JP2004294155A - 屈折率及び厚さの測定装置ならびに測定方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光源1と、光源1からの光の一部を反射し一部を透過する半透鏡22と、半透鏡22の透過光を集光して被測定物に照射する集光手段23と、半透鏡22で反射された参照光と被測定物3で反射された検査光とを含む光を、第1の分岐光路33と、光路長可変手段39を備えた第2の分岐光路34に分岐する分岐手段32と、第1の分岐光路33を経た光と、第2の分岐光路34を経た光とを合波して干渉光を生成する合波手段32と、該干渉光の強度を検出する検出手段4を備えてなる屈折率及び厚さの測定装置。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば薄膜の屈折率及び厚さなど、光の屈折率が異なる媒質の界面間に挟まれた被測定物における屈折率及び厚さを測定することができる装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来より、光干渉法を用いて薄膜等の被測定物の屈折率と厚さを同時に測定できる方法および装置が知られている(例えば、下記特許文献1〜5参照。)
【0003】
【特許文献1】
特開平9−218016号公報
【特許文献2】
特開平10−2855号公報
【特許文献3】
特開平10−325795号公報
【特許文献4】
特開平11−344313号公報
【特許文献5】
特開2001−4538号公報
【0004】
図2に、光干渉法を用いて媒質の屈折率及び厚さを測定する装置の従来例を示す。
この例の装置にあっては、光源51から出射された低コヒーレント光が、ビームスプリッタ52で2つに分岐される。一方の分岐光は集光レンズ53で集光されて被測定物54に照射され、他方の分岐光は参照ミラー55に照射される。被測定物54で反射された検査光と、参照ミラー55で反射された参照光は、ビームスプリッタ52で合波されて干渉光を形成し、該干渉光の強度が受光器56で検知されるように構成されている。被測定物54および参照ミラー55は、ぞれぞれ微動可能なステージ61,62上に保持されている。また参照ミラー55は振動子(図示略)に固定され、所定の周波数で所定振幅の振動が加えられ、これにより参照光が位相変調されるように構成されている。
【0005】
かかる構成の装置により、薄膜状の被測定物54における屈折率及び厚さを測定するには、まず被測定物54の厚さ方向が光軸方向となるようにセットし、該被測定物54の表裏両面のうち、集光レンズ53に近い方の面(前面という)に、光源51からの光を集光させる。そして、ビームスプリッタ52で分岐された一方の分岐光(検査光)が被測定物54の前面で反射されて受光器56に至るまでの光路長と、他方の分岐光(参照光)が参照ミラー55で反射されて受光器56に至るまでの光路長とが等しくなるように、参照ミラー55の微動ステージ62を微動調整する。具体的には、受光器56で検知される検査光と参照光の干渉光の強度が最大となるように参照ミラー55の位置を決めればよい。
【0006】
次いで、被測定物54の微動ステージ61を微動させて被測定物54を集光レンズ53に近づけることにより、該被測定物54の表裏両面のうち、集光レンズ53から遠い方の面(後面という)に、光源51からの光を集光させる。このときの被測定物54の移動量をzとする。
そして、参照ミラー55の微動ステージ62を微動させて参照ミラー55を後退させつつ、受光器56で検知される干渉光の強度が最大となるように参照ミラー55の位置を決める。
このときの参照ミラー55の移動量を△Lとすると、前記zの値と△Lの値とから、被測定物の位相屈折率と厚さを同時に得ることができる(例えば、上記特許文献4[0007]〜[0012]参照)。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、このような光干渉法を用いた測定方法は、環境変化の影響を受け易く、従来構成の装置は、特に温度変動によって測定精度が悪化し易いという問題があった。
これは、測定環境に温度変化が生じたときに、ビームスプリッタ52で分岐された2つの分岐光の光路間において温度変化にずれが生じ、その結果、測定誤差を発生させるような光路長の差が生じることが大きな原因と考えられる。そして該2つの分岐光の光路における温度変化を同一とするには、環境の変化の影響を遮断するための大掛かりな装置が必要であり、コストもかかる。また2つの光路の温度変化状態を完全に同一とするのは非常に難しい。
【0008】
本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、光干渉法を用いた測定方法により、被測定物の厚さと屈折率を、温度変化に対しても安定に測定できるようにした測定装置を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するために、本発明の屈折率及び厚さの測定装置は、光源と、該光源からの光の一部を反射し一部を透過する半透鏡と、該半透鏡の透過光を集光して被測定物に照射する集光手段と、前記半透鏡で反射された参照光と前記被測定物で反射された検査光とを含む光を、第1の分岐光路と、光路長可変手段を備えた第2の分岐光路に分岐する分岐手段と、前記第1の分岐光路を経た光と、前記第2の分岐光路を経た光とを合波して干渉光を生成する合波手段と、前記干渉光の強度を検出する検出手段を備えてなることを特徴とする。
前記光源から前記半透鏡に至る光路、前記半透鏡から前記分岐手段に至る光路、および前記合波手段から前記検出手段に至る光路のうちの1以上に光ファイバが用いられていることが好ましい。
前記第1の分岐光路に光路長補正手段が設けられていることが好ましい。
【0010】
本発明はまた、本発明の測定装置を用いて被測定物の屈折率及び厚さを測定する方法であって、前記光源からの光のうち、前記半透鏡を透過した光を前記集光手段で、前記被測定物の光源側の前面上に焦点が位置するように集光させた状態で、前記検出手段で検出される干渉光の強度が最大となるように前記第1の分岐光路の光路長および前記第2の分岐光路の光路長を設定した後、前記半透鏡を透過した光の焦点が前記被測定物の光源から遠い後面上に位置するように、前記集光手段と被測定物との間の距離を変化させて、そのときの被測定物と半透鏡との距離の変化量zを求め、しかる後に、前記検出手段で検出される干渉光の強度が最大となるように前記第2の分岐光路の光路長を変化させて、そのときの該光路長の変化量△Lを求め、前記zと△Lの値を用いて前記被測定物の屈折率及び厚さを測定することを特徴とする屈折率及び厚さの測定方法を提供する。
【0011】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳しく説明する。図1は、本発明の測定装置の一実施形態を示した概略構成図である。図中符号1は光源を示し、3は被測定物を示す。
光源光は低コヒーレンス光であることが好ましく、光源1としては、広帯域なバンド幅を有する光を出射できるものが好ましく用いられ、例えばSLD(super−luminescent diode:スーパールミネセントダイオード)やLED(light emitting diode:発光ダイオオード)が好適に用いられる。
被測定物3は、薄板や薄膜等、光の屈折率が異なる媒質の界面間に挟まれた層状であり、光源光を透過可能で、かつ光学的一様な層とみなせるものが適用される。
被測定物3は、光源光の光軸方向が厚さ方向と一致するように保持、固定されている。被測定物3の表裏両面のうちの光源1側の一方の面(以下、前面という)が最表面を成していてもよく、該前面上に光源光を透過する層が設けられていてもよい。また被測定物3の他方の面(以下、後面という)が最表面を成していてもよく、該後面上に被測定物3と屈折率が異なる層が設けられていてもよい。被測定物3の厚さは、使用する広帯域光源1のコヒーレンス長よりも、被測定物の厚さと屈折率の積の値が小さいと分解能の関係により測定が困難になる。一方、厚過ぎると被測定物の前面に焦点を位置させたときの反射光量と、後面に焦点を位置させたときの反射光量との差が大きくなるので、10μm〜10mm程度が好ましく、より好ましくは10μm〜2mm程度である。
【0012】
本実施形態の装置において、光源1から出射された光は、第1の光ファイバ11、サーキュレータ2、および第2の光ファイバ12を順に経て測定部20に至るように構成されている。
サーキュレータ2は3つのポートを有しており、それぞれに第1の光ファイバ11、第2の光ファイバ12、第3の光ファイバ13が接続されている。サーキュレータ2は、第1の光ファイバ11から第2の光ファイバ12へは光が通り、第2の光ファイバ12から第3の光ファイバ13へも光が通るが、これらの逆向きには光は戻らないように構成されている。
第1の光ファイバ11、第2の光ファイバ12、および第3の光ファイバ13としては、一般的な伝送用光ファイバが用いられ、石英系ガラスファイバが好適に用いられる。
【0013】
測定部20では、コリメータ21、1/4波長板24、半透鏡22、および集光レンズ(集光手段)23が、光軸が一致するように配置されており、かつ該光軸方向に沿って微動可能な測定部ステージ25上に固定されている。
【0014】
測定部20において、第2の光ファイバ12から出射された光は、コリメータ21で平行光とされた後、半透鏡22へ入射される。
半透鏡22は、入射光の一部を反射し一部を透過する特性を有しており、該半透鏡22の透過光は集光レンズ23によって集光され、該集光光が被測定物3へ照射される。そして被測定物3の反射光(以下、検査光ということもある)が、集光レンズ23を経て半透鏡22を透過した後、コリメータ21を経て第2の光ファイバ12に入射されるように構成されている。
一方、半透鏡22の反射光(以下、参照光ということもある)はコリメータ21を経て第2の光ファイバ12に入射される。
【0015】
半透鏡22としては、例えばガラス基板上に誘電体多層膜を蒸着した構成のものを用いることができる。半透鏡22における反射率および透過率は特に制限されるものではないが、透過率が低すぎると、被測定物3からの反射光(検査光)の強度が弱すぎて測定精度の劣化が大きくなる。したがって、半透鏡22の反射率は、被測定物3の前面および後面における反射率にもよるが、概ね3%〜20%程度であることが好ましい。
1/4波長板24は必須ではないが、これを設けると、光源1から第1の光ファイバ11に入射されて第2の光ファイバ12から測定部20へ出射される光の偏波面と、半透鏡22および被測定物3でそれぞれ反射されて第2の光ファイバ12に入射される光の偏波面とが直交することになるので、サーキュレータ2の構成を簡易にすることができる。コリメータ21と半透鏡22との間に設けることが好ましい。1/4波長板24と半透鏡22を一体的に設けることもできる。
【0016】
このように測定部20から第2の光ファイバ12へは、検査光および参照光が入射され、該検査光の光信号と参照光の光信号の両方を含む光が第2の光ファイバ12、サーキュレータ2、および第3の光ファイバ13を順に経て干渉部30に至るように構成されている。
干渉部30は、第3の光ファイバ13からの出射光の光路上に設けられたコリメータ31、ビームスプリッタ32、および第1のミラー35と、前記ビームスプリッタ32内で第3の光ファイバ13からの出射光の光路と直交する光軸を有する第2のミラー36と、前記ビームスプリッタ32を挟んで前記第2のミラー36と対峙する位置関係にあるコリメータ37を備えている。
【0017】
干渉部30では、第3の光ファイバ13から出射された光がコリメータ31で平行光とされた後、ビームスプリッタ(分岐手段かつ合波手段)32で、直進する第1の分岐光路33と、入射方向に対して直交する第2の分岐光路34に分岐される。
第1の分岐光路33を進む光は、第1のミラー35で反射され、該反射光は第1の分岐光路33と平行に前記ビームスプリッタ32に入射される。
一方、第2の分岐光路34を進む光は、第2のミラー36で反射され、該反射光は第2の分岐光路33と平行に前記ビームスプリッタ32に入射される。
そして、ビームスプリッタ32は、第2のミラー36からの反射光を直進させるとともに、第1のミラー35からの反射光を、その入射方向に対して直交する方向に進行方向を変えるように構成されており、これによって第1のミラー35の反射光と第2のミラーの反射光が合波されるようになっている。合波された2つの光は干渉光を生成し、該干渉光は、コリメータ37を経て第4の光ファイバ14に入射される。第4の光ファイバ14を伝送された前記干渉光は、受光器(検出手段)4に入射され、干渉光強度が検出されるように構成される。
【0018】
第1のミラー35および第2のミラー36は、反射率が高い方が好ましく、全反射ミラーが好適に用いられる。
本実施形態において、第1のミラー35および第2のミラー36はいずれも、2枚の全反射ミラーを、反射面が内側となるように、かつ該2つの全反射ミラーがなす角度が90度となるように配置した光学素子からなっており、ビームスプリッタ32からの出射光が、該光学素子の一方の反射面に45度の入射角度で入射するように構成されている。すなわち、ビームスプリッタ32から第1のミラー35に入射される光と、第1のミラー35で反射されてビームスプリッタ32へ向かう光、およびビームスプリッタ32から第2のミラー36に入射される光と、第2のミラー36で反射されてビームスプリッタ32へ向かう光とが、それぞれ互いに平行な別々の光路を通るように構成されている。
かかる光学素子を用いると、後述する微動可能な第2のステージ39の移動中機械的な角度エラーを、第2の分岐光路34における光の平行移動に変換することができるので、該第2のステージ39の移動による、第4の光ファイバ14に結合する干渉光量の変動を小さくすることができる。
【0019】
また第1のミラー35は、第1の分岐光路33の光軸方向に沿って、進退可能な第1のステージ38(光路長補正手段)上に固定されており、これによりビームスプリッタ32から第1のミラー35までの距離を調節できるように構成されている。
第2のミラー36は、第2の分岐光路34の光軸方向に沿って、微動可能な第2のステージ39(光路長可変手段)上に固定されている。第2のステージ39は、所定周波数、所定振幅で振動可能であるとともに、該振動を続けながら第2の分岐光路34の光軸方向に微細な間隔で進退可能に構成されている。
【0020】
かかる構成の装置を用いて被測定物3の屈折率及び厚さを測定する方法は、まず、光源1からの低コヒーレンス光を集光レンズ23で集光したときの焦点が、被測定物3の前面上に位置するように、測定部ステージ25の位置を設定する。
このときのの半透鏡22の反射面から被測定物3の前面までの距離をXとすると、ビームスプリッタ32で分岐された第1の分岐光路33と第2の分岐光路34との光路長差が前記Xとほぼ等しくなるように、第1のステージ38の位置を設定する。具体的には、ビームスプリッタ32から第1のミラー35までの距離と、ビームスプリッタ32から第2のミラー36までの距離との差が前記Xとほぼ等しくなるように設定すればよい。
そして、第2のステージ39を、一定周波数、一定振幅で振動させながら、受光器4で干渉光の強度を測定し、干渉光強度が最大となるように、第1のステージ38の位置を微動調整した後、該第1のステージ38を固定する。
【0021】
次いで、光源1からの低コヒーレンス光を集光レンズ23で集光したときの焦点が、被測定物3の後面上に位置するように、測定部ステージ25を光源1側へ移動させる。このときの測定部ステージ25の移動量をzとする。
【0022】
続いて、第2のステージ39の振動を続けながら、該第2のステージ39をビームスプリッター32から離れる向きに移動させて、受光器4で検出される干渉光強度が最大となる位置を見つけ、第2のステージ39の位置をそこに設定する。このときの第2のステージ39の移動量(移動前後間の距離)をΔLとする。
【0023】
本実施形態の装置にあっては、第3の光ファイバ13から出射される光は、半透鏡22からの反射光(参照光)と被測定物3からの反射光(検査光)とを含んでいる。したがってこれをビームスプリッタ32で分岐した2つの分岐光(第1の分岐光路33の伝搬光および第2の分岐光路34の伝搬光)の光強度に関しては、いずれも参照光に由来するピークと検査光に由来するピークとを含んでおり、該2つのピークの時間軸上のずれは半透鏡22の反射面から被測定物3の前面までの距離Xに相当する。
そこで、前記第1の分岐光路33と第2の分岐光路34の光路長差を前記Xとほぼ等しくした状態で、前記2つの分岐光を合波して得られる干渉光強度を最大とすれば、参照光と検査光(前面からの反射光)とが干渉し合う状態(第1の状態)に初期設定することができる。
この後、第1のステージ38を固定し、光源光の焦点を被測定物3の後面上に移動させて、受光器4で検出される干渉光強度が最大となるように第2のステージ39を移動させれば、参照光と検査光(後面からの反射光)とが干渉し合う状態(第2の状態)に設定することができる。
【0024】
このように第1の状態から第2の状態に移行させたときの、前記測定部ステージ25の移動量(z)と前記第2のステージ39の移動量(ΔL)の値から、被測定物3の位相屈折率nと厚さtを、次のようにして導出することができる。
すなわち、低コヒーレンス光を被測定物3に対して集光させる集光レンズ23の開口数をS、被測定物3の位相屈折率をn、被測定物3の屈折率波長分散量をΔnとする。波長分散量Δn<<1と近似すると、被測定物3の位相屈折率nは下記数式(1)で表される。
数式(1)中の波長分散量Δnは、前記ΔLおよびzと、定数aおよびbを用いて、下記数式(2)で表される。ここで定数aおよびbは、実験的に得られており、被測定物3が固体である場合はaが0.0241、bが1.69となり、被測定物3が液体である場合はaが0.0460、bが1.53となる。
さらに被測定物3の厚さtは、ここで求められる被測定物3の位相屈折率n、波長分散量Δnと、前記ΔLとzを用いて下記数式(3)で表される。
【0025】
【数1】
【0026】
【数2】
【0027】
【数3】
【0028】
このように、本実施形態によれば、光干渉法を用いた測定方法により、被測定物3の位相屈折率nと厚さtを同時に、非接触、非破壊で測定することができる。
本実施形態の装置は、干渉させる2つの光が別々の光路を通る部分が少ないので、温度変化の影響をほどんど受けない。すなわち、本実施形態の装置では、ビームスプリッタ32で分岐された2つの分岐光を干渉させて生成される干渉光の強度を検出するように構成されているが、該2つの分岐光が別々の光路を通るのは、ビームスプリッタ32と第1、第2のミラー35,36との間だけであって、その他は同一の光路を通るようになっている。
したがって、測定環境に温度変化が生じても、干渉光を生成する2つの光が受ける温度変化の違いはほとんどなく、測定誤差を発生するような光路長の変化は防止される。
【0029】
特に、被測定物3が測定部20の外部にある場合には、被測定物3で反射される検査光が温度変化等の外乱を受け易いが、本実施形態の装置によれば、該検査光はビームスプリッタ32で2つに分岐されるので、該2つの分岐光がそれぞれ受けた外乱は等しくなっており、かかる外乱の影響を高度に排除することができる。
したがって、外乱の影響を低減させるための大掛かりな装置を設けなくても、周囲の外乱に対して測定精度を高く維持することができるので、小型で、測定精度および安定性に優れた屈折率及び厚さ測定装置を、低コストで提供することができる。
【0030】
また、一般的に、測定装置の光路に光ファイバを用いると、光学部品のレイアウトの自由度が高い反面、光ファイバは外乱の影響をより受け易いが、本実施形態の構成によれば、光ファイバ(第1〜4の光ファイバ11,12,13,14)が用いられているのは、2つの分岐光が共通の光路を通る部分であり、たとえこれらの光ファイバが温度変化の影響を受けて光路長に変動が生じたとしても、これによって2つの分岐光の間に光路長のずれは生じない。したがって、本実施形態は光ファイバを用いたことにより、装置内における光部品の配置設計が容易になり、したがって測定精度の劣化を招くことなく、装置をより小型化することが可能である。
【0031】
なお、本実施形態では、測定部20の、コリメータ21、1/4波長板24、半透鏡22、および集光レンズ23の各光部品を微動可能な測定部ステージ25上に搭載し、被測定物3を固定する構成としたが、要は、測定部20と被測定物3との相対距離が可変であればよく、測定部20の各光部品を固定しておき、被測定物3を光軸方向に沿って微動可能なステージに搭載する構成としてもよい。
また、ビームスプリッタ32として、偏光ビームスプリッタを用いてもよい。
また、ビームスプリッタ32では、参照光および検査光を含む光を、少なくとも干渉光を生成する2つの分岐光(本実施形態では第1の分岐光路33、第2の分岐光路34)に分岐すればよく、3以上の分岐光に分岐してもよい。
また、第1〜第4の光ファイバ11,12,13,14のうちの一部または全部を用いずに、空間に光路を形成することもできる。ただし、この場合は、測定部ステージ20が移動すると、半透鏡22からサーキュレータ2までの距離も変化してしまうので、例えば干渉部30の第1のステージ38において、かかる距離の変化を相殺するような補正が必要となる。
【0032】
また、光源光を被測定物3の前面上に集光した状態での初期設定は、受光器4で検出される干渉光において、参照光に由来するピークと検査光に由来するピークとが干渉して形成されるピークが得られるように、第1の分岐光路33の光路長および第2の分岐光路34の光路長を設定できればよく、必ずしも第1のステージ(光路長補正手段)38を用いなくても行うことが可能であるが、第1のステージ38を微動させて設定を行った方が、第1の分岐光路33の光路長が固定されている場合に比べて、第2のステージ39を移動させてサーチする範囲が小さくてすむので作業効率が良い。
【0033】
本発明は、表面上のコーティング材の厚さと屈折率分布の測定や、完全に固体になっていないものの厚さ測定に適用することができる。特に樹脂の硬化状態の確認や液晶画面のガラス間にあるバッファー層の測定など、非破壊・非接触で測定する必要のある対象物等に最適である。
【0034】
【実施例】
以下、具体的な実施例を示して本発明の効果を明らかにする。
(実施例1)
図1に示す構成の測定装置を作製した。
光源1としては、発振中心波長λC=820nmのSLDを用いた。このSLDの半値全幅(FWHM)は△λ=20nmである。
サーキュレータ2としては、簡易的に1対1のファイバカプラを用いた。
測定部20において、コリメータ21としては焦点距離12.5mmの非球面レンズを用いた。
位相差板24としては水晶の張り合わせタイプの1/4波長板を用い、半透鏡22としては、片面のみに無反射コートを施したタイプを用いた。波長820nmにおける半透鏡22の反射率は約4%である。
集光レンズ23としては、NA(開口数)0.40の20倍対物レンズを用いた。
測定部ステージ25は、0.1μmステップのリニアモーターで駆動するように構成した。
干渉部30において、コリメータ31,37としては焦点距離4mmの非球面レンズを用い、ビームスプリッタ32としては50%反射の無偏光ビームスプリッタを用いた。
第1のステージ38は、リニアモーターによって進退可能に構成した。
第2のステージ39は、リニアエンコーダが取り付けられたカム構造のステージによって、周波数5Hz、振幅10mmの振動ができるように構成するとともに、取り付けたリニアエンコーダによって100nm刻みでカウントできるように構成した。
第1〜第4の光ファイバ11〜14は、いずれもシングルモード光ファイバを用いた。
被測定物3としては、位相屈折率n(n=1.4525)、および厚さt(t=1.0mm)が既知の石英基板を用い、本実施例の測定装置により、前記実施形態に記載した手順で前記zおよび△Lを求めた。前記数式に基づいて位相屈折率nおよび厚さtを算出した結果、上記既知の数値と同様の結果が得られ、測定の精度は良好であった。
【0035】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、被測定物(媒質)の屈折率及び厚さを高精度で安定して測定することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の装置の一実施形態を示す概略構成図である。
【図2】従来の装置の例を示す概略構成図である。
【符号の説明】
1…光源、3…被測定物、4…受光器(検出手段)
11…第1の光ファイバ、12…第2の光ファイバ、
13…第3の光ファイバ、14…第4の光ファイバ、
22…半透鏡、23…集光レンズ(集光手段)、
32…ビームスプリッタ(分岐手段・合波手段)、
33…第1の分岐光路、34…第2の分岐光路、
38…第1のステージ(光路長補正手段)、
39…第2のステージ(光路長可変手段)。
Claims (4)
- 光源と、該光源からの光の一部を反射し一部を透過する半透鏡と、
該半透鏡の透過光を集光して被測定物に照射する集光手段と、
前記半透鏡で反射された参照光と前記被測定物で反射された検査光とを含む光を、第1の分岐光路と、光路長可変手段を備えた第2の分岐光路に分岐する分岐手段と、
前記第1の分岐光路を経た光と、前記第2の分岐光路を経た光とを合波して干渉光を生成する合波手段と、
前記干渉光の強度を検出する検出手段を備えてなることを特徴とする屈折率及び厚さの測定装置。 - 前記光源から前記半透鏡に至る光路、前記半透鏡から前記分岐手段に至る光路、および前記合波手段から前記検出手段に至る光路のうちの1以上に光ファイバが用いられていることを特徴とする請求項1記載の屈折率及び厚さの測定装置。
- 前記第1の分岐光路に光路長補正手段が設けられていることを特徴とする請求項1または2のいずれかに記載の屈折率及び厚さの測定装置。
- 請求項1〜3のいずれかに記載の測定装置を用いて被測定物の屈折率及び厚さを測定する方法であって、
前記光源からの光のうち、前記半透鏡を透過した光を前記集光手段で、前記被測定物の光源側の前面上に焦点が位置するように集光させた状態で、前記検出手段で検出される干渉光の強度が最大となるように前記第1の分岐光路の光路長および前記第2の分岐光路の光路長を設定した後、
前記半透鏡を透過した光の焦点が前記被測定物の光源から遠い後面上に位置するように、前記集光手段と被測定物との間の距離を変化させて、そのときの被測定物と半透鏡との距離の変化量zを求め、
しかる後に、前記検出手段で検出される干渉光の強度が最大となるように前記第2の分岐光路の光路長を変化させて、そのときの該光路長の変化量△Lを求め、
前記zと△Lの値を用いて前記被測定物の屈折率及び厚さを測定することを特徴とすることを特徴とする屈折率及び厚さの測定方法。
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