JP2004241356A

JP2004241356A - 熱処理装置

Info

Publication number: JP2004241356A
Application number: JP2003032252A
Authority: JP
Inventors: Osamu Nakamura; 修中村; Hiroyuki Takeyama; 啓之竹山
Original assignee: Casio Computer Co Ltd
Current assignee: Casio Computer Co Ltd
Priority date: 2003-02-10
Filing date: 2003-02-10
Publication date: 2004-08-26
Anticipated expiration: 2023-02-10
Also published as: JP4524993B2

Abstract

【課題】外気がリード線とガラス容器との間を通じてガラス容器内に漏洩してしまうのを防止すること。
【解決手段】気化器３１の熱処理炉４０は、基板４１，４２が重なり合って接合された構造となっており、基板４１，４２の接合部には葛折りとなったマイクロ流路４３が形成されている。熱処理炉４０はガラス容器５３内に配設されている。基板４２には、マイクロ流路４３に沿って発熱抵抗膜４７が成膜されており、発熱抵抗膜４７には、Ｎｉ又はＮｉ合金で形成されたリード線４８，４９が接続されている。リード線４８，４９の表面にはＮｉの酸化物で形成された酸化物膜５０が形成されている。リード線４８，４９はガラス容器５３を貫通して外部まで導きでており、酸化物膜５０はリード線４８，４９及びガラス容器５３に密着している。
【選択図】図４

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、熱処理炉内において熱処理を行う熱処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年では、携帯型電話機、ノート型パソコン、デジタルカメラ、ＰＤＡ（ＰｅｒｓｏｎａｌＤｉｇｉｔａｌＡｓｓｉｓｔａｎｔ）及び電子手帳等といった小型の電子機器が進歩・発展を遂げている。小型の電子機器の電源としては、アルカリ乾電池及びマンガン乾電池等の一次電池並びにニッケル−カドミウム蓄電池、ニッケル−水素蓄電池及びリチウムイオン電池等の二次電池が用いられている。エネルギーの利用効率の観点から一次電池及び二次電池を検証すると、エネルギーの有効利用が図られているとは必ずしも言えなかった。
【０００３】
そこで、燃料電池は高いエネルギー利用効率を実現することができるため、一次電池及び二次電池の代替えのために燃料電池について研究・開発が盛んに行われている。燃料電池は、燃料と大気中の酸素を電気化学的に反応させて、化学エネルギーから電気エネルギーを直接取り出す装置である。燃料電池に用いる燃料としては水素が挙げられるが、常温で気体であることによる取り扱い・貯蔵に問題がある。そこで、アルコール類及びガソリンといった液体燃料を用いれば、液体燃料と水蒸気を高温に加熱して反応させることによって、発電に必要な水素を取り出す熱処理装置としての改質器が必要であるが、液体燃料を貯蔵するためのシステムが比較的小型でよい。
【０００４】
改質型の燃料電池を小型の電子機器の電源として用いる場合には、燃料電池だけでなく改質器も小型化する必要がある。特許文献１には、小型の改質器について記載されている。この改質器は、燃料と水蒸気の混合気が流れる反応流路を形成した基板と、この反応流路に対応するようにこの基板に設けられた薄膜ヒータと、を備える。薄膜ヒータに電力が供給されると薄膜ヒータが発熱し、反応流路に流れる混合気が薄膜ヒータの熱によって反応して、水素が生成される。
【０００５】
【特許文献１】
特開２００２−２５２０１４号公報（第３６−３７頁、第４０−４１図）
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、薄膜ヒータで発生した熱エネルギーが全て水と燃料の反応に利用されるのが望ましいが、薄膜ヒータで発生した熱エネルギーが基板を通じて外部に放出されてしまう。そのため、内部空間が真空となったガラス容器内に基板を配置することによって、熱エネルギーをガラス容器内に閉じ込めた状態とすると、熱エネルギーの損失が非常に少なくなる。
ここで、薄膜ヒータに電力を供給するために、薄膜ヒータにリード線が接続されており、このリード線はガラス容器を貫通してガラス容器外の電源部まで配線されている。ガラス容器内の真空を保って熱エネルギーの損失を防ぐために、リード線はガラス容器を貫通した部分においてガラス容器に密着しているのが望ましい。しかし、リード線とガラスとの密着性は高くないため、外気がリード線とガラス容器との間を通じてガラス容器内に漏洩してしまうことがある。そのため、熱エネルギーが損失してしまう。
そこで、本発明の目的は、外気がリード線と容器との間を通じて容器内に漏洩してしまうのを防止することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
以上の課題を解決するために、請求項１に記載の発明に係る熱処理装置は、例えば図４、図５に示すように、
発熱体（例えば、発熱抵抗膜４７）と、
前記発熱体の熱により被熱処理原料を処理する熱処理炉（例えば、熱処理炉４０）と、
前記熱処理炉を覆うとともに前記熱処理炉の周囲に密閉空間を形成した容器（例えば、ガラス容器５３）と、
前記容器の外部から前記容器を貫通して前記発熱体に接続されたリード線（例えば、リード線４８，４９）と、
前記リード線が前記容器を貫通している部分において前記リード線と前記容器との間に介在した金属酸化物を有する酸化物膜（例えば、酸化物膜５０）と、を有することを特徴とする。
【０００８】
請求項１に記載の発明では、リード線を通じて発熱体に電力が供給されると、発熱体が発熱して、熱処理炉において被熱処理原料に熱処理が行われる。熱処理としては、被熱処理原料を相変化させることでも良いし、被熱処理原料を化学反応させることでも良いし、被熱処理原料の機械的特性・電気的特性を変化させることでも良い。
金属酸化物を有した酸化物膜は、例えば金属又は合金で形成されたリード線に対して密着性が高く、例えばガラスのようなリード線と異なる材質に対しても密着性が高い。そのため、容器がリード線と異なる材質であっても、外気はリード線が容器を貫通した部分において容器とリード線との間を通じて容器内に漏洩することがない。従って、容器内の密閉状態を保つことができ、発熱体から生じた熱エネルギーの損失を抑えることができる。
【０００９】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の熱処理装置において、前記リード線にはニッケルが含まれ、前記酸化物膜がニッケル酸化物であることを特徴とする。
【００１０】
請求項２に記載の発明では、リード線にニッケルが含まれているため、リード線は低抵抗であり、リード線において電気エネルギーが損失することが防止される。また、酸化物膜は、ニッケルの酸化物であり、例えばリード線の酸化被膜である。そのため、酸化物膜は、リード線に対して密着性が高く、リード線と異なる材質に対しても密着性が高い。そのため、容器がリード線と異なる材質であっても、外気はリード線が容器を貫通した部分において容器とリード線との間を通じて容器内に漏洩することがない。従って、容器内の密閉状態を保つことができ、発熱体から生じた熱エネルギーの損失を抑えることができる。
【００１１】
請求項３に記載の発明は、請求項１に記載の熱処理装置において、前記酸化物膜の金属酸化物が、構成元素としてＴａとＳｉとＯとを含む無機化合物であることを特徴とする。
【００１２】
請求項３に記載の発明では、酸化物膜の金属酸化物が、構成元素としてＴａとＳｉとＯとを含む無機化合物であるため、酸化物膜は、リード線に対して密着性が高く、リード線と異なる材質に対しても密着性が高い。そのため、容器がリード線と異なる材質であっても、外気はリード線が容器を貫通した部分において容器とリード線との間を通じて容器内に漏洩することがない。従って、容器内の密閉状態を保つことができ、発熱体から生じた熱エネルギーの損失を抑えることができる。
【００１３】
請求項４に記載の発明は、請求項１に記載の熱処理装置において、前記酸化物膜の金属酸化物が、構成元素としてＲ（Ｒは希土類属の何れかの元素である。）とＦｅとＯとを含む無機化合物であることを特徴とする。
【００１４】
請求項５に記載の発明は、請求項４に記載の熱処理装置において、前記無機化合物中の酸素が欠損して、前記無機化合物がＲＦｅＯ_３−ａ（但し、０＜ａ＜３）であることを特徴とする。
【００１５】
請求項４又は５に記載の発明では、酸化物膜の金属酸化物が、構成元素としてＲとＦｅとＯとを含む無機化合物であるため、酸化物膜は、リード線に対して密着性が高く、リード線と異なる材質に対しても密着性が高い。そのため、容器がリード線と異なる材質であっても、外気はリード線が容器を貫通した部分において容器とリード線との間を通じて容器内に漏洩することがない。従って、容器内の密閉状態を保つことができ、発熱体から生じた熱エネルギーの損失を抑えることができる。
【００１６】
請求項６に記載の発明は、請求項３から５の何れか一項に記載の熱処理装置において、前記リード線が金で形成されていることを特徴とする。
【００１７】
請求項７に記載の発明は、請求項４又は５に記載の熱処理装置において、前記リード線が白金で形成されていることを特徴とする。
【００１８】
請求項６又は７に記載の発明では、リード線が金又は白金で形成されているため、リード線は低抵抗であり、リード線において電気エネルギーが損失することが防止される。また、酸化物膜の金属酸化物が、構成元素としてＴａとＳｉとＯとを含む無機化合物、又は、構成元素としてＲとＦｅとＯとを含む無機化合物であるため、リード線が金で形成された場合でも、リード線と酸化物膜との密着性が高い。酸化物膜の金属酸化物がリード線が構成元素としてＲとＦｅとＯとを含む無機化合物であり、リード線が白金で形成された場合でも、リード線と酸化物膜の密着性が高い。
【００１９】
請求項８に記載の発明は、請求項１から７の何れか一項に記載の熱処理装置において、前記容器中の密閉空間が真空圧となっていることを特徴とする。
【００２０】
請求項８に記載の発明では、金で形成されたリード線が低抵抗であるため、リード線において電気エネルギーが損失することが防止される。
【００２１】
請求項９に記載の発明は、請求項１から８の何れか一項に記載の熱処理装置において、前記熱処理炉及び前記リード線を跨るように覆う、或いは前記熱処理炉及び前記発熱体を跨るように覆う、或いは前記熱処理炉、前記発熱体及び前記リード線を跨るように覆う、保護膜を備えることを特徴とする。
請求項１０に記載の発明は、請求項９記載の熱処理装置において、前記保護膜は、ＳｍＦｅＯ_３、ＧｄＦｅＯ_３のいずれかを有することを特徴とする。
【００２２】
請求項９及び請求項１０に記載の発明では、保護膜を設けることにより熱処理炉の最表面を平坦化することができる。
【００２３】
【発明の実施の形態】
以下に、図面を用いて本発明の具体的な態様について説明する。ただし、発明の範囲を図示例に限定するものではない。
【００２４】
図１は、本発明の熱処理装置が備わった発電システム１の基本構成を示したブロック図であり、図２は、発電システム１を部分的に破断して内部構成を概略的に示した斜視図である。
図１、図２に示すように、発電システム１は、燃料９を貯蔵した燃料容器２と、燃料容器２を着脱自在とするように設けられた発電モジュール５と、を備える。
【００２５】
図２に示すように、燃料容器２は、上面に貫通孔を有するとともに下部に収納部２１ａを有し且つ外周部に管３７を有した筐体２１と、筐体２１の収納部２１ａに収納されているとともに供給口３９ａが筐体２１の貫通孔に挿入されているボトル３９と、ボトル３９内の底部からボトル３９の供給口３９ａに導かれた供給管１１と、ボトル３９の供給口３９ａを閉塞した閉塞膜１２と、を備える。ボトル３９内に貯蔵された燃料９は、化学燃料と水との混合物である。化学燃料としては、メタノール（ＣＨ_３ＯＨ）及びエタノール（Ｃ_２Ｈ_５ＯＨ）等のアルコール類並びにガソリンといった水素元素を含む化合物から選択された燃料が好ましい。本実施形態では、燃料９は、メタノール及び水が等モルで均一に混合されたものである。
【００２６】
図１に示すように、発電モジュール５は、燃料容器２から供給された燃料９を改質するための改質手段３と、改質手段３により改質された燃料により発電を行う燃料電池４と、燃料電池４で発電された電気エネルギーを貯蓄し必要に応じて電気エネルギーを供給する蓄電部６と、蓄電部６から供給された電気エネルギーを発電モジュール５全体に分配する分配部６０と、これら改質手段３、燃料電池４、蓄電部６及び分配６０を電子制御する制御部７０と、を有する。また、改質手段３は、本発明を適用した熱処理装置としての気化器３１、水蒸気改質反応器３２、水性シフト反応器３３及び選択酸化反応器３４から構成される。
【００２７】
図２に示すように、発電モジュール５は筐体５ａを有し、筐体５ａの内部には、気化器３１、水蒸気改質反応器３２、水性シフト反応器３３及び選択酸化反応器３４が順に重ねられて設けられており、気化器３１、水蒸気改質反応器３２、水性シフト反応器３３及び選択酸化反応器３４を囲むようにして燃料電池４が設けられている。また、燃料電池４の外側であって筐体５ａの外周面には、空気中の酸素を吸気するためのスリット１３が形成されている。筐体５ａの頭頂部には、蓄電部６（図１に図示）から外部のデバイスに電気エネルギーを供給するための端子１４が設けられており、端子１４の周囲であって筐体５ａの頭頂部には複数の通気孔３５が形成されている。筐体５ａの底部には、燃料容器２と嵌合するために下方に突出する管７，８が設けられており、管７は水を排出するためのものであり、管８は燃料容器２から燃料９を吸入するためのものである。また、管７には、バルブ３６が設けられており、筐体５ａに設けられた水導入管３８がこのバルブ３６を介して管７に通じている。
【００２８】
発電モジュール５の下部に燃料容器２の上部を取り付けると、発電モジュール５の管７が燃料容器２の管３７に挿入され、発電モジュール５の管８が筐体２１の貫通孔及びボトル３９の供給口３９ａに挿入される。そして、発電モジュール５の管８が供給口３９ａに挿入されると、閉塞膜１２が管８によって破られ、燃料９が供給管１１内での毛細管現象等により発電モジュール５へ供給されるようになる。また、燃料電池４で生成された副生成物の水が、管７及び管３７を通じてボトル３９とは別の水用ボトル（図示略。燃料容器２に設けられている。）に排出されるようになる。
【００２９】
気化器３１は、燃料容器２のボトル３９から管８を通じて供給された燃料９を加熱することで、燃料９を蒸発させるものである。気化器３１においては、ボトル３９から供給された燃料９が被熱処理原料である。気化器３１で気化した混合気は、水蒸気改質反応器３２へ供給される。なお、気化器３１の詳細については後述する。
【００３０】
水蒸気改質反応器３２は、化学反応式（１）のように、気化器３１から供給された混合気を改質触媒で水素ガスと二酸化炭素ガスに改質するものである。
ＣＨ_３ＯＨ＋Ｈ_２Ｏ→３Ｈ_２＋ＣＯ_２ …（１）
また、気化器３１から供給された混合気が完全に水素ガスと二酸化炭素ガスに改質されない場合もあり、化学反応式（２）のように、水蒸気改質反応器３２で微量の一酸化炭素ガスが生成される。
２ＣＨ_３ＯＨ＋Ｈ_２Ｏ→５Ｈ_２＋ＣＯ＋ＣＯ_２ …（２）
水蒸気改質反応器３２で生成された水素ガス、二酸化炭素ガス及び一酸化炭素に加えて未反応の水蒸気は、水性シフト反応器３３へ供給される。水蒸気改質反応器３２においては、気化器３１から供給された混合気が被熱処理原料である。水蒸気改質反応器３２の詳細については後述する。
なお、燃料９に含有した化学燃料の濃度を高くするために、化学反応式（２）の左辺の水として燃料電池４で生成された水をバルブ３６で制御された水導入管３８を介して水蒸気改質反応器３２に導入させてもよく、またボトル３９とは別の水用ボトルに溜まっている水を管３７から水導入管３８に毛細管現象等を利用して導入させることにより得ることもできる。
【００３１】
水性シフト反応器３３は、水蒸気改質反応器３２から供給された混合気（水素ガス、二酸化炭素ガス、水蒸気及び一酸化炭素ガス）のうち一酸化炭素ガスを触媒で水性シフト反応させるものである。
ＣＯ＋Ｈ_２Ｏ→ＣＯ_２＋Ｈ_２ …（３）
【００３２】
水蒸気改質反応器３２において未反応だった水蒸気が水性シフト反応に用いられ、混合気の水蒸気及び一酸化炭素ガス濃度は非常に希薄になる。水性シフト反応器３３から選択酸化反応器３４へ混合気（水素ガス、二酸化炭素ガス及び一酸化炭素ガスを含む）が選択酸化反応器３４へ供給される。水性シフト反応器３３においては、水蒸気改質反応器３２から供給された混合気が、被熱処理原料である。水性シフト反応器３３の詳細については後述する。
なお、化学反応式（３）の左辺の水は、燃料９内に含まれる化学反応式（２）で未反応の水を利用してもよく、また燃料電池４で生成された水をバルブ３６で制御された水導入管３８を介して水性シフト反応器３３に導入させてもよく、またボトル３９とは別の水用ボトルに溜まっている水を管３７から水導入管３８に毛細管現象等を利用して導入させることにより得ることもできる。
【００３３】
選択酸化反応器３４は、水性シフト反応器３３から供給された混合気のうち一酸化炭素ガスを触媒によって選択し、化学反応式（４）のように一酸化炭素ガスを酸化させるものである。選択酸化反応器３４においては、水性シフト反応器３３から供給された混合気が被熱処理原料である。
２ＣＯ＋Ｏ_２→２ＣＯ_２ …（４）
化学反応式（４）の左辺の酸素は、通気孔３５を介して大気中から選択酸化反応器３４に取り込まれる。また、選択酸化反応器３４には、化学反応式（４）の化学反応を選択的に促進する触媒が形成されているため、混合気に含まれる水素はほとんど酸化しない。選択酸化反応器３４から燃料電池４へ混合気が供給されるが、その混合気には一酸化炭素ガスが殆ど含まれず、水素ガス及び二酸化炭素ガスの純度が非常に高い。選択酸化反応器３４に水素とそれ以外の無害の副生成物とに分離できる機構が設けられていれば、通気孔３５からその副生成物を排出するようにしてもよい。
選択酸化反応器３４の詳細については後述する。
【００３４】
燃料電池４は、触媒微粒子が付着した燃料極（カソード）と、触媒微粒子が付着した空気極（アノード）と、燃料極と空気極との間に介装されたフィルム状のイオン伝導膜とを具備する。燃料極には、選択酸化反応器３４からの混合気が供給され、空気極には、発電モジュール５の外周に設けられたスリット１３を介して大気中の酸素ガスが供給される。
【００３５】
電気化学反応式（５）に示すように、燃料極に水素ガスが供給されると、燃料極に付着した触媒により電子の分離した水素イオンが発生し、水素イオンがイオン伝導膜を通じて空気極へ伝導し、燃料極より電子が取り出される。また、選択酸化反応器３４から供給された混合気のうち二酸化炭素ガスは、反応せずに外部に放出される。
３Ｈ_２→６Ｈ^＋＋６ｅ⁻ …（５）
一方、電気化学反応式（６）に示すように、空気極に酸素ガスが供給されると、イオン導電膜を通過した水素イオンと、酸素ガスと、電子とが反応して、水が生成される。
６Ｈ^＋＋３／２Ｏ_２＋６ｅ⁻→３Ｈ_２Ｏ …（６）
燃料電池４で以上のような電気化学反応が起こることによって、電気エネルギーが生成される。生成された電気エネルギーは、蓄電部６に貯蓄されるようになっている。
【００３６】
気化器３１、水蒸気改質反応器３２、水性シフト反応器３３及び選択酸化反応器３４は、シリコン、アルミニウム合金又はガラスからなる小型の基板に形成されたマイクロ流路に流体を流してこの流体を気化させるか又は流体の少なくとも一部に化学反応を引き起こさせるマイクロリアクタとして機能するものである。以下、気化器３１、水蒸気改質反応器３２、水性シフト反応器３３及び選択酸化反応器３４の構造について説明する。
【００３７】
図３は、気化器３１に備わった熱処理炉４０を示した斜視図である。
気化器３１の熱処理炉４０は、二つの基板４１，４２が重なり合って接合された構造となっており、これら基板４１，４２の接合部には葛折りとなったマイクロ流路４３が形成されている。基板４１、４２はシリコン結晶やアルミニウム、ガラス等から選択された材質で構成されている。
【００３８】
マイクロ流路４３は、基板４１の一方の面に形成された葛折り状の溝を基板４２に向かい合わせて、基板４１と基板４２を貼り合わせることによって形成され、封止されている。溝は、基板４１の一方の面にフォトリソグラフィー法、エッチング法等を適宜施すことによって形成される。基板４１の寸法は、一例として、長さ１５〜３５ｍｍ程度、幅１０〜２５ｍｍ程度、厚さ０．４〜１ｍｍ程度であり、基板４１の一面に設けられた葛折りの溝の寸法は、一例として、幅０．２〜０．８ｍｍ程度、深さ０．２〜０．６ｍｍ程度であり、全長は３０〜１０００ｍｍ程度である。
【００３９】
図４は、マイクロ流路４３に垂直な面で気化器３１を破断して示した断面図である。図４に示すように、基板４２の基板４１に向き合った面には、マイクロ流路４３に対応するように葛折り状の発熱抵抗膜４７が形成されている。基板４１と基板４２が貼り合わせられると、基板４１に形成された溝に発熱抵抗膜４７が重なり、発熱抵抗膜４７がマイクロ流路４３の床を形成するようになる。そして、発熱抵抗膜４７は、マイクロ流路４３の一端から他端までマイクロ流路４３に沿って形成されている。この発熱抵抗膜４７は、当該発熱抵抗膜４７に電力が付与されることにより発熱するものであり、例えばＬａ_１−ｂＳｒ_ｂＭｎＯ_３、Ｎｄ_１−ｂＳｒ_ｂＭｎＯ_３、Ｌａ_１−ｂＳｒ_ｂＣｏＯ_３等の強磁性ペロブスカイト型複合酸化物からなる。また、発熱抵抗膜４７全体を覆うように保護絶縁膜が成膜されており、保護絶縁膜は例えばＳｍＦｅＯ_３、ＧｄＦｅＯ_３のいずれかで形成されている。
【００４０】
図３、４に示すように、マイクロ流路４３の一方の端部であって基板４２側には供給管４４が連結しており、マイクロ流路４３の他方の端部であって基板４１側には排出管４５が連結している。供給管４４は上記管８に通じており、燃料容器２から供給管４４及び管８を介してマイクロ流路４３に燃料９が供給されるようになっている。供給管４４及び管８の間には、供給管４４から管８に向けて流れる燃料の流量が制御部７０により制御されたポンプが介在されている。
【００４１】
発熱抵抗膜４７に電力を供給して発熱抵抗膜４７を発熱させるために、マイクロ流路４３の一端において発熱抵抗膜４７にリード線４８が接続されており、マイクロ流路４３の他端において発熱抵抗膜４７にリード線４９が接続されている。リード線４８，４９は、金、白金、ニッケルといった抵抗率が非常に低い金属材料で形成されており、リード線４８，４９の電気抵抗は、発熱抵抗膜４７の電気抵抗に比較しても非常に低い。特に、リード線４８，４９は、金、白金といった化学的に安定した金属材料で形成されていることが望ましい。
【００４２】
リード線４８，４９の外周表面には、金属酸化物からなる酸化物膜５０が成膜されている。リード線４８，４９がニッケル又はニッケルを主成分とした合金の場合には、酸化物膜５０は、リード線４８，４９の酸化被膜であることが簡易に製造できる観点から好ましい。この場合には、酸化物膜５０は、ニッケル又はニッケル合金のリード線４８，４９を大気（酸素が含まれていれば、雰囲気は大気に限らない。）中で４００℃に加熱することでリード線４８，４９の表面がニッケルの酸化物（ＮｉＯ）に酸化されることによって形成される。ニッケル合金は、ニッケルを５０％以上含有したものが望ましい。なお、リード線４８，４９がクロム又はクロム合金からなり、酸化物膜５０がクロムの酸化被膜であっても良い。
【００４３】
リード線４８，４９が金又は白金の場合には、酸化物膜５０の金属酸化物は、ＴａとＳｉとＯとを構成元素とした無機化合物が好ましい。この場合には、酸化物膜５０は、酸化シリコン（ＳｉＯ_２）とタンタル（Ｔａ）との焼結体をターゲットとしてスパッタリングを行うことによって、リード線４８，４９の表面に成膜される。このように成膜された酸化物膜５０は、アモルファスとなっている。全体に対するＴａの組成比をｘモル％、Ｓｉの組成比をｙモル％、Ｏの組成比をｚモル％としたら、０＜ｙ≦ｘであり、２５≦ｚ≦５０であるのが望ましい。Ｏの組成比が５０モル％以下であれば、酸化物膜５０と金のリード線４８，４９との密着性が高く、Ｏの組成比が２５モル％以下であれば、酸化物膜５０とガラスとの密着性が高いためである。なお、酸化物膜５０に不純物が含まれていなければ、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１００である。
【００４４】
また、リード線４８，４９が金又は白金の場合に、酸化物膜５０の金属酸化物が、ＳｍとＦｅとＯとを構成元素とした無機化合物であっても良い。この場合には、酸化物膜５０は、硝酸塩熱分解法によって成膜することができる。つまり、六水和物の硝酸サマリウム（Ｓｍ（ＮＯ_３）_３・６Ｈ_２Ｏ）及び九水和物の硝酸鉄（Ｆｅ（ＮＯ_３）_３・９Ｈ_２Ｏ）が所定濃度（例えば、０．３ｍｏｌ／ｌ以上１．０ｍｏｌ／ｌ以下）でエタノール等の有機溶剤に溶解された溶液にリード線４８，４９をディップ法等によりコーティングし、その後乾燥させる。そして、乾燥後にリード線４８，４９の周辺雰囲気を昇温させてリード線４８，４９及びその表面の被膜を５００℃に加熱すると、リード線４８，４９の表面に絶縁性のＳｍＦｅＯ_３からなる酸化物膜５０が得られる。加熱温度は、５００℃に限らず、５００℃を越えても良く、７００℃以上となれば多結晶のＳｍＦｅＯ_３が得られる。
【００４５】
ＳｍＦｅＯ_３からなる酸化物膜５０は白金のリード線４８，４９及びガラスに対して密着性が高いが、金のリード線４８，４９に対しては白金ほど高くない。そこで、リード線４８，４９及びその表面の被膜を加熱する時に、周辺雰囲気を窒素等の不活性ガス雰囲気のような低酸素濃度雰囲気とすることによって、酸化物膜５０の無機化合物中の酸素が欠損し、ＳｍＦｅＯ_３−ａ（但し、０＜ａ＜３）が得られる。ＳｍＦｅＯ_３−ａからなる酸化物膜５０は、金のリード線４８，４９及びガラスに対して高い密着性を示す。なお、酸化物膜５０は、Ｓｍとは別の希土類元素とＦｅとＯとを構成元素とした無機化合物からなっていても良い。この場合にも、希土類硝酸塩及び硝酸鉄を溶質とした溶液をリード線４８，４９にコーティングして加熱すれば良い。
【００４６】
更に、気化器３１は、低融点ガラスで形成されたガラス容器５３を有する。ガラス容器５３が内部に密閉空間５５を形成し、気化器３１の熱処理炉４０がガラス容器５３内の密閉空間５５に配置されている。熱処理炉４０は、ガラス容器５３の内壁から離間するように、ガラス容器５３の角部に形成された支持体５４，５４，…によって支持されている。ガラス容器５３の内壁には、アルミ等で形成された輻射シールド膜５１が形成されており、輻射シールド膜５１は赤外線のような熱線を含む電磁波に対して高い反射性を有している。ガラス容器５３の外壁にも輻射シールド膜５２が形成されている。輻射シールド膜５１，５２がガラス容器５３の表面に形成されているため、熱処理炉４０で発した電磁波がガラス容器５３外へほとんど伝播せずに、輻射シールド膜５１，５２で熱処理炉４０へ反射し、ガラス容器５３外への熱輻射が抑えられている。
【００４７】
ガラス容器５３内の密閉空間５５は、気圧が非常に低く、真空圧となっている。密閉空間５５が真空圧となっているため、熱伝搬する媒体がほとんどないため、熱処理炉４０からガラス容器５３外へ放熱することが抑えられている。
【００４８】
熱処理炉４０から導き出たリード線４８，４９はガラス容器５３を貫通し、ガラス容器５３の外部へと導き出ている。リード線４８，４９の表面に形成された酸化物膜５０は、ガラス容器５３を貫通している部分においてガラス容器５３に密着している。上述したように、酸化物膜５０の密着性はガラスやリード線４８，４９の金属又は合金に対して非常に高いため、外気がリード線４８，４９とガラス容器５３との間を通じてガラス容器５３内に漏洩することはない。
【００４９】
また、管４４，４５もガラス容器５３を貫通し、ガラス容器５３の外部へと導き出ている。ガラス容器５３は、密閉空間５５を形成するための凹部を有したガラスの上箱及び下箱の凹部を向かい合わせて、上箱及び下箱の壁を合致させて接合することによって形成される。この場合、熱処理炉４０を上箱及び下箱の凹部に配置して、上箱の壁と下箱の壁との間にリード線４８，４９を挟むようにする。管４４，４５は少なくともガラス容器５３、輻射シールド膜５１，５２と接する周囲に、ＳｍＦｅＯ_３、ＧｄＦｅＯ_３、ニッケルの酸化物のような金属酸化物を被膜しておりガラス容器５３，輻射シールド膜５１，５２と密着性が高い。
【００５０】
リード線４８は、ガラス容器５３の外部において分配部６０の一方の電極に接続されており、リード線４９はガラス容器５３の外部において分配部６０の他方の電極に接続されている。また、分配部６０は、制御部７０からの制御信号に応じて発熱抵抗膜４７に供給する電力を変更できる機能を有している。例えば、分配部６０によって印加される電圧が一定であれば、分配部６０はリード線４８，４９に流す電流を変更でき、分配部６０によって流れる電流が一定であれば、分配部６０はリード線４８−リード線４９に印加する電圧を変更できる。もちろん、分配部６０が、電圧と電流の両方を変更できても良く、直流駆動、交流駆動のいずれであっても良い。
【００５１】
制御部７０は、汎用のＣＰＵ（ｃｅｎｔｒａｌｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇｕｎｉｔ）等からなる演算処理装置又は専用の論理回路を有し、分配部６０の電圧及び電流を示す信号をフィードバックして、分配部６０から発熱抵抗膜４７に付与する電力を調整するものである。これにより、発熱抵抗膜４７による加熱温度が調整されるようになっている。
【００５２】
図５に示すように、水蒸気改質反応器３２、水性シフト反応器３３及び選択酸化反応器３４のいずれも、気化器３１と同様に、熱処理炉４０と、発熱抵抗膜４７と、ガラス容器５３と、輻射シールド膜５１，５２と、供給管４４と、排出管４５と、リード線４８，４９と、酸化物膜５０と、を備える。
【００５３】
水蒸気改質反応器３２の供給管４４は、気化器３１の排出管４５に通じており、水蒸気改質反応器３２の排出管４５は、水性シフト反応器３３の供給管４５に通じており、水性シフト反応器３３の排出管４５は、選択酸化反応器３４の供給管４５に通じており、選択酸化反応器３４の排出管４５は、燃料電池４の燃料極に通じている。また、水蒸気改質反応器３２の外側に被膜された輻射シールド膜５２は、気化器３１の輻射シールド膜５２及び水性シフト反応器３３に接するように積層され、選択酸化反応器３４の外側に被膜された輻射シールド膜５２は水性シフト反応器３３に接するように積層されている。
【００５４】
水蒸気改質反応器３２、水性シフト反応器３３及び選択酸化反応器３４の何れにおいても、マイクロ流路４３の内壁及び天井（つまり、基板４１の溝の壁面）には改質触媒膜４６がマイクロ流路４３の一端から他端までマイクロ流路４３に沿って形成されている。改質触媒膜４６は化学燃料を改質して水素を生成するものであり、改質触媒膜４６の成分・種類などは、水蒸気改質反応器３２、水性シフト反応器３３、選択酸化反応器３４の間で異なっていても良い。ここで、水蒸気改質反応器３２の場合には、上記化学反応式（１）で示された化学反応が改質触媒膜４６によって促進され、水性シフト反応器３３の場合には、上記化学反応式（３）で示された化学反応が改質触媒膜４６によって促進され、選択酸化反応器３４の場合には、上記化学反応式（４）で示された化学反応が改質触媒膜４６によって促進される。
【００５５】
また、水蒸気改質反応器３２、水性シフト反応器３３及び選択酸化反応器３４の何れにおいても、気化器３１と同様に、リード線４８，４９がガラス容器５３を貫通し、酸化物膜５０がガラス容器５３とリード線４８，４９との間に介在するとともにガラス容器５３及びリード線４８，４９に密着している。また、水蒸気改質反応器３２、水性シフト反応器３３及び選択酸化反応器３４の何れにおいても、気化器３１と同様に、リード線４８及びリード線４９は分配部６０に接続されており、発熱抵抗膜４７による加熱温度が制御部７０によって調整されるようになっている。そして水蒸気改質反応器３２、水性シフト反応器３３及び選択酸化反応器３４のそれぞれの管４４，４５は少なくともガラス容器５３、輻射シールド膜５１，５２と接する周囲に、ＳｍＦｅＯ_３、ＧｄＦｅＯ_３、ニッケルの酸化物のような金属酸化物を被膜しておりガラス容器５３，輻射シールド膜５１，５２と密着性が高い。
【００５６】
なお、水蒸気改質反応器３２、水性シフト反応器３３及び選択酸化反応器３４については、気化器３１と同様の構成要素に同様の符号を付してその詳細な説明を省略する。
【００５７】
次に、気化器３１、水蒸気改質反応器３２、水性シフト反応器３３及び選択酸化反応器３４の製造方法について説明する。
まず、基板４１，４２を準備し、基板４２の一方の面に、発熱抵抗膜４７を葛折り状に形成する。発熱抵抗膜４７は、ペロブスカイト型複合酸化物膜を形成し、その膜をフォトリソグラフィー法及びエッチング法を用いて形状加工することによって得られる。ペロブスカイト型複合酸化物膜の形成方法は、以下のようになる。
【００５８】
まず、硝酸ランタン塩（Ｌａ（ＮＯ_３）_３・６Ｈ_２Ｏ）、硝酸ストロンチウム塩（Ｓｒ（ＮＯ_３）_３）、硝酸マンガン塩（Ｍｎ（ＮＯ_３）_３・６Ｈ_２Ｏ）をそれぞれ１メチル−２ピロリドンに溶解してから硝酸ランタン溶液、硝酸ストロンチウム溶液、硝酸マンガン溶液を混合する。溶液中の硝酸ランタン塩、硝酸ストロンチウム塩、硝酸マンガン塩のモル濃度比（組成比）は順に、１−ｂ：ｂ：１（但し、０＜ｂ＜１）である。
【００５９】
次いで、調製した溶液を基板４２の表面に塗布し（手順１）、溶液を塗布した面を上に向けて基板４２を真空デジケータ内にセッティングし、真空ポンプによって真空デジケータ内を真空圧とする（手順２）と、塗布した溶液が蒸発されて粘性が高まる。そして、真空デジケータ内において基板４２を数回〜数十回揺動して溶液の拡散を促して（手順３）、塗布した溶液を均一な厚さの膜とする。溶液中には溶剤として１メチル−２ピロリドンが含まれており、且つ真空圧で溶液を乾燥しているため、基板４２の表面に形成された膜は白濁しないで無色透明になる。
【００６０】
次いで、基板４２を真空デジケータから取り出して、電気炉内にセッティングし、電気炉内を真空圧にするとともに、電気炉内の温度を７０分かけて室温から３５０℃まで上昇させて、３５０℃の状態を１５分保持する（手順４）。この時に、基板４２に表面に形成された膜が茶色に変色する。
そして、基板４２の表面に形成した膜を目的の厚さにする場合には、手順１〜手順４を繰り返して積層させる。
その後、基板４２を電気炉内にセッティングし、電気炉内の温度を４００℃〜７００℃程度に加熱する。この状態を３０分〜１時間保ち、基板４２の表面に形成された膜を反応させる。これにより、基板４２の表面には、Ｌａ_１−ｂＳｒ_ｂＭｎＯ_３からなるペロブスカイト型複合酸化物膜が形成される。
【００６１】
基板４２の表面に塗布する溶液中の硝酸ストロンチウム塩の濃度比（組成比）ｂ、硝酸塩の濃度（硝酸ランタン塩、硝酸ストロンチウム塩、硝酸マンガン塩全体の濃度）、溶液の塗布回数を変えて、様々な条件で行った場合のペロブスカイト型複合酸化物膜のシート抵抗、膜厚、抵抗率を表１に示す。表１において、基板４２の大きさは、４インチ×４インチとしている。
【表１】

【００６２】
上記手順３では、基板４２を揺動させていたが、スピンナーによって、基板４２に対して垂直な軸周りに基板４２を回転させても良い。基板４２を回転させた場合に、様々な条件で行ったときのペロブスカイト型複合酸化物膜の抵抗率を表２に示す。ここで硝酸塩の濃度は表１と同様に硝酸ランタン塩、硝酸ストロンチウム塩、硝酸マンガン塩全体の濃度である。また試料番号ＮＯ．１８〜Ｎｏ．２９、ＮＯ．３１は、電気炉内の温度を１２０分かけて室温から７５０℃まで昇温し、７５０℃で６０分間焼成し続けたものであり、試料番号Ｎｏ．３０は、電気炉内の温度を９０分かけて室温から７５０℃まで昇温し、７５０℃で３０分間焼成し続けたものであり、試料番号Ｎｏ．３２は、電気炉内の温度を９０分かけて室温から７５０℃まで昇温し、７５０℃で４０分間焼成し続けたものである。
【表２】

【００６３】
表１、表２ともにペロブスカイト型複合酸化物膜中のストロンチウムの組成比が高いと、概ね抵抗率が低くシート抵抗を下げる傾向があった。なお、硝酸ランタン塩、硝酸ストロンチウム塩、硝酸マンガン塩が１メチル−２ピロリドンに溶解された溶液を基板４２に塗布したが、硝酸ネオジウム塩、硝酸ストロンチウム塩、硝酸マンガン塩が１メチル−２ピロリドンに溶解された溶液を基板４２に塗布しても良い。この場合、成膜されるペロブスカイト型複合酸化物膜は、Ｎｄ_１−ｂＳｒ_ｂＭｎＯ_３（但し、０＜ｂ＜１）からなる。また、硝酸ランタン塩、硝酸ストロンチウム塩、硝酸コバルト塩を１メチル−２ピロリドンに溶かした溶液を基板４２に塗布しても良い。この場合には、成膜されるペロブスカイト型複合酸化物膜は、Ｌａ_１−ｂＳｒ_ｂＣｏＯ_３（但し、０＜ｂ＜１）からなる。何れにおいても、以上のように成膜したペロブスカイト型複合酸化物膜は、白濁しておらず、非常に滑らかで平坦な表面を有した膜である。
【００６４】
次いで、基板４２に成膜されたペロブスカイト型複合酸化物膜上にレジストを形成し、レジストをマスクとしてペロブスカイト型複合膜をエッチングすることによって、葛折り状となった発熱抵抗膜４７に形状加工する。
【００６５】
次いで、金、白金、ニッケル又はニッケル合金で形成されたリード線４８を発熱抵抗膜４７の一方の端に接続し、白金、ニッケル又はニッケル合金で形成されたリード線４９を発熱抵抗膜４７の他方の端に接続する。
【００６６】
次いで、発熱抵抗膜４７全体を覆うように基板４２の表面に保護絶縁膜を以下のようにして成膜する。
まず、硝酸サマリウム塩（Ｓｍ（ＮＯ_３）_３・６Ｈ_２Ｏ）及び硝酸鉄塩（Ｆｅ（ＮＯ_３）_３・９Ｈ_２Ｏ）が一対一の割合となるように１メチル−２ピロリドンに溶解された溶液を調製する。硝酸サマリウム塩の代わりに硝酸カドリニウム塩であっても良い。
【００６７】
次いで、調製した溶液を基板４２（表面には発熱抵抗膜４７が形成されている。）の表面に塗布し（手順１）、スピンナーによって基板４２に対して垂直な軸周りに基板４２を回転させて（手順２）、塗布した溶液を均一な厚さの膜とする。そして、容器を塗布した面を上に向けて基板４２を真空デジケータ内にセッティングし、真空ポンプによって真空デジケータ内を真空圧とし、その状態で３０分〜６０分保持する（手順３）と、塗布した溶液が乾燥する。
そして、基板４２の表面に形成した膜を目的の厚さにする場合には、手順１〜手順３を繰り返し、その後、基板４２を電気炉内にセッティングし、電気炉内の温度を４００℃〜７００℃程度に加熱する。この状態を３０分〜１時間保ち、基板４２の表面に形成された膜を反応させる。これにより、調製した溶液に硝酸サマリウム塩が含まれている場合には、ＳｍＦｅＯ_３からなる保護絶縁膜が基板４２の表面に形成され、調製した溶液に硝酸カドリニウム塩が含まれている場合には、ＧｄＦｅＯ_３からなる保護絶縁膜が基板４２の表面に形成される。図６に、基板４２上にリード線４８として、２１０ｎｍの厚さのＷ−Ｔｉの合金層である下地層上に、７００ｎｍの厚さのＡｕ層、３００ｎｍの厚さのＷ−Ｔｉの合金層が順次積層された三層構造のものを用いたときに、その上方をＳｍＦｅＯ_３からなる保護絶縁膜で覆ったときのステップカバレッジを示す断面図である。ここで実線は保護絶縁膜を成膜する前での基板４２表面での段差を示し、波線は保護絶縁膜を成膜した後での基板４２表面の段差を示す。横軸の長さ約２２μｍ以上では、上記三層構造のリード線４８が配置され、約１０μｍから２２μｍの間ではＷ−Ｔｉの下地層の単層のみが配置されている。このように基板４２とリード線４８との間に段差があったものとしても、この保護絶縁膜は、その保護絶縁膜の表面の段差が緩和するように電極や発熱抵抗膜がない部分又は薄い部分を補償するように集中的に成膜される。このため、基板４２と基板４１との間に配置されるリード線４８が埋設されるための空間の高さがほぼ一定になるので、基板４２と基板４１とが良好に接合できるようなリード線４８のための空間の間隔を容易に設定できる。これにより、マイクロ流路４３に流れる流体が基板４２と基板４１との間から漏洩することがない。なお、得られた保護絶縁膜の凹凸を表面粗さ測定装置で測定した場合の結果を図７に示す。図７（ａ）は、８０ｎｍ厚のＳｍＦｅＯ_３からなる保護絶縁膜の結果であり、横軸は表面に沿った線上の位置を表し、縦軸は基準位置からの高さを表す。図７（ｂ）は、１００ｎｍ厚のＧｄＦｅＯ_３からなる保護絶縁膜の結果である。いずれも表面の凹凸の差は平均して１０ｎｍ以内に収まっている。同様に、発熱抵抗膜４７が基板４１の外側又は基板４２の外側に配置されている場合、基板表面では発熱抵抗膜４７の厚さによる段差が生じ、発熱抵抗膜４７上にリード線４８が設けられた場合、さらにリード線４８の厚さによる段差を生じるが、このような保護絶縁膜を、基板４１又は基板４２と発熱抵抗膜４７とを跨るように覆いながら成膜したり、基板４１又は基板４２と発熱抵抗膜４７とリード線４８とを跨るように覆いながら成膜することで、その間に生じる段差を相殺するように最上面を平坦、平滑にできるため、設計時に従来のような凹凸のためのクリアランスを考慮する必要がないのでより省スペース化を図ることができる。また、基板４１又は基板４２がガラス容器５３を用いることなく、隣接する構成部材と直接接触する構成であった場合、積層する際に、段差によって互いに傾くことがない。
【００６８】
次いで、基板４１の一方の面に、葛折り状の溝をエッチング、サンドブラスト法等により形成する。ここで、水蒸気改質反応器３２、水性シフト反応器３３及び選択酸化反応器３４を製造する場合には、基板４１に形成された溝の壁面に改質触媒膜４６を成膜する。
【００６９】
次いで、基板４１に形成された溝と、基板４２に形成された発熱抵抗膜４７とを相対向するようにして、基板４１に基板４２を貼り合わせて接合する。これにより、マイクロ流路４３が形成され、熱処理炉４０が完成する。
【００７０】
次に、リード線４８，４９の表面に酸化物膜５０を形成する。
リード線４８，４９がニッケル又はニッケル合金からなる場合には、リード線４８，４９を大気中で４００℃に加熱することでリード線４８，４９の表面に、ＮｉＯからなる酸化物膜５０を形成する。
また、リード線４８，４９が金又は白金の場合には、酸化シリコン（ＳｉＯ_２）とタンタル（Ｔａ）との焼結体をターゲットとしてスパッタリングを行うことによって、ＴａとＳｉとＯとを構成元素とした無機化合物からなる酸化物膜５０を形成する。
また、リード線４８，４９が金又は白金の場合には、他にもＳｍＦｅＯ_３−ａ（但し、０＜ａ＜３）からなる酸化物膜５０であってもよい。ＳｍＦｅＯ_３−ａの製法は、まず六水和物の硝酸サマリウム（Ｓｍ（ＮＯ_３）_３・６Ｈ_２Ｏ）及び九水和物の硝酸鉄（Ｆｅ（ＮＯ_３）_３・９Ｈ_２Ｏ）がエタノール等の有機溶剤に溶解された溶液をリード線４８，４９にディップ法等によりコーティングし、その後乾燥させる。乾燥後、周辺雰囲気を窒素等の不活性ガス雰囲気中でリード線４８，４９及びその表面の被膜を５００℃に加熱することによって、ＳｍＦｅＯ_３−ａからなる酸化物膜５０をリード線４８，４９の表面に形成する。
【００７１】
次いで、ガラス容器５３を製造するために、凹部を有したガラスの上箱及び下箱を準備し、上箱及び下箱の内壁及び外壁に輻射シールド膜５１，５２を形成し、上箱及び下箱の凹部に支持体５４を設ける。次いで、真空雰囲気の下で、上箱の凹部と下箱の凹部を向かい合わせて、熱処理炉４０を支持体５４に支持するようにして、上箱の壁と下箱の壁との間にリード線４８，４９を挟み込んで、上箱の壁と下箱の壁とを合致させる。この状態で、上箱の壁と下箱の壁を接合することによってガラス容器５３が形成され、リード線４８，４９がガラス容器５３を貫通した状態となり、リード線４８，４９がガラス容器５３を貫通している部分において、酸化物膜５０がリード線４８，４９とガラス容器５３との間に介在してリード線４８，４９及びガラス容器５３に密着する。以上により、気化器３１、水蒸気改質反応器３２、水性シフト反応器３３、選択酸化反応器３４が完成する。酸化物膜５０は、ガラス及びリード線４８，４９に対して密着性が非常に高いため、ガラス容器５３内に外気がリード線４８，４９とガラス容器５３との間を通じて漏洩することはない。
【００７２】
次に、発電システム１の動作について説明する。
改質手段３を駆動するための制御信号が制御部７０から分配部６０に入力されると、電力が分配部６０から気化器３１、水蒸気改質反応器３２、水性シフト反応器３３及び選択酸化反応器３４のそれぞれの発熱抵抗膜４７にリード線４８，４９を介して供給され、それぞれの発熱抵抗膜４７が発熱する。ここで、制御部７０は、分配部６０から気化器３１、水蒸気改質反応器３２、水性シフト反応器３３の発熱抵抗膜４７及び選択酸化反応器３４のそれぞれの発熱抵抗膜４７に与える電圧及び電流を示す信号をフィードバックし、発熱抵抗膜４７が所定温度に発熱するように分配部６０の電圧及び電流を制御する。
【００７３】
この時、燃料９が燃料容器２のボトル３９から気化器３１の熱処理炉４０内に供給され、燃料９が発熱抵抗膜４７の熱によって蒸発し、気化器３１内の気圧が高くなって、対流が生じる。従って、メタノールと水の混合気が、気化器３１から水蒸気改質反応器３２、水性シフト反応器３３、選択酸化反応器３４、燃料電池４の順に自然に流れる。
【００７４】
水蒸気改質反応器３２においては、混合気が供給管４４から排出管４５へとマイクロ流路４３を流れる。混合気がマイクロ流路４３を流れている時には、混合気が発熱抵抗膜４７で加熱される。そして、混合気が改質触媒膜４６によって促進されて、混合気が上記化学反応式（１）・（２）のような反応を起こす。
【００７５】
水性シフト反応器３３においては、混合気がマイクロ流路４３を流れている時に発熱抵抗膜４７によって加熱されて、上記化学反応式（３）のような反応を起こす。選択酸化反応器３４においても同様に、混合気がマイクロ流路４３を流れている時に発熱抵抗膜４７によって加熱されて、上記化学反応式（４）のような反応を起こす。そして、水蒸気改質反応器３２、水性シフト反応器３３及び選択酸化反応器３２によって生成された水素が燃料電池４の燃料極に供給されて、燃料電池４で電気化学反応が起きて、電気エネルギーが生成される。生成された電気エネルギーは、蓄電部６に貯蓄されたり、端子１４を通じて外部に供給されたりする。
【００７６】
以上のように本実施形態では、リード線４８，４９が金又は白金である場合には、リード線４８，４９の抵抗率が非常に低く、電気エネルギーがリード線４８，４９で殆ど損失しない。そして、ＴａとＳｉとＯとを構成元素とした無機化合物からなる酸化物膜５０は、金又は白金のリード線４８，４９と密着性が良い上、ガラス容器５３とも密着性が高く。また、ＳｍＦｅＯ_３−ａからなる酸化物膜５０も、金又は白金のリード線４８，４９と密着性が良い上、ガラス容器５３とも密着性が高い。一般的に金属酸化物は金又は白金と密着性が低いが、以上の実施形態のように成膜した酸化物膜５０は、金又は白金のリード線４８，４９と密着性が高い。従って、外気がリード線４８，４９とガラス容器５３との間を通じて密閉空間５５に漏洩することはない。密閉空間５５が真空状態を保っているから、熱処理炉４０の熱が殆ど損失しない。
【００７７】
リード線４８，４９がニッケル又はニッケル合金である場合にも、リード線４８，４９の抵抗率が非常に低く、電気エネルギーがリード線４８，４９で殆ど損失しない。更に、ＮｉＯからなる酸化物膜５０は、ニッケル又はニッケル合金のリード線４８，４９と密着性が良い上、ガラス容器５３とも密着性が高い。従って、外気がリード線４８，４９とガラス容器５３との間を通じて密閉空間５５に漏洩せずに、密閉空間５５が真空状態を保っているから、熱処理炉４０の熱が殆ど損失しない。
【００７８】
なお、本発明は、上記実施の形態に限定されることなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、種々の改良並びに設計の変更を行っても良い。
例えば、燃料９がメタノールと水との混合物であったが、その他のアルコール類と水との混合物であっても良いし、ガソリンと水との混合物であっても良い。但し、燃料９の種類に応じて、改質触媒膜４６の種類も変更するのが望ましい。
【００７９】
また、気化器３１、水蒸気改質反応器３２、水性シフト反応器３３及び選択酸化反応器３４の何れの熱処理炉４０に形成された内部空間がマイクロ流路４３であったが、単に空洞状のチャンバーであっても良い。
【００８０】
また、上記実施形態では副生成物である一酸化炭素を除去する手段として水性シフト反応器３３及び選択酸化反応器３４の両方を適用したが、一酸化炭素の濃度を十分に低くすることができるのであれば、いずれか一方のみでもよい。
【００８１】
また、上記発熱抵抗膜４７がマイクロ流路４３に沿って形状加工されているが、基板４１と接合される基板４２の面の一面に形成されていても良い。また、発熱抵抗膜４７に保護絶縁膜を成膜せずに、発熱抵抗膜４７をマイクロ流路４３内に露出するように形成しても良いし、熱処理炉４０の外面に形成しても良い。
【００８２】
また、発熱抵抗膜４７は、Ｌａ_１−ｂＳｒ_ｂＭｎＯ_３、Ｎｄ_１−ｂＳｒ_ｂＭｎＯ_３、Ｌａ_１−ｂＳｒ_ｂＣｏＯ_３等の強磁性ペロブスカイト型複合酸化物で形成されたものとして説明したが、その他の合金、金属、半導体といった材料で形成されていても良い。
【００８３】
また、酸化物膜５０は、リード線４８，４９全体に成膜しなくても良く、ガラス容器５３を貫通している部分のみに成膜しても良い。
【００８４】
【発明の効果】
請求項１に記載の発明によれば、酸化物膜がリード線と容器のような互いに異なる複数種の材質に対して密着性が高いため、外気が容器とリード線との間を通じて容器内に漏洩することがない。従って、容器内の密閉状態を保つことができ、発熱体から生じた熱エネルギーの損失を抑えることができる。
【００８５】
請求項２に記載の発明によれば、ニッケルを含んだリード線は抵抗が低いため、リード線において電気エネルギーが損失することが防止される。また、リード線の酸化被膜である酸化物膜は、酸化物膜がリード線に対して密着性が高く、容器に対しても密着性が高いため、外気が容器とリード線との間を通じて容器内に漏洩することがない。
【００８６】
請求項３に記載の発明によれば、構成元素としてＴａとＳｉとＯとを含む無機化合物で形成された酸化物膜は、リード線と容器のような互いに異なる複数種の材質に対して密着性が高いため、外気が容器とリード線との間を通じて容器内に漏洩することがない。
【００８７】
請求項４に記載の発明によれば、構成元素としてＴａとＳｉとＯとを含む無機化合物で形成された酸化物膜は、リード線と容器のような互いに異なる複数種の材質に対して密着性が高いため、外気が容器とリード線との間を通じて容器内に漏洩することがない。
【００８８】
請求項５に記載の発明によれば、構成元素としてＲとＦｅとＯとを含む無機化合物で形成された酸化物膜は、リード線と容器のような互いに異なる複数種の材質に対して密着性が高いため、外気が容器とリード線との間を通じて容器内に漏洩することがない。
【００８９】
請求項６に記載の発明によれば、金で形成されたリード線が低抵抗であるため、リード線において電気エネルギーが損失することが防止される。
【００９０】
請求項７に記載の発明によれば、白金で形成されたリード線が低抵抗であるため、リード線において電気エネルギーが損失することが防止される。
【００９１】
請求項８に記載の発明によれば、金で形成されたリード線が低抵抗であるため、リード線において電気エネルギーが損失することが防止される。
【００９２】
請求項９及び請求項１０に記載の発明によれば、保護膜を設けることにより熱処理炉の最表面を平坦化することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の熱処理装置を備えた発電システムの基本構成を示したブロック図である。
【図２】発電システムを一部破断して示した斜視図である。
【図３】本発明の熱処理装置に備わった熱処理炉を示した斜視図である。
【図４】本発明の熱処理装置である気化器を示した断面図である。
【図５】本発明の熱処理装置である水蒸気改質反応器、水性シフト反応器、選択酸化反応器を示した断面図である。
【図６】本発明の熱処理装置に保護絶縁膜を設けた際の段差を示したグラフである。
【図７】保護絶縁膜の表面粗さを示したグラフである。
【符号の説明】
３１気化器（熱処理装置）
３２水蒸気改質反応器（熱処理装置）
３３水性シフト反応器（熱処理装置）
３４選択酸化反応器（熱処理装置）
４０熱処理炉
４３マイクロ流路（内部空間）
４７発熱抵抗膜（発熱体）
４８，４９リード線
５０酸化物膜
５３ガラス容器
５５密閉空間

Claims

発熱体と、
前記発熱体の熱により被熱処理原料を処理する熱処理炉と、
前記熱処理炉を覆うとともに前記熱処理炉の周囲に密閉空間を形成した容器と、
前記容器の外部から前記容器を貫通して前記発熱体に接続されたリード線と、
前記リード線が前記容器を貫通している部分において前記リード線と前記容器との間に介在した金属酸化物を有する酸化物膜と、を有することを特徴とする熱処理装置。
前記リード線にはニッケルが含まれ、前記酸化物膜の金属酸化物がニッケル酸化物であることを特徴とする請求項１に記載の熱処理装置。
前記酸化物膜の金属酸化物が、構成元素としてＴａとＳｉとＯとを含む無機化合物であることを特徴とする請求項１に記載の熱処理装置。
前記酸化物膜の金属酸化物が、構成元素としてＲ（Ｒは希土類属の何れかの元素である。）とＦｅとＯとを含む無機化合物であることを特徴とする請求項１に記載の熱処理装置。
前記無機化合物中の酸素が欠損して、前記無機化合物がＲＦｅＯ_３−ａ（但し、０＜ａ＜３）であることを特徴とする請求項４に記載の熱処理装置。
前記リード線が金で形成されていることを特徴とする請求項３から５の何れか一項に記載の熱処理装置。
前記リード線が白金で形成されていることを特徴とする請求項４又は５に記載の熱処理装置。
前記容器中の密閉空間が真空圧となっていることを特徴とする請求項１から７の何れか一項に記載の熱処理装置。
前記熱処理炉及び前記リード線を跨るように覆い、前記熱処理炉及び前記発熱体を跨るように覆い、又は、前記熱処理炉、前記発熱体及び前記リード線を跨るように覆う保護膜を備えることを特徴とする請求項１から８の何れか一項に記載の熱処理装置。
前記保護膜は、ＳｍＦｅＯ_３、ＧｄＦｅＯ_３のいずれかを有することを特徴とする請求項９に記載の熱処理装置。