JP2004296672A - 搬送装置およびこれを備えた真空処理装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】搬送装置を高速で移動させることができ、それによりタクトタイムを短縮することのできる搬送装置を提供することを目的とする。
【解決手段】搬送台車に配設された保持機構２０が、被処理基板Ｋを斜めに支持する複数本の支柱２２と、支柱２２に設けられ、被処理基板Ｋの上辺の周縁部が差し込まれる下向き凹部３０’を有する上部基板支持爪３０、および被処理基板Ｋを下側から持ち上げるように支持する上向き凹部２９’を有する下部基板支持爪２９と、上部基板支持爪３０および下部基板支持爪２９の少なくとも一方を被処理基板Ｋの周縁部より離隔・開放する方向若しくは被処理基板Ｋの周縁部へ接近・把持する方向に移動させるリンク機構と、外部駆動手段より駆動力を伝えてリンク機構を操作する操作手段４０とを具備する搬送装置１０において、下部基板支持爪２９は、減衰手段２８を介してリンク２７に連結されている。
【選択図】 図２
【解決手段】搬送台車に配設された保持機構２０が、被処理基板Ｋを斜めに支持する複数本の支柱２２と、支柱２２に設けられ、被処理基板Ｋの上辺の周縁部が差し込まれる下向き凹部３０’を有する上部基板支持爪３０、および被処理基板Ｋを下側から持ち上げるように支持する上向き凹部２９’を有する下部基板支持爪２９と、上部基板支持爪３０および下部基板支持爪２９の少なくとも一方を被処理基板Ｋの周縁部より離隔・開放する方向若しくは被処理基板Ｋの周縁部へ接近・把持する方向に移動させるリンク機構と、外部駆動手段より駆動力を伝えてリンク機構を操作する操作手段４０とを具備する搬送装置１０において、下部基板支持爪２９は、減衰手段２８を介してリンク２７に連結されている。
【選択図】 図２
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマＣＶＤ、ドライエッチング、スパッタリングなどの真空プラズマ処理を基板に施すための真空プラズマ処理装置に用いられる搬送装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、プラズマＣＶＤ、ドライエッチング、スパッタリングなどの真空プラズマ処理が施される基板（被処理基板）は、その上辺と下辺のそれぞれ一部をコ字状の開口を有する支持爪で保持しながら搬送する搬送装置によって搬送されていた（たとえば、特許文献１参照）。
【０００３】
【特許文献１】
特開２００２−１６７０３５号公報（図１ないし図４）
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前述した特許文献１の発明では、基板の上辺と下辺とがコ字状に開口する上下の支持爪の凹部でしっかりと把持されているため、搬送台車が移動する時の軌道レールと搬送台車に設置されたローラなどによるガイド機構、およびラック＆ピニオンなどを用いた台車移動手段からの振動やリンク機構操作時の振動が直接基板に伝わってしまい、基板の周縁部が欠損（破損）してしまうおそれがあり、さらには、基板が主として基板面と垂直方向に振動し、その振幅が搬送台車移動速度の増加とともに増加するために、基板支持爪などに接触する基板の周縁部が欠損（破損）してしまうおそれがあり、搬送装置を高速で移動させることができず、基板処理時間（タクトタイム）を短縮することができなかった。
また、前述した特許文献１の発明では、基板の上辺および下辺のそれぞれ２ヶ所ずつに設けられた支持爪によってのみ支持されていたので、搬送装置に搭載して搬送する際、局所的な応力が発生して、基板の周縁部が欠損（破損）してしまうおそれがあり、搬送装置を高速で移動させることができず、基板処理時間（タクトタイム）を短縮することができなかった。
【０００５】
本発明は、上記の事情に鑑みてなされたもので、搬送装置を高速で移動させることができ、それによりタクトタイムを短縮することのできる搬送装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記課題を解決するため、以下の手段を採用した。
すなわち、請求項１記載の搬送装置によれば、被処理基板を処理するための真空処理装置内において前記被処理基板を搬送する搬送装置であって、前記真空処理装置内を走行する搬送台車と、前記被処理基板を保持するため、前記搬送台車に配設された保持機構とを備え、前記保持機構は、前記被処理基板を斜めに支持する複数本の支柱と、前記支柱に設けられ、前記被処理基板の上辺の周縁部が差し込まれる下向き凹部を有する上部基板支持爪、および前記被処理基板を下側から持ち上げるように支持する上向き凹部を有する下部基板支持爪と、前記上部基板支持爪および下部基板支持爪の少なくとも一方を前記被処理基板の周縁部より離隔・開放する方向若しくは前記被処理基板の周縁部へ接近・把持する方向に移動させるリンク機構と、外部駆動手段より駆動力を伝えて前記リンク機構を操作する操作手段と、を具備する搬送装置において、前記下部基板支持爪は、減衰手段を介して前記リンク機構に連結されていることを特徴とする。
【０００７】
このような搬送装置によれば、下部基板支持爪とリンク機構との間に減衰手段が設けられており、リンク機構が操作されたときの振動や搬送台車が移動する時の軌道レールと搬送台車に設置されたローラなどによるガイド機構、およびラック＆ピニオンなどを用いた台車移動手段からの振動が直接下部基板支持爪に伝達されないようになっている。
【０００８】
請求項２記載の搬送装置によれば、被処理基板を処理するための真空処理装置内において前記被処理基板を搬送する搬送装置であって、前記真空処理装置内を走行する搬送台車と、前記被処理基板を保持するため、前記搬送台車に配設された保持機構とを備え、前記保持機構は、前記被処理基板を斜めに支持する複数本の支柱と、前記支柱に設けられ、前記被処理基板の上辺の周縁部が差し込まれる下向き凹部を有する上部基板支持爪、および前記被処理基板を下側から持ち上げるように支持する上向き凹部を有する下部基板支持爪と、前記上部基板支持爪および下部基板支持爪の少なくとも一方を前記被処理基板の周縁部より離隔・開放する方向若しくは前記被処理基板の周縁部へ接近・把持する方向に移動させるリンク機構と、外部駆動手段より駆動力を伝えて前記リンク機構を操作する操作手段と、を具備する搬送装置において、前記支柱に設けられ、前記被処理基板の上辺の周縁部を支持する上部押さえ板バネ、および前記被処理基板の側辺の周縁部を支持する側部押さえ板バネを具備し、前記上部押さえ板バネおよび前記側部押さえ板バネが前記被処理基板を支持する部位には、緩衝部材が設けられていることを特徴とする。
【０００９】
このような搬送装置によれば、上部基板支持爪、下部基板支持爪、上部押さえ板バネ、および側部押さえ板バネにより被処理基板の周縁部が支持（あるいは保持）されるとともに、上部押さえ板バネおよび側部押さえ板バネが被処理基板を支持する部位には、緩衝部材が設けられている。
すなわち、被処理基板の上下左右に位置する周縁部が緩衝部材を介して板バネで押さえ付けられるに弾性支持されるとともに、搬送台車からの振動は、緩衝部材により吸収されるようになっている。
【００１０】
請求項３記載の搬送装置によれば、被処理基板を処理するための真空処理装置内において前記被処理基板を搬送する搬送装置であって、前記真空処理装置内を走行する搬送台車と、前記被処理基板を保持するため、前記搬送台車に配設された保持機構とを備え、前記保持機構は、前記被処理基板を斜めに支持する複数本の支柱と、前記支柱に設けられ、前記被処理基板の上辺の周縁部が差し込まれる下向き凹部を有する上部基板支持爪、前記被処理基板を下側から持ち上げるように支持する上向き凹部を有する下部基板支持爪、および前記被処理基板の両側辺の周縁部がそれぞれ差し込まれる横向き凹部を有する側部基板支持爪と、前記上部基板支持爪、下部基板支持爪、および側部基板支持爪を前記被処理基板の周縁部より離隔・開放する方向若しくは前記被処理基板の周縁部へ接近・把持する方向に移動させるリンク機構と、外部駆動手段より駆動力を伝えて前記リンク機構を操作する操作手段と、を具備することを特徴とする。
【００１１】
このような搬送装置によれば、上部基板支持爪、下部基板支持爪、および側部基板支持爪により被処理基板の周縁部が支持（あるいは保持）されるようになっている。
【００１２】
請求項４記載の搬送装置によれば、前記下部基板支持爪は、減衰手段を介して前記リンク機構に連結されていることを特徴とする。
【００１３】
このような搬送装置によれば、下部基板支持爪とリンク機構との間に減衰手段が設けられており、リンク機構が操作されたときの振動や搬送台車からの振動が直接下部基板支持爪に伝達されないようになっている。
【００１４】
請求項５記載の搬送装置によれば、前記減衰手段はスプリングからなるとともに、リニアガイド機能を具備していることを特徴とする。
【００１５】
このような搬送装置によれば、減衰手段には振動を吸収するスプリングと、下部基板支持爪の動きを直線的な動きに規制するリニアガイド機構とが備わっている。
【００１６】
請求項６記載の搬送装置によれば、前記減衰手段は、多孔体金属からなることを特徴とする。
【００１７】
このような搬送装置によれば、減衰手段が比較的安価な多孔体金属で構成されている。
【００１８】
請求項７記載の搬送装置によれば、前記減衰手段と当該減衰手段の上方に位置する支柱との間、または前記リンク機構のうち、前記下部基板支持爪に連結されたリンクと当該リンクの上方に位置する支柱との間に、引張コイルバネが設けられていることを特徴とする。
【００１９】
このような搬送装置によれば、下部基板支持爪を開くことにより伸ばされた引張コイルバネの復元力が、下部基板支持爪が閉じる（上方に移動させる）際の力として利用されることとなる。
【００２０】
請求項８記載の搬送装置によれば、前記支柱に設けられ、前記被処理基板の上辺の周縁部を支持する上部押さえ板バネ、および前記被処理基板の側辺の周縁部を支持する側部押さえ板バネを具備し、前記上部押さえ板バネおよび前記側部押さえ板バネが前記被処理基板を支持する部位には、緩衝部材が設けられていることを特徴とする。
【００２１】
このような搬送装置によれば、上部基板支持爪、下部基板支持爪、上部押さえ板バネ、および側部押さえ板バネにより被処理基板の周縁部が支持（あるいは保持）されるとともに、上部押さえ板バネおよび側部押さえ板バネが被処理基板を支持する部位には、緩衝部材が設けられている。
すなわち、被処理基板の上下左右に位置する周縁部が支持されるとともに、搬送台車からの振動は、緩衝部材により吸収されるようになっている。
【００２２】
請求項９記載の真空処理装置によれば、被処理基板を真空雰囲気下でそれぞれ処理する複数の真空処理室と、これら複数の真空処理室の相互間で前記被処理基板を搬送するための、請求項１から８のいずれか一項に記載の搬送装置と、を具備してなることを特徴とする。
【００２３】
このような真空処理装置によれば、被処理基板を損傷することなく搬送速度を上げることのできる搬送装置が採用されることとなる。
【００２４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明による搬送装置の第１実施形態について、図面を参照しながら説明する。
本発明による搬送装置は、たとえば図１に示すようなクラスタ型真空処理装置に用いられるものである。
図１に示すように、クラスタ型真空処理システム（真空処理装置）９０１は中央に台車回転室としての共通搬送室９３０を備え、その周囲を取り囲むようにロード室９１０、アンロード室９２０、５つの製膜室（真空処理室）９７０Ａ〜９７０Ｅ、予備室９８０が配置されている。これら各室９１０，９２０，９７０Ａ〜９７０Ｅ，９８０はゲート弁（図示せず）を介して台車移動接続室９４０Ａ〜９４０Ｈにそれぞれ連通し、さらに各台車移動接続室９４０Ａ〜９４０Ｈは共通搬送室９３０にそれぞれ連通している。
【００２５】
ロード室９１０には２台の搬送装置９０６Ａ，９０６Ｂが、アンロード室９２０にも２台の搬送装置９０６Ｃ，９０６Ｄが、共通搬送室９３０には２台の搬送装置９０６Ｅ，９０６Ｆがそれぞれ設けられ、システム全体では合計少なくとも６台の搬送装置９０６Ａ〜９０６Ｆが各所に配置されている。
【００２６】
図２は本実施形態に係る搬送装置１０を示す要部斜視図である。この搬送装置１０は、被処理基板Ｋを処理するための真空処理装置内において被処理基板Ｋを搬送する装置であって、真空処理装置内を走行する搬送台車（図示せず）と、被処理基板Ｋを保持するため、搬送台車に配設された保持機構２０とを主たる要素として構成されたものである。
【００２７】
図示していない搬送台車は、たとえば搬送台車に取り付けたラックを真空容器底面の外側から、例えば磁性流体シールなどを用いて真空を保持しながら回転導入されたピニオンにより移動させる進退機構（図示せず）を使用して、軌道レール（図示せず）上を、搬送台車に設置されたローラなどによるガイド機構を用いて、進退可能であって、真空処理装置内の基板受け渡し位置と真空処理装置外の基板受け渡しステージ間を往復できるようになっている。
【００２８】
同搬送台車はベース２１上に一対のアーム（支柱）２２を備え、これらアーム２２は被処理基板Ｋを安定角度で保持するよう、たとえば７゜から１２゜、好ましくは９°、垂直からやや傾いて起立している（本実施形態の場合、上部支持爪３０と下部支持爪２９により、アーム２２と反対側に被処理基板Ｋが基板自重で立てかけられるように傾いている。すなわち、図２の左下側から見て、被処理基板Ｋの左側の面が左下に向くように傾けられている）。これらアーム２２の下端部間には軸受２３に軸支された基板支持爪駆動シャフト２４が動力伝達部材として回動可能に配置されている。また、これらアーム２２の上端部間には上部補強リブ２５が設けられている。基板支持爪駆動シャフト２４の両端にはそれぞれカム２６が同軸に固定され、基板支持爪駆動シャフト２４の回動に伴って揺動するようになっている。
【００２９】
カム２６の揺動は下部支持爪駆動リンク２７に伝えられる。この下部支持爪駆動リンク２７の先端部（上方端部）には、後述するダンパユニット（減衰手段）２８を介して、上方に開口する側面視略コ字状の凹部２９’を有する下部基板支持爪２９が取り付けられており、カム２６が揺動することにより下部基板支持爪２９が上方又は下方へと開閉（移動）するようになっている。
【００３０】
また、各アーム２２の上端近傍には、下方に開口する側面視略コ字状の凹部３０’を有する上部基板支持爪３０が固定されており、これら上部基板支持爪３０により被処理基板Ｋの上辺の周縁部が保持されるようになっている。
これにより、下部基板支持爪２９が開くとき被処理基板Ｋを開放・真空処理室の基板の所定セット位置へ受け渡し、下部基板支持爪２９が閉じるとき被処理基板Ｋを把持・受け取るよう構成されていることになる。
【００３１】
ここで、基板支持爪駆動シャフト２４の回動は、操作手段４０によってなされる。操作手段４０は、ベース２１上に設けられた軸受台座４１と、この軸受台座４１の両側面（図２において左下側と右上側に位置する面）にそれぞれ設けられた軸受４２と、これら軸受４２間に位置するとともに基板支持爪駆動シャフト２４に固定された２つの回動突起４３，４４と、これら回動突起４３，４４を回動させるとともに基板支持爪駆動シャフト２４を回動させる２本の台車内部に鉛直方向に可動できるように設置した台車内ロッド４１ａ，４１ｂとを具備するものである。
ロッド４５，４６はそれぞれ、軸受台座４１を鉛直方向に貫通する台車内ロッド４１ａ，４１ｂを通して鉛直方向にＴ型突起４３ａ，４４ａを移動可能に設けられているとともに、図示しない駆動源（外部駆動手段）から駆動力が印加されるものである。
また、回動突起４３，４４にはそれぞれ、これらロッド４５，４６の上端部に対向する位置に、基板支持爪駆動シャフト２４に対して直交するとともに互いに反対方向に突出するＴ型突起４３ａ，４４ａが設けられている。
【００３２】
さて、図２においてロッド４５，４６をそれぞれ実線矢印の方に移動させると、台車内ロッド４１ａの上端部によりＴ型突起４３ａの先端部（頭の部分）が突き上げられて、回動突起４３が図２の左下側から見て反時計方向に回動する。回動突起４３が回動するとそれとともに基板支持爪駆動シャフト２４が同じ方向に回動して、カム２６および下部支持爪駆動リンク２７を介して下部基板支持爪２９を下方へ移動させる。
一方、図２においてロッド４５，４６をそれぞれ破線矢印の方に移動させると、台車内ロッド４１ｂの上端部によりＴ型突起４４ａの先端部（頭の部分）が突き上げられて、回動突起４４が図２の左下側から見て時計方向に回動する。回動突起４４が回動するとそれとともに基板支持爪駆動シャフト２４が同じ方向に回動して、カム２６および下部支持爪駆動リンク２７を介して下部基板支持爪２９を上方へ移動させる。
【００３３】
アーム２２の略中央部にはそれぞれ、側部押さえ板バネ５０が設けられているとともに、上部補強リブ２５の両端部近傍にはそれぞれ、台座５１を介して上部押さえ板バネ５２が設けられている。
これら押さえ板バネ５０，５２は、いずれも薄い板で、好ましくは厚さ０．５ｍｍの、たとえばＳＵＳ３０４−ＣＳＰなどのバネ用ステンレス鋼からなり、実質的に同じ形状をなしている。
【００３４】
側部押さえ板バネ５０は、被処理基板Ｋの左右両辺（両側辺）をそれぞれ拘束するものであり、これにより搬送中、被処理基板Ｋの進行方向（被処理基板Ｋの両側辺方向）へ位置ずれが防止されるとともに、被処理基板Ｋの面と主として垂直方向へ振動時の振動幅をある程度抑制するようになっている。
また、上部押さえ板バネ５２は、被処理基板Ｋの上辺の両端部近傍を上側から押さえ付けるようにして被処理基板Ｋを弾性的に拘束するものである。
【００３５】
以下、ダンパユニット２８について図２および図３を用いて説明する。各ダンパユニット２８は、その下端が下部支持爪駆動リンク２７の上端に固定されているとともに、その上端がスプリング（引張コイルバネ）５３の一端に取り付けられている。また、スプリング５３の他端はダンパユニット２８の上方でかつ側部押さえ板バネ５０の下方に位置するアーム２２に取り付けられている。
これらスプリング５３は、被処理基板Ｋがこの搬送装置１０に受け渡され、下部基板支持爪２９と被処理基板Ｋとを上方に移動させて、この被処理基板Ｋを上部基板支持爪３０と下部基板支持爪２９との間に挟み込む際に、これら下部基板支持爪２９および被処理基板Ｋの上方への移動を助ける（補助する）ための引張コイルバネである。
【００３６】
図３に示すように、ダンパユニット２８は、側面視コ字状の本体６０と、この本体６０の壁面６１に設けられた、たとえばクロスローラガイドなどのリニアガイド６２と、本体６０の上側舌片部６３の下面６４から下方に向かって取り付けられた２本の上側スプリング６５と、本体６０の下側舌片部６６の上面６７から上方に向かって取り付けられた２本の下側スプリング６８とを主たる要素として構成されたものである。
前述した下部基板支持爪２９の凹部２９’と反対の側に位置する側面（端面）２９ａは、リニアガイド６２の可動部６２ａに固定されているとともに、下部基板支持爪２９の上面２９ｂおよび下面２９ｃはそれぞれ、上側スプリング６５および下側スプリング６８の一端側に取り付けられている。
【００３７】
上側スプリング６５内には、カラー６９ａ付き予圧用ボルト６９と一体に形成され、この予圧用ボルト６９により進退可能とされた上部ストッパ７０が設けられており、下部基板支持爪２９上に被処理基板Ｋが載置されていない状態で、上部ストッパ７０の下端面７０ａと下部基板支持爪２９の上面２９ｂとの間に所定の間隙が形成されるようになっている。
また、本体６０の下側舌片部６６には進退可能に構成された下部ストッパ７１が設けられており、下部基板支持爪２９の凹部２９’上に被処理基板Ｋが載置された状態で、可動部６２ａの下端面６２ａ’と下部ストッパ７１の上端面７１ａとの間に所定の間隙が形成されるようになっている。
一方、下側スプリング６８に対してもカラー７２ａ付き予圧用ボルト７２が設けられている。
【００３８】
これら予圧用ボルト６９，７２は、ねじ込まれる（進入する）ことによってカラー６９ａ，７２ａにより上側スプリング６５および下側スプリング６８を圧縮するものであり、これにより、これら上側スプリング６５および下側スプリング６８の弾性エネルギーが高められ、バネ定数が高められるようになっている。
上部ストッパ７０と下部ストッパ７１により、違う質量の基板を搬送するなどで、下部基板支持爪２９にかかる荷重が大きく変動した場合でも、その変位範囲を規制して、真空処理室内での基板を所定セット位置への受け渡し精度を確保できるようになっている。
また、上述した上部ストッパ７０の下端面７０ａと下部基板支持爪２９の上面２９ｂとの間の間隙、および可動部６２ａの下端面６２ａ’と下部ストッパ７１の上端面７１ａとの間の間隙は、これら予圧用ボルト６９，７２のねじ込み量および下部ストッパ７１の進入量によって調整可能である。
【００３９】
この構成により、下部基板支持爪２９が上下に移動すると、一緒に可動部６２ａが上下方向に移動する。この上下移動は、リニアガイド６２で搬送台車本体２１やアーム２２からの振動伝播の大部分を遮断するとともに、上下２本ずつ計４本のスプリングによりその上下運動が減衰されるようになっている。
すなわち、搬送台車からの振動やリンク機構操作時の振動がリニアガイド部分で大部分を遮断されるとともに、４本のスプリングによって吸収（あるいは減衰）され、これら振動が直接下部基板支持爪２９および被処理基板Ｋに伝達されないようになっている。
【００４０】
また、下部基板支持爪２９はリニアガイド６２の可動部６２ａに固定され、上下二方向のみに移動可能とされている。
すなわち、リニアガイド６２により下部基板支持爪２９の進行方向（被処理基板Ｋの両側辺方向）への移動が規制されているので、凹部２９’と被処理基板Ｋの下辺の周縁部との間に滑りが生じないようになっている。
【００４１】
これにより、被処理基板Ｋの（特に周縁部の）欠損を防止することができるとともに、搬送台車の搬送速度（移動速度）を増加させることで、被処理基板Ｋの振動や振幅が大きくなることを抑制され、被処理基板Ｋが基板支持爪２９などと接触する付近で破損することが、大幅に抑制することができて、タクトタイムを大幅に短縮させることができる。
なお、本実施形態では、搬送台車の搬送速度を従来の約２．５倍にまで増加させることに成功した。
【００４２】
つぎに、図４を用いて本発明による搬送装置の第２実施形態を説明する。本実施形態は、前述した第１実施形態とダンパユニットの構成が異なるだけで、他の構成要素については前述した第１実施形態と同じである。したがって、ここではそれら構成要素についての説明は省略し、ダンパユニットについてのみ説明することにする。
なお、第１実施形態と同一の部材には同一の符号を付している。
【００４３】
図４に示すように、ダンパユニット１２８は、側面視コ字状の本体６０と、吸振体１３０とを主たる要素として構成されたものである。
吸振体１３０は、たとえばニッケル焼結体やステンレス焼結体などの多孔体材料からなり、下部基板支持爪２９の上側に位置する上側吸振体１６５と、下部基板支持爪２９の下側に位置する下側吸振体１６８とからなる。
これら上側吸振体１６５および下側吸振体１６８はそれぞれ、下部基板支持爪２９と当接して設けられている。すなわち、下部基板支持爪２９は、上側吸振体１６５と下側吸振体１６８との間に挟み込まれるようにして配置されている。
【００４４】
上側吸振体１６５の上面１６５ａ側には予圧用プレート１６９ａおよび予圧用ボルト１６９が設けられているとともに、下側吸振体１６８の下面１６８ａ側には、予圧用プレート１７２ａおよび予圧用ボルト１７２が設けられている。
また、本体６０の下側舌片部６６には進退可能に構成された下部ストッパ１７１が設けられており、下部基板支持爪２９の凹部２９’上に被処理基板Ｋが載置された状態で、下部基板支持爪２９の下面２９ｃと下部ストッパ１７１の上端面１７１ａとの間に所定の間隙が形成されるようになっている。
【００４５】
これら予圧用ボルト１６９，１７２は、ねじ込まれる（進入する）ことによって予圧用プレート１６９ａ，１７２ａにより上側吸振体１６５および下側吸振体１６８を圧縮するものであり、これにより、これら上側吸振体１６５および下側吸振体１６８の弾性エネルギーが高められ、その剛性が高められるようになっている。
また、下部基板支持爪２９の下面２９ｃと下部ストッパ１７１の上端面１７１ａとの間の間隙は、これら予圧用ボルト１６９，１７２のねじ込み量および下部ストッパ１７１の進入量によって調整可能である。
【００４６】
このような構成によっても、第１実施形態と同様の作用効果を得ることができる。
【００４７】
図５を用いて本発明による搬送装置の第３実施形態を説明する。本実施形態による搬送装置１１は、図２に示した第１実施形態の保持機構２０からダンパユニット２８を排除し、その代わりに上部押さえ板バネ５２および側部押さえ板バネ５０にクッション材（緩衝部材）２００を設けるようにした保持機構２０ａを有している点で第１実施形態と異なる。その他の構成要素については前述した第１実施形態と同じであるので、ここではそれら構成要素についての説明は省略する。
なお、第１実施形態と同一の部材には同一の符号を付している。
【００４８】
クッション材２００は、たとえばＳＵＳフェルトやポリイミド樹脂のような軟質の緩衝材である。このようなクッション材は、図５（ｂ）に示すように、上部押さえ板バネ５２および側部押さえ板バネ５０（図示せず）の、被処理基板Ｋを弾性的に支持する部位に設けられている。
【００４９】
このように、被処理基板Ｋを支持する部位にクッション材２００をそれぞれ設けることにより、搬送台車からの振動やリンク機構操作時の振動がこれらクッション材２００によって吸収（あるいは減衰）され、これら振動が直接被処理基板Ｋに伝達されないようになっている。
これにより、被処理基板Ｋの欠損を防止することができるとともに、搬送台車の搬送速度（移動速度）を増加させることで、被処理基板Ｋの振動や振幅が大きくなることを抑制され、被処理基板Ｋが基板支持爪２９などと接触する付近で破損することが、大幅に抑制することができて、タクトタイムを大幅に短縮させることができる。
【００５０】
図６を用いて本発明による搬送装置の第４実施形態を説明する。本実施形態による搬送装置１２は、図５に示した第３実施形態の保持機構２０ａからクッション材２００を排除し、その代わりに基板拘束機構１３を設けるようにした保持機構２０ｂを有している点で第３実施形態と異なる。その他の構成要素については前述した第３実施形態と同じであるので、ここではそれら構成要素についての説明は省略する。
なお、第３実施形態と同一の部材には同一の符号を付している。
【００５１】
基板拘束機構１３は、上部基板保持部１４と、下部基板保持部１５と、第１の側部基板保持部１６と、第２の側部基板保持部１７と、駆動部１８とを主たる要素として構成されたものである。
【００５２】
上部基板保持部１４は、上部補強リブ２５の略中央部に固定された台座１４ａと、この台座１４ａの一側面に取り付けられた側板１４ｂに回動可能に取り付けられた上部基板支持爪１４ｃとを有するものである。上部基板支持爪１４ｃの下面には、被処理基板Ｋの上辺の周縁部と当接する押さえ面（凹部）１４ｃ’が形成されている。上部基板支持爪１４ｃは側板１４ｂに設けられた支点まわりに回動可能、すなわち上部基板支持爪１４ｃが上下方向に移動可能となるよう構成されている。
【００５３】
第１の側部基板保持部１６は、側部押さえ板バネ５０よりも上方に位置するアーム２２から外側に向かって突出するリブ１６ａと、このリブ１６ａの外側端部に回動自在に取り付けられた第１の側部基板支持爪１６ｂとを有するものである。第１の側部基板支持爪１６ｂの内側面には、被処理基板Ｋの一側辺の周縁部が差し込まれる凹部１６ｂ’が設けられている。第１の側部基板支持爪１６ｂはリブ１６ａに設けられた支点まわりに回動可能、すなわち第１の側部基板支持爪１６ｂが左右方向に移動可能となるよう構成されている。
【００５４】
一方、第２の側部基板保持部１７は、側部押さえ板バネ５０よりも上方に位置するアーム２２から外側に向かって突出する外リブ１７ａと、このリブ１７ａと反対の側（すなわち内側）に向かって突出する内リブ１７ｂと、外リブ１７ａの自由端部に回動自在に取り付けられた第２の側部基板支持爪１７ｃと、内リブ１７ｂの自由端部に回動自在に取り付けられたＴ型部材１７ｂとを有するものである。第２の側部基板支持爪１７ｃの内側面には、被処理基板Ｋの他側辺の周縁部が差し込まれる凹部１７ｃ’が設けられている。第２の側部基板支持爪１７ｃは外リブ１７ａに設けられた支点まわりに回動可能、すなわち第２の側部基板支持爪１７ｃが左右方向に移動可能となるよう構成されている。また、Ｔ型部材１７ｂは、内リブ１７ｂに設けられた支点まわりに回動可能、すなわち支点を中心に反時計方向あるいは時計方向に回転可能となるよう構成されている。
【００５５】
下部基板保持部１５は、軸受４２の上端部に回動自在に取り付けられた下部基板支持爪１５ａと、軸受４２の上部から一方（図６において左方）のアーム２２の側に延びるリブ１５ｂと、リブ１５ｂの自由端部に回動自在に取り付けられたＴ型部材１５ｃとを有するものである。下部基板支持爪１５ａの上面には、被処理基板Ｋの下辺の周縁部と当接する押さえ面（凹部）１５ａ’が形成されている。下部基板支持爪１５ａは軸受４２に設けられた支点まわりに回動可能、すなわち下部基板支持爪１５ａが上下方向に移動可能となるよう構成されている。また、Ｔ型部材１５ｃは、リブ１５ｂに設けられた支点まわりに回動可能、すなわち支点を中心に反時計方向あるいは時計方向に回転可能となるよう構成されている。
【００５６】
駆動部１８は、前述した軸受２３を支持する支持台２３ａの上面２３ａ’から鉛直上方に延びるリブ１８ａと、リブ１８ａの自由端部に回動自在に取り付けられたＴ型部材１８ｂと、Ｔ型部材１８ｂと他方（図６において右方）のアーム２２との間に位置する基板支持爪駆動シャフト２４に設けられた拡径部１８ｃとを有するものである。Ｔ型部材１８ｂは、リブ１８ａに設けられた支点まわりに回動可能、すなわち支点を中心に反時計方向あるいは時計方向に回転可能となるよう構成されている。また、拡径部１８ｃは基板支持爪駆動シャフト２４とともに回動するものである。
【００５７】
拡径部１８ｃとＴ型部材１８ｂとの間、下部基板支持爪１５ａとＴ型部材１５ｃとの間、Ｔ型部材１５ｃとＴ型部材１８ｂとの間、Ｔ型部材１８ｂとＴ型部材１７ｄとの間、Ｔ型部材１７ｄと第２の側部基板支持爪１７ｃとの間、Ｔ型部材１７ｄと第１の側部基板支持爪１６ｂとの間、およびＴ型部材１５ｃと上部基板支持爪１４ｃとの間はそれぞれ、第１リンクＬ１、第２リンクＬ２、第３リンクＬ３、第４リンクＬ４、第５リンクＬ５、第６リンクＬ６、および第７リンクＬ７で連結されている。これらリンクＬ１〜Ｌ７はいずれも剛性を有したプッシュ−プルリンクである。
【００５８】
ここで、図６において真空容器底面から真空を保ちながら直進導入されたロッド４５，４６をそれぞれ実線矢印の方に移動させると、台車内ロッド４１ａ，４１ｂの上端部によりＴ型突起４３ａの先端部（頭の部分）が突き上げられて、回動突起４３が図６の左下側から見て反時計方向に回動する。回動突起４３が回動するとそれとともに基板支持爪駆動シャフト２４が同じ方向に回動して、カム２６および下部支持爪駆動リンク２７を介して下部基板支持爪２９を下方へ移動させる。
一方、基板支持爪駆動シャフト２４とともに拡径部１８ｃが回動することにより第１リンクＬ１が（図６の右下側から見て）左下奥側に斜めに移動して、Ｔ型部材１８ｂが（図６の右下側から見て）時計方向に回動する。Ｔ型部材１８ｂが時計方向に回動することにより第３リンクＬ３が他方（図６において右方）のアーム２２側に移動するとともに、第４リンクＬ４が上方に移動する。第３リンクＬ３が他方のアーム２２側に移動することによりＴ型部材１５ｃが（図６の右下側から見て）反時計方向に回動するとともに、第２リンクＬ２を下方に移動させる。第２リンクＬ２が下方に移動することにより、下部基板支持爪１５ａは下部基板支持爪２９と同様、下方に移動する。また、Ｔ型部材１５ｃが反時計方向に回動することにより第７リンクＬ７が上方に移動するとともに上部基板支持爪１４ｃが上方に移動する。
第４リンクＬ４が上方に移動することによりＴ型部材１７ｄが（図６の右下側から見て）時計方向に回動し、第５リンクＬ５が他方（図６において右方）のアーム２２側に移動するとともに、第６リンクＬ６が一方（図６において左方）のアーム２２側に移動する。第５リンクＬ５が他方のアーム２２側に移動することにより第２の側部基板支持爪１７ｃの先端が外方に移動する。そして、第６リンクＬ６が一方のアーム２２側に移動することにより第１の側部基板支持爪１６ｂの先端が外方に移動する。
【００５９】
このように、ロッド４５，４６を実線矢印の方向に移動させることにより、すべての支持爪を開方向に移動させることができる。また逆に、ロッド４５，４６を実線矢印の方向と反対の方向に移動させることにより、すべての支持爪を閉方向に移動させることができる。
【００６０】
このように、被処理基板Ｋの上下左右に配置された上部基板支持爪１４ｃ、第１の側部基板支持爪１６ｂ、第２の側部基板支持爪１７ｃ、および下部基板支持爪１５ａ，２９により被処理基板Ｋの上下左右の周縁部端面が各爪で押し付けられて支持（あるいは保持）されることとなるので、被処理基板Ｋを上下方向および左右方向に規制（あるいは拘束）することができ、被処理基板Ｋ自体の振動と振幅を低減させることができ、被処理基板Ｋ周縁部の損傷（あるいは欠損）を防止することができるとともに、搬送台車の搬送速度（移動速度）を増加させることで、被処理基板Ｋの振動や振幅が大きくなることを抑制され、被処理基板Ｋが基板支持爪２９などと接触する付近で破損することが、大幅に抑制することができて、タクトタイムを大幅に短縮させることができる。
【００６１】
なお、本発明は上述した実施形態のものに限定されるものではなく、上述した実施形態のものを必要に応じて適宜組み合わせることもできる。
たとえば、第１実施形態の上部押さえ板バネ５２および側部押さえ板バネ５０や、第４実施形態の側部押さえ板バネ５０に、第３実施形態のところで説明したクッション材２００を設けるようにすることもできる。
【００６２】
また、上部押さえ板バネ５２および側部押さえ板バネ５０に設けたクッション材２００を、第１実施形態ないし第４実施形態の下部基板支持爪１５ａ，２９、上部基板支持爪１４ｃ，３０、および側部基板支持爪１６ｂ，１７ｃの凹部１５ａ’，２９’，１４ｃ’，３０’，１６ｂ’，１７ｃ’内に適宜必要に応じて設けるようにすることもできる。
【００６３】
さらに、第１実施形態および第２実施形態のところで述べたダンパユニット２８，１２８を、第３実施形態および第４実施形態に適用することもできる。
【００６４】
さらにまた、上述した実施形態において、上部基板支持爪３０が固定されたものについて説明してきたが、本発明はこれに限定されるものではなく、たとえば本出願人が先に出願した「特開２００２−１６７０３５号公報」に記載しているような、上部基板支持爪３０が可動するものにも適用することができる。
【００６５】
さらにまた、基板支持爪駆動シャフト２４を回動させてリンク機構を操作する操作手段４０は、上述したものに限定されるものではなく、たとえば本出願人が先に出願した「特開２００２−１６７０３５号公報」の図１ないし図４に示しているようなものを適用することもできる。
【００６６】
【発明の効果】
本発明の搬送装置およびこれを備えた真空処理装置によれば、以下の効果を奏する。
請求項１記載の搬送装置によれば、搬送台車からの振動やリンク機構操作時の振動と振幅が減衰手段によって吸収（あるいは減衰）され、これら振動が直接下部基板支持爪および被処理基板に伝達されないようになっているので、被処理基板の（特に周縁部の）欠損を防止することができるとともに、搬送台車の搬送速度（移動速度）を増加させることで、被処理基板Ｋの振動や振幅が大きくなることを抑制され、被処理基板Ｋが基板支持爪２９などと接触する付近で破損することが、大幅に抑制することができて、タクトタイムを大幅に短縮させることができる。
【００６７】
請求項２記載の搬送装置によれば、被処理基板の上下左右に位置する周縁部が支持されるとともに、搬送装置からの振動が緩衝部材により吸収されることとなるので、支持爪の凹部と被処理基板の周縁部とのすべりをなくすことができ、搬送装置からの振動と振幅を低減させることができて、被処理基板の（特に周縁部の）欠損を防止することができるとともに、搬送台車の搬送速度（移動速度）を増加させることができて、タクトタイムを大幅に短縮させることができる。
【００６８】
請求項３記載の搬送装置によれば、上部基板支持爪、下部基板支持爪、および側部基板支持爪により被処理基板の周縁部が支持（あるいは保持）されるようになっているので、支持爪の凹部と被処理基板の周縁部とのすべりをなくすことができるとともに、被処理基板Ｋの面と主として垂直方向へ振動時の振動幅を抑制することができ、被処理基板の（特に周縁部の）欠損を防止することができるとともに、搬送台車の搬送速度（移動速度）を増加させることができて、タクトタイムを大幅に短縮させることができる。
【００６９】
請求項４記載の搬送装置によれば、下部基板支持爪とリンク機構との間に減衰手段が設けられており、リンク機構が操作されたときの振動や搬送台車からの振動が直接下部基板支持爪に伝達されないようになっているので、被処理基板の（特に周縁部の）欠損をより一層防止することができるとともに、搬送台車の搬送速度（移動速度）をより一層増加させることができて、タクトタイムを大幅に短縮させることができる。
【００７０】
請求項５記載の搬送装置によれば、減衰手段には下部基板支持爪の動きを直線的な動きに規制するリニアガイド機構が設けられており、下部基板支持爪の凹部と被処理基板の周縁部とのすべりをなくすことができるので、被処理基板の左右方向の移動を規制する部材を不要とすることができ、製造コストおよびメンテナンスコストを低減させることができる。
【００７１】
請求項６記載の搬送装置によれば、減衰手段が比較的安価な多孔体材料で構成されているので、製造コストを低減させることができる。
【００７２】
請求項７記載の搬送装置によれば、下部基板支持爪を開くことにより伸ばされた引張コイルバネの復元力が、下部基板支持爪が閉じる（上方に移動させる）際の力として利用されることとなるので、たとえば下部基板支持爪に被処理基板が載置された状態で下部基板支持爪を閉じようとする場合、操作手段からの力（すなわち駆動源からの駆動力）を減少させることができ、駆動源自体を小型のものにすることができるとともに、下部基板支持爪に被処理基板が載置されていない状態で下部基板支持爪を閉じようとする場合、下部基板支持爪を即座に閉位置に移動させることができ、タクトタイムを短縮させることができる。
【００７３】
請求項８記載の搬送装置によれば、被処理基板の上下左右に位置する周縁部が支持されるとともに、搬送装置からの振動が緩衝部材により吸収されることとなるので、支持爪の凹部と被処理基板の周縁部とのすべりをなくすことができるとともに、被処理基板Ｋの面と主として垂直方向へ振動時の振動幅を抑制することができ、搬送装置からの振動を低減させることができて、被処理基板の（特に周縁部の）欠損を防止することができるとともに、搬送台車の搬送速度（移動速度）を増加させることができて、タクトタイムを大幅に短縮させることができる。
【００７４】
請求項９記載の真空処理装置によれば、被処理基板を損傷することなく搬送速度を上げることのできる搬送装置が採用されることとなるので、装置全体のタクトタイムを大幅に短縮させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態に係るクラスタ型真空処理装置の全体斜視図である。
【図２】本発明による搬送装置の第１実施形態を示す要部斜視図である。
【図３】図２に示す搬送装置のダンパユニットを詳細に示す図であって、（ａ）は斜視図、（ｂ）は側面図、（ｃ）は正面図である。
【図４】本発明による搬送装置の第２実施形態のダンパユニットを詳細に示す図であって、（ａ）は斜視図、（ｂ）は側面図、（ｃ）は正面図である。
【図５】本発明による搬送装置の第３実施形態を示す図であって、（ａ）は要部斜視図、（ｂ）は上部押さえ板バネの一部拡大図である。
【図６】本発明による搬送装置の第４実施形態を示す要部斜視図である。
【符号の説明】
１０ 搬送装置
１１ 搬送装置
１２ 搬送装置
１４ｃ 上部基板支持爪
１４ｃ’凹部
１５ａ 下部基板支持爪
１５ａ’凹部
１６ｂ 第１の側部基板支持爪
１７ｃ 第２の側部基板支持爪
２０ 保持機構
２０ａ 保持機構
２０ｂ 保持機構
２２ アーム（支柱）
２８ ダンパユニット（減衰手段）
２９ 下部基板支持爪
２９’ 凹部
３０ 上部基板支持爪
３０’ 凹部
４０ 操作手段
５０ 側部押さえ板バネ
５２ 上部押さえ板バネ
５３ スプリング（引張コイルバネ）
６２ リニアガイド
６５ 上側スプリング
６８ 下側スプリング
１２８ ダンパユニット（減衰手段）
１３０ 吸振体（多孔体材料）
２００ クッション材（緩衝部材）
９０１ クラスタ型真空処理システム（真空処理装置）
９０６Ａ 搬送装置
９０６Ｂ 搬送装置
９０６Ｃ 搬送装置
９０６Ｄ 搬送装置
９０６Ｅ 搬送装置
９０６Ｆ 搬送装置
９７０Ａ 製膜室（真空処理室）
９７０Ｂ 製膜室（真空処理室）
９７０Ｃ 製膜室（真空処理室）
９７０Ｄ 製膜室（真空処理室）
９７０Ｅ 製膜室（真空処理室）
Ｋ 被処理基板
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマＣＶＤ、ドライエッチング、スパッタリングなどの真空プラズマ処理を基板に施すための真空プラズマ処理装置に用いられる搬送装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、プラズマＣＶＤ、ドライエッチング、スパッタリングなどの真空プラズマ処理が施される基板（被処理基板）は、その上辺と下辺のそれぞれ一部をコ字状の開口を有する支持爪で保持しながら搬送する搬送装置によって搬送されていた（たとえば、特許文献１参照）。
【０００３】
【特許文献１】
特開２００２−１６７０３５号公報（図１ないし図４）
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前述した特許文献１の発明では、基板の上辺と下辺とがコ字状に開口する上下の支持爪の凹部でしっかりと把持されているため、搬送台車が移動する時の軌道レールと搬送台車に設置されたローラなどによるガイド機構、およびラック＆ピニオンなどを用いた台車移動手段からの振動やリンク機構操作時の振動が直接基板に伝わってしまい、基板の周縁部が欠損（破損）してしまうおそれがあり、さらには、基板が主として基板面と垂直方向に振動し、その振幅が搬送台車移動速度の増加とともに増加するために、基板支持爪などに接触する基板の周縁部が欠損（破損）してしまうおそれがあり、搬送装置を高速で移動させることができず、基板処理時間（タクトタイム）を短縮することができなかった。
また、前述した特許文献１の発明では、基板の上辺および下辺のそれぞれ２ヶ所ずつに設けられた支持爪によってのみ支持されていたので、搬送装置に搭載して搬送する際、局所的な応力が発生して、基板の周縁部が欠損（破損）してしまうおそれがあり、搬送装置を高速で移動させることができず、基板処理時間（タクトタイム）を短縮することができなかった。
【０００５】
本発明は、上記の事情に鑑みてなされたもので、搬送装置を高速で移動させることができ、それによりタクトタイムを短縮することのできる搬送装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記課題を解決するため、以下の手段を採用した。
すなわち、請求項１記載の搬送装置によれば、被処理基板を処理するための真空処理装置内において前記被処理基板を搬送する搬送装置であって、前記真空処理装置内を走行する搬送台車と、前記被処理基板を保持するため、前記搬送台車に配設された保持機構とを備え、前記保持機構は、前記被処理基板を斜めに支持する複数本の支柱と、前記支柱に設けられ、前記被処理基板の上辺の周縁部が差し込まれる下向き凹部を有する上部基板支持爪、および前記被処理基板を下側から持ち上げるように支持する上向き凹部を有する下部基板支持爪と、前記上部基板支持爪および下部基板支持爪の少なくとも一方を前記被処理基板の周縁部より離隔・開放する方向若しくは前記被処理基板の周縁部へ接近・把持する方向に移動させるリンク機構と、外部駆動手段より駆動力を伝えて前記リンク機構を操作する操作手段と、を具備する搬送装置において、前記下部基板支持爪は、減衰手段を介して前記リンク機構に連結されていることを特徴とする。
【０００７】
このような搬送装置によれば、下部基板支持爪とリンク機構との間に減衰手段が設けられており、リンク機構が操作されたときの振動や搬送台車が移動する時の軌道レールと搬送台車に設置されたローラなどによるガイド機構、およびラック＆ピニオンなどを用いた台車移動手段からの振動が直接下部基板支持爪に伝達されないようになっている。
【０００８】
請求項２記載の搬送装置によれば、被処理基板を処理するための真空処理装置内において前記被処理基板を搬送する搬送装置であって、前記真空処理装置内を走行する搬送台車と、前記被処理基板を保持するため、前記搬送台車に配設された保持機構とを備え、前記保持機構は、前記被処理基板を斜めに支持する複数本の支柱と、前記支柱に設けられ、前記被処理基板の上辺の周縁部が差し込まれる下向き凹部を有する上部基板支持爪、および前記被処理基板を下側から持ち上げるように支持する上向き凹部を有する下部基板支持爪と、前記上部基板支持爪および下部基板支持爪の少なくとも一方を前記被処理基板の周縁部より離隔・開放する方向若しくは前記被処理基板の周縁部へ接近・把持する方向に移動させるリンク機構と、外部駆動手段より駆動力を伝えて前記リンク機構を操作する操作手段と、を具備する搬送装置において、前記支柱に設けられ、前記被処理基板の上辺の周縁部を支持する上部押さえ板バネ、および前記被処理基板の側辺の周縁部を支持する側部押さえ板バネを具備し、前記上部押さえ板バネおよび前記側部押さえ板バネが前記被処理基板を支持する部位には、緩衝部材が設けられていることを特徴とする。
【０００９】
このような搬送装置によれば、上部基板支持爪、下部基板支持爪、上部押さえ板バネ、および側部押さえ板バネにより被処理基板の周縁部が支持（あるいは保持）されるとともに、上部押さえ板バネおよび側部押さえ板バネが被処理基板を支持する部位には、緩衝部材が設けられている。
すなわち、被処理基板の上下左右に位置する周縁部が緩衝部材を介して板バネで押さえ付けられるに弾性支持されるとともに、搬送台車からの振動は、緩衝部材により吸収されるようになっている。
【００１０】
請求項３記載の搬送装置によれば、被処理基板を処理するための真空処理装置内において前記被処理基板を搬送する搬送装置であって、前記真空処理装置内を走行する搬送台車と、前記被処理基板を保持するため、前記搬送台車に配設された保持機構とを備え、前記保持機構は、前記被処理基板を斜めに支持する複数本の支柱と、前記支柱に設けられ、前記被処理基板の上辺の周縁部が差し込まれる下向き凹部を有する上部基板支持爪、前記被処理基板を下側から持ち上げるように支持する上向き凹部を有する下部基板支持爪、および前記被処理基板の両側辺の周縁部がそれぞれ差し込まれる横向き凹部を有する側部基板支持爪と、前記上部基板支持爪、下部基板支持爪、および側部基板支持爪を前記被処理基板の周縁部より離隔・開放する方向若しくは前記被処理基板の周縁部へ接近・把持する方向に移動させるリンク機構と、外部駆動手段より駆動力を伝えて前記リンク機構を操作する操作手段と、を具備することを特徴とする。
【００１１】
このような搬送装置によれば、上部基板支持爪、下部基板支持爪、および側部基板支持爪により被処理基板の周縁部が支持（あるいは保持）されるようになっている。
【００１２】
請求項４記載の搬送装置によれば、前記下部基板支持爪は、減衰手段を介して前記リンク機構に連結されていることを特徴とする。
【００１３】
このような搬送装置によれば、下部基板支持爪とリンク機構との間に減衰手段が設けられており、リンク機構が操作されたときの振動や搬送台車からの振動が直接下部基板支持爪に伝達されないようになっている。
【００１４】
請求項５記載の搬送装置によれば、前記減衰手段はスプリングからなるとともに、リニアガイド機能を具備していることを特徴とする。
【００１５】
このような搬送装置によれば、減衰手段には振動を吸収するスプリングと、下部基板支持爪の動きを直線的な動きに規制するリニアガイド機構とが備わっている。
【００１６】
請求項６記載の搬送装置によれば、前記減衰手段は、多孔体金属からなることを特徴とする。
【００１７】
このような搬送装置によれば、減衰手段が比較的安価な多孔体金属で構成されている。
【００１８】
請求項７記載の搬送装置によれば、前記減衰手段と当該減衰手段の上方に位置する支柱との間、または前記リンク機構のうち、前記下部基板支持爪に連結されたリンクと当該リンクの上方に位置する支柱との間に、引張コイルバネが設けられていることを特徴とする。
【００１９】
このような搬送装置によれば、下部基板支持爪を開くことにより伸ばされた引張コイルバネの復元力が、下部基板支持爪が閉じる（上方に移動させる）際の力として利用されることとなる。
【００２０】
請求項８記載の搬送装置によれば、前記支柱に設けられ、前記被処理基板の上辺の周縁部を支持する上部押さえ板バネ、および前記被処理基板の側辺の周縁部を支持する側部押さえ板バネを具備し、前記上部押さえ板バネおよび前記側部押さえ板バネが前記被処理基板を支持する部位には、緩衝部材が設けられていることを特徴とする。
【００２１】
このような搬送装置によれば、上部基板支持爪、下部基板支持爪、上部押さえ板バネ、および側部押さえ板バネにより被処理基板の周縁部が支持（あるいは保持）されるとともに、上部押さえ板バネおよび側部押さえ板バネが被処理基板を支持する部位には、緩衝部材が設けられている。
すなわち、被処理基板の上下左右に位置する周縁部が支持されるとともに、搬送台車からの振動は、緩衝部材により吸収されるようになっている。
【００２２】
請求項９記載の真空処理装置によれば、被処理基板を真空雰囲気下でそれぞれ処理する複数の真空処理室と、これら複数の真空処理室の相互間で前記被処理基板を搬送するための、請求項１から８のいずれか一項に記載の搬送装置と、を具備してなることを特徴とする。
【００２３】
このような真空処理装置によれば、被処理基板を損傷することなく搬送速度を上げることのできる搬送装置が採用されることとなる。
【００２４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明による搬送装置の第１実施形態について、図面を参照しながら説明する。
本発明による搬送装置は、たとえば図１に示すようなクラスタ型真空処理装置に用いられるものである。
図１に示すように、クラスタ型真空処理システム（真空処理装置）９０１は中央に台車回転室としての共通搬送室９３０を備え、その周囲を取り囲むようにロード室９１０、アンロード室９２０、５つの製膜室（真空処理室）９７０Ａ〜９７０Ｅ、予備室９８０が配置されている。これら各室９１０，９２０，９７０Ａ〜９７０Ｅ，９８０はゲート弁（図示せず）を介して台車移動接続室９４０Ａ〜９４０Ｈにそれぞれ連通し、さらに各台車移動接続室９４０Ａ〜９４０Ｈは共通搬送室９３０にそれぞれ連通している。
【００２５】
ロード室９１０には２台の搬送装置９０６Ａ，９０６Ｂが、アンロード室９２０にも２台の搬送装置９０６Ｃ，９０６Ｄが、共通搬送室９３０には２台の搬送装置９０６Ｅ，９０６Ｆがそれぞれ設けられ、システム全体では合計少なくとも６台の搬送装置９０６Ａ〜９０６Ｆが各所に配置されている。
【００２６】
図２は本実施形態に係る搬送装置１０を示す要部斜視図である。この搬送装置１０は、被処理基板Ｋを処理するための真空処理装置内において被処理基板Ｋを搬送する装置であって、真空処理装置内を走行する搬送台車（図示せず）と、被処理基板Ｋを保持するため、搬送台車に配設された保持機構２０とを主たる要素として構成されたものである。
【００２７】
図示していない搬送台車は、たとえば搬送台車に取り付けたラックを真空容器底面の外側から、例えば磁性流体シールなどを用いて真空を保持しながら回転導入されたピニオンにより移動させる進退機構（図示せず）を使用して、軌道レール（図示せず）上を、搬送台車に設置されたローラなどによるガイド機構を用いて、進退可能であって、真空処理装置内の基板受け渡し位置と真空処理装置外の基板受け渡しステージ間を往復できるようになっている。
【００２８】
同搬送台車はベース２１上に一対のアーム（支柱）２２を備え、これらアーム２２は被処理基板Ｋを安定角度で保持するよう、たとえば７゜から１２゜、好ましくは９°、垂直からやや傾いて起立している（本実施形態の場合、上部支持爪３０と下部支持爪２９により、アーム２２と反対側に被処理基板Ｋが基板自重で立てかけられるように傾いている。すなわち、図２の左下側から見て、被処理基板Ｋの左側の面が左下に向くように傾けられている）。これらアーム２２の下端部間には軸受２３に軸支された基板支持爪駆動シャフト２４が動力伝達部材として回動可能に配置されている。また、これらアーム２２の上端部間には上部補強リブ２５が設けられている。基板支持爪駆動シャフト２４の両端にはそれぞれカム２６が同軸に固定され、基板支持爪駆動シャフト２４の回動に伴って揺動するようになっている。
【００２９】
カム２６の揺動は下部支持爪駆動リンク２７に伝えられる。この下部支持爪駆動リンク２７の先端部（上方端部）には、後述するダンパユニット（減衰手段）２８を介して、上方に開口する側面視略コ字状の凹部２９’を有する下部基板支持爪２９が取り付けられており、カム２６が揺動することにより下部基板支持爪２９が上方又は下方へと開閉（移動）するようになっている。
【００３０】
また、各アーム２２の上端近傍には、下方に開口する側面視略コ字状の凹部３０’を有する上部基板支持爪３０が固定されており、これら上部基板支持爪３０により被処理基板Ｋの上辺の周縁部が保持されるようになっている。
これにより、下部基板支持爪２９が開くとき被処理基板Ｋを開放・真空処理室の基板の所定セット位置へ受け渡し、下部基板支持爪２９が閉じるとき被処理基板Ｋを把持・受け取るよう構成されていることになる。
【００３１】
ここで、基板支持爪駆動シャフト２４の回動は、操作手段４０によってなされる。操作手段４０は、ベース２１上に設けられた軸受台座４１と、この軸受台座４１の両側面（図２において左下側と右上側に位置する面）にそれぞれ設けられた軸受４２と、これら軸受４２間に位置するとともに基板支持爪駆動シャフト２４に固定された２つの回動突起４３，４４と、これら回動突起４３，４４を回動させるとともに基板支持爪駆動シャフト２４を回動させる２本の台車内部に鉛直方向に可動できるように設置した台車内ロッド４１ａ，４１ｂとを具備するものである。
ロッド４５，４６はそれぞれ、軸受台座４１を鉛直方向に貫通する台車内ロッド４１ａ，４１ｂを通して鉛直方向にＴ型突起４３ａ，４４ａを移動可能に設けられているとともに、図示しない駆動源（外部駆動手段）から駆動力が印加されるものである。
また、回動突起４３，４４にはそれぞれ、これらロッド４５，４６の上端部に対向する位置に、基板支持爪駆動シャフト２４に対して直交するとともに互いに反対方向に突出するＴ型突起４３ａ，４４ａが設けられている。
【００３２】
さて、図２においてロッド４５，４６をそれぞれ実線矢印の方に移動させると、台車内ロッド４１ａの上端部によりＴ型突起４３ａの先端部（頭の部分）が突き上げられて、回動突起４３が図２の左下側から見て反時計方向に回動する。回動突起４３が回動するとそれとともに基板支持爪駆動シャフト２４が同じ方向に回動して、カム２６および下部支持爪駆動リンク２７を介して下部基板支持爪２９を下方へ移動させる。
一方、図２においてロッド４５，４６をそれぞれ破線矢印の方に移動させると、台車内ロッド４１ｂの上端部によりＴ型突起４４ａの先端部（頭の部分）が突き上げられて、回動突起４４が図２の左下側から見て時計方向に回動する。回動突起４４が回動するとそれとともに基板支持爪駆動シャフト２４が同じ方向に回動して、カム２６および下部支持爪駆動リンク２７を介して下部基板支持爪２９を上方へ移動させる。
【００３３】
アーム２２の略中央部にはそれぞれ、側部押さえ板バネ５０が設けられているとともに、上部補強リブ２５の両端部近傍にはそれぞれ、台座５１を介して上部押さえ板バネ５２が設けられている。
これら押さえ板バネ５０，５２は、いずれも薄い板で、好ましくは厚さ０．５ｍｍの、たとえばＳＵＳ３０４−ＣＳＰなどのバネ用ステンレス鋼からなり、実質的に同じ形状をなしている。
【００３４】
側部押さえ板バネ５０は、被処理基板Ｋの左右両辺（両側辺）をそれぞれ拘束するものであり、これにより搬送中、被処理基板Ｋの進行方向（被処理基板Ｋの両側辺方向）へ位置ずれが防止されるとともに、被処理基板Ｋの面と主として垂直方向へ振動時の振動幅をある程度抑制するようになっている。
また、上部押さえ板バネ５２は、被処理基板Ｋの上辺の両端部近傍を上側から押さえ付けるようにして被処理基板Ｋを弾性的に拘束するものである。
【００３５】
以下、ダンパユニット２８について図２および図３を用いて説明する。各ダンパユニット２８は、その下端が下部支持爪駆動リンク２７の上端に固定されているとともに、その上端がスプリング（引張コイルバネ）５３の一端に取り付けられている。また、スプリング５３の他端はダンパユニット２８の上方でかつ側部押さえ板バネ５０の下方に位置するアーム２２に取り付けられている。
これらスプリング５３は、被処理基板Ｋがこの搬送装置１０に受け渡され、下部基板支持爪２９と被処理基板Ｋとを上方に移動させて、この被処理基板Ｋを上部基板支持爪３０と下部基板支持爪２９との間に挟み込む際に、これら下部基板支持爪２９および被処理基板Ｋの上方への移動を助ける（補助する）ための引張コイルバネである。
【００３６】
図３に示すように、ダンパユニット２８は、側面視コ字状の本体６０と、この本体６０の壁面６１に設けられた、たとえばクロスローラガイドなどのリニアガイド６２と、本体６０の上側舌片部６３の下面６４から下方に向かって取り付けられた２本の上側スプリング６５と、本体６０の下側舌片部６６の上面６７から上方に向かって取り付けられた２本の下側スプリング６８とを主たる要素として構成されたものである。
前述した下部基板支持爪２９の凹部２９’と反対の側に位置する側面（端面）２９ａは、リニアガイド６２の可動部６２ａに固定されているとともに、下部基板支持爪２９の上面２９ｂおよび下面２９ｃはそれぞれ、上側スプリング６５および下側スプリング６８の一端側に取り付けられている。
【００３７】
上側スプリング６５内には、カラー６９ａ付き予圧用ボルト６９と一体に形成され、この予圧用ボルト６９により進退可能とされた上部ストッパ７０が設けられており、下部基板支持爪２９上に被処理基板Ｋが載置されていない状態で、上部ストッパ７０の下端面７０ａと下部基板支持爪２９の上面２９ｂとの間に所定の間隙が形成されるようになっている。
また、本体６０の下側舌片部６６には進退可能に構成された下部ストッパ７１が設けられており、下部基板支持爪２９の凹部２９’上に被処理基板Ｋが載置された状態で、可動部６２ａの下端面６２ａ’と下部ストッパ７１の上端面７１ａとの間に所定の間隙が形成されるようになっている。
一方、下側スプリング６８に対してもカラー７２ａ付き予圧用ボルト７２が設けられている。
【００３８】
これら予圧用ボルト６９，７２は、ねじ込まれる（進入する）ことによってカラー６９ａ，７２ａにより上側スプリング６５および下側スプリング６８を圧縮するものであり、これにより、これら上側スプリング６５および下側スプリング６８の弾性エネルギーが高められ、バネ定数が高められるようになっている。
上部ストッパ７０と下部ストッパ７１により、違う質量の基板を搬送するなどで、下部基板支持爪２９にかかる荷重が大きく変動した場合でも、その変位範囲を規制して、真空処理室内での基板を所定セット位置への受け渡し精度を確保できるようになっている。
また、上述した上部ストッパ７０の下端面７０ａと下部基板支持爪２９の上面２９ｂとの間の間隙、および可動部６２ａの下端面６２ａ’と下部ストッパ７１の上端面７１ａとの間の間隙は、これら予圧用ボルト６９，７２のねじ込み量および下部ストッパ７１の進入量によって調整可能である。
【００３９】
この構成により、下部基板支持爪２９が上下に移動すると、一緒に可動部６２ａが上下方向に移動する。この上下移動は、リニアガイド６２で搬送台車本体２１やアーム２２からの振動伝播の大部分を遮断するとともに、上下２本ずつ計４本のスプリングによりその上下運動が減衰されるようになっている。
すなわち、搬送台車からの振動やリンク機構操作時の振動がリニアガイド部分で大部分を遮断されるとともに、４本のスプリングによって吸収（あるいは減衰）され、これら振動が直接下部基板支持爪２９および被処理基板Ｋに伝達されないようになっている。
【００４０】
また、下部基板支持爪２９はリニアガイド６２の可動部６２ａに固定され、上下二方向のみに移動可能とされている。
すなわち、リニアガイド６２により下部基板支持爪２９の進行方向（被処理基板Ｋの両側辺方向）への移動が規制されているので、凹部２９’と被処理基板Ｋの下辺の周縁部との間に滑りが生じないようになっている。
【００４１】
これにより、被処理基板Ｋの（特に周縁部の）欠損を防止することができるとともに、搬送台車の搬送速度（移動速度）を増加させることで、被処理基板Ｋの振動や振幅が大きくなることを抑制され、被処理基板Ｋが基板支持爪２９などと接触する付近で破損することが、大幅に抑制することができて、タクトタイムを大幅に短縮させることができる。
なお、本実施形態では、搬送台車の搬送速度を従来の約２．５倍にまで増加させることに成功した。
【００４２】
つぎに、図４を用いて本発明による搬送装置の第２実施形態を説明する。本実施形態は、前述した第１実施形態とダンパユニットの構成が異なるだけで、他の構成要素については前述した第１実施形態と同じである。したがって、ここではそれら構成要素についての説明は省略し、ダンパユニットについてのみ説明することにする。
なお、第１実施形態と同一の部材には同一の符号を付している。
【００４３】
図４に示すように、ダンパユニット１２８は、側面視コ字状の本体６０と、吸振体１３０とを主たる要素として構成されたものである。
吸振体１３０は、たとえばニッケル焼結体やステンレス焼結体などの多孔体材料からなり、下部基板支持爪２９の上側に位置する上側吸振体１６５と、下部基板支持爪２９の下側に位置する下側吸振体１６８とからなる。
これら上側吸振体１６５および下側吸振体１６８はそれぞれ、下部基板支持爪２９と当接して設けられている。すなわち、下部基板支持爪２９は、上側吸振体１６５と下側吸振体１６８との間に挟み込まれるようにして配置されている。
【００４４】
上側吸振体１６５の上面１６５ａ側には予圧用プレート１６９ａおよび予圧用ボルト１６９が設けられているとともに、下側吸振体１６８の下面１６８ａ側には、予圧用プレート１７２ａおよび予圧用ボルト１７２が設けられている。
また、本体６０の下側舌片部６６には進退可能に構成された下部ストッパ１７１が設けられており、下部基板支持爪２９の凹部２９’上に被処理基板Ｋが載置された状態で、下部基板支持爪２９の下面２９ｃと下部ストッパ１７１の上端面１７１ａとの間に所定の間隙が形成されるようになっている。
【００４５】
これら予圧用ボルト１６９，１７２は、ねじ込まれる（進入する）ことによって予圧用プレート１６９ａ，１７２ａにより上側吸振体１６５および下側吸振体１６８を圧縮するものであり、これにより、これら上側吸振体１６５および下側吸振体１６８の弾性エネルギーが高められ、その剛性が高められるようになっている。
また、下部基板支持爪２９の下面２９ｃと下部ストッパ１７１の上端面１７１ａとの間の間隙は、これら予圧用ボルト１６９，１７２のねじ込み量および下部ストッパ１７１の進入量によって調整可能である。
【００４６】
このような構成によっても、第１実施形態と同様の作用効果を得ることができる。
【００４７】
図５を用いて本発明による搬送装置の第３実施形態を説明する。本実施形態による搬送装置１１は、図２に示した第１実施形態の保持機構２０からダンパユニット２８を排除し、その代わりに上部押さえ板バネ５２および側部押さえ板バネ５０にクッション材（緩衝部材）２００を設けるようにした保持機構２０ａを有している点で第１実施形態と異なる。その他の構成要素については前述した第１実施形態と同じであるので、ここではそれら構成要素についての説明は省略する。
なお、第１実施形態と同一の部材には同一の符号を付している。
【００４８】
クッション材２００は、たとえばＳＵＳフェルトやポリイミド樹脂のような軟質の緩衝材である。このようなクッション材は、図５（ｂ）に示すように、上部押さえ板バネ５２および側部押さえ板バネ５０（図示せず）の、被処理基板Ｋを弾性的に支持する部位に設けられている。
【００４９】
このように、被処理基板Ｋを支持する部位にクッション材２００をそれぞれ設けることにより、搬送台車からの振動やリンク機構操作時の振動がこれらクッション材２００によって吸収（あるいは減衰）され、これら振動が直接被処理基板Ｋに伝達されないようになっている。
これにより、被処理基板Ｋの欠損を防止することができるとともに、搬送台車の搬送速度（移動速度）を増加させることで、被処理基板Ｋの振動や振幅が大きくなることを抑制され、被処理基板Ｋが基板支持爪２９などと接触する付近で破損することが、大幅に抑制することができて、タクトタイムを大幅に短縮させることができる。
【００５０】
図６を用いて本発明による搬送装置の第４実施形態を説明する。本実施形態による搬送装置１２は、図５に示した第３実施形態の保持機構２０ａからクッション材２００を排除し、その代わりに基板拘束機構１３を設けるようにした保持機構２０ｂを有している点で第３実施形態と異なる。その他の構成要素については前述した第３実施形態と同じであるので、ここではそれら構成要素についての説明は省略する。
なお、第３実施形態と同一の部材には同一の符号を付している。
【００５１】
基板拘束機構１３は、上部基板保持部１４と、下部基板保持部１５と、第１の側部基板保持部１６と、第２の側部基板保持部１７と、駆動部１８とを主たる要素として構成されたものである。
【００５２】
上部基板保持部１４は、上部補強リブ２５の略中央部に固定された台座１４ａと、この台座１４ａの一側面に取り付けられた側板１４ｂに回動可能に取り付けられた上部基板支持爪１４ｃとを有するものである。上部基板支持爪１４ｃの下面には、被処理基板Ｋの上辺の周縁部と当接する押さえ面（凹部）１４ｃ’が形成されている。上部基板支持爪１４ｃは側板１４ｂに設けられた支点まわりに回動可能、すなわち上部基板支持爪１４ｃが上下方向に移動可能となるよう構成されている。
【００５３】
第１の側部基板保持部１６は、側部押さえ板バネ５０よりも上方に位置するアーム２２から外側に向かって突出するリブ１６ａと、このリブ１６ａの外側端部に回動自在に取り付けられた第１の側部基板支持爪１６ｂとを有するものである。第１の側部基板支持爪１６ｂの内側面には、被処理基板Ｋの一側辺の周縁部が差し込まれる凹部１６ｂ’が設けられている。第１の側部基板支持爪１６ｂはリブ１６ａに設けられた支点まわりに回動可能、すなわち第１の側部基板支持爪１６ｂが左右方向に移動可能となるよう構成されている。
【００５４】
一方、第２の側部基板保持部１７は、側部押さえ板バネ５０よりも上方に位置するアーム２２から外側に向かって突出する外リブ１７ａと、このリブ１７ａと反対の側（すなわち内側）に向かって突出する内リブ１７ｂと、外リブ１７ａの自由端部に回動自在に取り付けられた第２の側部基板支持爪１７ｃと、内リブ１７ｂの自由端部に回動自在に取り付けられたＴ型部材１７ｂとを有するものである。第２の側部基板支持爪１７ｃの内側面には、被処理基板Ｋの他側辺の周縁部が差し込まれる凹部１７ｃ’が設けられている。第２の側部基板支持爪１７ｃは外リブ１７ａに設けられた支点まわりに回動可能、すなわち第２の側部基板支持爪１７ｃが左右方向に移動可能となるよう構成されている。また、Ｔ型部材１７ｂは、内リブ１７ｂに設けられた支点まわりに回動可能、すなわち支点を中心に反時計方向あるいは時計方向に回転可能となるよう構成されている。
【００５５】
下部基板保持部１５は、軸受４２の上端部に回動自在に取り付けられた下部基板支持爪１５ａと、軸受４２の上部から一方（図６において左方）のアーム２２の側に延びるリブ１５ｂと、リブ１５ｂの自由端部に回動自在に取り付けられたＴ型部材１５ｃとを有するものである。下部基板支持爪１５ａの上面には、被処理基板Ｋの下辺の周縁部と当接する押さえ面（凹部）１５ａ’が形成されている。下部基板支持爪１５ａは軸受４２に設けられた支点まわりに回動可能、すなわち下部基板支持爪１５ａが上下方向に移動可能となるよう構成されている。また、Ｔ型部材１５ｃは、リブ１５ｂに設けられた支点まわりに回動可能、すなわち支点を中心に反時計方向あるいは時計方向に回転可能となるよう構成されている。
【００５６】
駆動部１８は、前述した軸受２３を支持する支持台２３ａの上面２３ａ’から鉛直上方に延びるリブ１８ａと、リブ１８ａの自由端部に回動自在に取り付けられたＴ型部材１８ｂと、Ｔ型部材１８ｂと他方（図６において右方）のアーム２２との間に位置する基板支持爪駆動シャフト２４に設けられた拡径部１８ｃとを有するものである。Ｔ型部材１８ｂは、リブ１８ａに設けられた支点まわりに回動可能、すなわち支点を中心に反時計方向あるいは時計方向に回転可能となるよう構成されている。また、拡径部１８ｃは基板支持爪駆動シャフト２４とともに回動するものである。
【００５７】
拡径部１８ｃとＴ型部材１８ｂとの間、下部基板支持爪１５ａとＴ型部材１５ｃとの間、Ｔ型部材１５ｃとＴ型部材１８ｂとの間、Ｔ型部材１８ｂとＴ型部材１７ｄとの間、Ｔ型部材１７ｄと第２の側部基板支持爪１７ｃとの間、Ｔ型部材１７ｄと第１の側部基板支持爪１６ｂとの間、およびＴ型部材１５ｃと上部基板支持爪１４ｃとの間はそれぞれ、第１リンクＬ１、第２リンクＬ２、第３リンクＬ３、第４リンクＬ４、第５リンクＬ５、第６リンクＬ６、および第７リンクＬ７で連結されている。これらリンクＬ１〜Ｌ７はいずれも剛性を有したプッシュ−プルリンクである。
【００５８】
ここで、図６において真空容器底面から真空を保ちながら直進導入されたロッド４５，４６をそれぞれ実線矢印の方に移動させると、台車内ロッド４１ａ，４１ｂの上端部によりＴ型突起４３ａの先端部（頭の部分）が突き上げられて、回動突起４３が図６の左下側から見て反時計方向に回動する。回動突起４３が回動するとそれとともに基板支持爪駆動シャフト２４が同じ方向に回動して、カム２６および下部支持爪駆動リンク２７を介して下部基板支持爪２９を下方へ移動させる。
一方、基板支持爪駆動シャフト２４とともに拡径部１８ｃが回動することにより第１リンクＬ１が（図６の右下側から見て）左下奥側に斜めに移動して、Ｔ型部材１８ｂが（図６の右下側から見て）時計方向に回動する。Ｔ型部材１８ｂが時計方向に回動することにより第３リンクＬ３が他方（図６において右方）のアーム２２側に移動するとともに、第４リンクＬ４が上方に移動する。第３リンクＬ３が他方のアーム２２側に移動することによりＴ型部材１５ｃが（図６の右下側から見て）反時計方向に回動するとともに、第２リンクＬ２を下方に移動させる。第２リンクＬ２が下方に移動することにより、下部基板支持爪１５ａは下部基板支持爪２９と同様、下方に移動する。また、Ｔ型部材１５ｃが反時計方向に回動することにより第７リンクＬ７が上方に移動するとともに上部基板支持爪１４ｃが上方に移動する。
第４リンクＬ４が上方に移動することによりＴ型部材１７ｄが（図６の右下側から見て）時計方向に回動し、第５リンクＬ５が他方（図６において右方）のアーム２２側に移動するとともに、第６リンクＬ６が一方（図６において左方）のアーム２２側に移動する。第５リンクＬ５が他方のアーム２２側に移動することにより第２の側部基板支持爪１７ｃの先端が外方に移動する。そして、第６リンクＬ６が一方のアーム２２側に移動することにより第１の側部基板支持爪１６ｂの先端が外方に移動する。
【００５９】
このように、ロッド４５，４６を実線矢印の方向に移動させることにより、すべての支持爪を開方向に移動させることができる。また逆に、ロッド４５，４６を実線矢印の方向と反対の方向に移動させることにより、すべての支持爪を閉方向に移動させることができる。
【００６０】
このように、被処理基板Ｋの上下左右に配置された上部基板支持爪１４ｃ、第１の側部基板支持爪１６ｂ、第２の側部基板支持爪１７ｃ、および下部基板支持爪１５ａ，２９により被処理基板Ｋの上下左右の周縁部端面が各爪で押し付けられて支持（あるいは保持）されることとなるので、被処理基板Ｋを上下方向および左右方向に規制（あるいは拘束）することができ、被処理基板Ｋ自体の振動と振幅を低減させることができ、被処理基板Ｋ周縁部の損傷（あるいは欠損）を防止することができるとともに、搬送台車の搬送速度（移動速度）を増加させることで、被処理基板Ｋの振動や振幅が大きくなることを抑制され、被処理基板Ｋが基板支持爪２９などと接触する付近で破損することが、大幅に抑制することができて、タクトタイムを大幅に短縮させることができる。
【００６１】
なお、本発明は上述した実施形態のものに限定されるものではなく、上述した実施形態のものを必要に応じて適宜組み合わせることもできる。
たとえば、第１実施形態の上部押さえ板バネ５２および側部押さえ板バネ５０や、第４実施形態の側部押さえ板バネ５０に、第３実施形態のところで説明したクッション材２００を設けるようにすることもできる。
【００６２】
また、上部押さえ板バネ５２および側部押さえ板バネ５０に設けたクッション材２００を、第１実施形態ないし第４実施形態の下部基板支持爪１５ａ，２９、上部基板支持爪１４ｃ，３０、および側部基板支持爪１６ｂ，１７ｃの凹部１５ａ’，２９’，１４ｃ’，３０’，１６ｂ’，１７ｃ’内に適宜必要に応じて設けるようにすることもできる。
【００６３】
さらに、第１実施形態および第２実施形態のところで述べたダンパユニット２８，１２８を、第３実施形態および第４実施形態に適用することもできる。
【００６４】
さらにまた、上述した実施形態において、上部基板支持爪３０が固定されたものについて説明してきたが、本発明はこれに限定されるものではなく、たとえば本出願人が先に出願した「特開２００２−１６７０３５号公報」に記載しているような、上部基板支持爪３０が可動するものにも適用することができる。
【００６５】
さらにまた、基板支持爪駆動シャフト２４を回動させてリンク機構を操作する操作手段４０は、上述したものに限定されるものではなく、たとえば本出願人が先に出願した「特開２００２−１６７０３５号公報」の図１ないし図４に示しているようなものを適用することもできる。
【００６６】
【発明の効果】
本発明の搬送装置およびこれを備えた真空処理装置によれば、以下の効果を奏する。
請求項１記載の搬送装置によれば、搬送台車からの振動やリンク機構操作時の振動と振幅が減衰手段によって吸収（あるいは減衰）され、これら振動が直接下部基板支持爪および被処理基板に伝達されないようになっているので、被処理基板の（特に周縁部の）欠損を防止することができるとともに、搬送台車の搬送速度（移動速度）を増加させることで、被処理基板Ｋの振動や振幅が大きくなることを抑制され、被処理基板Ｋが基板支持爪２９などと接触する付近で破損することが、大幅に抑制することができて、タクトタイムを大幅に短縮させることができる。
【００６７】
請求項２記載の搬送装置によれば、被処理基板の上下左右に位置する周縁部が支持されるとともに、搬送装置からの振動が緩衝部材により吸収されることとなるので、支持爪の凹部と被処理基板の周縁部とのすべりをなくすことができ、搬送装置からの振動と振幅を低減させることができて、被処理基板の（特に周縁部の）欠損を防止することができるとともに、搬送台車の搬送速度（移動速度）を増加させることができて、タクトタイムを大幅に短縮させることができる。
【００６８】
請求項３記載の搬送装置によれば、上部基板支持爪、下部基板支持爪、および側部基板支持爪により被処理基板の周縁部が支持（あるいは保持）されるようになっているので、支持爪の凹部と被処理基板の周縁部とのすべりをなくすことができるとともに、被処理基板Ｋの面と主として垂直方向へ振動時の振動幅を抑制することができ、被処理基板の（特に周縁部の）欠損を防止することができるとともに、搬送台車の搬送速度（移動速度）を増加させることができて、タクトタイムを大幅に短縮させることができる。
【００６９】
請求項４記載の搬送装置によれば、下部基板支持爪とリンク機構との間に減衰手段が設けられており、リンク機構が操作されたときの振動や搬送台車からの振動が直接下部基板支持爪に伝達されないようになっているので、被処理基板の（特に周縁部の）欠損をより一層防止することができるとともに、搬送台車の搬送速度（移動速度）をより一層増加させることができて、タクトタイムを大幅に短縮させることができる。
【００７０】
請求項５記載の搬送装置によれば、減衰手段には下部基板支持爪の動きを直線的な動きに規制するリニアガイド機構が設けられており、下部基板支持爪の凹部と被処理基板の周縁部とのすべりをなくすことができるので、被処理基板の左右方向の移動を規制する部材を不要とすることができ、製造コストおよびメンテナンスコストを低減させることができる。
【００７１】
請求項６記載の搬送装置によれば、減衰手段が比較的安価な多孔体材料で構成されているので、製造コストを低減させることができる。
【００７２】
請求項７記載の搬送装置によれば、下部基板支持爪を開くことにより伸ばされた引張コイルバネの復元力が、下部基板支持爪が閉じる（上方に移動させる）際の力として利用されることとなるので、たとえば下部基板支持爪に被処理基板が載置された状態で下部基板支持爪を閉じようとする場合、操作手段からの力（すなわち駆動源からの駆動力）を減少させることができ、駆動源自体を小型のものにすることができるとともに、下部基板支持爪に被処理基板が載置されていない状態で下部基板支持爪を閉じようとする場合、下部基板支持爪を即座に閉位置に移動させることができ、タクトタイムを短縮させることができる。
【００７３】
請求項８記載の搬送装置によれば、被処理基板の上下左右に位置する周縁部が支持されるとともに、搬送装置からの振動が緩衝部材により吸収されることとなるので、支持爪の凹部と被処理基板の周縁部とのすべりをなくすことができるとともに、被処理基板Ｋの面と主として垂直方向へ振動時の振動幅を抑制することができ、搬送装置からの振動を低減させることができて、被処理基板の（特に周縁部の）欠損を防止することができるとともに、搬送台車の搬送速度（移動速度）を増加させることができて、タクトタイムを大幅に短縮させることができる。
【００７４】
請求項９記載の真空処理装置によれば、被処理基板を損傷することなく搬送速度を上げることのできる搬送装置が採用されることとなるので、装置全体のタクトタイムを大幅に短縮させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態に係るクラスタ型真空処理装置の全体斜視図である。
【図２】本発明による搬送装置の第１実施形態を示す要部斜視図である。
【図３】図２に示す搬送装置のダンパユニットを詳細に示す図であって、（ａ）は斜視図、（ｂ）は側面図、（ｃ）は正面図である。
【図４】本発明による搬送装置の第２実施形態のダンパユニットを詳細に示す図であって、（ａ）は斜視図、（ｂ）は側面図、（ｃ）は正面図である。
【図５】本発明による搬送装置の第３実施形態を示す図であって、（ａ）は要部斜視図、（ｂ）は上部押さえ板バネの一部拡大図である。
【図６】本発明による搬送装置の第４実施形態を示す要部斜視図である。
【符号の説明】
１０ 搬送装置
１１ 搬送装置
１２ 搬送装置
１４ｃ 上部基板支持爪
１４ｃ’凹部
１５ａ 下部基板支持爪
１５ａ’凹部
１６ｂ 第１の側部基板支持爪
１７ｃ 第２の側部基板支持爪
２０ 保持機構
２０ａ 保持機構
２０ｂ 保持機構
２２ アーム（支柱）
２８ ダンパユニット（減衰手段）
２９ 下部基板支持爪
２９’ 凹部
３０ 上部基板支持爪
３０’ 凹部
４０ 操作手段
５０ 側部押さえ板バネ
５２ 上部押さえ板バネ
５３ スプリング（引張コイルバネ）
６２ リニアガイド
６５ 上側スプリング
６８ 下側スプリング
１２８ ダンパユニット（減衰手段）
１３０ 吸振体（多孔体材料）
２００ クッション材（緩衝部材）
９０１ クラスタ型真空処理システム（真空処理装置）
９０６Ａ 搬送装置
９０６Ｂ 搬送装置
９０６Ｃ 搬送装置
９０６Ｄ 搬送装置
９０６Ｅ 搬送装置
９０６Ｆ 搬送装置
９７０Ａ 製膜室（真空処理室）
９７０Ｂ 製膜室（真空処理室）
９７０Ｃ 製膜室（真空処理室）
９７０Ｄ 製膜室（真空処理室）
９７０Ｅ 製膜室（真空処理室）
Ｋ 被処理基板
Claims (9)
- 被処理基板を処理するための真空処理装置内において前記被処理基板を搬送する搬送装置であって、前記真空処理装置内を走行する搬送台車と、前記被処理基板を保持するため、前記搬送台車に配設された保持機構とを備え、
前記保持機構は、前記被処理基板を斜めに支持する複数本の支柱と、
前記支柱に設けられ、前記被処理基板の上辺の周縁部が差し込まれる下向き凹部を有する上部基板支持爪、および前記被処理基板を下側から持ち上げるように支持する上向き凹部を有する下部基板支持爪と、
前記上部基板支持爪および下部基板支持爪の少なくとも一方を前記被処理基板の周縁部より離隔・開放する方向若しくは前記被処理基板の周縁部へ接近・把持する方向に移動させるリンク機構と、
外部駆動手段より駆動力を伝えて前記リンク機構を操作する操作手段と、を具備する搬送装置において、
前記下部基板支持爪は、減衰手段を介して前記リンク機構に連結されていることを特徴とする搬送装置。 - 被処理基板を処理するための真空処理装置内において前記被処理基板を搬送する搬送装置であって、前記真空処理装置内を走行する搬送台車と、前記被処理基板を保持するため、前記搬送台車に配設された保持機構とを備え、
前記保持機構は、前記被処理基板を斜めに支持する複数本の支柱と、
前記支柱に設けられ、前記被処理基板の上辺の周縁部が差し込まれる下向き凹部を有する上部基板支持爪、および前記被処理基板を下側から持ち上げるように支持する上向き凹部を有する下部基板支持爪と、
前記上部基板支持爪および下部基板支持爪の少なくとも一方を前記被処理基板の周縁部より離隔・開放する方向若しくは前記被処理基板の周縁部へ接近・把持する方向に移動させるリンク機構と、
外部駆動手段より駆動力を伝えて前記リンク機構を操作する操作手段と、を具備する搬送装置において、
前記支柱に設けられ、前記被処理基板の上辺の周縁部を支持する上部押さえ板バネ、および前記被処理基板の側辺の周縁部を支持する側部押さえ板バネを具備し、
前記上部押さえ板バネおよび前記側部押さえ板バネが前記被処理基板を支持する部位には、緩衝部材が設けられていることを特徴とする搬送装置。 - 被処理基板を処理するための真空処理装置内において前記被処理基板を搬送する搬送装置であって、前記真空処理装置内を走行する搬送台車と、前記被処理基板を保持するため、前記搬送台車に配設された保持機構とを備え、
前記保持機構は、前記被処理基板を斜めに支持する複数本の支柱と、
前記支柱に設けられ、前記被処理基板の上辺の周縁部が差し込まれる下向き凹部を有する上部基板支持爪、前記被処理基板を下側から持ち上げるように支持する上向き凹部を有する下部基板支持爪、および前記被処理基板の両側辺の周縁部がそれぞれ差し込まれる横向き凹部を有する側部基板支持爪と、
前記上部基板支持爪、下部基板支持爪、および側部基板支持爪を前記被処理基板の周縁部より離隔・開放する方向若しくは前記被処理基板の周縁部へ接近・把持する方向に移動させるリンク機構と、
外部駆動手段より駆動力を伝えて前記リンク機構を操作する操作手段と、を具備することを特徴とする搬送装置。 - 前記下部基板支持爪は、減衰手段を介して前記リンク機構に連結されていることを特徴とする請求項２または３に記載の搬送装置。
- 前記減衰手段はスプリングからなるとともに、リニアガイド機能を具備していることを特徴とする請求項１または４に記載の搬送装置。
- 前記減衰手段は、多孔体金属からなることを特徴とする請求項１または４に記載の搬送装置。
- 前記減衰手段と当該減衰手段の上方に位置する支柱との間、または前記リンク機構のうち、前記下部基板支持爪に連結されたリンクと当該リンクの上方に位置する支柱との間に、引張コイルバネが設けられていることを特徴とする請求項１から６のいずれか一項に記載の搬送装置。
- 前記支柱に設けられ、前記被処理基板の上辺の周縁部を支持する上部押さえ板バネ、および前記被処理基板の側辺の周縁部を支持する側部押さえ板バネを具備し、
前記上部押さえ板バネおよび前記側部押さえ板バネが前記被処理基板を支持する部位には、緩衝部材が設けられていることを特徴とする請求項１または３に記載の搬送装置。 - 被処理基板を真空雰囲気下でそれぞれ処理する複数の真空処理室と、
これら複数の真空処理室の相互間で前記被処理基板を搬送するための、請求項１から８のいずれか一項に記載の搬送装置と、を具備してなることを特徴とする真空処理装置。
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