JP2004207756A - ドライエッチング装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】内部にプラズマ発生用の上部電極21および下部電極23を具え、かつ内部を真空に保持した状態で、被エッチング材Aに対してドライエッチングを行う真空処理室20aと、この真空処理室に隣接して設けられ、内部を真空に保持してある予備室とを具えたドライエッチング装置において、真空処理室の内部、上部電極および下部電極のそれぞれを、温度調節するための手段30、40a、40bを設ける。
【選択図】 図2
Description
11:第1予備室
13、17a、17b:バルブ
15:第2予備室
20a:第1真空処理室
20b:第2真空処理室
21:上部電極 23:下部電極
25:高周波電源 27:グラウンド
29:側壁 30:第1温度調節手段
31:ヒーター 33:第1温度センサー
35:温度コントローラー
37:熱交換器(チラー)
39a:第1熱媒体循環路
39b:第2熱媒体循環路
40a:第2温度調節手段
40b:第3温度調節手段
41a:第2温度センサー
41b:第3温度センサー
Claims (6)
- 上部電極と下部電極とを設け、該上部電極及び該下部電極間にプラズマを発生させることにより、該下部電極上に設けた被エッチング材をエッチングする真空処理室を有し、
前記真空処理室の側壁はアルミ材を用いて構成され、
前記側壁を介して伝導された該真空処理室内の温度を検出するセンサと、
前記検出に基づいて前記真空処理室内を加熱するヒータとを備えたことを特徴とするドライエッチング装置。 - 前記センサの検出に基づいて前記ヒータを制御する温度コントローラを備えたことを特徴とする請求項1記載のドライエッチング装置。
- 前記上部電極に熱を伝えるための第1熱媒体循環路と
前記下部電極に熱を伝えるための第2熱媒体循環路とを備えたことを特徴とする請求項2記載のドライエッチング装置。 - 前記上部電極の前記第1熱媒体循環路の循環路内に設けられ、循環している熱媒体の温度を検出する第2のセンサと、
前記下部電極の前記第2熱媒体循環路の循環路内に設けられ、循環している熱媒体の温度を検出する第3のセンサとを備えたことを特徴とする請求項3記載のドライエッチング装置。 - 前記第1熱媒体循環路と前記第2熱媒体循環路と接続し、前記第2及び第3のセンサの検出に基づいて、該第1及び第2熱媒体循環路に前記熱媒体を供給することにより、前記上部電極及び前記下部電極をそれぞれ一定温度に調整する熱交換器を備えたことを特徴とする請求項4記載のドライエッチング装置。
- 前記センサは、前記真空処理室の前記側壁の内部に埋め込まれ、該側壁から露出されていないことを特徴とする請求項1記載のドライエッチング装置。
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WO2017012187A1 (zh) * | 2015-07-21 | 2017-01-26 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种干法刻蚀机台及其使用方法 |
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2004
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