JP2004220751A - 光記録媒体、光記録媒体の膜厚測定方法、膜厚制御方法、製造方法、膜厚測定装置及び膜厚制御装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】基板と記録層との間に反射層等が設けられた光記録媒体において、透過法により前記記録層の膜厚を容易に測定できるようにする。
【解決手段】光透過性の基板１と、光学的に情報が記録され得る色素含有記録層５との間に反射層３をそなえ、色素含有記録層５の領域が、反射層３の領域よりも所定領域３０ａ，３０ｂだけ広く形成されている。
【選択図】 図１
【解決手段】光透過性の基板１と、光学的に情報が記録され得る色素含有記録層５との間に反射層３をそなえ、色素含有記録層５の領域が、反射層３の領域よりも所定領域３０ａ，３０ｂだけ広く形成されている。
【選択図】 図１
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光記録媒体、光記録媒体の膜厚測定方法、膜厚制御方法、製造方法、膜厚測定装置及び膜厚制御装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
現在、ＣＤ−Ｒ，ＣＤ−ＲＷ，ＭＯ等の各種光記録媒体は、大容量の情報を記憶でき、ランダムアクセスが容易であるために、コンピュータのような情報処理装置における外部記憶装置として広く認知され普及しつつある。さらに取り扱う情報量の増大により、記憶密度を高めることが望まれている。
【０００３】
種々の光記録媒体の中でもＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒなど、有機色素を含む記録層（色素含有記録層ともいう）を有する光ディスクは比較的安価で、且つ、再生専用の光ディスクとの互換性を有するため、特に広く用いられている。
一例として、有機色素を含む記録層を有する光ディスクとして代表的なＣＤ−Ｒなどの媒体は、透明ディスク基板上に色素含有記録層と反射層とをこの順に有し、これらの記録層や反射層を覆う保護層を有する積層構造であり、基板を通してレーザ光にて記録・再生を行なうものである。
【０００４】
同じく代表的な片面型ＤＶＤ−Ｒは、第１の透明ディスク基板上に色素含有記録層、反射層、これらを覆う保護層をこの順に有し、さらに保護層の上に接着層を介して或いは介さずに、第２の透明ディスク基板上に反射層を形成したいわゆるダミーディスクを設けた積層構造であり、第１の透明ディスク基板を通してレーザ光にて記録・再生を行なうものである。ダミーディスクは透明ディスク基板のみであっても良いし、反射層以外の層を設けていても良い。
【０００５】
これら光記録媒体の記録容量を更に大容量化するための１つの手段として、１枚の媒体に記録層を複数、例えば２層（デュアルレイヤ）設けることが挙げられる。また、この場合、２つの記録層を片面から記録・再生ができるようにすることが利便性の上で望まれており、例えば図６に示すような光記録媒体が開発されている（例えば特許文献１参照）。
【０００６】
すなわち、従来の光記録媒体は図６に示すように、第一の透光性基板５上に、記録用レーザ光の照射により光学的に情報が記録し得る有機色素からなる第一の情報記録層１２と、再生用レーザ光の一部を透過し得る半透光性反射膜で構成された反射層１３と、前記記録用レーザ光及び再生用レーザ光に対して透光性を有する中間層１１と、記録用レーザ光の照射により光学的に情報が記録し得る有機色素からなる第二の情報記録層１２′と、再生用レーザ光を反射する第二の反射層１３′と、第二の透光性基板５′とがこの順に積層されて構成されている。
【０００７】
このような構成により、光記録媒体の片面側から第一の情報記録層１２及び第二の情報記録層１２′に情報を記録することが可能になり、再生時にも、いわゆるデュアルレイヤタイプの光記録媒体として片面側から信号を読み取ることが可能となっている。
また、このような積層構造を有する光記録媒体の製造方法としては、例えば、第一の透光性基板５上に第一の情報記録層１２，第一の反射層１３，中間層１１，第二の情報記録層１２′，第二の反射層１３′をこの順に形成し、最後に第二の透光性基板５′を接着することで製造する方法（タイプ１）と、第一の透光性基板５上に第一の情報記録層１２，第一の反射層１３をこの順に形成して第一の構成物を作製する一方、第二の透光性基板５′上に第二の反射層１３′，第二の情報記録層１２′をこの順に形成して第二の構成物を作製し、中間層１１を介して第一の構成物の第一の反射層１３と第２の構成物の第二の情報記録層１２′とが対向するように貼り合わせることで製造する方法（タイプ２）とが考えられる。
【０００８】
【特許文献１】
特開平１１−６６６２２号公報
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、光記録媒体において良好な特性を得るためには、記録層の膜厚を精密にコントロールすることが重要となる。膜厚を測定する方法は種々知られているが、反射法に比べて簡便且つ安価であるという点から、透過法を用いる場合が多い。
【００１０】
透過法は、一般的に、測定対象となる膜に光（例えば赤色レーザ，Ｈｅ−Ｎｅレーザ，Ｈｅ−Ｃｄレーザ等。好ましくは可視光）を照射して透過光量を測定し、入射光量と透過光量の比から透過率を導き出し、膜厚を算出する方法である。ただし、透過法であっても、光を入射すると一部は反射するので、媒体の光吸収率が小さい場合には、反射光量を測定することによって、透過光量を間接的に測定することも可能である。
【００１１】
例えばＣＤ−Ｒは、基板／色素含有記録層／反射層により構成されるが、基板上に色素含有記録層を塗布した後、透過法により色素含有記録層の膜厚を測定していた。そして、この膜厚が所望の膜厚になるように、塗布工程にフィードバックをかけていた。これはＤＶＤ−Ｒの膜厚制御でも同様である。
しかしながら、上述したデュアルレイヤの光記録媒体において、例えばタイプ１の製造方法により光記録媒体を製造する場合、第二の情報記録層１２′の下層に第一の反射層１３が存在しているので、第二の情報記録層１２′の膜厚を正確に測定することが困難であった。
【００１２】
また、タイプ２の製造方法により光記録媒体を製造する場合には、第二の透光性基板５′と第２の情報記録層１２′との間に第二の反射層１３′が存在しているので、上記と同様に第二の情報記録層１２′の膜厚を正確に測定することが困難であった。
このように、基板と記録層との間に反射層等が設けられた光記録媒体では、記録層の膜厚の測定が正確に行なえないので、この測定情報を塗布工程にフィードバックして次に製造される光記録媒体の記録層の膜厚を制御することが困難であった。
【００１３】
本発明は、このような課題に鑑み創案されたもので、基板と記録層との間に反射層等が設けられた光記録媒体において、透過法により前記記録層の膜厚を容易に測定できるようにした、光記録媒体、光記録媒体の膜厚測定方法、膜厚制御方法、製造方法、膜厚測定装置及び膜厚制御装置を提供することを目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
このため、本発明の光記録媒体（請求項１）は、光透過性の基板と、光学的に情報が記録され得る色素含有記録層との間に反射層をそなえ、該色素含有記録層の領域が、該反射層の領域よりも所定領域だけ広く形成されていることを特徴としている。
これにより、反射層に邪魔されることなく色素含有記録層の膜厚を透過法で測定できる。
【００１５】
本発明の光記録媒体（請求項２）は、光透過性の第１の基板と、該第１の基板上に、光学的に情報が記録され得る第１の色素含有記録層と、該第１の色素含有記録層上に第１の反射層と、該第１の反射層上に、光学的に情報が記録され得る第２の色素含有記録層と、該第２の色素含有記録層上に第２の反射層とをそなえ、該第２の色素含有記録層の領域が、該第１の色素含有記録層の領域及び該第１の反射層の領域よりも所定領域だけ広く形成されていることを特徴としている。なお、第２の反射層上に接着層を介して第２の基板をそなえてもよい。
これにより、第１の色素含有記録層及び第１の反射層に邪魔されることなく第２の色素含有記録層の膜厚を透過法で測定できる。
【００１６】
また、該第１の反射層と該第２の色素含有記録層との間に光透過性の中間層をそなえ、該所定領域において、該第１の基板と該中間層とが直接又は光透過性の層を介して接していることが好ましい（請求項３）。
【００１７】
本発明の光記録媒体（請求項４）は、光透過性の第１の基板と、該第１の基板上に、光学的に情報が記録され得る第１の色素含有記録層と、該第１の色素含有記録層上に第１の反射層と、該第１の反射層上に、光学的に情報が記録され得る第２の色素含有記録層と、該第２の色素含有記録層上に第２の反射層とをそなえ、該第２の色素含有記録層の領域が、該第２の反射層の領域よりも所定領域だけ広く形成されていることを特徴としている。
これにより、第２の反射層に邪魔されることなく第２の色素含有記録層の膜厚を透過法で測定できる。
【００１８】
また、該第２の反射層上に光透過性の第２の基板をそなえ、該所定領域において、該第２の基板と該第２の色素含有記録層とが直接又は光透過性の層を介して接していることが好ましい（請求項５）。
【００１９】
該基板はディスク状であり、該所定領域は、該基板の内周側及び／又は外周側に設けられていることが好ましい（請求項６）。
本発明の光記録媒体の膜厚測定方法（請求項７）は、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光記録媒体の膜厚測定方法であって、該色素含有記録層が形成された後、透過法により該所定領域における該色素含有記録層の膜厚を測定することを特徴としている。
【００２０】
本発明の光記録媒体の膜厚制御方法（請求項８）は、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光記録媒体の膜厚制御方法であって、該色素含有記録層が形成された後、透過法により該所定領域における該色素含有記録層の膜厚を測定し、この膜厚測定情報に基づいて、その後に積層される色素含有記録層の膜厚を制御することを特徴としている。
【００２１】
本発明の光記録媒体の製造方法（請求項９）は、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光記録媒体の製造方法であって、該色素含有記録層が形成された後、透過法により該所定領域における該色素含有記録層の膜厚を測定し、この膜厚測定情報に基づいて、その後に形成される色素含有記録層の膜厚を制御する工程を含んでいることを特徴としている。
【００２２】
本発明の光記録媒体の膜厚測定装置（請求項１０）は、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光記録媒体の膜厚測定装置であって、該色素含有記録層が形成された後、透過法により該所定領域における該色素含有記録層の膜厚を測定することを特徴としている。
本発明の光記録媒体の膜厚制御装置（請求項１１）は、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光記録媒体の膜厚制御装置であって、該色素含有記録層が形成された後、透過法により該所定領域における該色素含有記録層の膜厚を測定し、この膜厚測定情報に基づいて、その後に形成される色素含有記録層の膜厚を制御することを特徴としている。
【００２３】
【発明の実施の形態】
以下、図面により、本発明の実施の形態について説明する。なお、以下では、積層構造の異なる２つのタイプの光記録媒体について説明する。
〔Ａ〕第１実施形態
〔Ａ−１〕光記録媒体の構成
図１は本実施形態に係る光記録媒体（タイプ１）を示す模式的な断面図である。
【００２４】
本実施形態に係るタイプ１の光記録媒体は、ディスク状の透明な（光透過性の）第１基板（第１の基板）１上に、色素を含む第１記録層（第１の色素含有記録層）２、半透明の反射層（以下、半透明反射層という。第１の反射層）３、中間樹脂層（中間層）４、色素を含む第２記録層（第２の色素含有記録層）５、反射層（第２の反射層）６、接着層７、第２基板（第２の基板）８をこの順に有してなる。光ビームは第１基板１側から照射され、記録・再生が行われる。
【００２５】
なお、本発明において「光透過性（又は透明）」とは、透過法による膜厚測定（これについては後述する）において用いられる光の波長に対する光透過性（λ１光透過性という）と、光記録媒体の記録・再生を行なう際に用いられる光の波長に対する光透過性（λ２光透過性という）との２つの光透過性を意味する。また、上記の膜厚測定光の波長及び記録再生光の波長について５０％以上、好ましくは６０％以上の透過性があれば実質的に光透過性であるといえる。
【００２６】
第１基板１、中間樹脂層４上にはそれぞれ凹凸が形成され、それぞれ記録トラックを構成する。記録トラックは凸部及び凹部のどちらでも良いが、一般には、第１基板１上の記録トラック１１は、光の入射方向に対して凸部で構成され、中間樹脂層４上の記録トラック１２も、光の入射方向に対して凸部で構成される場合が多い。この他に必要に応じ凹凸ピットを有することもある。特に断らない限り、本発明において凹凸は記録・再生に用いる光の入射方向に対して定義される。
【００２７】
次に、各層について説明する。
（１）第１基板１について
第１基板１は、λ１光透過性及びλ２光透過性の両方の光透過性を有している必要があるほか複屈折率が小さいなど光学特性に優れることが望ましい。また射出成形が容易であるなど成形性に優れることが望ましい。さらに、吸湿性が小さいと反り等を低減することができ、望ましい。
【００２８】
更に、光記録媒体がある程度の剛性を有するよう、形状安定性を備えるのが望ましい。但し第２基板８が十分な形状安定性を備えていれば、第１基板１は形状安定性が大きくなくても良い。
このような材料としては、例えばアクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン系樹脂（特に非晶質ポリオレフィン）、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂からなるもの、ガラスからなるものを用いることができる。或いは、ガラス等の基体上に、光硬化樹脂等の放射線硬化樹脂からなる樹脂層を設けたもの等も使用できる。
【００２９】
なお、光学特性、成形性などの高生産性、コスト、低吸湿性、形状安定性などの点からはポリカーボネートが好ましい。耐薬品性、低吸湿性などの点からは、非晶質ポリオレフィンが好ましい。また、高速応答性などの点からは、ガラス基板が好ましい。
第１基板１は薄い方が好ましく、通常厚さは２ｍｍ以下が好ましく、より好ましくは１ｍｍ以下である。対物レンズと記録層の距離が小さく、また、基板が薄いほどコマ収差が小さい傾向があり、記録密度を上げやすい。但し光学特性、吸湿性、成形性、形状安定性を十分得るためにはある程度の厚みが必要であり、通常１０μｍ以上が好ましく、より好ましくは３０μｍ以上である。
【００３０】
本光記録媒体においては、第１記録層２及び第２記録層５の両方に良好に記録再生を行なうために、対物レンズと両記録層との距離を適宜調節することが望ましい。例えば、対物レンズの焦点が両記録層のほぼ中間地点となるようにすると、両記録層にアクセスしやすいので好ましい。
具体的に説明する。片面型ＤＶＤ−Ｒシステムにおいては、基板厚さ０．６ｍｍのときに対物レンズと記録層との距離が最適になるよう調節されている。
【００３１】
従って本層構成において片面型ＤＶＤ−Ｒ互換の場合は、第１基板１の厚さは、０．６ｍｍから、中間樹脂層４の膜厚の２分の１を減じた厚さであることが最も好ましい。このとき、両記録層のほぼ中間地点が約０．６ｍｍとなり、両記録層にフォーカスサーボがかけやすい。
なお、第２記録層５と半透明反射層３の間にバッファー層や保護層など他の層がある場合は、０．６ｍｍから、それらの層と中間樹脂層４の膜厚の和の２分の１を減じた厚さであることが最も好ましい。
【００３２】
第１基板１には凹凸が螺旋状又は同心円状に設けられ、溝及びランドを形成する。通常、このような溝及び／又はランドを記録トラックとして、第１記録層２に情報が記録・再生される。波長６５０ｎｍのレーザを開口数０．６から０．６５の対物レンズで集光して記録再生が行われるいわゆるＤＶＤ−Ｒディスクの場合、通常、第１記録層２は塗布形成されるので溝部で厚膜となり記録再生に適する。
【００３３】
本光記録媒体においては第１基板１の溝部、即ち光の入射方向に対して凸部を記録トラック１１とするのが好ましい。ここで、凹部、凸部はそれぞれ光の入射方向に対する凹部、凸部を言う。通常、溝幅は５０〜５００ｎｍ程度であり、溝深さは１０〜２５０ｎｍ程度である。また記録トラックが螺旋状である場合、トラックピッチは０．１〜２．０μｍ程度であることが好ましい。この他に必要に応じ、ランドプリピット等の凹凸ピットを有してもよい。
【００３４】
このような凹凸を有する基板は、コストの観点から、凹凸を持つスタンパから射出成形により製造するのが好ましい。ガラス等の基体上に光硬化樹脂等の放射線硬化樹脂からなる樹脂層を設ける場合は、樹脂層に記録トラックなどの凹凸を形成してもよい。
【００３５】
（２）第１記録層２について
第１記録層２は、通常ＣＤ−Ｒや片面型ＤＶＤ−Ｒ等に用いられる光記録媒体に用いる記録層より高感度である必要がある。本光記録媒体においては、入射した光ビームのパワーが半透明反射層３の存在等で２分され、第１記録層２の記録と第２記録層５の記録とに振り分けられるため、約半分のパワーで記録するために、特に感度が高い必要があるのである。
【００３６】
また、良好な記録再生特性を実現するためには低発熱で高屈折率な色素であることが望ましい。
更に、第１記録層２と半透明反射層３との組合せにおいて、光の反射、透過及び吸収を適切な範囲とすることが望ましい。記録感度を高くし、かつ記録時の熱干渉を小さくできる。
【００３７】
このような有機色素材料としては、大環状アザアヌレン系色素（フタロシアニン色素、ナフタロシアニン色素、ポルフィリン色素など）、ピロメテン系色素、ポリメチン系色素（シアニン色素、メロシアニン色素、スクワリリウム色素など）、アントラキノン系色素、アズレニウム系色素、含金属アゾ系色素、含金属インドアニリン系色素などが挙げられる。
【００３８】
上述の各種有機色素の中でも含金属アゾ系色素は、記録感度に優れ、かつ耐久性，耐光性に優れるため好ましい。特に下記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）
【００３９】
【化１】
【００４０】
（環Ａ１及びＡ２は、各々独立に置換基を有していてもよい含窒素芳香族複素環であり、環Ｂ１及びＢ２は、各々独立に置換基を有していてもよい芳香族環である。Ｘは、少なくとも２個のフッ素原子で置換されている炭素数１〜６のアルキル基である。）で表される化合物が好ましい。
本光記録媒体の記録層に使用される有機色素は、３５０〜９００ｎｍ程度の可視光〜近赤外域に最大吸収波長λｍａｘを有し、青色〜近マイクロ波レーザでの記録に適する色素化合物が好ましい。通常ＣＤ−Ｒに用いられるような波長７７０〜８３０ｎｍ程度の近赤外レーザや、ＤＶＤ−Ｒに用いられるような波長６２０〜６９０ｎｍ程度の赤色レーザ、あるいは波長４１０ｎｍや５１５ｎｍなどのいわゆるブルーレーザなどでの記録に適する色素がより好ましい。
【００４１】
色素は一種でもよいし、同じ種類のものや異なる種類のものを二種以上混合して用いても良い。さらに、上記複数の波長の記録光に対し、各々での記録に適する色素を併用して、複数の波長域でのレーザ光による記録に対応する光記録媒体とすることもできる。
【００４２】
また記録層は、記録層の安定や耐光性向上のために、一重項酸素クエンチャーとして遷移金属キレート化合物（例えば、アセチルアセトナートキレート、ビスフェニルジチオール、サリチルアルデヒドオキシム、ビスジチオ−α−ジケトン等）等や、記録感度向上のために金属系化合物等の記録感度向上剤を含有していても良い。ここで金属系化合物とは、遷移金属等の金属が原子、イオン、クラスター等の形で化合物に含まれるものを言い、例えばエチレンジアミン系錯体、アゾメチン系錯体、フェニルヒドロキシアミン系錯体、フェナントロリン系錯体、ジヒドロキシアゾベンゼン系錯体、ジオキシム系錯体、ニトロソアミノフェノール系錯体、ピリジルトリアジン系錯体、アセチルアセトナート系錯体、メタロセン系錯体、ポルフィリン系錯体のような有機金属化合物が挙げられる。金属原子としては特に限定されないが、遷移金属であることが好ましい。
【００４３】
さらに本光記録媒体の記録層には、必要に応じて、バインダー、レベリング剤、消泡剤等を併用することもできる。好ましいバインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ニトロセルロース、酢酸セルロース、ケトン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、ポリオレフィン等が挙げられる。
【００４４】
記録層の膜厚は、記録方法などにより適した膜厚が異なるため、特に限定するものではないが、十分な変調度を得るためには通常５ｎｍ以上が好ましく、より好ましくは１０ｎｍ以上であり、特に好ましくは２０ｎｍ以上である。但し、本光記録媒体においては適度に光を透過させるためには厚すぎない必要があるため、通常３μｍ以下であり、好ましくは１μｍ以下、より好ましくは２００ｎｍ以下である。記録層の膜厚は通常、溝部とランド部で異なるが、本光記録媒体において記録層の膜厚は基板の溝部における膜厚を言う。
【００４５】
記録層の成膜方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等一般に行われている薄膜形成法が挙げられるが、量産性、コスト面からはスピンコート法が好ましい。また厚みの均一な記録層が得られるという点からは、塗布法より真空蒸着法の方が好ましい。
スピンコート法による成膜の場合、回転数は１０〜１５０００ｒｐｍが好ましく、スピンコートの後、加熱あるいは溶媒蒸気にあてる等の処理を行っても良い。
【００４６】
ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等の塗布方法により記録層を形成する場合の塗布溶媒としては、基板を侵さない溶媒であればよく、特に限定されない。例えば、ジアセトンアルコール、３−ヒドロキシ−３−メチル−２−ブタノン等のケトンアルコール系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒；ｎ−ヘキサン、ｎ−オクタン等の鎖状炭化水素系溶媒；シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、ｎ−ブチルシクロヘキサン、ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキサン、シクロオクタン等の環状炭化水素系溶媒；テトラフルオロプロパノール、オクタフルオロペンタノール、ヘキサフルオロブタノール等のパーフルオロアルキルアルコール系溶媒；乳酸メチル、乳酸エチル、２−ヒドロキシイソ酪酸メチル等のヒドロキシカルボン酸エステル系溶媒等が挙げられる。
【００４７】
真空蒸着法の場合は、例えば有機色素と、必要に応じて各種添加剤等の記録層成分を、真空容器内に設置されたるつぼに入れ、真空容器内を適当な真空ポンプで１０−２〜１０−５Ｐａ程度にまで排気した後、るつぼを加熱して記録層成分を蒸発させ、るつぼと向き合って置かれた基板上に蒸着させることにより、記録層を形成する。
【００４８】
（３）半透明反射層３について
半透明反射層３は、記録再生光の吸収が小さく、光透過率が４０％以上あり、かつ適度な光反射率がある必要がある。例えば、反射率の高い金属を薄く設けることにより適度な透過率を持たせることができる。また、ある程度の耐食性があることが望ましい。更に、半透明反射層３の上層（ここでは中間樹脂層４）の浸み出しにより第１記録層２が影響されないよう遮断性を持つことが望ましい。
【００４９】
高透過率を確保するために、半透明反射層３の厚さは通常、５０ｎｍ以下が好適である。より好適には３０ｎｍ以下である。更に好ましくは２０ｎｍ以下である。但し、第１記録層２が半透明反射層３の上層により影響されないために、ある程度の厚さが必要であり、通常３ｎｍ以上とする。より好ましくは５ｎｍ以上とする。
【００５０】
半透明反射層３の材料としては、再生光の波長で反射率が適度に高いもの、例えば、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｔａ、Ｐｄ、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ及び希土類金属などの金属及び半金属を単独あるいは合金にして用いることが可能である。この中でもＡｕ、Ａｌ、Ａｇは反射率が高く半透明反射層３の材料として適している。これらを主成分とする以外に他成分を含んでいても良い。
【００５１】
なかでもＡｇを主成分としているものはコストが安い点、反射率が高い点から特に好ましい。ここで主成分とは含有率が５０％以上のものをいう。
半透明反射層３は膜厚が薄く、膜の結晶粒が大きいと再生ノイズの原因となるため、結晶粒が小さい材料を用いるのが好ましい。純銀は結晶粒が大きい傾向があるためＡｇは合金として用いるのが好ましい。
【００５２】
中でもＡｇを主成分とし、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕ及び希土類金属よりなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を０．１〜１５原子％含有することが好ましい。Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕ及び希土類金属のうち２種以上含む場合は、各々０．１〜１５原子％でもかまわないが、それらの合計が０．１〜１５原子％であることが好ましい。
【００５３】
特に好ましい合金組成は、Ａｇを主成分とし、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕよりなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を０．１〜１５原子％含有し、かつ少なくとも１種の希土類元素を０．１〜１５原子％含有するものである。希土類金属の中では、ネオジウムが特に好ましい。具体的には、ＡｇＰｄＣｕ、ＡｇＣｕＡｕ、ＡｇＣｕＡｕＮｄ、ＡｇＣｕＮｄなどである。
【００５４】
半透明反射層３としてはＡｕのみからなる層は結晶粒が小さく、耐食性に優れ好適である。ただし、Ａｇ合金に比べて高価である。
また、半透明反射層３としてＳｉからなる層を用いることも可能である。
金属以外の材料で低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形成し、反射層として用いることも可能である。
【００５５】
半透明反射層３を形成する方法としては、例えば、スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられる。また、第１基板１と第１記録層２との間、及び又は、第１記録層２と半透明反射層３との間、に反射率の向上、記録特性の改善、密着性の向上等のために公知の無機系または有機系の中間層、接着層を設けることもできる。
【００５６】
（４）中間樹脂層４について
中間樹脂層４は、λ１光透過性及びλ２光透過性の両方の光透過性を有している必要があるほか、凹凸により溝やピットが形成可能である必要がある。また接着力が高く、硬化接着時の収縮率が小さいと媒体の形状安定性が高く好ましい。
そして、中間樹脂層４は、第２記録層５にダメージを与えない材料からなることが望ましい。但し、中間樹脂層４は通常、樹脂からなるため第２記録層５と相溶しやすく、これを防ぎダメージを抑えるために両層の間に後述のバッファー層を設けることが望ましい。
【００５７】
さらに、中間樹脂層４は、半透明反射層３にダメージを与えない材料からなることが望ましい。但し、ダメージを抑えるために両層の間に後述のバッファー層を設けることもできる。
【００５８】
本光記録媒体において、中間樹脂層４の膜厚は正確に制御することが好ましい。中間樹脂層４の膜厚は、通常５μｍ以上が好ましい。２層の記録層に別々にフォーカスサーボをかけるためには両記録層の間にある程度の距離がある必要がある。フォーカスサーボ機構にもよるが、通常５μｍ以上、好ましくは１０μｍ以上が必要である。一般に、対物レンズの開口数が高いほどその距離は小さくてよい傾向がある。但しあまり厚いと２層の記録層にフォーカスサーボを合わせるのに時間を要し、また対物レンズの移動距離も長くなるため好ましくない。また硬化に時間を要し生産性が低下するなどの問題があるため、通常、１００μｍ以下が好ましい。
【００５９】
中間樹脂層４には凹凸が螺旋状又は同心円状に設けられ、溝及びランドを形成する。通常、このような溝及び／又はランドを記録トラックとして、第２記録層５に情報が記録・再生される。通常、第２記録層５は塗布形成されるので溝部で厚膜となり記録再生に適する。本光記録媒体においては中間樹脂層４の溝部、即ち光の入射方向に対して凸部を記録トラック１２とするのが好ましい。ここで、凹部、凸部はそれぞれ光の入射方向に対する凹部、凸部を言う。通常、溝幅は５０〜５００ｎｍ程度であり、溝深さは１０〜２５０ｎｍ程度である。また記録トラックが螺旋状である場合、トラックピッチは０．１〜２．０μｍ程度であることが好ましい。この他に必要に応じ、ランドプリピット等の凹凸ピットを有してもよい。
【００６０】
このような凹凸は、コストの観点から、凹凸を持つ樹脂スタンパ等から光硬化性樹脂などの硬化性樹脂に転写、硬化させて製造するのが好ましい。以下、このような方法を２Ｐ法（Ｐｈｏｔｏ Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ法）と称することがある。
中間樹脂層４の材料としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂（遅延硬化型を含む）等を挙げることができる。
【００６１】
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、これを塗布し、乾燥（加熱）することによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂は、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後にこの塗布液を塗布し、紫外光を照射して硬化させることによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂には様々な種類があり、λ１光透過性及びλ２光透過性を有していればいずれも用いうる。またそれらの材料を単独であるいは混合して用いても良いし、１層だけではなく多層膜にして用いても良い。
【００６２】
塗布方法としては、記録層と同様にスピンコート法やキャスト法等の塗布法等の方法が用いられるが、この中でもスピンコート法が好ましい。或いは、粘度の高い樹脂はスクリーン印刷等によっても塗布形成できる。紫外線硬化性樹脂は、生産性を２０〜４０℃において液状であるものを用いると、溶媒を用いることなく塗布でき好ましい。また、粘度は２０〜１０００ｍＰａ・ｓとなるように調製するのが好ましい。
【００６３】
さて、紫外線硬化性接着剤としては、ラジカル系紫外線硬化性接着剤とカチオン系紫外線硬化性接着剤があるが、いずれも使用可能である。
ラジカル系紫外線硬化性接着剤としては、公知の全ての組成物を用いることができ、紫外線硬化性化合物と光重合開始剤を必須成分として含む組成物が用いられる。紫外線硬化性化合物としては、単官能（メタ）アクリレートや多官能（メタ）アクリレートを重合性モノマー成分として用いることができる。これらは、各々、単独または２種類以上併用して用いることができる。ここで、本発明では、アクリレートとメタアクリレートとを併せて（メタ）アクリレートと称する。
【００６４】
本光記録媒体に使用できる重合性モノマーとしては例えば以下のものが挙げられる。単官能（メタ）アクリレートとしては例えば、置換基としてメチル、エチル、プロピル、ブチル、アミル、２−エチルヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、シクロヘキシル、ベンジル、メトキシエチル、ブトキシエチル、フェノキシエチル、ノニルフェノキシエチル、テトラヒドロフルフリル、グリシジル、２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシプロピル、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル、ジメチルアミノエチル、ジエチルアミノエチル、ノニルフェノキシエチルテトラヒドロフルフリル，カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル、イソボルニル，ジシクロペンタニル，ジシクロペンテニル，ジシクロペンテニロキシエチル等の如き基を有する（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００６５】
また、多官能（メタ）アクリレートとしては例えば、１，３−ブチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、トリシクロデカンジメタノール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール等のジ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートのジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール１モルに４モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ１モルに２モルのエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン１モルに３モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジまたはトリ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ１モルに４モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性アルキル化リン酸（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００６６】
また、重合性モノマーと同時に併用できるものとしては、重合性オリゴマーとしてポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート等がある。
更に、本光記録媒体に使用する光重合開始剤は、用いる重合性オリゴマーおよび／または重合性モノマーに代表される紫外線硬化性化合物が硬化できる公知のものがいずれも使用できる。光重合開始剤としては、分子開裂型または水素引き抜き型のものが本光記録媒体に好適である。
【００６７】
このような例としては、ベンゾインイソブチルエーテル、２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ベンジル、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド等が好適に用いられ、さらにこれら以外の分子開裂型のものとして、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オンおよび２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン等を併用しても良いし、さらに水素引き抜き型光重合開始剤である、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、イソフタルフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチル−ジフェニルスルフィド等も併用できる。
【００６８】
また光重合開始剤に対する増感剤として例えば、トリメチルアミン、メチルジメタノールアミン、トリエタノールアミン、ｐ−ジエチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミンおよび４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等の、前述重合性成分と付加反応を起こさないアミン類を併用することもできる。もちろん、上記光重合開始剤や増感剤は、紫外線硬化性化合物への溶解性に優れ、紫外線透過性を阻害しないものを選択して用いることが好ましい。
【００６９】
また、カチオン系紫外線硬化性接着剤としては公知のすべての組成物を用いることができ、カチオン重合型の光開始剤を含むエポキシ樹脂がこれに該当する。カチオン重合型の光開始剤としては、スルホニウム塩、ヨードニウム塩およびジアゾニウム塩等がある。
【００７０】
ヨードニウム塩の１例を示すと以下の通りである。ジフェニルヨードニウム ヘキサフルオロホスフェード、ジフェニルヨードニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウム テトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウム テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム ヘキサフルオロホスフェート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム テトラフルオロボレート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４−メチルフェニル−４−（１−メチルエチル）フェニルヨードニウム ヘキサフルオロホスフェート、４−メチルフェニル−４−（１−メチルエチル）フェニルヨードニウム ヘキサフルオロアンチモネート、４−メチルフェニル−４−（１−メチルエチル）フェニルヨードニウム テトラフルオロボレート、４−メチルフェニル−４−（１−メチルエチル）フェニルヨードニウム テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、などが挙げられる。
【００７１】
エポキシ樹脂は、ビスフェノールＡ−エピクロールヒドリン型、脂環式エポキシ、長鎖脂肪族型、臭素化エポキシ樹脂、グリシジルエステル型、グリシジルエーテル型、複素環式系等種々のものがいずれであってもかまわない。
エポキシ樹脂としては、反射層にダメージを与えないよう、遊離したフリーの塩素および塩素イオン含有率が少ないものを用いるのが好ましい。塩素の量が１重量％以下が好ましく、より好ましくは０．５重量％以下である。
【００７２】
カチオン型紫外線硬化性樹脂１００重量部当たりのカチオン重合型光開始剤の割合は通常、０．１〜２０重量部であり、好ましくは０．２〜５重量部である。なお、紫外線光源の波長域の近紫外領域や可視領域の波長をより有効に利用するため、公知の光増感剤を併用することができる。この際の光増感剤としては、例えばアントラセン、フェノチアジン、ベンジルメチルケタール、ベンゾフェノン、アセトフェノン等が挙げられる。
【００７３】
また、紫外線硬化性接着剤には、必要に応じてさらにその他の添加剤として、熱重合禁止剤、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、ホスファイト等に代表される酸化防止剤、可塑剤およびエポキシシラン、メルカプトシラン、（メタ）アクリルシラン等に代表されるシランカップリング剤等を、各種特性を改良する目的で配合することもできる。これらは、紫外線硬化性化合物への溶解性に優れたもの、紫外線透過性を阻害しないものを選択して用いる。
【００７４】
（５）第２記録層５について
第２記録層５は、通常ＣＤ−Ｒや片面型ＤＶＤ−Ｒ等に用いられる光記録媒体に用いる記録層より高感度である必要がある。本光記録媒体においては、入射した光ビームのパワーが半透明反射層３の存在等で２分され、第１記録層２の記録と第２記録層５の記録とに振り分けられるため、約半分のパワーで記録するために、特に感度が高い必要があるのである。
【００７５】
また、良好な記録再生特性を実現するためには低発熱で高屈折率な色素であることが望ましい。
更に、第２記録層５と反射層６との組合せにおいて、光の反射及び吸収を適切な範囲とすることが望ましい。記録感度を高くし、かつ記録時の熱干渉を小さくできる。
【００７６】
第２記録層５の材料、成膜方法等についてはほぼ第１記録層２と同様に説明されるため、異なる点のみ説明する。
第２記録層５の膜厚は、記録方法などにより適した膜厚が異なるため、特に限定するものではないが、十分な変調度を得るためには通常１０ｎｍ以上が好ましく、より好ましくは３０ｎｍ以上であり、特に好ましくは５０ｎｍ以上である。但し、適度な反射率を得るためには厚すぎない必要があるため、通常３μｍ以下であり、好ましくは１μｍ以下、より好ましくは２００ｎｍ以下である。
第１記録層２と第２記録層５とに用いる材料は同じでも良いし異なっていてもよい。
【００７７】
（６）反射層６について
反射層６は、高反射率である必要がある。また、高耐久性であることが望ましい。
高反射率を確保するために、反射層６の厚さは通常、２０ｎｍ以上が好適である。より好適には３０ｎｍ以上である。更に好ましくは５０ｎｍ以上である。但し、記録感度を上げるためにはある程度薄いことが好ましく、通常４００ｎｍ以下とする。より好ましくは３００ｎｍ以下とする。
【００７８】
反射層６の材料としては、再生光の波長で反射率の十分高いもの、例えば、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｔａ及びＰｄの金属を単独あるいは合金にして用いることが可能である。この中でもＡｕ、Ａｌ、Ａｇは反射率が高く反射層６の材料として適している。これらを主成分とする以外に他成分として下記のものを含んでいても良い。他成分の例としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ及び希土類金属などの金属及び半金属を挙げることができる。
【００７９】
中でもＡｇを主成分としているものはコストが安い点、高反射率が出やすい点、更に後で述べる印刷受容層を設ける場合には地色が白く美しいものが得られる点等から特に好ましい。ここで主成分とは含有率が５０％以上のものをいう。
反射層６は高耐久性（高耐食性）を確保するため、Ａｇは純銀よりもＡｇは合金として用いるのが好ましい。
【００８０】
中でもＡｇを主成分とし、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕ及び希土類金属よりなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を０．１〜１５原子％含有することが好ましい。Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕ及び希土類金属のうち２種以上含む場合は、各々０．１〜１５原子％でもかまわないが、それらの合計が０．１〜１５原子％であることが好ましい。
【００８１】
特に好ましい合金組成は、Ａｇを主成分とし、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕよりなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を０．１〜１５原子％含有し、かつ少なくとも１種の希土類元素を０．１〜１５原子％含有するものである。希土類金属の中では、ネオジウムが特に好ましい。具体的には、ＡｇＰｄＣｕ、ＡｇＣｕＡｕ、ＡｇＣｕＡｕＮｄ、ＡｇＣｕＮｄなどである。
【００８２】
反射層６としてはＡｕのみからなる層は高耐久性（高耐食性）が高く好適である。ただし、Ａｇ合金に比べて高価である。
金属以外の材料で低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形成し、反射層６として用いることも可能である。
反射層６を形成する方法としては、例えば、スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられる。また、反射層６の上下に反射率の向上、記録特性の改善、密着性の向上等のために公知の無機系または有機系の中間層、接着層を設けることもできる。
【００８３】
（７）接着層７について
接着層７は、λ１光透過性及びλ２光透過性を有している必要はないが、接着力が高く、硬化接着時の収縮率が小さいと媒体の形状安定性が高く好ましい。
また、接着層７は反射層６にダメージを与えない材料からなることが望ましい。但し、ダメージを抑えるために両層の間に公知の無機系または有機系の保護層を設けることもできる。
【００８４】
本光記録媒体において、接着層７の膜厚は、通常２μｍ以上が好ましい。所定の接着力を得るためにはある程度の膜厚が必要である。より好ましくは５μｍ以上である。但し光記録媒体をできるだけ薄くするために、また硬化に時間を要し生産性が低下するなどの問題があるため、通常、１００μｍ以下が好ましい。
接着層７の材料は、中間樹脂層４の材料と同様のものが用いうるほか、感圧式両面テープ等も使用可能である。感圧式両面テープを反射層６と第２基板８との間に挟んで押圧することにより、接着層７を形成できる。
【００８５】
（８）第２基板８について
第２基板８は、光記録媒体がある程度の剛性を有するよう、形状安定性を備えるのが望ましい。即ち機械的安定性が高く、剛性が大きいことが好ましい。また接着層７との接着性が高いことが望ましい。
上述のように第１基板１が十分な形状安定性を備えていない場合は、第２基板８は特に形状安定性が高い必要がある。この点で吸湿性が小さいことが望ましい。但し第２基板８は透明である必要はない（即ち、λ１光透過性及びλ２光透過性を有している必要はない）。また第２基板８は鏡面基板で良く、凹凸を形成する必要はないので射出成形による転写性は必ずしも良い必要はない。
【００８６】
このような材料としては、第１基板１に用いうる材料と同じものが用い得るほか、例えば、Ａｌを主成分とした例えばＡｌ−Ｍｇ合金等のＡｌ合金基板や、Ｍｇを主成分とした例えばＭｇ−Ｚｎ合金等のＭｇ合金基板、シリコン、チタン、セラミックスのいずれかからなる基板やそれらを組み合わせた基板などを用いることができる。
【００８７】
なお、成形性などの高生産性、コスト、低吸湿性、形状安定性などの点からはポリカーボネートが好ましい。耐薬品性、低吸湿性などの点からは、非晶質ポリオレフィンが好ましい。また、高速応答性などの点からは、ガラス基板が好ましい。
光記録媒体に十分な剛性を持たせるために、第２基板８はある程度厚いことが好ましく、厚さは０．３ｍｍ以上が好ましい。但し薄いほうが記録再生装置の薄型化に有利であり、好ましくは３ｍｍ以下である。より好ましくは１．５ｍｍ以下である。
【００８８】
第２基板８は凹凸を持たない鏡面基板で良いが、生産しやすさの観点から、射出成型により製造するのが望ましい。
第１基板１と第２基板８の好ましい組合せの一例は、第１基板１と第２基板８とが同一材料からなり、厚さも同一である。剛性が同等でバランスが取れているので、環境変化に対しても媒体として変形しにくく好ましい。この場合、環境が変化したときの変形の程度や方向も両基板で同様であると好ましい。
【００８９】
他の好ましい組合せの一例は、第１基板１が０．１ｍｍ程度と薄く、第２基板８が１．１ｍｍ程度と厚いものである。対物レンズが記録層に近づきやすく記録密度を上げやすいため好ましい。このとき第１基板１はシート状であってもよい。
【００９０】
（９）その他の層について
上記積層構造において、必要に応じて任意の他の層を挟んでも良い。或いは媒体の最外面に任意の他の層を設けても良い。具体的には、半透明反射層３と中間樹脂層４との間、中間樹脂層４と第２記録層５との間、反射層６と接着層７との間、などに中間層としてのバッファー層を設けてもよい。
【００９１】
バッファー層は２つの層の混和を防止し、相溶を防ぐものである。バッファー層が混和現象を防止する以外の他の機能を兼ねていても良い。また必要に応じてさらに他の中間層を挟んでも良い。
バッファー層の材料は、第２記録層５や中間樹脂層４と相溶せず、かつ、λ１光透過性及びλ２光透過性を有している必要があり、公知の無機物及び有機物が用いうる。特性面からは、好ましくは無機物が用いられる。例えば、（１）金属又は半導体、（２）金属又は半導体の酸化物、窒化物、硫化物、酸硫化物、フッ化物又は炭化物、もしくは（３）非晶質カーボン、などが用いられる。中でも、λ１光透過性及びλ２光透過性を有する誘電体からなる層や、ごく薄い金属層（合金を含む）が好ましい。
【００９２】
具体的には、酸化珪素、特に二酸化珪素や、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化イットリウム等の酸化物；硫化亜鉛、硫化イットリウムなどの硫化物；窒化珪素などの窒化物；炭化珪素；酸化物とイオウとの混合物（酸硫化物）；および後述の合金などが好適である。また、酸化珪素と硫化亜鉛との３０：７０〜９０：１０程度（重量比）の混合物も好適である。また、イオウと二酸化イットリウムと酸化亜鉛との混合物（Ｙ２Ｏ２Ｓ−ＺｎＯ）も好適である。
【００９３】
金属や合金としては、銀、又は銀を主成分とし更にチタン、亜鉛、銅、パラジウム、及び金よりなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を０．１〜１５原子％含有するものが好適である。また、銀を主成分とし、少なくとも１種の希土類元素を０．１〜１５原子％含有するものも好適である。この希土類としては、ネオジウム、プラセオジウム、セリウム等が好適である。
【００９４】
その他、バッファー層作製時に記録層の色素を溶解しないようなものであれば樹脂層でも構わない。特に、真空蒸着やＣＶＤ法で作製可能な高分子膜が有用である。
バッファー層の厚さは２ｎｍ以上が好ましく、より好ましくは５ｎｍ以上である。バッファー層の厚さが過度に薄いと、上記の混和現象の防止が不十分となる虞がある。但し２０００ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは５００ｎｍ以下である。バッファー層が過度に厚いと、混和防止には不必要であるばかりでなく、光の透過率を低下させる恐れもある。また無機物からなる層の場合には成膜に時間を要し生産性が低下したり、膜応力が高くなったりする虞があり２００ｎｍ以下が好ましい。特に、金属の場合は光の透過率を過度に低下させるため、２０ｎｍ以下程度が好ましい。
【００９５】
また、記録層や反射層を保護するために保護層を設けても良い。保護層の材料としては、λ１光透過性及びλ２光透過性を有している必要があるが、記録層や反射層を外力から保護するものであれば特に限定されない。有機物質の材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂等を挙げることができる。また、無機物質としては、酸化ケイ素、窒化ケイ素、ＭｇＦ２、ＳｎＯ２等が挙げられる。
【００９６】
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、これを塗布、乾燥することによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂は、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後にこの塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂としては、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレートなどのアクリレート系樹脂を用いることができる。これらの材料は単独であるいは混合して用いても良いし、１層だけではなく多層膜にして用いても良い。
【００９７】
保護層の形成方法としては、記録層と同様にスピンコート法やキャスト法等の塗布法やスパッタ法や化学蒸着法等の方法が用いられるが、この中でもスピンコート法が好ましい。
保護層の膜厚は、一般に０．１〜１００μｍの範囲であるが、本光記録媒体においては、３〜５０μｍが好ましい。
【００９８】
更に、上記光記録媒体には、必要に応じて、記録・再生光の入射面ではない面に、インクジェット、感熱転写等の各種プリンタ、或いは各種筆記具にて記入（印刷）が可能な印刷受容層を設けてもよい。
或いは、本層構成の光記録媒体を２枚、第１基板１を外側にして貼合わせて、記録層を４層有する、より大容量媒体とすることもできる。
【００９９】
〔Ａ−２〕光記録媒体の製造方法
次に、本実施形態に係るタイプ１の光記録媒体の製造方法について図２を用いて説明する。なお、図２は本製造方法を説明するための工程図である。
まず、図２（ａ）に示すように、表面に凹凸で溝及びランド、プリピットが形成された第１基板１を、スタンパをもとに射出成形または２Ｐ法等により作製する。
【０１００】
次に、図２（ｂ）に示すように、少なくとも有機色素を溶媒に溶解させた塗布液を第１基板１の凹凸を有する側の表面にスピンコート等により塗布し、第１記録層２を成膜する。なお、このとき、図２（ｂ）に示すようにディスク（第１基板１）の内周側に第１記録層２を形成しない所定領域３０ａを設けるようにする。また、この所定領域３０ａの幅Ｗ１を、第１基板１の内周端部から例えば０．１ｍｍ〜５ｍｍ、好ましくは１ｍｍ程度で形成するのが良い。
【０１０１】
この後、図２（ｃ）に示すように、第１基板１の外周側を洗浄して第１記録層２を除去し、第１基板１が露出する所定領域３０ｂを形成する。また、このときの所定領域３０ｂの幅Ｗ２を、上記の領域３０ａと同様に、第１基板１の外周端部から例えば０．１ｍｍ〜５ｍｍ、好ましくは１ｍｍ程度で形成するのが良い。この所定領域３０ａ，３０ｂは、後述する膜厚測定時において第２記録層５の膜厚を容易に測定できるようにする目的で形成されている。
【０１０２】
第１記録層２を成膜した後、図２（ｄ）に示すように、第１基板１の内周側の領域３０ａ及び外周側の領域３０ｂにマスクを被せ、Ａｇ合金などをスパッタまたは蒸着することにより、第１記録層２上に半透明反射層３を成膜する。
その後、図２（ｅ）に示すように、所定領域３０ａ，３０ｂを含む第１基板１の表面全体に紫外線硬化性樹脂等をスピンコート等により塗布する。このとき、紫外線硬化性樹脂（後に中間樹脂層４となる）は、第１基板１の所定領域３０ａ，３０ｂにおいて第１基板１と直接接する。
【０１０３】
次に、型を用いて紫外線硬化性樹脂の表面に凹凸を形成する。型としては、生産性、コストなどの観点から、図２（ｆ）に示すように、樹脂からなるスタンパ１５を用いるのが好ましい。
樹脂スタンパ１５は中間樹脂層４となるべき樹脂に対して十分な剥離性を有していれば良い。透明である必要はないが、成形性が良く、形状安定性が良いことが望ましい。生産性及びコストの観点から、望ましくは、樹脂スタンパ１５は複数回の転写に使用可能であるのが望ましい。また、使用後のリサイクルが可能であることが望ましい。
【０１０４】
樹脂スタンパ１５は、図２（ｆ）に示すように樹脂基板１６上に１層以上のセパレート層１７を有しても良いし、樹脂基板１６のみから構成してもよいが、後者のほうが生産性やコストの観点から好ましい。
まず、上述の樹脂スタンパ１５とは凹凸が逆（ネガ）の金属製スタンパを用い、射出成形や２Ｐ法等により樹脂基板１６を作製する。
【０１０５】
樹脂基板１６は透明である必要はないが、成形性が良く、形状安定性が良いことが望ましい。このような材料としては、例えばアクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン系樹脂（特に非晶質ポリオレフィン）、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂からなるものが挙げられる。
【０１０６】
また、樹脂基板１６の厚さは、形状安定性及びハンドリングの容易さの点で、０．５ｍｍ以上とするのが望ましい。厚さの上限は特にないが、通常、３ｍｍ以下で十分である。
樹脂スタンパ１５が樹脂基板１６上に１層以上のセパレート層１７を有する構成であれば、樹脂基板１６はセパレート層１７との密着性が高い樹脂である必要があり、その他成形性などの高生産性、コスト、低吸湿性、形状安定性などの点からポリカーボネートが好ましい。
【０１０７】
セパレート層１７は中間樹脂層４を構成する樹脂との密着性が低く剥離性が高いことが望ましい。また、成膜されたときに樹脂基板１６の凹凸を忠実に反映した凹凸が形成されることが望ましい。
セパレート層１７の材料としては、中間樹脂層４の樹脂との剥離性の点から金属または合金が好ましく、通常、Ａｇ、Ａｕ、Ｃｕ、Ｐｔ及びＰｄから選ばれる金属またはそれらの合金が用いられる。
【０１０８】
セパレート層１７の厚さは、中間樹脂層４からの剥離性を確保するためにはある程度の膜厚が必要で、２ｎｍ以上とするのが好ましい。一方、基板の凹凸を忠実に反映するためには厚すぎないことが望ましく、通常、２００ｎｍ以下が好ましい。
樹脂スタンパ１５が樹脂基板１６のみからなる構成であれば、樹脂基板１６は中間樹脂層４を構成する樹脂との密着性が低く剥離性が高いことが望ましい。その他成形性などの高生産性、コスト、低吸湿性、形状安定性などの点から非晶質ポリオレフィンが好ましい。
【０１０９】
したがって、第１基板１上に紫外線硬化性樹脂等をスピンコート等により塗布した後、上述したような樹脂スタンパ１５を載置し、紫外線硬化性樹脂に凹凸を転写する。このとき、紫外線硬化性樹脂の膜厚が所定範囲になるように調節しつつ行なう。
そして、この状態で第１基板１側から紫外線を照射するなどして紫外線硬化性樹脂を硬化させ、十分硬化したところで樹脂スタンパ１５を剥離し、図２（ｇ）に示すように、表面に凹凸を有する中間樹脂層４を形成する。或いは紫外線を媒体の側面から照射することもできる。いずれにせよ、この紫外線により第１記録層１がダメージを受けないようにする必要がある。
【０１１０】
続いて、図２（ｈ）に示すように、少なくとも有機色素を溶媒に溶解させた塗布液をスピンコート等により中間樹脂層４表面（即ち、第１記録層２及び半透明反射層３の領域よりも所定領域だけ広い領域）に塗布し、第２記録層５を成膜する。
そして、図２（ｉ）に示すように、Ａｇ合金などをスパッタ、蒸着することにより第２記録層５上に反射層６を成膜する。
【０１１１】
その後、図２（ｊ）に示すように、ポリカーボネートを射出成形して得られた第２基板８としての鏡面基板を、接着層７を介して反射層６に貼り合わせる。これにより、光記録媒体の製造が完了する。
なお、接着層７は、不透明でも、表面が多少粗くてもよく、遅延硬化型の接着剤を問題なく使用できる。反射層６上に接着剤をスクリーン印刷等で塗布し、紫外線を照射してから第２基板８を載置し押圧して接着層７を形成できる。或いは、反射層６と第２基板８との間に感圧式両面テープを挟んで押圧することにより、接着層７を形成することもできる。
【０１１２】
〔Ａ−３〕光記録媒体の膜厚測定方法及び膜厚制御方法
本実施形態に係るタイプ１の光記録媒体では、公知の透過法を用いて第１記録層２及び第２記録層５の膜厚を測定することができる。良質な特性を有する光記録媒体を製造するにあたって、第１記録層２及び第２記録層５の膜厚制御をより正確に行なうことが重要である。
【０１１３】
第１記録層２については、図２（ｂ）に示すように第１基板１上に第１記録層２を成膜した後に、第１記録層２上面側から或いは第１基板１下面側から光（例えば赤色レーザ，Ｈｅ−Ｎｅレーザ，Ｈｅ−Ｃｄレーザ等。好ましくは可視光）を照射してその透過率の測定を行なえば、第１記録層２の上下側に反射層等の透過率の低い層がなんら存在しないので第１記録層２の膜厚を容易に測定することができる。
【０１１４】
また、第２記録層５については、図２（ｈ）に示すように中間樹脂層４上に第２記録層５を成膜した後に、第２記録層５上面側から或いは第１基板１下面側から光を照射してその透過率の測定を行なうことにより膜厚を測定できるが、このとき、光を図２（ｈ）に示す矢印の位置、即ち、所定領域３０ａ又は／及び３０ｂに照射する。この所定領域３０ａ，３０ｂの範囲では、第２記録層５の下層に、λ１光透過性を有する中間樹脂層４及び第１基板１のみ存在し、反射層等の透過率の低い層はなんら存在しないので、第２記録層５の膜厚も容易に測定することが可能である。
【０１１５】
このように、第２記録層５の領域が、第１記録層２の領域及び半透明反射層３の領域よりも所定領域だけ広く形成されることで、第１記録層２及び半透明反射層３に邪魔されることなく第２記録層５の膜厚を透過法で測定できる。
なお、所定領域３０ａ，３０ｂにおいて、中間樹脂層４と第１基板１との間、或いは第２記録層５と中間樹脂層４との間にバッファー層や保護層が存在していても、これらバッファー層や保護層はλ１光透過性を有しているので、上記と同様に第２記録層５の膜厚を容易に測定することが可能である。
【０１１６】
また、第１基板１の直径方向において複数点の膜厚測定を行なうことで、より正確な膜厚を求めることが可能となる。
なお、本実施形態では、第１基板１の内周側及び外周側の両方に所定領域を設けるように構成したが、内周側のみ或いは外周側のみに設けるように構成しても良い。
【０１１７】
また、上記の膜厚測定は、本光記録媒体を製造する製造装置内（即ち製造過程）において図示省略の膜厚測定装置により自動的に行なわれ、このとき測定された膜厚情報は、第１記録層２及び第２記録層５の膜厚を制御する膜厚制御装置（図示省略）にフィードバックされるようになっている。
【０１１８】
つまり、例えば膜厚測定装置により第１記録層２の膜厚が測定されると、この膜厚情報が膜厚制御装置に送信され、膜厚制御装置では、この膜厚情報に基づいて、第１記録層２形成用の塗布液の塗布量（または濃度）、温度、湿度、塗布液を塗布する時間、塗布液を塗布する際の第１基板１の回転数、第１基板１が最高回転数に到達するまでの時間等が調節されて、次のディスクの第１記録層２の膜厚が適切な膜厚になるように制御される。また、次のディスクの第２記録層５の膜厚制御も第１記録層２の膜厚制御と同様にして行なうことができる。もちろん、第１記録層２の膜厚情報に基づいて、第１記録層２よりも上側に積層される第２記録層５の膜厚を制御したり、また、３つ以上の複数の記録層を有する光記録媒体であって第２記録層５のさらに上側に記録層が積層される場合には、その記録層の膜厚を制御したりすることも可能である。
【０１１９】
〔Ｂ〕第２実施形態
〔Ｂ−１〕光記録媒体の構成
図３は本実施形態に係る光記録媒体（タイプ２）を示す模式的な断面図である。
本実施形態に係るタイプ２の光記録媒体は、ディスク状の透明な（光透過性の）第１基板（第１の基板）２１上に、色素を含む第１記録層（第１の色素含有記録層）２２、半透明の反射層（以下、半透明反射層という。第１の反射層）２３、透明接着層２４、バッファー層２８、色素を含む第２記録層（第２の色素含有記録層）２５、反射層（第２の反射層）２６、ディスク状の透明な第２基板（第２の基板）２７をこの順に有してなる。光ビームは第１基板２１側から照射され、記録・再生が行われる。
【０１２０】
なお、本発明において「光透過性（又は透明）」とは、透過法による膜厚測定（これについては後述する）において用いられる光の波長に対する光透過性（λ１光透過性という）と、光記録媒体の記録・再生を行なう際に用いられる光の波長に対する光透過性（λ２光透過性という）との２つの光透過性を意味する。また、上記の膜厚測定光の波長及び記録再生光の波長について５０％以上、好ましくは６０％以上の透過性があれば実質的に光透過性であるといえる。
【０１２１】
第１基板２１、第２基板２７上にはそれぞれ凹凸が形成され、それぞれ記録トラックを構成する。記録トラックは凸部及び凹部のどちらでも良いが、第１基板２１上の記録トラック３１は、光の入射方向に対して凸部で構成されるのが好ましく、第２基板２７上の記録トラック３２は、光の入射方向に対して凹部で構成されるのが好ましい。この他に必要に応じ凹凸ピットを有することもある。特に断らない限り、本実施形態において凹凸は記録・再生に用いる光の入射方向に対して定義される。
【０１２２】
次に、各層について説明する。
本実施形態に係る第１基板２１，第１記録層２２，半透明反射層２３，第２記録層２５，反射層２６はそれぞれ、第１実施形態に係る第１基板１，第１記録層２，半透明反射層３，第２記録層５，反射層６と略同様の構成である。
また、中間層としての透明接着層２４は、少なくともλ２光透過性を有している必要がある。そして、凹凸により溝やピットを形成する必要がないという以外は、第１実施形態における中間樹脂層４の構成と略同様の構成である。なお、本光記録媒体では、上記の溝やピットは後述する第２基板２７に形成されている。
【０１２３】
さらに、中間層としてのバッファー層２８は、第１実施形態において説明したバッファー層と略同様の構成である。なお、このバッファー層は必要に応じて形成するようにしても良い。
第２基板２７は、少なくともλ１光透過性を有している必要があるほか、光記録媒体がある程度の剛性を有するよう、形状安定性を備えるのが望ましい。即ち機械的安定性が高く、剛性が大きいことが好ましい。
【０１２４】
このような材料としては、例えばアクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン系樹脂（特に非晶質ポリオレフィン）、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂からなるもの、ガラスからなるものを用いることができる。
【０１２５】
第２基板２７には、凹凸が螺旋状又は同心円状に設けられ、溝及びランドを形成する。通常、このような溝及び／又はランドを記録トラックとして、第２記録層２５に情報が記録・再生される。通常、第２記録層２５は塗布形成されるので溝部で厚膜となり記録再生に適する。本光記録媒体においては第２基板２７の溝部、即ち光の入射方向に対して凹部を記録トラック３２とするのが好ましい。ここで、凹部、凸部はそれぞれ光の入射方向に対する凹部、凸部を言う。通常、溝幅は５０〜５００ｎｍ程度であり、溝深さは１０〜２５０ｎｍ程度である。また記録トラックが螺旋状である場合、トラックピッチは０．１〜２．０μｍ程度であることが好ましい。この他に必要に応じ、ランドプリピット等の凹凸ピットを有してもよい。
このような凹凸を有する第２基板２７は、コストの観点から、凹凸を持つスタンパから樹脂を用いて射出成形により製造するのが好ましい。ガラス等の基体上に光硬化性樹脂等の放射線硬化性樹脂からなる樹脂層を設ける場合は、樹脂層に記録トラックなどの凹凸を形成してもよい。
また、記録層や反射層を保護するために、第１実施形態で説明した保護層を設けても良い。保護層の材料としては、λ１光透過性及びλ２光透過性を有している必要があるが、記録層や反射層を外力から保護するものであれば特に限定されない。
【０１２６】
〔Ｂ−２〕光記録媒体の製造方法
次に、本実施形態に係るタイプ２の光記録媒体の製造方法について図４を用いて説明する。なお、図４は本製造方法を説明するための工程図である。
本光記録媒体は、第１基板２１上に、色素を含む第１記録層２２，半透明反射層２３をこの順に有する積層構造（第１の構成物）Ａを作製し、また、第２基板２７上に反射層２６，色素を含む第２記録層２５，バッファー層２８をこの順に有する積層構造（第２の構成物）Ｂを作製した後、両積層構造Ａ，Ｂを、互いに記録層２２，２５が内側にくるように（対向するように）して透明接着層２４を介して貼り合わせることで製造される。
【０１２７】
まず、図４（ａ）に示すように、表面に凹凸で溝及びランド、プリピットが形成された第１基板２１を、射出成形または２Ｐ法等により作製する。
次に、図４（ｂ）に示すように、少なくとも有機色素を溶媒に溶解させた塗布液を第１基板２１の凹凸を有する側の表面にスピンコート等により塗布し、第１記録層２２を成膜する。
【０１２８】
第１記録層２２を形成した後、図４（ｃ）に示すように、Ａｇ合金などをスパッタまたは蒸着することにより、第１記録層２２上に半透明反射層２３を成膜し、積層構造Ａとする。
一方、図４（ｄ）に示すように、表面に凹凸で溝及びランド、ピットが形成された第２基板２７を、射出成形または２Ｐ法等により作製する。
【０１２９】
そして、図４（ｅ）に示すように、第２基板２７の凹凸を有する側の表面に、Ａｇ合金などをスパッタ又は蒸着することにより反射層２６を成膜する。なお、このとき、図４（ｅ）に示すようにディスク（第２基板２７）の内周側及び外周側にマスクなどを被せて反射層２６を形成しない所定領域４０ａ，４０ｂを設けるようにする。また、この所定領域４０ａの幅Ｗ１０を、第２基板２７の内周端部から例えば０．１ｍｍ〜５ｍｍ、好ましくは１ｍｍ程度で形成するのが良く、所定領域４０ｂの幅Ｗ２０を、第２基板２７の外周端部から例えば０．１ｍｍ〜５ｍｍ、好ましくは１ｍｍ程度で形成するのが良い。この所定領域４０ａ，４０ｂは、後述する膜厚測定時において第２記録層５の膜厚を容易に測定できるようにする目的で形成されている。
【０１３０】
反射層２６を成膜した後、図４（ｆ）に示すように、反射層２６の領域よりも広い領域に、少なくとも有機色素を溶媒に溶解させた塗布液をスピンコート等により塗布し、第２記録層２５を成膜する。このとき、第２記録層２５は、第２基板２７の所定領域４０ａ，４０ｂにおいて第２基板２７と直接接する。
次いで、図４（ｇ）に示すように、誘電体などをスパッタすることによりバッファー層２８を成膜し、積層構造Ｂとする。
【０１３１】
そして、図４（ｈ）に示すように、積層構造Ａ上に透明接着層２４となる紫外線硬化性樹脂等の接着剤を塗布したのち積層構造Ｂを載置し、高速回転、押圧等により接着剤を全面に広げる。このとき、透明接着層２４の膜厚が所定範囲になるように調節しつつ行なう。その後、第１基板２１下面側から半透明反射層２３を介して紫外線を照射し、硬化接着させることでタイプ２の光記録媒体を製造できる。或いは紫外線を媒体の側面から照射することもできる。いずれにせよ、この紫外線により第１記録層２２がダメージを受けないように注意が必要である。
【０１３２】
また、積層構造Ａ，Ｂ間に感圧式両面テープを挟んで押圧することにより、接着層を形成することもできる。或いは、遅延硬化型の接着剤を使用し、積層構造Ａ上に接着剤をスクリーン印刷等で塗布し紫外線を照射してから積層構造Ｂを載置し押圧しても接着層を形成できる。但し、遅延硬化型接着剤は通常、不透明である場合が多い。
【０１３３】
〔Ｂ−３〕光記録媒体の膜厚測定方法及び膜厚制御方法
本実施形態に係るタイプ２の光記録媒体では、第１実施形態と同様に、公知の透過法を用いて第１記録層２２及び第２記録層２５の膜厚を測定することができる。
第１記録層２２については、図４（ｂ）に示すように第１基板２１上に第１記録層２２を成膜した後に、第１記録層２２上面側から或いは第１基板２１下面側から光（例えば赤色レーザ，Ｈｅ−Ｎｅレーザ，Ｈｅ−Ｃｄレーザ等。好ましくは可視光）を照射して第１記録層２２の透過率測定を行なえば、第１記録層２２の上下側に反射層等の透過率の低い層がなんら存在しないので第１記録層２２の膜厚を容易に測定することができる。
【０１３４】
また、第２記録層２５については、図４（ｆ）に示すように反射層２６上に第２記録層２５を成膜した後に、第２記録層２５上面側から或いは第２基板２７下面側から光を照射して第２記録層２５の透過率測定を行なうことにより膜厚を測定できるが、このとき、光を図４（ｆ）に示す矢印の位置、即ち、所定領域４０ａ又は／及び４０ｂに照射する。この所定領域４０ａ，４０ｂの範囲では、図４（ｆ）に示す第２記録層２５の下層にはλ１光透過性を有する第２基板２７のみ存在し、反射層等の透過率の低い層はなんら存在しないので、第２記録層２５の膜厚を容易に測定することが可能である。
【０１３５】
このように、第２記録層２５の領域が、第２反射層２６の領域よりも所定領域だけ広く形成されることで、第２反射層２６に邪魔されることなく第２記録層２６の膜厚を透過法で測定できる。
なお、所定領域４０ａ，４０ｂにおいて、第２基板２７と第２記録層２５との間にバッファー層や保護層が存在していても、これらバッファー層や保護層はλ１光透過性を有しているので、上記と同様に第２記録層２５の膜厚を容易に測定することが可能である。
【０１３６】
また、第２基板２７の直径方向において複数点の膜厚測定を行なうことで、より正確な膜厚を求めることが可能となる。
なお、本実施形態では、第２基板２７の内周側及び外周側の両方に所定領域を設けるように構成したが、内周側のみ或いは外周側のみに設けるように構成しても良い。
【０１３７】
また、上記の膜厚測定は、本光記録媒体を製造する製造装置内（即ち製造過程）において図示省略の膜厚測定装置により自動的に行なわれ、このとき測定された膜厚情報は、第１記録層２２及び第２記録層２５の膜厚を制御する膜厚制御装置（図示省略）にフィードバックされるようになっている。
つまり、例えば膜厚測定装置により第１記録層２２の膜厚が測定されると、この膜厚情報が膜厚制御装置に送信され、膜厚制御装置では、この膜厚情報に基づいて、第１記録層２２形成用の塗布液の塗布量（または濃度）、温度、湿度、塗布液を塗布する時間、塗布液を塗布する際の第１基板２１の回転数、第１基板２１が最高回転数に到達するまでの時間等が調節されて、次のディスクの第１記録層２２の膜厚が適切な膜厚になるように制御される。また、次のディスクの第２記録層２５の膜厚制御も第１記録層２２の膜厚制御と同様にして行なうことができる。
【０１３８】
〔Ｃ〕その他
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記の実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。
【０１３９】
例えば、第１，２実施形態では、２つの記録層を有する光記録媒体について説明したが、光記録媒体が３つ以上の複数の記録層を有していても良い。この場合、第１実施形態に係るタイプ１の光記録媒体の製造方法により製造することが好ましい。例えば図５に示すように、第１実施形態に係る光記録媒体の第２記録層５と反射層６との間に半透明反射層３′，中間樹脂層４′，第３記録層５′を介装した積層構造とする。また、第２記録層５の膜厚測定のための所定領域３０ａ，３０ｂを設けるとともに、第３記録層５′の膜厚測定のための所定領域３０ａ′，３０ｂ′を設けるようにする。このとき、所定領域３０ａ′，３０ｂ′の幅がそれぞれ所定領域３０ａ，３０ｂの幅よりも小さくなるように形成することで、第３記録層５′の膜厚を容易に測定することができる。このように、３つ以上の複数の記録層を有する光記録媒体でも、上記のように所定領域を設けることで、透過法により各記録層の膜厚を製造過程において容易に測定することが可能となる。
【０１４０】
また、第１，２実施形態では、基板側からレーザ光を照射して情報の記録・再生を行なう基板入射型光ディスクについて説明したが、基板／反射層／記録層／保護層からなる積層構造を有し、保護層側（即ち、膜面側）からレーザ光を照射して情報の記録・再生を行なう膜面入射型光ディスクにおいても適用できる。
【０１４１】
【発明の効果】
以上詳述したように、請求項１記載の本発明の光記録媒体によれば、光透過性の基板と色素含有記録層との間に反射層が設けられた積層構造であっても、色素含有記録層の領域が反射層の領域よりも所定領域だけ広い領域に形成されているので、この所定領域において透過法により色素含有記録層の膜厚を容易に測定することができる。
【０１４２】
請求項２記載の本発明の光記録媒体によれば、第２の色素含有記録層の領域が、第１の色素含有記録層の領域及び第１の反射層の領域よりも所定領域だけ広く形成されているので、この所定領域において透過法により第２の色素含有記録層の膜厚を容易に測定することができる。
請求項３記載の本発明の光記録媒体によれば、所定領域において、第１の基板と中間層とが直接又は光透過性の層を介して接しているので、この所定領域において、透過法により第２の色素含有記録層の膜厚を容易に測定することができる。
【０１４３】
請求項４記載の本発明の光記録媒体によれば、第２の色素含有記録層の領域が、第２の反射層の領域よりも所定領域だけ広く形成されているので、この所定領域において透過法により第２の色素含有記録層の膜厚を容易に測定することができる。
請求項５記載の本発明の光記録媒体によれば、所定領域において、第２の基板と第２の色素含有記録層とが直接又は光透過性の層を介して接しているので、この所定領域において、透過法により第２の色素含有記録層の膜厚を容易に測定することができる。
【０１４４】
請求項６記載の本発明の光記録媒体によれば、所定領域が、基板の内周側及び／又は外周側に設けられているので、直径方向において複数点の膜厚測定を行なうことで、より正確な膜厚を求めることが可能である。
請求項７記載の本発明の光記録媒体の膜厚測定方法によれば、所定領域において、透過法により色素含有記録層の膜厚を容易に測定できる。
【０１４５】
請求項８記載の本発明の光記録媒体の膜厚制御方法によれば、所定領域において透過法により色素含有記録層の膜厚を測定し、この膜厚測定情報に基づいて、その後に形成される色素含有記録層の膜厚を制御するので、より正確な膜厚制御が可能である。
請求項９記載の本発明の光記録媒体の製造方法によれば、所定領域において透過法により色素含有記録層の膜厚を測定し、この膜厚測定情報に基づいて、その後に形成される色素含有記録層の膜厚を制御する工程を含んでいるので、より正確な膜厚制御が可能であり、良質な特性を有する光記録媒体を製造することができる。
【０１４６】
請求項１０記載の本発明の光記録媒体の膜厚測定装置によれば、所定領域において透過法により色素含有記録層の膜厚を容易に測定できる。
請求項１１記載の本発明の光記録媒体の膜厚制御装置によれば、所定領域において透過法により色素含有記録層の膜厚を測定し、この膜厚測定情報に基づいて、その後に形成される色素含有記録層の膜厚を制御するので、より正確な膜厚制御が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態としての光記録媒体（タイプ１）を示す模式図である。
【図２】本発明の第１実施形態としての光記録媒体（タイプ１）の製造方法を示す工程図である。
【図３】本発明の第２実施形態としての光記録媒体（タイプ２）を示す模式図である。
【図４】本発明の第２実施形態としての光記録媒体（タイプ２）の製造方法を示す工程図である。
【図５】本発明の第１実施形態としての光記録媒体（タイプ１）の変形例を示す模式図である。
【図６】従来の光記録媒体の一例を示す模式図である。
【符号の説明】
１，２１ 第１基板（第１の基板）
２，２２ 第１記録層（第１の色素含有記録層）
３，２３ 半透明反射層（第１の反射層）
４ 中間樹脂層（中間層）
５，２５ 第２記録層（第２の色素含有記録層）
６，２６ 反射層（第２の反射層）
７ 接着層
８，２７ 第２基板（第２の基板）
２８ バッファー層（中間層）
１１，１２，３１ 凸部からなる記録トラック
２４ 透明接着層（中間層）
３２ 凹部からなる記録トラック
３０ａ，３０ｂ，３０ａ′，３０ｂ′，４０ａ，４０ｂ 所定領域
【発明の属する技術分野】
本発明は、光記録媒体、光記録媒体の膜厚測定方法、膜厚制御方法、製造方法、膜厚測定装置及び膜厚制御装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
現在、ＣＤ−Ｒ，ＣＤ−ＲＷ，ＭＯ等の各種光記録媒体は、大容量の情報を記憶でき、ランダムアクセスが容易であるために、コンピュータのような情報処理装置における外部記憶装置として広く認知され普及しつつある。さらに取り扱う情報量の増大により、記憶密度を高めることが望まれている。
【０００３】
種々の光記録媒体の中でもＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒなど、有機色素を含む記録層（色素含有記録層ともいう）を有する光ディスクは比較的安価で、且つ、再生専用の光ディスクとの互換性を有するため、特に広く用いられている。
一例として、有機色素を含む記録層を有する光ディスクとして代表的なＣＤ−Ｒなどの媒体は、透明ディスク基板上に色素含有記録層と反射層とをこの順に有し、これらの記録層や反射層を覆う保護層を有する積層構造であり、基板を通してレーザ光にて記録・再生を行なうものである。
【０００４】
同じく代表的な片面型ＤＶＤ−Ｒは、第１の透明ディスク基板上に色素含有記録層、反射層、これらを覆う保護層をこの順に有し、さらに保護層の上に接着層を介して或いは介さずに、第２の透明ディスク基板上に反射層を形成したいわゆるダミーディスクを設けた積層構造であり、第１の透明ディスク基板を通してレーザ光にて記録・再生を行なうものである。ダミーディスクは透明ディスク基板のみであっても良いし、反射層以外の層を設けていても良い。
【０００５】
これら光記録媒体の記録容量を更に大容量化するための１つの手段として、１枚の媒体に記録層を複数、例えば２層（デュアルレイヤ）設けることが挙げられる。また、この場合、２つの記録層を片面から記録・再生ができるようにすることが利便性の上で望まれており、例えば図６に示すような光記録媒体が開発されている（例えば特許文献１参照）。
【０００６】
すなわち、従来の光記録媒体は図６に示すように、第一の透光性基板５上に、記録用レーザ光の照射により光学的に情報が記録し得る有機色素からなる第一の情報記録層１２と、再生用レーザ光の一部を透過し得る半透光性反射膜で構成された反射層１３と、前記記録用レーザ光及び再生用レーザ光に対して透光性を有する中間層１１と、記録用レーザ光の照射により光学的に情報が記録し得る有機色素からなる第二の情報記録層１２′と、再生用レーザ光を反射する第二の反射層１３′と、第二の透光性基板５′とがこの順に積層されて構成されている。
【０００７】
このような構成により、光記録媒体の片面側から第一の情報記録層１２及び第二の情報記録層１２′に情報を記録することが可能になり、再生時にも、いわゆるデュアルレイヤタイプの光記録媒体として片面側から信号を読み取ることが可能となっている。
また、このような積層構造を有する光記録媒体の製造方法としては、例えば、第一の透光性基板５上に第一の情報記録層１２，第一の反射層１３，中間層１１，第二の情報記録層１２′，第二の反射層１３′をこの順に形成し、最後に第二の透光性基板５′を接着することで製造する方法（タイプ１）と、第一の透光性基板５上に第一の情報記録層１２，第一の反射層１３をこの順に形成して第一の構成物を作製する一方、第二の透光性基板５′上に第二の反射層１３′，第二の情報記録層１２′をこの順に形成して第二の構成物を作製し、中間層１１を介して第一の構成物の第一の反射層１３と第２の構成物の第二の情報記録層１２′とが対向するように貼り合わせることで製造する方法（タイプ２）とが考えられる。
【０００８】
【特許文献１】
特開平１１−６６６２２号公報
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、光記録媒体において良好な特性を得るためには、記録層の膜厚を精密にコントロールすることが重要となる。膜厚を測定する方法は種々知られているが、反射法に比べて簡便且つ安価であるという点から、透過法を用いる場合が多い。
【００１０】
透過法は、一般的に、測定対象となる膜に光（例えば赤色レーザ，Ｈｅ−Ｎｅレーザ，Ｈｅ−Ｃｄレーザ等。好ましくは可視光）を照射して透過光量を測定し、入射光量と透過光量の比から透過率を導き出し、膜厚を算出する方法である。ただし、透過法であっても、光を入射すると一部は反射するので、媒体の光吸収率が小さい場合には、反射光量を測定することによって、透過光量を間接的に測定することも可能である。
【００１１】
例えばＣＤ−Ｒは、基板／色素含有記録層／反射層により構成されるが、基板上に色素含有記録層を塗布した後、透過法により色素含有記録層の膜厚を測定していた。そして、この膜厚が所望の膜厚になるように、塗布工程にフィードバックをかけていた。これはＤＶＤ−Ｒの膜厚制御でも同様である。
しかしながら、上述したデュアルレイヤの光記録媒体において、例えばタイプ１の製造方法により光記録媒体を製造する場合、第二の情報記録層１２′の下層に第一の反射層１３が存在しているので、第二の情報記録層１２′の膜厚を正確に測定することが困難であった。
【００１２】
また、タイプ２の製造方法により光記録媒体を製造する場合には、第二の透光性基板５′と第２の情報記録層１２′との間に第二の反射層１３′が存在しているので、上記と同様に第二の情報記録層１２′の膜厚を正確に測定することが困難であった。
このように、基板と記録層との間に反射層等が設けられた光記録媒体では、記録層の膜厚の測定が正確に行なえないので、この測定情報を塗布工程にフィードバックして次に製造される光記録媒体の記録層の膜厚を制御することが困難であった。
【００１３】
本発明は、このような課題に鑑み創案されたもので、基板と記録層との間に反射層等が設けられた光記録媒体において、透過法により前記記録層の膜厚を容易に測定できるようにした、光記録媒体、光記録媒体の膜厚測定方法、膜厚制御方法、製造方法、膜厚測定装置及び膜厚制御装置を提供することを目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
このため、本発明の光記録媒体（請求項１）は、光透過性の基板と、光学的に情報が記録され得る色素含有記録層との間に反射層をそなえ、該色素含有記録層の領域が、該反射層の領域よりも所定領域だけ広く形成されていることを特徴としている。
これにより、反射層に邪魔されることなく色素含有記録層の膜厚を透過法で測定できる。
【００１５】
本発明の光記録媒体（請求項２）は、光透過性の第１の基板と、該第１の基板上に、光学的に情報が記録され得る第１の色素含有記録層と、該第１の色素含有記録層上に第１の反射層と、該第１の反射層上に、光学的に情報が記録され得る第２の色素含有記録層と、該第２の色素含有記録層上に第２の反射層とをそなえ、該第２の色素含有記録層の領域が、該第１の色素含有記録層の領域及び該第１の反射層の領域よりも所定領域だけ広く形成されていることを特徴としている。なお、第２の反射層上に接着層を介して第２の基板をそなえてもよい。
これにより、第１の色素含有記録層及び第１の反射層に邪魔されることなく第２の色素含有記録層の膜厚を透過法で測定できる。
【００１６】
また、該第１の反射層と該第２の色素含有記録層との間に光透過性の中間層をそなえ、該所定領域において、該第１の基板と該中間層とが直接又は光透過性の層を介して接していることが好ましい（請求項３）。
【００１７】
本発明の光記録媒体（請求項４）は、光透過性の第１の基板と、該第１の基板上に、光学的に情報が記録され得る第１の色素含有記録層と、該第１の色素含有記録層上に第１の反射層と、該第１の反射層上に、光学的に情報が記録され得る第２の色素含有記録層と、該第２の色素含有記録層上に第２の反射層とをそなえ、該第２の色素含有記録層の領域が、該第２の反射層の領域よりも所定領域だけ広く形成されていることを特徴としている。
これにより、第２の反射層に邪魔されることなく第２の色素含有記録層の膜厚を透過法で測定できる。
【００１８】
また、該第２の反射層上に光透過性の第２の基板をそなえ、該所定領域において、該第２の基板と該第２の色素含有記録層とが直接又は光透過性の層を介して接していることが好ましい（請求項５）。
【００１９】
該基板はディスク状であり、該所定領域は、該基板の内周側及び／又は外周側に設けられていることが好ましい（請求項６）。
本発明の光記録媒体の膜厚測定方法（請求項７）は、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光記録媒体の膜厚測定方法であって、該色素含有記録層が形成された後、透過法により該所定領域における該色素含有記録層の膜厚を測定することを特徴としている。
【００２０】
本発明の光記録媒体の膜厚制御方法（請求項８）は、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光記録媒体の膜厚制御方法であって、該色素含有記録層が形成された後、透過法により該所定領域における該色素含有記録層の膜厚を測定し、この膜厚測定情報に基づいて、その後に積層される色素含有記録層の膜厚を制御することを特徴としている。
【００２１】
本発明の光記録媒体の製造方法（請求項９）は、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光記録媒体の製造方法であって、該色素含有記録層が形成された後、透過法により該所定領域における該色素含有記録層の膜厚を測定し、この膜厚測定情報に基づいて、その後に形成される色素含有記録層の膜厚を制御する工程を含んでいることを特徴としている。
【００２２】
本発明の光記録媒体の膜厚測定装置（請求項１０）は、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光記録媒体の膜厚測定装置であって、該色素含有記録層が形成された後、透過法により該所定領域における該色素含有記録層の膜厚を測定することを特徴としている。
本発明の光記録媒体の膜厚制御装置（請求項１１）は、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光記録媒体の膜厚制御装置であって、該色素含有記録層が形成された後、透過法により該所定領域における該色素含有記録層の膜厚を測定し、この膜厚測定情報に基づいて、その後に形成される色素含有記録層の膜厚を制御することを特徴としている。
【００２３】
【発明の実施の形態】
以下、図面により、本発明の実施の形態について説明する。なお、以下では、積層構造の異なる２つのタイプの光記録媒体について説明する。
〔Ａ〕第１実施形態
〔Ａ−１〕光記録媒体の構成
図１は本実施形態に係る光記録媒体（タイプ１）を示す模式的な断面図である。
【００２４】
本実施形態に係るタイプ１の光記録媒体は、ディスク状の透明な（光透過性の）第１基板（第１の基板）１上に、色素を含む第１記録層（第１の色素含有記録層）２、半透明の反射層（以下、半透明反射層という。第１の反射層）３、中間樹脂層（中間層）４、色素を含む第２記録層（第２の色素含有記録層）５、反射層（第２の反射層）６、接着層７、第２基板（第２の基板）８をこの順に有してなる。光ビームは第１基板１側から照射され、記録・再生が行われる。
【００２５】
なお、本発明において「光透過性（又は透明）」とは、透過法による膜厚測定（これについては後述する）において用いられる光の波長に対する光透過性（λ１光透過性という）と、光記録媒体の記録・再生を行なう際に用いられる光の波長に対する光透過性（λ２光透過性という）との２つの光透過性を意味する。また、上記の膜厚測定光の波長及び記録再生光の波長について５０％以上、好ましくは６０％以上の透過性があれば実質的に光透過性であるといえる。
【００２６】
第１基板１、中間樹脂層４上にはそれぞれ凹凸が形成され、それぞれ記録トラックを構成する。記録トラックは凸部及び凹部のどちらでも良いが、一般には、第１基板１上の記録トラック１１は、光の入射方向に対して凸部で構成され、中間樹脂層４上の記録トラック１２も、光の入射方向に対して凸部で構成される場合が多い。この他に必要に応じ凹凸ピットを有することもある。特に断らない限り、本発明において凹凸は記録・再生に用いる光の入射方向に対して定義される。
【００２７】
次に、各層について説明する。
（１）第１基板１について
第１基板１は、λ１光透過性及びλ２光透過性の両方の光透過性を有している必要があるほか複屈折率が小さいなど光学特性に優れることが望ましい。また射出成形が容易であるなど成形性に優れることが望ましい。さらに、吸湿性が小さいと反り等を低減することができ、望ましい。
【００２８】
更に、光記録媒体がある程度の剛性を有するよう、形状安定性を備えるのが望ましい。但し第２基板８が十分な形状安定性を備えていれば、第１基板１は形状安定性が大きくなくても良い。
このような材料としては、例えばアクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン系樹脂（特に非晶質ポリオレフィン）、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂からなるもの、ガラスからなるものを用いることができる。或いは、ガラス等の基体上に、光硬化樹脂等の放射線硬化樹脂からなる樹脂層を設けたもの等も使用できる。
【００２９】
なお、光学特性、成形性などの高生産性、コスト、低吸湿性、形状安定性などの点からはポリカーボネートが好ましい。耐薬品性、低吸湿性などの点からは、非晶質ポリオレフィンが好ましい。また、高速応答性などの点からは、ガラス基板が好ましい。
第１基板１は薄い方が好ましく、通常厚さは２ｍｍ以下が好ましく、より好ましくは１ｍｍ以下である。対物レンズと記録層の距離が小さく、また、基板が薄いほどコマ収差が小さい傾向があり、記録密度を上げやすい。但し光学特性、吸湿性、成形性、形状安定性を十分得るためにはある程度の厚みが必要であり、通常１０μｍ以上が好ましく、より好ましくは３０μｍ以上である。
【００３０】
本光記録媒体においては、第１記録層２及び第２記録層５の両方に良好に記録再生を行なうために、対物レンズと両記録層との距離を適宜調節することが望ましい。例えば、対物レンズの焦点が両記録層のほぼ中間地点となるようにすると、両記録層にアクセスしやすいので好ましい。
具体的に説明する。片面型ＤＶＤ−Ｒシステムにおいては、基板厚さ０．６ｍｍのときに対物レンズと記録層との距離が最適になるよう調節されている。
【００３１】
従って本層構成において片面型ＤＶＤ−Ｒ互換の場合は、第１基板１の厚さは、０．６ｍｍから、中間樹脂層４の膜厚の２分の１を減じた厚さであることが最も好ましい。このとき、両記録層のほぼ中間地点が約０．６ｍｍとなり、両記録層にフォーカスサーボがかけやすい。
なお、第２記録層５と半透明反射層３の間にバッファー層や保護層など他の層がある場合は、０．６ｍｍから、それらの層と中間樹脂層４の膜厚の和の２分の１を減じた厚さであることが最も好ましい。
【００３２】
第１基板１には凹凸が螺旋状又は同心円状に設けられ、溝及びランドを形成する。通常、このような溝及び／又はランドを記録トラックとして、第１記録層２に情報が記録・再生される。波長６５０ｎｍのレーザを開口数０．６から０．６５の対物レンズで集光して記録再生が行われるいわゆるＤＶＤ−Ｒディスクの場合、通常、第１記録層２は塗布形成されるので溝部で厚膜となり記録再生に適する。
【００３３】
本光記録媒体においては第１基板１の溝部、即ち光の入射方向に対して凸部を記録トラック１１とするのが好ましい。ここで、凹部、凸部はそれぞれ光の入射方向に対する凹部、凸部を言う。通常、溝幅は５０〜５００ｎｍ程度であり、溝深さは１０〜２５０ｎｍ程度である。また記録トラックが螺旋状である場合、トラックピッチは０．１〜２．０μｍ程度であることが好ましい。この他に必要に応じ、ランドプリピット等の凹凸ピットを有してもよい。
【００３４】
このような凹凸を有する基板は、コストの観点から、凹凸を持つスタンパから射出成形により製造するのが好ましい。ガラス等の基体上に光硬化樹脂等の放射線硬化樹脂からなる樹脂層を設ける場合は、樹脂層に記録トラックなどの凹凸を形成してもよい。
【００３５】
（２）第１記録層２について
第１記録層２は、通常ＣＤ−Ｒや片面型ＤＶＤ−Ｒ等に用いられる光記録媒体に用いる記録層より高感度である必要がある。本光記録媒体においては、入射した光ビームのパワーが半透明反射層３の存在等で２分され、第１記録層２の記録と第２記録層５の記録とに振り分けられるため、約半分のパワーで記録するために、特に感度が高い必要があるのである。
【００３６】
また、良好な記録再生特性を実現するためには低発熱で高屈折率な色素であることが望ましい。
更に、第１記録層２と半透明反射層３との組合せにおいて、光の反射、透過及び吸収を適切な範囲とすることが望ましい。記録感度を高くし、かつ記録時の熱干渉を小さくできる。
【００３７】
このような有機色素材料としては、大環状アザアヌレン系色素（フタロシアニン色素、ナフタロシアニン色素、ポルフィリン色素など）、ピロメテン系色素、ポリメチン系色素（シアニン色素、メロシアニン色素、スクワリリウム色素など）、アントラキノン系色素、アズレニウム系色素、含金属アゾ系色素、含金属インドアニリン系色素などが挙げられる。
【００３８】
上述の各種有機色素の中でも含金属アゾ系色素は、記録感度に優れ、かつ耐久性，耐光性に優れるため好ましい。特に下記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）
【００３９】
【化１】
（環Ａ１及びＡ２は、各々独立に置換基を有していてもよい含窒素芳香族複素環であり、環Ｂ１及びＢ２は、各々独立に置換基を有していてもよい芳香族環である。Ｘは、少なくとも２個のフッ素原子で置換されている炭素数１〜６のアルキル基である。）で表される化合物が好ましい。
本光記録媒体の記録層に使用される有機色素は、３５０〜９００ｎｍ程度の可視光〜近赤外域に最大吸収波長λｍａｘを有し、青色〜近マイクロ波レーザでの記録に適する色素化合物が好ましい。通常ＣＤ−Ｒに用いられるような波長７７０〜８３０ｎｍ程度の近赤外レーザや、ＤＶＤ−Ｒに用いられるような波長６２０〜６９０ｎｍ程度の赤色レーザ、あるいは波長４１０ｎｍや５１５ｎｍなどのいわゆるブルーレーザなどでの記録に適する色素がより好ましい。
【００４１】
色素は一種でもよいし、同じ種類のものや異なる種類のものを二種以上混合して用いても良い。さらに、上記複数の波長の記録光に対し、各々での記録に適する色素を併用して、複数の波長域でのレーザ光による記録に対応する光記録媒体とすることもできる。
【００４２】
また記録層は、記録層の安定や耐光性向上のために、一重項酸素クエンチャーとして遷移金属キレート化合物（例えば、アセチルアセトナートキレート、ビスフェニルジチオール、サリチルアルデヒドオキシム、ビスジチオ−α−ジケトン等）等や、記録感度向上のために金属系化合物等の記録感度向上剤を含有していても良い。ここで金属系化合物とは、遷移金属等の金属が原子、イオン、クラスター等の形で化合物に含まれるものを言い、例えばエチレンジアミン系錯体、アゾメチン系錯体、フェニルヒドロキシアミン系錯体、フェナントロリン系錯体、ジヒドロキシアゾベンゼン系錯体、ジオキシム系錯体、ニトロソアミノフェノール系錯体、ピリジルトリアジン系錯体、アセチルアセトナート系錯体、メタロセン系錯体、ポルフィリン系錯体のような有機金属化合物が挙げられる。金属原子としては特に限定されないが、遷移金属であることが好ましい。
【００４３】
さらに本光記録媒体の記録層には、必要に応じて、バインダー、レベリング剤、消泡剤等を併用することもできる。好ましいバインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ニトロセルロース、酢酸セルロース、ケトン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、ポリオレフィン等が挙げられる。
【００４４】
記録層の膜厚は、記録方法などにより適した膜厚が異なるため、特に限定するものではないが、十分な変調度を得るためには通常５ｎｍ以上が好ましく、より好ましくは１０ｎｍ以上であり、特に好ましくは２０ｎｍ以上である。但し、本光記録媒体においては適度に光を透過させるためには厚すぎない必要があるため、通常３μｍ以下であり、好ましくは１μｍ以下、より好ましくは２００ｎｍ以下である。記録層の膜厚は通常、溝部とランド部で異なるが、本光記録媒体において記録層の膜厚は基板の溝部における膜厚を言う。
【００４５】
記録層の成膜方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等一般に行われている薄膜形成法が挙げられるが、量産性、コスト面からはスピンコート法が好ましい。また厚みの均一な記録層が得られるという点からは、塗布法より真空蒸着法の方が好ましい。
スピンコート法による成膜の場合、回転数は１０〜１５０００ｒｐｍが好ましく、スピンコートの後、加熱あるいは溶媒蒸気にあてる等の処理を行っても良い。
【００４６】
ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等の塗布方法により記録層を形成する場合の塗布溶媒としては、基板を侵さない溶媒であればよく、特に限定されない。例えば、ジアセトンアルコール、３−ヒドロキシ−３−メチル−２−ブタノン等のケトンアルコール系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒；ｎ−ヘキサン、ｎ−オクタン等の鎖状炭化水素系溶媒；シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、ｎ−ブチルシクロヘキサン、ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキサン、シクロオクタン等の環状炭化水素系溶媒；テトラフルオロプロパノール、オクタフルオロペンタノール、ヘキサフルオロブタノール等のパーフルオロアルキルアルコール系溶媒；乳酸メチル、乳酸エチル、２−ヒドロキシイソ酪酸メチル等のヒドロキシカルボン酸エステル系溶媒等が挙げられる。
【００４７】
真空蒸着法の場合は、例えば有機色素と、必要に応じて各種添加剤等の記録層成分を、真空容器内に設置されたるつぼに入れ、真空容器内を適当な真空ポンプで１０−２〜１０−５Ｐａ程度にまで排気した後、るつぼを加熱して記録層成分を蒸発させ、るつぼと向き合って置かれた基板上に蒸着させることにより、記録層を形成する。
【００４８】
（３）半透明反射層３について
半透明反射層３は、記録再生光の吸収が小さく、光透過率が４０％以上あり、かつ適度な光反射率がある必要がある。例えば、反射率の高い金属を薄く設けることにより適度な透過率を持たせることができる。また、ある程度の耐食性があることが望ましい。更に、半透明反射層３の上層（ここでは中間樹脂層４）の浸み出しにより第１記録層２が影響されないよう遮断性を持つことが望ましい。
【００４９】
高透過率を確保するために、半透明反射層３の厚さは通常、５０ｎｍ以下が好適である。より好適には３０ｎｍ以下である。更に好ましくは２０ｎｍ以下である。但し、第１記録層２が半透明反射層３の上層により影響されないために、ある程度の厚さが必要であり、通常３ｎｍ以上とする。より好ましくは５ｎｍ以上とする。
【００５０】
半透明反射層３の材料としては、再生光の波長で反射率が適度に高いもの、例えば、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｔａ、Ｐｄ、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ及び希土類金属などの金属及び半金属を単独あるいは合金にして用いることが可能である。この中でもＡｕ、Ａｌ、Ａｇは反射率が高く半透明反射層３の材料として適している。これらを主成分とする以外に他成分を含んでいても良い。
【００５１】
なかでもＡｇを主成分としているものはコストが安い点、反射率が高い点から特に好ましい。ここで主成分とは含有率が５０％以上のものをいう。
半透明反射層３は膜厚が薄く、膜の結晶粒が大きいと再生ノイズの原因となるため、結晶粒が小さい材料を用いるのが好ましい。純銀は結晶粒が大きい傾向があるためＡｇは合金として用いるのが好ましい。
【００５２】
中でもＡｇを主成分とし、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕ及び希土類金属よりなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を０．１〜１５原子％含有することが好ましい。Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕ及び希土類金属のうち２種以上含む場合は、各々０．１〜１５原子％でもかまわないが、それらの合計が０．１〜１５原子％であることが好ましい。
【００５３】
特に好ましい合金組成は、Ａｇを主成分とし、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕよりなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を０．１〜１５原子％含有し、かつ少なくとも１種の希土類元素を０．１〜１５原子％含有するものである。希土類金属の中では、ネオジウムが特に好ましい。具体的には、ＡｇＰｄＣｕ、ＡｇＣｕＡｕ、ＡｇＣｕＡｕＮｄ、ＡｇＣｕＮｄなどである。
【００５４】
半透明反射層３としてはＡｕのみからなる層は結晶粒が小さく、耐食性に優れ好適である。ただし、Ａｇ合金に比べて高価である。
また、半透明反射層３としてＳｉからなる層を用いることも可能である。
金属以外の材料で低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形成し、反射層として用いることも可能である。
【００５５】
半透明反射層３を形成する方法としては、例えば、スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられる。また、第１基板１と第１記録層２との間、及び又は、第１記録層２と半透明反射層３との間、に反射率の向上、記録特性の改善、密着性の向上等のために公知の無機系または有機系の中間層、接着層を設けることもできる。
【００５６】
（４）中間樹脂層４について
中間樹脂層４は、λ１光透過性及びλ２光透過性の両方の光透過性を有している必要があるほか、凹凸により溝やピットが形成可能である必要がある。また接着力が高く、硬化接着時の収縮率が小さいと媒体の形状安定性が高く好ましい。
そして、中間樹脂層４は、第２記録層５にダメージを与えない材料からなることが望ましい。但し、中間樹脂層４は通常、樹脂からなるため第２記録層５と相溶しやすく、これを防ぎダメージを抑えるために両層の間に後述のバッファー層を設けることが望ましい。
【００５７】
さらに、中間樹脂層４は、半透明反射層３にダメージを与えない材料からなることが望ましい。但し、ダメージを抑えるために両層の間に後述のバッファー層を設けることもできる。
【００５８】
本光記録媒体において、中間樹脂層４の膜厚は正確に制御することが好ましい。中間樹脂層４の膜厚は、通常５μｍ以上が好ましい。２層の記録層に別々にフォーカスサーボをかけるためには両記録層の間にある程度の距離がある必要がある。フォーカスサーボ機構にもよるが、通常５μｍ以上、好ましくは１０μｍ以上が必要である。一般に、対物レンズの開口数が高いほどその距離は小さくてよい傾向がある。但しあまり厚いと２層の記録層にフォーカスサーボを合わせるのに時間を要し、また対物レンズの移動距離も長くなるため好ましくない。また硬化に時間を要し生産性が低下するなどの問題があるため、通常、１００μｍ以下が好ましい。
【００５９】
中間樹脂層４には凹凸が螺旋状又は同心円状に設けられ、溝及びランドを形成する。通常、このような溝及び／又はランドを記録トラックとして、第２記録層５に情報が記録・再生される。通常、第２記録層５は塗布形成されるので溝部で厚膜となり記録再生に適する。本光記録媒体においては中間樹脂層４の溝部、即ち光の入射方向に対して凸部を記録トラック１２とするのが好ましい。ここで、凹部、凸部はそれぞれ光の入射方向に対する凹部、凸部を言う。通常、溝幅は５０〜５００ｎｍ程度であり、溝深さは１０〜２５０ｎｍ程度である。また記録トラックが螺旋状である場合、トラックピッチは０．１〜２．０μｍ程度であることが好ましい。この他に必要に応じ、ランドプリピット等の凹凸ピットを有してもよい。
【００６０】
このような凹凸は、コストの観点から、凹凸を持つ樹脂スタンパ等から光硬化性樹脂などの硬化性樹脂に転写、硬化させて製造するのが好ましい。以下、このような方法を２Ｐ法（Ｐｈｏｔｏ Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ法）と称することがある。
中間樹脂層４の材料としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂（遅延硬化型を含む）等を挙げることができる。
【００６１】
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、これを塗布し、乾燥（加熱）することによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂は、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後にこの塗布液を塗布し、紫外光を照射して硬化させることによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂には様々な種類があり、λ１光透過性及びλ２光透過性を有していればいずれも用いうる。またそれらの材料を単独であるいは混合して用いても良いし、１層だけではなく多層膜にして用いても良い。
【００６２】
塗布方法としては、記録層と同様にスピンコート法やキャスト法等の塗布法等の方法が用いられるが、この中でもスピンコート法が好ましい。或いは、粘度の高い樹脂はスクリーン印刷等によっても塗布形成できる。紫外線硬化性樹脂は、生産性を２０〜４０℃において液状であるものを用いると、溶媒を用いることなく塗布でき好ましい。また、粘度は２０〜１０００ｍＰａ・ｓとなるように調製するのが好ましい。
【００６３】
さて、紫外線硬化性接着剤としては、ラジカル系紫外線硬化性接着剤とカチオン系紫外線硬化性接着剤があるが、いずれも使用可能である。
ラジカル系紫外線硬化性接着剤としては、公知の全ての組成物を用いることができ、紫外線硬化性化合物と光重合開始剤を必須成分として含む組成物が用いられる。紫外線硬化性化合物としては、単官能（メタ）アクリレートや多官能（メタ）アクリレートを重合性モノマー成分として用いることができる。これらは、各々、単独または２種類以上併用して用いることができる。ここで、本発明では、アクリレートとメタアクリレートとを併せて（メタ）アクリレートと称する。
【００６４】
本光記録媒体に使用できる重合性モノマーとしては例えば以下のものが挙げられる。単官能（メタ）アクリレートとしては例えば、置換基としてメチル、エチル、プロピル、ブチル、アミル、２−エチルヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、シクロヘキシル、ベンジル、メトキシエチル、ブトキシエチル、フェノキシエチル、ノニルフェノキシエチル、テトラヒドロフルフリル、グリシジル、２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシプロピル、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル、ジメチルアミノエチル、ジエチルアミノエチル、ノニルフェノキシエチルテトラヒドロフルフリル，カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル、イソボルニル，ジシクロペンタニル，ジシクロペンテニル，ジシクロペンテニロキシエチル等の如き基を有する（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００６５】
また、多官能（メタ）アクリレートとしては例えば、１，３−ブチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、トリシクロデカンジメタノール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール等のジ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートのジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール１モルに４モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ１モルに２モルのエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン１モルに３モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジまたはトリ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ１モルに４モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性アルキル化リン酸（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００６６】
また、重合性モノマーと同時に併用できるものとしては、重合性オリゴマーとしてポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート等がある。
更に、本光記録媒体に使用する光重合開始剤は、用いる重合性オリゴマーおよび／または重合性モノマーに代表される紫外線硬化性化合物が硬化できる公知のものがいずれも使用できる。光重合開始剤としては、分子開裂型または水素引き抜き型のものが本光記録媒体に好適である。
【００６７】
このような例としては、ベンゾインイソブチルエーテル、２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ベンジル、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド等が好適に用いられ、さらにこれら以外の分子開裂型のものとして、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オンおよび２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン等を併用しても良いし、さらに水素引き抜き型光重合開始剤である、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、イソフタルフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチル−ジフェニルスルフィド等も併用できる。
【００６８】
また光重合開始剤に対する増感剤として例えば、トリメチルアミン、メチルジメタノールアミン、トリエタノールアミン、ｐ−ジエチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミンおよび４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等の、前述重合性成分と付加反応を起こさないアミン類を併用することもできる。もちろん、上記光重合開始剤や増感剤は、紫外線硬化性化合物への溶解性に優れ、紫外線透過性を阻害しないものを選択して用いることが好ましい。
【００６９】
また、カチオン系紫外線硬化性接着剤としては公知のすべての組成物を用いることができ、カチオン重合型の光開始剤を含むエポキシ樹脂がこれに該当する。カチオン重合型の光開始剤としては、スルホニウム塩、ヨードニウム塩およびジアゾニウム塩等がある。
【００７０】
ヨードニウム塩の１例を示すと以下の通りである。ジフェニルヨードニウム ヘキサフルオロホスフェード、ジフェニルヨードニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウム テトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウム テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム ヘキサフルオロホスフェート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム テトラフルオロボレート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４−メチルフェニル−４−（１−メチルエチル）フェニルヨードニウム ヘキサフルオロホスフェート、４−メチルフェニル−４−（１−メチルエチル）フェニルヨードニウム ヘキサフルオロアンチモネート、４−メチルフェニル−４−（１−メチルエチル）フェニルヨードニウム テトラフルオロボレート、４−メチルフェニル−４−（１−メチルエチル）フェニルヨードニウム テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、などが挙げられる。
【００７１】
エポキシ樹脂は、ビスフェノールＡ−エピクロールヒドリン型、脂環式エポキシ、長鎖脂肪族型、臭素化エポキシ樹脂、グリシジルエステル型、グリシジルエーテル型、複素環式系等種々のものがいずれであってもかまわない。
エポキシ樹脂としては、反射層にダメージを与えないよう、遊離したフリーの塩素および塩素イオン含有率が少ないものを用いるのが好ましい。塩素の量が１重量％以下が好ましく、より好ましくは０．５重量％以下である。
【００７２】
カチオン型紫外線硬化性樹脂１００重量部当たりのカチオン重合型光開始剤の割合は通常、０．１〜２０重量部であり、好ましくは０．２〜５重量部である。なお、紫外線光源の波長域の近紫外領域や可視領域の波長をより有効に利用するため、公知の光増感剤を併用することができる。この際の光増感剤としては、例えばアントラセン、フェノチアジン、ベンジルメチルケタール、ベンゾフェノン、アセトフェノン等が挙げられる。
【００７３】
また、紫外線硬化性接着剤には、必要に応じてさらにその他の添加剤として、熱重合禁止剤、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、ホスファイト等に代表される酸化防止剤、可塑剤およびエポキシシラン、メルカプトシラン、（メタ）アクリルシラン等に代表されるシランカップリング剤等を、各種特性を改良する目的で配合することもできる。これらは、紫外線硬化性化合物への溶解性に優れたもの、紫外線透過性を阻害しないものを選択して用いる。
【００７４】
（５）第２記録層５について
第２記録層５は、通常ＣＤ−Ｒや片面型ＤＶＤ−Ｒ等に用いられる光記録媒体に用いる記録層より高感度である必要がある。本光記録媒体においては、入射した光ビームのパワーが半透明反射層３の存在等で２分され、第１記録層２の記録と第２記録層５の記録とに振り分けられるため、約半分のパワーで記録するために、特に感度が高い必要があるのである。
【００７５】
また、良好な記録再生特性を実現するためには低発熱で高屈折率な色素であることが望ましい。
更に、第２記録層５と反射層６との組合せにおいて、光の反射及び吸収を適切な範囲とすることが望ましい。記録感度を高くし、かつ記録時の熱干渉を小さくできる。
【００７６】
第２記録層５の材料、成膜方法等についてはほぼ第１記録層２と同様に説明されるため、異なる点のみ説明する。
第２記録層５の膜厚は、記録方法などにより適した膜厚が異なるため、特に限定するものではないが、十分な変調度を得るためには通常１０ｎｍ以上が好ましく、より好ましくは３０ｎｍ以上であり、特に好ましくは５０ｎｍ以上である。但し、適度な反射率を得るためには厚すぎない必要があるため、通常３μｍ以下であり、好ましくは１μｍ以下、より好ましくは２００ｎｍ以下である。
第１記録層２と第２記録層５とに用いる材料は同じでも良いし異なっていてもよい。
【００７７】
（６）反射層６について
反射層６は、高反射率である必要がある。また、高耐久性であることが望ましい。
高反射率を確保するために、反射層６の厚さは通常、２０ｎｍ以上が好適である。より好適には３０ｎｍ以上である。更に好ましくは５０ｎｍ以上である。但し、記録感度を上げるためにはある程度薄いことが好ましく、通常４００ｎｍ以下とする。より好ましくは３００ｎｍ以下とする。
【００７８】
反射層６の材料としては、再生光の波長で反射率の十分高いもの、例えば、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｔａ及びＰｄの金属を単独あるいは合金にして用いることが可能である。この中でもＡｕ、Ａｌ、Ａｇは反射率が高く反射層６の材料として適している。これらを主成分とする以外に他成分として下記のものを含んでいても良い。他成分の例としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ及び希土類金属などの金属及び半金属を挙げることができる。
【００７９】
中でもＡｇを主成分としているものはコストが安い点、高反射率が出やすい点、更に後で述べる印刷受容層を設ける場合には地色が白く美しいものが得られる点等から特に好ましい。ここで主成分とは含有率が５０％以上のものをいう。
反射層６は高耐久性（高耐食性）を確保するため、Ａｇは純銀よりもＡｇは合金として用いるのが好ましい。
【００８０】
中でもＡｇを主成分とし、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕ及び希土類金属よりなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を０．１〜１５原子％含有することが好ましい。Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕ及び希土類金属のうち２種以上含む場合は、各々０．１〜１５原子％でもかまわないが、それらの合計が０．１〜１５原子％であることが好ましい。
【００８１】
特に好ましい合金組成は、Ａｇを主成分とし、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕよりなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を０．１〜１５原子％含有し、かつ少なくとも１種の希土類元素を０．１〜１５原子％含有するものである。希土類金属の中では、ネオジウムが特に好ましい。具体的には、ＡｇＰｄＣｕ、ＡｇＣｕＡｕ、ＡｇＣｕＡｕＮｄ、ＡｇＣｕＮｄなどである。
【００８２】
反射層６としてはＡｕのみからなる層は高耐久性（高耐食性）が高く好適である。ただし、Ａｇ合金に比べて高価である。
金属以外の材料で低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形成し、反射層６として用いることも可能である。
反射層６を形成する方法としては、例えば、スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられる。また、反射層６の上下に反射率の向上、記録特性の改善、密着性の向上等のために公知の無機系または有機系の中間層、接着層を設けることもできる。
【００８３】
（７）接着層７について
接着層７は、λ１光透過性及びλ２光透過性を有している必要はないが、接着力が高く、硬化接着時の収縮率が小さいと媒体の形状安定性が高く好ましい。
また、接着層７は反射層６にダメージを与えない材料からなることが望ましい。但し、ダメージを抑えるために両層の間に公知の無機系または有機系の保護層を設けることもできる。
【００８４】
本光記録媒体において、接着層７の膜厚は、通常２μｍ以上が好ましい。所定の接着力を得るためにはある程度の膜厚が必要である。より好ましくは５μｍ以上である。但し光記録媒体をできるだけ薄くするために、また硬化に時間を要し生産性が低下するなどの問題があるため、通常、１００μｍ以下が好ましい。
接着層７の材料は、中間樹脂層４の材料と同様のものが用いうるほか、感圧式両面テープ等も使用可能である。感圧式両面テープを反射層６と第２基板８との間に挟んで押圧することにより、接着層７を形成できる。
【００８５】
（８）第２基板８について
第２基板８は、光記録媒体がある程度の剛性を有するよう、形状安定性を備えるのが望ましい。即ち機械的安定性が高く、剛性が大きいことが好ましい。また接着層７との接着性が高いことが望ましい。
上述のように第１基板１が十分な形状安定性を備えていない場合は、第２基板８は特に形状安定性が高い必要がある。この点で吸湿性が小さいことが望ましい。但し第２基板８は透明である必要はない（即ち、λ１光透過性及びλ２光透過性を有している必要はない）。また第２基板８は鏡面基板で良く、凹凸を形成する必要はないので射出成形による転写性は必ずしも良い必要はない。
【００８６】
このような材料としては、第１基板１に用いうる材料と同じものが用い得るほか、例えば、Ａｌを主成分とした例えばＡｌ−Ｍｇ合金等のＡｌ合金基板や、Ｍｇを主成分とした例えばＭｇ−Ｚｎ合金等のＭｇ合金基板、シリコン、チタン、セラミックスのいずれかからなる基板やそれらを組み合わせた基板などを用いることができる。
【００８７】
なお、成形性などの高生産性、コスト、低吸湿性、形状安定性などの点からはポリカーボネートが好ましい。耐薬品性、低吸湿性などの点からは、非晶質ポリオレフィンが好ましい。また、高速応答性などの点からは、ガラス基板が好ましい。
光記録媒体に十分な剛性を持たせるために、第２基板８はある程度厚いことが好ましく、厚さは０．３ｍｍ以上が好ましい。但し薄いほうが記録再生装置の薄型化に有利であり、好ましくは３ｍｍ以下である。より好ましくは１．５ｍｍ以下である。
【００８８】
第２基板８は凹凸を持たない鏡面基板で良いが、生産しやすさの観点から、射出成型により製造するのが望ましい。
第１基板１と第２基板８の好ましい組合せの一例は、第１基板１と第２基板８とが同一材料からなり、厚さも同一である。剛性が同等でバランスが取れているので、環境変化に対しても媒体として変形しにくく好ましい。この場合、環境が変化したときの変形の程度や方向も両基板で同様であると好ましい。
【００８９】
他の好ましい組合せの一例は、第１基板１が０．１ｍｍ程度と薄く、第２基板８が１．１ｍｍ程度と厚いものである。対物レンズが記録層に近づきやすく記録密度を上げやすいため好ましい。このとき第１基板１はシート状であってもよい。
【００９０】
（９）その他の層について
上記積層構造において、必要に応じて任意の他の層を挟んでも良い。或いは媒体の最外面に任意の他の層を設けても良い。具体的には、半透明反射層３と中間樹脂層４との間、中間樹脂層４と第２記録層５との間、反射層６と接着層７との間、などに中間層としてのバッファー層を設けてもよい。
【００９１】
バッファー層は２つの層の混和を防止し、相溶を防ぐものである。バッファー層が混和現象を防止する以外の他の機能を兼ねていても良い。また必要に応じてさらに他の中間層を挟んでも良い。
バッファー層の材料は、第２記録層５や中間樹脂層４と相溶せず、かつ、λ１光透過性及びλ２光透過性を有している必要があり、公知の無機物及び有機物が用いうる。特性面からは、好ましくは無機物が用いられる。例えば、（１）金属又は半導体、（２）金属又は半導体の酸化物、窒化物、硫化物、酸硫化物、フッ化物又は炭化物、もしくは（３）非晶質カーボン、などが用いられる。中でも、λ１光透過性及びλ２光透過性を有する誘電体からなる層や、ごく薄い金属層（合金を含む）が好ましい。
【００９２】
具体的には、酸化珪素、特に二酸化珪素や、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化イットリウム等の酸化物；硫化亜鉛、硫化イットリウムなどの硫化物；窒化珪素などの窒化物；炭化珪素；酸化物とイオウとの混合物（酸硫化物）；および後述の合金などが好適である。また、酸化珪素と硫化亜鉛との３０：７０〜９０：１０程度（重量比）の混合物も好適である。また、イオウと二酸化イットリウムと酸化亜鉛との混合物（Ｙ２Ｏ２Ｓ−ＺｎＯ）も好適である。
【００９３】
金属や合金としては、銀、又は銀を主成分とし更にチタン、亜鉛、銅、パラジウム、及び金よりなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を０．１〜１５原子％含有するものが好適である。また、銀を主成分とし、少なくとも１種の希土類元素を０．１〜１５原子％含有するものも好適である。この希土類としては、ネオジウム、プラセオジウム、セリウム等が好適である。
【００９４】
その他、バッファー層作製時に記録層の色素を溶解しないようなものであれば樹脂層でも構わない。特に、真空蒸着やＣＶＤ法で作製可能な高分子膜が有用である。
バッファー層の厚さは２ｎｍ以上が好ましく、より好ましくは５ｎｍ以上である。バッファー層の厚さが過度に薄いと、上記の混和現象の防止が不十分となる虞がある。但し２０００ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは５００ｎｍ以下である。バッファー層が過度に厚いと、混和防止には不必要であるばかりでなく、光の透過率を低下させる恐れもある。また無機物からなる層の場合には成膜に時間を要し生産性が低下したり、膜応力が高くなったりする虞があり２００ｎｍ以下が好ましい。特に、金属の場合は光の透過率を過度に低下させるため、２０ｎｍ以下程度が好ましい。
【００９５】
また、記録層や反射層を保護するために保護層を設けても良い。保護層の材料としては、λ１光透過性及びλ２光透過性を有している必要があるが、記録層や反射層を外力から保護するものであれば特に限定されない。有機物質の材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂等を挙げることができる。また、無機物質としては、酸化ケイ素、窒化ケイ素、ＭｇＦ２、ＳｎＯ２等が挙げられる。
【００９６】
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、これを塗布、乾燥することによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂は、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後にこの塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂としては、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレートなどのアクリレート系樹脂を用いることができる。これらの材料は単独であるいは混合して用いても良いし、１層だけではなく多層膜にして用いても良い。
【００９７】
保護層の形成方法としては、記録層と同様にスピンコート法やキャスト法等の塗布法やスパッタ法や化学蒸着法等の方法が用いられるが、この中でもスピンコート法が好ましい。
保護層の膜厚は、一般に０．１〜１００μｍの範囲であるが、本光記録媒体においては、３〜５０μｍが好ましい。
【００９８】
更に、上記光記録媒体には、必要に応じて、記録・再生光の入射面ではない面に、インクジェット、感熱転写等の各種プリンタ、或いは各種筆記具にて記入（印刷）が可能な印刷受容層を設けてもよい。
或いは、本層構成の光記録媒体を２枚、第１基板１を外側にして貼合わせて、記録層を４層有する、より大容量媒体とすることもできる。
【００９９】
〔Ａ−２〕光記録媒体の製造方法
次に、本実施形態に係るタイプ１の光記録媒体の製造方法について図２を用いて説明する。なお、図２は本製造方法を説明するための工程図である。
まず、図２（ａ）に示すように、表面に凹凸で溝及びランド、プリピットが形成された第１基板１を、スタンパをもとに射出成形または２Ｐ法等により作製する。
【０１００】
次に、図２（ｂ）に示すように、少なくとも有機色素を溶媒に溶解させた塗布液を第１基板１の凹凸を有する側の表面にスピンコート等により塗布し、第１記録層２を成膜する。なお、このとき、図２（ｂ）に示すようにディスク（第１基板１）の内周側に第１記録層２を形成しない所定領域３０ａを設けるようにする。また、この所定領域３０ａの幅Ｗ１を、第１基板１の内周端部から例えば０．１ｍｍ〜５ｍｍ、好ましくは１ｍｍ程度で形成するのが良い。
【０１０１】
この後、図２（ｃ）に示すように、第１基板１の外周側を洗浄して第１記録層２を除去し、第１基板１が露出する所定領域３０ｂを形成する。また、このときの所定領域３０ｂの幅Ｗ２を、上記の領域３０ａと同様に、第１基板１の外周端部から例えば０．１ｍｍ〜５ｍｍ、好ましくは１ｍｍ程度で形成するのが良い。この所定領域３０ａ，３０ｂは、後述する膜厚測定時において第２記録層５の膜厚を容易に測定できるようにする目的で形成されている。
【０１０２】
第１記録層２を成膜した後、図２（ｄ）に示すように、第１基板１の内周側の領域３０ａ及び外周側の領域３０ｂにマスクを被せ、Ａｇ合金などをスパッタまたは蒸着することにより、第１記録層２上に半透明反射層３を成膜する。
その後、図２（ｅ）に示すように、所定領域３０ａ，３０ｂを含む第１基板１の表面全体に紫外線硬化性樹脂等をスピンコート等により塗布する。このとき、紫外線硬化性樹脂（後に中間樹脂層４となる）は、第１基板１の所定領域３０ａ，３０ｂにおいて第１基板１と直接接する。
【０１０３】
次に、型を用いて紫外線硬化性樹脂の表面に凹凸を形成する。型としては、生産性、コストなどの観点から、図２（ｆ）に示すように、樹脂からなるスタンパ１５を用いるのが好ましい。
樹脂スタンパ１５は中間樹脂層４となるべき樹脂に対して十分な剥離性を有していれば良い。透明である必要はないが、成形性が良く、形状安定性が良いことが望ましい。生産性及びコストの観点から、望ましくは、樹脂スタンパ１５は複数回の転写に使用可能であるのが望ましい。また、使用後のリサイクルが可能であることが望ましい。
【０１０４】
樹脂スタンパ１５は、図２（ｆ）に示すように樹脂基板１６上に１層以上のセパレート層１７を有しても良いし、樹脂基板１６のみから構成してもよいが、後者のほうが生産性やコストの観点から好ましい。
まず、上述の樹脂スタンパ１５とは凹凸が逆（ネガ）の金属製スタンパを用い、射出成形や２Ｐ法等により樹脂基板１６を作製する。
【０１０５】
樹脂基板１６は透明である必要はないが、成形性が良く、形状安定性が良いことが望ましい。このような材料としては、例えばアクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン系樹脂（特に非晶質ポリオレフィン）、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂からなるものが挙げられる。
【０１０６】
また、樹脂基板１６の厚さは、形状安定性及びハンドリングの容易さの点で、０．５ｍｍ以上とするのが望ましい。厚さの上限は特にないが、通常、３ｍｍ以下で十分である。
樹脂スタンパ１５が樹脂基板１６上に１層以上のセパレート層１７を有する構成であれば、樹脂基板１６はセパレート層１７との密着性が高い樹脂である必要があり、その他成形性などの高生産性、コスト、低吸湿性、形状安定性などの点からポリカーボネートが好ましい。
【０１０７】
セパレート層１７は中間樹脂層４を構成する樹脂との密着性が低く剥離性が高いことが望ましい。また、成膜されたときに樹脂基板１６の凹凸を忠実に反映した凹凸が形成されることが望ましい。
セパレート層１７の材料としては、中間樹脂層４の樹脂との剥離性の点から金属または合金が好ましく、通常、Ａｇ、Ａｕ、Ｃｕ、Ｐｔ及びＰｄから選ばれる金属またはそれらの合金が用いられる。
【０１０８】
セパレート層１７の厚さは、中間樹脂層４からの剥離性を確保するためにはある程度の膜厚が必要で、２ｎｍ以上とするのが好ましい。一方、基板の凹凸を忠実に反映するためには厚すぎないことが望ましく、通常、２００ｎｍ以下が好ましい。
樹脂スタンパ１５が樹脂基板１６のみからなる構成であれば、樹脂基板１６は中間樹脂層４を構成する樹脂との密着性が低く剥離性が高いことが望ましい。その他成形性などの高生産性、コスト、低吸湿性、形状安定性などの点から非晶質ポリオレフィンが好ましい。
【０１０９】
したがって、第１基板１上に紫外線硬化性樹脂等をスピンコート等により塗布した後、上述したような樹脂スタンパ１５を載置し、紫外線硬化性樹脂に凹凸を転写する。このとき、紫外線硬化性樹脂の膜厚が所定範囲になるように調節しつつ行なう。
そして、この状態で第１基板１側から紫外線を照射するなどして紫外線硬化性樹脂を硬化させ、十分硬化したところで樹脂スタンパ１５を剥離し、図２（ｇ）に示すように、表面に凹凸を有する中間樹脂層４を形成する。或いは紫外線を媒体の側面から照射することもできる。いずれにせよ、この紫外線により第１記録層１がダメージを受けないようにする必要がある。
【０１１０】
続いて、図２（ｈ）に示すように、少なくとも有機色素を溶媒に溶解させた塗布液をスピンコート等により中間樹脂層４表面（即ち、第１記録層２及び半透明反射層３の領域よりも所定領域だけ広い領域）に塗布し、第２記録層５を成膜する。
そして、図２（ｉ）に示すように、Ａｇ合金などをスパッタ、蒸着することにより第２記録層５上に反射層６を成膜する。
【０１１１】
その後、図２（ｊ）に示すように、ポリカーボネートを射出成形して得られた第２基板８としての鏡面基板を、接着層７を介して反射層６に貼り合わせる。これにより、光記録媒体の製造が完了する。
なお、接着層７は、不透明でも、表面が多少粗くてもよく、遅延硬化型の接着剤を問題なく使用できる。反射層６上に接着剤をスクリーン印刷等で塗布し、紫外線を照射してから第２基板８を載置し押圧して接着層７を形成できる。或いは、反射層６と第２基板８との間に感圧式両面テープを挟んで押圧することにより、接着層７を形成することもできる。
【０１１２】
〔Ａ−３〕光記録媒体の膜厚測定方法及び膜厚制御方法
本実施形態に係るタイプ１の光記録媒体では、公知の透過法を用いて第１記録層２及び第２記録層５の膜厚を測定することができる。良質な特性を有する光記録媒体を製造するにあたって、第１記録層２及び第２記録層５の膜厚制御をより正確に行なうことが重要である。
【０１１３】
第１記録層２については、図２（ｂ）に示すように第１基板１上に第１記録層２を成膜した後に、第１記録層２上面側から或いは第１基板１下面側から光（例えば赤色レーザ，Ｈｅ−Ｎｅレーザ，Ｈｅ−Ｃｄレーザ等。好ましくは可視光）を照射してその透過率の測定を行なえば、第１記録層２の上下側に反射層等の透過率の低い層がなんら存在しないので第１記録層２の膜厚を容易に測定することができる。
【０１１４】
また、第２記録層５については、図２（ｈ）に示すように中間樹脂層４上に第２記録層５を成膜した後に、第２記録層５上面側から或いは第１基板１下面側から光を照射してその透過率の測定を行なうことにより膜厚を測定できるが、このとき、光を図２（ｈ）に示す矢印の位置、即ち、所定領域３０ａ又は／及び３０ｂに照射する。この所定領域３０ａ，３０ｂの範囲では、第２記録層５の下層に、λ１光透過性を有する中間樹脂層４及び第１基板１のみ存在し、反射層等の透過率の低い層はなんら存在しないので、第２記録層５の膜厚も容易に測定することが可能である。
【０１１５】
このように、第２記録層５の領域が、第１記録層２の領域及び半透明反射層３の領域よりも所定領域だけ広く形成されることで、第１記録層２及び半透明反射層３に邪魔されることなく第２記録層５の膜厚を透過法で測定できる。
なお、所定領域３０ａ，３０ｂにおいて、中間樹脂層４と第１基板１との間、或いは第２記録層５と中間樹脂層４との間にバッファー層や保護層が存在していても、これらバッファー層や保護層はλ１光透過性を有しているので、上記と同様に第２記録層５の膜厚を容易に測定することが可能である。
【０１１６】
また、第１基板１の直径方向において複数点の膜厚測定を行なうことで、より正確な膜厚を求めることが可能となる。
なお、本実施形態では、第１基板１の内周側及び外周側の両方に所定領域を設けるように構成したが、内周側のみ或いは外周側のみに設けるように構成しても良い。
【０１１７】
また、上記の膜厚測定は、本光記録媒体を製造する製造装置内（即ち製造過程）において図示省略の膜厚測定装置により自動的に行なわれ、このとき測定された膜厚情報は、第１記録層２及び第２記録層５の膜厚を制御する膜厚制御装置（図示省略）にフィードバックされるようになっている。
【０１１８】
つまり、例えば膜厚測定装置により第１記録層２の膜厚が測定されると、この膜厚情報が膜厚制御装置に送信され、膜厚制御装置では、この膜厚情報に基づいて、第１記録層２形成用の塗布液の塗布量（または濃度）、温度、湿度、塗布液を塗布する時間、塗布液を塗布する際の第１基板１の回転数、第１基板１が最高回転数に到達するまでの時間等が調節されて、次のディスクの第１記録層２の膜厚が適切な膜厚になるように制御される。また、次のディスクの第２記録層５の膜厚制御も第１記録層２の膜厚制御と同様にして行なうことができる。もちろん、第１記録層２の膜厚情報に基づいて、第１記録層２よりも上側に積層される第２記録層５の膜厚を制御したり、また、３つ以上の複数の記録層を有する光記録媒体であって第２記録層５のさらに上側に記録層が積層される場合には、その記録層の膜厚を制御したりすることも可能である。
【０１１９】
〔Ｂ〕第２実施形態
〔Ｂ−１〕光記録媒体の構成
図３は本実施形態に係る光記録媒体（タイプ２）を示す模式的な断面図である。
本実施形態に係るタイプ２の光記録媒体は、ディスク状の透明な（光透過性の）第１基板（第１の基板）２１上に、色素を含む第１記録層（第１の色素含有記録層）２２、半透明の反射層（以下、半透明反射層という。第１の反射層）２３、透明接着層２４、バッファー層２８、色素を含む第２記録層（第２の色素含有記録層）２５、反射層（第２の反射層）２６、ディスク状の透明な第２基板（第２の基板）２７をこの順に有してなる。光ビームは第１基板２１側から照射され、記録・再生が行われる。
【０１２０】
なお、本発明において「光透過性（又は透明）」とは、透過法による膜厚測定（これについては後述する）において用いられる光の波長に対する光透過性（λ１光透過性という）と、光記録媒体の記録・再生を行なう際に用いられる光の波長に対する光透過性（λ２光透過性という）との２つの光透過性を意味する。また、上記の膜厚測定光の波長及び記録再生光の波長について５０％以上、好ましくは６０％以上の透過性があれば実質的に光透過性であるといえる。
【０１２１】
第１基板２１、第２基板２７上にはそれぞれ凹凸が形成され、それぞれ記録トラックを構成する。記録トラックは凸部及び凹部のどちらでも良いが、第１基板２１上の記録トラック３１は、光の入射方向に対して凸部で構成されるのが好ましく、第２基板２７上の記録トラック３２は、光の入射方向に対して凹部で構成されるのが好ましい。この他に必要に応じ凹凸ピットを有することもある。特に断らない限り、本実施形態において凹凸は記録・再生に用いる光の入射方向に対して定義される。
【０１２２】
次に、各層について説明する。
本実施形態に係る第１基板２１，第１記録層２２，半透明反射層２３，第２記録層２５，反射層２６はそれぞれ、第１実施形態に係る第１基板１，第１記録層２，半透明反射層３，第２記録層５，反射層６と略同様の構成である。
また、中間層としての透明接着層２４は、少なくともλ２光透過性を有している必要がある。そして、凹凸により溝やピットを形成する必要がないという以外は、第１実施形態における中間樹脂層４の構成と略同様の構成である。なお、本光記録媒体では、上記の溝やピットは後述する第２基板２７に形成されている。
【０１２３】
さらに、中間層としてのバッファー層２８は、第１実施形態において説明したバッファー層と略同様の構成である。なお、このバッファー層は必要に応じて形成するようにしても良い。
第２基板２７は、少なくともλ１光透過性を有している必要があるほか、光記録媒体がある程度の剛性を有するよう、形状安定性を備えるのが望ましい。即ち機械的安定性が高く、剛性が大きいことが好ましい。
【０１２４】
このような材料としては、例えばアクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン系樹脂（特に非晶質ポリオレフィン）、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂からなるもの、ガラスからなるものを用いることができる。
【０１２５】
第２基板２７には、凹凸が螺旋状又は同心円状に設けられ、溝及びランドを形成する。通常、このような溝及び／又はランドを記録トラックとして、第２記録層２５に情報が記録・再生される。通常、第２記録層２５は塗布形成されるので溝部で厚膜となり記録再生に適する。本光記録媒体においては第２基板２７の溝部、即ち光の入射方向に対して凹部を記録トラック３２とするのが好ましい。ここで、凹部、凸部はそれぞれ光の入射方向に対する凹部、凸部を言う。通常、溝幅は５０〜５００ｎｍ程度であり、溝深さは１０〜２５０ｎｍ程度である。また記録トラックが螺旋状である場合、トラックピッチは０．１〜２．０μｍ程度であることが好ましい。この他に必要に応じ、ランドプリピット等の凹凸ピットを有してもよい。
このような凹凸を有する第２基板２７は、コストの観点から、凹凸を持つスタンパから樹脂を用いて射出成形により製造するのが好ましい。ガラス等の基体上に光硬化性樹脂等の放射線硬化性樹脂からなる樹脂層を設ける場合は、樹脂層に記録トラックなどの凹凸を形成してもよい。
また、記録層や反射層を保護するために、第１実施形態で説明した保護層を設けても良い。保護層の材料としては、λ１光透過性及びλ２光透過性を有している必要があるが、記録層や反射層を外力から保護するものであれば特に限定されない。
【０１２６】
〔Ｂ−２〕光記録媒体の製造方法
次に、本実施形態に係るタイプ２の光記録媒体の製造方法について図４を用いて説明する。なお、図４は本製造方法を説明するための工程図である。
本光記録媒体は、第１基板２１上に、色素を含む第１記録層２２，半透明反射層２３をこの順に有する積層構造（第１の構成物）Ａを作製し、また、第２基板２７上に反射層２６，色素を含む第２記録層２５，バッファー層２８をこの順に有する積層構造（第２の構成物）Ｂを作製した後、両積層構造Ａ，Ｂを、互いに記録層２２，２５が内側にくるように（対向するように）して透明接着層２４を介して貼り合わせることで製造される。
【０１２７】
まず、図４（ａ）に示すように、表面に凹凸で溝及びランド、プリピットが形成された第１基板２１を、射出成形または２Ｐ法等により作製する。
次に、図４（ｂ）に示すように、少なくとも有機色素を溶媒に溶解させた塗布液を第１基板２１の凹凸を有する側の表面にスピンコート等により塗布し、第１記録層２２を成膜する。
【０１２８】
第１記録層２２を形成した後、図４（ｃ）に示すように、Ａｇ合金などをスパッタまたは蒸着することにより、第１記録層２２上に半透明反射層２３を成膜し、積層構造Ａとする。
一方、図４（ｄ）に示すように、表面に凹凸で溝及びランド、ピットが形成された第２基板２７を、射出成形または２Ｐ法等により作製する。
【０１２９】
そして、図４（ｅ）に示すように、第２基板２７の凹凸を有する側の表面に、Ａｇ合金などをスパッタ又は蒸着することにより反射層２６を成膜する。なお、このとき、図４（ｅ）に示すようにディスク（第２基板２７）の内周側及び外周側にマスクなどを被せて反射層２６を形成しない所定領域４０ａ，４０ｂを設けるようにする。また、この所定領域４０ａの幅Ｗ１０を、第２基板２７の内周端部から例えば０．１ｍｍ〜５ｍｍ、好ましくは１ｍｍ程度で形成するのが良く、所定領域４０ｂの幅Ｗ２０を、第２基板２７の外周端部から例えば０．１ｍｍ〜５ｍｍ、好ましくは１ｍｍ程度で形成するのが良い。この所定領域４０ａ，４０ｂは、後述する膜厚測定時において第２記録層５の膜厚を容易に測定できるようにする目的で形成されている。
【０１３０】
反射層２６を成膜した後、図４（ｆ）に示すように、反射層２６の領域よりも広い領域に、少なくとも有機色素を溶媒に溶解させた塗布液をスピンコート等により塗布し、第２記録層２５を成膜する。このとき、第２記録層２５は、第２基板２７の所定領域４０ａ，４０ｂにおいて第２基板２７と直接接する。
次いで、図４（ｇ）に示すように、誘電体などをスパッタすることによりバッファー層２８を成膜し、積層構造Ｂとする。
【０１３１】
そして、図４（ｈ）に示すように、積層構造Ａ上に透明接着層２４となる紫外線硬化性樹脂等の接着剤を塗布したのち積層構造Ｂを載置し、高速回転、押圧等により接着剤を全面に広げる。このとき、透明接着層２４の膜厚が所定範囲になるように調節しつつ行なう。その後、第１基板２１下面側から半透明反射層２３を介して紫外線を照射し、硬化接着させることでタイプ２の光記録媒体を製造できる。或いは紫外線を媒体の側面から照射することもできる。いずれにせよ、この紫外線により第１記録層２２がダメージを受けないように注意が必要である。
【０１３２】
また、積層構造Ａ，Ｂ間に感圧式両面テープを挟んで押圧することにより、接着層を形成することもできる。或いは、遅延硬化型の接着剤を使用し、積層構造Ａ上に接着剤をスクリーン印刷等で塗布し紫外線を照射してから積層構造Ｂを載置し押圧しても接着層を形成できる。但し、遅延硬化型接着剤は通常、不透明である場合が多い。
【０１３３】
〔Ｂ−３〕光記録媒体の膜厚測定方法及び膜厚制御方法
本実施形態に係るタイプ２の光記録媒体では、第１実施形態と同様に、公知の透過法を用いて第１記録層２２及び第２記録層２５の膜厚を測定することができる。
第１記録層２２については、図４（ｂ）に示すように第１基板２１上に第１記録層２２を成膜した後に、第１記録層２２上面側から或いは第１基板２１下面側から光（例えば赤色レーザ，Ｈｅ−Ｎｅレーザ，Ｈｅ−Ｃｄレーザ等。好ましくは可視光）を照射して第１記録層２２の透過率測定を行なえば、第１記録層２２の上下側に反射層等の透過率の低い層がなんら存在しないので第１記録層２２の膜厚を容易に測定することができる。
【０１３４】
また、第２記録層２５については、図４（ｆ）に示すように反射層２６上に第２記録層２５を成膜した後に、第２記録層２５上面側から或いは第２基板２７下面側から光を照射して第２記録層２５の透過率測定を行なうことにより膜厚を測定できるが、このとき、光を図４（ｆ）に示す矢印の位置、即ち、所定領域４０ａ又は／及び４０ｂに照射する。この所定領域４０ａ，４０ｂの範囲では、図４（ｆ）に示す第２記録層２５の下層にはλ１光透過性を有する第２基板２７のみ存在し、反射層等の透過率の低い層はなんら存在しないので、第２記録層２５の膜厚を容易に測定することが可能である。
【０１３５】
このように、第２記録層２５の領域が、第２反射層２６の領域よりも所定領域だけ広く形成されることで、第２反射層２６に邪魔されることなく第２記録層２６の膜厚を透過法で測定できる。
なお、所定領域４０ａ，４０ｂにおいて、第２基板２７と第２記録層２５との間にバッファー層や保護層が存在していても、これらバッファー層や保護層はλ１光透過性を有しているので、上記と同様に第２記録層２５の膜厚を容易に測定することが可能である。
【０１３６】
また、第２基板２７の直径方向において複数点の膜厚測定を行なうことで、より正確な膜厚を求めることが可能となる。
なお、本実施形態では、第２基板２７の内周側及び外周側の両方に所定領域を設けるように構成したが、内周側のみ或いは外周側のみに設けるように構成しても良い。
【０１３７】
また、上記の膜厚測定は、本光記録媒体を製造する製造装置内（即ち製造過程）において図示省略の膜厚測定装置により自動的に行なわれ、このとき測定された膜厚情報は、第１記録層２２及び第２記録層２５の膜厚を制御する膜厚制御装置（図示省略）にフィードバックされるようになっている。
つまり、例えば膜厚測定装置により第１記録層２２の膜厚が測定されると、この膜厚情報が膜厚制御装置に送信され、膜厚制御装置では、この膜厚情報に基づいて、第１記録層２２形成用の塗布液の塗布量（または濃度）、温度、湿度、塗布液を塗布する時間、塗布液を塗布する際の第１基板２１の回転数、第１基板２１が最高回転数に到達するまでの時間等が調節されて、次のディスクの第１記録層２２の膜厚が適切な膜厚になるように制御される。また、次のディスクの第２記録層２５の膜厚制御も第１記録層２２の膜厚制御と同様にして行なうことができる。
【０１３８】
〔Ｃ〕その他
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記の実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。
【０１３９】
例えば、第１，２実施形態では、２つの記録層を有する光記録媒体について説明したが、光記録媒体が３つ以上の複数の記録層を有していても良い。この場合、第１実施形態に係るタイプ１の光記録媒体の製造方法により製造することが好ましい。例えば図５に示すように、第１実施形態に係る光記録媒体の第２記録層５と反射層６との間に半透明反射層３′，中間樹脂層４′，第３記録層５′を介装した積層構造とする。また、第２記録層５の膜厚測定のための所定領域３０ａ，３０ｂを設けるとともに、第３記録層５′の膜厚測定のための所定領域３０ａ′，３０ｂ′を設けるようにする。このとき、所定領域３０ａ′，３０ｂ′の幅がそれぞれ所定領域３０ａ，３０ｂの幅よりも小さくなるように形成することで、第３記録層５′の膜厚を容易に測定することができる。このように、３つ以上の複数の記録層を有する光記録媒体でも、上記のように所定領域を設けることで、透過法により各記録層の膜厚を製造過程において容易に測定することが可能となる。
【０１４０】
また、第１，２実施形態では、基板側からレーザ光を照射して情報の記録・再生を行なう基板入射型光ディスクについて説明したが、基板／反射層／記録層／保護層からなる積層構造を有し、保護層側（即ち、膜面側）からレーザ光を照射して情報の記録・再生を行なう膜面入射型光ディスクにおいても適用できる。
【０１４１】
【発明の効果】
以上詳述したように、請求項１記載の本発明の光記録媒体によれば、光透過性の基板と色素含有記録層との間に反射層が設けられた積層構造であっても、色素含有記録層の領域が反射層の領域よりも所定領域だけ広い領域に形成されているので、この所定領域において透過法により色素含有記録層の膜厚を容易に測定することができる。
【０１４２】
請求項２記載の本発明の光記録媒体によれば、第２の色素含有記録層の領域が、第１の色素含有記録層の領域及び第１の反射層の領域よりも所定領域だけ広く形成されているので、この所定領域において透過法により第２の色素含有記録層の膜厚を容易に測定することができる。
請求項３記載の本発明の光記録媒体によれば、所定領域において、第１の基板と中間層とが直接又は光透過性の層を介して接しているので、この所定領域において、透過法により第２の色素含有記録層の膜厚を容易に測定することができる。
【０１４３】
請求項４記載の本発明の光記録媒体によれば、第２の色素含有記録層の領域が、第２の反射層の領域よりも所定領域だけ広く形成されているので、この所定領域において透過法により第２の色素含有記録層の膜厚を容易に測定することができる。
請求項５記載の本発明の光記録媒体によれば、所定領域において、第２の基板と第２の色素含有記録層とが直接又は光透過性の層を介して接しているので、この所定領域において、透過法により第２の色素含有記録層の膜厚を容易に測定することができる。
【０１４４】
請求項６記載の本発明の光記録媒体によれば、所定領域が、基板の内周側及び／又は外周側に設けられているので、直径方向において複数点の膜厚測定を行なうことで、より正確な膜厚を求めることが可能である。
請求項７記載の本発明の光記録媒体の膜厚測定方法によれば、所定領域において、透過法により色素含有記録層の膜厚を容易に測定できる。
【０１４５】
請求項８記載の本発明の光記録媒体の膜厚制御方法によれば、所定領域において透過法により色素含有記録層の膜厚を測定し、この膜厚測定情報に基づいて、その後に形成される色素含有記録層の膜厚を制御するので、より正確な膜厚制御が可能である。
請求項９記載の本発明の光記録媒体の製造方法によれば、所定領域において透過法により色素含有記録層の膜厚を測定し、この膜厚測定情報に基づいて、その後に形成される色素含有記録層の膜厚を制御する工程を含んでいるので、より正確な膜厚制御が可能であり、良質な特性を有する光記録媒体を製造することができる。
【０１４６】
請求項１０記載の本発明の光記録媒体の膜厚測定装置によれば、所定領域において透過法により色素含有記録層の膜厚を容易に測定できる。
請求項１１記載の本発明の光記録媒体の膜厚制御装置によれば、所定領域において透過法により色素含有記録層の膜厚を測定し、この膜厚測定情報に基づいて、その後に形成される色素含有記録層の膜厚を制御するので、より正確な膜厚制御が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態としての光記録媒体（タイプ１）を示す模式図である。
【図２】本発明の第１実施形態としての光記録媒体（タイプ１）の製造方法を示す工程図である。
【図３】本発明の第２実施形態としての光記録媒体（タイプ２）を示す模式図である。
【図４】本発明の第２実施形態としての光記録媒体（タイプ２）の製造方法を示す工程図である。
【図５】本発明の第１実施形態としての光記録媒体（タイプ１）の変形例を示す模式図である。
【図６】従来の光記録媒体の一例を示す模式図である。
【符号の説明】
１，２１ 第１基板（第１の基板）
２，２２ 第１記録層（第１の色素含有記録層）
３，２３ 半透明反射層（第１の反射層）
４ 中間樹脂層（中間層）
５，２５ 第２記録層（第２の色素含有記録層）
６，２６ 反射層（第２の反射層）
７ 接着層
８，２７ 第２基板（第２の基板）
２８ バッファー層（中間層）
１１，１２，３１ 凸部からなる記録トラック
２４ 透明接着層（中間層）
３２ 凹部からなる記録トラック
３０ａ，３０ｂ，３０ａ′，３０ｂ′，４０ａ，４０ｂ 所定領域
Claims (11)
- 光透過性の基板と、光学的に情報が記録され得る色素含有記録層との間に反射層をそなえ、
該色素含有記録層の領域が、該反射層の領域よりも所定領域だけ広く形成されている
ことを特徴とする、光記録媒体。 - 光透過性の第１の基板と、
該第１の基板上に、光学的に情報が記録され得る第１の色素含有記録層と、
該第１の色素含有記録層上に第１の反射層と、
該第１の反射層上に、光学的に情報が記録され得る第２の色素含有記録層と、
該第２の色素含有記録層上に第２の反射層とをそなえ、
該第２の色素含有記録層の領域が、該第１の色素含有記録層の領域及び該第１の反射層の領域よりも所定領域だけ広く形成されている
ことを特徴とする、光記録媒体。 - 該第１の反射層と該第２の色素含有記録層との間に光透過性の中間層をそなえ、
該所定領域において、該第１の基板と該中間層とが直接又は光透過性の層を介して接している
ことを特徴とする、請求項２記載の光記録媒体。 - 光透過性の第１の基板と、
該第１の基板上に、光学的に情報が記録され得る第１の色素含有記録層と、
該第１の色素含有記録層上に第１の反射層と、
該第１の反射層上に、光学的に情報が記録され得る第２の色素含有記録層と、
該第２の色素含有記録層上に第２の反射層とをそなえ、
該第２の色素含有記録層の領域が、該第２の反射層の領域よりも所定領域だけ広く形成されている
ことを特徴とする、光記録媒体。 - 該第２の反射層上に光透過性の第２の基板をそなえ、
該所定領域において、該第２の基板と該第２の色素含有記録層とが直接又は光透過性の層を介して接している
ことを特徴とする、請求項４記載の光記録媒体。 - 該基板はディスク状であり、該所定領域は、該基板の内周側及び／又は外周側に設けられている
ことを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載の光記録媒体。 - 請求項１〜６のいずれか１項に記載の光記録媒体の膜厚測定方法であって、
該色素含有記録層が形成された後、透過法により該所定領域における該色素含有記録層の膜厚を測定する
ことを特徴とする、光記録媒体の膜厚測定方法。 - 請求項１〜６のいずれか１項に記載の光記録媒体の膜厚制御方法であって、
該色素含有記録層が形成された後、透過法により該所定領域における該色素含有記録層の膜厚を測定し、この膜厚測定情報に基づいて、その後に積層される色素含有記録層の膜厚を制御する
ことを特徴とする、光記録媒体の膜厚制御方法。 - 請求項１〜６のいずれか１項に記載の光記録媒体の製造方法であって、
該色素含有記録層が形成された後、透過法により該所定領域における該色素含有記録層の膜厚を測定し、この膜厚測定情報に基づいて、その後に形成される色素含有記録層の膜厚を制御する工程を含んでいる
ことを特徴とする、光記録媒体の製造方法。 - 請求項１〜６のいずれか１項に記載の光記録媒体の膜厚測定装置であって、
該色素含有記録層が形成された後、透過法により該所定領域における該色素含有記録層の膜厚を測定する
ことを特徴とする、光記録媒体の膜厚測定装置。 - 請求項１〜６のいずれか１項に記載の光記録媒体の膜厚制御装置であって、
該色素含有記録層が形成された後、透過法により該所定領域における該色素含有記録層の膜厚を測定し、この膜厚測定情報に基づいて、その後に形成される色素含有記録層の膜厚を制御する
ことを特徴とする、光記録媒体の膜厚制御装置。
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