JP2004284694A

JP2004284694A - Base conveyance device

Info

Publication number: JP2004284694A
Application number: JP2003075874A
Authority: JP
Inventors: Shigeru Obara; 茂小原; Naohisa Okada; 尚久岡田; Naoyuki Osada; 直之長田; Shigeki Minami; 茂樹南
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 2003-03-19
Filing date: 2003-03-19
Publication date: 2004-10-14
Anticipated expiration: 2023-03-19
Also published as: JP4307876B2

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a base conveyance device capable of preventing leakage of the atmospheric air and changing attitude of a base by a simple structure without obstructing uniform treatment of the base to enable saving of a space and reduction of costs. <P>SOLUTION: When protrusion amount of a cylinder 16 increases, a magnet 8a rotates together with a conveyance shaft 10 by magnetic force acting between magnet discs 7a and 8a when the magnet disc 7a rotates. When protrusion amount of the cylinder 16 is reduced, the magnet disc 8a provided at one end of the conveyance shaft 10 moves in the direction in which it leaves an inclined wall 30e. Distance between the magnet discs 7a and 8a is increased and magnetic force does not act between the magnet discs 7a and 8a. As a result, the magnet disc 8a does not rotate and the conveyance shaft 10 and a compact conveyance roller 11 do not rotate even when the magnet disc 7a rotates by a belt B1. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板を搬送する基板搬送装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用ガラス基板、半導体ウエハ等の基板に種々の処理を行うために基板処理装置が用いられている。このような基板処理装置は、主にクリーンルーム内で使用されるため、設置スペースの削減が要求されている。
【０００３】
図１８は、基板処理装置の全長を短縮して省スペース化を図った基板処理装置の一例を示す図である（特許文献１参照）。
【０００４】
図１８に示す基板処理装置９００では、互いに平行な搬送路１５１および搬送路１５２ならびにこれらを結合する反転経路１５３が形成されている。
【０００５】
基板処理装置９００においては、インデクサ部１１１のカセットＣに収納された基板が一枚ずつ取り出されて、搬送路１５１、反転経路１５３および搬送路１５２のほぼＵ字状の順に搬送されつつ処理が施され、再びインデクサ部１１１のカセットＣ内に収納される。
【０００６】
図１８の基板処理装置９００の搬送路１５１には、コンベア１１２、紫外線照射部１１３、オゾンアッシング部１１４およびブラシ水洗部１１５が順に配置され、基板処理装置９００の搬送路１５２には、紫外線照射部１１９、エアーナイフ部１１８、水洗部１１７が順に配置されている。
【０００７】
また、基板処理装置９００の反転経路１５３には、基板搬送装置８００、薬液処理を行う薬液処理部８１０および基板搬送装置８０１が順に配置されている。
薬液処理部８１０においては、基板の表面処理の均一化のため、基板を所定の角度だけ傾斜姿勢にさせて処理が行われる。
【０００８】
図１９は図１８の基板搬送装置８０１の横断面図であり、図２０は図１９の基板搬送装置８０１のＡ−Ａ線断面図である。
【０００９】
図１９および図２０において、水平面内で直交する２方向をＸ方向およびＹ方向とし、鉛直方向をＺ方向とする。図１９に示すように、基板が搬送室３００の基板搬入口３１０からＹ方向に搬入され、基板搬出口３２０からＸ方向に搬出される。
【００１０】
図１９の基板搬送装置８０１の搬送室３００内には、複数の搬送軸８０ａと複数の搬送軸８０ｂとが所定の間隔Ｌ１０を隔ててそれぞれＸ方向に沿って配置されている。複数の搬送軸８０ｃは、搬送軸８０ａと搬送軸８０ｂとの間の所定の間隔Ｌ１０内でＹ方向に沿って配置されている。複数の搬送軸８０ｄは、搬送軸８０ａ，８０ｂの間にＹ方向に沿って配置されている。
【００１１】
各搬送軸８０ａ，８０ｂには複数のローラＰ１１０が設けられ、各搬送軸８０ｃには複数のローラＰ２１０が設けられ、各搬送軸８０ｄには複数のローラＰ２１１が設けられている。
【００１２】
また、搬送室３００外に設けられたモータＭ１０のシャフトは、搬送室３００の側壁を貫通して伝達機構Ｇ１に連結され、その伝達機構Ｇ１から複数の搬送軸８０ａに回転力が伝達される。同様に、搬送室３００外に設けられたモータＭ２０のシャフトは、搬送室３００の側壁を貫通して伝達機構Ｇ２に連結され、その伝達機構Ｇ２から複数の搬送軸８０ｂに回転力が伝達される。それにより、複数のローラＰ１１０が複数の搬送軸８０ａ，８０ｂとともに回転する。
【００１３】
さらに、搬送室３００外に設けられたモータＭ３０は、搬送室３００の側壁を貫通して伝達機構Ｇ３に連結され、その伝達機構Ｇ３から複数の搬送軸８０ｃに回転力が伝達される。それにより、複数のローラＰ２１０が複数の搬送軸８０ｃとともに回転する。
【００１４】
図２０に示すように、搬送軸８０ａ，８０ｂは水平面に対して傾斜した状態で設けられる。搬送軸８０ｃ，８０ｄは、固定台９０の上方に複数の支持部材９６により支持される。固定台９０は、シリンダ９５により上下方向に駆動される。
【００１５】
図１９の基板搬入口３１０から搬入された基板２００は、図２０に示すように、傾斜姿勢でローラＰ１１０により支持される。搬送室３００外に設けられたモータＭ１０，Ｍ２０により伝達機構Ｇ１，Ｇ２を介して搬送軸８０ａ，８０ｂのローラＰ１１０が回転し、基板２００がＹ方向に搬送される。
【００１６】
続いて、基板２００が所定の位置まで搬送されると、モータＭ１０，モータＭ２０は回転動作を停止する。それにより、複数のローラＰ１１０の回転が停止し、基板２００が停止する。
【００１７】
続いて、シリンダ９５により固定台９０がＺ方向に持ち上げられる。それにより、複数の支持部材９６に支持された複数の搬送軸８０ｃのローラＰ２１０および複数の搬送軸８０ｄのローラＰ２１１が、複数のローラＰ１１０よりも上方へ移動する。したがって、基板２００がローラＰ１１０から離れ、ローラＰ２１０，２１１に支持されて上方に持ち上げられる。
【００１８】
さらに、搬送軸８０ｃ，８０ｄが上方に移動した際、図１９のモータＭ３０および伝達機構Ｇ３のギア（図示せず）と搬送軸８０ｃに設けられたギア（図示せず）とが噛み合う。それにより、複数のローラＰ２１０にモータ（Ｍ３０）の回転力が伝達されてローラＰ２１０が回転する。その結果、ローラＰ２１０，Ｐ２１１に支持された基板２００が基板搬出口３２０から矢印Ｘの方向に搬出される。
【００１９】
このように、基板搬送装置８０１では、傾斜姿勢でＸ方向に搬入された基板２００を水平姿勢でＹ方向へ搬出することができる。
【００２０】
【特許文献１】
特開２０００−３１２３９号公報
【００２１】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の基板搬送装置８０１では、搬送室３００外に設けられたモータＭ１０，Ｍ２０，Ｍ３０のシャフトが搬送室３００の側壁に設けられた孔を通して搬送室３００の内部の伝達機構Ｇ１，Ｇ２，Ｇ３に連結されているため、側壁の孔から処理液を含む雰囲気が外部に漏洩する可能性がある。
【００２２】
さらに、伝達機構Ｇ１，Ｇ２，Ｇ３のギアの磨耗粉が搬送室３００内に拡散することを防止するために、伝達機構Ｇ１，Ｇ２，Ｇ３に囲い２５０を設け、基板２００と隔離する必要がある。しかし、上述したように、搬送軸８０ｃが上昇した場合に搬送軸８０ｃに駆動力を伝達することができるように伝達機構Ｇ３の囲いの下部を開放しておかねばならない。それにより、伝達機構Ｇ３のギアが噛み合うことにより生じる磨耗粉がその開放部より拡散して基板２００の表面に付着する場合がある。さらに、伝達機構Ｇ３のギアが噛み合うことにより振動が生じる場合がある。これらの結果、基板２００の均一な処理が妨げられる。
【００２３】
また、上述した伝達機構Ｇ１，Ｇ２，Ｇ３のギアのために潤滑剤を収納する収容部２６０（バット）を搬送室３００内に設けることが必要となる。さらに、その収容部２６０内に潤滑剤を供給する必要もある。伝達機構Ｇ３の駆動時に潤滑剤を供給することは困難である。それにより、搬送室３００内の構造が複雑化すると共に部品点数が増加し、基板搬送装置８０１の省スペース化および低コスト化を阻害する要因となっていた。
【００２４】
本発明の目的は、雰囲気の漏洩を防止することができ、基板の均一な処理を妨げることなく簡単な構造で基板の姿勢を変更することができかつ省スペース化および低コスト化が可能な基板搬送装置を提供することである。
【００２５】
【課題を解決するための手段および発明の効果】
（第１の発明）
第１の発明に係る基板搬送装置は、基板を搬送する基板搬送装置であって、壁部を有する搬送室と、搬送室内に回転可能に設けられ、基板を支持する第１のローラ部材と、第１のローラ部材を移動または傾斜させることにより第１のローラ部材を第１の状態および第２の状態に変更する状態変更手段と、搬送室外に設けられ、回転力を発生する回転駆動手段と、回転駆動手段により発生された回転力を磁力により第１のローラ部材に伝達する伝達手段とを備え、伝達手段は、搬送室外において壁部に対向するように配置され、回転駆動手段により発生された回転力により回転する第１の伝達部材と、搬送室内において第１のローラ部材とともに回転可能に設けられた第２の伝達部材とを含み、第１のローラ部材が第１の状態にある場合に第１の伝達部材と第２の伝達部材との間で回転力が伝達する第１の位置に第２の伝達部材があり、第１のローラ部材が第２の状態にある場合に第１の伝達部材と第２の伝達部材との間で回転力が伝達しない第２の位置に第２の伝達部材があるものである。
【００２６】
第１の発明に係る基板搬送装置において、第１のローラ部材が第１の状態にある場合に、第２の伝達部材が第１の位置にあり、第１の伝達部材と第２の伝達部材との間で回転駆動手段により発生された回転力が伝達される。また、第１のローラ部材が第２の状態にある場合に第２の伝達部材が第２の位置にあり、第１の伝達部材と第２の伝達部材との間で回転駆動手段により発生された回転力が伝達されない。
【００２７】
この場合、回転駆動手段の回転力を第１の伝達部材および第２の伝達部材に伝達するために側壁に孔を設ける必要がないので、処理液を含む雰囲気が搬送室の外部に漏洩することが防止される。
【００２８】
また、回転駆動手段および第１の伝達部材が搬送室外に設けられているため、回転駆動手段および第１の伝達部材から発生する磨耗粉が基板に付着することが防止される。さらに、第１の伝達部材および第２の伝達部材の振動も生じない。
また、第１の伝達部材と第２の伝達部材との間に潤滑剤を供給する必要がない。
したがって、基板の均一な処理が妨げられない。
【００２９】
さらに、回転駆動手段および第１の伝達部材が搬送室外に設けられているので、潤滑剤を収納する収容器を搬送室内に設ける必要がなく、搬送室内への潤滑剤の補給も必要としない。そのため、部品点数を削減できるとともに搬送室内の構造を単純化できる。したがって、簡単な構造で基板の姿勢を変更することができかつ基板搬送装置の小型化および省スペース化を実現することができる。
【００３０】
（第２の発明）
第２の発明に係る基板搬送装置は、第１の発明に係る基板搬送装置の構成において、第２の伝達部材は、第１の位置で壁部を介して第１の伝達部材に対向し、第２の位置で第１の位置に比べて第１の伝達部材から離れるものである。
【００３１】
この場合、第２の伝達部材は、第１の位置で壁部を介して第１の伝達部材に対向することにより、回転駆動手段により発生された回転力が伝達される。また、第２の位置で第１の位置に比べて第１の伝達部材から離れることにより、回転駆動手段により発生された回転力が伝達されない。
【００３２】
（第３の発明）
第３の発明に係る基板搬送装置は、第１または第２の発明に係る基板搬送装置の構成において、搬送室内に回転可能に設けられ、基板を支持する第２のローラ部材をさらに備え、第１のローラ部材が第１の状態にある場合に基板が第１のローラ部材上に支持され、第１のローラ部材が第２の状態にある場合に基板が第２のローラ上に支持されるように第１のローラ部材および第２のローラ部材が設けられたものである。
【００３３】
この場合、第１のローラ部材が第１の状態にある場合に基板が第１のローラ部材上に支持され、第１のローラ部材が第２の状態にある場合に基板が第２のローラ上に支持される。それにより、第１のローラ部材から第２のローラ部材に容易に基板を受け渡すことができる。
【００３４】
（第４の発明）
第４の発明に係る基板搬送装置は、第３の発明に係る基板搬送装置の構成において、第１の状態は第１のローラ部材が水平面に対して第１の角度をなす状態であり、第２の状態は第１のローラ部材が水平面に対して第１の角度と異なる第２の角度をなす状態であるものである。
【００３５】
この場合、第１の状態では、第１のローラ部材が水平面に対して第１の角度をなし、基板が第１のローラ部材により支持される。このとき、第２の伝達部材は、第１の位置で壁部を介して第１の伝達部材に対向するので、回転駆動手段により発生された回転力が第１のローラ部材に伝達され、第１のローラ部材により基板が搬送される。
【００３６】
一方、第２の状態では、複数の第１のローラ部材が水平面に対して第２の角度をなし、基板が第２のローラ部材により支持される。このとき、第２の伝達部材は、第２の位置で第１の位置に比べて第１の伝達部材から離れるので、回転駆動手段により発生された回転力が第１のローラ部材に伝達されない。
【００３７】
（第５の発明）
第５の発明に係る基板搬送装置は、第３または第４の発明に係る基板搬送装置の構成において、第１のローラ部材と第２のローラ部材とは、互いに交差するように設けられたものである。
【００３８】
この場合、第１のローラ部材と第２のローラ部材とは、互いに交差するように設けられているため、搬送方向を変更しつつ第１のローラから第２のローラに基板を受け渡すことができる。
【００３９】
（第６の発明）
第６の発明に係る基板搬送装置は、第３または第４の発明に係る基板搬送装置の構成において、第１のローラ部材と第２のローラ部材とは、互いに略平行に設けられたものである。
【００４０】
この場合、第１のローラ部材と第２のローラ部材とは、互いに略平行に設けられているため、基板の搬送方向を維持しつつ第１のローラ部材から第２のローラ部材に基板を受け渡すことができる。
【００４１】
（第７の発明）
第７の発明に係る基板搬送装置は、第１〜第６のいずれかの発明に係る基板搬送装置の構成において、第１の伝達部材は、壁部に対向する第１の面および第１の回転軸を有するとともに、第１の回転軸を中心とする円周に沿って配置された複数の第１の磁石を内蔵し、第２の伝達部材は、壁部に対向可能な第２の面および第２の回転軸を有するとともに、第２の回転軸を中心とする円周に沿って配置された複数の第２の磁石を内蔵するものである。
【００４２】
この場合、第１の伝達部材には、第１の回転軸を中心とする円周に沿って第１の磁石が内蔵され、第２の伝達部材には、第２の回転軸を中心とする円周に沿って第２の磁石が内蔵されているため、複数の磁石の磁力により回転力を伝達することができる。その結果、確実に第１の伝達部材の回転力を第２の伝達部材に伝達することができる。
【００４３】
（第８の発明）
第８の発明に係る基板搬送装置は、第７の発明に係る基板搬送装置の構成において、複数の第１の磁石は、第１の面にＮ極およびＳ極が交互に形成されるように等ピッチで配置され、複数の第２の磁石は、第２の面にＮ極およびＳ極が交互に形成されるように複数の第１の磁石と同じピッチで配置されたものである。
【００４４】
この場合、第１の磁石と第２の磁石との間で互いに異なる極性により引き合う引力が発生し、第１の伝達部材から第２の伝達部材に効率よく回転力を伝達することができる。
【００４５】
（第９の発明）
第９の発明に係る基板搬送装置は、第７または第８の発明に係る基板搬送装置の構成において、第１の伝達部材の複数の第１の磁石は非磁性体部材に内蔵され、第２の伝達部材の複数の第２の磁石は非磁性体部材に内蔵されるものである。
この場合、第１の伝達部材および第２の伝達部材は、非磁性体部材に第１の磁石および第２の磁石を内蔵するので、第１の伝達部材の回動力が第２の伝達部材に効率よく伝達される。
【００４６】
（第１０の発明）
第１０の発明に係る基板搬送装置は、第９の発明に係る基板搬送装置の構成において、第２の伝達部材の非磁性体部材の少なくとも外周面は、樹脂からなるものである。この場合、処理液による第２の伝達部材の腐食が防止される。
【００４７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
【００４８】
（第１の実施の形態）
図１は、本発明の第１の実施の形態に係る基板搬送装置を備えた基板処理装置を示す模式的平面図である。
【００４９】
図１に示す基板処理装置５００は、液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用ガラス基板、半導体ウエハ等の基板を処理する装置である。
【００５０】
基板処理装置５００は、インデクサ部６０、コンベア６１，６９、紫外線（ＵＶ）照射部６２、薬液処理部６３，６４、一次水洗部６５、二次水洗部６６，６７、エアーナイフ部６８および基板搬送装置１００，１０１から構成される。
【００５１】
図１の基板処理装置５００では、互いに平行な搬送路１５４および搬送路１５６並びにこれらを結合する反転経路１５５が形成されている。搬送路１５４，１５６と反転経路１５５とはほぼ直交している。
【００５２】
基板処理装置５００の搬送路１５４には、コンベア６１、紫外線（ＵＶ）照射部６２、薬液処理部６３，６４が順に設けられている。基板処理装置５００の反転経路１５５には、基板搬送装置１００、一次水洗部６５および基板搬送装置１０１が順に設けられている。基板搬送装置５００の搬送路１５６には、二次水洗部６６，６７、エアーナイフ部６８およびコンベア６９が順に設けられている。
【００５３】
まず、基板処理装置５００のインデクサ部６０に、複数の基板２００が収納されたカセットＣが搬入される。カセットＣ内に収納された基板２００は、搬送装置（図示せず）により１枚ずつ取り出され、コンベア６１に搬入される。ここで、搬送路１５４では、基板処理の均一化のために基板２００が水平面から所定の角度だけ傾斜した姿勢で処理される。
【００５４】
コンベア６１への搬入時に基板２００の姿勢が水平姿勢から所定の角度だけ傾斜した姿勢（以下、傾斜姿勢と呼ぶ。）に変更される。傾斜姿勢の基板２００がコンベア６１により紫外線（ＵＶ）照射部６２に搬送される。紫外線（ＵＶ）照射部６２において、基板２００に紫外線が照射される。その結果、基板２００の表面に付着した有機物および油分が分解され、基板２００の塗れ性が向上する。
その後、薬液処理部６３，６４において基板２００にエッチング等の薬液の処理が施される。
【００５５】
続いて、搬送路１５５において基板２００に一次水洗処理が行われる。基板搬送装置１００においては、基板２００の搬送方向を変更するとともに傾斜姿勢で搬送されてきた基板２００を水平姿勢に変更させる。そして、基板２００は一次水洗部６５に搬送される。一次水洗部６５において、水平姿勢で基板２００の表面に水洗処理が行われる。一次水洗処理は、基板２００の表面が乾燥して、不純物が析出して固着することを防止するために行う。したがって、本実施の形態における基板搬送装置１００，１０１においても、基板２００を搬送するとともに上方から基板２００に対して純水が噴射される。
【００５６】
次に、基板２００は基板搬送装置１０１に搬送される。本実施の形態においては、搬送路１５６において基板２００が傾斜姿勢で処理される。したがって、基板搬送装置１０１においては、基板２００の搬送方向を変更するとともに水平姿勢で搬送されてきた基板２００を傾斜姿勢に変更させる。そして、基板２００は二次水洗部６６，６７に搬送される。
【００５７】
次いで、二次水洗部６６，６７において基板２００の表面が純水で洗浄される。さらに、エアーナイフ部６８に基板２００が搬送される。エアーナイフ部６８において基板２００にカーテン状の空気が噴射される。その後、基板２００がコンベア６９により搬送され、搬送装置（図示せず）により基板２００がカセットＣ内に収納される。処理済の複数の基板２００を収納するＣは、インデクサ部６０から搬出される。
【００５８】
次に、基板搬送装置１００，１０１の詳細について説明する。なお、基板搬送装置１００と基板搬送装置１０１とは、ほぼ同一構造を有する。以下、基板搬送装置１００について説明する。
【００５９】
図２は、基板搬送装置１００の横断面図である。図２において、水平面内で直交する２方向をＸ方向およびＹ方向とし、鉛直方向をＺ方向とする。
【００６０】
図２に示す基板搬送装置１００は、搬送室３０を有する。搬送室３０は、Ｙ方向に平行な一対の側壁３０ａ，３０ｃおよびＸ方向に平行な一対の側壁３０ｂ，３０ｄにより形成される。搬送室３０の側壁３０ａには基板搬入口３３が設けられ、搬送室３０の側壁３０ｂには基板搬出口３４が設けられる。
【００６１】
基板搬送装置１００は、基板搬入口３３から搬送室３０内にＸ方向に搬入された基板２００の方向を変更して基板搬出口３４からＹ方向に基板２００を搬出する。
【００６２】
搬送室３０内において、複数の搬送軸１０がＹ方向に沿って配置され、複数の搬送軸２０がＸ方向に沿って配置されている。搬送軸１０の各々には、複数の小型搬送ローラ１１がほぼ等間隔で設けられている。搬送軸２０の各々には、複数の大型搬送ローラ２１が等間隔で設けられている。
【００６３】
複数の搬送軸１０の一端近傍は、支持部材１２ａにより回転可能に支持され、複数の搬送軸１０の他端近傍は、支持部材１５ａにより回転可能に支持され、複数の搬送軸１０の一端には、マグネット円板８ａがそれぞれ取り付けられている。
【００６４】
複数の搬送軸２０の一端近傍は、支持部材１２ｂにより回転可能に支持され、複数の搬送軸２０の他端近傍は、支持部材１５ｂにより回転可能に支持され、複数の搬送軸２０の一端には、マグネット円板８ｂがそれぞれ取り付けられている。
【００６５】
搬送室３０の側壁３０ｄと周壁３１とで囲まれた空間には、複数の搬送軸１０を回転駆動するためのモータＭ１、ベルトＢ１および複数のマグネット円板７ａが設けられている。各マグネット円板７ａは、側壁３０ｄを介してマグネット円板８ａに対向するように配置されている。モータＭ１のシャフトと複数のマグネット円板７ａとの間にベルトＢ１が架け渡されており、モータＭ１のシャフトが回転することにより、複数のマグネット円板７ａが同一方向に回転する。
【００６６】
マグネット円板７ａが回転することによりマグネット円板８ａが回転する。それにより、搬送軸１０が、小型搬送ローラ１１とともに回転する。その結果、小型搬送ローラ１１上に支持された基板２００をＸ方向に搬送することが可能となる。マグネット円板７ａおよびマグネット円板８ａの構造の詳細については後述する。
【００６７】
搬送室３０の側壁３０ｃと周壁３２とで囲まれた空間には、複数の搬送軸２０を回転駆動するためのモータＭ２、ベルトＢ２および複数のマグネット円板７ｂが設けられている。各マグネット円板７ｂは、側壁３０ｃを介してマグネット円板８ｂに対向するように配置されている。モータＭ２のシャフトと複数のマグネット円板７ｂとの間にベルトＢ２が架け渡されており、モータＭ２のシャフトが回転することにより、複数のマグネット円板７ｂが同一方向に回転する。
【００６８】
マグネット円板７ｂが回転することによりマグネット円板８ｂが回転する。それにより、搬送軸２０が、大型搬送ローラ２１とともに回転する。その結果、大型搬送ローラ２１上に支持された基板２００をＹ方向に搬送することが可能となる。マグネット円板７ｂおよびマグネット円板８ｂの構造の詳細については後述する。
【００６９】
図３および図４は、図２の基板搬送装置１００のＡ−Ａ線断面図である。図３は、基板２００を傾斜姿勢で支持した状態を示し、図４は基板２００を水平姿勢で支持した状態を示す。
【００７０】
搬送軸１０の一端近傍が、支持部材１２ａにより支持台１３の上方に回転可能に支持される。搬送軸１０の他端が支持部材１５ａにより支持台１３の上方に回転可能に支持されている。
【００７１】
また、支持台１３の一端は、支持軸１３Ａにより回動可能に支持されている。
支持台１３の他端は、シリンダ１６により上下動可能に支持されている。このシリンダ１６のピストン１６ａの先端が、支持台１３の下面に取り付けられている。
【００７２】
図３に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が増加した場合、支持台１３が支持軸１３Ａを中心として矢印Ｒ１０の方向に回動する。それにより、搬送軸１０が傾斜状態となる。この状態で、搬送軸１０の小型搬送ローラ１１の頂部が、搬送軸２０の大型搬送ローラ２１の頂部よりも上方に位置する。したがって、基板２００が小型搬送ローラ１１により傾斜姿勢で支持される。
【００７３】
また、図３に示すように、搬送室３０の側壁３０ｄの一部には、鉛直方向からやや傾斜した傾斜壁３０ｅが設けられている。マグネット円板８ａは、傾斜壁３０ｅの内面に平行に対向する。また、マグネット円板７ａは、傾斜壁３０ｅの外面に平行に対向するように、軸７６ａに取り付けられている。それにより、マグネット円板８ａが傾斜壁３０ｅを介してマグネット円板７ａに対向する。したがって、ベルトＢ１によりマグネット円板７ａが軸７６ａとともに回転すると、マグネット円板７ａとマグネット円板８ａとの間に働く磁力によりマグネット８ａが搬送軸１０とともに回転する。
【００７４】
図４に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が減少した場合、支持台１３が軸１３Ａを中心として矢印Ｒ１１の方向に回動する。それにより、搬送軸１０が水平姿勢となる。この状態では、基板２００の大型搬送ローラ２１の頂部が、搬送軸１０の小型搬送ローラ１１の頂部よりも上方に位置する。したがって、基板２００が大型搬送ローラ２１により水平姿勢で支持される。
【００７５】
この場合、搬送軸１０の一端に設けられたマグネット円板８ａが傾斜壁３０ｅから離れる方向へ移動する。それにより、マグネット円板７ａとマグネット円板８ａとの間の距離が大きくなり、マグネット円板７ａとマグネット円板８ａとの間に磁力が働かなくなる。したがって、ベルトＢ１によりマグネット円板７ａが回転した場合でも、マグネット円板８ａは回転しない。その結果、搬送軸１０および小型搬送ローラ１１が回転しない。
【００７６】
図５は、図２の基板搬送装置１００のＢ−Ｂ線断面図である。
搬送軸２０の一端近傍が支持部材１２ｂにより支持台１３Ｂの上方に回転可能に支持され、搬送軸２０の他端近傍が支持部材１５ｂにより支持台１３Ｂの上方に回転可能に支持されている。支持台１３Ｂは側壁３０ａ，３０ｃに水平状態で固定されている。それにより、搬送軸２０ｂは水平状態となっている。
【００７７】
マグネット円板８ｂは側壁３０ｃの内面に平行に対向する。また、マグネット円板７ｂは側壁３０ｃの外面に平行に対向するように軸７６ｂに取り付けられている。それにより、マグネット円板８ｂが側壁３０ｃを介してマグネット円板７ｂに平行に対向する。したがって、ベルトＢ２によってマグネット円板７ｂが軸７６ｂとともに回転すると、マグネット円板７ｂとマグネット円板８ｂとの間に働く磁力によりマグネット円板８ｂが搬送軸２０ｂとともに回転する。
【００７８】
次に、マグネット円板７ａおよびマグネット円板８ａの構成について図６に基づき説明する。図６は、マグネット円板の内部構造を示す図である。図６（ａ）は、マグネット円板の横断面図、図６（ｂ）は図６（ａ）のマグネット円板のＤ−Ｄ線断面図、図６（ｃ）は傾斜壁３０ｅを挟んで対向するマグネット円板の側面図である。
【００７９】
図６（ａ），（ｂ）に示すようにマグネット円板７ａの内部には、一面側にＳ極を有し他面側にＮ極を有する磁石７１と、一面側にＮ極を有し他面側にＳ極を有する磁石７２とが交互に円形に設けられている。マグネット円板８ａの構造はマグネット円板７ａの構造と同様である。
【００８０】
また、図６（ｂ）に示すように、マグネット円板７ａは、ボルト７７ａにより回転軸１０の端面に固定されている。
【００８１】
本発明の実施の形態において、マグネット円板７ａは、非磁性体で形成される。例えば、ＰＴＦＥ（四フッ化エチレン），ＰＣＴＦＥ（三フッ化エチレン）等のフッ素樹脂、ＰＣＶ（ポリ塩化ビニル）等の樹脂またはチタン、アルミニウム、ステンレス等の非磁性体の金属若しくは合金を用いることができる。また、上記の非磁性体の金属および合金は例示であって、これに限定されるものではなく、他の非磁性体を用いることもできる。
【００８２】
図６（ｃ）に示すように、傾斜壁３０ｅの一面にマグネット円板７ａが対向し、傾斜壁３０ｅの他面にマグネット円板８ａが対向する。
【００８３】
この場合、図２のモータＭ１による回転運動が、ベルトＢ１を介して軸７６ａに伝達され、マグネット円板７ａが回転する。マグネット円板７ａの内部の磁石７１とマグネット円板８ａの内部の磁石８２とが磁石により引き合い、マグネット円板７ａの内部の磁石７２とマグネット円板８ａの内部の磁石８１とが磁石により引き合う。それにより、マグネット円板８ａが搬送軸１０とともに回転する。
【００８４】
なお、傾斜壁３０ｅのマグネット円板７ａとマグネット円板８ａとで挟まれた部分は、マグネット円板７ａとマグネット円板８ａとの間の磁力を強く作用させるために、他の部分の側壁３０ｄよりも厚みが薄くなっている。
【００８５】
次に、マグネット円板７ａとマグネット円板８ａとの間の回転力の伝達および遮断について説明する。
【００８６】
図７（ａ）はマグネット円板７ａの回転力がマグネット円板８ａに伝達される状態を示す図であり、図７（ｂ）はマグネット円板７ａの回転力がマグネット円板８ａに伝達されない状態を示す図である。
【００８７】
図３に示したように、搬送軸１０が傾斜した状態では、図７（ａ）に示すように、マグネット円板７ａとマグネット円板８ａとの間の距離が、マグネット円板７ａの磁石７１とマグネット円板８ａの磁石８２との間に引力が働く限界の距離およびマグネット円板７ａの磁石７２とマグネット円板８ａの磁石８１との間に引力が働く限界の距離よりも短いため、マグネット円板７ａの回転力がマグネット円板８ａに確実に伝達される。
【００８８】
図４に示したように、搬送軸１０が水平の状態では、マグネット円板７ａとマグネット円板８ａとの間の距離が、マグネット円板７ａの磁石７１とマグネット円板８ａの磁石８２との間に引力が働く限界の距離およびマグネット円板７ａの磁石７２とマグネット円板８ａの磁石８１との間に引力が働く限界の距離よりも長くなるため、マグネット円板７ａの回転力がマグネット円板８ａに伝達されない。
【００８９】
このように、本発明に係る実施の形態においては、従来の基板搬送装置と異なり、モータＭ１，Ｍ２およびベルトＢ１，Ｂ２とともに、傾斜姿勢から水平姿勢への変更をする必要がなく、構造が簡単にでき、省スペース化および低コスト化を実現することができる。
【００９０】
図８は、図２〜図５の基板搬送装置１００の動作を説明するための斜視図である。
【００９１】
図８（ａ）は搬送軸１０が傾斜した状態を示し、図８（ｂ）は搬送軸１０の傾斜途中の状態を示し、図８（ｃ）は搬送軸１０が水平になった状態を示す。
【００９２】
図８（ａ）に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が最大の場合、複数の搬送軸１０は、Ｘ−Ｙ平面（水平面）より角度θの傾斜した状態で支持される。この場合、複数の搬送軸１０が回転することにより基板２００が搬送軸１０の小型搬送ローラ１１によりＸ方向に搬入される。なお、図８においては、小型搬送ローラ１１の図示を省略している。
【００９３】
基板２００が所定の位置まで搬送されると、図８（ｂ）に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が徐々に減少し、複数の搬送軸１０が角度θ傾斜した状態からＸ−Ｙ平面に平行な状態へ移行する。
【００９４】
図８（ｃ）に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が最小になると、複数の搬送軸１０がＸ−Ｙ平面に平行な状態になる。それにより、搬送軸１０の小型搬送ローラ１１の外周面の頂部が、大型搬送ローラ２１の外周面の頂部よりも下方に位置する。その結果、搬送軸１０の小型搬送ローラ１１により支持されていた基板２００が、大型搬送ローラ２１により支持される。したがって、大型搬送ローラ２１が回転することにより基板２００がＹ方向に搬出される。
【００９５】
本実施の形態に係る基板搬送装置１０１では、モータＭ１，Ｍ２の回転力を搬送軸１０，２０に伝達するために側壁３０ａ〜３０ｄに孔を設ける必要がないので、処理液を含む雰囲気が搬送室３０の外部に漏洩することが防止される。
【００９６】
また、本実施の形態に係る基板搬送装置１００においては、モータＭ１，Ｍ２の回転力を搬送軸１０，２０に伝達するための伝達機構が搬送室３０外に設けられているため、伝達機構から発生する磨耗粉が基板２００に付着することが防止される。さらに、基板搬送装置１００により基板２００の姿勢が変更される際に、マグネット円板７ａ，７ｂ，８ａ，８ｂによる振動も生じない。したがって、基板２００の均一な処理が妨げられない。
【００９７】
さらに、モータＭ１，Ｍ２の回転力を搬送軸１０，２０に伝達するための伝達機構が搬送室３０外に設けられているので、潤滑剤を収納する収容器を搬送室３０内に設ける必要がなく、搬送室３０内への潤滑剤の補給も必要としない。そのため、部品点数を削減できるとともに搬送室３０内の構造を単純化できる。したがって、基板搬送装置１０１の小型化および省スペース化を実現することができる。
【００９８】
また、傾斜姿勢において基板２００の全域が小型搬送ローラ１１により支持され、水平姿勢において基板２００の全域が大型搬送ローラ２１により支持される。それにより、基板２００に自重による撓みが発生することが防止されるとともに、基板２００に部分的に過度な負荷が加えられることが防止される。
【００９９】
また、全ての小型搬送ローラ１１および大型搬送ローラ２１に回転力が伝達されるので、基板２００の搬送不良を防止することができる。したがって、基板２００を変形および破損させることなく所定の角度のθの傾斜姿勢から水平姿勢に変更させるとともに基板２００の搬送方向をＸ方向からＹ方向に方向転換させることができる。
【０１００】
本実施の形態に係る基板搬送装置１００では、基板２００に部分的に過度の負荷を加えることなく、基板２００の搬送方向をＸ方向からＹ方向に方向転換させることができる。
【０１０１】
本実施の形態においては、側壁３０ａ〜３０ｄが壁部に相当し、小型搬送ローラ１１が第１のローラ部材に相当し、大型搬送ローラ２１が第２のローラ部材に相当し、シリンダ１６およびピストン１６ａが状態変更手段に相当し、モータＭ１，Ｍ２およびベルトＢ１，Ｂ２が回転駆動手段に相当し、マグネット円板７ａ，７ｂ，８ａ，８ｂが伝達手段に相当し、マグネット円板７ａ，７ｂが第１の伝達部材に相当し、マグネット円板８ａ，８ｂが第２の伝達部材に相当し、磁石７１，８１と磁石７２，８２とが、複数の第１の磁石および複数の第２の磁石に相当する。
【０１０２】
（第２の実施の形態）
第２の実施の形態に係る基板搬送装置は、水平姿勢搬入された基板の搬送方向を変更するとともに水平姿勢で基板を搬出する。以下、第２の実施の形態に係る基板処理装置の基板搬送装置１００ａについて説明する。
【０１０３】
図９は、基板搬送装置１００ａの横断面図である。図９において、水平面内で直交する２方向をＸ方向およびＹ方向とし、鉛直方向をＺ方向とする。
【０１０４】
図９に示す基板搬送装置１００ａは、搬送室３０を有する。搬送室３０は、Ｙ方向に平行な一対の側壁３０ａ，３０ｃおよびＸ方向に平行な一対の側壁３０ｂ，３０ｄにより形成される。搬送室３０の側壁３０ａには基板搬入口３３が設けられ、搬送室３０の側壁３０ｂには基板搬出口３４が設けられる。
【０１０５】
基板搬送装置１００ａは、基板搬入口３３から搬送室３０内にＸ方向に搬入された基板２００の方向を変更して基板搬出口３４からＹ方向に基板２００を搬出する。
【０１０６】
搬送室３０内において、複数の搬送軸１０がＹ方向に沿って配置され、複数の搬送軸２０がＸ方向に沿って配置されている。搬送軸１０の各々には、複数の小型搬送ローラ１１がほぼ等間隔で設けられている。搬送軸２０の各々には、複数の大型搬送ローラ２１が等間隔で設けられている。
【０１０７】
複数の搬送軸１０の一端は、側壁３０ｄに回転可能に支持され、複数の搬送軸１０の他端は、側壁３０ｂに回転可能に支持され、複数の搬送軸１０の一端には、マグネット円板８ａがそれぞれ取り付けられている。
【０１０８】
複数の搬送軸２０の一端近傍は、支持部材１２ｃにより回転可能に支持され、複数の搬送軸２０の他端近傍は、支持部材１５ｃにより回転可能に支持され、支持部材１２ｃおよび支持部材１５ｃは、支持部材１２ｄおよび支持部材１５ｄにより支持される。複数の搬送軸２０の一端には、マグネット円板８ｂがそれぞれ取り付けられている。
【０１０９】
搬送室３０の側壁３０ｄと周壁３１とで囲まれた空間には、複数の搬送軸１０を回転駆動するためのモータＭ１、ベルトＢ１および複数のマグネット円板７ａが設けられている。各マグネット円板７ａは、側壁３０ｄを介してマグネット円板８ａに対向するように配置されている。モータＭ１のシャフトと複数のマグネット円板７ａとの間にベルトＢ１が架け渡されており、モータＭ１のシャフトが回転することにより、複数のマグネット円板７ａが同一方向に回転する。
【０１１０】
マグネット円板７ａが回転することによりマグネット円板８ａが回転する。それにより、搬送軸１０が、小型搬送ローラ１１とともに回転する。その結果、小型搬送ローラ１１上に支持された基板２００をＸ方向に搬送することが可能となる。
【０１１１】
搬送室３０の側壁３０ｃと周壁３２とで囲まれた空間には、複数の搬送軸２０を回転駆動するためのモータＭ２、ベルトＢ２および複数のマグネット円板７ｂが設けられている。各マグネット円板７ｂは、側壁３０ｃを介してマグネット円板８ｂに対向するように配置されている。モータＭ２のシャフトと複数のマグネット円板７ｂとの間にベルトＢ２が架け渡されており、モータＭ２のシャフトが回転することにより、複数のマグネット円板７ｂが同一方向に回転する。
【０１１２】
マグネット円板７ｂが回転することによりマグネット円板８ｂが回転する。それにより、搬送軸２０が、大型搬送ローラ２１とともに回転する。その結果、大型搬送ローラ２１上に支持された基板２００をＹ方向に搬送することが可能となる。
【０１１３】
図１０および図１１は、図９の基板搬送装置１００ａのＣ−Ｃ線断面図である。図１０は基板２００が小型搬送ローラ１１により支持された状態を示し、図１１は基板２００が大型搬送ローラ２１により支持された状態を示す。
【０１１４】
搬送軸２０は、支持部材１５ｃにより支持されている。支持部材１５ｃの一端近傍が、支持部材１２ｄにより支持台１３の上方に回転可能に支持される。支持部材１５ｃの他端が支持部材１５ｄにより支持台１３の上方に回転可能に支持されている。
【０１１５】
また、支持台１３の一端は、支持軸１３Ａにより回動可能に支持されている。支持台１３の他端は、シリンダ１６により上下動可能に支持されている。このシリンダ１６のピストン１６ａの先端が、支持台１３の下面に取り付けられている。
【０１１６】
図１０に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が減少した場合、支持台１３が支持軸１３Ａを中心として矢印Ｒ１１の方向に回動する。それにより、支持部材１５ｃが傾斜状態となる。この状態で、搬送軸１０の小型搬送ローラ１１の頂部が、搬送軸２０の大型搬送ローラ２１の頂部よりも上方に位置する。したがって、基板２００が小型搬送ローラ１１により水平姿勢で支持される。
【０１１７】
また、図１０に示すように、マグネット円板８ａは、搬送室３０の側壁３０ｄの内面に平行に対向する。また、マグネット円板７ａは、側壁３０ｄの外面に平行に対向するように、軸７６ａに取り付けられている。それにより、マグネット円板８ａが側壁３０ｄを介してマグネット円板７ａに対向する。したがって、ベルトＢ１によりマグネット円板７ａが軸７６ａとともに回転すると、マグネット円板７ａとマグネット円板８ａとの間に働く磁石によりマグネット円板８ａが搬送軸１０とともに回転する。
【０１１８】
図１１に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が増加した場合、支持台１３が軸１３Ａを中心として矢印Ｒ１０の方向に回動する。それにより、支持部材１５ｃが水平姿勢となる。この状態では、基板２００の大型搬送ローラ２１の頂部が、搬送軸１０の小型搬送ローラ１１の頂部よりも上方に位置する。したがって、基板２００が大型搬送ローラ２１により水平姿勢で支持される。
【０１１９】
図１２および図１３は、図９の基板搬送装置１００ａのＤ−Ｄ線断面図である。図１２は基板２００が小型搬送ローラ１１により支持された状態を示し、図１３は基板２００が大型搬送ローラ２１により支持された状態を示す。
【０１２０】
搬送軸２０の一端近傍が支持部材１２ｃにより支持台１３Ｂの上方に回転可能に支持され、搬送軸２０の他端近傍が支持部材１５ｃにより支持台１３Ｂの上方に回転可能に支持されている。支持台１３Ｂの下方にシリンダ１６が設けられている。
【０１２１】
マグネット円板８ｂは側壁３０ｃの内面に平行に対向する。また、マグネット円板７ｂは側壁３０ｃの外面に平行に対向するように軸７６ｂに取り付けられている。
【０１２２】
図１２に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が減少した場合、マグネット円板７ｂとマグネット円板８ｂとの間の距離が大きくなり、マグネット円板７ｂとマグネット円板８ｂとの間に磁力が働かなくなる。したがって、ベルトＢ２によりマグネット円板７ｂが回転した場合でも、マグネット円板８ｂは回転しない。その結果、搬送軸２０および大型搬送ローラ２１が回転しない。
【０１２３】
一方、図１３に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が増加した場合、マグネット円板８ｂが側壁３０ｃを介してマグネット円板７ｂに平行に対向する。したがって、ベルトＢ２によってマグネット円板７ｂが軸７６ｂとともに回転すると、マグネット円板７ｂとマグネット円板８ｂとの間に働く磁力によりマグネット円板８ｂが搬送軸２０ｂおよび大型搬送ローラ２１とともに回転する。
【０１２４】
本実施の形態に係るマグネット円板７ａ、７ｂ，８ａ，８ｂの内部構造については、第１の実施の形態に係るマグネット円板７ａ，７ｂ，８ａ，８ｂと同様である。
【０１２５】
次に、本実施の形態に係る基板搬送装置１００ａのマグネット円板７ｂとマグネット円板８ｂとの間の回転力の伝達および遮断について説明する。
【０１２６】
図１４（ａ）はマグネット円板７ｂの回転力がマグネット円板８ｂに伝達される状態を示す図であり、図１４（ｂ）はマグネット円板７ｂの回転力がマグネット円板８ｂに伝達されない状態を示す図である。
【０１２７】
図１０および図１２に示したように、支持部材１５ｃが傾斜した状態では、図１４（ａ）に示すように、マグネット円板７ｂとマグネット円板８ｂとが上下方向にずれて配置されている。したがって、マグネット円板７ｂとマグネット円板８ｂとの間の距離が、マグネット円板７ｂの磁石７１とマグネット円板８ｂの磁石８２との間に引力が働く限界の距離およびマグネット円板７ｂの磁石７２とマグネット円板８ｂの磁石８１との間に引力が働く限界の距離よりも長くなるため、マグネット円板７ｂの回転力がマグネット円板８ｂに伝達されない。
【０１２８】
図１１および図１３に示したように、支持部材１５ｃが水平の状態では、図１４（ｂ）に示すように、マグネット円板７ｂとマグネット円板８ｂとが対向可能な位置に配置されている。したがって、マグネット円板７ｂとマグネット円板８ｂとの間の距離が、マグネット円板７ｂの磁石７１とマグネット円板８ｂの磁石８２との間に引力が働く限界の距離およびマグネット円板７ｂの磁石７２とマグネット円板８ｂの磁石８１との間に引力が働く限界の距離よりも短くなるため、マグネット円板７ｂの回転力がマグネット円板８ｂに確実に伝達される。
【０１２９】
本実施の形態に係る基板搬送装置１００ａでは、モータＭ１，Ｍ２の回転力を搬送軸１０，２０に伝達するために側壁３０ａ〜３０ｄに孔を設ける必要がないので、処理液を含む雰囲気が搬送室３０の外部に漏洩することが防止される。
【０１３０】
また、本実施の形態に係る基板搬送装置１００ａにおいては、モータＭ１，Ｍ２の回転力を搬送軸１０，２０に伝達するための伝達機構が搬送室３０外に設けられているため、伝達機構から発生する磨耗粉が基板２００に付着することが防止される。さらに、基板搬送装置１００ａにより基板２００の姿勢が変更される際に、マグネット円板７ａ，７ｂ，８ａ，８ｂによる振動も生じない。したがって、基板２００の均一な処理が妨げられない。
【０１３１】
さらに、モータＭ１，Ｍ２の回転力を搬送軸１０，２０に伝達するための伝達機構が搬送室３０外に設けられているので、潤滑剤を収納する収容器を搬送室３０内に設ける必要がなく、搬送室３０内への潤滑剤の補給も必要としない。そのため、部品点数を削減できるとともに搬送室３０内の構造を単純化できる。したがって、基板搬送装置１００ａの小型化および省スペース化を実現することができる。
【０１３２】
また、水平姿勢において基板２００の全域が小型搬送ローラ１１または大型搬送ローラ２１により支持される。それにより、基板２００に自重による撓みが発生することが防止されるとともに、基板２００に部分的に過度な負荷が加えられることが防止される。
【０１３３】
また、全ての小型搬送ローラ１１および大型搬送ローラ２１に回転力が伝達されるので、基板２００の搬送不良を防止することができる。したがって、基板２００を変形および破損させることなく基板の搬送方向をＸ方向からＹ方向に方向転換させることができる。
【０１３４】
本実施の形態においては、側壁３０ａ〜３０ｄが壁部に相当し、小型搬送ローラ１１が第１のローラ部材に相当し、大型搬送ローラ２１が第２のローラ部材に相当し、シリンダ１６およびピストン１６ａが状態変更手段に相当し、モータＭ１，Ｍ２およびベルトＢ１，Ｂ２が回転駆動手段に相当し、マグネット円板７ａ，７ｂ，８ａ，８ｂが伝達手段に相当し、マグネット円板７ａ，７ｂが第１の伝達部材に相当し、マグネット円板８ａ，８ｂが第２の伝達部材に相当し、磁石７１，８１と磁石７２，８２とが、複数の第１の磁石および複数の第２の磁石に相当する。
【０１３５】
（第３の実施の形態）
第３の実施の形態に係る基板搬送装置は、水平姿勢で搬入された基板の姿勢を変更して傾斜姿勢で基板を搬出する。以下、第３の実施の形態に係る基板処理装置の基板搬送装置１００ｂについて説明する。
【０１３６】
図１５は、基板搬送装置１００ｂの横断面図である。図１５において、水平面内で直交する２方向をＸ方向およびＹ方向とし、鉛直方向をＺ方向とする。
【０１３７】
図１５に示す基板搬送装置１００ｂは、搬送室３０を有する。搬送室３０は、Ｙ方向に平行な一対の側壁３０ａ，３０ｃおよびＸ方向に平行な一対の側壁３０ｂ，３０ｄにより形成される。搬送室３０の側壁３０ａには基板搬入口３３が設けられ、搬送室３０の側壁３０ｃには基板搬出口３４が設けられる。
【０１３８】
基板搬送装置１００ｂは、基板搬入口３３から搬送室３０内に水平姿勢で搬入された基板２００の姿勢を変更して基板搬出口３４から傾斜姿勢で基板２００を搬出する。
【０１３９】
搬送室３０内において、複数の搬送軸１０ｂがＹ方向に沿って配置され、複数の搬送軸２０ｂもＹ方向に沿って配置されている。搬送軸１０ｂの各々には、複数の搬送ローラ１１ｂがほぼ等間隔で設けられている。搬送軸２０ｂの各々には、複数の搬送ローラ２１ｂが等間隔で設けられている。
【０１４０】
複数の搬送軸１０ｂの一端近傍は、支持部材１２ｆにより回転可能に支持され、複数の搬送軸１０ｂの他端近傍は、支持部材１５ｆにより回転可能に支持され、複数の搬送軸１０ｂの一端には、マグネット円板８ａがそれぞれ取り付けられている。
【０１４１】
複数の搬送軸２０ｂの一端近傍は、支持部材１２ｇにより回転可能に支持され、複数の搬送軸２０ｂの他端近傍は、支持部材１５ｇにより回転可能に支持され、複数の搬送軸２０ｂの他端には、マグネット円板８ｂがそれぞれ取り付けられている。
【０１４２】
搬送室３０の側壁３０ｄと周壁３１とで囲まれた空間には、複数の搬送軸１０ｂを回転駆動するためのモータＭ１、ベルトＢ１および複数のマグネット円板７ａが設けられている。各マグネット円板７ａは、側壁３０ｄを介してマグネット円板８ａに対向するように配置されている。モータＭ１のシャフトと複数のマグネット円板７ａとの間にベルトＢ１が架け渡されており、モータＭ１のシャフトが回転することにより、複数のマグネット円板７ａが同一方向に回転する。
【０１４３】
マグネット円板７ａが回転することによりマグネット円板８ａが回転する。それにより、搬送軸１０ｂが、搬送ローラ１１ｂとともに回転する。その結果、搬送ローラ１１ｂ上に支持された基板２００を傾斜姿勢で搬送することが可能となる。なお、マグネット円板７ａ，８ａの構造の詳細は、第１の実施の形態に係るマグネット円板７ａ，８ａの構造と同様である。
【０１４４】
搬送室３０の側壁３０ｂと周壁３２とで囲まれた空間には、複数の搬送軸２０ｂを回転駆動するためのモータＭ２、ベルトＢ２および複数のマグネット円板７ｂが設けられている。各マグネット円板７ｂは、側壁３０ｂを介してマグネット円板８ｂに対向するように配置されている。モータＭ２のシャフトと複数のマグネット円板７ｂとの間にベルトＢ２が架け渡されており、モータＭ２のシャフトが回転することにより、複数のマグネット円板７ｂが同一方向に回転する。
【０１４５】
マグネット円板７ｂが回転することによりマグネット円板８ｂが回転する。それにより、搬送軸２０ｂが、搬送ローラ２１ｂとともに回転する。その結果、搬送ローラ２１ｂ上に支持された基板２００を水平姿勢で搬送することが可能となる。なお、マグネット円板７ｂ，８ｂの構造の詳細は、第１の実施の形態に係るマグネット円板７ｂ，８ｂの構造と同様である。
【０１４６】
図１６および図１７は、図１５の基板搬送装置１００ｂのＥ−Ｅ線断面図である。図１６は、基板２００を搬送ローラ２１ｂで支持した状態を示し、図１７は基板２００を搬送ローラ１１ｂで支持した状態を示す。
【０１４７】
搬送軸２０ｂの一端近傍が、支持部材１２ｅにより支持台１３の上方に回転可能に支持される。搬送軸２０ｂの他端が支持部材１５ｅにより支持台１３の上方に回転可能に支持されている。
【０１４８】
また、支持台１３の一端は、支持軸１３Ａにより回動可能に支持されている。支持台１３の他端は、シリンダ１６により上下動可能に支持されている。このシリンダ１６のピストン１６ａの先端が、支持台１３の下面に取り付けられている。
【０１４９】
図１６に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が減少した場合、支持台１３が支持軸１３Ａを中心として矢印Ｒ１１の方向に回動する。それにより、支持部材１２ｆが水平状態となる。この状態で、搬送軸２０ｂの搬送ローラ２１ｂの頂部が、搬送軸１０ｂの搬送ローラ１１ｂの頂部よりも上方に位置する。したがって、基板２００が搬送ローラ２１ｂにより水平姿勢で支持される。
【０１５０】
この場合、搬送軸２０ｂの一端に設けられたマグネット円板８ｂとマグネット円板７ｂとが側壁３０ｂを介して対抗し、マグネット円板７ｂとマグネット円板８ｂとの間に磁力が働く。したがって、ベルトＢ２によりマグネット円板７ｂが回転した場合、マグネット円板８ｂが回転し、搬送軸２０ｂとともに搬送ローラ２１ｂが回転する。
【０１５１】
また、図１７に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が増加した場合、支持台１３が軸１３Ａを中心として矢印Ｒ１０の方向に回動する。それにより、支持部材１２ｆが傾斜姿勢となる。この状態では、搬送軸２０ｂの搬送ローラ２１ｂの頂部が、搬送軸１０ｂの搬送ローラ１１ｂの頂部よりも下方に位置する。したがって、基板２００が搬送ローラ１１ｂにより傾斜姿勢で支持される。
【０１５２】
この場合、搬送軸１０ｂの一端に設けられたマグネット円板８ａとマグネット円板７ａとが側壁３０ｄを介して対抗し、マグネット円板７ａとマグネット円板８ａとの間に磁力が働く。したがって、ベルトＢ１によりマグネット円板７ａが回転した場合、マグネット円板８ａが回転し、搬送軸１０ｂとともに搬送ローラ１１ｂが回転する。
【０１５３】
本実施の形態に係る基板搬送装置１００ｂでは、モータＭ１，Ｍ２の回転力を搬送軸１０，２０に伝達するために側壁３０ａ〜３０ｄに孔を設ける必要がないので、処理液を含む雰囲気が搬送室３０の外部に漏洩することが防止される。
【０１５４】
また、本実施の形態に係る基板搬送装置１００ｂにおいては、モータＭ１，Ｍ２の回転力を搬送軸１０ｂ，２０ｂに伝達するための伝達機構が搬送室３０外に設けられているため、伝達機構から発生する磨耗粉が基板２００に付着することが防止される。さらに、基板搬送装置１００ｂにより基板２００の姿勢が変更される際に、マグネット円板７ａ，７ｂ，８ａ，８ｂによる振動も生じない。したがって、基板２００の均一な処理が妨げられない。
【０１５５】
さらに、モータＭ１，Ｍ２の回転力を搬送軸１０ｂ，２０ｂに伝達するための伝達機構が搬送室３０外に設けられているので、潤滑剤を収納する収容器を搬送室３０内に設ける必要がなく、搬送室３０内への潤滑剤の補給も必要としない。
そのため、部品点数を削減できるとともに搬送室３０内の構造を単純化できる。
したがって、基板搬送装置１００ｂの小型化および省スペース化を実現することができる。
【０１５６】
また、傾斜姿勢において基板２００の全域が搬送ローラ１１ｂにより支持され、水平姿勢において基板２００の全域が搬送ローラ２１ｂにより支持される。それにより、基板２００に自重による撓みが発生することが防止されるとともに、基板２００に部分的に過度な負荷が加えられることが防止される。
【０１５７】
また、全ての搬送ローラ１１ｂおよび搬送ローラ２１ｂに回転力が伝達されるので、基板２００の搬送不良を防止することができる。したがって、基板２００を変形および破損させることなく水平姿勢から所定の角度のθの傾斜姿勢に変更させることができる。
【０１５８】
なお、本実施の形態においては、支持部材１２ｆを水平面に対して支持軸１３Ａを中心として回動させることとしたが、支持部材１２ｆを上下に平行移動させてもよい。
【０１５９】
本実施の形態においては、側壁３０，３０ａ〜３０ｄが壁部に相当し、小型搬送ローラ１１が第１のローラ部材に相当し、大型搬送ローラ２１が第２のローラ部材に相当し、シリンダ１６およびピストン１６ａが状態変更手段に相当し、モータＭ１，Ｍ２およびベルトＢ１，Ｂ２が回転駆動手段に相当し、マグネット円板７ａ，７ｂ，８ａ，８ｂが伝達手段に相当し、マグネット円板７ａ，７ｂが第１の伝達部材に相当し、マグネット円板８ａ，８ｂが第２の伝達部材に相当し、磁石７１，８１と磁石７２，８２とが、複数の第１の磁石および複数の第２の磁石に相当する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る基板搬送装置を備えた基板処理装置を示す模式的平面図である。
【図２】基板搬送装置の横断面図である。
【図３】図２の基板搬送装置のＡ−Ａ線断面図である。
【図４】図２の基板搬送装置のＡ−Ａ線断面図である。
【図５】図２の基板搬送装置のＢ−Ｂ線断面図である。
【図６】マグネット円板の内部構造を示す図である。
【図７】（ａ）はマグネット円板の回転力がマグネット円板に伝達される状態を示す図であり、（ｂ）はマグネット円板の回転力がマグネット円板に伝達されない状態を示す図である。
【図８】図２〜図５の基板搬送装置の動作を説明するための斜視図である。
【図９】基板搬送装置の横断面図である。
【図１０】図９の基板搬送装置のＡ−Ａ線断面図である。
【図１１】図９の基板搬送装置のＡ−Ａ線断面図である。
【図１２】図９の基板搬送装置のＢ−Ｂ線断面図である。
【図１３】図９の基板搬送装置のＢ−Ｂ線断面図である。
【図１４】（ａ）はマグネット円板の回転力がマグネット円板に伝達される状態を示す図であり、（ｂ）はマグネット円板の回転力がマグネット円板に伝達されない状態を示す図である。
【図１５】基板搬送装置の横断面図である。
【図１６】図１５の基板搬送装置のＡ−Ａ線断面図である。
【図１７】図１５の基板搬送装置のＡ−Ａ線断面図である。
【図１８】基板処理装置の全長を短縮して省スペース化を図った基板処理装置の一例を示す図である。
【図１９】図１８の基板搬送装置の横断面図である。
【図２０】図１９の基板搬送装置のＡ−Ａ線断面図である。
【符号の説明】
７ａ，７ｂ，８ａ，８ｂマグネット円板
１０，２０搬送軸
１１小型搬送ローラ
７１，７２，８１，８２磁石
１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ，１２ｅ，１２ｆ，１２ｇ支持部材
１３支持台
１３Ａ支持軸
１５ａ，１５ｂ，１５ｃ，１５ｄ，１５ｅ，１５ｆ，１５ｇ支持部材
１６シリンダ
１６ａピストン
２１大型搬送ローラ
３０ａ，３０ｂ，３０ｃ，３０ｄ側壁
３１，３２周壁
１００，１０１基板搬送装置
２００基板
５００基板処理装置
Ｂ１，Ｂ２ベルト
Ｍ１，Ｍ２モータ[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a substrate transfer device that transfers a substrate.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art A substrate processing apparatus is used to perform various processes on substrates such as a glass substrate for a liquid crystal display device, a glass substrate for a photomask, a glass substrate for an optical disk, and a semiconductor wafer. Since such a substrate processing apparatus is mainly used in a clean room, a reduction in installation space is required.
[0003]
FIG. 18 is a diagram illustrating an example of a substrate processing apparatus in which the overall length of the substrate processing apparatus is reduced to save space (see Patent Document 1).
[0004]
In the substrate processing apparatus 900 shown in FIG. 18, a transport path 151 and a transport path 152 that are parallel to each other, and a reversing path 153 that connects these transport paths are formed.
[0005]
In the substrate processing apparatus 900, the substrates housed in the cassette C of the indexer unit 111 are taken out one by one, and are processed while being conveyed in a substantially U-shaped order of the transport path 151, the reversing path 153, and the transport path 152. Then, it is stored again in the cassette C of the indexer unit 111.
[0006]
A conveyor 112, an ultraviolet irradiation unit 113, an ozone ashing unit 114, and a brush washing unit 115 are arranged in this order on a transfer path 151 of the substrate processing apparatus 900 in FIG. 119, an air knife section 118, and a washing section 117 are arranged in this order.
[0007]
Further, on the reversing path 153 of the substrate processing apparatus 900, a substrate transport apparatus 800, a chemical solution processing unit 810 for performing chemical solution processing, and a substrate transport apparatus 801 are sequentially arranged.
In the chemical processing section 810, the processing is performed with the substrate inclined at a predetermined angle in order to uniformize the surface treatment of the substrate.
[0008]
19 is a cross-sectional view of the substrate transfer device 801 of FIG. 18, and FIG. 20 is a cross-sectional view of the substrate transfer device 801 of FIG.
[0009]
19 and 20, two directions orthogonal to each other in a horizontal plane are defined as an X direction and a Y direction, and a vertical direction is defined as a Z direction. As shown in FIG. 19, the substrate is carried in the Y direction from the substrate entrance 310 of the transfer chamber 300, and is carried out in the X direction from the substrate exit 320.
[0010]
In the transfer chamber 300 of the substrate transfer device 801 of FIG. 19, a plurality of transfer shafts 80a and a plurality of transfer shafts 80b are arranged along the X direction at a predetermined interval L10. The plurality of transport shafts 80c are arranged along the Y direction within a predetermined interval L10 between the transport shafts 80a and 80b. The plurality of transport shafts 80d are arranged between the transport shafts 80a and 80b along the Y direction.
[0011]
Each of the transport shafts 80a and 80b is provided with a plurality of rollers P110, each of the transport shafts 80c is provided with a plurality of rollers P210, and each of the transport shafts 80d is provided with a plurality of rollers P211.
[0012]
The shaft of the motor M10 provided outside the transfer chamber 300 penetrates the side wall of the transfer chamber 300 and is connected to the transmission mechanism G1, and the transmission mechanism G1 transmits the rotational force to the plurality of transfer shafts 80a. Similarly, the shaft of the motor M20 provided outside the transfer chamber 300 penetrates the side wall of the transfer chamber 300, is connected to the transmission mechanism G2, and the transmission mechanism G2 transmits the rotational force to the plurality of transfer shafts 80b. . Thereby, the plurality of rollers P110 rotate with the plurality of transport shafts 80a and 80b.
[0013]
Further, the motor M30 provided outside the transfer chamber 300 is connected to the transmission mechanism G3 through the side wall of the transfer chamber 300, and the transmission mechanism G3 transmits a rotational force to the plurality of transfer shafts 80c. Thereby, the plurality of rollers P210 rotate with the plurality of transport shafts 80c.
[0014]
As shown in FIG. 20, the transport shafts 80a and 80b are provided in a state inclined with respect to a horizontal plane. The transport shafts 80c and 80d are supported by a plurality of support members 96 above the fixed base 90. The fixed base 90 is driven in the vertical direction by a cylinder 95.
[0015]
As shown in FIG. 20, the substrate 200 carried in from the substrate entrance 310 of FIG. 19 is supported by the rollers P110 in an inclined posture. The motors M10 and M20 provided outside the transfer chamber 300 rotate the rollers P110 of the transfer shafts 80a and 80b via the transmission mechanisms G1 and G2, and the substrate 200 is transferred in the Y direction.
[0016]
Subsequently, when the substrate 200 is transported to a predetermined position, the motors M10 and M20 stop rotating. Accordingly, the rotation of the plurality of rollers P110 stops, and the substrate 200 stops.
[0017]
Subsequently, the fixed base 90 is lifted in the Z direction by the cylinder 95. Accordingly, the rollers P210 of the plurality of transport shafts 80c and the rollers P211 of the plurality of transport shafts 80d supported by the plurality of support members 96 move upward from the plurality of rollers P110. Therefore, the substrate 200 separates from the roller P110, and is lifted upward while being supported by the rollers P210 and 211.
[0018]
Further, when the transport shafts 80c and 80d move upward, the gears (not shown) of the motor M30 and the transmission mechanism G3 in FIG. 19 mesh with the gears (not shown) provided on the transport shaft 80c. Thereby, the rotational force of the motor (M30) is transmitted to the plurality of rollers P210, and the rollers P210 rotate. As a result, the substrate 200 supported by the rollers P210 and P211 is carried out in the direction of arrow X from the substrate outlet 320.
[0019]
As described above, in the substrate transfer apparatus 801, the substrate 200 loaded in the X direction in the inclined posture can be carried out in the Y direction in the horizontal posture.
[0020]
[Patent Document 1]
JP 2000-31239 A
[0021]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the conventional substrate transfer device 801, the shafts of the motors M 10, M 20, and M 30 provided outside the transfer chamber 300 have transmission mechanisms G 1, G 2, G 2 inside the transfer chamber 300 through holes provided in the side walls of the transfer chamber 300. Since it is connected to G3, the atmosphere containing the processing liquid may leak to the outside through the hole in the side wall.
[0022]
Further, in order to prevent the abrasion powder of the gears of the transmission mechanisms G1, G2, and G3 from diffusing into the transfer chamber 300, it is necessary to provide an enclosure 250 in the transmission mechanisms G1, G2, and G3 to isolate the transmission mechanism G1, G2, and G3 from the substrate 200. . However, as described above, the lower part of the enclosure of the transmission mechanism G3 must be opened so that the driving force can be transmitted to the transport shaft 80c when the transport shaft 80c is raised. As a result, wear powder generated by the gears of the transmission mechanism G3 meshing with each other may diffuse from the open portion and adhere to the surface of the substrate 200. Further, the gears of the transmission mechanism G3 may engage with each other to generate vibration. As a result, uniform processing of the substrate 200 is hindered.
[0023]
In addition, it is necessary to provide a housing section 260 (bat) for housing the lubricant for the gears of the transmission mechanisms G1, G2, and G3 in the transfer chamber 300. Further, it is necessary to supply a lubricant into the storage section 260. It is difficult to supply the lubricant when driving the transmission mechanism G3. As a result, the structure inside the transfer chamber 300 becomes complicated and the number of parts increases, which is a factor that hinders space saving and cost reduction of the substrate transfer device 801.
[0024]
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a substrate that can prevent leakage of atmosphere, can change the orientation of the substrate with a simple structure without hindering uniform processing of the substrate, and can save space and reduce costs. It is to provide a transport device.
[0025]
Means for Solving the Problems and Effects of the Invention
(First invention)
A substrate transfer device according to a first invention is a substrate transfer device that transfers a substrate, a transfer chamber having a wall portion, a first roller member rotatably provided in the transfer chamber and supporting the substrate, State changing means for changing the first roller member between the first state and the second state by moving or tilting the first roller member, and rotation driving means provided outside the transfer chamber and generating a rotational force; Transmission means for transmitting the rotational force generated by the rotation driving means to the first roller member by magnetic force, wherein the transmission means is arranged outside the transfer chamber so as to face the wall, and is generated by the rotation driving means. A first transmission member that is rotated by the applied rotational force, and a second transmission member that is rotatably provided together with the first roller member in the transfer chamber, wherein the first roller member is in the first state. First The second transmission member is located at a first position where the rotational force is transmitted between the transmission member and the second transmission member, and the first transmission member is connected to the first transmission member when the first roller member is in the second state. The second transmission member is located at a second position where the rotational force is not transmitted to the second transmission member.
[0026]
In the substrate transfer device according to the first invention, when the first roller member is in the first state, the second transmission member is at the first position, and the first transmission member and the second transmission member are provided. And the rotational force generated by the rotational drive means is transmitted. Further, when the first roller member is in the second state, the second transmission member is at the second position, and is generated by the rotation driving means between the first transmission member and the second transmission member. Torque is not transmitted.
[0027]
In this case, since it is not necessary to provide a hole in the side wall for transmitting the rotational force of the rotation driving means to the first transmission member and the second transmission member, the atmosphere containing the processing liquid may leak to the outside of the transfer chamber. Is prevented.
[0028]
In addition, since the rotation drive unit and the first transmission member are provided outside the transfer chamber, wear powder generated from the rotation drive unit and the first transmission member is prevented from adhering to the substrate. Further, the vibration of the first transmission member and the second transmission member does not occur.
Also, there is no need to supply a lubricant between the first transmission member and the second transmission member.
Therefore, uniform processing of the substrate is not hindered.
[0029]
Further, since the rotation drive means and the first transmission member are provided outside the transfer chamber, there is no need to provide a container for storing the lubricant in the transfer chamber, and it is not necessary to supply the lubricant to the transfer chamber. Therefore, the number of parts can be reduced and the structure in the transfer chamber can be simplified. Therefore, the posture of the substrate can be changed with a simple structure, and downsizing and space saving of the substrate transfer device can be realized.
[0030]
(Second invention)
The substrate transfer device according to a second invention is the substrate transfer device according to the first invention, wherein the second transmission member faces the first transmission member via the wall at the first position, The second position is farther from the first transmission member than the first position.
[0031]
In this case, the second transmission member is opposed to the first transmission member via the wall at the first position, so that the rotational force generated by the rotation driving unit is transmitted. Further, by moving away from the first transmission member at the second position as compared with the first position, the rotational force generated by the rotation driving means is not transmitted.
[0032]
(Third invention)
The substrate transport apparatus according to a third aspect of the present invention is the configuration of the substrate transport apparatus according to the first or second aspect, further comprising a second roller member rotatably provided in the transport chamber and supporting the substrate. When the one roller member is in the first state, the substrate is supported on the first roller member, and when the first roller member is in the second state, the substrate is supported on the second roller. Thus, the first roller member and the second roller member are provided.
[0033]
In this case, the substrate is supported on the first roller member when the first roller member is in the first state, and the substrate is supported on the second roller when the first roller member is in the second state. Supported by Thus, the substrate can be easily transferred from the first roller member to the second roller member.
[0034]
(Fourth invention)
In the substrate transfer device according to a fourth aspect, in the configuration of the substrate transfer device according to the third aspect, the first state is a state in which the first roller member makes a first angle with respect to a horizontal plane. The state 2 is a state where the first roller member makes a second angle different from the first angle with respect to the horizontal plane.
[0035]
In this case, in the first state, the first roller member makes a first angle with respect to the horizontal plane, and the substrate is supported by the first roller member. At this time, since the second transmission member faces the first transmission member via the wall at the first position, the rotational force generated by the rotation driving unit is transmitted to the first roller member, The substrate is transported by one roller member.
[0036]
On the other hand, in the second state, the plurality of first roller members make a second angle with respect to the horizontal plane, and the substrate is supported by the second roller members. At this time, since the second transmission member is farther away from the first transmission member at the second position than at the first position, the rotational force generated by the rotation driving means is not transmitted to the first roller member.
[0037]
(Fifth invention)
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided the substrate transfer apparatus according to the third or fourth aspect, wherein the first roller member and the second roller member are provided to intersect each other. It is.
[0038]
In this case, since the first roller member and the second roller member are provided to intersect with each other, it is possible to transfer the substrate from the first roller to the second roller while changing the transport direction. it can.
[0039]
(Sixth invention)
According to a sixth aspect of the present invention, in the substrate transfer apparatus according to the third or fourth aspect, the first roller member and the second roller member are provided substantially in parallel with each other. is there.
[0040]
In this case, since the first roller member and the second roller member are provided substantially in parallel with each other, the substrate is received from the first roller member to the second roller member while maintaining the transport direction of the substrate. Can be passed.
[0041]
(Seventh invention)
A substrate transfer device according to a seventh aspect of the present invention is the substrate transfer device according to any one of the first to sixth aspects, wherein the first transmitting member includes a first surface facing the wall and a first transfer member. A second surface having a rotation axis and including a plurality of first magnets disposed along a circumference around the first rotation axis, wherein the second transmission member is capable of facing the wall portion; And a plurality of second magnets arranged along a circumference around the second rotation axis.
[0042]
In this case, the first transmission member incorporates a first magnet along a circumference around the first rotation axis, and the second transmission member has a second magnet around the second rotation axis. Since the second magnet is built in along the circumference, the rotational force can be transmitted by the magnetic force of the plurality of magnets. As a result, the rotational force of the first transmission member can be reliably transmitted to the second transmission member.
[0043]
(Eighth invention)
According to an eighth aspect of the present invention, in the configuration of the substrate transporting apparatus according to the seventh aspect of the present invention, the plurality of first magnets are arranged such that N poles and S poles are alternately formed on the first surface. The plurality of second magnets are arranged at an equal pitch, and are arranged at the same pitch as the plurality of first magnets such that N poles and S poles are alternately formed on the second surface.
[0044]
In this case, attractive forces are generated between the first magnet and the second magnet due to mutually different polarities, and the torque can be efficiently transmitted from the first transmission member to the second transmission member.
[0045]
(Ninth invention)
According to a ninth aspect of the present invention, in the configuration of the substrate transporting apparatus according to the seventh or eighth aspect, the plurality of first magnets of the first transmission member are built in a non-magnetic member, and The plurality of second magnets of the transmitting member are built in the non-magnetic member.
In this case, since the first transmission member and the second transmission member incorporate the first magnet and the second magnet in the non-magnetic member, the rotational power of the first transmission member is transmitted to the second transmission member. It is transmitted efficiently.
[0046]
(Tenth invention)
A substrate transfer device according to a tenth aspect of the present invention is the substrate transfer device according to the ninth aspect, wherein at least the outer peripheral surface of the non-magnetic member of the second transmission member is made of resin. In this case, corrosion of the second transmission member due to the processing liquid is prevented.
[0047]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
[0048]
(First Embodiment)
FIG. 1 is a schematic plan view showing a substrate processing apparatus provided with a substrate transfer device according to a first embodiment of the present invention.
[0049]
A substrate processing apparatus 500 illustrated in FIG. 1 is an apparatus that processes a substrate such as a glass substrate for a liquid crystal display device, a glass substrate for a photomask, a glass substrate for an optical disk, and a semiconductor wafer.
[0050]
The substrate processing apparatus 500 includes an indexer section 60, conveyors 61 and 69, an ultraviolet (UV) irradiation section 62, a chemical solution processing section 63 and 64, a primary washing section 65, secondary washing sections 66 and 67, an air knife section 68, and a substrate transport. It is composed of devices 100 and 101.
[0051]
In the substrate processing apparatus 500 of FIG. 1, a transport path 154 and a transport path 156 parallel to each other and a reversing path 155 connecting these transport paths are formed. The transport paths 154 and 156 are substantially orthogonal to the reversing path 155.
[0052]
The conveyor path 154 of the substrate processing apparatus 500 is provided with a conveyor 61, an ultraviolet (UV) irradiation section 62, and chemical processing sections 63 and 64 in this order. In the reversing path 155 of the substrate processing apparatus 500, the substrate transfer device 100, the primary rinsing unit 65, and the substrate transfer device 101 are sequentially provided. In the transfer path 156 of the substrate transfer device 500, secondary washing units 66 and 67, an air knife unit 68, and a conveyor 69 are sequentially provided.
[0053]
First, the cassette C containing a plurality of substrates 200 is loaded into the indexer unit 60 of the substrate processing apparatus 500. The substrates 200 accommodated in the cassette C are taken out one by one by a transfer device (not shown) and carried into the conveyor 61. Here, in the transfer path 154, the substrate 200 is processed in a posture inclined at a predetermined angle from a horizontal plane in order to uniformize the substrate processing.
[0054]
When the substrate 200 is carried into the conveyor 61, the posture of the substrate 200 is changed from a horizontal posture to a posture inclined by a predetermined angle (hereinafter, referred to as an inclined posture). The substrate 200 in the inclined posture is transported to the ultraviolet (UV) irradiation unit 62 by the conveyor 61. In an ultraviolet (UV) irradiation section 62, the substrate 200 is irradiated with ultraviolet rays. As a result, the organic matter and oil adhering to the surface of the substrate 200 are decomposed, and the wettability of the substrate 200 is improved.
After that, the chemical processing units 63 and 64 perform chemical processing such as etching on the substrate 200.
[0055]
Subsequently, the substrate 200 is subjected to a primary rinsing process in the transport path 155. In the substrate transport apparatus 100, the transport direction of the substrate 200 is changed, and the substrate 200 transported in the inclined posture is changed to the horizontal posture. Then, the substrate 200 is transported to the primary washing section 65. In the primary washing section 65, the surface of the substrate 200 is washed with water in a horizontal posture. The primary rinsing treatment is performed to prevent the surface of the substrate 200 from drying and impurities from being deposited and fixed. Therefore, also in substrate transfer apparatuses 100 and 101 in the present embodiment, pure water is sprayed onto substrate 200 from above while transporting substrate 200.
[0056]
Next, the substrate 200 is transferred to the substrate transfer device 101. In the present embodiment, the substrate 200 is processed in the transport path 156 in an inclined posture. Therefore, in the substrate transport apparatus 101, the transport direction of the substrate 200 is changed, and the substrate 200 transported in the horizontal attitude is changed to the inclined attitude. Then, the substrate 200 is transported to the secondary washing units 66 and 67.
[0057]
Next, the surfaces of the substrate 200 are washed with pure water in the secondary washing units 66 and 67. Further, the substrate 200 is transported to the air knife section 68. In the air knife section 68, curtain-shaped air is jetted onto the substrate 200. Thereafter, the substrate 200 is transported by the conveyor 69, and the substrate 200 is stored in the cassette C by a transport device (not shown). C that stores a plurality of processed substrates 200 is carried out from the indexer unit 60.
[0058]
Next, details of the substrate transfer devices 100 and 101 will be described. Note that the substrate transfer device 100 and the substrate transfer device 101 have substantially the same structure. Hereinafter, the substrate transfer device 100 will be described.
[0059]
FIG. 2 is a cross-sectional view of the substrate transfer device 100. In FIG. 2, two directions orthogonal to each other in a horizontal plane are defined as an X direction and a Y direction, and a vertical direction is defined as a Z direction.
[0060]
The substrate transfer apparatus 100 shown in FIG. The transfer chamber 30 is formed by a pair of side walls 30a and 30c parallel to the Y direction and a pair of side walls 30b and 30d parallel to the X direction. A substrate carry-in port 33 is provided on the side wall 30 a of the transfer chamber 30, and a substrate carry-out port 34 is provided on the side wall 30 b of the transfer chamber 30.
[0061]
The substrate transfer apparatus 100 changes the direction of the substrate 200 loaded in the X direction from the substrate transfer port 33 into the transfer chamber 30 and unloads the substrate 200 from the substrate transfer port 34 in the Y direction.
[0062]
In the transfer chamber 30, a plurality of transfer shafts 10 are arranged along the Y direction, and a plurality of transfer shafts 20 are arranged along the X direction. Each of the transport shafts 10 is provided with a plurality of small transport rollers 11 at substantially equal intervals. Each of the transport shafts 20 is provided with a plurality of large transport rollers 21 at equal intervals.
[0063]
One end of the plurality of transport shafts 10 is rotatably supported by a support member 12a, and the other end of the plurality of transport shafts 10 is rotatably supported by a support member 15a. , And a magnet disk 8a are attached respectively.
[0064]
One end of the plurality of transport shafts 20 is rotatably supported by the support member 12b, and the other end of the plurality of transport shafts 20 is rotatably supported by the support member 15b. , And a magnet disk 8b are attached respectively.
[0065]
In a space surrounded by the side wall 30d and the peripheral wall 31 of the transfer chamber 30, a motor M1, a belt B1, and a plurality of magnet disks 7a for rotating and driving the plurality of transfer shafts 10 are provided. Each magnet disk 7a is arranged so as to face the magnet disk 8a via the side wall 30d. A belt B1 is stretched between the shaft of the motor M1 and the plurality of magnet disks 7a. When the shaft of the motor M1 rotates, the plurality of magnet disks 7a rotate in the same direction.
[0066]
The rotation of the magnet disk 7a causes the rotation of the magnet disk 8a. Thereby, the transport shaft 10 rotates together with the small transport rollers 11. As a result, the substrate 200 supported on the small transport roller 11 can be transported in the X direction. Details of the structures of the magnet disk 7a and the magnet disk 8a will be described later.
[0067]
In a space surrounded by the side wall 30c and the peripheral wall 32 of the transfer chamber 30, a motor M2 for rotating and driving the plurality of transfer shafts 20, a belt B2, and a plurality of magnetic disks 7b are provided. Each magnet disk 7b is arranged so as to face the magnet disk 8b via the side wall 30c. A belt B2 is stretched between the shaft of the motor M2 and the plurality of magnet disks 7b. When the shaft of the motor M2 rotates, the plurality of magnet disks 7b rotate in the same direction.
[0068]
The rotation of the magnet disk 7b causes the rotation of the magnet disk 8b. Thereby, the transport shaft 20 rotates together with the large transport roller 21. As a result, it is possible to transport the substrate 200 supported on the large transport rollers 21 in the Y direction. The details of the structures of the magnet disk 7b and the magnet disk 8b will be described later.
[0069]
3 and 4 are cross-sectional views of the substrate transfer device 100 of FIG. 2 taken along line AA. FIG. 3 shows a state in which the substrate 200 is supported in an inclined posture, and FIG. 4 shows a state in which the substrate 200 is supported in a horizontal posture.
[0070]
The vicinity of one end of the transport shaft 10 is rotatably supported above the support table 13 by the support member 12a. The other end of the transport shaft 10 is rotatably supported above the support table 13 by a support member 15a.
[0071]
One end of the support base 13 is rotatably supported by a support shaft 13A.
The other end of the support 13 is supported by a cylinder 16 so as to be vertically movable. The tip of a piston 16 a of the cylinder 16 is attached to the lower surface of the support 13.
[0072]
As shown in FIG. 3, when the amount of protrusion of the piston 16a of the cylinder 16 increases, the support 13 rotates in the direction of arrow R10 about the support shaft 13A. Thereby, the transport shaft 10 is in an inclined state. In this state, the top of the small transport roller 11 of the transport shaft 10 is located above the top of the large transport roller 21 of the transport shaft 20. Therefore, the substrate 200 is supported by the small transport roller 11 in an inclined posture.
[0073]
As shown in FIG. 3, a part of the side wall 30d of the transfer chamber 30 is provided with an inclined wall 30e slightly inclined from the vertical direction. The magnet disk 8a faces parallel to the inner surface of the inclined wall 30e. The magnet disk 7a is attached to the shaft 76a so as to face the outer surface of the inclined wall 30e in parallel. Thereby, the magnet disk 8a faces the magnet disk 7a via the inclined wall 30e. Therefore, when the magnet disc 7a rotates together with the shaft 76a by the belt B1, the magnet 8a rotates together with the transport shaft 10 by the magnetic force acting between the magnet disc 7a and the magnet disc 8a.
[0074]
As shown in FIG. 4, when the amount of protrusion of the piston 16a of the cylinder 16 decreases, the support 13 rotates around the shaft 13A in the direction of the arrow R11. Thereby, the transport shaft 10 is in a horizontal posture. In this state, the top of the large transport roller 21 of the substrate 200 is located above the top of the small transport roller 11 of the transport shaft 10. Therefore, the substrate 200 is supported by the large-sized transport roller 21 in a horizontal posture.
[0075]
In this case, the magnet disk 8a provided at one end of the transport shaft 10 moves in a direction away from the inclined wall 30e. As a result, the distance between the magnet disk 7a and the magnet disk 8a increases, and the magnetic force does not work between the magnet disk 7a and the magnet disk 8a. Therefore, even when the magnet disc 7a is rotated by the belt B1, the magnet disc 8a does not rotate. As a result, the transport shaft 10 and the small transport roller 11 do not rotate.
[0076]
FIG. 5 is a cross-sectional view of the substrate transfer device 100 of FIG. 2 taken along line BB.
The vicinity of one end of the transport shaft 20 is rotatably supported above the support table 13B by the support member 12b, and the vicinity of the other end of the transport shaft 20 is rotatably supported above the support table 13B by the support member 15b. The support 13B is fixed to the side walls 30a and 30c in a horizontal state. Thereby, the transport shaft 20b is in a horizontal state.
[0077]
The magnet disk 8b faces parallel to the inner surface of the side wall 30c. The magnet disk 7b is attached to the shaft 76b so as to face the outer surface of the side wall 30c in parallel. Thereby, the magnet disk 8b faces the magnet disk 7b in parallel via the side wall 30c. Therefore, when the magnet disc 7b rotates together with the shaft 76b by the belt B2, the magnet disc 8b rotates together with the transport shaft 20b due to the magnetic force acting between the magnet disc 7b and the magnet disc 8b.
[0078]
Next, the configuration of the magnet disk 7a and the magnet disk 8a will be described with reference to FIG. FIG. 6 is a diagram showing the internal structure of the magnet disk. 6A is a cross-sectional view of the magnet disk, FIG. 6B is a cross-sectional view of the magnet disk of FIG. 6A taken along the line D-D, and FIG. It is a side view of the magnet disk which opposes.
[0079]
As shown in FIGS. 6A and 6B, a magnet 71 having an S pole on one side and an N pole on the other side and an N pole on one side are provided inside the magnet disk 7a. On the other surface side, magnets 72 having S poles are alternately provided in a circular shape. The structure of the magnet disk 8a is the same as the structure of the magnet disk 7a.
[0080]
As shown in FIG. 6B, the magnet disk 7a is fixed to the end face of the rotating shaft 10 by bolts 77a.
[0081]
In the embodiment of the present invention, the magnet disk 7a is formed of a non-magnetic material. For example, it is possible to use a fluororesin such as PTFE (tetrafluoroethylene) and PCTFE (ethylene trifluoride), a resin such as PCV (polyvinyl chloride), or a nonmagnetic metal or alloy such as titanium, aluminum, and stainless steel. it can. Further, the above-mentioned metals and alloys of the non-magnetic material are mere examples, and the present invention is not limited thereto. Other non-magnetic materials can be used.
[0082]
As shown in FIG. 6C, the magnet disk 7a faces one surface of the inclined wall 30e, and the magnet disk 8a faces the other surface of the inclined wall 30e.
[0083]
In this case, the rotational motion of the motor M1 in FIG. 2 is transmitted to the shaft 76a via the belt B1, and the magnet disk 7a rotates. The magnet 71 inside the magnet disk 7a and the magnet 82 inside the magnet disk 8a attract by the magnet, and the magnet 72 inside the magnet disk 7a and the magnet 81 inside the magnet disk 8a attract by the magnet. Thereby, the magnet disk 8a rotates together with the transport shaft 10.
[0084]
The portion of the inclined wall 30e sandwiched between the magnet disk 7a and the magnet disk 8a is a side wall 30d of another portion for strongly applying a magnetic force between the magnet disk 7a and the magnet disk 8a. It is thinner than that.
[0085]
Next, transmission and blocking of the rotational force between the magnet disk 7a and the magnet disk 8a will be described.
[0086]
FIG. 7A is a view showing a state in which the rotational force of the magnet disk 7a is transmitted to the magnet disk 8a, and FIG. 7B is a state in which the rotational force of the magnet disk 7a is not transmitted to the magnet disk 8a. It is a figure showing a state.
[0087]
As shown in FIG. 3, when the transport shaft 10 is inclined, as shown in FIG. 7A, the distance between the magnet discs 7a and 8a is reduced by the magnet 71 of the magnet disc 7a. And the magnet 82 of the magnet disk 8a is shorter than the limit distance at which an attractive force acts between the magnet 72 of the magnet disk 7a and the magnet 81 of the magnet disk 8a. The rotational force of the disk 7a is reliably transmitted to the magnet disk 8a.
[0088]
As shown in FIG. 4, when the transport shaft 10 is horizontal, the distance between the magnet disk 7a and the magnet disk 8a is equal to the distance between the magnet 71 of the magnet disk 7a and the magnet 82 of the magnet disk 8a. Since the distance between the magnet disk 7a and the magnet 72 of the magnet disk 7a and the magnet 81 of the magnet disk 8a is longer than the limit distance between the magnet disk 7a and the magnet 81 on the magnet disk 8a, the rotational force of the magnet disk 7a is reduced. It is not transmitted to the plate 8a.
[0089]
As described above, in the embodiment according to the present invention, unlike the conventional substrate transfer device, it is not necessary to change the inclined posture to the horizontal posture together with the motors M1 and M2 and the belts B1 and B2, and the structure is simple. Therefore, space saving and cost reduction can be realized.
[0090]
FIG. 8 is a perspective view for explaining the operation of the substrate transfer apparatus 100 shown in FIGS.
[0091]
8A illustrates a state in which the transport shaft 10 is tilted, FIG. 8B illustrates a state in which the transport shaft 10 is being tilted, and FIG. 8C illustrates a state in which the transport shaft 10 is horizontal. .
[0092]
As shown in FIG. 8A, when the amount of protrusion of the piston 16a of the cylinder 16 is the maximum, the plurality of transport shafts 10 are supported in a state of being inclined at an angle θ from the XY plane (horizontal plane). In this case, the substrate 200 is carried in the X direction by the small carrying rollers 11 of the carrying shaft 10 by rotating the plurality of carrying shafts 10. In FIG. 8, the illustration of the small transport roller 11 is omitted.
[0093]
When the substrate 200 is transported to a predetermined position, as shown in FIG. 8B, the amount of protrusion of the piston 16a of the cylinder 16 gradually decreases, and the X- Transition to a state parallel to the Y plane.
[0094]
As shown in FIG. 8C, when the amount of protrusion of the piston 16a of the cylinder 16 is minimized, the plurality of transport shafts 10 are in a state parallel to the XY plane. Thus, the top of the outer peripheral surface of the small transport roller 11 of the transport shaft 10 is located lower than the top of the outer peripheral surface of the large transport roller 21. As a result, the substrate 200 supported by the small transport rollers 11 of the transport shaft 10 is supported by the large transport rollers 21. Therefore, the substrate 200 is unloaded in the Y direction by the rotation of the large transport roller 21.
[0095]
In the substrate transfer apparatus 101 according to the present embodiment, there is no need to provide holes in the side walls 30a to 30d to transmit the rotational force of the motors M1 and M2 to the transfer shafts 10 and 20, so that the atmosphere containing the processing liquid is transferred. Leakage to the outside of the chamber 30 is prevented.
[0096]
Further, in the substrate transfer apparatus 100 according to the present embodiment, since a transmission mechanism for transmitting the rotational force of the motors M1 and M2 to the transport shafts 10 and 20 is provided outside the transport chamber 30, The generated wear powder is prevented from adhering to the substrate 200. Further, when the posture of the substrate 200 is changed by the substrate transfer device 100, no vibration is caused by the magnet disks 7a, 7b, 8a, 8b. Therefore, uniform processing of the substrate 200 is not hindered.
[0097]
Further, since a transmission mechanism for transmitting the rotational force of the motors M1 and M2 to the transport shafts 10 and 20 is provided outside the transport chamber 30, it is necessary to provide a container for storing the lubricant in the transport chamber 30. Also, it is not necessary to supply the lubricant into the transfer chamber 30. Therefore, the number of parts can be reduced and the structure in the transfer chamber 30 can be simplified. Therefore, it is possible to reduce the size and space of the substrate transfer device 101.
[0098]
In addition, the entire area of the substrate 200 is supported by the small transport rollers 11 in the inclined attitude, and the entire area of the substrate 200 is supported by the large transport rollers 21 in the horizontal attitude. This prevents the substrate 200 from being bent by its own weight, and prevents the substrate 200 from being partially applied with an excessive load.
[0099]
Further, since the rotational force is transmitted to all of the small transport rollers 11 and the large transport rollers 21, it is possible to prevent the transport failure of the substrate 200. Therefore, the substrate 200 can be changed from the inclined posture of the predetermined angle θ to the horizontal posture without deforming and breaking the substrate 200, and the transport direction of the substrate 200 can be changed from the X direction to the Y direction.
[0100]
In the substrate transfer apparatus 100 according to the present embodiment, the transfer direction of the substrate 200 can be changed from the X direction to the Y direction without partially applying an excessive load to the substrate 200.
[0101]
In the present embodiment, the side walls 30a to 30d correspond to a wall, the small transport roller 11 corresponds to a first roller member, the large transport roller 21 corresponds to a second roller member, and a cylinder 16 and a piston. 16a corresponds to the state changing means, the motors M1 and M2 and the belts B1 and B2 correspond to the rotation driving means, the magnet discs 7a, 7b, 8a and 8b correspond to the transmission means, and the magnet discs 7a and 7b correspond to the transmission means. The magnet disks 8a and 8b correspond to a second transmission member, and the magnets 71 and 81 and the magnets 72 and 82 correspond to a plurality of first magnets and a plurality of second magnets. Is equivalent to
[0102]
(Second embodiment)
The substrate transfer device according to the second embodiment changes the transfer direction of a substrate loaded in a horizontal position and unloads the substrate in a horizontal position. Hereinafter, the substrate transfer device 100a of the substrate processing apparatus according to the second embodiment will be described.
[0103]
FIG. 9 is a cross-sectional view of the substrate transfer device 100a. In FIG. 9, two directions orthogonal to each other in a horizontal plane are defined as an X direction and a Y direction, and a vertical direction is defined as a Z direction.
[0104]
The substrate transfer device 100a shown in FIG. The transfer chamber 30 is formed by a pair of side walls 30a and 30c parallel to the Y direction and a pair of side walls 30b and 30d parallel to the X direction. A substrate carry-in port 33 is provided on the side wall 30 a of the transfer chamber 30, and a substrate carry-out port 34 is provided on the side wall 30 b of the transfer chamber 30.
[0105]
The substrate transfer device 100a changes the direction of the substrate 200 loaded in the X direction from the substrate transfer port 33 into the transfer chamber 30, and unloads the substrate 200 from the substrate transfer port 34 in the Y direction.
[0106]
In the transfer chamber 30, a plurality of transfer shafts 10 are arranged along the Y direction, and a plurality of transfer shafts 20 are arranged along the X direction. Each of the transport shafts 10 is provided with a plurality of small transport rollers 11 at substantially equal intervals. Each of the transport shafts 20 is provided with a plurality of large transport rollers 21 at equal intervals.
[0107]
One end of the plurality of transport shafts 10 is rotatably supported by the side wall 30d, the other end of the plurality of transport shafts 10 is rotatably supported by the side wall 30b, and one end of the plurality of transport shafts 10 has a magnet disk. 8a are respectively attached.
[0108]
A portion near one end of the plurality of transport shafts 20 is rotatably supported by a support member 12c, and a portion near the other end of the plurality of transport shafts 20 is rotatably supported by a support member 15c. The support member 12c and the support member 15c are It is supported by the support member 12d and the support member 15d. At one end of each of the plurality of transport shafts 20, a magnet disk 8b is attached.
[0109]
In a space surrounded by the side wall 30d and the peripheral wall 31 of the transfer chamber 30, a motor M1, a belt B1, and a plurality of magnet disks 7a for rotating and driving the plurality of transfer shafts 10 are provided. Each magnet disk 7a is arranged so as to face the magnet disk 8a via the side wall 30d. A belt B1 is stretched between the shaft of the motor M1 and the plurality of magnet disks 7a. When the shaft of the motor M1 rotates, the plurality of magnet disks 7a rotate in the same direction.
[0110]
The rotation of the magnet disk 7a causes the rotation of the magnet disk 8a. Thereby, the transport shaft 10 rotates together with the small transport rollers 11. As a result, the substrate 200 supported on the small transport roller 11 can be transported in the X direction.
[0111]
In a space surrounded by the side wall 30c and the peripheral wall 32 of the transfer chamber 30, a motor M2 for rotating and driving the plurality of transfer shafts 20, a belt B2, and a plurality of magnetic disks 7b are provided. Each magnet disk 7b is arranged so as to face the magnet disk 8b via the side wall 30c. A belt B2 is stretched between the shaft of the motor M2 and the plurality of magnet disks 7b. When the shaft of the motor M2 rotates, the plurality of magnet disks 7b rotate in the same direction.
[0112]
The rotation of the magnet disk 7b causes the rotation of the magnet disk 8b. Thereby, the transport shaft 20 rotates together with the large transport roller 21. As a result, it is possible to transport the substrate 200 supported on the large transport rollers 21 in the Y direction.
[0113]
10 and 11 are cross-sectional views of the substrate transfer device 100a of FIG. 9 taken along line CC. FIG. 10 shows a state in which the substrate 200 is supported by the small transport rollers 11, and FIG. 11 shows a state in which the substrate 200 is supported by the large transport rollers 21.
[0114]
The transport shaft 20 is supported by a support member 15c. The vicinity of one end of the support member 15c is rotatably supported above the support table 13 by the support member 12d. The other end of the support member 15c is rotatably supported above the support base 13 by the support member 15d.
[0115]
One end of the support base 13 is rotatably supported by a support shaft 13A. The other end of the support 13 is supported by a cylinder 16 so as to be vertically movable. The tip of a piston 16 a of the cylinder 16 is attached to the lower surface of the support 13.
[0116]
As shown in FIG. 10, when the amount of protrusion of the piston 16a of the cylinder 16 decreases, the support 13 rotates in the direction of arrow R11 about the support shaft 13A. Thereby, the support member 15c is in an inclined state. In this state, the top of the small transport roller 11 of the transport shaft 10 is located above the top of the large transport roller 21 of the transport shaft 20. Therefore, the substrate 200 is supported by the small transport rollers 11 in a horizontal posture.
[0117]
As shown in FIG. 10, the magnet disk 8 a faces in parallel with the inner surface of the side wall 30 d of the transfer chamber 30. The magnet disk 7a is attached to the shaft 76a so as to face parallel to the outer surface of the side wall 30d. Thereby, the magnet disc 8a faces the magnet disc 7a via the side wall 30d. Therefore, when the magnet disk 7a rotates together with the shaft 76a by the belt B1, the magnet disk 8a rotates together with the transport shaft 10 by the magnet acting between the magnet disk 7a and the magnet disk 8a.
[0118]
As shown in FIG. 11, when the amount of protrusion of the piston 16a of the cylinder 16 increases, the support 13 rotates around the shaft 13A in the direction of arrow R10. Thereby, the support member 15c assumes a horizontal posture. In this state, the top of the large transport roller 21 of the substrate 200 is located above the top of the small transport roller 11 of the transport shaft 10. Therefore, the substrate 200 is supported by the large-sized transport roller 21 in a horizontal posture.
[0119]
12 and 13 are cross-sectional views of the substrate transfer device 100a of FIG. 9 taken along line DD. FIG. 12 shows a state in which the substrate 200 is supported by the small transport rollers 11, and FIG. 13 shows a state in which the substrate 200 is supported by the large transport rollers 21.
[0120]
A portion near one end of the transport shaft 20 is rotatably supported above the support table 13B by a support member 12c, and a portion near the other end of the transport shaft 20 is rotatably supported above the support table 13B by a support member 15c. A cylinder 16 is provided below the support 13B.
[0121]
The magnet disk 8b faces parallel to the inner surface of the side wall 30c. The magnet disk 7b is attached to the shaft 76b so as to face the outer surface of the side wall 30c in parallel.
[0122]
As shown in FIG. 12, when the amount of protrusion of the piston 16a of the cylinder 16 decreases, the distance between the magnet disk 7b and the magnet disk 8b increases, and the distance between the magnet disk 7b and the magnet disk 8b increases. Magnetic force does not work. Therefore, even when the magnet disc 7b is rotated by the belt B2, the magnet disc 8b does not rotate. As a result, the transport shaft 20 and the large transport roller 21 do not rotate.
[0123]
On the other hand, as shown in FIG. 13, when the amount of protrusion of the piston 16a of the cylinder 16 increases, the magnet disk 8b faces in parallel to the magnet disk 7b via the side wall 30c. Therefore, when the magnet disk 7b rotates together with the shaft 76b by the belt B2, the magnetic disk 8b rotates together with the transport shaft 20b and the large transport roller 21 by the magnetic force acting between the magnet disk 7b and the magnet disk 8b.
[0124]
The internal structure of the magnet disks 7a, 7b, 8a, 8b according to the present embodiment is the same as the magnet disks 7a, 7b, 8a, 8b according to the first embodiment.
[0125]
Next, transmission and blocking of the rotational force between the magnet disk 7b and the magnet disk 8b of the substrate transfer device 100a according to the present embodiment will be described.
[0126]
FIG. 14A is a diagram showing a state in which the rotational force of the magnet disk 7b is transmitted to the magnet disk 8b, and FIG. 14B is a state in which the rotational force of the magnet disk 7b is not transmitted to the magnet disk 8b. It is a figure showing a state.
[0127]
As shown in FIGS. 10 and 12, when the support member 15c is inclined, as shown in FIG. 14A, the magnet disc 7b and the magnet disc 8b are arranged vertically displaced from each other. . Therefore, the distance between the magnet disk 7b and the magnet disk 8b is the limit distance at which the attractive force acts between the magnet 71 of the magnet disk 7b and the magnet 82 of the magnet disk 8b and the magnet of the magnet disk 7b. Since the distance between the magnetic disk 72 and the magnet 81 of the magnetic disk 8b is longer than the limit of the attractive force, the rotational force of the magnetic disk 7b is not transmitted to the magnetic disk 8b.
[0128]
As shown in FIGS. 11 and 13, when the support member 15c is in a horizontal state, as shown in FIG. 14B, the magnet disk 7b and the magnet disk 8b are arranged at positions where they can face each other. . Therefore, the distance between the magnet disk 7b and the magnet disk 8b is the limit distance at which the attractive force acts between the magnet 71 of the magnet disk 7b and the magnet 82 of the magnet disk 8b and the magnet of the magnet disk 7b. Since the distance between the magnetic disk 72 and the magnet 81 of the magnet disk 8b is shorter than the limit at which the attractive force acts, the rotational force of the magnet disk 7b is reliably transmitted to the magnet disk 8b.
[0129]
In the substrate transfer apparatus 100a according to the present embodiment, since it is not necessary to provide holes in the side walls 30a to 30d to transmit the rotational force of the motors M1 and M2 to the transfer shafts 10 and 20, the atmosphere containing the processing liquid is transferred. Leakage to the outside of the chamber 30 is prevented.
[0130]
Further, in the substrate transfer apparatus 100a according to the present embodiment, since a transmission mechanism for transmitting the rotational force of the motors M1 and M2 to the transport shafts 10 and 20 is provided outside the transport chamber 30, the transmission mechanism The generated wear powder is prevented from adhering to the substrate 200. Further, when the posture of the substrate 200 is changed by the substrate transfer device 100a, no vibration is caused by the magnet disks 7a, 7b, 8a, 8b. Therefore, uniform processing of the substrate 200 is not hindered.
[0131]
Further, since a transmission mechanism for transmitting the rotational force of the motors M1 and M2 to the transport shafts 10 and 20 is provided outside the transport chamber 30, it is necessary to provide a container for storing the lubricant in the transport chamber 30. Also, it is not necessary to supply the lubricant into the transfer chamber 30. Therefore, the number of parts can be reduced and the structure in the transfer chamber 30 can be simplified. Therefore, downsizing and space saving of the substrate transfer device 100a can be realized.
[0132]
Further, the entire area of the substrate 200 is supported by the small transport roller 11 or the large transport roller 21 in the horizontal posture. This prevents the substrate 200 from being bent by its own weight, and prevents the substrate 200 from being partially applied with an excessive load.
[0133]
Further, since the rotational force is transmitted to all of the small transport rollers 11 and the large transport rollers 21, it is possible to prevent the transport failure of the substrate 200. Therefore, the substrate transfer direction can be changed from the X direction to the Y direction without deforming and breaking the substrate 200.
[0134]
In the present embodiment, the side walls 30a to 30d correspond to a wall, the small transport roller 11 corresponds to a first roller member, the large transport roller 21 corresponds to a second roller member, and a cylinder 16 and a piston. 16a corresponds to the state changing means, the motors M1 and M2 and the belts B1 and B2 correspond to the rotation driving means, the magnet discs 7a, 7b, 8a and 8b correspond to the transmission means, and the magnet discs 7a and 7b correspond to the transmission means. The magnet disks 8a and 8b correspond to a second transmission member, and the magnets 71 and 81 and the magnets 72 and 82 correspond to a plurality of first magnets and a plurality of second magnets. Is equivalent to
[0135]
(Third embodiment)
The substrate transfer device according to the third embodiment changes the posture of a substrate carried in in a horizontal posture, and carries out the substrate in an inclined posture. Hereinafter, the substrate transfer device 100b of the substrate processing apparatus according to the third embodiment will be described.
[0136]
FIG. 15 is a cross-sectional view of the substrate transfer device 100b. In FIG. 15, two directions orthogonal to each other in a horizontal plane are defined as an X direction and a Y direction, and a vertical direction is defined as a Z direction.
[0137]
The substrate transfer device 100b illustrated in FIG. The transfer chamber 30 is formed by a pair of side walls 30a and 30c parallel to the Y direction and a pair of side walls 30b and 30d parallel to the X direction. A substrate carry-in port 33 is provided on the side wall 30 a of the transfer chamber 30, and a substrate carry-out port 34 is provided on the side wall 30 c of the transfer chamber 30.
[0138]
The substrate transfer device 100b changes the position of the substrate 200 loaded in the horizontal position from the substrate transfer port 33 into the transfer chamber 30, and unloads the substrate 200 from the substrate transfer port 34 in an inclined position.
[0139]
In the transfer chamber 30, a plurality of transfer shafts 10b are arranged along the Y direction, and a plurality of transfer shafts 20b are also arranged along the Y direction. Each of the transport shafts 10b is provided with a plurality of transport rollers 11b at substantially equal intervals. A plurality of transport rollers 21b are provided at equal intervals on each of the transport shafts 20b.
[0140]
One end of the plurality of transport shafts 10b is rotatably supported by a support member 12f, and the other end of the plurality of transport shafts 10b is rotatably supported by a support member 15f. , And a magnet disk 8a are attached respectively.
[0141]
A portion near one end of the plurality of transport shafts 20b is rotatably supported by a support member 12g, and a portion near the other end of the plurality of transport shafts 20b is rotatably supported by a support member 15g. Is provided with a magnet disk 8b.
[0142]
In a space surrounded by the side wall 30d and the peripheral wall 31 of the transfer chamber 30, a motor M1, a belt B1, and a plurality of magnet disks 7a for rotating and driving the plurality of transfer shafts 10b are provided. Each magnet disk 7a is arranged so as to face the magnet disk 8a via the side wall 30d. A belt B1 is stretched between the shaft of the motor M1 and the plurality of magnet disks 7a. When the shaft of the motor M1 rotates, the plurality of magnet disks 7a rotate in the same direction.
[0143]
The rotation of the magnet disk 7a causes the rotation of the magnet disk 8a. Thereby, the transport shaft 10b rotates together with the transport roller 11b. As a result, the substrate 200 supported on the transport roller 11b can be transported in an inclined posture. The details of the structure of the magnet disks 7a and 8a are the same as the structure of the magnet disks 7a and 8a according to the first embodiment.
[0144]
In a space surrounded by the side wall 30b and the peripheral wall 32 of the transfer chamber 30, a motor M2 for rotating and driving the plurality of transfer shafts 20b, a belt B2, and a plurality of magnet disks 7b are provided. Each magnet disk 7b is arranged so as to face the magnet disk 8b via the side wall 30b. A belt B2 is stretched between the shaft of the motor M2 and the plurality of magnet disks 7b. When the shaft of the motor M2 rotates, the plurality of magnet disks 7b rotate in the same direction.
[0145]
The rotation of the magnet disk 7b causes the rotation of the magnet disk 8b. Thereby, the transport shaft 20b rotates together with the transport roller 21b. As a result, the substrate 200 supported on the transport roller 21b can be transported in a horizontal posture. The details of the structure of the magnet disks 7b and 8b are the same as the structure of the magnet disks 7b and 8b according to the first embodiment.
[0146]
16 and 17 are cross-sectional views of the substrate transfer device 100b of FIG. 15 taken along line EE. FIG. 16 shows a state in which the substrate 200 is supported by the transport rollers 21b, and FIG. 17 shows a state in which the substrate 200 is supported by the transport rollers 11b.
[0147]
The vicinity of one end of the transport shaft 20b is rotatably supported above the support base 13 by the support member 12e. The other end of the transport shaft 20b is rotatably supported above the support table 13 by a support member 15e.
[0148]
One end of the support base 13 is rotatably supported by a support shaft 13A. The other end of the support 13 is supported by a cylinder 16 so as to be vertically movable. The tip of a piston 16 a of the cylinder 16 is attached to the lower surface of the support 13.
[0149]
As shown in FIG. 16, when the amount of protrusion of the piston 16a of the cylinder 16 decreases, the support base 13 rotates in the direction of arrow R11 about the support shaft 13A. Thereby, the support member 12f is in a horizontal state. In this state, the top of the transport roller 21b of the transport shaft 20b is located above the top of the transport roller 11b of the transport shaft 10b. Accordingly, the substrate 200 is supported by the transport rollers 21b in a horizontal posture.
[0150]
In this case, the magnet disc 8b and the magnet disc 7b provided at one end of the transport shaft 20b oppose each other via the side wall 30b, and a magnetic force acts between the magnet disc 7b and the magnet disc 8b. Therefore, when the magnet disc 7b is rotated by the belt B2, the magnet disc 8b is rotated, and the transport roller 21b is rotated together with the transport shaft 20b.
[0151]
As shown in FIG. 17, when the amount of protrusion of the piston 16a of the cylinder 16 increases, the support 13 rotates in the direction of the arrow R10 about the shaft 13A. Thereby, the support member 12f assumes the inclined posture. In this state, the top of the transport roller 21b of the transport shaft 20b is located lower than the top of the transport roller 11b of the transport shaft 10b. Therefore, the substrate 200 is supported in an inclined posture by the transport roller 11b.
[0152]
In this case, the magnet disk 8a and the magnet disk 7a provided at one end of the transport shaft 10b oppose each other via the side wall 30d, and a magnetic force acts between the magnet disk 7a and the magnet disk 8a. Therefore, when the magnet disc 7a is rotated by the belt B1, the magnet disc 8a is rotated, and the transport roller 11b is rotated together with the transport shaft 10b.
[0153]
In the substrate transfer apparatus 100b according to the present embodiment, since it is not necessary to provide holes in the side walls 30a to 30d to transmit the rotational force of the motors M1 and M2 to the transfer shafts 10 and 20, the atmosphere containing the processing liquid is transferred. Leakage to the outside of the chamber 30 is prevented.
[0154]
Further, in the substrate transfer apparatus 100b according to the present embodiment, since a transmission mechanism for transmitting the rotational force of the motors M1 and M2 to the transport shafts 10b and 20b is provided outside the transport chamber 30; The generated wear powder is prevented from adhering to the substrate 200. Further, when the posture of the substrate 200 is changed by the substrate transfer device 100b, no vibration is generated by the magnet disks 7a, 7b, 8a, 8b. Therefore, uniform processing of the substrate 200 is not hindered.
[0155]
Further, since a transmission mechanism for transmitting the rotational force of the motors M1 and M2 to the transport shafts 10b and 20b is provided outside the transport chamber 30, it is necessary to provide a container for storing the lubricant in the transport chamber 30. Also, it is not necessary to supply the lubricant into the transfer chamber 30.
Therefore, the number of parts can be reduced and the structure in the transfer chamber 30 can be simplified.
Therefore, downsizing and space saving of the substrate transfer device 100b can be realized.
[0156]
In addition, the entire area of the substrate 200 is supported by the transport rollers 11b in the inclined posture, and the entire area of the substrate 200 is supported by the transport rollers 21b in the horizontal attitude. This prevents the substrate 200 from being bent by its own weight, and prevents the substrate 200 from being partially applied with an excessive load.
[0157]
In addition, since the rotational force is transmitted to all the transport rollers 11b and the transport rollers 21b, it is possible to prevent transport failure of the substrate 200. Therefore, the substrate 200 can be changed from the horizontal position to the inclined position at a predetermined angle θ without deforming and damaging the substrate 200.
[0158]
In the present embodiment, the support member 12f is rotated about the support shaft 13A with respect to the horizontal plane, but the support member 12f may be moved up and down in parallel.
[0159]
In the present embodiment, the side walls 30, 30a to 30d correspond to the wall portion, the small transport roller 11 corresponds to the first roller member, the large transport roller 21 corresponds to the second roller member, and the cylinder 16 And the pistons 16a correspond to state changing means, the motors M1, M2 and the belts B1, B2 correspond to rotary driving means, the magnet discs 7a, 7b, 8a, 8b correspond to transmission means, and the magnet discs 7a, 7b corresponds to a first transmission member, the magnet disks 8a and 8b correspond to a second transmission member, and the magnets 71 and 81 and the magnets 72 and 82 include a plurality of first magnets and a plurality of second magnets. Of the magnet.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic plan view showing a substrate processing apparatus provided with a substrate transfer device according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view of the substrate transfer device.
FIG. 3 is a sectional view taken along line AA of the substrate transfer apparatus of FIG. 2;
FIG. 4 is a sectional view taken along line AA of the substrate transfer apparatus of FIG. 2;
FIG. 5 is a cross-sectional view of the substrate transfer device of FIG. 2 taken along line BB.
FIG. 6 is a diagram showing the internal structure of a magnet disk.
7A is a diagram illustrating a state in which the rotational force of the magnet disk is transmitted to the magnet disk, and FIG. 7B is a diagram illustrating a state in which the rotational force of the magnet disk is not transmitted to the magnet disk; It is.
FIG. 8 is a perspective view for explaining the operation of the substrate transfer device of FIGS. 2 to 5;
FIG. 9 is a cross-sectional view of the substrate transfer device.
FIG. 10 is a sectional view taken along line AA of the substrate transfer apparatus of FIG. 9;
11 is a cross-sectional view of the substrate transfer device of FIG. 9 taken along line AA.
FIG. 12 is a sectional view taken along line BB of the substrate transfer apparatus of FIG. 9;
13 is a cross-sectional view of the substrate transfer device of FIG. 9 taken along line BB.
14A is a diagram illustrating a state where the rotational force of the magnet disk is transmitted to the magnet disk, and FIG. 14B is a diagram illustrating a state where the rotational force of the magnet disk is not transmitted to the magnet disk. It is.
FIG. 15 is a cross-sectional view of the substrate transfer device.
FIG. 16 is a sectional view taken along line AA of the substrate transfer apparatus of FIG.
17 is a cross-sectional view of the substrate transfer device of FIG. 15 taken along line AA.
FIG. 18 is a diagram illustrating an example of a substrate processing apparatus in which the overall length of the substrate processing apparatus is reduced to save space.
19 is a cross-sectional view of the substrate transfer device of FIG.
20 is a cross-sectional view of the substrate transfer device of FIG. 19 taken along line AA.
[Explanation of symbols]
7a, 7b, 8a, 8b Magnet disk
10,20 transport axis
11 Small transport roller
71,72,81,82 magnet
12a, 12b, 12c, 12d, 12e, 12f, 12g Supporting member
13 Support
13A Support shaft
15a, 15b, 15c, 15d, 15e, 15f, 15g Supporting member
16 cylinders
16a piston
21 Large transport roller
30a, 30b, 30c, 30d Side walls
31, 32 Perimeter wall
100,101 substrate transfer device
200 substrates
500 substrate processing equipment
B1, B2 belt
M1, M2 motor

Claims

A substrate transfer device for transferring a substrate,
A transfer chamber having a wall,
A first roller member rotatably provided in the transfer chamber and supporting a substrate;
State changing means for changing the first roller member to a first state and a second state by moving or tilting the first roller member;
A rotation drive unit that is provided outside the transfer chamber and generates a rotation force;
Transmitting means for transmitting the rotational force generated by the rotation driving means to the first roller member by magnetic force,
The transmission means,
A first transmission member that is arranged to face the wall outside the transfer chamber, and that is rotated by a rotational force generated by the rotation driving unit;
A second transmission member rotatably provided with the first roller member in the transfer chamber,
When the first roller member is in the first state, the second transmission member is at a first position where torque is transmitted between the first transmission member and the second transmission member. The second transmission to a second position where no rotational force is transmitted between the first transmission member and the second transmission member when the first roller member is in the second state; A substrate transfer device comprising a member.

The second transmission member is opposed to the first transmission member via the wall portion at the first position, and the first transmission member is located at the second position as compared with the first position. 2. The substrate transfer device according to claim 1, wherein the substrate transfer device is away from the substrate.

A second roller member rotatably provided in the transfer chamber and supporting the substrate,
When the first roller member is in the first state, the substrate is supported on the first roller member, and when the first roller member is in the second state, the substrate is in the second state. 3. The substrate transfer apparatus according to claim 1, wherein the first roller member and the second roller member are provided so as to be supported on the rollers.

The first state is a state in which the first roller member forms a first angle with respect to a horizontal plane, and the second state is a state in which the first roller member forms the first angle with respect to a horizontal plane. 4. The substrate transfer device according to claim 3, wherein the substrate is at a different second angle.

The substrate transport device according to claim 3, wherein the first roller member and the second roller member are provided to intersect with each other.

The substrate transport device according to claim 3, wherein the first roller member and the second roller member are provided substantially in parallel with each other.

The first transmission member has a first surface facing the wall portion and a first rotation axis, and a plurality of first transmission members arranged along a circumference around the first rotation axis. The second transmission member has a second surface and a second rotation axis that can face the wall, and extends along a circumference around the second rotation axis. 7. The substrate transfer device according to claim 1, wherein a plurality of second magnets are provided.

The plurality of first magnets are arranged at an equal pitch such that N poles and S poles are alternately formed on the first surface, and the plurality of second magnets are arranged on the second surface with N poles. The substrate transfer device according to claim 7, wherein the plurality of first magnets are arranged at the same pitch so that the poles and the S poles are alternately formed.

The plurality of first magnets of the first transmission member are built in a non-magnetic member, and the plurality of second magnets of the second transmission member are incorporated in the non-magnetic member. The substrate processing apparatus according to claim 7, wherein:

10. The substrate processing apparatus according to claim 9, wherein at least the outer peripheral surface of the non-magnetic member of the second transmission member is made of resin.