JP2004298774A - 塗布装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ダイヘッド11を支持しレール4上を移動するアーム6の基部Kに,錘部材Mを取り付ける。この錘部材Mによって,アーム6とダイヘッド11を含む移動系Rの重心Uを,リニアモータ9によりアーム6に働く駆動力Pの作用線Lと一致させる。こうすることによって,移動系Rに駆動力Pによるモーメントが働かず,アーム6の移動時の挙動が安定するので,ダイヘッド11の揺れが抑制される。
【選択図】 図2
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は,基板の塗布装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
例えば液晶ディスプレイのカラーフィルタの製造工程において,矩形のガラス基板(以下,「基板」という。)の表面上にブラックマトリクスやR,G,Bの着色パターンなどを形成する際に,基板上に所定の塗布液を塗布して塗布膜を形成する塗布処理が行われている。
【0003】
上述の塗布処理は,例えば基板の一辺程度の細長形状を有する塗布液吐出用ダイヘッドが,スリット状の吐出口から塗布液を吐出した状態で,基板の一端部から他端部上まで移動し,基板の表面に塗布液を塗布することによって行われている。
【0004】
かかる塗布処理が行われる塗布装置は,通常基板を載置する載置台を備えている。載置台の側方には,載置台に沿ってレールが設けられ,レール上には,塗布液吐出用ダイヘッドを支持し,レール上を移動するアームが設けられている。アームは,例えばレールから上方に延びて,その先端部から載置台上に水平に延びた略逆L字形をなしており,その水平部分において載置台の上方から塗布液吐出用ダイヘッドを支持していた(例えば,特許文献1参照。)。そして,上記レールに対して移動する,例えばアームと塗布液吐出用ダイヘッドからなる移動系は,例えばリニアモータなどの駆動部による外力がレールに沿った方向に作用することによって推進力を得ていた。
【0005】
【特許文献1】
特開平9−131559号公報
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら,上述したような従来の移動系は,専ら塗布液吐出用ダイヘッドやアームの剛性,強度の観点から設計されており,移動系の重心の位置に関しては特に考えられていなかった。実際,上記移動系は,塗布液吐出用ダイヘッドが基板の上方の比較的高い位置で支持されているので,その移動系の重心の位置が,駆動部による外力の作用線よりも高くなっている。
【0007】
このため,移動系に推進力となる外力が加わる度に,前記移動系には,その外力のモーメントが働くことになる。このモーメントにより,例えば塗布時に塗布液吐出用ダイヘッドが基板上を移動する際に,移動系全体が揺れると塗布液吐出用ダイヘッドも揺れてしまう。塗布液吐出用ダイヘッドが揺れて,塗布液吐出用ダイヘッドの挙動が不安定になると,基板に供給される塗布量が基板面内において変動し,基板上に均一に塗布液が塗布されないこともある。特に,近年基板の寸法が大型化し,塗布液吐出用ダイヘッドも大型化して,塗布液吐出用ダイヘッドの重量が増大している中,その塗布液吐出用ダイヘッドの揺れはさらに大きくなる傾向にある。また,スループットの向上の観点から塗布液吐出用ダイヘッドをより高速で移動させることが望まれており,この場合の塗布液吐出用ダイヘッドの揺れが大きくなるので,その揺れを如何にして抑えるかが重要な問題となりつつある。
【0008】
本発明は,かかる点に鑑みてなされたものであり,塗布液吐出用ダイヘッドが移動する際の揺れを抑制し,基板に均一な塗布液を塗布する塗布装置を提供することをその目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために,本発明は,塗布液を吐出した状態で基板上を所定方向に移動することによって基板の表面に塗布液を塗布する塗布液吐出用ダイヘッドを備えた塗布装置であって,基板を載置する載置台と,前記載置台に隣接して前記所定方向に向けて配置されたレールと,前記塗布液吐出用ダイヘッドを有し,当該塗布液吐出用ダイヘッドと一体となって前記レール上を移動する移動系と,を備え,前記移動系は,駆動部による外力が前記所定方向に作用することによって前記レール上を移動可能であり,少なくとも前記所定方向に直交する方向の側面から見て前記移動系の重心を前記駆動部による外力の作用線上に位置させていること特徴とする。なお,本発明の「重心を作用線上に位置させる」には,重心を作用線上に完全に一致させる場合のみならず,誤差の範囲で移動系の揺れを防止できる範囲でズレがある場合をも含まれる。
【0010】
この発明によれば,塗布液吐出用ダイヘッドを含めたレール上を移動する移動系の重心が,少なくとも前記側面から見て前記駆動部による外力の作用線上にあるので,前記側面における移動系の重心を通る水平軸周りに,前記外力のモーメントが働くことがない。したがって,移動時,特に加減速時に移動系が揺れることが抑制され,塗布液吐出用ダイヘッドの揺れも抑制できる。この結果,基板に常に一定量の塗布液が塗布され,基板上に均一な塗布膜が形成できる。
【0011】
前記塗布装置は,平面から見たときにも前記移動系の重心を前記作用線上に位置させていてもよい。かかる場合,平面から見たときの移動系の重心が作用線上に位置するので,例えば平面における前記重心を通る垂直軸周りに,駆動部による外力のモーメントが働かない。したがって,移動系には,駆動部に起因する不要なモーメントが働くことがなく,塗布液吐出用ダイヘッドの挙動がさらに安定し,より均一な塗布液が塗布できる。
【0012】
少なくとも前記所定方向に直交する方向の側面から見て前記塗布液吐出用ダイヘッドの吐出口の位置は,前記移動系の重心に一致していてもよい。かかる場合,仮にモーメントが作用して移動系が回転変位しても吐出口が中心なのでその影響を受けることがない。したがって,塗布液吐出用ダイヘッドが移動する際の吐出口の挙動が安定して,吐出口の揺れが低減できる。したがって,吐出口から吐出される塗布液が基板上に均等に塗布される。
【0013】
前記移動系は,当該移動系の重心を前記作用線上に位置させる錘部材を備えていてもよい。かかる場合,移動系の重心を作用線上に位置させることが設計上困難であっても,錘部材によって重心の位置を移動させて作用線上に合わせることができる。
【0014】
前記移動系は,前記塗布液吐出用ダイヘッドを支持して前記レール上を移動する移送体を備え,前記錘部材は,前記移送体に取り付けられていてもよい。また前記移送体は,前記レール上から上方に向かって形成された垂直部材と,前記垂直部材から水平方向に向かって形成され前記塗布液吐出用ダイヘッドを支持する水平部材を備え,前記錘部材は,前記垂直部材に取り付けられていてもよい。
【0015】
前記移動系は,前記レールに対して非接触の状態で前記レール上を移動できてもよい。移動系がレールに対して非接触である場合,移動系が移動時に揺れやすくなる。したがって,かかる場合に上述したような錘部材を付けることにより,塗布液吐出用ダイヘッドの揺れを大幅に改善できる。
【0016】
前記塗布装置は,前記移動系に接続された配線,配管などの接続線を,前記レールに沿って前記移動系に追従させて移動させる駆動機構を,さらに備えていてもよい。かかる場合,接続線を移動系に追従させることができるので,接続線と移動系との間に強い張力が働くことを抑制できる。したがって,接続線と移動系との張力によって移動系の挙動が乱されることがなく,塗布液吐出用ダイヘッドの揺動を抑制できる。この結果,基板上に均等に塗布液を塗布できる。なお,前記駆動機構は,前記レールに沿って設けられた他のレールと,前記接続線の一部を保持した状態で前記他のレール上を移動する移動部材を備えていてもよい。
【0017】
【発明の実施の形態】
以下,本発明の好ましい実施の形態について説明する。図1は,本実施の形態にかかる塗布装置1の構成の概略を示す縦断面の説明図であり,図2は,塗布装置1の構成の概略を示す側面図である。
【0018】
塗布装置1は,例えば図1,図2に示すように基台2を有し,その基台2上の中央部には,基板Gを載置する載置台3が置かれている。載置台3は,例えば上面が水平で,基板Gより僅かに大きい矩形の盤状に形成されており,基板Gを水平に載置できる。載置台3のY方向(図1中の左右方向)の両側には,それぞれレール4,5が敷かれている。レール4,5は,X方向(図2の左右方向)に沿って,例えば載置台3の寸法よりも長く形成されている。
【0019】
レール4,5上には,例えば図1に示すように門型の移送体としてのアーム6がエアベアリング7,8を介して移動自在に設けられている。エアベアリング7,8は,各レール4,5との隙間にエアを供給することによって,アーム6をレール4,5から浮上させることができる。したがって,アーム6は,レール4,5上を当該レール4,5に対して非接触な状態で移動できる。
【0020】
アーム6は,2本の垂直方向に形成された垂直部材としての支柱6a,6bと,支柱6a,6bの上端部を連結する水平部材としての水平支持部6cを備えている。支柱6aは,レール4上に立設され,支柱6bは,レール5上に立設されている。水平支持部6cは,載置台3上にY方向に沿って形成されている。
【0021】
アーム6の内側には,図1に示すようにアーム6をX方向に沿って駆動する駆動部としてのリニアモータ9が配置されている。リニアモータ9は,例えばレール4,5に沿って設けられたマグネットレール9aと,マグネットレール9aを覆い当該マグネットレール9aに沿って設けられたコイル9bとから構成されている。コイル9bに電流を流すことによって,コイル9bが電磁石となり,この電磁石の極性をマグネットレール9aに沿って連続的に切り換えることによって水平方向の駆動力を得ることができる。リニアモータ9は,例えば支柱6a,6bの基部Kにそれぞれ取り付けられている。したがって,図2に示すようにリニアモータ9により作用する外力としての駆動力Pは,前記基部KからX方向に向けてアーム6に作用している(図2中のLは駆動力Pの作用線を示す。)。
【0022】
アーム6の水平支持部6cには,例えば図2に示すように固定部材10を介して塗布液吐出用ダイヘッド(以下,「ダイヘッド」とする。)11が取り付けられている。固定部材10は,例えば水平支持部6cからX方向に突出するように形成されており,ダイヘッド11は,固定部材10の下面に取り付けられている。
【0023】
ダイヘッド11は,例えば基板Gの短辺程度の長さの略直方体形状の本体11aを有し,当該本体11aの長手方向が基板Gの短辺方向(図1のY方向)に向けられている。ダイヘッド11の下面には,本体11aの長手方向に沿ったスリット状の吐出口12が形成されている。図示しない配管を通じてダイヘッド11内に導入された塗布液は,ダイヘッド11の下面の吐出口12からカーテン状に吐出される。
【0024】
アーム6の支柱6a,6bの外側には,それぞれ錘部材Mが取り付けられている。錘部材Mの重量は,図2に示すようにY方向側の側面から見てアーム6と塗布液吐出用ダイヘッド11を含めた移動系Rの重心Uが前記リニアモータ9の駆動力Pの作用線L上に位置するように設定されている。錘部材Mは,例えば支柱6a,6bの基部Kから下方に垂下した係止部13と,当該係止部13の下端部に係止された錘14から構成されている。例えば錘14は,係止部13に対して取り付け自在になっており,重量の異なる錘14を交換したり,錘14の取り付け高さを調整することによって,重心Uの位置を調整できる。
【0025】
本実施の形態にかかる塗布装置1は,以上のように構成されており,次に塗布装置1で実施される塗布処理プロセスについて説明する。
【0026】
先ず,載置台3上に基板Gが載置されると,例えば載置台3のX方向負方向側(図2の右側)の外方で待機していたダイヘッド11がアーム6の移動により基板GのX方向負方向側の端部上まで移動する。このアーム6の移動は,アーム6がエアベアリング7,8によってレール4,5から浮上し非接触な状態になっており,アーム6にリニアモータ9の駆動力Pが作用することによって行われる。続いてダイヘッド11の吐出口12から塗布液がカーテン状に吐出され,当該ダイヘッド11が基板GのX方向正方向側の端部上まで移動する。このときダイヘッド11は,移動開始時に加速され,基板G上を一定の速度で通過した後,移動終了時に減速される。錘部材Mによってダイヘッド11とアーム6を含む移動系Rの重心Uが,Y方向側の側面から見て駆動力Pの作用線L上に位置しているので,移動系Rには,駆動力PによるY軸周り(図2のθ方向)のモーメントが働かず,ダイヘッド11は,基板Gの一端部から他端部まで揺れることなく滑らかに移動する。
【0027】
ダイヘッド11が基板GのX方向正方向側の端部上まで移動し停止すると,塗布液の吐出も停止されて,基板Gには塗布液の塗布膜が形成される。塗布膜が形成された基板Gは,載置台3上から塗布装置1の外部に搬出されて,基板Gの一連の塗布処理が終了する。
【0028】
以上の実施の形態によれば,アーム6に重心Uを作用線L上に一致させるための錘部材Mを取り付けたので,駆動力Pにより移動系Rにかかるモーメントを低減することができ,それによってダイヘッド11の挙動が安定する。この結果,ダイヘッド11から吐出される塗布液の塗布量が基板G面内で一定になり,基板Gには,均一な塗布膜が形成される。特に,本実施の形態のようにエアベアリング7,8によってアーム6がレール4,5に対して非接触な状態で移動する場合には,ダイヘッド11が動き易くなるため,錘部材Mを取り付けることによって,その揺れを著しく抑制できる。
【0029】
以上の実施の形態で記載したダイヘッド11やアーム6には,塗布液を供給したり,電力を供給したりするために配管や配線が,例えば装置外から接続されている。ダイヘッド11やアーム6を含む移動系Rが移動すると,その配管や配線などの接続線と移動系Rとの間に張力がかかる場合があり,この張力によって移動系Rの挙動が影響される場合がある。そこで,塗布装置1に,前記接続線を移動系Rに追従させて移動させる移動機構を備えるようにしてもよい。
【0030】
かかる場合の一例として,例えば図3,4に示すようにアーム6の外方の基台2上には,レール4に沿った他のレールとしてのサブレール20が設けられる。サブレール20には,ダイヘッド11やアーム6に接続された接続線Sの一箇所を保持し当該サブレール20上を移動する移動部材21が設けられている。移動部材21は,例えば移動部材21に設けられた穴21aに接続線Sを通すことによって接続線Sを保持できる。移動部材21の駆動は,例えば図示しないリニアモータ又はボールネジなどの駆動部により行われる。また,基台2には,錘部材Mと移動部材21或は接続線Sとが干渉しないように,レール4とサブレール20との間にX方向に沿ったスリット22が設けられている。錘部材Mは,このスリット22内に収められ,このスリット22内をX方向に沿って移動できる。なお,本実施の形態においては,接続線Sを移動させる移動機構は,サブレール20と移動部材21によって構成されている。
【0031】
そして,塗布時にアーム6がレール4に沿って移動する際には,移動部材21は,そのアーム6の移動に同期して追従する。こうすることによって,アーム6と移動部材21との距離が所定の範囲或いは一定に維持され,接続線Sに張力が掛かることが防止される。したがって,接続線Sの張力によるダイヘッド11の揺れが抑えられ,基板G上に均一な塗布膜が形成される。
【0032】
なお,上述した接続線Sの移動機構は,アーム6の支柱6a側に設けたが,支柱6b側にも接続線がある場合には,支柱6b側にも設けてもよい。また,接続線Sの材質として可撓性に優れたものを用いることが好ましい。
【0033】
以上の実施の形態におけるアーム6は,ダイヘッド11を載置台3のY方向の両側から支持していたが,例えば図5に示すようにアーム30がダイヘッド11を片側から支持し,レール4が載置台3の一方側にのみ設けられていてもよい。かかる場合,例えばレール4上を移動するダイヘッド11とアーム30を含む移動系Rの重心Uが,平面から見てもリニアモータ9の駆動力Pの作用線L上に一致するように,錘部材Mの錘14が設定されてもよい。つまり作用線Lがいずれの方向から見ても重心Uを通るようにしてもよい。この場合,移動系Rの重心Uに,水平面における垂直軸周り(図5に示すA方向)の駆動部Pによるモーメント,X方向の側面におけるX軸周り(図5に示すB方向)のモーメントも働かなくなる。したがって,移動系Rに駆動力Pによる不要なモーメントが働かなくなり,ダイヘッド11の挙動がさらに安定される。
【0034】
以上の実施の形態で記載した塗布装置1において,Y方向側の側面から見たときのダイヘッド11の吐出口12の位置と移動系Rの重心Uとを一致させるようにしてもよい。かかる場合,例えば図6に示すようにダイヘッド11をアーム6の内側である同じY軸上に位置させ,錘部材Mの錘14を調整することにより,重心Uを吐出口12の位置に一致させてもよい。こうすることによって,仮に移動系Rに駆動力Pによるモーメントが掛かっても,重心Uの位置における揺れは小さいので,重心Uの位置に一致する吐出口12の揺れも小さくできる。さらに,例えば駆動力Pの作用点の位置を高くして作用線Lが重心Uを通るようにしてもよい。これは,例えばリニアモータ9のアーム6への取り付け位置を高くすることによって実現してもよい。こうすることによって,一致した重心Uと吐出口12の位置が作用線L上に位置し,上述したような駆動力Pによるモーメントが働かなくなるので,ダイヘッド11の吐出口12における揺れを大幅に低減できる。
【0035】
以上,本発明の実施の形態の一例について説明したが,本発明はこの例に限らず種々の態様を採りうるものである。例えば本実施の形態における錘部材Mは,アーム6の基部Kに取り付けられていたが,移動系Rの他の部分に取り付けられていてもよい。また,アーム6を移動させる駆動部は,リニアモータ9に限られず,ボールネジ,ベルトなどの他の駆動部が用いられていてもよい。さらに,上記実施の形態では,移動系Rの重心を作用線L上に位置させるために,錘部材Mを用いていたが,アーム6やダイヘッド11の移動系Rを,重心Uが作用線L上に位置するように設計してもよい。また,レール4の設置位置やリニアモータ9の設置位置を変えて作用線Lの位置を変えることにより重心Uを作用線L上に位置させてもよい。
【0036】
【発明の効果】
本発明によれば,塗布液吐出用ダイヘッドの振動が抑制されるので,基板上に一定の塗布液が吐出され,基板上に膜厚が均一な塗布膜が形成される。したがって,歩留まりの向上が図られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本実施の形態にかかる塗布装置の構成の概略を示す縦断面の説明図である。
【図2】塗布装置の構成の概略を示す側面図である。
【図3】接続線の移動機構を取り付けた塗布装置の構成の概略を示す縦断面の説明図である。
【図4】図3の塗布装置の側面図である。
【図5】片持ちのアームを備えた塗布装置の構成の概略を示す側面図である。
【図6】移動系の重心を吐出口に一致させた様子を示すための塗布装置の側面図である。
【符号の説明】
1 塗布装置
4,5 レール
6 アーム
9 リニアモータ
11 ダイヘッド
M 錘部材
R 移動系
P 駆動力
L 作用線
U 重心
G 基板
Claims (9)
- 塗布液を吐出した状態で基板上を所定方向に移動することによって基板の表面に塗布液を塗布する塗布液吐出用ダイヘッドを備えた塗布装置であって,
基板を載置する載置台と,
前記載置台に隣接して前記所定方向に向けて配置されたレールと,
前記塗布液吐出用ダイヘッドを有し,当該塗布液吐出用ダイヘッドと一体となって前記レール上を移動する移動系と,を備え,
前記移動系は,駆動部による外力が前記所定方向に作用することによって前記レール上を移動可能であり,
少なくとも前記所定方向に直交する方向の側面から見て前記移動系の重心を前記駆動部による外力の作用線上に位置させていること特徴とする,塗布装置。 - 平面から見たときにも前記移動系の重心を前記作用線上に位置させていることを特徴とする,請求項1に記載の塗布装置。
- 少なくとも前記所定方向に直交する方向の側面から見て前記塗布液吐出用ダイヘッドの吐出口の位置は,前記移動系の重心に一致していることを特徴とする,請求項1又は2のいずれかに記載の塗布装置。
- 前記移動系は,当該移動系の重心を前記作用線上に位置させる錘部材を備えていることを特徴とする,請求項1,2又は3のいずれかに記載の塗布装置。
- 前記移動系は,前記塗布液吐出用ダイヘッドを支持した状態で前記レール上を移動する移送体を備え,
前記錘部材は,前記移送体に取り付けられていることを特徴とする,請求項4に記載の塗布装置。 - 前記移送体は,前記レール上から上方に向かって形成された垂直部材と,前記垂直部材から水平方向に向かって形成され前記塗布液吐出用ダイヘッドを支持する水平部材を備え,
前記錘部材は,前記垂直部材に取り付けられていることを特徴とする,請求項5に記載の塗布装置。 - 前記移動系は,前記レールに対して非接触の状態で前記レール上を移動できることを特徴とする,請求項1,2,3,4,5又は6のいずれかの記載の塗布装置。
- 前記移動系に接続された配線,配管などの接続線を,前記レールに沿って前記移動系に追従させて移動させる駆動機構を,さらに備えたことを特徴とする,請求項1,2,3,4,5,6又は7のいずれかに記載の塗布装置。
- 前記駆動機構は,前記レールに沿って設けられた他のレールと,前記接続線の一部を保持した状態で前記他のレール上を移動する移動部材を備えたことを特徴とする,請求項8に記載の塗布装置。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7515387B2 (en) | 2004-10-13 | 2009-04-07 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetoresistive effect element, and magnetic head and magnetic reproducing apparatus including the same |
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