプロラクタム、N−メチルピロリドンがあり、好ましくはε−カプロラクタム、N−メチルピロリドンである。
【0028】
(ii) N−置換アミドは、前記一般式(4)で表され、式中、R、R、Rはそれぞれ独立に水素原子あるいは炭素数1〜3のアルキル基である。具体的には、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミド、N,N−ジメチルプロピオンアミド、N,N−ジプロピルプロピオンアミドがあり、好ましくはN,N−ジメチルホルムアミドである。
【0029】
(iii) スルホキシドは、前記一般式(5)で表され、式中、R、Rはそれぞれ独立に水素原子あるいは炭素数1〜3のアルキル基を示す。具体的には、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシド、ジプロピルスルホキシド、ジイソプロピルスルホキシド、メチルエチルスルホキシドがあり、好ましくはジメチルスルホキシドである。
【0030】
(iv) アルコールは、前記一般式(6)で表され、式中、Rは水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を示し、nは1〜5の整数を示す。具体的にはエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ペンタエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコールがあり、好ましくはエチレングリコール、ジエチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテルである。
【0031】
(C)成分には(i)〜(iv)の化合物の中から選ばれた1種あるいは2種以上を組み合わせて用いられる。これらの中で好ましくは、ε−カプロラクタム、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジエチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールである。
【0032】
本発明の重合抑制剤組成物は、(A)成分に、特定の比率からなる(B)成分と(C)成分の混合物を加えた重合抑制組成物であり、(A)成分にごく少量の該(B)成分と(C)成分の混合物を配合することで著しい重合抑制効果の向上が得られる。
【0033】
(B)成分に対する(C)成分の配合比は、モル比で1:0.5〜1:2.0、好ましくは1:0.7〜1:1.5、より好ましくは1:0.8〜1.2である。(B)成分に対する(C)成分の配合比が、モル比で1:0.5未満では、当該芳香族ビニル化合物の重合を抑制する効果が十分に得られない場合がある。また、(C)成分をこの範囲を超えて(B)成分に配合しても本発明の効果の向上が得られない場合がある。
【0034】
本発明の重合抑制剤組成物における(A)成分と、(B)成分の配合比率は、(A)成分の種類、対象とする芳香族ビニル化合物の種類、重合抑制の程度、工程の操業条件等により一律に決定できるものではなく、適宜選択されれば良い。一般的には重量比で99.5:0.5〜5:95、好ましくは99:1〜30:70、より好ましくは95:5〜50:50である。(A)成分に対して、(B)成分が、0.5重量%以下では十分な本発明の効果を得ることができない場合もある。また、(B)成分を前記配合範囲を超えて配合しても本発明の効果は得られるが、配合量増加の割りに重合抑制効果の向上が小さく、好ましくない場合がある。
【0035】
本発明の重合抑制剤組成物の添加量は、対象とする工程の条件、重合抑制の必要度などにより異なり、一律に決められるものではないが、一般的には対象とする芳香族ビニル化合物に対し、(A)成分と(B)成分の合計量として、1〜10,000mg/芳香族ビニル化合物−kg、好ましくは10〜2,000mg/芳香族ビニル化合物−kg、さらに好ましくは100〜1,000mg/芳香族ビニル化合物−kgである。これらの添加量は、対象とする芳香族ビニル化合物の重合抑止効果を発揮する上で適当な範囲として見出されたものであり、この範囲より小さいと重合抑制効果が十分でなく、また、この範囲より多くても重合抑制効果は十分に得られるが、添加量の割に重合抑制効果の向上は小さく、経済的に好ましくない場合がある。
【0036】
本発明の重合抑制剤組成物の添加方法は、通常、芳香族ビニル化合物が重合し、ファウリングとして問題化する箇所より、上流のプロセスに添加する。例えば、スチレンは一般にエチルベンゼンの脱水素反応によって製造され、生成したスチレンと未反応エチルベンゼンを連続的に蒸留分離していることから、そのエチルベンゼン脱水素後の蒸留塔群に供給するのがよい。また、本発明の重合抑制剤組成物の添加方法は、特に限定されるものではないが、通常、ある特定箇所に一括添加するか、あるいはいくつかの箇所に分けて添加するなどの方法が適宜選択される。また、本発明の重合抑制剤組成物はポンプでそのまま、注入される。あるいはプロセス流体と同じ液体、例えばスチレンの場合にはエチルベンゼンに溶解して添加しても良い。
【0037】
本発明の効果を損なわない範囲において、従来使用されてきた公知の他の重合抑制剤などを併せて用いることになんら制限を加えるものではない。
【0038】
【実施例】
実施例によって、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は以下の実施例になんら限定されるものではない。
【0039】
〔(A) 成分:ニトロフェノール化合物〕
DNBP:2,4−ジニトロ−6−第二ブチルフェノール
DNP:2,4−ジニトロフェノール
DNOC:2,4−ジニトロ−6−メチルフェノール
【0040】
〔(B) 成分:スルホン酸化合物〕
MS:メタンスルホン酸
PTS:パラトルエンスルホン酸
XSA:キシレンスルホン酸
CSA:クメンスルホン酸
DDBSA:ドデシルベンゼンスルホン酸
PDBSA:ペンタデシルベンゼンスルホン酸
DNNSA:ジノニルナフタレンスルホン酸
【0041】
〔(C) 成分〕
(オキソ基を有する環状化合物)
BL:γ−ブチロラクトン
CL:ε−カプロラクタム
NMPR:N−メチルピロリドン
(N−置換アミド化合物)
DMF:N,N−ジメチルホルムアミド
(スルホキシド)
DMSO:ジメチルスルホキシド
(アルコール)
PEG:ポリエチレングリコール(分子量186)
BG:エチレングリコールモノブチルエーテル
PG:プロピレングリコール
(その他)
BHT:2,6−ジ第三ブチル−4メチルフェノール
TBC:第三ブチルカテコール
NDPA:N−ニトロソジフェニルアミン
NPH:p−ニトロソフェノール
DEHA:ジエチルヒドロキシルアミン
DDBSA−Na:ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム
DBSA−Ca:ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム
DDBSA−N:ドデシルベンゼンスルホン酸テトラデシルアミン
EB:エチルベンゼン
BA:ベンジルアルコール
MEK:メチルエチルケトン
【0042】
〔重合抑制試験1〕
還流冷却器を備えた4つ口セパラブルフラスコにスチレンモノマー100gを入れ、表1および表2の重合抑制剤組成物を所定量加え、高純度窒素ガスを30分間吹き込んで溶存酸素を除いた。次いでこれを120℃に保持し、一定時間毎に内容物の一部を取り出してサンプリングし、サンプリング液の9倍容量のメタノールを加えてスチレンポリマーを液中に懸濁状態で析出させ、これをメンブランフイルターで濾過してスチレンポリマー量(g)を秤量し、モノマー中のポリマー生成率(重量%)を求めた。なお、予めスチレンモノマーをアルカリ洗浄して、スチレン中に含まれる重合抑制剤を除き、水洗、乾燥した。得られた結果を表3および表4に示す。
【0043】
【表1】
Figure 2004300307
【0044】
【表2】
Figure 2004300307
【0045】
【表3】
Figure 2004300307
【0046】
【表4】
Figure 2004300307
【0047】
本発明の重合抑制剤組成物は、比較例1〜13のニトロフェノール化合物とスルホン酸化合物の組み合わせ物よりも高い効果を示すことがわかる。特にニトロフェノール化合物に対して、有機スルホン酸化合物とN−メチルピロリドンの1:1モル混合物を0.5重量%配合するだけで、ニトロフェノール化合物とスルホン酸化合物の96:4〜4:96の広範囲の混合物よりも高い重合抑制効果を示していることがわかる。
【0048】
【発明の効果】
本発明の重合抑制剤組成物により、芳香族ビニル化合物を扱う製造、精製、反応、貯蔵、輸送などの工程における該芳香族ビニル化合物の重合を長時間抑制し、安全操業および長期連続運転が可能となり、製品の収率向上、さらには製品品質の向上も達成できる。さらに、優れた重合抑制効果により、重合抑制剤の添加量の低減が可能となり、コスト低減や作業環境の改善に大きく寄与する。

Claims (5)

  1. (A) 一般式(1)で表されるニトロフェノール化合物と、(B) 一般式(2)で表されるスルホン酸化合物と、(C) (i) 一般式(3)で表されるオキソ基を持つ環状化合物、(ii) 一般式(4)で表されるN−置換アミド、(iii)一般式(5)で表されるスルホキシドおよび(iv) 一般式(6)で表されるアルコールから選ばれる1種以上を含んでなる芳香族ビニル化合物の重合抑制剤組成物。
    Figure 2004300307
    (式中、A、B、C、Dはそれぞれ独立して水素、ニトロ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、炭素数1〜12の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示す)
    Figure 2004300307
    (式中、Rはヒドロキシル基、炭素数1〜32の直鎖もしくは分岐のアルキル基、少なくとも1つの炭素数1〜32の直鎖もしくは分岐のアルキル基を持つアルキルフェニル基あるいはアルキルナフチル基を示す)
    Figure 2004300307
    (式中、Rは窒素原子または酸素原子を示し、Rが窒素原子の場合にはRは水素原子または炭素数1〜3のアルキル基を示し、Kは炭素数3〜5のアルキレン基を示す)
    −CO−NR (4)
    (式中、R、R、Rはそれぞれ独立に水素原子または炭素数1〜3のアルキル基を示す)
    −SO−R (5)
    (式中、R、Rはそれぞれ独立に水素原子または炭素数1〜3のアルキル基を示す)
    −(OCHCH−OH (6)
    (式中、Rは水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を示し、nは1〜5の整数を示す)
  2. 前記(A) 成分のニトロフェノール化合物が、2,4−ジニトロフェノール、2,6−ジニトロフェノール、2,6−ジニトロ−4−メチルフェノールおよび2,4−ジニトロ−6−第二ブチルフェノールから選ばれる1種以上を含む請求項1記載の芳香族ビニル化合物の重合抑制剤組成物。
  3. 前記(B) 成分のスルホン酸化合物が、トルエンスルホン酸、キシレンスルホン酸、クメンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ペンタデシルベンゼンスルホン酸およびジノニルナフタレンスルホン酸から選ばれる1種以上である請求項1ないし2のいずれか記載の芳香族ビニル化合物の重合抑制剤組成物。
  4. 前記(C) 成分が、γ−ブチロラクトン、ε−カプロラクタム、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジエチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテルおよびプロピレングリコールから選ばれる1種以上である請求項1ないし3のいずれか記載の芳香族ビニル化合物の重合抑制剤組成物。
  5. (B) 成分と(C) 成分の配合比は、モル比で1:0.5〜1:2である請求項1ないし4のいずれか記載の芳香族ビニル化合物の重合抑制剤組成物。
JP2003095714A 2003-03-31 2003-03-31 芳香族ビニル化合物の重合抑制剤組成物 Expired - Fee Related JP4165816B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003095714A JP4165816B2 (ja) 2003-03-31 2003-03-31 芳香族ビニル化合物の重合抑制剤組成物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003095714A JP4165816B2 (ja) 2003-03-31 2003-03-31 芳香族ビニル化合物の重合抑制剤組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2004300307A true JP2004300307A (ja) 2004-10-28
JP4165816B2 JP4165816B2 (ja) 2008-10-15

Family

ID=33407976

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003095714A Expired - Fee Related JP4165816B2 (ja) 2003-03-31 2003-03-31 芳香族ビニル化合物の重合抑制剤組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4165816B2 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006051941A1 (ja) 2004-11-15 2006-05-18 Hakuto Co., Ltd. ジビニルベンゼンと芳香族ビニル化合物を含む共重合体の重合抑制方法
WO2006062563A1 (en) * 2004-12-03 2006-06-15 Chemtura Corporation Aromatic sulfonic acids, amines, and nitrophenols in combination with nitroxyl radical-containing compounds or c-nitrosanilines as polymerization inhibitors
JP2008530269A (ja) * 2005-02-04 2008-08-07 ケムチュア コーポレイション スチレン系単量体とスルホン酸との発熱反応を制御する手段
CN116553996A (zh) * 2023-07-07 2023-08-08 吉林金海化工新材料有限公司 一种阻聚剂及其应用

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006051941A1 (ja) 2004-11-15 2006-05-18 Hakuto Co., Ltd. ジビニルベンゼンと芳香族ビニル化合物を含む共重合体の重合抑制方法
JPWO2006051941A1 (ja) * 2004-11-15 2008-05-29 伯東株式会社 ジビニルベンゼンと芳香族ビニル化合物を含む共重合体の重合抑制方法
WO2006062563A1 (en) * 2004-12-03 2006-06-15 Chemtura Corporation Aromatic sulfonic acids, amines, and nitrophenols in combination with nitroxyl radical-containing compounds or c-nitrosanilines as polymerization inhibitors
US7696290B2 (en) 2004-12-03 2010-04-13 Crompton Corporation Aromatic sulfonic acids, amines, and nitrophenols in combination with nitroxyl radical-containing compounds or C-nitrosanilines as polymerization inhibitors
US7728083B1 (en) 2004-12-03 2010-06-01 Chemtura Corporation Aromatic sulfonic acids, amines and nitrophenols in combination with nitroxyl radical-containing compounds or C-nitrosoanilines as polymerization inhibitors
JP2008530269A (ja) * 2005-02-04 2008-08-07 ケムチュア コーポレイション スチレン系単量体とスルホン酸との発熱反応を制御する手段
JP4686550B2 (ja) * 2005-02-04 2011-05-25 ケムチュア コーポレイション スチレン系単量体とスルホン酸との発熱反応を制御する手段
US8013083B2 (en) 2005-02-04 2011-09-06 Chemtura Corporation Means for controlling the exothermic reaction of styrenic monomers with sulfonic acids
KR101276975B1 (ko) * 2005-02-04 2013-06-19 켐트라 코포레이션 스티렌 단량체의 설폰산과의 발열반응에 대한 제어 수단
CN116553996A (zh) * 2023-07-07 2023-08-08 吉林金海化工新材料有限公司 一种阻聚剂及其应用

Also Published As

Publication number Publication date
JP4165816B2 (ja) 2008-10-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3788950B2 (ja) 芳香族ビニル化合物の重合抑制方法
CA2607967C (en) Ortho-nitrosophenols as polymerization inhibitors
JP4790414B2 (ja) 芳香族ビニル化合物の重合抑制剤および重合抑制方法
US20060020089A1 (en) Method for stabilizing vinyl aromatic monomers using selected polymerization inhibitors and polymers prepared
US20100127218A1 (en) Aromatic sulfonic acids, amines and nitrophenols in combination with nitroxyl radical-containing compounds or c-nitrosoanilines as polymerization inhibitors
JP2003520259A (ja) 不飽和単量体の重合抑制
JP4165816B2 (ja) 芳香族ビニル化合物の重合抑制剤組成物
CN101102984A (zh) 作为聚合抑制剂的与含氮氧自由基的化合物或c-亚硝基苯胺结合的芳族磺酸、胺和硝基酚
JP5142983B2 (ja) 芳香族ビニル化合物の重合抑制方法
JP4871616B2 (ja) 芳香族ビニル化合物の重合抑制方法
JP3990585B2 (ja) 芳香族ビニル化合物の重合抑制方法
JP2003040813A (ja) 芳香族ビニル化合物の重合抑制方法
JP2020132678A (ja) 不飽和芳香族単量体の重合を抑制する方法
JP2004300385A (ja) 芳香族ビニル化合物の重合抑制方法
JP2003277302A (ja) 芳香族ビニル化合物の重合抑制方法
JP2006282541A (ja) 芳香族ビニル化合物の重合抑制剤組成物及び重合抑制方法
JP4743822B2 (ja) 芳香族ビニル化合物の重合抑制方法
TWI362380B (en) Sulfonated nitrophenol as polymerization inhibitors
BR112017018283B1 (pt) Método para inibir polimerização de um composto insaturado
JP4085614B2 (ja) オキシスチレン誘導体の保存安定化方法
KR100805381B1 (ko) 방향족 비닐계 단량체의 중합 방지용 1 액형 조성물 및상기 조성물을 사용하는 중합 방지 방법
JP2006176417A (ja) 芳香族ビニル化合物の重合抑制方法
JP2005053833A (ja) 置換スチレン誘導体の重合抑制方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Effective date: 20060224

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20080416

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20080418

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080513

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080701

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080725

R150 Certificate of patent (=grant) or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110808

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110808

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110808

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110808

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 4

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120808

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 4

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120808

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 4

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120808

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 5

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130808

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees