JP2004230375A - 半透膜の製造方法、半透膜、液体処理モジュールの製造方法、液体処理モジュール、及び、液体処理モジュールの製造装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 膜基材を内部に装填したケーシング2を血液排出ポート13及び血液注入ポート15が上下方向に位置する状態にセットし、親水化剤を所定濃度で含有する処理液を、透析液注入ポート8及び透析液排出ポート9を栓部材38にて閉塞した状態で血液注入ポート15を通じてケーシング2内に注入する。その後、透析液注入ポート8及び透析液排出ポート9を開放すると共に血液注入ポート15を閉じ、この状態で、血液排出ポート13から圧縮気体を導入することで処理液を移動させる。
【選択図】 図4
Description
前記膜基材の一方の膜表面側と他方の膜表面側との間に圧力差を付与することで、前記処理剤を所定濃度で含有する処理液を一方の膜表面側から他方の膜表面側へ向けて移動し、前記処理剤を膜基材に保持させる膜通液工程を経て製造されることを特徴とする半透膜の製造方法である。
前記ケーシングには、第1通液空間に連通する第1注入ポート及び第1排出ポートと、第2通液空間に連通する第2ポートを設けた液体処理モジュールの製造方法において、
前記膜基材を内部に装填したケーシングに対し、前記処理剤を含有した処理液を第1注入ポート及び第1排出ポートの一方を通じて前記第1通液空間に注入する処理液注入工程と、
前記第1通液空間と第2通液空間との間に圧力差を生じさせ、該圧力差により該処理液の溶媒成分を第1通液空間から第2通液空間に移動させることで前記処理剤を膜基材に保持させる膜通液工程と、
を経て製造されることを特徴とする液体処理モジュールの製造方法である。
膜基材を内部に装填したケーシングを第1注入ポート及び第1排出ポートが上下方向に位置する状態にセットし、
前記処理液注入工程では下側に位置するポートから処理液を注入し、前記膜通液工程では上側に位置するポートから処理液を加圧することを特徴とする請求項7または請求項8に記載の液体処理モジュールの製造方法である。
前記膜通液工程では、前記第1注入ポート及び/または第1排出ポートから、圧縮気体を導入、または処理液をさらに導入することを特徴とする請求項10に記載の液体処理モジュールの製造方法である。
前記膜通液工程は、減圧工程により減圧状態となった第2通液空間と、処理液注入工程により処理液が注入された第1通液空間との圧力差により行われることを特徴とする請求項6に記載の液体処理モジュールの製造方法である。
前記膜通液工程の後に、第1通液空間内に残った処理液を排出する第1パージ工程と、第2通液空間内に残った処理液を排出する第2パージ工程を行い、
前記第1パージ工程では、前記第1注入ポート及び第1排出ポートを開放するとともに、前記第2注入ポート及び第2排出ポートを閉塞した状態で、第1通液空間内に気体を導入し、
前記第2パージ工程では、前記第2注入ポート及び第2排出ポートを開放するとともに、前記第1注入ポート及び第1排出ポートを閉塞した状態で、第2通液空間内に気体を導入することを特徴とする請求項14に記載の液体処理モジュールの製造方法である。
前記膜基材を内部に装填したケーシングがセットされるケーシング装着部と、
途中に開閉弁を設けた処理液供給管を通じて前記ケーシング装着部に連通され、前記処理液を供給可能な処理液供給部と、
前記ケーシング装着部に装着されたケーシングの第2ポートを開閉可能な栓機構と、
前記開閉弁、及び、栓機構の動作を制御可能な制御部とを有し、
該制御部は、
第2ポートが閉状態になるように栓機構を制御すると共に処理液供給管の開閉弁を開放状態に制御することで、前記処理液を第1通液空間に注入し、
処理液の注入後、第2ポートが開放状態となるように栓機構を制御し、第1通液空間内の処理液を加圧し、前記処理液の溶媒成分を第1通液空間から第2通液空間に移動させることを特徴とする液体処理モジュールの製造装置である。
前記膜基材を内部に装填したケーシングがセットされるケーシング装着部と、
途中に開閉弁を設けた気体供給管を通じて前記ケーシング装着部に連通され、圧縮気体を供給可能な気体供給源と、
途中に開閉弁を設けた処理液供給管を通じて前記ケーシング装着部に連通され、前記処理液を供給可能な処理液供給部と、
前記ケーシング装着部に装着されたケーシングの第2ポートを開閉可能な栓機構と、
前記開閉弁、及び、栓機構の動作を制御可能な制御部とを有し、
該制御部は、
第2ポートが閉状態になるように栓機構を制御すると共に処理液供給管の開閉弁を開放状態に制御することで、前記処理液を第1通液空間に注入し、
処理液の注入後、第2ポートが開放状態になるように栓機構を制御すると共に処理液供給管の開閉弁を閉状態に制御し、尚且つ、気体供給管の開閉弁を開放状態にすることで第1通液空間内に圧縮気体を導入し、前記処理液の溶媒成分を第1通液空間から第2通液空間に移動させることを特徴とする液体処理モジュールの製造装置である。
前記膜基材を内部に装填したケーシングがセットされるケーシング装着部と、
途中に開閉弁を設けた吸気管を通じて前記ケーシング装着部に連通され、ケーシング内を減圧する減圧手段と、
途中に開閉弁を設けた処理液供給管を通じて前記ケーシング装着部に連通され、前記処理液を供給可能な処理液供給部と、
前記開閉弁の動作を制御可能な制御部とを有し、
該制御部は、
前記吸気管の開閉弁を開放状態に制御し、減圧手段を作動させることでケーシング内の第1通液空間及び第2通液空間を減圧し、
各通液空間の減圧後、吸気管の開閉弁を閉塞状態に制御すると共に処理液供給管の開閉弁を開放状態に制御することで、前記処理液を第1通液空間に注入し、
処理液の注入後、減圧状態の第2通液空間と処理液が注入された第1通液空間との圧力差により、前記処理液の溶媒成分を第1通液空間から第2通液空間に移動させることを特徴とする液体処理モジュールの製造装置である。
2 ケーシング
3 中空糸束
4 ケーシング本体
5 排出側キャップ部材
6 注入側キャップ部材
7 拡径部
8 透析液注入ポート
9 透析液排出ポート
10 封止部
11 シーリング材
12 中空糸膜
13 血液排出ポート
14 Oリング
15 血液注入ポート
16 Oリング
17 膜基材
18 親水化剤
19 処理装置
20 廃液貯留部
21 気体供給源
22 処理液貯留部
23 浄化器装着部
24 気体供給管
24a 第1気体供給枝管
24b 第2気体供給枝管
25 第1排出管
26 処理液供給管
27 第2排出管
28 栓機構
29 第1接続部
30 第2接続部
31 調整弁機構
31A 低圧側弁
31B 高圧側弁
32 第1開閉弁
33 第2開閉弁
34 流量計
35 送液ポンプ
36 第3開閉弁
37 第4開閉弁
38 栓部材
41 処理装置
43 減圧ポンプ
44 気体供給管
44a 第1気体供給枝管
44b 第2気体供給枝管
45 排出管
45a 第1排出枝管
45b 第2排出枝管
46 処理液供給管
46a 第1処理液供給管
46b 第2処理液供給管
47 吸気管
51 第1開閉弁
52 第2開閉弁
53 第3開閉弁
55 第5開閉弁
60 第1共通管
61 第2共通管
62 第7開閉弁
63 第8開閉弁
64 第9開閉弁
65 第10開閉弁
71 第11開閉弁
72 第12開閉弁
73 接続管
74 第13開閉弁
75 第14開閉弁
Claims (22)
- 膜基材に処理剤を保持させた半透膜の製造方法において、
前記膜基材の一方の膜表面側と他方の膜表面側との間に圧力差を付与することで、前記処理剤を所定濃度で含有する処理液を一方の膜表面側から他方の膜表面側へ向けて移動し、前記処理剤を膜基材に保持させる膜通液工程を経て製造されることを特徴とする半透膜の製造方法。 - 前記膜通液工程は、一方の膜表面側からの加圧及び/または他方の膜表面側の減圧によって行われることを特徴とする請求項1に記載の半透膜の製造方法。
- 前記膜基材が疎水性膜基材であり、前記処理剤が親水化剤であり、前記処理液が前記親水化剤の溶液であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の半透膜の製造方法。
- 前記親水化剤がポリビニルピロリドン、またはグリセリン、またはポリエチレングリコールであり、前記疎水性膜基材がポリエステル系ポリマーアロイを主たる膜素材としていることを特徴とする請求項3に記載の半透膜の製造方法。
- 請求項1から請求項4の何れかに記載の製造方法により製造され、膜基材1平方メートルあたりの処理剤の保持量が20mg以上であることを特徴とする半透膜。
- 膜基材に処理剤を保持させた半透膜をケーシング内に備え、該半透膜によりケーシング内を一方の膜表面側の第1通液空間と他方の膜表面側の第2通液空間とに区画し、
前記ケーシングには、第1通液空間に連通する第1注入ポート及び第1排出ポートと、第2通液空間に連通する第2ポートを設けた液体処理モジュールの製造方法において、
前記膜基材を内部に装填したケーシングに対し、前記処理剤を含有した処理液を第1注入ポート及び第1排出ポートの一方を通じて前記第1通液空間に注入する処理液注入工程と、
前記第1通液空間と第2通液空間との間に圧力差を生じさせ、該圧力差により該処理液の溶媒成分を第1通液空間から第2通液空間に移動させることで前記処理剤を膜基材に保持させる膜通液工程と、
を経て製造されることを特徴とする液体処理モジュールの製造方法。 - 前記膜通液工程は、第2ポートを開放した状態で第1通液空間に注入された処理液を加圧することで行われることを特徴とする請求項6に記載の液体処理モジュールの製造方法。
- 前記膜通液工程は、第1通液空間に注入された処理液を加圧し、及び/または第2通液空間を減圧することで行われることを特徴とする請求項7に記載の液体処理モジュールの製造方法。
- 前記第1注入ポート及び第1排出ポートをケーシングの両端部に設ける一方、前記第2ポートをケーシングの側面に設け、
膜基材を内部に装填したケーシングを第1注入ポート及び第1排出ポートが上下方向に位置する状態にセットし、
前記処理液注入工程では下側に位置するポートから処理液を注入し、前記膜通液工程では上側に位置するポートから処理液を加圧することを特徴とする請求項7または請求項8に記載の液体処理モジュールの製造方法。 - 前記膜通液工程における処理液の加圧を、第1通液空間への圧縮気体の導入、または処理液のさらなる導入によって行うことを特徴とする請求項7から請求項9の何れかに記載の液体処理モジュールの製造方法。
- 前記処理液注入工程では、前記第2ポートを閉じた状態で前記第1注入ポート及び第1排出ポートの一方を通じ、前記処理剤を規定量含有する処理液を前記第1通液空間に注入し、
前記膜通液工程では、前記第1注入ポート及び/または第1排出ポートから、圧縮気体を導入、または処理液をさらに導入することを特徴とする請求項10に記載の液体処理モジュールの製造方法。 - 前記第1注入ポート及び第1排出ポートを開放し、当該開放状態で第1通液空間内に気体を導入することにより第1通液空間内に残った処理液を排出するパージ工程を、前記膜通液工程よりも後に行うことを特徴とする請求項6から請求項11の何れかに記載の液体処理モジュールの製造方法。
- 前記パージ工程は、圧力を段階的に上昇させながら気体の導入を複数回に分けて行うことを特徴とする請求項12に記載の液体処理モジュールの製造方法。
- 少なくとも第2通液空間を減圧する減圧工程を前記処理液注入工程よりも前に行い、
前記膜通液工程は、減圧工程により減圧状態となった第2通液空間と、処理液注入工程により処理液が注入された第1通液空間との圧力差により行われることを特徴とする請求項6に記載の液体処理モジュールの製造方法。 - 前記第2ポートは、第2注入ポートと第2排出ポートとから構成され、
前記膜通液工程の後に、第1通液空間内に残った処理液を排出する第1パージ工程と、第2通液空間内に残った処理液を排出する第2パージ工程を行い、
前記第1パージ工程では、前記第1注入ポート及び第1排出ポートを開放するとともに、前記第2注入ポート及び第2排出ポートを閉塞した状態で、第1通液空間内に気体を導入し、
前記第2パージ工程では、前記第2注入ポート及び第2排出ポートを開放するとともに、前記第1注入ポート及び第1排出ポートを閉塞した状態で、第2通液空間内に気体を導入することを特徴とする請求項14に記載の液体処理モジュールの製造方法。 - 前記膜基材が疎水性膜基材であり、前記処理剤が親水化剤であることを特徴とする請求項6から請求項15の何れかに記載の液体処理モジュールの製造方法。
- 前記親水化剤がポリビニルピロリドン、またはグリセリン、またはポリエチレングリコールであり、前記疎水性膜基材がポリエステル系ポリマーアロイを主たる膜素材としていることを特徴とする請求項16に記載の液体処理モジュールの製造方法。
- 請求項6から請求項17の何れかに記載の製造方法により製造され、膜基材1平方メートルあたりの処理剤の保持量が20mg以上であることを特徴とする液体処理モジュール。
- 膜基材に処理剤を保持させた半透膜をケーシング内に備え、該半透膜によりケーシング内を一方の膜表面側の第1通液空間と他方の膜表面側の第2通液空間とに区画し、前記ケーシングには、第1通液空間に連通する第1注入ポート及び第1排出ポートと、第2通液空間に連通する第2ポートを設けた液体処理モジュールの製造装置において、
前記膜基材を内部に装填したケーシングがセットされるケーシング装着部と、
途中に開閉弁を設けた処理液供給管を通じて前記ケーシング装着部に連通され、前記処理液を供給可能な処理液供給部と、
前記ケーシング装着部に装着されたケーシングの第2ポートを開閉可能な栓機構と、
前記開閉弁、及び、栓機構の動作を制御可能な制御部とを有し、
該制御部は、
第2ポートが閉状態になるように栓機構を制御すると共に処理液供給管の開閉弁を開放状態に制御することで、前記処理液を第1通液空間に注入し、
処理液の注入後、第2ポートが開放状態となるように栓機構を制御し、第1通液空間内の処理液を加圧し、前記処理液の溶媒成分を第1通液空間から第2通液空間に移動させることを特徴とする液体処理モジュールの製造装置。 - 膜基材に処理剤を保持させた半透膜をケーシング内に備え、該半透膜によりケーシング内を一方の膜表面側の第1通液空間と他方の膜表面側の第2通液空間とに区画し、前記ケーシングには、第1通液空間に連通する第1注入ポート及び第1排出ポートと、第2通液空間に連通する第2ポートを設けた液体処理モジュールの製造装置において、
前記膜基材を内部に装填したケーシングがセットされるケーシング装着部と、
途中に開閉弁を設けた気体供給管を通じて前記ケーシング装着部に連通され、圧縮気体を供給可能な気体供給源と、
途中に開閉弁を設けた処理液供給管を通じて前記ケーシング装着部に連通され、前記処理液を供給可能な処理液供給部と、
前記ケーシング装着部に装着されたケーシングの第2ポートを開閉可能な栓機構と、
前記開閉弁、及び、栓機構の動作を制御可能な制御部とを有し、
該制御部は、
第2ポートが閉状態になるように栓機構を制御すると共に処理液供給管の開閉弁を開放状態に制御することで、前記処理液を第1通液空間に注入し、
処理液の注入後、第2ポートが開放状態になるように栓機構を制御すると共に処理液供給管の開閉弁を閉状態に制御し、尚且つ、気体供給管の開閉弁を開放状態にすることで第1通液空間内に圧縮気体を導入し、前記処理液の溶媒成分を第1通液空間から第2通液空間に移動させることを特徴とする液体処理モジュールの製造装置。 - 膜基材に処理剤を保持させた半透膜をケーシング内に備え、該半透膜によりケーシング内を一方の膜表面側の第1通液空間と他方の膜表面側の第2通液空間とに区画し、前記ケーシングには、第1通液空間に連通する第1注入ポート及び第1排出ポートと、第2通液空間に連通する第2ポートを設けた液体処理モジュールの製造装置において、
前記膜基材を内部に装填したケーシングがセットされるケーシング装着部と、
途中に開閉弁を設けた吸気管を通じて前記ケーシング装着部に連通され、ケーシング内を減圧する減圧手段と、
途中に開閉弁を設けた処理液供給管を通じて前記ケーシング装着部に連通され、前記処理液を供給可能な処理液供給部と、
前記開閉弁の動作を制御可能な制御部とを有し、
該制御部は、
前記吸気管の開閉弁を開放状態に制御し、減圧手段を作動させることでケーシング内の第1通液空間及び第2通液空間を減圧し、
各通液空間の減圧後、吸気管の開閉弁を閉塞状態に制御すると共に処理液供給管の開閉弁を開放状態に制御することで、前記処理液を第1通液空間に注入し、
処理液の注入後、減圧状態の第2通液空間と処理液が注入された第1通液空間との圧力差により、前記処理液の溶媒成分を第1通液空間から第2通液空間に移動させることを特徴とする液体処理モジュールの製造装置。 - 前記膜基材が疎水性膜基材であり、前記処理剤が親水化剤であることを特徴とする請求項19から請求項21の何れかに記載の液体処理モジュールの製造装置。
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