JP2004233563A - 画像形成装置及びプロセスカートリッジ - Google Patents
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Abstract
【課題】長期にわたり繰り返し使用される場合であっても、感光体におけるピンホールリークの発生が充分に防止され、画像品質の優れたカラー画像を高速で形成できる画像形成装置及びプロセスカートリッジの提供。
【解決手段】画像形成装置２００は、電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄと、帯電手段４０２ａ〜４０２ｄ、露光手段４０３、及び現像手段４０４ａ〜４０４ｄを少なくとも有する画像形成ユニットと、転写手段４０９と、を備える。そして、画像形成装置２００は、画像形成ユニットは２以上備えており、電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄにおける感光層の膜厚が３０〜４５μｍであり下引層の膜厚が２０〜４０μｍでありかつ導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和が５０〜９０μｍであり、前記帯電手段４０２ａ〜４０２ｄが接触帯電装置であり、かつ、転写手段４０が中間転写方式を採用する構成を有している。
【選択図】 図２
【解決手段】画像形成装置２００は、電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄと、帯電手段４０２ａ〜４０２ｄ、露光手段４０３、及び現像手段４０４ａ〜４０４ｄを少なくとも有する画像形成ユニットと、転写手段４０９と、を備える。そして、画像形成装置２００は、画像形成ユニットは２以上備えており、電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄにおける感光層の膜厚が３０〜４５μｍであり下引層の膜厚が２０〜４０μｍでありかつ導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和が５０〜９０μｍであり、前記帯電手段４０２ａ〜４０２ｄが接触帯電装置であり、かつ、転写手段４０が中間転写方式を採用する構成を有している。
【選択図】 図２
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は複写機、プリンター及びファクシミリ等に用いられる画像形成装置及びプロセスカートリッジに関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、電子写真感光体は、高速、かつ高印字品質が得られるという利点を有するため、複写機、レーザービームプリンター等の画像形成装置において多く利用されている。
【０００３】
これら画像形成装置において用いられる電子写真感光体（以下、場合により「感光体）と略す）として、従来の無機光導電材料を用いた電子写真感光体に比べ、安価で製造性及び安全性の点で優れた利点を有するフタロシアニン系の顔料等の有機光導電材料を電荷発生物質として含有した電子写真感光体が主流を占める様になってきている。
【０００４】
このような感光体の中でも、露光により電荷を発生する電荷発生層と電荷を輸送する電荷輸送層とからなる感光層を有する機能分離型感光体は、感度・帯電性及びその繰り返し安定性等、電子写真特性の点で優れており、種々の構成の提案が成され、実用化されている。
【０００５】
この機能分離型感光体の場合、現在ではアルミニウム基体等の導電性支持体層上に中間層（下引層）を形成し、その後、中間層上に電荷発生層及び電荷輸送層を順次形成する場合が多い。
【０００６】
また、このような感光体における下引層は、画質欠陥の防止に関する役割が大きく、基材の欠陥や汚れ、或いは感光層等の下引層上に形成された各層の塗膜欠陥やむらに起因する画質欠陥を抑制するための重要な機能層である。
【０００７】
近年、環境問題等の社会的要求から、電子写真感光体の長寿命化が強く望まれており、長期間使用した場合（特に電子写真感光体の表面が摩耗した場合）における電気特性、耐リーク性能及び画質の低下を充分に防止でき、初期に得られる良好な画質の画像を継続的に形成可能な特性を有することが要求されている。
【０００８】
特に、近年、画像形成装置においては帯電手段として、コロトロンに代わりオゾン発生が少ない接触帯電装置が用いられるようになってきている。そして、このことに伴い感光層中にもしくは感光層上に異物が存在すると、感光体に局所的な欠陥部位が発生する等の問題が起こり易くなっていた。この結果、接触帯電時に感光体の欠陥部位に局所的に高電場がかかり、電気的なピンホール（ピンホールリーク）を生じ、これが画質欠陥となっていた。
【０００９】
そのため、感光体を長期にわたり繰り返し使用した場合における環境安定性（作動環境に置かれた場合の耐久性）や得られる画像の画質の安定性を改善する観点から、感光層の性能向上のみならず感光層の下地となる中間層（下引層）の性能向上（繰り返し使用による電荷蓄積性の少ない帯電特性に優れた中間層の開発）や、感光体の構成を変更するなどの様々な検討がなされている。
【００１０】
一方、近年、画像品質の優れたカラー画像を高速で形成するという観点から、複数の感光体ドラム、および各感光体ドラムごとに帯電装置、レーザー光照射装置および現像装置（以下、このように各感光体に対してそれぞれ帯電手段、露光手段及び現像手段を少なくとも有するユニットを「画像形成ユニット」という）を備えたカラー画像形成装置（以下、このように画像形成ユニットを２以上有する画像形成装置を「タンデム式画像形成装置」という。）が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【００１１】
【特許文献１】
特開平７−２８２９２号公報（請求項１）
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述の特許文献１に記載の画像形成装置においては、転写手段に中間転写方式を採用しているため、感光体と中間転写体とが接触するため、長期にわたり繰り返し使用すると感光体の損傷が起こり易く、ピンホールリークが発生し、充分な品質の画像が得られないという問題があった。
【００１３】
また、このようなピンホールリークは画像形成装置の作動中において、上記装置を構成する部材から発生する異物、ゴミ、キャリア粉等の導電性の異物が感光体に接触又は感光体中に貫入することによっても発生する場合があった。
【００１４】
更に、本発明者らは、従来の画像形成装置における帯電手段を非接触方式から接触方式に変更した場合には、従来の画像形成装置と比較して、感光層中もしくは感光層上に異物が存在すると感光体に局所的な欠陥部位がより発生しやすくなるとともに、接触帯電時に感光体の欠陥部位に局所的に高電場がかかり易くなり電気的なピンホールを生じるため、画質欠陥を生じ、充分な品質の画像が得られないという問題を見出した。
【００１５】
本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、長期にわたり繰り返し使用される場合であっても、感光体におけるピンホールリークの発生が充分に防止され、画像品質の優れたカラー画像を高速で形成できる画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供することを目的とする。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、画像形成装置をタンデム式とし、帯電手段に接触帯電装置を用い、かつ、転写手段の転写方式を中間転写方式とした場合であっても、搭載する電子写真感光体の感光層の膜厚、下引層の膜厚、及び導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和を所定の範囲とすることにより、上述の目的を達成可能であることを見出し、本発明に到達した。
【００１７】
すなわち、本発明は、導電性支持体層と、感光層と、導電性支持体層と感光層との間に配置される下引層と、を少なくとも有する電子写真感光体と、
電子写真感光体を帯電させる帯電手段と、帯電手段により帯電される電子写真感光体を露光して静電潜像を形成する露光手段と、静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像手段と、を少なくとも有する画像形成ユニットと、
トナー像を被転写媒体に転写する転写手段と、
を少なくとも備えており、
画像形成ユニットを２以上備えており、
電子写真感光体における、感光層の膜厚が３０〜４５μｍであり、下引層の膜厚が２０〜４０μｍであり、かつ、導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和が５０〜９０μｍであり、
帯電手段が、電子写真感光体に接触して電子写真感光体を帯電させる接触帯電装置であり、
転写手段が、トナー像を中間転写体を介して被転写媒体に転写する中間転写方式を採用する構成を有していること、
を特徴とする画像形成装置を提供する。
【００１８】
上記本発明の画像形成装置においては、感光層が、電荷発生物質を含む電荷発生層と、電荷輸送物質を含む電荷輸送層と、を少なくとも含む構成を有していることが好ましい。
【００１９】
本発明の画像形成装置によれば、搭載する電子写真感光体の感光層の膜厚、下引層の膜厚、及び導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和を充分な厚さとしたことにより、感光体に異物が混入しても、感光体におけるピンホールリークが発生し難く、この結果、画像品質を落とすことなく優れたカラー画像を高速で形成することを可能とした。
【００２０】
また、本発明は、電子写真感光体と、
接触帯電手段、現像手段、中間転写手段、クリーニング手段及び除電手段のうちの少なくとも一つの手段と、
を一体に有し、画像形成装置本体に着脱自在であるプロセスカートリッジであって、
電子写真感光体は、導電性支持体層と、感光層と、導電性支持体層と感光層との間に配置される下引層と、を少なくとも有しており、
感光層の膜厚が３０〜４５μｍであり、下引層の膜厚が２０〜４０μｍであり、かつ、導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和が５０〜９０μｍであることを特徴とするプロセスカートリッジを提供する。
【００２１】
上記本発明のプロセスカートリッジにおいても、感光層が、電荷発生物質を含む電荷発生層と、電荷輸送物質を含む電荷輸送層と、を少なくとも含む構成を有していることが好ましい。
【００２２】
本発明のプロセスカートリッジは、搭載する電子写真感光体の感光層の膜厚、下引層の膜厚、及び導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和を充分な厚さとしたことにより、感光体に異物が混入しても、感光体におけるピンホールリークが発生し難く、繰り返し使用した際にも、画像品質を落とすことなく優れたカラー画像を得ることができる。
【００２３】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図中、同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明は省略する。
【００２４】
先ず、本発明の画像形成装置の好適な一実施形態について説明する。図１は、画像形成装置に搭載される電子写真感光体の好適な基本構成の一例を示す断面図である。
【００２５】
図１に示すように、電子写真感光体１００においては、導電性支持体層３と、導電性支持体層３上に形成された下引層４と、さらに下引層４上に形成された感光層６と、から構成されている。また、感光層６は、下引層４上に形成された電荷発生層６１と、電荷発生層６１に形成された電荷輸送層６２との積層構造（二層構造）を有している。
【００２６】
先ず、導電性支持体層３について説明する。導電性支持体層３は、導電性を有していれば特に限定されるものはなく、例えば、アルミニウム、銅、鉄、ステンレス、亜鉛、ニッケル等の金属材料からなる金属ドラムを使用することができる。また、高分子材料（ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ナイロン、ポリスチレン、フェノール樹脂等）又は硬質紙等の絶縁材料に導電物質（カーボンブラック、酸化インジウム、酸化スズ、酸化アンチモン、金属、ヨウ化銅等）を分散させて導電処理したもの；上記の絶縁材料に金属泊を積層したもの；上記の絶縁材料に金属の蒸着膜を形成したもの等を用いることができる。
【００２７】
上記導電性支持体層３の形状は、円筒状（ドラム状）に限定されず、シート状、プレート状等であってもよい。
【００２８】
また、導電性支持体層３として金属パイプを用いる場合、金属パイプは素管のまま用いてもよく、また、予め鏡面研削、エッチング、陽極酸化、粗切削、センタレス研削、サンドブラスト、ウェットホーニング等の処理を施すことが好ましい。表面処理により基材表面を粗面化することで、レーザービームのような可干渉光源を用いた場合に発生しうる感光体内での干渉光による木目状の濃度斑を防止することができる。
【００２９】
次に、下引層４について説明する。下引層４は、導電性粒子（金属酸化物微粒子）及び結着樹脂を含んで構成されるものである。このような下引層４の体積抵抗は、２８℃、８５％ＲＨで１０６Ｖ／ｍの電場を印可したときに１０８〜１０１３Ω・ｃｍ（好ましくは１０８〜１０１１Ω・ｃｍ）の範囲内となるように、且つ、１５℃、１５％ＲＨで１０６Ｖ／ｍの電場を印可したときの体積抵抗が２８℃、８５％ＲＨで１０６Ｖ／ｍの電場を印可したときの体積抵抗の５００倍以下となるように設定されている。このように下引層４の体積抵抗及びその環境依存性が上記の条件を満たすように制御することによって、リーク防止性と電気特性とを高水準で両立することができる。
【００３０】
また、下引層４としては、２８℃、８５％ＲＨで１０６Ｖ／ｍの電場を印可したときの体積抵抗が２８℃、８５％ＲＨで１０７Ｖ／ｍの電場を印可したときの体積抵抗の１０００倍以下であるという条件を満たすものであることが好ましい。かかる体積抵抗の比が１０００倍を超えると、下引層４に異物が混入して局所的に大きな電場が印可されるときにリークが発生しやすくなる傾向にある。
【００３１】
下引層４においては、金属酸化物微粒子及び結着樹脂の種類、並びにその配合量を適宜選定し、さらには金属酸化物微粒子の結着樹脂中への分散性を高めることによって、その体積抵抗及びその環境依存性が上記の条件を満たすように制御することができる。
【００３２】
かかる金属酸化物微粒子の好ましい例としては、具体的には、酸化スズ、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム等が挙げられ、酸化スズ、酸化チタン、及び酸化亜鉛からなる群より選択される少なくとも１種であることが特に好ましい。このような金属酸化物微粒子の粉体抵抗値は、１０２〜１０１１Ω・ｃｍ（より好ましくは１０４〜１０１０Ω・ｃｍ）であることが好ましい。金属酸化物微粒子の粉体抵抗値が前記下限値未満であると充分なリーク防止性が得られない傾向にあり、他方、当該粉体抵抗値が前記上限値を超えると電子写真プロセスおいて残留電位の上昇が起こりやすくなる傾向にある。
【００３３】
また、金属酸化物微粒子の平均一次粒径は、１００ｎｍ以下であることが好ましく、１０〜９０ｎｍであることがより好ましい。金属酸化物微粒子の平均一次粒径が１００ｎｍを超えると、結着樹脂中への分散性が低下し、その結果、リーク防止性と電気特性との両立が困難となる傾向にある。
【００３４】
このような金属酸化物微粒子は、従来公知の製造方法によって得ることができる。例えば、酸化亜鉛の場合は、ＪＩＳ Ｋ１４１０に記載されている間接法（フランス法）、直接法（アメリカ法）、及び湿式法等；酸化チタンの場合は、硫酸法、塩素法、フッ酸法、塩化チタンカリウム法、及び四塩化チタン水溶液法等が挙げられる。また、後述するアークプラズマ法により金属酸化物微粒子を得ることもできる。
【００３５】
上記間接法は、金属亜鉛を加熱し（通常１０００℃程度）、亜鉛蒸気を熱空気によって酸化させて酸化亜鉛とし、冷却後に粒子の大きさによって分別するものである。また、上記直説法は、亜鉛鉱石を培焼することによって得られる酸化亜鉛を石炭等で還元し、生じた亜鉛蒸気を熱空気によって酸化させるか、又は亜鉛鉱石を硫酸で浸出して得られる鉱滓にコークス等を加え、その混合物を加熱して溶融した亜鉛を熱空気によって酸化させるものである。
【００３６】
また、上記硫酸法は、鉱石と硫酸との反応による硫酸塩溶液の調製、溶液の清澄、加水分解による含水酸化チタンの沈殿、洗浄、焼成、粉砕、表面処理といった工程により酸化チタン微粒子を得るものである。上記塩素法は、鉱石の塩素化により四塩化チタン溶液を調製し、精留、燃焼により得られる酸化チタンを粉砕、後処理するものである。
【００３７】
上記アークプラズマ法としては、直流アークプラズマ法、プラズマジェット法、及び高周波プラズマ法等が挙げられる。例えば、直流アークプラズマ法においては、金属原料を消費アノード電極とし、カソード電極からプラズマフレームを発生させて金属原料を加熱し蒸発させて、金属蒸気を酸化させ、冷却することによって金属酸化物微粒子が得られる。プラズマフレームを発生させるに際し、アーク放電はアルゴン等の単原子分子ガスや水素、窒素、及び酸素等の２原子分子ガス中で行われるが、２原子分子の熱解離により生じるプラズマは単原子分子ガス由来のプラズマ（アルゴンプラズマ等）に比べて反応性に富んでいるので、反応性アークプラズマと呼ばれる。
【００３８】
また、これらの金属酸化物微粒子については、シランカップリング剤（ケイ素含有カップリング剤）、フッ素含有カップリング剤、チタネート系カップリング剤（チタニウム含有カップリング剤）及びアルミネート系カップリング剤（アルミニウム含有カップリング剤）からなる群より選ばれる少なくとも１種のカップリング剤で被覆処理した後、１８０℃以上で熱処理することが好ましい。かかるカップリング剤による被覆処理及び熱処理が施された金属酸化物微粒子を用いることによって、金属酸化物微粒子の結着樹脂中への分散性が高められるので、下引層４の体積抵抗及びその環境依存性を容易に且つ確実に制御することができ、リーク防止性と電気特性との双方をより向上させることができる。
【００３９】
上記シランカップリング剤としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等；上記チタネート系カップリング剤としては、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、ビス（ジオクチルピロホフェート）、イソプロピルトリ（Ｎ−アミノエチル−アミノエチル）チタネート等；上記アルミネート系カップリング剤としては、アセトアルコキシアルミニウムジイソプロピレート等が挙げられ、これらの１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００４０】
これらの中でも、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、及びイソプロピルトリ（Ｎ−アミノエチル）チタネート等のアミノ基を有するカップリング剤を用いると、これらのカップリング剤による被覆処理を効率よく且つ確実に行うことができるので好ましく、特に、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン等の２個のアミノ基を有するカップリング剤を用いることがより好ましい。
【００４１】
これらのカップリング剤を用いた被覆処理は、実質的にカップリング剤と反応しない溶媒中にカップリング剤を溶解させ、この溶液（処理液）に金属酸化物微粒子を分散させることにより行うことができる。
【００４２】
上記溶媒としては、トルエン、エチルベンゼン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、酢酸ブチル、塩化メチレン、クロロホルム、クロルベンゼン、アセトン、メチルエチルケトン等が挙げられるが、これらの中でもトルエン等の高沸点溶媒を用いることが好ましい。上記処理液を調製する際には、撹拌、超音波、サンドミル、アトライター、ボールミル等を用いてカップリング剤を溶媒中に分散できる。また、処理温度は室温から溶媒の沸点の範囲で任意に設定可能である。
【００４３】
また、金属酸化物微粒子に対する溶媒量は任意に設定可能であるが、金属酸化物微粒子と溶媒との質量比は、好ましくは１：１〜１：１０、より好ましくは１：２〜１：４の範囲内である。このような溶媒の質量が金属酸化物微粒子の質量の１倍未満であると、攪拌しにくくなる上にゲル化する場合もあり、均一な処理が困難となる傾向にある。他方、このような溶媒の質量が金属酸化物微粒子の質量の１０倍を超えると、未反応のカップリング剤が残存しやすくなる傾向にある。また、カップリング剤の量は、電気特性、画質維持性、成膜性等の点から、金属酸化物微粒子に対して１０質量％以下が好ましく、０．１〜５．０質量％がより好ましい。
【００４４】
かかる被覆処理は撹拌下で行われるが、カップリング剤による被覆をより均一に行うためには、シリカゲル、アルミナ、ジルコニア等の分散メディア（好ましくはメディア径が０．５〜５０ｍｍのもの）を用いることが好ましい。
【００４５】
さらに、被覆処理後の混合物から溶媒を除去したときに金属酸化物微粒子が凝集した場合には、熱処理の前に予め粉砕することが好ましい。また、被覆処理後に溶媒を速やかに除去するために、所定の圧力条件下（好ましくは０．１〜７６０ｍｍＨｇ）で蒸留を行うことが好ましい。なお、ろ過により溶媒を除去することも可能であるが、未反応のカップリング剤が流出しやすく、所望の特性を得るために必要なカップリング剤量の制御が困難となるため好ましくない。
【００４６】
また、被覆処理後の金属酸化物微粒子における表面被覆率は、７〜２０％であることが好ましい。表面被覆率が前記下限値未満であると、金属酸化物微粒子の抵抗値を充分に高めることができず、下引層のブロッキング性が低下して画質が悪化する傾向にある。他方、表面被覆率が前記上限値を超えると、電子写真感光体の繰り返し使用に伴い残留電位が上昇しやすくなり、また、体積抵抗の環境変動が増大する傾向にある。なお、ここでいう表面被覆率とは、カップリング剤によって被覆された金属酸化物微粒子表面の割合［％］をいい、被覆処理前の金属酸化物微粒子のＢＥＴ比表面積及びカップリング剤の配合量に基づいて求められるものである。
【００４７】
すなわち、表面被覆率１００％とするのに必要なカップリング剤の質量は次式：
（表面被覆率１００％とするのに必要なカップリング剤の質量［ｇ］）
＝｛（金属酸化物微粒子の質量［ｇ］）×（金属酸化物のＢＥＴ比表面積［ｍ２／ｇ］）｝／（カップリング剤の最小被覆面積［ｍ２／ｇ］）
で与えられ（式中、カップリング剤の最小被覆面積とは、カップリング剤１ｇが単分子膜を形成したときに被覆可能な最小面積を意味する）、表面被覆率は次式：
（表面被覆率［％］）
＝１００×（被覆処理に使用したカップリング剤の質量［ｇ］）／（表面被覆率１００％とするのに必要なカップリング剤の質量［ｇ］）
により求めることができる。
【００４８】
このようにして被覆処理された金属酸化物微粒子について所定の熱処理を施すことによって、カップリング剤の反応による被膜の形成をより完全なものとすることができる。ここで、熱処理温度は、前述の通り１８０℃以上であることが好ましく、２００〜３００℃であることがより好ましく、２００〜２５０℃であることがさらに好ましい。熱処理温度が１８０℃未満であると、残存する吸着水やカップリング剤が充分に除去されず、暗減衰等の電気特性が不充分となる傾向にある。他方、熱処理温度が３００℃を超えると、カップリング剤により形成された被膜の分解や金属酸化物微粒子表面の酸化により、電荷のトラップサイトが発現して残留電位が上昇しやすくなる傾向にある。熱処理時間は、カップリング剤の種類及び熱処理温度に応じて適宜選定されるが、通常、１０分〜１００時間程度である。
【００４９】
また、被覆処理された金属酸化物微粒子を熱処理する際には、異なる熱処理温度で２段階の加熱を行うことが好ましい。このとき、１段階目の加熱は処理液の沸点以上、２段階目の加熱は１８０℃以上（より好ましくは２００〜３００℃、さらに好ましくは２００〜２５０℃）であることが好ましい。
【００５０】
下引層４の結着樹脂としては、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、及びメラミン樹脂等の高分子樹脂化合物等が挙げられる。
【００５１】
下引層４は、上記の金属酸化物微粒子及び結着樹脂のみからなるものであってもよく、また、体積抵抗及びその環境依存性が上記の条件を満たす限りにおいて、電気特性向上、環境安定性向上、及び画質向上のための添加物を含有してもよい。
【００５２】
かかる添加物としては、クロラニルキノン、ブロモアニルキノン、アントラキノン等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物；２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物；キサントン系化合物；チオフェン化合物；３，３’，５，５’−テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物等の電子輸送性物質、多環縮合系化合物、アゾ系化合物等の電子輸送性顔料、シランカップリング剤、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、及び有機チタニウム化合物等が挙げられる。
【００５３】
上記シランカップリング剤としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、及びγ−クロルプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００５４】
上記ジルコニウムキレート化合物としては、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、及びイソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
【００５５】
上記チタニウムキレート化合物としては、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、及びポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。
【００５６】
上記アルミニウムキレート化合物としては、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、及びアルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。これらの化合物は単独に又は複数の化合物の混合物、或いは重縮合物として用いることができる。
【００５７】
下引層４は、例えば金属酸化物微粒子と結着樹脂とを所定の溶媒に混合／分散して下引層形成用塗布液を調製し、この下引層形成用塗布液を導電性支持体３上に塗布し、乾燥することによって形成することができる。
【００５８】
かかる塗布液を調製する際の混合／分散方法としては、ボールミル、ロールミル、サンドミル、アトライター、及び超音波等による方法が適用可能である。また、塗布液の塗布方法としては、ブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、及びカーテンコーティング法等が挙げられる。また、塗布液には塗膜の平滑性向上のためのレベリング剤としてシリコーンオイルを微量添加することもできる。
【００５９】
このようにして得られる下引層４の膜厚は２０〜４０μｍに調節されている。下引層の膜厚が２０μｍ未満であると充分なリーク防止性が得られない。また、下引層の膜厚の増加に伴いリーク防止性は向上するが、膜厚が５０μｍを超えると成膜が困難となり、また、残留電位の上昇による画質低下が生じやすくなる。さらに、下引層４のビッカース強度は３５以上であることが好ましい。
【００６０】
次に、感光層６について説明する。図１に示すように感光層６は電荷発生層６１と電荷輸送層６２との積層構造を有するものである。
【００６１】
電荷発生層６１は、電荷発生物質、並びに必要に応じて結着樹脂を含んで構成されるものである。また、上記材料の他に後述する電荷輸送物質、固形潤滑剤、及び金属酸化物等を含んでいてもよい。
【００６２】
かかる電荷発生物質としては、公知の電荷発生物質なら何でも使用できる。赤外光用ではフタロシアニン顔料、スクアリリウム、ビスアゾ、トリスアゾ、ペリレン、ジチオケトピロロピロール、可視光用としては縮合多環顔料、ビスアゾ、ペリレン、トリゴナルセレン、色素増感した金属酸化物微粒子等を用いる。これらの中で、特に優れた性能が得られ、好ましく使用される電荷発生物質として、フタロシアニン系顔料が用いられる。これを用いることにより、特に高感度で、繰り返し安定性の優れる電子写真感光体を得ることができる。また、フタロシアニン顔料は一般に数種の結晶型を有しており、目的にあった感度が得られる結晶型であるならば、これらのいずれの結晶型でも用いることができる。特に好ましく用いられる電荷発生物質としては、クロロガリウムフタロシアニン、ジクロロススフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、無金属フタロシアニン、チタニルフタロシアニン、クロロインジウムフタロシアニン等が挙げられる。
【００６３】
電荷発生層６１において好ましく用いられる電荷発生物質は、公知の方法で製造される顔料結晶を、自動乳鉢、遊星ミル、振動ミル、ＣＦミル、ローラーミル、サンドミル、及びニーダー等を用いて機械的に乾式粉砕するか、乾式粉砕後、溶剤と共にボールミル、乳鉢、サンドミル、及びニーダー等を用いて湿式粉砕処理を行うことによって製造することができる。
【００６４】
湿式粉砕処理において使用される溶剤は、芳香族類（トルエン、クロロベンゼン等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等）、脂肪族アルコール類（メタノール、エタノール、ブタノール等）、脂肪族多価アルコール類（エチレングリコール、グリセリン、ポリエチレングリコール等）、芳香族アルコール類（ベンジルアルコール、フェネチルアルコール等）、エステル類（酢酸エステル、酢酸ブチル等）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン等）、ジメチルスルホキシド、エーテル類（ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等）、又はこれらの数種の混合系、あるいは水とこれら有機溶剤との混合系が挙げられる。
【００６５】
これら溶剤の使用量は、顔料結晶１質量部に対して１〜２００質量部、好ましくは１０〜１００質量部が望ましい。また、湿式粉砕処理における処理温度は、０℃以上溶剤の沸点以下、好ましくは１０〜６０℃である。また、粉砕の際に食塩、ぼう硝等の磨砕助剤を用いてもよい。磨砕助剤は、顔料に対して０．５〜２０倍、好ましくは１〜１０倍（いずれも質量換算値）用いればよい。
【００６６】
また、公知の方法で製造される顔料結晶について、アシッドペースティング又はアシッドペースティングと前述したような乾式粉砕又は湿式粉砕との組み合わせによって結晶制御することもできる。アシッドペースティングに用いる酸としては、硫酸が好ましく、この硫酸の濃度は７０〜１００％、好ましくは９５〜１００％の濃度のものが使用される。この濃硫酸の量は、顔料結晶の質量に対して、１〜１００倍、好ましくは３〜５０倍（いずれも質量換算値）の範囲に設定される。また、溶解温度は、−２０〜１００℃、好ましくは０〜６０℃の範囲に設定される。結晶を酸から析出させる際の溶剤としては、水、或いは水と有機溶剤の混合溶剤を任意の量で使用できる。析出させる温度については特に制限はないが、発熱を防ぐために、氷等で冷却することが好ましい。
【００６７】
これらの電荷発生物質は、加水分解性基を有する有機金属化合物又はシランカップリング剤で被覆処理してもよい。かかる被覆処理によって電荷発生物質の分散性や電荷発生層用塗布液の塗布性が向上し、平滑で分散均一性の高い電荷発生層６１を容易に且つ確実に成膜することができ、その結果、カブリやゴースト等の画質欠陥が防止され、画質維持性を向上させることができる。また、電荷発生層用塗布液の保存性も著しく向上するので、ポットライフの延長の点でも効果的であり、感光体のコストダウンも可能となる。
【００６８】
上記加水分解性基を有する有機金属化合物は、下記一般式（Ｉ）：
Ｒｐ−Ｍ−Ｙｑ （Ｉ）
で表される化合物である。なお、式中、Ｒは有機基を表し、Ｍはアルカリ金属以外の金属原子又はケイ素原子を表し、Ｙは加水分解性基を表し、ｐ及びｑはそれぞれ１〜４の整数であり、ｐとｑとの和はＭの原子価に相当する。
【００６９】
一般式（Ｉ）中、Ｒで表される有機基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基等のアルケニル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、フェニル基、トリル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェニルエチル基等のアリールアルキル基、スチリル基等のアリールアルケニル基、フリル基、チエニル基、ピロリジニル基、ピリジル基、イミダゾリル基等の複素環残基等が挙げられる。これらの有機基は１または２種以上の各種の置換基を有していてもよい。
【００７０】
また、一般式（Ｉ）中、Ｙで表される加水分解性基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、シクロヘキシルオキシ基、フェノキシ基、ベンジロキシ基等のエーテル基、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、アクリロキシ基、メタクリロキシ基、ベンゾイルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、ベンジロキシカルボニル基等のエステル基、塩素原子等のハロゲン原子等が挙げられる。
【００７１】
また、一般式（Ｉ）中、Ｍはアルカリ金属以外であれば特に制限されるものではないが、好ましくはチタン原子、アルミニウム原子、ジルコニウム原子又はケイ素原子である。すなわち、本発明に係る感光体においては、上記の有機基や加水分解性の官能基を置換した有機チタン化合物、有機アルミニウム化合物、有機ジルコニウム化合物、さらにはシランカップリング剤が好ましく用いられる。
【００７２】
また、上記シランカップリング剤の例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシシラン）、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられ。
【００７３】
これらの中でも、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシランがより好ましい。
【００７４】
また、上記の有機金属化合物及びシランカップリング剤の加水分解生成物も使用することができる。この加水分解生成物としては、上記一般式（Ｉ）で示される有機金属化合物のＭ（アルカリ金属以外の金属原子又はケイ素原子）に結合するＹ（加水分解性基）やＲ（有機基）に置換する加水分解性基が加水分解したものが挙げられる。なお、有機金属化合物及びシランカップリング剤が加水分解性基を複数含有する場合は、必ずしも全ての官能基を加水分解する必要はなく、部分的に加水分解された生成物であってもよい。また、これらの有機金属化合物及びシランカップリング剤は、１種を単独で使用してもよく、２種以上混合して使用してもよい。
【００７５】
上記の加水分解性基を有する有機金属化合物及び／又はシランカップリング剤（以下、単に「有機金属化合物」という）を用いてフタロシアニン顔料を被覆処理する方法としては、フタロシアニン顔料の結晶を整える過程で該フタロシアニン顔料を被覆処理する方法、フタロシアニン顔料を結着樹脂に分散する前に被覆処理する方法、フタロシアニン顔料の結着樹脂への分散時に有機金属化合物を混合処理する方法、フタロシアニン顔料の結着樹脂への分散後に有機金属化合物で更に分散処理する方法等が挙げられる。
【００７６】
より具体的には、顔料の結晶を整える過程で予め被覆処理する方法としては、有機金属化合物と結晶が整う前のフタロシアニン顔料とを混合した後加熱する方法、有機金属化合物を結晶が整う前のフタロシアニン顔料に混合し機械的に乾式粉砕する方法、有機金属化合物の水または有機溶剤中の混合液を結晶が整う前のフタロシアニン顔料に混合し湿式粉砕処理方法等が挙げられる。
【００７７】
また、フタロシアニン顔料を結着樹脂に分散する前に被覆処理する方法としては、有機金属化合物、水又は水と有機溶剤との混合液、並びにフタロシアニン顔料を混合して加熱する方法、有機金属化合物をフタロシアニン顔料に直接噴霧する方法、有機金属化合物をフタロシアニン顔料と混合しミリングする方法等がある。
【００７８】
また、分散時に混合処理する方法としては、分散溶剤に有機金属化合物、フタロシアニン顔料、結着樹脂を順次添加しながら混合する方法、これらの電荷発生層６１形成成分を同時に添加し混合する方法等が挙げられる。
【００７９】
また、フタロシアニン顔料を結着樹脂中に分散した後に有機金属化合物で更に分散処理する方法としては、例えば溶剤で希釈した有機金属化合物を分散液に添加し攪拌しながら分散する方法が挙げられる。また、かかる分散処理の際、より強固にフタロシアニン顔料に付着させるために、触媒として硫酸、塩酸、トリフルオロ酢酸等の酸を添加してもよい。
【００８０】
これらの中でも、フタロシアニン顔料の結晶を整える過程で予め被覆処理する方法、又はフタロシアニン顔料を結着樹脂に分散する前に被覆処理する方法が好ましい。
【００８１】
電荷発生層６１に用いる結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択することができる。また、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択することもできる。好ましい結着樹脂としては、ポリビニルアセタール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノールＡとフタル酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等の絶縁性樹脂等が挙げられ、中でもポリビニルアセタール樹脂が特に好ましい。これらの結着樹脂は１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。電荷発生層６１における電荷発生物質と結着樹脂との配合比（質量比）は、１０：１〜１：１０の範囲が好ましい。
【００８２】
電荷発生層６１は、電荷発生物質の真空蒸着、あるいは電荷発生物質及び結着樹脂を含む塗布液の塗布により形成される。塗布液の溶媒としては、結着樹脂を溶解することが可能であれば特に制限されず、例えばアルコール、芳香族化合物、ハロゲン化炭化水素、ケトン、ケトンアルコール、エーテル、エステル等から任意に選択することができ、より具体的には、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等が挙げられる。これらの溶剤は１種を単独で用いてもよく、２種以上混合して用いてもよい。
【００８３】
電荷発生物質及び結着樹脂を溶媒に分散させる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等の方法を用いることができる。この分散の際、電荷発生物質を０．５μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以下、さらに好ましくは０．１５μｍ以下の粒子サイズにすることが有効である。また、この電荷発生層用塗布液には電気特性向上、画質向上等のために、下引層４の説明において例示された添加剤を配合することもできる。
【００８４】
また、かかる塗布液の塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等が挙げられる。また、塗布液には塗膜の平滑性向上のためのレベリング剤としてシリコーンオイルを微量添加することもできる。
【００８５】
次に、電荷輸送層６２について説明する。電荷輸送層６２は、電荷輸送物質及び結着樹脂を含んで構成されるものである。かかる電荷輸送物質としては、具体的には、２，５−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール等のオキサジアゾール誘導体、１，３，５−トリフェニル−ピラゾリン、１−［ピリジル−（２）−］−３−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）ピラゾリン等のピラゾリン誘導体、トリフェニルアミン、トリ（ｐ−メチル）フェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，４−ジメチルフェニル）ビフェニル−４−アミン、ジベンジルアニリン、９，９−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（ｐ−トリル）フルオレノン−２−アミン等の芳香族第３級アミノ化合物、Ｎ，Ｎ‘−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１−ビフェニル］−４，４‘−ジアミン等の芳香族第３級ジアミノ化合物、３−（４’ジメチルアミノフェニル）−５，６−ジ−（４’−メトキシフェニル）−１，２，４−トリアジン等の１，２，４−トリアジン誘導体、４−ジエチルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン、４−ジフェニルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン、［ｐ−（ジエチルアミノ）フェニル］（１−ナフチル）フェニルヒドラゾン等のヒドラゾン誘導体、２−フェニル−４−スチリル−キナゾリン等のキナゾリン誘導体、６−ヒドロキシ−２，３−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−ベンゾフラン等のベンゾフラン誘導体、ｐ−（２，２−ジフェニルビニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルアニリン等のα−スチルベン誘導体、エナミン誘導体、Ｎ−エチルカルバゾール等のカルバゾール誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールおよびその誘導体等の正孔輸送物質；クロラニルキノン、ブロモアニルキノン、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、３，３’，５，５’−テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物等の電子輸送物質；あるいは上記した化合物から水素原子等を除いた残基を主鎖又は側鎖に有する重合体等が挙げられる。これらの電荷輸送物質は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合せて用いてもよい。
【００８６】
電荷輸送層６２の結着樹脂は特に制限されないが、フィルム形成可能な電気絶縁性の樹脂が好ましい。このような結着樹脂としては、具体的には、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコン樹脂、シリコン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−カルバゾール、ポリビニルブチラール、ポリビニルフォルマール、ポリスルホン、カゼイン、ゼラチン、ポリビニルアルコール、エチルセルロース、フェノール樹脂、ポリアミド、カルボキシ−メチルセルロース、塩化ビニリデン系ポリマーワックス、ポリウレタン等が挙げられるが、中でもポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂は電荷輸送物質との相溶性、溶剤への溶解性、強度の点で優れており好ましく用いられる。これらの結着樹脂は１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００８７】
電荷輸送層６２は、上記の電荷輸送物質及び結着樹脂を所定の溶媒に混合／分散した塗布液を用いて形成することができる。塗布液に用いる溶媒としては上記電荷発生層６１用塗布液の説明において例示された溶媒が使用できるが、電荷発生層６１の結着樹脂に対する溶解性が低いものを選定することが好ましい。また、電荷輸送物質と結着樹脂との配合比（質量比）は、好ましくは３：７〜６：４である。当該配合比が前記の範囲外の場合には、電気特性又は膜強度の少なくとも一方が低下する傾向にある。また、塗布液には塗膜の平滑性向上のためのレベリング剤としてシリコーンオイルを微量添加することもできる。塗布液を調製する際の分散方法及び塗布液の塗布方法としては、電荷発生層６１の場合と同様の方法が適用可能である。
【００８８】
また、電荷輸送層６２には磨耗を低減する目的のために固形潤滑剤や金属酸化物を分散することができる。このような固形潤滑剤としては、フッ素含有樹脂粒子（四フッ化エチレン、三フッ化塩化エチレン、四フッ化エチレン六フッ化プロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、二フッ化二塩化エチレンおよびそれらの共重合体等）、金属酸化物（酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン等）、ケイ素含有樹脂粒子、及びコロイダルシリカ粒子からなる群から選択される少なくとも１種が分散されることが好ましい。
【００８９】
このような目的のために、フッ素含有樹脂粒子又はケイ素含有樹脂粒子には電荷輸送層６２に分散し摩擦係数を低減する方法と金属酸化物（シリカ、アルミナ、酸化チタン、酸化スズ等）を分散し機械的硬度を高める方法がある。また、フッ素含有樹脂粒子は、難分散粒子のためフッ素含有高分子系分散助剤を用いると分散性が向上される。
【００９０】
また、電荷輸送層６２にフッ素含有樹脂粒子を分散する際、フッ素系グラフトポリマーをフッ素含有樹脂粒子に対し０．１〜１０質量％含有させることが好ましい。
【００９１】
上記固形潤滑剤や金属酸化物を分散させる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー、ホモジナイザー、高圧処理式ホモジナイザー等の方法を用いることができる。この分散の際、分散粒子を１．０μｍ以下、好ましくは０．５μｍ以下にすることが有効である。また、この電荷輸送層用塗布液には電気特性向上、画質向上等のために、下引層４の説明において例示された添加剤を配合することもできる。また、かかる塗布液の塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等が挙げられる。また、塗布液には塗膜の平滑性向上のためのレベリング剤としてシリコーンオイルを微量添加することもできる。
【００９２】
また、図１に示した電子写真感光体１００においては、導電性支持体層３から近い順に電荷発生層６１、電荷輸送層６２が積層されているが、これらの層の順序は逆であってもよい。また、これらの層の間に他の層が存在していてもよい。
【００９３】
上記電子写真感光体１００における感光層６の膜厚（電荷発生層６１と電荷輸送層６２との膜厚の合計）は、３０〜４５μｍに調節される。このよう感光層の膜厚が前記下限値未満であると、ピンホールリーク耐性が低下し、画質上黒点が発生し易くなり、他方、前記上限値を超えると、画質プリント上、細線の像流れが発生し易くなる。
【００９４】
また、このような電荷発生層６１の膜厚は、上記感光層６の範囲を満たす範囲であれば特に制限はないが、好ましくは０．０５〜５μｍ、より好ましくは０．１〜２．０μｍが適当である。
【００９５】
さらに、このような電荷輸送層６２の膜厚は、上記感光層６の範囲を満たす範囲であれば特に制限はないが、好ましくは２５〜４５μｍ、より好ましくは２８〜４５μｍが適当である。
【００９６】
以上説明した電子写真感光体１００においては、導電性支持体３上に形成された各層の膜圧の総和は５０〜９０μｍに調節される。このよう膜圧の総和が前記下限値未満であると、ピンホールリーク耐性が低下し、画質上に黒点が発生し易くなり、他方、前記上限値を超えると、画質プリント上に細線の像流れが発生しやすくなり、膜形成時の成膜性が悪化する。
【００９７】
このような電子写真感光体１００は、さらに、感光層６上に保護層（図示せず）を備えていてもよい。
【００９８】
保護層は、帯電工程の際の感光層６等の化学的変化を防止し、感光層６の機械的強度をさらに高めるためのものであり、導電性物質を適当な結着樹脂中に含有させて形成される。なお、かかる導電性物質としては、Ｎ，Ｎ’−ジメチルフェロセン等のメタロセン化合物、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン等の芳香族アミン化合物、酸化モリブデン、酸化タングステン、酸化アンチモン、酸化スズ、酸化チタン、酸化インジウム、酸化スズとアンチモン若しくは酸化アンチモンとの固溶体、又はこれらの混合物、或いは単一粒子中にこれらの金属酸化物を混合又は被覆したものが挙げられる。
【００９９】
また、保護層の結着樹脂としては、ポリアミド樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリケトン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルケトン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂等が挙げられ、これらは必要に応じて架橋させて使用することもできる。
【０１００】
保護層は、上記の導電性物質及び結着樹脂を所定の溶媒に混合／分散した塗布液を用い、感光層６等と同様にして形成することができる。なお、塗布液に用いられる溶媒は、下層（図１では感光層６における電荷輸送層６２）の結着樹脂に対する溶解性ができるだけ低いものであることが好ましい。
【０１０１】
また、このような保護層は電荷輸送物質（電荷輸送性を有する化合物）を含んで形成され、下記一般式（１）で表される化合物を含んで形成される硬化膜（硬化型表面層）が好ましい。
【０１０２】
Ｆ１［−Ｄ１−Ｓｉ（ＯＲ２）ａ（Ｒ１）３−ａ］ｂ・・・（１）
［式（１）中、Ｆ１は光機能性化合物（光キャリア（正孔又は電子）輸送能を有する化合物）から誘導される有機基を表し、Ｄ１は２価の基（可とう性サブユニット）を表し、Ｒ１は水素原子、アルキル基、及び、置換又は未置換のアリール基からなる群より選ばれる１種を表し、Ｒ２は水素、アルキル基、及び、トリアルキルシリル基からなる群より選ばれる１種を表し、ａは１〜３の整数を表し、ｂは１〜４の整数を表す。］
【０１０３】
一般式（１）中、−Ｓｉ（ＯＲ２）ａ（Ｒ１）３−ａで表される部分は、加水分解性基を有する特性基（以下、「置換ケイ素基」という）として機能する。この置換ケイ素基は、隣接する他の置換ケイ素基があると、−Ｓｉ−基の部分で互いに架橋反応を起こし、隣り合う−Ｓｉ−基の間に酸素原子が架橋した−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−の結合を３次元的に形成する。即ち、この置換ケイ素基は、保護層中にいわゆる無機ガラス質ネットワークを形成する役割を担う。
【０１０４】
上記一般式（１）中、Ｆ１で表される有機基としては、光キャリア（正孔又は電子）輸送能を有するものであれば特に制限されず、従来の電荷輸送物質が有している構造をそのまま有するものであればよい。具体的には、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の正孔輸送性を有する化合物の骨格、及び、キノン系化合物、フルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等の電子輸送性を有する化合物の骨格、を有する化合物を用いることができる。
【０１０５】
一般式（１）中、Ｄ１は、具体的には、光電特性を付与するためのＦ１の部位と、３次元的な無機ガラス質ネットワークの構築に寄与する置換ケイ素基とを結びつける働きを担う２価の基である。また、Ｄ１は、堅い反面もろさも有する無機ガラス質ネットワークの部分に適度な可とう性を付与し、膜（保護層）としての機械的強靱さを向上させる働きを担う有機基構造を表す。
【０１０６】
Ｄ１として具体的には、−ＣｎＨ２ｎ−、−Ｃｎ’Ｈ２ｎ’−２−、−Ｃｎ’’Ｈ２ｎ’’−４−で表わされる２価の炭化水素基（ここで、ｎは１〜１５の整数を表し、ｎ’は２〜１５の整数を表し、ｎ’’は３〜１５の整数を表す）、−ＣＯＯ−、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｃ６Ｈ４−、−Ｎ＝ＣＨ−、−（Ｃ６Ｈ４）−（Ｃ６Ｈ４）−、及び、これらの特性基を任意に組み合わせた構造を有する特性基、更にはこれらの特性基の構成原子を他の置換基と置換したもの等が挙げられる。
【０１０７】
一般式（１）中、ｂは２以上であることが好ましい。ｂが２以上であると、一般式（１）で表される電荷輸送物質中にＳｉ原子を２つ以上含むことになり、無機ガラス質ネットワークを形成し易くなり、機械的強度が向上する。
【０１０８】
一般式（１）で表される化合物としては、下記一般式（２）で表される化合物が好ましい。下記一般式（２）で表わされる化合物は、正孔輸送能を有する化合物（正孔輸送物資）であり、これを保護層に含有させることは、特に保護層における電気特性と機械強度特性の向上の観点から好ましい。
【０１０９】
【化１】
【０１１０】
一般式（２）中、Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３及びＡｒ４は同一でも異なっていてもよく、それぞれ置換又は未置換のアリール基を表し、Ａｒ５は置換又は未置換のアリール基又はアリーレン基を表し、ｋは０又は１を表し、Ａｒ１〜Ａｒ５のうちの１〜４つの特性基は下記一般式（３）で表される構造を有する。
【０１１１】
−Ｙ１−Ｓｉ（ＯＲ２）ａＲ１ ３−ａ・・・（３）
一般式（３）中、ａ、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ式（１）中のａ、Ｒ１及びＲ２と同義であり、Ｙ１は２価の基を示す。
【０１１２】
ここで、Ｙ１として具体的には、−ＣαＨ２α−、−Ｃα’Ｈ２α’−２−、−Ｃα’’Ｈ２α’’−４−で表わされる２価の炭化水素基（ここで、αは１〜１５の整数を表し、α’は２〜１５の整数を表し、α’’は３〜１５の整数を表す）、置換又は未置換の２価のアリール基、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｏ−、及び、−ＣＯＯ−からなる群より選択される１種の２価の基を示す。また、Ｙ１は、上記の群から選択される２価の基を任意に組み合わせた構造を有する特性基であってもよい。
【０１１３】
上記一般式（２）中のＡｒ１〜Ａｒ５としては、下記式（４）〜（１０）のうちのいずれかであることが好ましい。
【０１１４】
【化２】
【０１１５】
【化３】
【０１１６】
【化４】
【０１１７】
【化５】
【０１１８】
【化６】
【０１１９】
【化７】
【０１２０】
−Ａｒ−Ｚ’ｓ−Ａｒ−Ｘｍ・・・（１０）
【０１２１】
ここで、式（４）〜（１０）中、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８は、それぞれ、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルキル基もしくは炭素数１〜４のアルコキシ基で置換されたフェニル基、または未置換のフェニル基、炭素数７〜１０のアラルキル基からなる群より選ばれる１種を表す。また、Ｒ９は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表す。
【０１２２】
更に、式（４）〜（１０）中、Ａｒは置換又は未置換のアリーレン基を表し、Ｘは一般式（３）で表される構造を有する特性基を表し、ｍ及びｓはそれぞれ０又は１を表し、ｔは１〜３の整数を表す。
【０１２３】
ここで、式（１０）中のＡｒとしては、下記式（１１）又は（１２）で表されるものが好ましい。
【０１２４】
【化８】
【０１２５】
【化９】
【０１２６】
式（１１）、（１２）中、Ｒ１０及びＲ１１はそれぞれ先に述べたＲ９と同義である。また、ｔは１〜３の整数を表す。
【０１２７】
また、式（１０）中のＺ’としては、下記式（１３）又は（１４）で表されるものが好ましい。
【０１２８】
【化１０】
【０１２９】
【化１１】
【０１３０】
また、先に述べたように、式（４）〜（１０）中、Ｘは一般式（３）で表される構造を有する特性基を示すが、その特性基中のＹ１としては、先に述べた−ＣαＨ２α−、−Ｃα’Ｈ２α’−２−、−Ｃα’’Ｈ２α’’−４−で表わされる２価の炭化水素基（ここで、αは１〜１５の整数を表し、α’は２〜１５の整数を表し、α’’は３〜１５の整数を表す）、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｏ−、−ＣＯＯ−の他に、−Ｓ−、−（ＣＨ）β−（βは１〜１０の整数を示す）、先に述べた一般式（１１）、先に述べた一般式（１２）、下記一般式（１５）及び（１６）で表される特性基が挙げられる。
【０１３１】
【化１２】
【０１３２】
【化１３】
【０１３３】
ここで、式（１６）中、ｙ及びｚはそれぞれ１〜５の整数を表し、ｔは１〜３の整数を表し、先に述べたようにＲ９は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表す。
【０１３４】
また、先に述べたように、式（２）中のＡｒ５は置換又は未置換のアリール基又はアリーレン基を表すが、ｋ＝０の時には、以下に示す構造群（Ｉ）の何れかに当てはまるものが好ましく、更には、構造群（ＩＩ）の何れかに当てはまるものがより好ましい。
【０１３５】
［構造群（Ｉ）］
すなわち、式（２）中のＡｒ５は、ｋ＝０の時には、先に述べた式（４）で表されるもののうちｍ＝１の構造を有するもの、式（５）で表されるもののうちｍ＝１の構造を有するもの、式（６）で表されるもののうちｍ＝１の構造を有するもの、式（７）で表されるもののうちｍ＝１の構造を有するもの、又は、式（１０）で表されるもののうちｍ＝１の構造を有するものが好ましい。
【０１３６】
［構造群（ＩＩ）］
更に、式（２）中のＡｒ５は、ｋ＝１の時には、先に述べた式（４）で表されるもののうちｍ＝１でありかつＸがメチル基の構造を有するもの、式（５）で表されるもののうちｍ＝１でありかつＸがメチル基の構造を有するもの、式（６）で表されるもののうちｍ＝１でありかつＸがメチル基の構造を有するもの、式（７）で表されるもののうちｍ＝１でありかつＸがメチル基の構造を有するもの、又は、式（１０）で表されるもののうちｍ＝１でありかつＸがメチル基の構造を有するものがより好ましい。
【０１３７】
また、式（２）中のＡｒ５が、上記構造群（Ｉ）の何れか、更には、構造群（ＩＩ）の何れかの構造をとる場合には、式（１０）中のＺ’は、下記一般式（１７）〜（２４）からなる群より選択される１種であることが好ましい。
−（ＣＨ２）ｑ− （１７）
−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｒ− （１８）
【０１３８】
【化１４】
【０１３９】
【化１５】
【０１４０】
【化１６】
【０１４１】
【化１７】
【０１４２】
【化１８】
【０１４３】
【化１９】
【０１４４】
ここで、式（１７）〜（２４）中、Ｒ１２及びＲ１３はそれぞれ水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、Ｗは２価の基を表し、ｑ及びｒはそれぞれ１〜１０の整数を表し、ｔは１〜２の整数、をそれぞれ表す。
【０１４５】
上記式（２３）、（２４）中のＷとしては、下記（２５）〜（３３）で表される２価の基のうちのいずれかであることが好ましい。
【０１４６】
−ＣＨ２− ・・・（２５）
−Ｃ（ＣＨ３）２− ・・・（２６）
−Ｏ− ・・・（２７）
−Ｓ− ・・・（２８）
−Ｃ（ＣＦ３）２− ・・・（２９）
−Ｓｉ（ＣＨ３）２− ・・・（３０）
【０１４７】
【化２０】
【０１４８】
【化２１】
【０１４９】
【化２２】
【０１５０】
ここで、式（３２）中、ｕは０〜３の整数を表す。
【０１５１】
また、一般式（２）で表される化合物の具体例としては、例えば、特開２００１−８３７２８号公報における表１〜表５５に記載の化合物番号１〜２７４のものが使用できる。
【０１５２】
更に、一般式（１）で表される電荷輸送物質は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を任意に組み合せて併用してもよい。また、一般式（１）で表される電荷輸送物質と共に、硬化膜の機械的強度を更に向上させる目的で、下記一般式（Ｉ）で表される化合物を併用してもよい。
【０１５３】
Ｂ｛−Ｓｉ（ＯＲ２）ａ（Ｒ１）３−ａ｝γ ・・・（ＩＩ）
ここで、式（ＩＩ）中のａ、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ先に述べた式（１）中のａ、Ｒ１及びＲ２と同義であり、Ｂは２価の有機基を表し、γは２以上の整数を表す。
【０１５４】
一般式（ＩＩ）で表される化合物は、先に述べた加水分解性基を有する置換ケイ素基を有している化合物である。この一般式（ＩＩ）で表される化合物は、置換ケイ素基の部位に含まれる−Ｓｉ−基の部分が、一般式（１）で表される電荷輸送物質或いは隣接する他の一般式（ＩＩ）で表される化合物の置換ケイ素基と反応し、隣り合う−Ｓｉ−基の間に酸素原子が架橋した−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−の結合を３次元的に形成する。即ち、一般式（ＩＩ）で表される化合物と一般式（１）で表される電荷輸送物質との置換ケイ素基の間で進行する加水分解反応により、保護層中にいわゆる無機ガラス質ネットワークが形成される。
【０１５５】
一般式（１）で表される電荷輸送物質も先に述べたようにそれ自体のみで無機ガラス質ネットワークを有する硬化膜（保護層）を形成することも可能であるが、一般式（ＩＩ）で表される化合物は２個以上のアルコキシシリル基を有しているので硬化膜の架橋構造が３次元的に形成され易く、より強い機械強度を有するようになると考えられる。また、一般式（ＩＩ）で表される化合物は、硬化膜の構成材料となることにより、一般式（１）で表される電荷輸送物質におけるＤ１部分と同様、硬化膜に適度な可とう性を与える役割もある。
【０１５６】
上記一般式（ＩＩ）で表される化合物としては、下記一般式（３４）〜（３８）で表されるものが好ましい。なお、式（３４）〜（３８）中、Ｔ１及びＴ２はそれぞれ独立に枝分かれしていてもよい２価又は３価の炭化水素基を表す。また、Ａは先に述べた加水分解性を有する置換ケイ素基を表す。ｈ、ｉ、ｊはそれぞれ独立に１〜３の整数を表す。また、式（３４）〜（３８）で表される化合物は、分子内のＡの数が２以上となるように選ばれる。
【０１５７】
【化２３】
【０１５８】
【化２４】
【０１５９】
【化２５】
【０１６０】
【化２６】
【０１６１】
【化２７】
【０１６２】
以下に、上記一般式（ＩＩ）で表される化合物の好ましい例を表１に示す。なお、表１中、Ｍｅはメチル基を表し、Ｅｔはエチル基を表し、Ｐｒはプロピル基を表す。
【０１６３】
【表１】
【０１６４】
保護層の形成には、一般式（ＩＩ）で表される化合物と共に、更に架橋反応可
能な他の化合物を併用しても良い。このような化合物として、各種シランカップリング剤、及び市販のシリコン系ハードコート剤を用いることができる。
【０１６５】
シランカップリング剤としては、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン等が挙げられる。
【０１６６】
市販のハードコート剤としては、ＫＰ−８５、ＣＲ−３９、Ｘ−１２−２２０８、Ｘ−４０−９７４０、Ｘ−４１−１００７、ＫＮＳ−５３００、Ｘ−４０−２２３９ （以上、信越シリコーン社製）、及びＡＹ４２−４４０、ＡＹ４２−４４１、ＡＹ４９−２０８ （以上、東レダウコーニング社製）、等が挙げられる。
【０１６７】
硬化型表面層（保護層）には、表面潤滑性を付与する目的でフッ素原子含有化合物を添加できる。表面潤滑性を向上させることによりクリーニング部材との摩擦係数が低下し、耐摩耗性を向上させることができる。また、感光体表面に対する放電生成物、現像剤及び紙粉等の付着を防止する効果も有し、感光体の寿命向上に役立つ。
【０１６８】
フッ素含有化合物としては、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素原子含有ポリマーをそのまま添加するか、或いはそれらポリマーの微粒子を添加することができる。また、一般式（１）で表される化合物により形成される硬化膜（保護層）の場合、フッ素含有化合物としては、アルコキシシランと反応できるものを添加し、架橋膜の一部として構成するのが望ましい。そのようなフッ素原子含有化合物の例として、（トリデカフルオロ −１，１，２，２−テトラヒドロオクチル）トリエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、３−（ヘプタフルオロイソプロポキシ）プロピルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトキシシラン等が挙げられる。
【０１６９】
フッ素含有化合物の添加量としては、２０質量％以下とすることが好ましい。これを越えると、架橋硬化膜（保護層）の成膜性に問題が生じる場合がある。
【０１７０】
硬化型表面層（保護層）は充分な耐酸化性を有しているが、更に強い耐酸化性を付与する目的で、酸化防止剤を添加してもよい。酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系或いはヒンダードアミン系が望ましく、有機イオウ系酸化防止剤、フォスファイト系酸化防止剤、ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系酸化防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤、等の公知の酸化防止剤を用いてもよい。酸化防止剤の添加量としては１５質量％以下が好ましく、１０質量％以下が更に好ましい。
【０１７１】
上記ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，５−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナマイド、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、２，４−ビス［（オクチルチオ）メチル］−ｏ−クレゾール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，５−ジ−ｔ−アミルヒドロキノン、２−ｔ−ブチル−６−（３−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、等が挙げられる。
【０１７２】
上記硬化型表面層（保護層）には公知の塗膜形成に用いられるその他の添加剤を添加することも可能であり、レベリング剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、界面活性剤、など公知のものを用いることができる。
【０１７３】
上記硬化型表面層を形成するためには、前述の各種材料、および各種添加剤の混合物を感光層の上に塗布し、加熱処理する。これにより、３次元的に架橋硬化反応を起こし、強固な硬化膜を形成する。加熱処理の温度は、下層である感光層に影響しなければ特に制限はないが、室温〜２００度、特に１００〜１６０度に設定するのが好ましい。
【０１７４】
上記硬化型表面層の形成において、架橋硬化反応を行う際には無触媒で行なってもよいが、適切な触媒を用いてもよい。触媒としては、塩酸、硫酸、燐酸、蟻酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、等の酸触媒、アンモニア、トリエチルアミン等の塩基、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジオクトエート、オクエ酸第一錫等の有機錫化合物、テトラ−ｎ−ブチルチタネート、テトライソプロピルチタネート等の有機チタン化合物、有機カルボン酸の鉄塩、マンガン塩、コバルト塩、亜鉛塩、ジルコニウム塩、アルミニウムキレート化合物等が挙げられる。
【０１７５】
前記硬化型表面層には、塗布を容易にするため、必要に応じて溶剤を添加して用いることができる。具体的には、水、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、ジメチルエーテル、ジブチルエーテル、等の通常の有機溶剤を単独あるいは２種以上混合して用いることができる。
【０１７６】
上記硬化型表面層の形成において、塗布方法としては、ブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。
【０１７７】
上記硬化型表面層の膜厚は、上記導電性支持体３上に形成された各層の膜圧の総和の範囲を満たせば特に制限はないが、硬化型表面層の膜厚は０．５〜２０μｍが好ましく、特に２〜１０μｍであることが望ましい。同様に、保護層の膜厚１〜２０μｍが好ましく、好ましくは２〜１０μｍが適当である。
【０１７８】
また、画像形成装置中で発生するオゾンや酸化性ガス、あるいは光・熱による感光体の劣化を防止する目的で、感光層６、保護層等に酸化防止剤・光安定剤・熱安定剤等の添加剤を添加することができる。
【０１７９】
酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノン及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物等が挙げられる。
【０１８０】
より具体的には、フェノール系酸化防止剤としては、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、スチレン化フェノール、ｎ−オクタデシル−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、２，２’−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２−ｔ−ブチル−６−（３’−ｔ−ブチル−５’−メチル−２’−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、４，４’−ブチリデン−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオ−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，３，５−トリス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、テトラキス−［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］−メタン、３，９−ビス［２−｛３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン等が挙げられる。
【０１８１】
また、ヒンダードアミン系化合物としては、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、１−［２−｛３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ｝エチル］−４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、８−ベンジル−７，７，９，９−テトラメチル−３−オクチル−１，３，８−トリアザスピロ［４，５］ウンデカン−２，４−ジオン、４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、コハク酸ジメチル−１−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン重縮合物、ポリ［｛６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）イミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイミル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，３，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝］、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−アミノプロピル）エチレンジアミン−２，４−ビス［Ｎ−ブチルＮ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ］−６−クロロ−１，３，５−トリアジン縮合物等が挙げられる。
【０１８２】
また、有機イオウ系酸化防止剤としては、ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−（β−ラウリル−チオプロピオネート）、ジトリデシル−３，３’−チオジプロピオネート、２−メルカプトベンズイミダゾール等が挙げられる。
【０１８３】
また、有機燐系酸化防止剤としてトリスノニルフェニルフォスフィート、トリフェニル フォスフィート、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスフィート等が挙げられる。
【０１８４】
上記の酸化防止剤のうち、有機硫黄系および有機燐系酸化防止剤は２次酸化防止剤と呼ばれ、フェノール系又はアミン系酸化防止剤等の１次酸化防止剤と併用することにより相乗効果を得ることができる。
【０１８５】
また、光安定剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ジチオカルバメート系、テトラメチルピペリジン系等の誘導体が挙げられる。
【０１８６】
より具体的には、ベンゾフェノン系光安定剤としては、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン等が挙げられる。
【０１８７】
また、ベンゾトリアゾール系光安定剤としては、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（３”，４”，５”，６”−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５’−メチルフェニル］−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール等が挙げられる。その他、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエート、ニッケル ジブチル−ジチオカルバメート等を用いてもよい。
【０１８８】
また、感度の向上、残留電位の低減、繰り返し使用時の疲労低減等を目的として、感光層６、保護層に少なくとも１種の電子受容性物質を含有せしめることができる。かかる電子受容性物質としては、無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、ｏ−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、クロラニル、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピクリン酸、ｏ−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、フタル酸等が挙げられる。これらのうち、フルオレノン系又はキノン系化合物や、−Ｃｌ、−ＣＮ、−ＮＯ２等の電子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特に好ましい。
【０１８９】
また、感光体１００においては、導電性支持体層３と下引層４との間にさらに、酸化膜層（図示せず）を配置してもよい。酸化膜層は、金属酸化物からなるものであれば特に限定されないが、製造効率の観点から、酸化剤を含む酸性液体中において導電性支持体層３（例えば、アルミニウム基体）を陽極酸化することにより形成される陽極酸化膜であることが好ましい。また、酸化膜層は、導電性支持体層３にベーマイト処理を施して形成してもよい。
【０１９０】
導電性支持体層３にアルミニウム基体を用いる場合、アルミニウム基体には、陽極酸化処理の前に効率よく陽極酸化を行うために脱脂洗浄処理を施すことが好ましい。この脱脂洗浄処理は充分な洗浄効果が得られるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、酸、アルカリ、有機溶剤、界面活性剤等の用いる処理や、電解法を用いる処理等の公知の技術を用いてよい。
【０１９１】
陽極酸化処理は、例えば、硫酸、リン酸、クロム酸、しゅう酸、ホウ酸、スルファミン酸などの酸性液にアルミニウム基体を浸漬浴させることにより行うことができる。ここで、使用する酸としては、特に硫酸が最も好ましく用いられる。
【０１９２】
硫酸を用いて陽極酸化処理を行う場合、硫酸濃度は２０〜３００ｇ／Ｌ、液温は０℃〜５０℃、溶存アルミニウム濃度は１〜３０ｇ／Ｌ、電解電圧は５〜３０Ｖの範囲の条件が好ましく用いられる。また、得られる酸化膜層２の層厚は０．１〜２０μｍであることが好ましく、１〜１５μｍであることがより好ましい。
【０１９３】
得られる酸化膜層には、膜の化学的安定性を向上させるための封孔処理を更に施してもよい。この封孔処理は処理後の酸化膜層について所望の感光体特性（例えば、電気特性、画質特性等）が得られる方法であれば特に限定されず、いかなる方法でも用いることができるが、特に弗化ニッケル含有水溶液中に浸漬させる方法、酢酸ニッケル含有水溶液中に浸漬させる方法、蒸気浴による方法、沸騰水に浸漬させる方法等が好ましく用いられる。
【０１９４】
次に、本発明の画像形成装置に搭載される電子写真感光体の他の例について説明する。電子写真感光体の他の例としては、感光層を単層（一層）構造とした以外は図１に示した電子写真感光体１００と同様の構成を有する。
【０１９５】
この単層構造の感光層は、上述した電荷発生物質、並びに、必要に応じて結着樹脂を含んで構成されるものである。この単層構造の感光層には上記材料の他に、上述の電荷輸送物質、固形潤滑剤、及び、金属酸化物等を含んでもよい。そして、上述した電子写真感光体１００と同様な方法により作製することができる。
【０１９６】
このようにして得られる単層構造の感光層の膜厚は３０〜４５μｍに調節されている。このよう感光層の膜厚が前記下限値未満であると、ピンホールリーク耐性が低下し、画質上黒点が発生し易くなり、他方、前記上限値を超えると、画質プリント上、細線の像流れが発生し易くなる。
【０１９７】
以上説明した単層構造の感光層を有する電子写真感光体において、導電性支持体３上に形成された各層の膜圧の総和は５０〜９０μｍに調節される。このよう膜圧の総和が前記下限値未満であると、ピンホールリーク耐性が低下し、画質上黒点が発生し易くなり、他方、前記上限値を超えると、画質プリント上細線の像流れが発生しやすくなり、膜形成時の成膜性が悪化する。
【０１９８】
また、以上説明した単層構造の感光層を有する電子写真感光体は、上述した電子写真感光体１００と同様に、保護層、酸化膜層をさらに備えていてもよい。
【０１９９】
〔画像形成装置〕
次に、上述した電子写真感光体を搭載した画像形成装置について説明する。
【０２００】
図２は、本発明の画像形成装置の好適な一実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。図２に示す画像形成装置２００は、帯電手段４０２ａ〜４０２ｄが接触帯電装置であり、転写手段が中間転写方式を採用する構成を有しており、かつ、帯電手段４０２ａ〜４０２ｄ、露光手段４０３、及び現像手段４０４ａ〜４０４ｄを少なくとも備える画像形成ユニットを２以上有するタンデム式画像形成装置である。
【０２０１】
より具体的には、このタンデム式画像形成装置２００は、ハウジング４００内において４つの電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄ（例えば、電子写真感光体４０１ａがイエロー、電子写真感光体４０１ｂがマゼンタ、電子写真感光体４０１ｃがシアン、電子写真感光体４０１ｄがブラックの色からなる画像をそれぞれ形成可能である）が中間転写ベルト４０９に沿って相互に並列に配置されている。また、この画像形成装置２００には、さらに、クリーニング手段４１５ａ〜４１５ｄが備わっている。
【０２０２】
ここで、画像形成装置２００に搭載されている電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄは、それぞれ上述した感光層の膜厚、下引層の膜厚、及び導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和が上述の範囲である電子写真感光体であり、例えば図１に示した電子写真感光体１００が搭載される。
【０２０３】
電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄのそれぞれは所定の方向（紙面上は反時計回り）に回転可能であり、その回転方向に沿って帯電ロール４０２ａ〜４０２ｄ（電子写真感光体を帯電させる接触帯電手段）、現像装置４０４ａ〜４０４ｄ（露光手段により形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像手段）、１次転写ロール４１０ａ〜４１０ｄ｛現像手段により形成されたトナー像を後述の中間転写ベルト４０９（中間転写体）に１次転写するための転写手段｝、クリーニングブレード４１５ａ〜４１５ｄ（クリーニング手段）が配置されている。現像装置４０４ａ〜４０４ｄのそれぞれにはトナーカートリッジ４０５ａ〜４０５ｄに収容されたブラック、イエロー、マゼンタ、シアンの４色のトナーが供給可能であり、また、１次転写ロール４１０ａ〜４１０ｄはそれぞれ中間転写ベルト４０９（１次転写像を被転写媒体５００に転写する中間転写体）を介して電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄに当接している。
【０２０４】
更に、ハウジング４００内の所定の位置にはレーザ光源（帯電手段により帯電される電子写真感光体を露光して静電潜像を形成する露光手段）４０３が配置されており、レーザ光源４０３から出射されたレーザ光を帯電後の電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄの表面に照射することが可能となっている。これにより、電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄの回転工程において帯電、露光、現像、１次転写、クリーニングの各工程が順次行われ、各色のトナー像が中間転写ベルト４０９上に重ねて転写される。
【０２０５】
上記帯電手段（帯電用部材）４０２ａ〜４０２ｄは、ローラー状の接触帯電部材を備えるもので、感光体４０１ａ〜４０１ｄの表面に接触するように配置され、感光体に電圧を均一に印加し、感光体表面を所定の電位に帯電させるものである。帯電手段にはアルミニウム、鉄、銅等の金属、ポリアセチレン、ポリピロール、ポリチオフェン等の導電性高分子材料、ポリウレタンゴム、シリコーンゴム、エピクロロヒドリンゴム、エチレンプロピレンゴム、アクリルゴム、フッソゴム、スチレンーブタジエンゴム、ブタジエンゴム等のエラストマー材料にカーボンブラック、沃化銅、沃化銀、硫化亜鉛、炭化けい素、金属酸化物等の金属酸化物粒子を分散したもの等を用いることができる。
【０２０６】
この金属酸化物の例としてはＺｎＯ、ＳｎＯ２、ＴｉＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＭｏＯ３等、あるいはこれらの複合酸化物が挙げられる。また、帯電手段４０２ａ〜４０２ｄにはエラストマー材料中に過塩素酸塩を含有させて導電性を付与したものを使用しても良い。
【０２０７】
更に、帯電手段４０２ａ〜４０２ｄにはその表面に被覆層を設けてもよい。被覆層を形成する材料としては、Ｎ−アルコキシメチル化ナイロン、セルロース樹脂、ビニルピリジン樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン、ポリビニルブチラール、メラミン等が単独、あるいは併用して用いられる。また、エマルジョン樹脂系材料、たとえば、アクリル樹脂エマルジョン、ポリエステル樹脂エマルジョン、ポリウレタン、特にソープフリーのエマルジョン重合により合成されたエマルジョン樹脂を用いることも出来る。
【０２０８】
これらの樹脂にはさらに抵抗率を調整するために、導電剤粒子を分散してもよいし、劣化を防止するために酸化防止剤を含有させることもできる。また、被覆層を形成する時の成膜性を向上させるために、エマルジョン樹脂にレベリング剤または界面活性剤を含有させることもできる。また、この接触帯電用部材の形状としては、ローラー状、ブレード状、ベルト状、ブラシ状、等が挙げられる。
【０２０９】
さらに、帯電手段４０２ａ〜４０２ｄの電気抵抗値は、好ましくは１０２〜１０１４Ωｃｍ、さらに好ましくは１０２〜１０１２Ωｃｍの範囲が良い。また、この接触帯電用部材への印加電圧は、直流、交流いずれも用いることができる。又、直流＋交流の形（直流電圧と交流電圧とを重畳したもの）で印加することもできる。
【０２１０】
また、上記露光装置４０３としては、電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄ表面に、半導体レーザー、ＬＥＤ（ｌｉｇｈｔ ｅｍｉｔｔｉｎｇ ｄｉｏｄｅ）、液晶シャッター等の光源を所望の像様に露光できる光学系装置等を用いることができる。これらの中でも、非干渉光を露光可能な露光装置を用いると、電子写真感光体の支持体（基体）と感光層との間での干渉縞を防止することができる。
【０２１１】
また、転写手段４１０ａ〜４１０ｄとしては、ベルト、ローラー、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等、が挙げられる。
【０２１２】
また、上記現像装置４０４ａ〜４０４ｄとしては、一成分系、二成分系等の正規または反転現像剤を用いた従来公知の現像装置等を用いることができる。このような現像剤のうち画質の向上という理由から、二成分現像剤を用いる二成分現像方式を用いて行うことが好ましい。この場合、静電潜像の可視化のために用いる現像剤は、トナーとキャリアとで構成される。また、使用されるトナーの形状は特に制限されず、例えば粉砕法による不定形トナーや重合法による球形トナーが好適に使用される。
【０２１３】
また、上記クリーニング手段４１５ａ〜４１５ｄは、転写工程後の電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄの表面に付着する残存トナーを除去するためのもので、これにより清浄面化された電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄは上記の画像形成プロセスに繰り返し供される。クリーニン手段４１５ａ〜４１５ｄとしては、クリーニングブレード、ブラシクリーニング、ロールクリーニング等を用いることができるが、これらの中でもクリーニングブレードを用いることが好ましい。また、クリーニングブレードの材質としてはウレタンゴム、ネオプレンゴム、シリコーンゴム等が挙げられる。
【０２１４】
また、上記中間転写ベルト４０９は以下の手順で製造することができる。すなわち、略等モルのテトラカルボン酸二無水物或いはその誘導体とジアミンとを所定の溶媒中で重合反応させてポリアミド酸溶液を得る。このポリアミド酸溶液を円筒状金型に供給・展開して膜（層）形成を行った後、さらにイミド転化を行うことによって、ポリイミド樹脂からなる中間転写ベルト４０９を得ることができる。
【０２１５】
かかるテトラカルボン酸二無水物としては、ピロメリット酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、１，２，５，６−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、２，２’−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン酸二無水物、ペリレン−３，４，９，１０−テトラカルボン酸二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、エチレンテトラカルボン酸二無水物などが例示される。
【０２１６】
また、ジアミンの具体例としては、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジクロロベンジジン、４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド、３，３’−ジアミノジフェニルスルフォン、１，５−ジアミノナフタレン、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、３，３’−ジメチル４，４’−ビフェニルジアミン、ベンジジン、３，３’−ジメチルベンジジン、３，３’−ジメトキシベンジジン、４，４’−ジアミノジフェニルスルフォン、４，４’−ジアミノジフェニルプロパン、２，４−ビス（β−アミノ第三ブチル）トルエン、ビス（ｐ−β−アミノ−第三ブチルフェニル）エーテル、ビス（ｐ−β−メチル−δ−アミノフェニル）ベンゼン、ビス−ｐ−（１，１−ジメチル−５−アミノ−ベンチル）ベンゼン、１−イソプロピル−２，４−ｍ−フェニレンジアミン、ｍ−キシリレンジアミン、ｐ−キシリレンジアミン、ジ（ｐ−アミノシクロヘキシル）メタン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、デカメチレンジアミン、ジアミノプロピルテトラメチレン、３−メチルヘプタメチレンジアミン、４，４−ジメチルヘプタメチレンジアミン、２，１１−ジアミノドデカン、１，２−ビス−３−アミノプロボキシエタン、２，２−ジメチルプロピレンジアミン、３−メトキシヘキサメチレンジアミン、２，５−ジメチルヘプタメチレンジアミン、３−メチルヘプタメチレンジアミン、５−メチルノナメチレンジアミン、２，１７−ジアミノエイコサデカン、１，４−ジアミノシクロヘキサン、１，１０−ジアミノ−１，１０−ジメチルデカン、１２−ジアミノオクタデカン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、ピペラジン、Ｈ２Ｎ（ＣＨ２）３Ｏ（ＣＨ２）２Ｏ（ＣＨ２）ＮＨ２、Ｈ２Ｎ（ＣＨ２）３Ｓ（ＣＨ２）３ＮＨ２、Ｈ２Ｎ（ＣＨ２）３Ｎ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）３ＮＨ２などが挙げられる。
【０２１７】
テトラカルボン酸二無水物とジアミンを重合反応させる際の溶媒としては、溶解性等の点から極性溶媒が好ましい。極性溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミド類が好ましく、中でもＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルメトキシアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホルトリアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ピリジン、テトラメチレンスルホン、ジメチルテトラメチレンスルホン等の低分子量のものがより好ましい。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【０２１８】
また、中間転写ベルト４０９の膜抵抗を調整するために、ポリイミド樹脂中にカーボンを分散してもよい。カーボンの種類は特に限定されないが、カーボンブラックの酸化処理によりその表面に酸素含有官能基（カルボキシル基、キノン基、ラクトン基、水酸基等）が形成された酸化処理カーボンブラックを用いることが好ましい。ポリイミド樹脂中に酸化処理カーボンブラックを分散すると、電圧を印可したときに酸化処理カーボンブラックに過剰な電流が流れるため、ポリイミド樹脂が繰返しの電圧印加による酸化の影響を受けにくくなる。また、酸化処理カーボンブラックはその表面に形成された酸素含有官能基によりポリイミド樹脂中への分散性が高いので、抵抗バラツキを小さくすることができると共に電界依存性も小さくなり、転写電圧による電界集中が起こりにくくなる。従って、転写電圧による抵抗低下を防止し、電気抵抗の均一性を改善し、電界依存性が少なく、さらに環境による抵抗の変化の少ない、用紙走行部が白く抜けること等の画質欠陥の発生が抑制された高画質を得ることができる中間転写ベルトを得ることができる。
【０２１９】
酸化処理カーボンブラックは、カーボンブラックを高温雰囲気下で空気と接触、反応させる空気酸化法、常温下で窒素酸化物やオゾン等と反応させる方法、高温下での空気酸化後、低温下でオゾン酸化する方法などにより得ることができる。
【０２２０】
また、酸化処理カーボンとしては、三菱化学製のＭＡ１００（ｐＨ３．５、揮発分１．５％）、同，ＭＡ１００Ｒ（ｐＨ３．５、揮発分１．５％）、同ＭＡ１００Ｓ（ｐＨ３．５、揮発分１．５％）、同＃９７０（ｐＨ３．５、揮発分３．０％）、同ＭＡ１１（ｐＨ３．５、揮発分２．０％）、同＃１０００（ｐＨ３．５、揮発分３．０％）、同＃２２００（ｐＨ３．５，揮発分３．５％）、同ＭＡ２３０（ｐＨ３．０、揮発分１．５％）、同ＭＡ２２０（ｐＨ３．０、揮発分１．０％）、同＃２６５０（ｐＨ３．０、揮発分８．０％）、同ＭＡ７（ｐＨ３．０、揮発分３．０％）、同ＭＡ８（ｐＨ３．０、揮発分３．０％）、同ＯＩＬ７Ｂ（ｐＨ３．０、揮発分６．０％）、同ＭＡ７７（ｐＨ２．５、揮発分３．０％）、同＃２３５０（ｐＨ２．５、揮発分７．５％）、同＃２７００（ｐＨ２．５、揮発分１０．０％）、同＃２４００（ｐＨ２．５、揮発分９．０％）；デグサ社製のプリンテックス１５０Ｔ（ｐＨ４．５、揮発分１０．０％）、同スペシャルブラック３５０（ｐＨ３．５、揮発分２．２％）、同スペシャルブラック１００（ｐＨ３．３、揮発分２．２％）、同スペシャルブラック２５０（ｐＨ３．１、揮発分２．０％）、同スペシャルブラック５（ｐＨ３．０、揮発分１５．０％）、同スペシャルブラック４（ｐＨ３．０、揮発分１４．０％）、同スペシャルブラック４Ａ（ｐＨ３．０、揮発分１４．０％）、同スペシャルブラック５５０（ｐＨ２．８、揮発分２．５％）、同スペシャルブラック６（ｐＨ２．５、揮発分１８．０％）、同カラーブラックＦＷ２００（ｐＨ２．５、揮発分２０．０％）、同カラーブラックＦＷ２（ｐＨ２．５、揮発分１６．５％）、同カラーブラックＦＷ２Ｖ（ｐＨ２．５、揮発分１６．５％）；キャボット社製ＭＯＮＡＲＣＨ１０００（ｐＨ２．５、揮発分９．５％）、同ＭＯＮＡＲＣＨ１３００（ｐＨ２．５、揮発分９．５％）、同ＭＯＮＡＲＣＨ１４００（ｐＨ２．５、揮発分９．０％）、同ＭＯＧＵＬ−Ｌ（ｐＨ２．５、揮発分５．０％）、同ＲＥＧＡＬ４００Ｒ（ｐＨ４．０、揮発分３．５％）、などの市販品を用いてもよい。また、このような酸化処理カーボンとしては、ｐＨ４．５以下であり、揮発分１．０％以上であるものが好ましい。
【０２２１】
上記の酸化処理カーボンは、例えば酸化処理の度合い、ＤＢＰ吸油量、窒素吸着を利用したＢＥＴ法による比表面積等の物性の相違により導電性が異なるがこれらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよいが、実質的に導電性の異なるものを２種以上組み合わせて用いることが好ましい。このように物性の異なる２種類以上のカーボンブラックを添加する場合、例えば高い導電性を発現するカーボンブラックを優先的に添加した後、導電率の低いカーボンブラックを添加して表面抵抗率を調整すること等が可能である。
【０２２２】
これら酸化処理カーボンブラックの含有量は、ポリイミド樹脂に対して１０〜５０質量％が好ましく、より好ましくは１２〜３０質量％である。当該含有量が１０質量％未満であると、電気抵抗の均一性が低下し、耐久使用時の表面抵抗率の低下が大きくなる場合があり、一方、５０質量％を超えると、所望の抵抗値が得られにくく、また、成型物として脆くなるため好ましくない。
【０２２３】
２種類以上の酸化処理カーボンブラックを分散させたポリアミド酸溶液の製造方法としては、溶媒中に２種類以上の酸化処理カーボンブラックを予め分散した分散液中に上記酸二無水物成分及びジアミン成分を溶解・重合する方法、２種類以上の酸化処理カーボンブラックを各々溶媒中に分散させ２種類以上のカーボンブラック分散液を作製し、この分散液に酸無水物成分及びジアミン成分を溶解・重合させた後、各々のポリアミド酸溶液を混合する方法、などが挙げられる。
【０２２４】
中間転写ベルト４０９は、このようにして得られたポリアミド酸溶液を円筒状金型内面に供給・展開して被膜とし、加熱によりポリアミド酸をイミド転化させることにより得られる。かかるイミド転化の際には、所定の温度で０．５時間以上保持することによって、良好な平面度を有する中間転写ベルトを得ることができる。
【０２２５】
ポリアミド酸溶液を円筒状金型内面に供給する際の供給方法としては、ディスペンサーによる方法、ダイスによる方法などが挙げられる。ここで、円筒上金型としては、その内周面が鏡面仕上げされたものを用いることが好ましい。
【０２２６】
また、金型に供給されたポリアミド酸溶液から被膜を形成する方法としては、加熱しながら遠心成形する方法、弾丸状走行体を用いて成形する方法、回転成形する方法などが挙げられ、これらの方法により均一な膜厚の被膜が形成される。
【０２２７】
このようにして形成された被膜をイミド転化させて中間転写ベルトを成形する方法としては、（ｉ）金型ごと乾燥機中に入れ、イミド転化の反応温度まで昇温する方法、（ｉｉ）ベルトとして形状を保持できるまで溶媒の除去を行った後、金型内面から被膜を剥離して金属製シリンダ外面に差し替えた後、このシリンダごと加熱してイミド転化を行う方法などが挙げられる。本発明においては、得られる中間転写ベルトの表面のダイナミック硬度が上記の条件を満たせば上記（ｉ）、（ｉｉ）のいずれの方法でイミド転化を行ってもよいが、方法（ｉｉ）によりイミド転化を行うと、平面度及び外表面精度が良好な中間転写体を効率よく且つ確実に得ることができるので好ましい。以下、方法（ｉｉ）について詳述する。
【０２２８】
方法（ｉｉ）において、溶媒を除去する際の加熱条件は、溶媒を除去できれば特に制限されないが、加熱温度は８０〜２００℃であることが好ましく、加熱時間は０．５〜５時間であることが好ましい。このようにしてベルトとしてそれ自身形状を保持することができるようになった成形物は金型内周面から剥離されるが、かかる剥離の際に金型内周面に離型処理を施してもよい。
【０２２９】
次いで、ベルト形状として保持できるまで加熱・硬化させた成形物を、金属製シリンダ外面に差し替え、差し替えたシリンダごと加熱することにより、ポリアミド酸のイミド転化反応を進行させる。かかる金属製シリンダとしては、線膨張係数がポリイミド樹脂よりも大きいものが好ましく、また、シリンダの外径をポリイミド成形物の内径より所定量小さくすることで、ヒートセットを行うことができ均一な膜厚でムラのない無端ベルトを得ることができる。また、金属製シリンダ外面の表面粗度（Ｒａ）は、１．２〜２．０μｍであることが好ましい。金属製シリンダ外面の表面粗度（Ｒａ）が１．２μｍ未満であると、金属製シリンダ自身が平滑過ぎるため、得られる中間転写ベルトにおいてベルトの軸方向に対する収縮による滑りが発生しないため、延伸がこの工程で行われ、膜厚のバラツキや平面度の精度の低下が発生する傾向にある。また、金属製シリンダ外面の表面粗度（Ｒａ）が２．０μｍを超えると、金属製シリンダ外面がベルト状中間転写体の内面に転写し、さらには外面に凹凸を発生させ、これにより画像不良が発生しやすくなる傾向にある。なお、本実施形態でいう表面粗度とはＪＩＳ Ｂ６０１に準じて測定されるＲａをいう。
【０２３０】
また、イミド転化の際の加熱条件としては、ポリイミド樹脂の組成にもよるが、加熱温度が２２０〜２８０℃、加熱時間０．５〜２時間であることが好ましい。このような加熱条件でイミド転化を行うと、ポリイミド樹脂の収縮量がより大きくなるため、ベルトの軸方向についての収縮を緩やかに行うことにより、膜厚バラツキや平面度の精度の低下を防ぐことができる。
【０２３１】
このようにして得られたポリイミド樹脂からなる中間転写ベルトの外面の表面粗度（Ｒａ）は、１．５μｍ以下であることが好ましい。中間転写体の表面粗度（Ｒａ）が１．５μｍを超えるとがさつき等の画像欠陥が発生しやすくなる傾向にある。なお、がさつきの発生は、転写の際に印加される電圧や剥離放電による電界がベルト表面の凸部に局所的に集中して凸部表面が変質することによって、新たな導電経路の発現により抵抗が低下し、その結果得られる画像の濃度低下が起こることに起因すると本発明者らは推察する。
【０２３２】
このようにして得られる中間転写ベルト４０９はシームレスベルトであることが好ましい。このシームレスベルトの場合、中間転写ベルト４０９の厚さはその使用目的に応じて適宜決定しうるが、強度や柔軟性等の機械的特性の点から、２０〜５００μｍが好ましく、５０〜２００μｍがより好ましい。また、中間転写ベルト９の表面抵抗は、その表面抵抗率（Ω／□）の常用対数値が８〜１５（ｌｏｇΩ／□）であることが好ましく、１１〜１３（ｌｏｇΩ／□）であることがより好ましい。なお、ここでいう表面抵抗率とは、２２℃、５５％ＲＨ環境下で１００Ｖの電圧を印加し、電圧印可開始時から１０秒後に測定される電流値に基づいて得られる値をいう。ここで、「表面抵抗［Ω／□］」とは、「薄膜ハンドブック（オーム社刊）」ｐ．８９６に記載の「表面抵抗」と同義であり、面状の抵抗体を正方形に切り出して対向する２辺間の抵抗で表わしたものを示す。この表面抵抗は、抵抗分布が一様ならば正方形の寸法に無関係である。
【０２３３】
中間転写ベルト４０９は駆動ロール４０６、バックアップロール４０８及びテンションロール４０７により所定の張力をもって指示されており、これらのロールの回転によりたわみを生じることなく回転可能となっている。また、２次転写ロール４１３は、中間転写ベルト４０９を介してバックアップロール４０８と当接するように配置されている。バックアップロール４０８と２次転写ロール４１３との間を通った中間転写ベルト４０９はクリーニングブレード４１６により清浄面化された後、次の画像形成プロセスに繰り返し供される。
【０２３４】
また、ハウジング４００内の所定の位置にはトレイ（被転写媒体トレイ）４１１が設けられており、トレイ４１１内の紙などの被転写媒体５００が移送ロール４１２により中間転写ベルト４０９と２次転写ロール４１３との間、さらには相互に当接する２個の定着ロール４１４の間に順次移送された後、ハウジング４００の外部に排紙される。
【０２３５】
このように電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄの回転工程において、帯電、露光、現像、転写、クリーニングの各工程を順次行うことによって画像形成が繰り返し行われる。ここで、電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄは、上述した電子写真感光体１００であり、リーク防止性と電気特性との双方が充分に高水準で達成されたものであるため、接触帯電装置４０２ａ〜４０２ｄと共に用いた場合であってもかぶり等の画質欠陥を生じることなく良好な画像品質を得ることが可能となる。従って、本実施形態により、長期にわたり繰り返し使用される場合であっても、感光体におけるピンホールリークの発生が充分に防止され、画像品質の優れたカラー画像を高速で形成できる画像形成装置２００が実現される。
【０２３６】
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。例えば、図２に示した装置は、電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄと接触帯電装置４０２ａ〜４０２ｄとを含んで構成されるプロセスカートリッジを備えるものであってもよい。かかるプロセスカートリッジを用いることによって、メンテナンスをより簡便に行うことができる。
【０２３７】
また、本発明の画像形成装置はイレース光照射装置等の除電装置をさらに備えていてもよい。これにより、電子写真感光体が繰り返し使用される場合に、電子写真感光体の残留電位が次のサイクルに持ち込まれる現象が防止されるので、画像品質をより高めることができる。
【０２３８】
〔プロセスカートリッジ〕
次に、本発明のプロセスカートリッジについて説明する。図３は、本発明のプロセスカートリッジの好適な一実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。プロセスカートリッジ３００は、電子写真感光体７とともに、接触帯電手段８、現像手段１１、中間転写体２０（中間転写体手段）、クリーニング装置（クリーニング手段）１３、露光のための開口部１８、及び、除電露光のための開口部１７を取り付けレール１６を用いて組み合せ、そして一体化したものである。また、プロセスカートリッジ３００は、転写手段１２の転写方式が、トナー像を中間転写体２０を介して被転写媒体５００に転写する中間転写方式を採用する構成を有している。
【０２３９】
なお、電子写真感光体７は、上述した感光層の膜厚、下引層の膜厚、及び導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和が上述した範囲の電子写真感光体を用いるものである。
【０２４０】
そして、このプロセスカートリッジ３００は、転写手段１２と、定着装置１５と、図示しない他の構成部分とからなる画像形成装置本体に対して着脱自在としたものであり、画像形成装置本体とともに画像形成装置を構成するものである。
【０２４１】
なお、本発明のプロセスカートリッジにおいて、接触帯電手段８（帯電用部材）は、帯電ロール、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電チューブ等による接触帯電方式を採用することができる。接触帯電方式は、感光体表面に接触させた導電性部材に電圧を印加することにより感光体表面を帯電させるものである。導電性部材の形状はブラシ状、ブレード状、ピン電極状、或いはローラー状等何れでもよいが、特にローラー状部材が好ましい。通常、ローラー状部材は外側から抵抗層とそれらを支持する弾性層と芯材から構成される。更に必要に応じて抵抗層の外側に保護層を設けることができる。
【０２４２】
上述した本発明のプロセスカートリッジに使用される現像手段１１について具体的に説明すると、現像手段１１としては、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用い接触或いは非接触させて現像する公知の現像器等が挙げられる。また、トナーとしては、機械的な粉砕方や化学重合で作られる。トナーの形状としては不定形なものから球形のものが挙げられる。
【０２４３】
上述した本発明のプロセスカートリッジに使用される中間転写手段２０について具体的に説明すると、中間転写手段２０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。これらの中でも、転写帯電補償能力に優れる点で接触型転写帯電器が好ましい。なお、本発明においては、上記転写帯電器の他、剥離帯電器等を併用することもできる。
【０２４４】
上述した本発明のプロセスカートリッジに使用されるクリーニング手段１３について具体的に説明すると、クリーニング手段１３としては、特に制限はなく、それ自体公知のクリーニング装置等を用いればよい。例えば、ウレタン製のブレードやクリーニングブラシ等が挙げられる。
【０２４５】
上述した本発明のプロセスカートリッジに使用される除電手段（光除電手段）について具体的に説明すると、光除電手段としては、例えば、タングステンランプ、ＬＥＤ等が挙げられ、該光除電プロセスに用いる光質としては、例えば、タングステンランプ等の白色光、ＬＥＤ光等の赤色光等が挙げられる。該光除電プロセスにおける照射光強度としては、通常、電子写真感光体の半減露光感度を示す光量の数倍乃至３０倍程度になるよう出力設定される。本実施形態においては、開口部１７からこのような光除電手段からの光を取り込み、感光体を除電する。
【０２４６】
このような本発明のプロセスカートリッジは、搭載する電子写真感光体の感光層の膜厚、下引層の膜厚、及び導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和を充分な厚さとしたことにより、感光体に異物が混入しても、感光体におけるピンホールリークが発生し難く、繰り返し使用した際にも、画像品質を落とすことなく優れたカラー画像を得ることができる。
【０２４７】
【実施例】
以下、実施例及び比較例に基づいて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に何ら限定されるものではない。
【０２４８】
以下に示す手順により図２に示した画像形成装置２００と同様の構成を有する実施例１〜実施例７、比較例１〜比較例６の画像形成装置を作製した。
【０２４９】
（金属酸化物微粒子Ａの調製）
酸化亜鉛（ＺｎＯ（平均粒径７０ｎｍ）、テイカ社製 試作品）１００質量部、カップリング剤としてのＮ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシランを１０質量％含有するトルエン溶液１０質量部、並びにトルエン２００質量部を混合し、撹拌しながら２時間還流を行った。その後、混合液を１０ｍｍＨｇに減圧してトルエンを留去し、１３５℃で２時間熱処理を行って金属酸化物微粒子Ａを得た。
【０２５０】
（実施例１）
（電子写真感光体の作製）
以下の手順にて図１に示した電子写真感光体１００と同様の構成を有する電子写真感光体を作製した。金属酸化物微粒子Ａ３３質量部、ブロック化イソシアネート（スミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン社製）６質量部及びメチルエチルケトン２５質量部を３０分間混合した後、ブチラール樹脂（ＢＭ−１、積水化学社製）５質量部、シリコーンボール（トスパール１２０、東芝シリコーン社製）３質量部及びレベリング剤（シリコーンオイルＳＨ２９ＰＡ、東レダウコーニングシリコーン社製）０．０１質量部を上記の混合液に添加し、サンドミルにて２時間の分散処理を行い、下引層用塗布液を得た。さらに、浸漬塗布法により、直径３０ｍｍ、長さ４０４ｍｍ、肉厚１ｍｍの円筒状アルミニウム基体（導電性支持体）の外周面に上記の塗布液を塗布し、１５０℃で３０分間乾燥させ、膜厚２０μｍの下引層を形成した。
【０２５１】
次に、電荷発生物質としてのＣｕＫα線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．４゜，１６．６゜，２５．５゜，２８．３゜の位置に回折ピークを有する塩化ガリウムフタロシアニン１５質量部、結着樹脂としての塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、ユニオンカーバイト社製）１０質量部、ｎ−ブチルアルコール３００質量部からなる混合物をサンドミルにて４時間分散し、電荷発生層用塗布液を得た。この塗布液を下引層上に浸漬塗布し、乾燥させ、膜厚０．２μｍの電荷発生層を形成した。
【０２５２】
さらに、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニル−４，４’−ジアミン４質量部及びビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（分子量：４万）６質量部をモノクロルベンゼン８０質量部に加えて溶解して電荷輸送層用塗布液を得た。この塗布液を電荷発生層上に塗布し、１３０℃で４０分間乾燥させ、膜厚３２μｍの電荷輸送層を形成し、目的の感光層が電荷発生層と電荷輸送層との２層からなる電子写真感光体を得た。なお、得られ電子写真感光体の感光層の膜厚（電荷発生層と電荷輸送層の総和）、下引層の膜厚、及び導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和をそれぞれ表２に示した。
【０２５３】
（中間転写体の作製）
Ｎ−メチル−２ピロリドン（ＮＭＰ）中に乾燥したカーボンブラック〔ＳＰＥＣＩＡＬ ＢＬＡＣＫ４、Ｄｅｇｕｓｓａ社製、比表面積：１８０（ｍ２／ｇ）、ＤＢＰ吸油量：２８０（ｃｃ／１００ｇ）、揮発分：１４．０％、導電性指標：１５．０〕を所定量入れ、ボールミルを用い６時間室温で混合した。このカーボンブラック分散ＮＭＰ液に、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＰＤＡ）２９４．２ｇとｐ−フェニレンジアミン（ＰＤＡ）１０８．２ｇとを溶解し、窒素雰囲気において室温で４時間攪拌し、反応させることにより、カーボンブラック入りポリアミド酸溶液を得た。
【０２５４】
得られたカーボンブラック入りポリアミド酸溶液を円筒金型（芯体）内面に弾丸状走行体を用いて均一な厚みになるように塗布した。その後、６０℃の熱風を３０分間あて、１５０℃で６０分間加熱し、次に２００℃まで２℃／分の昇温速度で昇温し、その２００℃の温度で３０分間加熱した後、室温に戻し半硬化フィルム得た。
【０２５５】
次に、得られた半硬化フィルムを脱型した後、これを円筒状金型の外側に被せ、２００℃から４００℃まで５℃／分の昇温速度で昇温加熱し、脱水閉環水の除去、及びイミド転化を行った。その後、室温に戻し、金型より剥離し、厚さ８０μｍのカーボンブッラク入り（ポリイミドに対し１４ｗｔ％）無端ポリイミドベルトを得た。
【０２５６】
（画像形成装置の作製）
得られた電子写真感光体と中間転写体を用いて、帯電手段が接触帯電装置であり、転写方式が中間転写方式であるタンデム式画像形成装置を作製した。なお、画像形成装置の構成は、カラータンデム複写機ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ Ｃ４００（富士ゼロックス社製）と同様の構成とした。
【０２５７】
（実施例２）
実施例１と同様に電子写真感光体の下引層と電荷発生層を作製した。次に、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニル−４，４’−ジアミン４質量部及びビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（分子量：４万）６質量部をモノクロルベンゼン８５質量部に加えて溶解し、その溶解液に四フッ化エチレン粒子（ＰＴＦＥ）（ルブロンＬ２：ダイキン工業社製）を１質量部と分散助剤としてアロンＧＦ３００を０．３質量部（固形分のみ使用：東亜合成社製）混合し、ホモジナイザーにて１時間かけ分散させ、電荷輸送層用塗布液を得た。
【０２５８】
得られた塗布液を電荷発生層上に塗布し、１３０℃で４０分間乾燥し、膜厚３２μｍの電荷輸送層を形成し、目的のＰＴＦＥが電荷輸送層に分散した電子写真感光体を得た。なお、得られ電子写真感光体の感光層の膜厚（電荷発生層と電荷輸送層の総和）、下引層の膜厚、及び導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和をそれぞれ表２に示した。
【０２５９】
得られた電子写真感光体と実施例１と同様の中間転写体を用いて、帯電手段が接触帯電装置であり、転写方式が中間転写方式であるタンデム式画像形成装置を作製した。なお、画像形成装置の構成は、カラータンデム複写機ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ Ｃ４００（富士ゼロックス社製）と同様の構成とした。
【０２６０】
（実施例３）
実施例１と同様に電子写真感光体の下引層、電荷発生層を作製した。次に、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニル−４，４’−ジアミン４質量部及びビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（分子量：４万）６質量部をモノクロルベンゼン８５質量部に加えて溶解し、その溶解液にシリカ粒子２質量部（ＲＸ２００：日本アエロジル社製）を混合させ、サンドミルにて２時間分散し、電荷輸送層用塗布液を得た。この塗布液を電荷発生層上に塗布し、１３０℃で４０分間乾燥を行って膜厚３０μｍの電荷輸送層を形成し、目的のシリカ微粒子が分散した電子写真感光体を得た。なお、得られ電子写真感光体の感光層の膜厚（電荷発生層と電荷輸送層の総和）、下引層の膜厚、及び導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和をそれぞれ表２に示した。
【０２６１】
得られた電子写真感光体と実施例１と同様の中間転写体を用いて、帯電手段が接触帯電装置であり、転写方式が中間転写方式であるタンデム式画像形成装置を作製した。なお、画像形成装置の構成は、カラータンデム複写機ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ Ｃ４００（富士ゼロックス社製）と同様の構成とした。
【０２６２】
（実施例４）
実施例１と同様に電子写真感光体の下引層、電荷発生層、電荷輸送層を作製し、下引層が２８μｍであり、電荷輸送層が４０μｍである電子写真感光体を作製した。なお、得られ電子写真感光体の感光層の膜厚（電荷発生層と電荷輸送層の総和）、下引層の膜厚、及び導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和をそれぞれ表２に示した。
【０２６３】
得られた電子写真感光体と実施例１と同様の中間転写体を用いて、帯電手段が接触帯電装置であり、転写方式が中間転写方式であるタンデム式画像形成装置を作製した。なお、画像形成装置の構成は、カラータンデム複写機ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ Ｃ４００（富士ゼロックス社製）と同様の構成とした。
【０２６４】
（実施例５）
実施例１と同様に電子写真感光体の下引層、電荷発生層、電荷輸送層を作製し、下引層が４０μｍであり、電荷輸送層が４４μｍである電子写真感光体を作製した。なお、得られ電子写真感光体の感光層の膜厚（電荷発生層と電荷輸送層の総和）、下引層の膜厚、及び導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和をそれぞれ表２に示した。
【０２６５】
得られた電子写真感光体と実施例１と同様の中間転写体を用いて、帯電手段が接触帯電装置であり、転写方式が中間転写方式であるタンデム式画像形成装置を作製した。なお、画像形成装置の構成は、カラータンデム複写機ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ Ｃ４００（富士ゼロックス社製）と同様の構成とした。
【０２６６】
（実施例６）
実施例１と同様に電子写真感光体の下引層、電荷発生層、電荷輸送層を作製し、下引層が４０μｍであり、電荷輸送層が３０μｍである電子写真感光体を作製した。なお、得られ電子写真感光体の感光層の膜厚（電荷発生層と電荷輸送層の総和）、下引層の膜厚、及び導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和をそれぞれ表２に示した。
【０２６７】
得られた電子写真感光体と実施例１と同様の中間転写体を用いて、帯電手段が接触帯電装置であり、転写方式が中間転写方式であるタンデム式画像形成装置を作製した。なお、画像形成装置の構成は、カラータンデム複写機ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ Ｃ４００（富士ゼロックス社製）と同様の構成とした。
【０２６８】
（実施例７）
実施例１と同様に電子写真感光体の下引層、電荷発生層、電荷輸送層を作製し、下引層が２０μｍであり、電荷輸送層が４４μｍである電子写真感光体を作製した。なお、得られ電子写真感光体の感光層の膜厚（電荷発生層と電荷輸送層の総和）、下引層の膜厚、及び導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和をそれぞれ表２に示した。
【０２６９】
得られた電子写真感光体と実施例１と同様の中間転写体を用いて、帯電手段が接触帯電装置であり、転写方式が中間転写方式であるタンデム式画像形成装置を作製した。なお、画像形成装置の構成は、カラータンデム複写機ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ Ｃ４００（富士ゼロックス社製）と同様の構成とした。
【０２７０】
（比較例１）
実施例１と同様に電子写真感光体の下引層、電荷発生層、電荷輸送層を作製し、下引層が１３μｍであり、電荷輸送層が３２μｍである電子写真感光体を作製した。なお、得られ電子写真感光体の感光層の膜厚（電荷発生層と電荷輸送層の総和）、下引層の膜厚、及び導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和をそれぞれ表２に示した。
【０２７１】
得られた電子写真感光体と実施例１と同様の中間転写体を用いて、帯電手段が接触帯電装置であり、転写方式が中間転写方式であるタンデム式画像形成装置を作製した。なお、画像形成装置の構成は、カラータンデム複写機ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ Ｃ４００（富士ゼロックス社製）と同様の構成とした。
【０２７２】
（比較例２）
実施例１と同様に電子写真感光体の下引層、電荷発生層、電荷輸送層を作製し、下引層が１８μｍであり、電荷輸送層が３２μｍである電子写真感光体を作製した。なお、得られ電子写真感光体の感光層の膜厚（電荷発生層と電荷輸送層の総和）、下引層の膜厚、及び導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和をそれぞれ表２に示した。
【０２７３】
得られた電子写真感光体と実施例１と同様の中間転写体を用いて、帯電手段が接触帯電装置であり、転写方式が中間転写方式であるタンデム式画像形成装置を作製した。なお、画像形成装置の構成は、カラータンデム複写機ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ Ｃ４００（富士ゼロックス社製）と同様の構成とした。
【０２７４】
（比較例３）
実施例１と同様に電子写真感光体の下引層、電荷発生層、電荷輸送層を作製し、下引層が１８μｍであり、電荷輸送層が１２μｍである電子写真感光体を作製した。なお、得られ電子写真感光体の感光層の膜厚（電荷発生層と電荷輸送層の総和）、下引層の膜厚、及び導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和をそれぞれ表２に示した。
【０２７５】
得られた電子写真感光体と実施例１と同様の中間転写体を用いて、帯電手段が接触帯電装置であり、転写方式が中間転写方式であるタンデム式画像形成装置を作製した。なお、画像形成装置の構成は、カラータンデム複写機ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ Ｃ４００（富士ゼロックス社製）と同様の構成とした。
【０２７６】
（比較例４）
実施例１と同様に電子写真感光体の下引層、電荷発生層、電荷輸送層を作製し、下引層が２０μｍであり、電荷輸送層が９μｍである電子写真感光体を作製した。なお、得られ電子写真感光体の感光層の膜厚（電荷発生層と電荷輸送層の総和）、下引層の膜厚、及び導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和をそれぞれ表２に示した。
【０２７７】
得られた電子写真感光体と実施例１と同様の中間転写体を用いて、帯電手段が接触帯電装置であり、転写方式が中間転写方式であるタンデム式画像形成装置を作製した。なお、画像形成装置の構成は、カラータンデム複写機ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ Ｃ４００（富士ゼロックス社製）と同様の構成とした。
【０２７８】
（比較例５）
実施例１と同様に電子写真感光体の下引層、電荷発生層、電荷輸送層を作製し、下引層が４２μｍであり、電荷輸送層が３０μｍである電子写真感光体を作製した。なお、得られ電子写真感光体の感光層の膜厚（電荷発生層と電荷輸送層の総和）、下引層の膜厚、及び導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和をそれぞれ表２に示した。
【０２７９】
得られた電子写真感光体と実施例１と同様の中間転写体を用いて、帯電手段が接触帯電装置であり、転写方式が中間転写方式であるタンデム式画像形成装置を作製した。なお、画像形成装置の構成は、カラータンデム複写機ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ Ｃ４００（富士ゼロックス社製）と同様の構成とした。
【０２８０】
（比較例６）
実施例１と同様に電子写真感光体の下引層、電荷発生層、電荷輸送層を作製し、下引層が２２μｍであり、電荷輸送層が４７μｍである電子写真感光体を作製した。なお、得られ電子写真感光体の感光層の膜厚（電荷発生層と電荷輸送層の総和）、下引層の膜厚、及び導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和をそれぞれ表２に示した。
【０２８１】
得られた電子写真感光体と実施例１と同様の中間転写体を用いて、帯電手段が接触帯電装置であり、転写方式が中間転写方式であるタンデム式画像形成装置を作製した。なお、画像形成装置の構成は、カラータンデム複写機ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ Ｃ４００（富士ゼロックス社製）と同様の構成とした。
【０２８２】
〔画像形成装置の画質評価試験〕
実施例１〜実施例７及び比較例１〜比較例６の画像形成装置を用いて、それぞれの画質を以下のように評価した。
【０２８３】
（１）評価試験１（通常初期評価）
キャリア微紛を添加前の各画像形成装置を用いて、白黒プリント試験を行った。画質プリント１００枚目の画質欠陥数（黒点数）をカウントし、表２に示した。また、表２に記載した数値（黒点数）が５個以下のものは実用に耐える良好な画質の画像が得られたと評価し、５個を超えるものは画質の異常が認められたと評価した。更に、表２において「かぶり発生」とは、紙面全体（横９４．２ｍｍ×縦２９７ｍｍ）に微細な黒点（直径０．１５ｍｍ以下）が無数個発生したものであり、画質の異常が認められたと評価した。なお、本試験では得られたＡ３縦画質プリントの横９４．２ｍｍ、縦２９７ｍｍの領域の画質欠陥数をカウントした。
【０２８４】
（２）評価試験２（キャリア微紛添加１００枚プリント後）
各画像形成装置を用いて、黒色現像剤１０００質量部に対してＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ Ｃ４００専用キャリア材（鉄を主成分とするもの）を粉砕し３０μｍのふるいを通過した異型微紛物１質量部を混合し、白黒プリント試験を行った。キャリア微紛を添加して画質プリント１００枚目の画質欠陥数（黒点数）をカウントした。また、表２に記載した数値（黒点数）が５個以下のものは実用に耐える良好な画質の画像が得られたと評価し、５個を超えるものは画質の異常が認められたと評価した。更に、表２において「かぶり発生」とは、評価試験１における「かぶり発生」と同義である。なお、本試験では得られたＡ３縦画質プリントの横９４．２ｍｍ、縦２９７ｍｍの領域の画質欠陥数をカウントした。
【０２８５】
（３）評価試験３（５万枚プリント試験）
また、各画像形成装置（通常使用）を用いて５万枚連続プリントを実施し、画質の維持性等を試験した。そして、５万枚プリント後の画質を、「○」；実用に耐える良好な画質の画像、「×」；紙面全体（Ａ３縦画質プリント）に画質の異常が認められた、とした評価基準のもとで評価した。これらの結果を表２に示す。
【０２８６】
以上、評価試験１〜３で得られた結果をもとに、実施例１〜実施例７及び比較例１〜比較例６の画像形成装置を総合的に評価した。なお、総合評価は、「○」；評価試験１〜３の全てにおいて良好な画質の画像が得られた、「×」；評価試験１〜３の少なくとも１つの試験で画質の異常が認められた、とした評価基準のもとで評価した。これらの結果を表２に示す。
【０２８７】
【表２】
【０２８８】
表２に示した結果から明らかなように、本発明の条件を満たす電子写真感光体を用いた画像形成装置は、評価試験２において黒点数が５個以下であり、評価試験３においても黒点の発生、画質の濃度低下等がなく、解像度も良好であり、高速で画像品質の優れたプリントができることが確認された。
【０２８９】
一方、比較例１〜３の画像形成装置は、評価試験２において黒点数が多く、画像品質が充分ではなかった。また、比較例４の画像形成装置は、評価試験１及び２においてかぶりが発生し、黒点数がカウントできないほどひどく、画質に問題があるものであった。さらに、比較例５及び６は、評価試験１及び２において黒点数が５以下であったものの、評価試験３において比較例５は画質の濃度低下が、比較例６は解像度が充分なものでないことが確認された。
【０２９０】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、長期にわたり繰り返し使用される場合であっても、電子写真感光体におけるピンホールリークの発生が充分に防止され、画像品質の優れたカラー画像を高速で形成できる画像形成装置及びプロセスカートリッジを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】電子写真感光体の好適な基本構成の一例を示す断面図である。
【図２】本発明の画像形成装置の好適な一実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。
【図３】本発明のプロセスカートリッジの好適な一実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。
【符号の説明】
３…導電性支持体層、４…下引層、６…感光層、６１…電荷発生層、６２…電荷輸送層、７…電子写真感光体、８…帯電手段、１１…現像手段、１２…転写手段、１３…クリーニング装置、１５・・・定着装置、１６…取り付けレール、１７・・・除電露光のための開口部、１８…露光のための開口部、１００…電子写真感光体、２００…画像形成装置、３００…プロセスカートリッジ、４００・・・ハウジング、４０１ａ〜４０１ｄ・・・電子写真感光体、４０２ａ〜４０２ｄ・・・帯電ロール、４０３・・・レーザ光源（露光装置）、４０４ａ〜４０４ｄ・・・現像装置、４０５ａ〜４０５ｄ・・・トナーカートリッジ、４０６・・・駆動ロール、４０７・・・テンションロール、４０８・・・バックアップロール、４０９・・・中間転写ベルト、４１０ａ〜４１０ｄ・・・１次転写ロール、４１１・・・トレイ（被転写体トレイ）、４１２・・・移送ロール、４１３・・・２次転写ロール、４１４・・・定着ロール、４１６・・・クリーニングブレード、５００・・・被転写媒体。
【発明の属する技術分野】
本発明は複写機、プリンター及びファクシミリ等に用いられる画像形成装置及びプロセスカートリッジに関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、電子写真感光体は、高速、かつ高印字品質が得られるという利点を有するため、複写機、レーザービームプリンター等の画像形成装置において多く利用されている。
【０００３】
これら画像形成装置において用いられる電子写真感光体（以下、場合により「感光体）と略す）として、従来の無機光導電材料を用いた電子写真感光体に比べ、安価で製造性及び安全性の点で優れた利点を有するフタロシアニン系の顔料等の有機光導電材料を電荷発生物質として含有した電子写真感光体が主流を占める様になってきている。
【０００４】
このような感光体の中でも、露光により電荷を発生する電荷発生層と電荷を輸送する電荷輸送層とからなる感光層を有する機能分離型感光体は、感度・帯電性及びその繰り返し安定性等、電子写真特性の点で優れており、種々の構成の提案が成され、実用化されている。
【０００５】
この機能分離型感光体の場合、現在ではアルミニウム基体等の導電性支持体層上に中間層（下引層）を形成し、その後、中間層上に電荷発生層及び電荷輸送層を順次形成する場合が多い。
【０００６】
また、このような感光体における下引層は、画質欠陥の防止に関する役割が大きく、基材の欠陥や汚れ、或いは感光層等の下引層上に形成された各層の塗膜欠陥やむらに起因する画質欠陥を抑制するための重要な機能層である。
【０００７】
近年、環境問題等の社会的要求から、電子写真感光体の長寿命化が強く望まれており、長期間使用した場合（特に電子写真感光体の表面が摩耗した場合）における電気特性、耐リーク性能及び画質の低下を充分に防止でき、初期に得られる良好な画質の画像を継続的に形成可能な特性を有することが要求されている。
【０００８】
特に、近年、画像形成装置においては帯電手段として、コロトロンに代わりオゾン発生が少ない接触帯電装置が用いられるようになってきている。そして、このことに伴い感光層中にもしくは感光層上に異物が存在すると、感光体に局所的な欠陥部位が発生する等の問題が起こり易くなっていた。この結果、接触帯電時に感光体の欠陥部位に局所的に高電場がかかり、電気的なピンホール（ピンホールリーク）を生じ、これが画質欠陥となっていた。
【０００９】
そのため、感光体を長期にわたり繰り返し使用した場合における環境安定性（作動環境に置かれた場合の耐久性）や得られる画像の画質の安定性を改善する観点から、感光層の性能向上のみならず感光層の下地となる中間層（下引層）の性能向上（繰り返し使用による電荷蓄積性の少ない帯電特性に優れた中間層の開発）や、感光体の構成を変更するなどの様々な検討がなされている。
【００１０】
一方、近年、画像品質の優れたカラー画像を高速で形成するという観点から、複数の感光体ドラム、および各感光体ドラムごとに帯電装置、レーザー光照射装置および現像装置（以下、このように各感光体に対してそれぞれ帯電手段、露光手段及び現像手段を少なくとも有するユニットを「画像形成ユニット」という）を備えたカラー画像形成装置（以下、このように画像形成ユニットを２以上有する画像形成装置を「タンデム式画像形成装置」という。）が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【００１１】
【特許文献１】
特開平７−２８２９２号公報（請求項１）
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述の特許文献１に記載の画像形成装置においては、転写手段に中間転写方式を採用しているため、感光体と中間転写体とが接触するため、長期にわたり繰り返し使用すると感光体の損傷が起こり易く、ピンホールリークが発生し、充分な品質の画像が得られないという問題があった。
【００１３】
また、このようなピンホールリークは画像形成装置の作動中において、上記装置を構成する部材から発生する異物、ゴミ、キャリア粉等の導電性の異物が感光体に接触又は感光体中に貫入することによっても発生する場合があった。
【００１４】
更に、本発明者らは、従来の画像形成装置における帯電手段を非接触方式から接触方式に変更した場合には、従来の画像形成装置と比較して、感光層中もしくは感光層上に異物が存在すると感光体に局所的な欠陥部位がより発生しやすくなるとともに、接触帯電時に感光体の欠陥部位に局所的に高電場がかかり易くなり電気的なピンホールを生じるため、画質欠陥を生じ、充分な品質の画像が得られないという問題を見出した。
【００１５】
本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、長期にわたり繰り返し使用される場合であっても、感光体におけるピンホールリークの発生が充分に防止され、画像品質の優れたカラー画像を高速で形成できる画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供することを目的とする。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、画像形成装置をタンデム式とし、帯電手段に接触帯電装置を用い、かつ、転写手段の転写方式を中間転写方式とした場合であっても、搭載する電子写真感光体の感光層の膜厚、下引層の膜厚、及び導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和を所定の範囲とすることにより、上述の目的を達成可能であることを見出し、本発明に到達した。
【００１７】
すなわち、本発明は、導電性支持体層と、感光層と、導電性支持体層と感光層との間に配置される下引層と、を少なくとも有する電子写真感光体と、
電子写真感光体を帯電させる帯電手段と、帯電手段により帯電される電子写真感光体を露光して静電潜像を形成する露光手段と、静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像手段と、を少なくとも有する画像形成ユニットと、
トナー像を被転写媒体に転写する転写手段と、
を少なくとも備えており、
画像形成ユニットを２以上備えており、
電子写真感光体における、感光層の膜厚が３０〜４５μｍであり、下引層の膜厚が２０〜４０μｍであり、かつ、導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和が５０〜９０μｍであり、
帯電手段が、電子写真感光体に接触して電子写真感光体を帯電させる接触帯電装置であり、
転写手段が、トナー像を中間転写体を介して被転写媒体に転写する中間転写方式を採用する構成を有していること、
を特徴とする画像形成装置を提供する。
【００１８】
上記本発明の画像形成装置においては、感光層が、電荷発生物質を含む電荷発生層と、電荷輸送物質を含む電荷輸送層と、を少なくとも含む構成を有していることが好ましい。
【００１９】
本発明の画像形成装置によれば、搭載する電子写真感光体の感光層の膜厚、下引層の膜厚、及び導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和を充分な厚さとしたことにより、感光体に異物が混入しても、感光体におけるピンホールリークが発生し難く、この結果、画像品質を落とすことなく優れたカラー画像を高速で形成することを可能とした。
【００２０】
また、本発明は、電子写真感光体と、
接触帯電手段、現像手段、中間転写手段、クリーニング手段及び除電手段のうちの少なくとも一つの手段と、
を一体に有し、画像形成装置本体に着脱自在であるプロセスカートリッジであって、
電子写真感光体は、導電性支持体層と、感光層と、導電性支持体層と感光層との間に配置される下引層と、を少なくとも有しており、
感光層の膜厚が３０〜４５μｍであり、下引層の膜厚が２０〜４０μｍであり、かつ、導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和が５０〜９０μｍであることを特徴とするプロセスカートリッジを提供する。
【００２１】
上記本発明のプロセスカートリッジにおいても、感光層が、電荷発生物質を含む電荷発生層と、電荷輸送物質を含む電荷輸送層と、を少なくとも含む構成を有していることが好ましい。
【００２２】
本発明のプロセスカートリッジは、搭載する電子写真感光体の感光層の膜厚、下引層の膜厚、及び導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和を充分な厚さとしたことにより、感光体に異物が混入しても、感光体におけるピンホールリークが発生し難く、繰り返し使用した際にも、画像品質を落とすことなく優れたカラー画像を得ることができる。
【００２３】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図中、同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明は省略する。
【００２４】
先ず、本発明の画像形成装置の好適な一実施形態について説明する。図１は、画像形成装置に搭載される電子写真感光体の好適な基本構成の一例を示す断面図である。
【００２５】
図１に示すように、電子写真感光体１００においては、導電性支持体層３と、導電性支持体層３上に形成された下引層４と、さらに下引層４上に形成された感光層６と、から構成されている。また、感光層６は、下引層４上に形成された電荷発生層６１と、電荷発生層６１に形成された電荷輸送層６２との積層構造（二層構造）を有している。
【００２６】
先ず、導電性支持体層３について説明する。導電性支持体層３は、導電性を有していれば特に限定されるものはなく、例えば、アルミニウム、銅、鉄、ステンレス、亜鉛、ニッケル等の金属材料からなる金属ドラムを使用することができる。また、高分子材料（ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ナイロン、ポリスチレン、フェノール樹脂等）又は硬質紙等の絶縁材料に導電物質（カーボンブラック、酸化インジウム、酸化スズ、酸化アンチモン、金属、ヨウ化銅等）を分散させて導電処理したもの；上記の絶縁材料に金属泊を積層したもの；上記の絶縁材料に金属の蒸着膜を形成したもの等を用いることができる。
【００２７】
上記導電性支持体層３の形状は、円筒状（ドラム状）に限定されず、シート状、プレート状等であってもよい。
【００２８】
また、導電性支持体層３として金属パイプを用いる場合、金属パイプは素管のまま用いてもよく、また、予め鏡面研削、エッチング、陽極酸化、粗切削、センタレス研削、サンドブラスト、ウェットホーニング等の処理を施すことが好ましい。表面処理により基材表面を粗面化することで、レーザービームのような可干渉光源を用いた場合に発生しうる感光体内での干渉光による木目状の濃度斑を防止することができる。
【００２９】
次に、下引層４について説明する。下引層４は、導電性粒子（金属酸化物微粒子）及び結着樹脂を含んで構成されるものである。このような下引層４の体積抵抗は、２８℃、８５％ＲＨで１０６Ｖ／ｍの電場を印可したときに１０８〜１０１３Ω・ｃｍ（好ましくは１０８〜１０１１Ω・ｃｍ）の範囲内となるように、且つ、１５℃、１５％ＲＨで１０６Ｖ／ｍの電場を印可したときの体積抵抗が２８℃、８５％ＲＨで１０６Ｖ／ｍの電場を印可したときの体積抵抗の５００倍以下となるように設定されている。このように下引層４の体積抵抗及びその環境依存性が上記の条件を満たすように制御することによって、リーク防止性と電気特性とを高水準で両立することができる。
【００３０】
また、下引層４としては、２８℃、８５％ＲＨで１０６Ｖ／ｍの電場を印可したときの体積抵抗が２８℃、８５％ＲＨで１０７Ｖ／ｍの電場を印可したときの体積抵抗の１０００倍以下であるという条件を満たすものであることが好ましい。かかる体積抵抗の比が１０００倍を超えると、下引層４に異物が混入して局所的に大きな電場が印可されるときにリークが発生しやすくなる傾向にある。
【００３１】
下引層４においては、金属酸化物微粒子及び結着樹脂の種類、並びにその配合量を適宜選定し、さらには金属酸化物微粒子の結着樹脂中への分散性を高めることによって、その体積抵抗及びその環境依存性が上記の条件を満たすように制御することができる。
【００３２】
かかる金属酸化物微粒子の好ましい例としては、具体的には、酸化スズ、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム等が挙げられ、酸化スズ、酸化チタン、及び酸化亜鉛からなる群より選択される少なくとも１種であることが特に好ましい。このような金属酸化物微粒子の粉体抵抗値は、１０２〜１０１１Ω・ｃｍ（より好ましくは１０４〜１０１０Ω・ｃｍ）であることが好ましい。金属酸化物微粒子の粉体抵抗値が前記下限値未満であると充分なリーク防止性が得られない傾向にあり、他方、当該粉体抵抗値が前記上限値を超えると電子写真プロセスおいて残留電位の上昇が起こりやすくなる傾向にある。
【００３３】
また、金属酸化物微粒子の平均一次粒径は、１００ｎｍ以下であることが好ましく、１０〜９０ｎｍであることがより好ましい。金属酸化物微粒子の平均一次粒径が１００ｎｍを超えると、結着樹脂中への分散性が低下し、その結果、リーク防止性と電気特性との両立が困難となる傾向にある。
【００３４】
このような金属酸化物微粒子は、従来公知の製造方法によって得ることができる。例えば、酸化亜鉛の場合は、ＪＩＳ Ｋ１４１０に記載されている間接法（フランス法）、直接法（アメリカ法）、及び湿式法等；酸化チタンの場合は、硫酸法、塩素法、フッ酸法、塩化チタンカリウム法、及び四塩化チタン水溶液法等が挙げられる。また、後述するアークプラズマ法により金属酸化物微粒子を得ることもできる。
【００３５】
上記間接法は、金属亜鉛を加熱し（通常１０００℃程度）、亜鉛蒸気を熱空気によって酸化させて酸化亜鉛とし、冷却後に粒子の大きさによって分別するものである。また、上記直説法は、亜鉛鉱石を培焼することによって得られる酸化亜鉛を石炭等で還元し、生じた亜鉛蒸気を熱空気によって酸化させるか、又は亜鉛鉱石を硫酸で浸出して得られる鉱滓にコークス等を加え、その混合物を加熱して溶融した亜鉛を熱空気によって酸化させるものである。
【００３６】
また、上記硫酸法は、鉱石と硫酸との反応による硫酸塩溶液の調製、溶液の清澄、加水分解による含水酸化チタンの沈殿、洗浄、焼成、粉砕、表面処理といった工程により酸化チタン微粒子を得るものである。上記塩素法は、鉱石の塩素化により四塩化チタン溶液を調製し、精留、燃焼により得られる酸化チタンを粉砕、後処理するものである。
【００３７】
上記アークプラズマ法としては、直流アークプラズマ法、プラズマジェット法、及び高周波プラズマ法等が挙げられる。例えば、直流アークプラズマ法においては、金属原料を消費アノード電極とし、カソード電極からプラズマフレームを発生させて金属原料を加熱し蒸発させて、金属蒸気を酸化させ、冷却することによって金属酸化物微粒子が得られる。プラズマフレームを発生させるに際し、アーク放電はアルゴン等の単原子分子ガスや水素、窒素、及び酸素等の２原子分子ガス中で行われるが、２原子分子の熱解離により生じるプラズマは単原子分子ガス由来のプラズマ（アルゴンプラズマ等）に比べて反応性に富んでいるので、反応性アークプラズマと呼ばれる。
【００３８】
また、これらの金属酸化物微粒子については、シランカップリング剤（ケイ素含有カップリング剤）、フッ素含有カップリング剤、チタネート系カップリング剤（チタニウム含有カップリング剤）及びアルミネート系カップリング剤（アルミニウム含有カップリング剤）からなる群より選ばれる少なくとも１種のカップリング剤で被覆処理した後、１８０℃以上で熱処理することが好ましい。かかるカップリング剤による被覆処理及び熱処理が施された金属酸化物微粒子を用いることによって、金属酸化物微粒子の結着樹脂中への分散性が高められるので、下引層４の体積抵抗及びその環境依存性を容易に且つ確実に制御することができ、リーク防止性と電気特性との双方をより向上させることができる。
【００３９】
上記シランカップリング剤としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等；上記チタネート系カップリング剤としては、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、ビス（ジオクチルピロホフェート）、イソプロピルトリ（Ｎ−アミノエチル−アミノエチル）チタネート等；上記アルミネート系カップリング剤としては、アセトアルコキシアルミニウムジイソプロピレート等が挙げられ、これらの１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００４０】
これらの中でも、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、及びイソプロピルトリ（Ｎ−アミノエチル）チタネート等のアミノ基を有するカップリング剤を用いると、これらのカップリング剤による被覆処理を効率よく且つ確実に行うことができるので好ましく、特に、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン等の２個のアミノ基を有するカップリング剤を用いることがより好ましい。
【００４１】
これらのカップリング剤を用いた被覆処理は、実質的にカップリング剤と反応しない溶媒中にカップリング剤を溶解させ、この溶液（処理液）に金属酸化物微粒子を分散させることにより行うことができる。
【００４２】
上記溶媒としては、トルエン、エチルベンゼン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、酢酸ブチル、塩化メチレン、クロロホルム、クロルベンゼン、アセトン、メチルエチルケトン等が挙げられるが、これらの中でもトルエン等の高沸点溶媒を用いることが好ましい。上記処理液を調製する際には、撹拌、超音波、サンドミル、アトライター、ボールミル等を用いてカップリング剤を溶媒中に分散できる。また、処理温度は室温から溶媒の沸点の範囲で任意に設定可能である。
【００４３】
また、金属酸化物微粒子に対する溶媒量は任意に設定可能であるが、金属酸化物微粒子と溶媒との質量比は、好ましくは１：１〜１：１０、より好ましくは１：２〜１：４の範囲内である。このような溶媒の質量が金属酸化物微粒子の質量の１倍未満であると、攪拌しにくくなる上にゲル化する場合もあり、均一な処理が困難となる傾向にある。他方、このような溶媒の質量が金属酸化物微粒子の質量の１０倍を超えると、未反応のカップリング剤が残存しやすくなる傾向にある。また、カップリング剤の量は、電気特性、画質維持性、成膜性等の点から、金属酸化物微粒子に対して１０質量％以下が好ましく、０．１〜５．０質量％がより好ましい。
【００４４】
かかる被覆処理は撹拌下で行われるが、カップリング剤による被覆をより均一に行うためには、シリカゲル、アルミナ、ジルコニア等の分散メディア（好ましくはメディア径が０．５〜５０ｍｍのもの）を用いることが好ましい。
【００４５】
さらに、被覆処理後の混合物から溶媒を除去したときに金属酸化物微粒子が凝集した場合には、熱処理の前に予め粉砕することが好ましい。また、被覆処理後に溶媒を速やかに除去するために、所定の圧力条件下（好ましくは０．１〜７６０ｍｍＨｇ）で蒸留を行うことが好ましい。なお、ろ過により溶媒を除去することも可能であるが、未反応のカップリング剤が流出しやすく、所望の特性を得るために必要なカップリング剤量の制御が困難となるため好ましくない。
【００４６】
また、被覆処理後の金属酸化物微粒子における表面被覆率は、７〜２０％であることが好ましい。表面被覆率が前記下限値未満であると、金属酸化物微粒子の抵抗値を充分に高めることができず、下引層のブロッキング性が低下して画質が悪化する傾向にある。他方、表面被覆率が前記上限値を超えると、電子写真感光体の繰り返し使用に伴い残留電位が上昇しやすくなり、また、体積抵抗の環境変動が増大する傾向にある。なお、ここでいう表面被覆率とは、カップリング剤によって被覆された金属酸化物微粒子表面の割合［％］をいい、被覆処理前の金属酸化物微粒子のＢＥＴ比表面積及びカップリング剤の配合量に基づいて求められるものである。
【００４７】
すなわち、表面被覆率１００％とするのに必要なカップリング剤の質量は次式：
（表面被覆率１００％とするのに必要なカップリング剤の質量［ｇ］）
＝｛（金属酸化物微粒子の質量［ｇ］）×（金属酸化物のＢＥＴ比表面積［ｍ２／ｇ］）｝／（カップリング剤の最小被覆面積［ｍ２／ｇ］）
で与えられ（式中、カップリング剤の最小被覆面積とは、カップリング剤１ｇが単分子膜を形成したときに被覆可能な最小面積を意味する）、表面被覆率は次式：
（表面被覆率［％］）
＝１００×（被覆処理に使用したカップリング剤の質量［ｇ］）／（表面被覆率１００％とするのに必要なカップリング剤の質量［ｇ］）
により求めることができる。
【００４８】
このようにして被覆処理された金属酸化物微粒子について所定の熱処理を施すことによって、カップリング剤の反応による被膜の形成をより完全なものとすることができる。ここで、熱処理温度は、前述の通り１８０℃以上であることが好ましく、２００〜３００℃であることがより好ましく、２００〜２５０℃であることがさらに好ましい。熱処理温度が１８０℃未満であると、残存する吸着水やカップリング剤が充分に除去されず、暗減衰等の電気特性が不充分となる傾向にある。他方、熱処理温度が３００℃を超えると、カップリング剤により形成された被膜の分解や金属酸化物微粒子表面の酸化により、電荷のトラップサイトが発現して残留電位が上昇しやすくなる傾向にある。熱処理時間は、カップリング剤の種類及び熱処理温度に応じて適宜選定されるが、通常、１０分〜１００時間程度である。
【００４９】
また、被覆処理された金属酸化物微粒子を熱処理する際には、異なる熱処理温度で２段階の加熱を行うことが好ましい。このとき、１段階目の加熱は処理液の沸点以上、２段階目の加熱は１８０℃以上（より好ましくは２００〜３００℃、さらに好ましくは２００〜２５０℃）であることが好ましい。
【００５０】
下引層４の結着樹脂としては、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、及びメラミン樹脂等の高分子樹脂化合物等が挙げられる。
【００５１】
下引層４は、上記の金属酸化物微粒子及び結着樹脂のみからなるものであってもよく、また、体積抵抗及びその環境依存性が上記の条件を満たす限りにおいて、電気特性向上、環境安定性向上、及び画質向上のための添加物を含有してもよい。
【００５２】
かかる添加物としては、クロラニルキノン、ブロモアニルキノン、アントラキノン等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物；２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物；キサントン系化合物；チオフェン化合物；３，３’，５，５’−テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物等の電子輸送性物質、多環縮合系化合物、アゾ系化合物等の電子輸送性顔料、シランカップリング剤、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、及び有機チタニウム化合物等が挙げられる。
【００５３】
上記シランカップリング剤としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、及びγ−クロルプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００５４】
上記ジルコニウムキレート化合物としては、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、及びイソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
【００５５】
上記チタニウムキレート化合物としては、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、及びポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。
【００５６】
上記アルミニウムキレート化合物としては、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、及びアルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。これらの化合物は単独に又は複数の化合物の混合物、或いは重縮合物として用いることができる。
【００５７】
下引層４は、例えば金属酸化物微粒子と結着樹脂とを所定の溶媒に混合／分散して下引層形成用塗布液を調製し、この下引層形成用塗布液を導電性支持体３上に塗布し、乾燥することによって形成することができる。
【００５８】
かかる塗布液を調製する際の混合／分散方法としては、ボールミル、ロールミル、サンドミル、アトライター、及び超音波等による方法が適用可能である。また、塗布液の塗布方法としては、ブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、及びカーテンコーティング法等が挙げられる。また、塗布液には塗膜の平滑性向上のためのレベリング剤としてシリコーンオイルを微量添加することもできる。
【００５９】
このようにして得られる下引層４の膜厚は２０〜４０μｍに調節されている。下引層の膜厚が２０μｍ未満であると充分なリーク防止性が得られない。また、下引層の膜厚の増加に伴いリーク防止性は向上するが、膜厚が５０μｍを超えると成膜が困難となり、また、残留電位の上昇による画質低下が生じやすくなる。さらに、下引層４のビッカース強度は３５以上であることが好ましい。
【００６０】
次に、感光層６について説明する。図１に示すように感光層６は電荷発生層６１と電荷輸送層６２との積層構造を有するものである。
【００６１】
電荷発生層６１は、電荷発生物質、並びに必要に応じて結着樹脂を含んで構成されるものである。また、上記材料の他に後述する電荷輸送物質、固形潤滑剤、及び金属酸化物等を含んでいてもよい。
【００６２】
かかる電荷発生物質としては、公知の電荷発生物質なら何でも使用できる。赤外光用ではフタロシアニン顔料、スクアリリウム、ビスアゾ、トリスアゾ、ペリレン、ジチオケトピロロピロール、可視光用としては縮合多環顔料、ビスアゾ、ペリレン、トリゴナルセレン、色素増感した金属酸化物微粒子等を用いる。これらの中で、特に優れた性能が得られ、好ましく使用される電荷発生物質として、フタロシアニン系顔料が用いられる。これを用いることにより、特に高感度で、繰り返し安定性の優れる電子写真感光体を得ることができる。また、フタロシアニン顔料は一般に数種の結晶型を有しており、目的にあった感度が得られる結晶型であるならば、これらのいずれの結晶型でも用いることができる。特に好ましく用いられる電荷発生物質としては、クロロガリウムフタロシアニン、ジクロロススフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、無金属フタロシアニン、チタニルフタロシアニン、クロロインジウムフタロシアニン等が挙げられる。
【００６３】
電荷発生層６１において好ましく用いられる電荷発生物質は、公知の方法で製造される顔料結晶を、自動乳鉢、遊星ミル、振動ミル、ＣＦミル、ローラーミル、サンドミル、及びニーダー等を用いて機械的に乾式粉砕するか、乾式粉砕後、溶剤と共にボールミル、乳鉢、サンドミル、及びニーダー等を用いて湿式粉砕処理を行うことによって製造することができる。
【００６４】
湿式粉砕処理において使用される溶剤は、芳香族類（トルエン、クロロベンゼン等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等）、脂肪族アルコール類（メタノール、エタノール、ブタノール等）、脂肪族多価アルコール類（エチレングリコール、グリセリン、ポリエチレングリコール等）、芳香族アルコール類（ベンジルアルコール、フェネチルアルコール等）、エステル類（酢酸エステル、酢酸ブチル等）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン等）、ジメチルスルホキシド、エーテル類（ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等）、又はこれらの数種の混合系、あるいは水とこれら有機溶剤との混合系が挙げられる。
【００６５】
これら溶剤の使用量は、顔料結晶１質量部に対して１〜２００質量部、好ましくは１０〜１００質量部が望ましい。また、湿式粉砕処理における処理温度は、０℃以上溶剤の沸点以下、好ましくは１０〜６０℃である。また、粉砕の際に食塩、ぼう硝等の磨砕助剤を用いてもよい。磨砕助剤は、顔料に対して０．５〜２０倍、好ましくは１〜１０倍（いずれも質量換算値）用いればよい。
【００６６】
また、公知の方法で製造される顔料結晶について、アシッドペースティング又はアシッドペースティングと前述したような乾式粉砕又は湿式粉砕との組み合わせによって結晶制御することもできる。アシッドペースティングに用いる酸としては、硫酸が好ましく、この硫酸の濃度は７０〜１００％、好ましくは９５〜１００％の濃度のものが使用される。この濃硫酸の量は、顔料結晶の質量に対して、１〜１００倍、好ましくは３〜５０倍（いずれも質量換算値）の範囲に設定される。また、溶解温度は、−２０〜１００℃、好ましくは０〜６０℃の範囲に設定される。結晶を酸から析出させる際の溶剤としては、水、或いは水と有機溶剤の混合溶剤を任意の量で使用できる。析出させる温度については特に制限はないが、発熱を防ぐために、氷等で冷却することが好ましい。
【００６７】
これらの電荷発生物質は、加水分解性基を有する有機金属化合物又はシランカップリング剤で被覆処理してもよい。かかる被覆処理によって電荷発生物質の分散性や電荷発生層用塗布液の塗布性が向上し、平滑で分散均一性の高い電荷発生層６１を容易に且つ確実に成膜することができ、その結果、カブリやゴースト等の画質欠陥が防止され、画質維持性を向上させることができる。また、電荷発生層用塗布液の保存性も著しく向上するので、ポットライフの延長の点でも効果的であり、感光体のコストダウンも可能となる。
【００６８】
上記加水分解性基を有する有機金属化合物は、下記一般式（Ｉ）：
Ｒｐ−Ｍ−Ｙｑ （Ｉ）
で表される化合物である。なお、式中、Ｒは有機基を表し、Ｍはアルカリ金属以外の金属原子又はケイ素原子を表し、Ｙは加水分解性基を表し、ｐ及びｑはそれぞれ１〜４の整数であり、ｐとｑとの和はＭの原子価に相当する。
【００６９】
一般式（Ｉ）中、Ｒで表される有機基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基等のアルケニル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、フェニル基、トリル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェニルエチル基等のアリールアルキル基、スチリル基等のアリールアルケニル基、フリル基、チエニル基、ピロリジニル基、ピリジル基、イミダゾリル基等の複素環残基等が挙げられる。これらの有機基は１または２種以上の各種の置換基を有していてもよい。
【００７０】
また、一般式（Ｉ）中、Ｙで表される加水分解性基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、シクロヘキシルオキシ基、フェノキシ基、ベンジロキシ基等のエーテル基、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、アクリロキシ基、メタクリロキシ基、ベンゾイルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、ベンジロキシカルボニル基等のエステル基、塩素原子等のハロゲン原子等が挙げられる。
【００７１】
また、一般式（Ｉ）中、Ｍはアルカリ金属以外であれば特に制限されるものではないが、好ましくはチタン原子、アルミニウム原子、ジルコニウム原子又はケイ素原子である。すなわち、本発明に係る感光体においては、上記の有機基や加水分解性の官能基を置換した有機チタン化合物、有機アルミニウム化合物、有機ジルコニウム化合物、さらにはシランカップリング剤が好ましく用いられる。
【００７２】
また、上記シランカップリング剤の例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシシラン）、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられ。
【００７３】
これらの中でも、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシランがより好ましい。
【００７４】
また、上記の有機金属化合物及びシランカップリング剤の加水分解生成物も使用することができる。この加水分解生成物としては、上記一般式（Ｉ）で示される有機金属化合物のＭ（アルカリ金属以外の金属原子又はケイ素原子）に結合するＹ（加水分解性基）やＲ（有機基）に置換する加水分解性基が加水分解したものが挙げられる。なお、有機金属化合物及びシランカップリング剤が加水分解性基を複数含有する場合は、必ずしも全ての官能基を加水分解する必要はなく、部分的に加水分解された生成物であってもよい。また、これらの有機金属化合物及びシランカップリング剤は、１種を単独で使用してもよく、２種以上混合して使用してもよい。
【００７５】
上記の加水分解性基を有する有機金属化合物及び／又はシランカップリング剤（以下、単に「有機金属化合物」という）を用いてフタロシアニン顔料を被覆処理する方法としては、フタロシアニン顔料の結晶を整える過程で該フタロシアニン顔料を被覆処理する方法、フタロシアニン顔料を結着樹脂に分散する前に被覆処理する方法、フタロシアニン顔料の結着樹脂への分散時に有機金属化合物を混合処理する方法、フタロシアニン顔料の結着樹脂への分散後に有機金属化合物で更に分散処理する方法等が挙げられる。
【００７６】
より具体的には、顔料の結晶を整える過程で予め被覆処理する方法としては、有機金属化合物と結晶が整う前のフタロシアニン顔料とを混合した後加熱する方法、有機金属化合物を結晶が整う前のフタロシアニン顔料に混合し機械的に乾式粉砕する方法、有機金属化合物の水または有機溶剤中の混合液を結晶が整う前のフタロシアニン顔料に混合し湿式粉砕処理方法等が挙げられる。
【００７７】
また、フタロシアニン顔料を結着樹脂に分散する前に被覆処理する方法としては、有機金属化合物、水又は水と有機溶剤との混合液、並びにフタロシアニン顔料を混合して加熱する方法、有機金属化合物をフタロシアニン顔料に直接噴霧する方法、有機金属化合物をフタロシアニン顔料と混合しミリングする方法等がある。
【００７８】
また、分散時に混合処理する方法としては、分散溶剤に有機金属化合物、フタロシアニン顔料、結着樹脂を順次添加しながら混合する方法、これらの電荷発生層６１形成成分を同時に添加し混合する方法等が挙げられる。
【００７９】
また、フタロシアニン顔料を結着樹脂中に分散した後に有機金属化合物で更に分散処理する方法としては、例えば溶剤で希釈した有機金属化合物を分散液に添加し攪拌しながら分散する方法が挙げられる。また、かかる分散処理の際、より強固にフタロシアニン顔料に付着させるために、触媒として硫酸、塩酸、トリフルオロ酢酸等の酸を添加してもよい。
【００８０】
これらの中でも、フタロシアニン顔料の結晶を整える過程で予め被覆処理する方法、又はフタロシアニン顔料を結着樹脂に分散する前に被覆処理する方法が好ましい。
【００８１】
電荷発生層６１に用いる結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択することができる。また、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択することもできる。好ましい結着樹脂としては、ポリビニルアセタール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノールＡとフタル酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等の絶縁性樹脂等が挙げられ、中でもポリビニルアセタール樹脂が特に好ましい。これらの結着樹脂は１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。電荷発生層６１における電荷発生物質と結着樹脂との配合比（質量比）は、１０：１〜１：１０の範囲が好ましい。
【００８２】
電荷発生層６１は、電荷発生物質の真空蒸着、あるいは電荷発生物質及び結着樹脂を含む塗布液の塗布により形成される。塗布液の溶媒としては、結着樹脂を溶解することが可能であれば特に制限されず、例えばアルコール、芳香族化合物、ハロゲン化炭化水素、ケトン、ケトンアルコール、エーテル、エステル等から任意に選択することができ、より具体的には、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等が挙げられる。これらの溶剤は１種を単独で用いてもよく、２種以上混合して用いてもよい。
【００８３】
電荷発生物質及び結着樹脂を溶媒に分散させる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等の方法を用いることができる。この分散の際、電荷発生物質を０．５μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以下、さらに好ましくは０．１５μｍ以下の粒子サイズにすることが有効である。また、この電荷発生層用塗布液には電気特性向上、画質向上等のために、下引層４の説明において例示された添加剤を配合することもできる。
【００８４】
また、かかる塗布液の塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等が挙げられる。また、塗布液には塗膜の平滑性向上のためのレベリング剤としてシリコーンオイルを微量添加することもできる。
【００８５】
次に、電荷輸送層６２について説明する。電荷輸送層６２は、電荷輸送物質及び結着樹脂を含んで構成されるものである。かかる電荷輸送物質としては、具体的には、２，５−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール等のオキサジアゾール誘導体、１，３，５−トリフェニル−ピラゾリン、１−［ピリジル−（２）−］−３−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）ピラゾリン等のピラゾリン誘導体、トリフェニルアミン、トリ（ｐ−メチル）フェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，４−ジメチルフェニル）ビフェニル−４−アミン、ジベンジルアニリン、９，９−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ（ｐ−トリル）フルオレノン−２−アミン等の芳香族第３級アミノ化合物、Ｎ，Ｎ‘−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１−ビフェニル］−４，４‘−ジアミン等の芳香族第３級ジアミノ化合物、３−（４’ジメチルアミノフェニル）−５，６−ジ−（４’−メトキシフェニル）−１，２，４−トリアジン等の１，２，４−トリアジン誘導体、４−ジエチルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン、４−ジフェニルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン、［ｐ−（ジエチルアミノ）フェニル］（１−ナフチル）フェニルヒドラゾン等のヒドラゾン誘導体、２−フェニル−４−スチリル−キナゾリン等のキナゾリン誘導体、６−ヒドロキシ−２，３−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−ベンゾフラン等のベンゾフラン誘導体、ｐ−（２，２−ジフェニルビニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルアニリン等のα−スチルベン誘導体、エナミン誘導体、Ｎ−エチルカルバゾール等のカルバゾール誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールおよびその誘導体等の正孔輸送物質；クロラニルキノン、ブロモアニルキノン、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、３，３’，５，５’−テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物等の電子輸送物質；あるいは上記した化合物から水素原子等を除いた残基を主鎖又は側鎖に有する重合体等が挙げられる。これらの電荷輸送物質は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合せて用いてもよい。
【００８６】
電荷輸送層６２の結着樹脂は特に制限されないが、フィルム形成可能な電気絶縁性の樹脂が好ましい。このような結着樹脂としては、具体的には、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコン樹脂、シリコン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−カルバゾール、ポリビニルブチラール、ポリビニルフォルマール、ポリスルホン、カゼイン、ゼラチン、ポリビニルアルコール、エチルセルロース、フェノール樹脂、ポリアミド、カルボキシ−メチルセルロース、塩化ビニリデン系ポリマーワックス、ポリウレタン等が挙げられるが、中でもポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂は電荷輸送物質との相溶性、溶剤への溶解性、強度の点で優れており好ましく用いられる。これらの結着樹脂は１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００８７】
電荷輸送層６２は、上記の電荷輸送物質及び結着樹脂を所定の溶媒に混合／分散した塗布液を用いて形成することができる。塗布液に用いる溶媒としては上記電荷発生層６１用塗布液の説明において例示された溶媒が使用できるが、電荷発生層６１の結着樹脂に対する溶解性が低いものを選定することが好ましい。また、電荷輸送物質と結着樹脂との配合比（質量比）は、好ましくは３：７〜６：４である。当該配合比が前記の範囲外の場合には、電気特性又は膜強度の少なくとも一方が低下する傾向にある。また、塗布液には塗膜の平滑性向上のためのレベリング剤としてシリコーンオイルを微量添加することもできる。塗布液を調製する際の分散方法及び塗布液の塗布方法としては、電荷発生層６１の場合と同様の方法が適用可能である。
【００８８】
また、電荷輸送層６２には磨耗を低減する目的のために固形潤滑剤や金属酸化物を分散することができる。このような固形潤滑剤としては、フッ素含有樹脂粒子（四フッ化エチレン、三フッ化塩化エチレン、四フッ化エチレン六フッ化プロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、二フッ化二塩化エチレンおよびそれらの共重合体等）、金属酸化物（酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン等）、ケイ素含有樹脂粒子、及びコロイダルシリカ粒子からなる群から選択される少なくとも１種が分散されることが好ましい。
【００８９】
このような目的のために、フッ素含有樹脂粒子又はケイ素含有樹脂粒子には電荷輸送層６２に分散し摩擦係数を低減する方法と金属酸化物（シリカ、アルミナ、酸化チタン、酸化スズ等）を分散し機械的硬度を高める方法がある。また、フッ素含有樹脂粒子は、難分散粒子のためフッ素含有高分子系分散助剤を用いると分散性が向上される。
【００９０】
また、電荷輸送層６２にフッ素含有樹脂粒子を分散する際、フッ素系グラフトポリマーをフッ素含有樹脂粒子に対し０．１〜１０質量％含有させることが好ましい。
【００９１】
上記固形潤滑剤や金属酸化物を分散させる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー、ホモジナイザー、高圧処理式ホモジナイザー等の方法を用いることができる。この分散の際、分散粒子を１．０μｍ以下、好ましくは０．５μｍ以下にすることが有効である。また、この電荷輸送層用塗布液には電気特性向上、画質向上等のために、下引層４の説明において例示された添加剤を配合することもできる。また、かかる塗布液の塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等が挙げられる。また、塗布液には塗膜の平滑性向上のためのレベリング剤としてシリコーンオイルを微量添加することもできる。
【００９２】
また、図１に示した電子写真感光体１００においては、導電性支持体層３から近い順に電荷発生層６１、電荷輸送層６２が積層されているが、これらの層の順序は逆であってもよい。また、これらの層の間に他の層が存在していてもよい。
【００９３】
上記電子写真感光体１００における感光層６の膜厚（電荷発生層６１と電荷輸送層６２との膜厚の合計）は、３０〜４５μｍに調節される。このよう感光層の膜厚が前記下限値未満であると、ピンホールリーク耐性が低下し、画質上黒点が発生し易くなり、他方、前記上限値を超えると、画質プリント上、細線の像流れが発生し易くなる。
【００９４】
また、このような電荷発生層６１の膜厚は、上記感光層６の範囲を満たす範囲であれば特に制限はないが、好ましくは０．０５〜５μｍ、より好ましくは０．１〜２．０μｍが適当である。
【００９５】
さらに、このような電荷輸送層６２の膜厚は、上記感光層６の範囲を満たす範囲であれば特に制限はないが、好ましくは２５〜４５μｍ、より好ましくは２８〜４５μｍが適当である。
【００９６】
以上説明した電子写真感光体１００においては、導電性支持体３上に形成された各層の膜圧の総和は５０〜９０μｍに調節される。このよう膜圧の総和が前記下限値未満であると、ピンホールリーク耐性が低下し、画質上に黒点が発生し易くなり、他方、前記上限値を超えると、画質プリント上に細線の像流れが発生しやすくなり、膜形成時の成膜性が悪化する。
【００９７】
このような電子写真感光体１００は、さらに、感光層６上に保護層（図示せず）を備えていてもよい。
【００９８】
保護層は、帯電工程の際の感光層６等の化学的変化を防止し、感光層６の機械的強度をさらに高めるためのものであり、導電性物質を適当な結着樹脂中に含有させて形成される。なお、かかる導電性物質としては、Ｎ，Ｎ’−ジメチルフェロセン等のメタロセン化合物、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン等の芳香族アミン化合物、酸化モリブデン、酸化タングステン、酸化アンチモン、酸化スズ、酸化チタン、酸化インジウム、酸化スズとアンチモン若しくは酸化アンチモンとの固溶体、又はこれらの混合物、或いは単一粒子中にこれらの金属酸化物を混合又は被覆したものが挙げられる。
【００９９】
また、保護層の結着樹脂としては、ポリアミド樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリケトン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルケトン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂等が挙げられ、これらは必要に応じて架橋させて使用することもできる。
【０１００】
保護層は、上記の導電性物質及び結着樹脂を所定の溶媒に混合／分散した塗布液を用い、感光層６等と同様にして形成することができる。なお、塗布液に用いられる溶媒は、下層（図１では感光層６における電荷輸送層６２）の結着樹脂に対する溶解性ができるだけ低いものであることが好ましい。
【０１０１】
また、このような保護層は電荷輸送物質（電荷輸送性を有する化合物）を含んで形成され、下記一般式（１）で表される化合物を含んで形成される硬化膜（硬化型表面層）が好ましい。
【０１０２】
Ｆ１［−Ｄ１−Ｓｉ（ＯＲ２）ａ（Ｒ１）３−ａ］ｂ・・・（１）
［式（１）中、Ｆ１は光機能性化合物（光キャリア（正孔又は電子）輸送能を有する化合物）から誘導される有機基を表し、Ｄ１は２価の基（可とう性サブユニット）を表し、Ｒ１は水素原子、アルキル基、及び、置換又は未置換のアリール基からなる群より選ばれる１種を表し、Ｒ２は水素、アルキル基、及び、トリアルキルシリル基からなる群より選ばれる１種を表し、ａは１〜３の整数を表し、ｂは１〜４の整数を表す。］
【０１０３】
一般式（１）中、−Ｓｉ（ＯＲ２）ａ（Ｒ１）３−ａで表される部分は、加水分解性基を有する特性基（以下、「置換ケイ素基」という）として機能する。この置換ケイ素基は、隣接する他の置換ケイ素基があると、−Ｓｉ−基の部分で互いに架橋反応を起こし、隣り合う−Ｓｉ−基の間に酸素原子が架橋した−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−の結合を３次元的に形成する。即ち、この置換ケイ素基は、保護層中にいわゆる無機ガラス質ネットワークを形成する役割を担う。
【０１０４】
上記一般式（１）中、Ｆ１で表される有機基としては、光キャリア（正孔又は電子）輸送能を有するものであれば特に制限されず、従来の電荷輸送物質が有している構造をそのまま有するものであればよい。具体的には、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の正孔輸送性を有する化合物の骨格、及び、キノン系化合物、フルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等の電子輸送性を有する化合物の骨格、を有する化合物を用いることができる。
【０１０５】
一般式（１）中、Ｄ１は、具体的には、光電特性を付与するためのＦ１の部位と、３次元的な無機ガラス質ネットワークの構築に寄与する置換ケイ素基とを結びつける働きを担う２価の基である。また、Ｄ１は、堅い反面もろさも有する無機ガラス質ネットワークの部分に適度な可とう性を付与し、膜（保護層）としての機械的強靱さを向上させる働きを担う有機基構造を表す。
【０１０６】
Ｄ１として具体的には、−ＣｎＨ２ｎ−、−Ｃｎ’Ｈ２ｎ’−２−、−Ｃｎ’’Ｈ２ｎ’’−４−で表わされる２価の炭化水素基（ここで、ｎは１〜１５の整数を表し、ｎ’は２〜１５の整数を表し、ｎ’’は３〜１５の整数を表す）、−ＣＯＯ−、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｃ６Ｈ４−、−Ｎ＝ＣＨ−、−（Ｃ６Ｈ４）−（Ｃ６Ｈ４）−、及び、これらの特性基を任意に組み合わせた構造を有する特性基、更にはこれらの特性基の構成原子を他の置換基と置換したもの等が挙げられる。
【０１０７】
一般式（１）中、ｂは２以上であることが好ましい。ｂが２以上であると、一般式（１）で表される電荷輸送物質中にＳｉ原子を２つ以上含むことになり、無機ガラス質ネットワークを形成し易くなり、機械的強度が向上する。
【０１０８】
一般式（１）で表される化合物としては、下記一般式（２）で表される化合物が好ましい。下記一般式（２）で表わされる化合物は、正孔輸送能を有する化合物（正孔輸送物資）であり、これを保護層に含有させることは、特に保護層における電気特性と機械強度特性の向上の観点から好ましい。
【０１０９】
【化１】
一般式（２）中、Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３及びＡｒ４は同一でも異なっていてもよく、それぞれ置換又は未置換のアリール基を表し、Ａｒ５は置換又は未置換のアリール基又はアリーレン基を表し、ｋは０又は１を表し、Ａｒ１〜Ａｒ５のうちの１〜４つの特性基は下記一般式（３）で表される構造を有する。
【０１１１】
−Ｙ１−Ｓｉ（ＯＲ２）ａＲ１ ３−ａ・・・（３）
一般式（３）中、ａ、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ式（１）中のａ、Ｒ１及びＲ２と同義であり、Ｙ１は２価の基を示す。
【０１１２】
ここで、Ｙ１として具体的には、−ＣαＨ２α−、−Ｃα’Ｈ２α’−２−、−Ｃα’’Ｈ２α’’−４−で表わされる２価の炭化水素基（ここで、αは１〜１５の整数を表し、α’は２〜１５の整数を表し、α’’は３〜１５の整数を表す）、置換又は未置換の２価のアリール基、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｏ−、及び、−ＣＯＯ−からなる群より選択される１種の２価の基を示す。また、Ｙ１は、上記の群から選択される２価の基を任意に組み合わせた構造を有する特性基であってもよい。
【０１１３】
上記一般式（２）中のＡｒ１〜Ａｒ５としては、下記式（４）〜（１０）のうちのいずれかであることが好ましい。
【０１１４】
【化２】
【化３】
【化４】
【化５】
【化６】
【化７】
−Ａｒ−Ｚ’ｓ−Ａｒ−Ｘｍ・・・（１０）
【０１２１】
ここで、式（４）〜（１０）中、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８は、それぞれ、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルキル基もしくは炭素数１〜４のアルコキシ基で置換されたフェニル基、または未置換のフェニル基、炭素数７〜１０のアラルキル基からなる群より選ばれる１種を表す。また、Ｒ９は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表す。
【０１２２】
更に、式（４）〜（１０）中、Ａｒは置換又は未置換のアリーレン基を表し、Ｘは一般式（３）で表される構造を有する特性基を表し、ｍ及びｓはそれぞれ０又は１を表し、ｔは１〜３の整数を表す。
【０１２３】
ここで、式（１０）中のＡｒとしては、下記式（１１）又は（１２）で表されるものが好ましい。
【０１２４】
【化８】
【化９】
式（１１）、（１２）中、Ｒ１０及びＲ１１はそれぞれ先に述べたＲ９と同義である。また、ｔは１〜３の整数を表す。
【０１２７】
また、式（１０）中のＺ’としては、下記式（１３）又は（１４）で表されるものが好ましい。
【０１２８】
【化１０】
【化１１】
また、先に述べたように、式（４）〜（１０）中、Ｘは一般式（３）で表される構造を有する特性基を示すが、その特性基中のＹ１としては、先に述べた−ＣαＨ２α−、−Ｃα’Ｈ２α’−２−、−Ｃα’’Ｈ２α’’−４−で表わされる２価の炭化水素基（ここで、αは１〜１５の整数を表し、α’は２〜１５の整数を表し、α’’は３〜１５の整数を表す）、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｏ−、−ＣＯＯ−の他に、−Ｓ−、−（ＣＨ）β−（βは１〜１０の整数を示す）、先に述べた一般式（１１）、先に述べた一般式（１２）、下記一般式（１５）及び（１６）で表される特性基が挙げられる。
【０１３１】
【化１２】
【化１３】
ここで、式（１６）中、ｙ及びｚはそれぞれ１〜５の整数を表し、ｔは１〜３の整数を表し、先に述べたようにＲ９は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表す。
【０１３４】
また、先に述べたように、式（２）中のＡｒ５は置換又は未置換のアリール基又はアリーレン基を表すが、ｋ＝０の時には、以下に示す構造群（Ｉ）の何れかに当てはまるものが好ましく、更には、構造群（ＩＩ）の何れかに当てはまるものがより好ましい。
【０１３５】
［構造群（Ｉ）］
すなわち、式（２）中のＡｒ５は、ｋ＝０の時には、先に述べた式（４）で表されるもののうちｍ＝１の構造を有するもの、式（５）で表されるもののうちｍ＝１の構造を有するもの、式（６）で表されるもののうちｍ＝１の構造を有するもの、式（７）で表されるもののうちｍ＝１の構造を有するもの、又は、式（１０）で表されるもののうちｍ＝１の構造を有するものが好ましい。
【０１３６】
［構造群（ＩＩ）］
更に、式（２）中のＡｒ５は、ｋ＝１の時には、先に述べた式（４）で表されるもののうちｍ＝１でありかつＸがメチル基の構造を有するもの、式（５）で表されるもののうちｍ＝１でありかつＸがメチル基の構造を有するもの、式（６）で表されるもののうちｍ＝１でありかつＸがメチル基の構造を有するもの、式（７）で表されるもののうちｍ＝１でありかつＸがメチル基の構造を有するもの、又は、式（１０）で表されるもののうちｍ＝１でありかつＸがメチル基の構造を有するものがより好ましい。
【０１３７】
また、式（２）中のＡｒ５が、上記構造群（Ｉ）の何れか、更には、構造群（ＩＩ）の何れかの構造をとる場合には、式（１０）中のＺ’は、下記一般式（１７）〜（２４）からなる群より選択される１種であることが好ましい。
−（ＣＨ２）ｑ− （１７）
−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｒ− （１８）
【０１３８】
【化１４】
【化１５】
【化１６】
【化１７】
【化１８】
【化１９】
ここで、式（１７）〜（２４）中、Ｒ１２及びＲ１３はそれぞれ水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、Ｗは２価の基を表し、ｑ及びｒはそれぞれ１〜１０の整数を表し、ｔは１〜２の整数、をそれぞれ表す。
【０１４５】
上記式（２３）、（２４）中のＷとしては、下記（２５）〜（３３）で表される２価の基のうちのいずれかであることが好ましい。
【０１４６】
−ＣＨ２− ・・・（２５）
−Ｃ（ＣＨ３）２− ・・・（２６）
−Ｏ− ・・・（２７）
−Ｓ− ・・・（２８）
−Ｃ（ＣＦ３）２− ・・・（２９）
−Ｓｉ（ＣＨ３）２− ・・・（３０）
【０１４７】
【化２０】
【化２１】
【化２２】
ここで、式（３２）中、ｕは０〜３の整数を表す。
【０１５１】
また、一般式（２）で表される化合物の具体例としては、例えば、特開２００１−８３７２８号公報における表１〜表５５に記載の化合物番号１〜２７４のものが使用できる。
【０１５２】
更に、一般式（１）で表される電荷輸送物質は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を任意に組み合せて併用してもよい。また、一般式（１）で表される電荷輸送物質と共に、硬化膜の機械的強度を更に向上させる目的で、下記一般式（Ｉ）で表される化合物を併用してもよい。
【０１５３】
Ｂ｛−Ｓｉ（ＯＲ２）ａ（Ｒ１）３−ａ｝γ ・・・（ＩＩ）
ここで、式（ＩＩ）中のａ、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ先に述べた式（１）中のａ、Ｒ１及びＲ２と同義であり、Ｂは２価の有機基を表し、γは２以上の整数を表す。
【０１５４】
一般式（ＩＩ）で表される化合物は、先に述べた加水分解性基を有する置換ケイ素基を有している化合物である。この一般式（ＩＩ）で表される化合物は、置換ケイ素基の部位に含まれる−Ｓｉ−基の部分が、一般式（１）で表される電荷輸送物質或いは隣接する他の一般式（ＩＩ）で表される化合物の置換ケイ素基と反応し、隣り合う−Ｓｉ−基の間に酸素原子が架橋した−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−の結合を３次元的に形成する。即ち、一般式（ＩＩ）で表される化合物と一般式（１）で表される電荷輸送物質との置換ケイ素基の間で進行する加水分解反応により、保護層中にいわゆる無機ガラス質ネットワークが形成される。
【０１５５】
一般式（１）で表される電荷輸送物質も先に述べたようにそれ自体のみで無機ガラス質ネットワークを有する硬化膜（保護層）を形成することも可能であるが、一般式（ＩＩ）で表される化合物は２個以上のアルコキシシリル基を有しているので硬化膜の架橋構造が３次元的に形成され易く、より強い機械強度を有するようになると考えられる。また、一般式（ＩＩ）で表される化合物は、硬化膜の構成材料となることにより、一般式（１）で表される電荷輸送物質におけるＤ１部分と同様、硬化膜に適度な可とう性を与える役割もある。
【０１５６】
上記一般式（ＩＩ）で表される化合物としては、下記一般式（３４）〜（３８）で表されるものが好ましい。なお、式（３４）〜（３８）中、Ｔ１及びＴ２はそれぞれ独立に枝分かれしていてもよい２価又は３価の炭化水素基を表す。また、Ａは先に述べた加水分解性を有する置換ケイ素基を表す。ｈ、ｉ、ｊはそれぞれ独立に１〜３の整数を表す。また、式（３４）〜（３８）で表される化合物は、分子内のＡの数が２以上となるように選ばれる。
【０１５７】
【化２３】
【化２４】
【化２５】
【化２６】
【化２７】
以下に、上記一般式（ＩＩ）で表される化合物の好ましい例を表１に示す。なお、表１中、Ｍｅはメチル基を表し、Ｅｔはエチル基を表し、Ｐｒはプロピル基を表す。
【０１６３】
【表１】
保護層の形成には、一般式（ＩＩ）で表される化合物と共に、更に架橋反応可
能な他の化合物を併用しても良い。このような化合物として、各種シランカップリング剤、及び市販のシリコン系ハードコート剤を用いることができる。
【０１６５】
シランカップリング剤としては、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン等が挙げられる。
【０１６６】
市販のハードコート剤としては、ＫＰ−８５、ＣＲ−３９、Ｘ−１２−２２０８、Ｘ−４０−９７４０、Ｘ−４１−１００７、ＫＮＳ−５３００、Ｘ−４０−２２３９ （以上、信越シリコーン社製）、及びＡＹ４２−４４０、ＡＹ４２−４４１、ＡＹ４９−２０８ （以上、東レダウコーニング社製）、等が挙げられる。
【０１６７】
硬化型表面層（保護層）には、表面潤滑性を付与する目的でフッ素原子含有化合物を添加できる。表面潤滑性を向上させることによりクリーニング部材との摩擦係数が低下し、耐摩耗性を向上させることができる。また、感光体表面に対する放電生成物、現像剤及び紙粉等の付着を防止する効果も有し、感光体の寿命向上に役立つ。
【０１６８】
フッ素含有化合物としては、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素原子含有ポリマーをそのまま添加するか、或いはそれらポリマーの微粒子を添加することができる。また、一般式（１）で表される化合物により形成される硬化膜（保護層）の場合、フッ素含有化合物としては、アルコキシシランと反応できるものを添加し、架橋膜の一部として構成するのが望ましい。そのようなフッ素原子含有化合物の例として、（トリデカフルオロ −１，１，２，２−テトラヒドロオクチル）トリエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、３−（ヘプタフルオロイソプロポキシ）プロピルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトキシシラン等が挙げられる。
【０１６９】
フッ素含有化合物の添加量としては、２０質量％以下とすることが好ましい。これを越えると、架橋硬化膜（保護層）の成膜性に問題が生じる場合がある。
【０１７０】
硬化型表面層（保護層）は充分な耐酸化性を有しているが、更に強い耐酸化性を付与する目的で、酸化防止剤を添加してもよい。酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系或いはヒンダードアミン系が望ましく、有機イオウ系酸化防止剤、フォスファイト系酸化防止剤、ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系酸化防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤、等の公知の酸化防止剤を用いてもよい。酸化防止剤の添加量としては１５質量％以下が好ましく、１０質量％以下が更に好ましい。
【０１７１】
上記ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，５−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナマイド、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、２，４−ビス［（オクチルチオ）メチル］−ｏ−クレゾール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，５−ジ−ｔ−アミルヒドロキノン、２−ｔ−ブチル−６−（３−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、等が挙げられる。
【０１７２】
上記硬化型表面層（保護層）には公知の塗膜形成に用いられるその他の添加剤を添加することも可能であり、レベリング剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、界面活性剤、など公知のものを用いることができる。
【０１７３】
上記硬化型表面層を形成するためには、前述の各種材料、および各種添加剤の混合物を感光層の上に塗布し、加熱処理する。これにより、３次元的に架橋硬化反応を起こし、強固な硬化膜を形成する。加熱処理の温度は、下層である感光層に影響しなければ特に制限はないが、室温〜２００度、特に１００〜１６０度に設定するのが好ましい。
【０１７４】
上記硬化型表面層の形成において、架橋硬化反応を行う際には無触媒で行なってもよいが、適切な触媒を用いてもよい。触媒としては、塩酸、硫酸、燐酸、蟻酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、等の酸触媒、アンモニア、トリエチルアミン等の塩基、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジオクトエート、オクエ酸第一錫等の有機錫化合物、テトラ−ｎ−ブチルチタネート、テトライソプロピルチタネート等の有機チタン化合物、有機カルボン酸の鉄塩、マンガン塩、コバルト塩、亜鉛塩、ジルコニウム塩、アルミニウムキレート化合物等が挙げられる。
【０１７５】
前記硬化型表面層には、塗布を容易にするため、必要に応じて溶剤を添加して用いることができる。具体的には、水、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、ジメチルエーテル、ジブチルエーテル、等の通常の有機溶剤を単独あるいは２種以上混合して用いることができる。
【０１７６】
上記硬化型表面層の形成において、塗布方法としては、ブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。
【０１７７】
上記硬化型表面層の膜厚は、上記導電性支持体３上に形成された各層の膜圧の総和の範囲を満たせば特に制限はないが、硬化型表面層の膜厚は０．５〜２０μｍが好ましく、特に２〜１０μｍであることが望ましい。同様に、保護層の膜厚１〜２０μｍが好ましく、好ましくは２〜１０μｍが適当である。
【０１７８】
また、画像形成装置中で発生するオゾンや酸化性ガス、あるいは光・熱による感光体の劣化を防止する目的で、感光層６、保護層等に酸化防止剤・光安定剤・熱安定剤等の添加剤を添加することができる。
【０１７９】
酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノン及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物等が挙げられる。
【０１８０】
より具体的には、フェノール系酸化防止剤としては、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、スチレン化フェノール、ｎ−オクタデシル−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、２，２’−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２−ｔ−ブチル−６−（３’−ｔ−ブチル−５’−メチル−２’−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、４，４’−ブチリデン−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオ−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，３，５−トリス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、テトラキス−［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］−メタン、３，９−ビス［２−｛３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン等が挙げられる。
【０１８１】
また、ヒンダードアミン系化合物としては、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、１−［２−｛３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ｝エチル］−４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、８−ベンジル−７，７，９，９−テトラメチル−３−オクチル−１，３，８−トリアザスピロ［４，５］ウンデカン−２，４−ジオン、４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、コハク酸ジメチル−１−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン重縮合物、ポリ［｛６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）イミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイミル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，３，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝］、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−アミノプロピル）エチレンジアミン−２，４−ビス［Ｎ−ブチルＮ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ］−６−クロロ−１，３，５−トリアジン縮合物等が挙げられる。
【０１８２】
また、有機イオウ系酸化防止剤としては、ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−（β−ラウリル−チオプロピオネート）、ジトリデシル−３，３’−チオジプロピオネート、２−メルカプトベンズイミダゾール等が挙げられる。
【０１８３】
また、有機燐系酸化防止剤としてトリスノニルフェニルフォスフィート、トリフェニル フォスフィート、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスフィート等が挙げられる。
【０１８４】
上記の酸化防止剤のうち、有機硫黄系および有機燐系酸化防止剤は２次酸化防止剤と呼ばれ、フェノール系又はアミン系酸化防止剤等の１次酸化防止剤と併用することにより相乗効果を得ることができる。
【０１８５】
また、光安定剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ジチオカルバメート系、テトラメチルピペリジン系等の誘導体が挙げられる。
【０１８６】
より具体的には、ベンゾフェノン系光安定剤としては、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン等が挙げられる。
【０１８７】
また、ベンゾトリアゾール系光安定剤としては、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（３”，４”，５”，６”−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５’−メチルフェニル］−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール等が挙げられる。その他、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエート、ニッケル ジブチル−ジチオカルバメート等を用いてもよい。
【０１８８】
また、感度の向上、残留電位の低減、繰り返し使用時の疲労低減等を目的として、感光層６、保護層に少なくとも１種の電子受容性物質を含有せしめることができる。かかる電子受容性物質としては、無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、ｏ−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、クロラニル、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピクリン酸、ｏ−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、フタル酸等が挙げられる。これらのうち、フルオレノン系又はキノン系化合物や、−Ｃｌ、−ＣＮ、−ＮＯ２等の電子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特に好ましい。
【０１８９】
また、感光体１００においては、導電性支持体層３と下引層４との間にさらに、酸化膜層（図示せず）を配置してもよい。酸化膜層は、金属酸化物からなるものであれば特に限定されないが、製造効率の観点から、酸化剤を含む酸性液体中において導電性支持体層３（例えば、アルミニウム基体）を陽極酸化することにより形成される陽極酸化膜であることが好ましい。また、酸化膜層は、導電性支持体層３にベーマイト処理を施して形成してもよい。
【０１９０】
導電性支持体層３にアルミニウム基体を用いる場合、アルミニウム基体には、陽極酸化処理の前に効率よく陽極酸化を行うために脱脂洗浄処理を施すことが好ましい。この脱脂洗浄処理は充分な洗浄効果が得られるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、酸、アルカリ、有機溶剤、界面活性剤等の用いる処理や、電解法を用いる処理等の公知の技術を用いてよい。
【０１９１】
陽極酸化処理は、例えば、硫酸、リン酸、クロム酸、しゅう酸、ホウ酸、スルファミン酸などの酸性液にアルミニウム基体を浸漬浴させることにより行うことができる。ここで、使用する酸としては、特に硫酸が最も好ましく用いられる。
【０１９２】
硫酸を用いて陽極酸化処理を行う場合、硫酸濃度は２０〜３００ｇ／Ｌ、液温は０℃〜５０℃、溶存アルミニウム濃度は１〜３０ｇ／Ｌ、電解電圧は５〜３０Ｖの範囲の条件が好ましく用いられる。また、得られる酸化膜層２の層厚は０．１〜２０μｍであることが好ましく、１〜１５μｍであることがより好ましい。
【０１９３】
得られる酸化膜層には、膜の化学的安定性を向上させるための封孔処理を更に施してもよい。この封孔処理は処理後の酸化膜層について所望の感光体特性（例えば、電気特性、画質特性等）が得られる方法であれば特に限定されず、いかなる方法でも用いることができるが、特に弗化ニッケル含有水溶液中に浸漬させる方法、酢酸ニッケル含有水溶液中に浸漬させる方法、蒸気浴による方法、沸騰水に浸漬させる方法等が好ましく用いられる。
【０１９４】
次に、本発明の画像形成装置に搭載される電子写真感光体の他の例について説明する。電子写真感光体の他の例としては、感光層を単層（一層）構造とした以外は図１に示した電子写真感光体１００と同様の構成を有する。
【０１９５】
この単層構造の感光層は、上述した電荷発生物質、並びに、必要に応じて結着樹脂を含んで構成されるものである。この単層構造の感光層には上記材料の他に、上述の電荷輸送物質、固形潤滑剤、及び、金属酸化物等を含んでもよい。そして、上述した電子写真感光体１００と同様な方法により作製することができる。
【０１９６】
このようにして得られる単層構造の感光層の膜厚は３０〜４５μｍに調節されている。このよう感光層の膜厚が前記下限値未満であると、ピンホールリーク耐性が低下し、画質上黒点が発生し易くなり、他方、前記上限値を超えると、画質プリント上、細線の像流れが発生し易くなる。
【０１９７】
以上説明した単層構造の感光層を有する電子写真感光体において、導電性支持体３上に形成された各層の膜圧の総和は５０〜９０μｍに調節される。このよう膜圧の総和が前記下限値未満であると、ピンホールリーク耐性が低下し、画質上黒点が発生し易くなり、他方、前記上限値を超えると、画質プリント上細線の像流れが発生しやすくなり、膜形成時の成膜性が悪化する。
【０１９８】
また、以上説明した単層構造の感光層を有する電子写真感光体は、上述した電子写真感光体１００と同様に、保護層、酸化膜層をさらに備えていてもよい。
【０１９９】
〔画像形成装置〕
次に、上述した電子写真感光体を搭載した画像形成装置について説明する。
【０２００】
図２は、本発明の画像形成装置の好適な一実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。図２に示す画像形成装置２００は、帯電手段４０２ａ〜４０２ｄが接触帯電装置であり、転写手段が中間転写方式を採用する構成を有しており、かつ、帯電手段４０２ａ〜４０２ｄ、露光手段４０３、及び現像手段４０４ａ〜４０４ｄを少なくとも備える画像形成ユニットを２以上有するタンデム式画像形成装置である。
【０２０１】
より具体的には、このタンデム式画像形成装置２００は、ハウジング４００内において４つの電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄ（例えば、電子写真感光体４０１ａがイエロー、電子写真感光体４０１ｂがマゼンタ、電子写真感光体４０１ｃがシアン、電子写真感光体４０１ｄがブラックの色からなる画像をそれぞれ形成可能である）が中間転写ベルト４０９に沿って相互に並列に配置されている。また、この画像形成装置２００には、さらに、クリーニング手段４１５ａ〜４１５ｄが備わっている。
【０２０２】
ここで、画像形成装置２００に搭載されている電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄは、それぞれ上述した感光層の膜厚、下引層の膜厚、及び導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和が上述の範囲である電子写真感光体であり、例えば図１に示した電子写真感光体１００が搭載される。
【０２０３】
電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄのそれぞれは所定の方向（紙面上は反時計回り）に回転可能であり、その回転方向に沿って帯電ロール４０２ａ〜４０２ｄ（電子写真感光体を帯電させる接触帯電手段）、現像装置４０４ａ〜４０４ｄ（露光手段により形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像手段）、１次転写ロール４１０ａ〜４１０ｄ｛現像手段により形成されたトナー像を後述の中間転写ベルト４０９（中間転写体）に１次転写するための転写手段｝、クリーニングブレード４１５ａ〜４１５ｄ（クリーニング手段）が配置されている。現像装置４０４ａ〜４０４ｄのそれぞれにはトナーカートリッジ４０５ａ〜４０５ｄに収容されたブラック、イエロー、マゼンタ、シアンの４色のトナーが供給可能であり、また、１次転写ロール４１０ａ〜４１０ｄはそれぞれ中間転写ベルト４０９（１次転写像を被転写媒体５００に転写する中間転写体）を介して電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄに当接している。
【０２０４】
更に、ハウジング４００内の所定の位置にはレーザ光源（帯電手段により帯電される電子写真感光体を露光して静電潜像を形成する露光手段）４０３が配置されており、レーザ光源４０３から出射されたレーザ光を帯電後の電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄの表面に照射することが可能となっている。これにより、電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄの回転工程において帯電、露光、現像、１次転写、クリーニングの各工程が順次行われ、各色のトナー像が中間転写ベルト４０９上に重ねて転写される。
【０２０５】
上記帯電手段（帯電用部材）４０２ａ〜４０２ｄは、ローラー状の接触帯電部材を備えるもので、感光体４０１ａ〜４０１ｄの表面に接触するように配置され、感光体に電圧を均一に印加し、感光体表面を所定の電位に帯電させるものである。帯電手段にはアルミニウム、鉄、銅等の金属、ポリアセチレン、ポリピロール、ポリチオフェン等の導電性高分子材料、ポリウレタンゴム、シリコーンゴム、エピクロロヒドリンゴム、エチレンプロピレンゴム、アクリルゴム、フッソゴム、スチレンーブタジエンゴム、ブタジエンゴム等のエラストマー材料にカーボンブラック、沃化銅、沃化銀、硫化亜鉛、炭化けい素、金属酸化物等の金属酸化物粒子を分散したもの等を用いることができる。
【０２０６】
この金属酸化物の例としてはＺｎＯ、ＳｎＯ２、ＴｉＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＭｏＯ３等、あるいはこれらの複合酸化物が挙げられる。また、帯電手段４０２ａ〜４０２ｄにはエラストマー材料中に過塩素酸塩を含有させて導電性を付与したものを使用しても良い。
【０２０７】
更に、帯電手段４０２ａ〜４０２ｄにはその表面に被覆層を設けてもよい。被覆層を形成する材料としては、Ｎ−アルコキシメチル化ナイロン、セルロース樹脂、ビニルピリジン樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン、ポリビニルブチラール、メラミン等が単独、あるいは併用して用いられる。また、エマルジョン樹脂系材料、たとえば、アクリル樹脂エマルジョン、ポリエステル樹脂エマルジョン、ポリウレタン、特にソープフリーのエマルジョン重合により合成されたエマルジョン樹脂を用いることも出来る。
【０２０８】
これらの樹脂にはさらに抵抗率を調整するために、導電剤粒子を分散してもよいし、劣化を防止するために酸化防止剤を含有させることもできる。また、被覆層を形成する時の成膜性を向上させるために、エマルジョン樹脂にレベリング剤または界面活性剤を含有させることもできる。また、この接触帯電用部材の形状としては、ローラー状、ブレード状、ベルト状、ブラシ状、等が挙げられる。
【０２０９】
さらに、帯電手段４０２ａ〜４０２ｄの電気抵抗値は、好ましくは１０２〜１０１４Ωｃｍ、さらに好ましくは１０２〜１０１２Ωｃｍの範囲が良い。また、この接触帯電用部材への印加電圧は、直流、交流いずれも用いることができる。又、直流＋交流の形（直流電圧と交流電圧とを重畳したもの）で印加することもできる。
【０２１０】
また、上記露光装置４０３としては、電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄ表面に、半導体レーザー、ＬＥＤ（ｌｉｇｈｔ ｅｍｉｔｔｉｎｇ ｄｉｏｄｅ）、液晶シャッター等の光源を所望の像様に露光できる光学系装置等を用いることができる。これらの中でも、非干渉光を露光可能な露光装置を用いると、電子写真感光体の支持体（基体）と感光層との間での干渉縞を防止することができる。
【０２１１】
また、転写手段４１０ａ〜４１０ｄとしては、ベルト、ローラー、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等、が挙げられる。
【０２１２】
また、上記現像装置４０４ａ〜４０４ｄとしては、一成分系、二成分系等の正規または反転現像剤を用いた従来公知の現像装置等を用いることができる。このような現像剤のうち画質の向上という理由から、二成分現像剤を用いる二成分現像方式を用いて行うことが好ましい。この場合、静電潜像の可視化のために用いる現像剤は、トナーとキャリアとで構成される。また、使用されるトナーの形状は特に制限されず、例えば粉砕法による不定形トナーや重合法による球形トナーが好適に使用される。
【０２１３】
また、上記クリーニング手段４１５ａ〜４１５ｄは、転写工程後の電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄの表面に付着する残存トナーを除去するためのもので、これにより清浄面化された電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄは上記の画像形成プロセスに繰り返し供される。クリーニン手段４１５ａ〜４１５ｄとしては、クリーニングブレード、ブラシクリーニング、ロールクリーニング等を用いることができるが、これらの中でもクリーニングブレードを用いることが好ましい。また、クリーニングブレードの材質としてはウレタンゴム、ネオプレンゴム、シリコーンゴム等が挙げられる。
【０２１４】
また、上記中間転写ベルト４０９は以下の手順で製造することができる。すなわち、略等モルのテトラカルボン酸二無水物或いはその誘導体とジアミンとを所定の溶媒中で重合反応させてポリアミド酸溶液を得る。このポリアミド酸溶液を円筒状金型に供給・展開して膜（層）形成を行った後、さらにイミド転化を行うことによって、ポリイミド樹脂からなる中間転写ベルト４０９を得ることができる。
【０２１５】
かかるテトラカルボン酸二無水物としては、ピロメリット酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、１，２，５，６−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、２，２’−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン酸二無水物、ペリレン−３，４，９，１０−テトラカルボン酸二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、エチレンテトラカルボン酸二無水物などが例示される。
【０２１６】
また、ジアミンの具体例としては、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジクロロベンジジン、４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド、３，３’−ジアミノジフェニルスルフォン、１，５−ジアミノナフタレン、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、３，３’−ジメチル４，４’−ビフェニルジアミン、ベンジジン、３，３’−ジメチルベンジジン、３，３’−ジメトキシベンジジン、４，４’−ジアミノジフェニルスルフォン、４，４’−ジアミノジフェニルプロパン、２，４−ビス（β−アミノ第三ブチル）トルエン、ビス（ｐ−β−アミノ−第三ブチルフェニル）エーテル、ビス（ｐ−β−メチル−δ−アミノフェニル）ベンゼン、ビス−ｐ−（１，１−ジメチル−５−アミノ−ベンチル）ベンゼン、１−イソプロピル−２，４−ｍ−フェニレンジアミン、ｍ−キシリレンジアミン、ｐ−キシリレンジアミン、ジ（ｐ−アミノシクロヘキシル）メタン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、デカメチレンジアミン、ジアミノプロピルテトラメチレン、３−メチルヘプタメチレンジアミン、４，４−ジメチルヘプタメチレンジアミン、２，１１−ジアミノドデカン、１，２−ビス−３−アミノプロボキシエタン、２，２−ジメチルプロピレンジアミン、３−メトキシヘキサメチレンジアミン、２，５−ジメチルヘプタメチレンジアミン、３−メチルヘプタメチレンジアミン、５−メチルノナメチレンジアミン、２，１７−ジアミノエイコサデカン、１，４−ジアミノシクロヘキサン、１，１０−ジアミノ−１，１０−ジメチルデカン、１２−ジアミノオクタデカン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、ピペラジン、Ｈ２Ｎ（ＣＨ２）３Ｏ（ＣＨ２）２Ｏ（ＣＨ２）ＮＨ２、Ｈ２Ｎ（ＣＨ２）３Ｓ（ＣＨ２）３ＮＨ２、Ｈ２Ｎ（ＣＨ２）３Ｎ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）３ＮＨ２などが挙げられる。
【０２１７】
テトラカルボン酸二無水物とジアミンを重合反応させる際の溶媒としては、溶解性等の点から極性溶媒が好ましい。極性溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミド類が好ましく、中でもＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルメトキシアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホルトリアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ピリジン、テトラメチレンスルホン、ジメチルテトラメチレンスルホン等の低分子量のものがより好ましい。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【０２１８】
また、中間転写ベルト４０９の膜抵抗を調整するために、ポリイミド樹脂中にカーボンを分散してもよい。カーボンの種類は特に限定されないが、カーボンブラックの酸化処理によりその表面に酸素含有官能基（カルボキシル基、キノン基、ラクトン基、水酸基等）が形成された酸化処理カーボンブラックを用いることが好ましい。ポリイミド樹脂中に酸化処理カーボンブラックを分散すると、電圧を印可したときに酸化処理カーボンブラックに過剰な電流が流れるため、ポリイミド樹脂が繰返しの電圧印加による酸化の影響を受けにくくなる。また、酸化処理カーボンブラックはその表面に形成された酸素含有官能基によりポリイミド樹脂中への分散性が高いので、抵抗バラツキを小さくすることができると共に電界依存性も小さくなり、転写電圧による電界集中が起こりにくくなる。従って、転写電圧による抵抗低下を防止し、電気抵抗の均一性を改善し、電界依存性が少なく、さらに環境による抵抗の変化の少ない、用紙走行部が白く抜けること等の画質欠陥の発生が抑制された高画質を得ることができる中間転写ベルトを得ることができる。
【０２１９】
酸化処理カーボンブラックは、カーボンブラックを高温雰囲気下で空気と接触、反応させる空気酸化法、常温下で窒素酸化物やオゾン等と反応させる方法、高温下での空気酸化後、低温下でオゾン酸化する方法などにより得ることができる。
【０２２０】
また、酸化処理カーボンとしては、三菱化学製のＭＡ１００（ｐＨ３．５、揮発分１．５％）、同，ＭＡ１００Ｒ（ｐＨ３．５、揮発分１．５％）、同ＭＡ１００Ｓ（ｐＨ３．５、揮発分１．５％）、同＃９７０（ｐＨ３．５、揮発分３．０％）、同ＭＡ１１（ｐＨ３．５、揮発分２．０％）、同＃１０００（ｐＨ３．５、揮発分３．０％）、同＃２２００（ｐＨ３．５，揮発分３．５％）、同ＭＡ２３０（ｐＨ３．０、揮発分１．５％）、同ＭＡ２２０（ｐＨ３．０、揮発分１．０％）、同＃２６５０（ｐＨ３．０、揮発分８．０％）、同ＭＡ７（ｐＨ３．０、揮発分３．０％）、同ＭＡ８（ｐＨ３．０、揮発分３．０％）、同ＯＩＬ７Ｂ（ｐＨ３．０、揮発分６．０％）、同ＭＡ７７（ｐＨ２．５、揮発分３．０％）、同＃２３５０（ｐＨ２．５、揮発分７．５％）、同＃２７００（ｐＨ２．５、揮発分１０．０％）、同＃２４００（ｐＨ２．５、揮発分９．０％）；デグサ社製のプリンテックス１５０Ｔ（ｐＨ４．５、揮発分１０．０％）、同スペシャルブラック３５０（ｐＨ３．５、揮発分２．２％）、同スペシャルブラック１００（ｐＨ３．３、揮発分２．２％）、同スペシャルブラック２５０（ｐＨ３．１、揮発分２．０％）、同スペシャルブラック５（ｐＨ３．０、揮発分１５．０％）、同スペシャルブラック４（ｐＨ３．０、揮発分１４．０％）、同スペシャルブラック４Ａ（ｐＨ３．０、揮発分１４．０％）、同スペシャルブラック５５０（ｐＨ２．８、揮発分２．５％）、同スペシャルブラック６（ｐＨ２．５、揮発分１８．０％）、同カラーブラックＦＷ２００（ｐＨ２．５、揮発分２０．０％）、同カラーブラックＦＷ２（ｐＨ２．５、揮発分１６．５％）、同カラーブラックＦＷ２Ｖ（ｐＨ２．５、揮発分１６．５％）；キャボット社製ＭＯＮＡＲＣＨ１０００（ｐＨ２．５、揮発分９．５％）、同ＭＯＮＡＲＣＨ１３００（ｐＨ２．５、揮発分９．５％）、同ＭＯＮＡＲＣＨ１４００（ｐＨ２．５、揮発分９．０％）、同ＭＯＧＵＬ−Ｌ（ｐＨ２．５、揮発分５．０％）、同ＲＥＧＡＬ４００Ｒ（ｐＨ４．０、揮発分３．５％）、などの市販品を用いてもよい。また、このような酸化処理カーボンとしては、ｐＨ４．５以下であり、揮発分１．０％以上であるものが好ましい。
【０２２１】
上記の酸化処理カーボンは、例えば酸化処理の度合い、ＤＢＰ吸油量、窒素吸着を利用したＢＥＴ法による比表面積等の物性の相違により導電性が異なるがこれらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよいが、実質的に導電性の異なるものを２種以上組み合わせて用いることが好ましい。このように物性の異なる２種類以上のカーボンブラックを添加する場合、例えば高い導電性を発現するカーボンブラックを優先的に添加した後、導電率の低いカーボンブラックを添加して表面抵抗率を調整すること等が可能である。
【０２２２】
これら酸化処理カーボンブラックの含有量は、ポリイミド樹脂に対して１０〜５０質量％が好ましく、より好ましくは１２〜３０質量％である。当該含有量が１０質量％未満であると、電気抵抗の均一性が低下し、耐久使用時の表面抵抗率の低下が大きくなる場合があり、一方、５０質量％を超えると、所望の抵抗値が得られにくく、また、成型物として脆くなるため好ましくない。
【０２２３】
２種類以上の酸化処理カーボンブラックを分散させたポリアミド酸溶液の製造方法としては、溶媒中に２種類以上の酸化処理カーボンブラックを予め分散した分散液中に上記酸二無水物成分及びジアミン成分を溶解・重合する方法、２種類以上の酸化処理カーボンブラックを各々溶媒中に分散させ２種類以上のカーボンブラック分散液を作製し、この分散液に酸無水物成分及びジアミン成分を溶解・重合させた後、各々のポリアミド酸溶液を混合する方法、などが挙げられる。
【０２２４】
中間転写ベルト４０９は、このようにして得られたポリアミド酸溶液を円筒状金型内面に供給・展開して被膜とし、加熱によりポリアミド酸をイミド転化させることにより得られる。かかるイミド転化の際には、所定の温度で０．５時間以上保持することによって、良好な平面度を有する中間転写ベルトを得ることができる。
【０２２５】
ポリアミド酸溶液を円筒状金型内面に供給する際の供給方法としては、ディスペンサーによる方法、ダイスによる方法などが挙げられる。ここで、円筒上金型としては、その内周面が鏡面仕上げされたものを用いることが好ましい。
【０２２６】
また、金型に供給されたポリアミド酸溶液から被膜を形成する方法としては、加熱しながら遠心成形する方法、弾丸状走行体を用いて成形する方法、回転成形する方法などが挙げられ、これらの方法により均一な膜厚の被膜が形成される。
【０２２７】
このようにして形成された被膜をイミド転化させて中間転写ベルトを成形する方法としては、（ｉ）金型ごと乾燥機中に入れ、イミド転化の反応温度まで昇温する方法、（ｉｉ）ベルトとして形状を保持できるまで溶媒の除去を行った後、金型内面から被膜を剥離して金属製シリンダ外面に差し替えた後、このシリンダごと加熱してイミド転化を行う方法などが挙げられる。本発明においては、得られる中間転写ベルトの表面のダイナミック硬度が上記の条件を満たせば上記（ｉ）、（ｉｉ）のいずれの方法でイミド転化を行ってもよいが、方法（ｉｉ）によりイミド転化を行うと、平面度及び外表面精度が良好な中間転写体を効率よく且つ確実に得ることができるので好ましい。以下、方法（ｉｉ）について詳述する。
【０２２８】
方法（ｉｉ）において、溶媒を除去する際の加熱条件は、溶媒を除去できれば特に制限されないが、加熱温度は８０〜２００℃であることが好ましく、加熱時間は０．５〜５時間であることが好ましい。このようにしてベルトとしてそれ自身形状を保持することができるようになった成形物は金型内周面から剥離されるが、かかる剥離の際に金型内周面に離型処理を施してもよい。
【０２２９】
次いで、ベルト形状として保持できるまで加熱・硬化させた成形物を、金属製シリンダ外面に差し替え、差し替えたシリンダごと加熱することにより、ポリアミド酸のイミド転化反応を進行させる。かかる金属製シリンダとしては、線膨張係数がポリイミド樹脂よりも大きいものが好ましく、また、シリンダの外径をポリイミド成形物の内径より所定量小さくすることで、ヒートセットを行うことができ均一な膜厚でムラのない無端ベルトを得ることができる。また、金属製シリンダ外面の表面粗度（Ｒａ）は、１．２〜２．０μｍであることが好ましい。金属製シリンダ外面の表面粗度（Ｒａ）が１．２μｍ未満であると、金属製シリンダ自身が平滑過ぎるため、得られる中間転写ベルトにおいてベルトの軸方向に対する収縮による滑りが発生しないため、延伸がこの工程で行われ、膜厚のバラツキや平面度の精度の低下が発生する傾向にある。また、金属製シリンダ外面の表面粗度（Ｒａ）が２．０μｍを超えると、金属製シリンダ外面がベルト状中間転写体の内面に転写し、さらには外面に凹凸を発生させ、これにより画像不良が発生しやすくなる傾向にある。なお、本実施形態でいう表面粗度とはＪＩＳ Ｂ６０１に準じて測定されるＲａをいう。
【０２３０】
また、イミド転化の際の加熱条件としては、ポリイミド樹脂の組成にもよるが、加熱温度が２２０〜２８０℃、加熱時間０．５〜２時間であることが好ましい。このような加熱条件でイミド転化を行うと、ポリイミド樹脂の収縮量がより大きくなるため、ベルトの軸方向についての収縮を緩やかに行うことにより、膜厚バラツキや平面度の精度の低下を防ぐことができる。
【０２３１】
このようにして得られたポリイミド樹脂からなる中間転写ベルトの外面の表面粗度（Ｒａ）は、１．５μｍ以下であることが好ましい。中間転写体の表面粗度（Ｒａ）が１．５μｍを超えるとがさつき等の画像欠陥が発生しやすくなる傾向にある。なお、がさつきの発生は、転写の際に印加される電圧や剥離放電による電界がベルト表面の凸部に局所的に集中して凸部表面が変質することによって、新たな導電経路の発現により抵抗が低下し、その結果得られる画像の濃度低下が起こることに起因すると本発明者らは推察する。
【０２３２】
このようにして得られる中間転写ベルト４０９はシームレスベルトであることが好ましい。このシームレスベルトの場合、中間転写ベルト４０９の厚さはその使用目的に応じて適宜決定しうるが、強度や柔軟性等の機械的特性の点から、２０〜５００μｍが好ましく、５０〜２００μｍがより好ましい。また、中間転写ベルト９の表面抵抗は、その表面抵抗率（Ω／□）の常用対数値が８〜１５（ｌｏｇΩ／□）であることが好ましく、１１〜１３（ｌｏｇΩ／□）であることがより好ましい。なお、ここでいう表面抵抗率とは、２２℃、５５％ＲＨ環境下で１００Ｖの電圧を印加し、電圧印可開始時から１０秒後に測定される電流値に基づいて得られる値をいう。ここで、「表面抵抗［Ω／□］」とは、「薄膜ハンドブック（オーム社刊）」ｐ．８９６に記載の「表面抵抗」と同義であり、面状の抵抗体を正方形に切り出して対向する２辺間の抵抗で表わしたものを示す。この表面抵抗は、抵抗分布が一様ならば正方形の寸法に無関係である。
【０２３３】
中間転写ベルト４０９は駆動ロール４０６、バックアップロール４０８及びテンションロール４０７により所定の張力をもって指示されており、これらのロールの回転によりたわみを生じることなく回転可能となっている。また、２次転写ロール４１３は、中間転写ベルト４０９を介してバックアップロール４０８と当接するように配置されている。バックアップロール４０８と２次転写ロール４１３との間を通った中間転写ベルト４０９はクリーニングブレード４１６により清浄面化された後、次の画像形成プロセスに繰り返し供される。
【０２３４】
また、ハウジング４００内の所定の位置にはトレイ（被転写媒体トレイ）４１１が設けられており、トレイ４１１内の紙などの被転写媒体５００が移送ロール４１２により中間転写ベルト４０９と２次転写ロール４１３との間、さらには相互に当接する２個の定着ロール４１４の間に順次移送された後、ハウジング４００の外部に排紙される。
【０２３５】
このように電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄの回転工程において、帯電、露光、現像、転写、クリーニングの各工程を順次行うことによって画像形成が繰り返し行われる。ここで、電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄは、上述した電子写真感光体１００であり、リーク防止性と電気特性との双方が充分に高水準で達成されたものであるため、接触帯電装置４０２ａ〜４０２ｄと共に用いた場合であってもかぶり等の画質欠陥を生じることなく良好な画像品質を得ることが可能となる。従って、本実施形態により、長期にわたり繰り返し使用される場合であっても、感光体におけるピンホールリークの発生が充分に防止され、画像品質の優れたカラー画像を高速で形成できる画像形成装置２００が実現される。
【０２３６】
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。例えば、図２に示した装置は、電子写真感光体４０１ａ〜４０１ｄと接触帯電装置４０２ａ〜４０２ｄとを含んで構成されるプロセスカートリッジを備えるものであってもよい。かかるプロセスカートリッジを用いることによって、メンテナンスをより簡便に行うことができる。
【０２３７】
また、本発明の画像形成装置はイレース光照射装置等の除電装置をさらに備えていてもよい。これにより、電子写真感光体が繰り返し使用される場合に、電子写真感光体の残留電位が次のサイクルに持ち込まれる現象が防止されるので、画像品質をより高めることができる。
【０２３８】
〔プロセスカートリッジ〕
次に、本発明のプロセスカートリッジについて説明する。図３は、本発明のプロセスカートリッジの好適な一実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。プロセスカートリッジ３００は、電子写真感光体７とともに、接触帯電手段８、現像手段１１、中間転写体２０（中間転写体手段）、クリーニング装置（クリーニング手段）１３、露光のための開口部１８、及び、除電露光のための開口部１７を取り付けレール１６を用いて組み合せ、そして一体化したものである。また、プロセスカートリッジ３００は、転写手段１２の転写方式が、トナー像を中間転写体２０を介して被転写媒体５００に転写する中間転写方式を採用する構成を有している。
【０２３９】
なお、電子写真感光体７は、上述した感光層の膜厚、下引層の膜厚、及び導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和が上述した範囲の電子写真感光体を用いるものである。
【０２４０】
そして、このプロセスカートリッジ３００は、転写手段１２と、定着装置１５と、図示しない他の構成部分とからなる画像形成装置本体に対して着脱自在としたものであり、画像形成装置本体とともに画像形成装置を構成するものである。
【０２４１】
なお、本発明のプロセスカートリッジにおいて、接触帯電手段８（帯電用部材）は、帯電ロール、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電チューブ等による接触帯電方式を採用することができる。接触帯電方式は、感光体表面に接触させた導電性部材に電圧を印加することにより感光体表面を帯電させるものである。導電性部材の形状はブラシ状、ブレード状、ピン電極状、或いはローラー状等何れでもよいが、特にローラー状部材が好ましい。通常、ローラー状部材は外側から抵抗層とそれらを支持する弾性層と芯材から構成される。更に必要に応じて抵抗層の外側に保護層を設けることができる。
【０２４２】
上述した本発明のプロセスカートリッジに使用される現像手段１１について具体的に説明すると、現像手段１１としては、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用い接触或いは非接触させて現像する公知の現像器等が挙げられる。また、トナーとしては、機械的な粉砕方や化学重合で作られる。トナーの形状としては不定形なものから球形のものが挙げられる。
【０２４３】
上述した本発明のプロセスカートリッジに使用される中間転写手段２０について具体的に説明すると、中間転写手段２０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。これらの中でも、転写帯電補償能力に優れる点で接触型転写帯電器が好ましい。なお、本発明においては、上記転写帯電器の他、剥離帯電器等を併用することもできる。
【０２４４】
上述した本発明のプロセスカートリッジに使用されるクリーニング手段１３について具体的に説明すると、クリーニング手段１３としては、特に制限はなく、それ自体公知のクリーニング装置等を用いればよい。例えば、ウレタン製のブレードやクリーニングブラシ等が挙げられる。
【０２４５】
上述した本発明のプロセスカートリッジに使用される除電手段（光除電手段）について具体的に説明すると、光除電手段としては、例えば、タングステンランプ、ＬＥＤ等が挙げられ、該光除電プロセスに用いる光質としては、例えば、タングステンランプ等の白色光、ＬＥＤ光等の赤色光等が挙げられる。該光除電プロセスにおける照射光強度としては、通常、電子写真感光体の半減露光感度を示す光量の数倍乃至３０倍程度になるよう出力設定される。本実施形態においては、開口部１７からこのような光除電手段からの光を取り込み、感光体を除電する。
【０２４６】
このような本発明のプロセスカートリッジは、搭載する電子写真感光体の感光層の膜厚、下引層の膜厚、及び導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和を充分な厚さとしたことにより、感光体に異物が混入しても、感光体におけるピンホールリークが発生し難く、繰り返し使用した際にも、画像品質を落とすことなく優れたカラー画像を得ることができる。
【０２４７】
【実施例】
以下、実施例及び比較例に基づいて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に何ら限定されるものではない。
【０２４８】
以下に示す手順により図２に示した画像形成装置２００と同様の構成を有する実施例１〜実施例７、比較例１〜比較例６の画像形成装置を作製した。
【０２４９】
（金属酸化物微粒子Ａの調製）
酸化亜鉛（ＺｎＯ（平均粒径７０ｎｍ）、テイカ社製 試作品）１００質量部、カップリング剤としてのＮ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシランを１０質量％含有するトルエン溶液１０質量部、並びにトルエン２００質量部を混合し、撹拌しながら２時間還流を行った。その後、混合液を１０ｍｍＨｇに減圧してトルエンを留去し、１３５℃で２時間熱処理を行って金属酸化物微粒子Ａを得た。
【０２５０】
（実施例１）
（電子写真感光体の作製）
以下の手順にて図１に示した電子写真感光体１００と同様の構成を有する電子写真感光体を作製した。金属酸化物微粒子Ａ３３質量部、ブロック化イソシアネート（スミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン社製）６質量部及びメチルエチルケトン２５質量部を３０分間混合した後、ブチラール樹脂（ＢＭ−１、積水化学社製）５質量部、シリコーンボール（トスパール１２０、東芝シリコーン社製）３質量部及びレベリング剤（シリコーンオイルＳＨ２９ＰＡ、東レダウコーニングシリコーン社製）０．０１質量部を上記の混合液に添加し、サンドミルにて２時間の分散処理を行い、下引層用塗布液を得た。さらに、浸漬塗布法により、直径３０ｍｍ、長さ４０４ｍｍ、肉厚１ｍｍの円筒状アルミニウム基体（導電性支持体）の外周面に上記の塗布液を塗布し、１５０℃で３０分間乾燥させ、膜厚２０μｍの下引層を形成した。
【０２５１】
次に、電荷発生物質としてのＣｕＫα線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．４゜，１６．６゜，２５．５゜，２８．３゜の位置に回折ピークを有する塩化ガリウムフタロシアニン１５質量部、結着樹脂としての塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、ユニオンカーバイト社製）１０質量部、ｎ−ブチルアルコール３００質量部からなる混合物をサンドミルにて４時間分散し、電荷発生層用塗布液を得た。この塗布液を下引層上に浸漬塗布し、乾燥させ、膜厚０．２μｍの電荷発生層を形成した。
【０２５２】
さらに、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニル−４，４’−ジアミン４質量部及びビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（分子量：４万）６質量部をモノクロルベンゼン８０質量部に加えて溶解して電荷輸送層用塗布液を得た。この塗布液を電荷発生層上に塗布し、１３０℃で４０分間乾燥させ、膜厚３２μｍの電荷輸送層を形成し、目的の感光層が電荷発生層と電荷輸送層との２層からなる電子写真感光体を得た。なお、得られ電子写真感光体の感光層の膜厚（電荷発生層と電荷輸送層の総和）、下引層の膜厚、及び導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和をそれぞれ表２に示した。
【０２５３】
（中間転写体の作製）
Ｎ−メチル−２ピロリドン（ＮＭＰ）中に乾燥したカーボンブラック〔ＳＰＥＣＩＡＬ ＢＬＡＣＫ４、Ｄｅｇｕｓｓａ社製、比表面積：１８０（ｍ２／ｇ）、ＤＢＰ吸油量：２８０（ｃｃ／１００ｇ）、揮発分：１４．０％、導電性指標：１５．０〕を所定量入れ、ボールミルを用い６時間室温で混合した。このカーボンブラック分散ＮＭＰ液に、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＰＤＡ）２９４．２ｇとｐ−フェニレンジアミン（ＰＤＡ）１０８．２ｇとを溶解し、窒素雰囲気において室温で４時間攪拌し、反応させることにより、カーボンブラック入りポリアミド酸溶液を得た。
【０２５４】
得られたカーボンブラック入りポリアミド酸溶液を円筒金型（芯体）内面に弾丸状走行体を用いて均一な厚みになるように塗布した。その後、６０℃の熱風を３０分間あて、１５０℃で６０分間加熱し、次に２００℃まで２℃／分の昇温速度で昇温し、その２００℃の温度で３０分間加熱した後、室温に戻し半硬化フィルム得た。
【０２５５】
次に、得られた半硬化フィルムを脱型した後、これを円筒状金型の外側に被せ、２００℃から４００℃まで５℃／分の昇温速度で昇温加熱し、脱水閉環水の除去、及びイミド転化を行った。その後、室温に戻し、金型より剥離し、厚さ８０μｍのカーボンブッラク入り（ポリイミドに対し１４ｗｔ％）無端ポリイミドベルトを得た。
【０２５６】
（画像形成装置の作製）
得られた電子写真感光体と中間転写体を用いて、帯電手段が接触帯電装置であり、転写方式が中間転写方式であるタンデム式画像形成装置を作製した。なお、画像形成装置の構成は、カラータンデム複写機ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ Ｃ４００（富士ゼロックス社製）と同様の構成とした。
【０２５７】
（実施例２）
実施例１と同様に電子写真感光体の下引層と電荷発生層を作製した。次に、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニル−４，４’−ジアミン４質量部及びビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（分子量：４万）６質量部をモノクロルベンゼン８５質量部に加えて溶解し、その溶解液に四フッ化エチレン粒子（ＰＴＦＥ）（ルブロンＬ２：ダイキン工業社製）を１質量部と分散助剤としてアロンＧＦ３００を０．３質量部（固形分のみ使用：東亜合成社製）混合し、ホモジナイザーにて１時間かけ分散させ、電荷輸送層用塗布液を得た。
【０２５８】
得られた塗布液を電荷発生層上に塗布し、１３０℃で４０分間乾燥し、膜厚３２μｍの電荷輸送層を形成し、目的のＰＴＦＥが電荷輸送層に分散した電子写真感光体を得た。なお、得られ電子写真感光体の感光層の膜厚（電荷発生層と電荷輸送層の総和）、下引層の膜厚、及び導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和をそれぞれ表２に示した。
【０２５９】
得られた電子写真感光体と実施例１と同様の中間転写体を用いて、帯電手段が接触帯電装置であり、転写方式が中間転写方式であるタンデム式画像形成装置を作製した。なお、画像形成装置の構成は、カラータンデム複写機ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ Ｃ４００（富士ゼロックス社製）と同様の構成とした。
【０２６０】
（実施例３）
実施例１と同様に電子写真感光体の下引層、電荷発生層を作製した。次に、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニル−４，４’−ジアミン４質量部及びビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（分子量：４万）６質量部をモノクロルベンゼン８５質量部に加えて溶解し、その溶解液にシリカ粒子２質量部（ＲＸ２００：日本アエロジル社製）を混合させ、サンドミルにて２時間分散し、電荷輸送層用塗布液を得た。この塗布液を電荷発生層上に塗布し、１３０℃で４０分間乾燥を行って膜厚３０μｍの電荷輸送層を形成し、目的のシリカ微粒子が分散した電子写真感光体を得た。なお、得られ電子写真感光体の感光層の膜厚（電荷発生層と電荷輸送層の総和）、下引層の膜厚、及び導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和をそれぞれ表２に示した。
【０２６１】
得られた電子写真感光体と実施例１と同様の中間転写体を用いて、帯電手段が接触帯電装置であり、転写方式が中間転写方式であるタンデム式画像形成装置を作製した。なお、画像形成装置の構成は、カラータンデム複写機ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ Ｃ４００（富士ゼロックス社製）と同様の構成とした。
【０２６２】
（実施例４）
実施例１と同様に電子写真感光体の下引層、電荷発生層、電荷輸送層を作製し、下引層が２８μｍであり、電荷輸送層が４０μｍである電子写真感光体を作製した。なお、得られ電子写真感光体の感光層の膜厚（電荷発生層と電荷輸送層の総和）、下引層の膜厚、及び導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和をそれぞれ表２に示した。
【０２６３】
得られた電子写真感光体と実施例１と同様の中間転写体を用いて、帯電手段が接触帯電装置であり、転写方式が中間転写方式であるタンデム式画像形成装置を作製した。なお、画像形成装置の構成は、カラータンデム複写機ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ Ｃ４００（富士ゼロックス社製）と同様の構成とした。
【０２６４】
（実施例５）
実施例１と同様に電子写真感光体の下引層、電荷発生層、電荷輸送層を作製し、下引層が４０μｍであり、電荷輸送層が４４μｍである電子写真感光体を作製した。なお、得られ電子写真感光体の感光層の膜厚（電荷発生層と電荷輸送層の総和）、下引層の膜厚、及び導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和をそれぞれ表２に示した。
【０２６５】
得られた電子写真感光体と実施例１と同様の中間転写体を用いて、帯電手段が接触帯電装置であり、転写方式が中間転写方式であるタンデム式画像形成装置を作製した。なお、画像形成装置の構成は、カラータンデム複写機ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ Ｃ４００（富士ゼロックス社製）と同様の構成とした。
【０２６６】
（実施例６）
実施例１と同様に電子写真感光体の下引層、電荷発生層、電荷輸送層を作製し、下引層が４０μｍであり、電荷輸送層が３０μｍである電子写真感光体を作製した。なお、得られ電子写真感光体の感光層の膜厚（電荷発生層と電荷輸送層の総和）、下引層の膜厚、及び導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和をそれぞれ表２に示した。
【０２６７】
得られた電子写真感光体と実施例１と同様の中間転写体を用いて、帯電手段が接触帯電装置であり、転写方式が中間転写方式であるタンデム式画像形成装置を作製した。なお、画像形成装置の構成は、カラータンデム複写機ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ Ｃ４００（富士ゼロックス社製）と同様の構成とした。
【０２６８】
（実施例７）
実施例１と同様に電子写真感光体の下引層、電荷発生層、電荷輸送層を作製し、下引層が２０μｍであり、電荷輸送層が４４μｍである電子写真感光体を作製した。なお、得られ電子写真感光体の感光層の膜厚（電荷発生層と電荷輸送層の総和）、下引層の膜厚、及び導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和をそれぞれ表２に示した。
【０２６９】
得られた電子写真感光体と実施例１と同様の中間転写体を用いて、帯電手段が接触帯電装置であり、転写方式が中間転写方式であるタンデム式画像形成装置を作製した。なお、画像形成装置の構成は、カラータンデム複写機ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ Ｃ４００（富士ゼロックス社製）と同様の構成とした。
【０２７０】
（比較例１）
実施例１と同様に電子写真感光体の下引層、電荷発生層、電荷輸送層を作製し、下引層が１３μｍであり、電荷輸送層が３２μｍである電子写真感光体を作製した。なお、得られ電子写真感光体の感光層の膜厚（電荷発生層と電荷輸送層の総和）、下引層の膜厚、及び導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和をそれぞれ表２に示した。
【０２７１】
得られた電子写真感光体と実施例１と同様の中間転写体を用いて、帯電手段が接触帯電装置であり、転写方式が中間転写方式であるタンデム式画像形成装置を作製した。なお、画像形成装置の構成は、カラータンデム複写機ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ Ｃ４００（富士ゼロックス社製）と同様の構成とした。
【０２７２】
（比較例２）
実施例１と同様に電子写真感光体の下引層、電荷発生層、電荷輸送層を作製し、下引層が１８μｍであり、電荷輸送層が３２μｍである電子写真感光体を作製した。なお、得られ電子写真感光体の感光層の膜厚（電荷発生層と電荷輸送層の総和）、下引層の膜厚、及び導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和をそれぞれ表２に示した。
【０２７３】
得られた電子写真感光体と実施例１と同様の中間転写体を用いて、帯電手段が接触帯電装置であり、転写方式が中間転写方式であるタンデム式画像形成装置を作製した。なお、画像形成装置の構成は、カラータンデム複写機ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ Ｃ４００（富士ゼロックス社製）と同様の構成とした。
【０２７４】
（比較例３）
実施例１と同様に電子写真感光体の下引層、電荷発生層、電荷輸送層を作製し、下引層が１８μｍであり、電荷輸送層が１２μｍである電子写真感光体を作製した。なお、得られ電子写真感光体の感光層の膜厚（電荷発生層と電荷輸送層の総和）、下引層の膜厚、及び導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和をそれぞれ表２に示した。
【０２７５】
得られた電子写真感光体と実施例１と同様の中間転写体を用いて、帯電手段が接触帯電装置であり、転写方式が中間転写方式であるタンデム式画像形成装置を作製した。なお、画像形成装置の構成は、カラータンデム複写機ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ Ｃ４００（富士ゼロックス社製）と同様の構成とした。
【０２７６】
（比較例４）
実施例１と同様に電子写真感光体の下引層、電荷発生層、電荷輸送層を作製し、下引層が２０μｍであり、電荷輸送層が９μｍである電子写真感光体を作製した。なお、得られ電子写真感光体の感光層の膜厚（電荷発生層と電荷輸送層の総和）、下引層の膜厚、及び導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和をそれぞれ表２に示した。
【０２７７】
得られた電子写真感光体と実施例１と同様の中間転写体を用いて、帯電手段が接触帯電装置であり、転写方式が中間転写方式であるタンデム式画像形成装置を作製した。なお、画像形成装置の構成は、カラータンデム複写機ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ Ｃ４００（富士ゼロックス社製）と同様の構成とした。
【０２７８】
（比較例５）
実施例１と同様に電子写真感光体の下引層、電荷発生層、電荷輸送層を作製し、下引層が４２μｍであり、電荷輸送層が３０μｍである電子写真感光体を作製した。なお、得られ電子写真感光体の感光層の膜厚（電荷発生層と電荷輸送層の総和）、下引層の膜厚、及び導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和をそれぞれ表２に示した。
【０２７９】
得られた電子写真感光体と実施例１と同様の中間転写体を用いて、帯電手段が接触帯電装置であり、転写方式が中間転写方式であるタンデム式画像形成装置を作製した。なお、画像形成装置の構成は、カラータンデム複写機ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ Ｃ４００（富士ゼロックス社製）と同様の構成とした。
【０２８０】
（比較例６）
実施例１と同様に電子写真感光体の下引層、電荷発生層、電荷輸送層を作製し、下引層が２２μｍであり、電荷輸送層が４７μｍである電子写真感光体を作製した。なお、得られ電子写真感光体の感光層の膜厚（電荷発生層と電荷輸送層の総和）、下引層の膜厚、及び導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和をそれぞれ表２に示した。
【０２８１】
得られた電子写真感光体と実施例１と同様の中間転写体を用いて、帯電手段が接触帯電装置であり、転写方式が中間転写方式であるタンデム式画像形成装置を作製した。なお、画像形成装置の構成は、カラータンデム複写機ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ Ｃ４００（富士ゼロックス社製）と同様の構成とした。
【０２８２】
〔画像形成装置の画質評価試験〕
実施例１〜実施例７及び比較例１〜比較例６の画像形成装置を用いて、それぞれの画質を以下のように評価した。
【０２８３】
（１）評価試験１（通常初期評価）
キャリア微紛を添加前の各画像形成装置を用いて、白黒プリント試験を行った。画質プリント１００枚目の画質欠陥数（黒点数）をカウントし、表２に示した。また、表２に記載した数値（黒点数）が５個以下のものは実用に耐える良好な画質の画像が得られたと評価し、５個を超えるものは画質の異常が認められたと評価した。更に、表２において「かぶり発生」とは、紙面全体（横９４．２ｍｍ×縦２９７ｍｍ）に微細な黒点（直径０．１５ｍｍ以下）が無数個発生したものであり、画質の異常が認められたと評価した。なお、本試験では得られたＡ３縦画質プリントの横９４．２ｍｍ、縦２９７ｍｍの領域の画質欠陥数をカウントした。
【０２８４】
（２）評価試験２（キャリア微紛添加１００枚プリント後）
各画像形成装置を用いて、黒色現像剤１０００質量部に対してＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ Ｃ４００専用キャリア材（鉄を主成分とするもの）を粉砕し３０μｍのふるいを通過した異型微紛物１質量部を混合し、白黒プリント試験を行った。キャリア微紛を添加して画質プリント１００枚目の画質欠陥数（黒点数）をカウントした。また、表２に記載した数値（黒点数）が５個以下のものは実用に耐える良好な画質の画像が得られたと評価し、５個を超えるものは画質の異常が認められたと評価した。更に、表２において「かぶり発生」とは、評価試験１における「かぶり発生」と同義である。なお、本試験では得られたＡ３縦画質プリントの横９４．２ｍｍ、縦２９７ｍｍの領域の画質欠陥数をカウントした。
【０２８５】
（３）評価試験３（５万枚プリント試験）
また、各画像形成装置（通常使用）を用いて５万枚連続プリントを実施し、画質の維持性等を試験した。そして、５万枚プリント後の画質を、「○」；実用に耐える良好な画質の画像、「×」；紙面全体（Ａ３縦画質プリント）に画質の異常が認められた、とした評価基準のもとで評価した。これらの結果を表２に示す。
【０２８６】
以上、評価試験１〜３で得られた結果をもとに、実施例１〜実施例７及び比較例１〜比較例６の画像形成装置を総合的に評価した。なお、総合評価は、「○」；評価試験１〜３の全てにおいて良好な画質の画像が得られた、「×」；評価試験１〜３の少なくとも１つの試験で画質の異常が認められた、とした評価基準のもとで評価した。これらの結果を表２に示す。
【０２８７】
【表２】
表２に示した結果から明らかなように、本発明の条件を満たす電子写真感光体を用いた画像形成装置は、評価試験２において黒点数が５個以下であり、評価試験３においても黒点の発生、画質の濃度低下等がなく、解像度も良好であり、高速で画像品質の優れたプリントができることが確認された。
【０２８９】
一方、比較例１〜３の画像形成装置は、評価試験２において黒点数が多く、画像品質が充分ではなかった。また、比較例４の画像形成装置は、評価試験１及び２においてかぶりが発生し、黒点数がカウントできないほどひどく、画質に問題があるものであった。さらに、比較例５及び６は、評価試験１及び２において黒点数が５以下であったものの、評価試験３において比較例５は画質の濃度低下が、比較例６は解像度が充分なものでないことが確認された。
【０２９０】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、長期にわたり繰り返し使用される場合であっても、電子写真感光体におけるピンホールリークの発生が充分に防止され、画像品質の優れたカラー画像を高速で形成できる画像形成装置及びプロセスカートリッジを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】電子写真感光体の好適な基本構成の一例を示す断面図である。
【図２】本発明の画像形成装置の好適な一実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。
【図３】本発明のプロセスカートリッジの好適な一実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。
【符号の説明】
３…導電性支持体層、４…下引層、６…感光層、６１…電荷発生層、６２…電荷輸送層、７…電子写真感光体、８…帯電手段、１１…現像手段、１２…転写手段、１３…クリーニング装置、１５・・・定着装置、１６…取り付けレール、１７・・・除電露光のための開口部、１８…露光のための開口部、１００…電子写真感光体、２００…画像形成装置、３００…プロセスカートリッジ、４００・・・ハウジング、４０１ａ〜４０１ｄ・・・電子写真感光体、４０２ａ〜４０２ｄ・・・帯電ロール、４０３・・・レーザ光源（露光装置）、４０４ａ〜４０４ｄ・・・現像装置、４０５ａ〜４０５ｄ・・・トナーカートリッジ、４０６・・・駆動ロール、４０７・・・テンションロール、４０８・・・バックアップロール、４０９・・・中間転写ベルト、４１０ａ〜４１０ｄ・・・１次転写ロール、４１１・・・トレイ（被転写体トレイ）、４１２・・・移送ロール、４１３・・・２次転写ロール、４１４・・・定着ロール、４１６・・・クリーニングブレード、５００・・・被転写媒体。
Claims (4)
- 導電性支持体層と、感光層と、前記導電性支持体層と前記感光層との間に配置される下引層と、を少なくとも有する電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させる帯電手段と、前記帯電手段により帯電される前記電子写真感光体を露光して静電潜像を形成する露光手段と、前記静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像手段と、を少なくとも有する画像形成ユニットと、
前記トナー像を被転写媒体に転写する転写手段と、
を少なくとも備えており、
前記画像形成ユニットを２以上備えており、
前記電子写真感光体における、前記感光層の膜厚が３０〜４５μｍであり、前記下引層の膜厚が２０〜４０μｍであり、かつ、前記導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和が５０〜９０μｍであり、
前記帯電手段が、前記電子写真感光体に接触して該電子写真感光体を帯電させる接触帯電装置であり、
前記転写手段が、前記トナー像を中間転写体を介して前記被転写媒体に転写する中間転写方式を採用する構成を有していること、
を特徴とする画像形成装置。 - 前記感光層が、前記電荷発生物質を含む電荷発生層と、電荷輸送物質を含む電荷輸送層と、を少なくとも含む構成を有していることを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
- 電子写真感光体と、
接触帯電手段、現像手段、中間転写手段、クリーニング手段及び除電手段のうちの少なくとも一つの手段と、
を一体に有し、画像形成装置本体に着脱自在であるプロセスカートリッジであって、
前記電子写真感光体は、導電性支持体層と、感光層と、前記導電性支持体層と前記感光層との間に配置される下引層と、を少なくとも有しており、
前記感光層の膜厚が３０〜４５μｍであり、前記下引層の膜厚が２０〜４０μｍであり、かつ、前記導電性支持体層上に形成された各層の膜厚の総和が５０〜９０μｍであることを特徴とするプロセスカートリッジ。 - 前記感光層が、前記電荷発生物質を含む電荷発生層と、電荷輸送物質を含む電荷輸送層と、を少なくとも含む構成を有していることを特徴とする請求項３に記載のプロセスカートリッジ。
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP7475228B2 (ja) | 2020-07-17 | 2024-04-26 | シャープ株式会社 | 画像形成装置 |
-
2003
- 2003-01-29 JP JP2003020835A patent/JP2004233563A/ja active Pending
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| JP7475228B2 (ja) | 2020-07-17 | 2024-04-26 | シャープ株式会社 | 画像形成装置 |
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