JP2004207311A - 半導体装置及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】生産効率の高い半導体装置及びその製造方法を提供することにある。
【解決手段】半導体装置の製造方法は、リード12を有する基板10に電極22を有する半導体チップ20を載せてリード12と電極22とを接触させた後に、基板10と半導体チップ20との間に熱硬化性樹脂40を注入すること、及び、少なくとも熱を加えて、リード12と電極22とを金属接合することを含み、金属接合するための熱を利用して、熱硬化性樹脂40の少なくとも一部を硬化させる。
【選択図】 図2
【解決手段】半導体装置の製造方法は、リード12を有する基板10に電極22を有する半導体チップ20を載せてリード12と電極22とを接触させた後に、基板10と半導体チップ20との間に熱硬化性樹脂40を注入すること、及び、少なくとも熱を加えて、リード12と電極22とを金属接合することを含み、金属接合するための熱を利用して、熱硬化性樹脂40の少なくとも一部を硬化させる。
【選択図】 図2
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体装置及びその製造方法に関する。
【0002】
【発明の背景】
従来、基板に形成されたリードと半導体チップの電極とを接触させることを含む半導体装置の製造方法においては、リードと電極とを結合させた後に樹脂を硬化させる工程を行うことが一般的であった。しかしながら、リードと電極とを結合させる工程と樹脂を硬化させる工程とを同時に行うことができれば、半導体装置の生産効率を高めることができる。
【0003】
本発明の目的は、生産効率の高い半導体装置及びその製造方法を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】
(1)本発明に係る半導体装置の製造方法は、
リードを有する基板に電極を有する半導体チップを載せて、前記リードと前記電極とを接触させた後に、
前記基板と前記半導体チップとの間に熱硬化性樹脂を注入すること、及び、
少なくとも熱を加えて、前記電極と前記リードとを金属接合すること、を含み、
前記熱を利用して、前記熱硬化性樹脂の少なくとも一部を硬化させる。本発明によれば、リードと半導体チップの電極とを結合させるための熱によって、熱硬化性樹脂の少なくとも一部を硬化させる。これによれば、リードと電極とを結合させる工程と樹脂を硬化させる工程の少なくとも一部とを同時に行うことができるため、効率よく半導体装置を製造することができる。
(2)この半導体装置の製造方法において、
前記リードと前記電極とを圧接した状態で、前記熱硬化性樹脂を注入してもよい。これによれば、リードと電極との間に樹脂が入り込むことを防止することができるため、信頼性の高い半導体装置を製造することができる。
(3)この半導体装置の製造方法において、
ボンディングツールによって前記半導体チップを押圧して、前記リードと前記電極とを圧接してもよい。これによれば、半導体チップを押圧しながらリードと電極とを結合させることができるため、リードと電極との間に樹脂が入り込むことを防止することができ、信頼性の高い半導体装置を製造することができる。
(4)この半導体装置の製造方法において、
前記熱硬化性樹脂を吸引器によって吸引しながら、前記基板と前記半導体チップとの間に前記熱硬化性樹脂を注入してもよい。これによれば、樹脂を短時間で基板と半導体チップとの間に注入することができるため、生産効率を高めることができる。
(5)本発明に係る半導体装置は、上記半導体装置の製造方法によって製造されてなる。
【0005】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。ただし、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではない。
【0006】
図1〜図3は、本発明を適用した実施の形態に係る半導体装置の製造方法を説明するための図である。
【0007】
はじめに、複数のリード12を有する基板10を用意する(図1参照)。基板10は有機系又は無機系のいずれの材料であってもよく、これらの複合構造からなるものであってもよい。基板10として、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)からなる基板又はフィルムを使用してもよい。あるいは、基板10としてポリイミド樹脂からなるフレキシブル基板を使用してもよい。フレキシブル基板としてFPC(Flexible Printed Circuit)や、TAB(Tape AutomatedBonding)技術で使用されるテープを使用してもよい。
【0008】
図1に示すように、基板10は長尺状のものを使用してもよい。長尺状の基板10は、両端部がリールに巻き取られて半導体装置の製造工程を行う、リール・トゥ・リールの工程に使用するものであってもよい。なお、本実施の形態に係る半導体装置の製造方法は、リール・トゥ・リールの工程において行ってもよい。
【0009】
リード12は、例えば、銅(Cu)、クローム(Cr)、チタン(Ti)、ニッケル(Ni)、チタンタングステン(Ti−W)のいずれかの一層で、あるいは、これらのいずれかを積層して形成してもよい。リード12は、銅箔等の金属箔を図示しない接着剤を介してベース基板10に貼り付けて、フォトリソグラフィを適用した後にエッチングして形成してもよい。あるいは、接着剤なしで、リード12を基板10に形成してもよい。例えばスパッタリング等によって、リード12を形成してもよい。あるいは、無電解メッキでリード12を形成するアディティブ法を適用して、リード12を形成してもよい。また、リード12の一部は、ランド部14となっていてもよい。ランド部は14、電気的な接続を確保する機能を有している。なお、基板10にはメッキリード16が形成されてもよい。メッキリード16を有する場合、全てのリード12を1つの工程でメッキすることができるため、生産効率を高めることができる。
【0010】
次に、基板10に半導体チップ20を載せて、リード12と電極22とを接触させる。リード12のランド部14と電極22とを接触させてもよい。図2に示すように、基板10の一部をステージ30で支持した状態で、基板10に半導体チップ20を載せてもよい。半導体チップ20には集積回路が形成されてもよい。半導体チップ20の平面形状は矩形であることが一般的であるが、これに限定されるものではない。半導体チップ20の一方の面には、複数の電極22が形成されてもよい。電極22は、半導体チップ20の面の少なくとも1辺(多くの場合、2辺又は4辺)に沿って並んでいてもよい。また、電極22は、半導体チップ20の端部に並んでいてもよく、中央に並んでいてもよい。各電極22は、アルミニウムなどで薄く平らに形成されたパッドと、その上に形成されたバンプとから形成されてもよい。バンプは電解メッキ又は無電解メッキで形成してもよいし、ワイヤーボンディングによって形成されるボールバンプであってもよい。バンプが形成されない場合、パッドを電極22としてもよい。電極22の少なくとも一部を避けて、半導体チップ20にはパッシベーション膜(図示せず)が形成されてもよい。パッシベーション膜は、例えば、SiO2、SiN、ポリイミド樹脂などで形成してもよい。
【0011】
リード12と電極22とを接触させた後に、少なくとも熱を加えて、リード12と電極22とを金属接合してもよい。ボンディングツール32によって半導体チップ20に熱を加えて、リード12及び電極22に熱を加えてもよい。すなわち、半導体チップ20を介して電極22に熱を加えて、リード12と電極22とを金属接合してもよい。熱を加えるとともに、圧力を加え、あるいは超音波を加えて、リード12と電極22とを金属接合してもよい。ボンディングツール32によって、半導体チップ20に熱を加えるとともに、半導体チップ20を基板10の方向へ押圧して、リード12と電極22とを金属接合してもよい。
【0012】
リード12と電極22とを接触させた後に、基板10と半導体チップ20との間に熱硬化性樹脂40を注入してもよい。すなわち、リード12と電極22とを接触させた状態で、基板10と半導体チップ20との間に熱硬化性樹脂40を注入してもよい。熱硬化性樹脂40は絶縁性のものであってもよい。図2に示すように、ディスペンサ42によって、熱硬化性樹脂40を基板10と半導体チップ20との間に注入してもよい。なお、リード12と電極22とを圧接した状態で、熱硬化性樹脂40を注入してもよい。これによれば、リード12と電極22との間に熱硬化性樹脂40が入り込むことを防止することができるため、電気的な接続信頼性の高い半導体装置を製造することができる。ボンディングツール32によって半導体チップ20を基板10の方向へ押圧して、リード12と電極22とを圧接してもよい。また、吸引器によって熱硬化性樹脂40を吸引しながら、基板10と半導体チップ20との間に熱硬化性樹脂40を注入してもよい。これによると、熱硬化性樹脂40を、短時間に基板10と半導体チップ20との間に充填させることができ、効率よく半導体装置を製造することができる。
【0013】
リード12と電極22とを金属接合するための熱によって、熱硬化性樹脂40の少なくとも一部を硬化させてもよい。電極12とリード22とを金属結合させるための熱を利用して熱硬化性樹脂40の少なくとも一部を硬化させることで、リード12と電極22とを金属接合する工程と樹脂を硬化させる工程の少なくとも一部とを同時に行うことができる。そのため、効率よく半導体装置を製造することができる。
【0014】
なお、必要があれば、後の工程によって、熱硬化性樹脂40をさらに硬化させてもよい。例えば、リフロー工程によって、熱硬化性樹脂40を硬化させてもよい。この場合でも、熱硬化性樹脂40の少なくとも一部はすでに硬化しているので、短時間で熱硬化性樹脂40の硬化を終了させることができ、効率よく半導体装置を製造することができる。
【0015】
次に、打ち抜き領域19で基板10を打ち抜く。打ち抜き領域19は、半導体チップ20よりも外側でもよい。打ち抜く形状は特に限定されないが、半導体チップ20の相似形としてもよい。打ち抜かれた後の基板を実装基板18と称してもよい。さらに、基板10(実装基板18)に外部端子となる導電材料50を設けてもよい。導電材料50は、図示しないスルーホールを介してリード12と電気的に接続されている。こうして、本実施の形態に係る半導体装置の製造方法によって、半導体装置1を製造することができる(図3参照)。
【0016】
図3に、本実施の形態に係る半導体装置の製造方法によって製造された半導体装置1を示す。半導体装置1は、複数のリード12を有する実装基板18を有する。半導体装置1は、複数の電極22を有する半導体チップ20を有する。半導体チップ1は、封止部44を有する。半導体装置1は、導電材料50を有する。
【0017】
なお、本発明は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、本発明は、実施の形態で説明した構成と実質的に同一の構成(例えば、機能、方法及び結果が同一の構成、あるいは目的及び結果が同一の構成)を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明を適用した実施の形態に係る半導体装置の製造方法を示す図である。
【図2】本発明を適用した実施の形態に係る半導体装置の製造方法を示す図である。
【図3】本発明を適用した実施の形態に係る半導体装置の製造方法によって製造された半導体装置を示す図である。
【符号の説明】
10 基板、 12 リード、 20 半導体チップ、 22 電極、
40 熱硬化性樹脂
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体装置及びその製造方法に関する。
【0002】
【発明の背景】
従来、基板に形成されたリードと半導体チップの電極とを接触させることを含む半導体装置の製造方法においては、リードと電極とを結合させた後に樹脂を硬化させる工程を行うことが一般的であった。しかしながら、リードと電極とを結合させる工程と樹脂を硬化させる工程とを同時に行うことができれば、半導体装置の生産効率を高めることができる。
【0003】
本発明の目的は、生産効率の高い半導体装置及びその製造方法を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】
(1)本発明に係る半導体装置の製造方法は、
リードを有する基板に電極を有する半導体チップを載せて、前記リードと前記電極とを接触させた後に、
前記基板と前記半導体チップとの間に熱硬化性樹脂を注入すること、及び、
少なくとも熱を加えて、前記電極と前記リードとを金属接合すること、を含み、
前記熱を利用して、前記熱硬化性樹脂の少なくとも一部を硬化させる。本発明によれば、リードと半導体チップの電極とを結合させるための熱によって、熱硬化性樹脂の少なくとも一部を硬化させる。これによれば、リードと電極とを結合させる工程と樹脂を硬化させる工程の少なくとも一部とを同時に行うことができるため、効率よく半導体装置を製造することができる。
(2)この半導体装置の製造方法において、
前記リードと前記電極とを圧接した状態で、前記熱硬化性樹脂を注入してもよい。これによれば、リードと電極との間に樹脂が入り込むことを防止することができるため、信頼性の高い半導体装置を製造することができる。
(3)この半導体装置の製造方法において、
ボンディングツールによって前記半導体チップを押圧して、前記リードと前記電極とを圧接してもよい。これによれば、半導体チップを押圧しながらリードと電極とを結合させることができるため、リードと電極との間に樹脂が入り込むことを防止することができ、信頼性の高い半導体装置を製造することができる。
(4)この半導体装置の製造方法において、
前記熱硬化性樹脂を吸引器によって吸引しながら、前記基板と前記半導体チップとの間に前記熱硬化性樹脂を注入してもよい。これによれば、樹脂を短時間で基板と半導体チップとの間に注入することができるため、生産効率を高めることができる。
(5)本発明に係る半導体装置は、上記半導体装置の製造方法によって製造されてなる。
【0005】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。ただし、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではない。
【0006】
図1〜図3は、本発明を適用した実施の形態に係る半導体装置の製造方法を説明するための図である。
【0007】
はじめに、複数のリード12を有する基板10を用意する(図1参照)。基板10は有機系又は無機系のいずれの材料であってもよく、これらの複合構造からなるものであってもよい。基板10として、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)からなる基板又はフィルムを使用してもよい。あるいは、基板10としてポリイミド樹脂からなるフレキシブル基板を使用してもよい。フレキシブル基板としてFPC(Flexible Printed Circuit)や、TAB(Tape AutomatedBonding)技術で使用されるテープを使用してもよい。
【0008】
図1に示すように、基板10は長尺状のものを使用してもよい。長尺状の基板10は、両端部がリールに巻き取られて半導体装置の製造工程を行う、リール・トゥ・リールの工程に使用するものであってもよい。なお、本実施の形態に係る半導体装置の製造方法は、リール・トゥ・リールの工程において行ってもよい。
【0009】
リード12は、例えば、銅(Cu)、クローム(Cr)、チタン(Ti)、ニッケル(Ni)、チタンタングステン(Ti−W)のいずれかの一層で、あるいは、これらのいずれかを積層して形成してもよい。リード12は、銅箔等の金属箔を図示しない接着剤を介してベース基板10に貼り付けて、フォトリソグラフィを適用した後にエッチングして形成してもよい。あるいは、接着剤なしで、リード12を基板10に形成してもよい。例えばスパッタリング等によって、リード12を形成してもよい。あるいは、無電解メッキでリード12を形成するアディティブ法を適用して、リード12を形成してもよい。また、リード12の一部は、ランド部14となっていてもよい。ランド部は14、電気的な接続を確保する機能を有している。なお、基板10にはメッキリード16が形成されてもよい。メッキリード16を有する場合、全てのリード12を1つの工程でメッキすることができるため、生産効率を高めることができる。
【0010】
次に、基板10に半導体チップ20を載せて、リード12と電極22とを接触させる。リード12のランド部14と電極22とを接触させてもよい。図2に示すように、基板10の一部をステージ30で支持した状態で、基板10に半導体チップ20を載せてもよい。半導体チップ20には集積回路が形成されてもよい。半導体チップ20の平面形状は矩形であることが一般的であるが、これに限定されるものではない。半導体チップ20の一方の面には、複数の電極22が形成されてもよい。電極22は、半導体チップ20の面の少なくとも1辺(多くの場合、2辺又は4辺)に沿って並んでいてもよい。また、電極22は、半導体チップ20の端部に並んでいてもよく、中央に並んでいてもよい。各電極22は、アルミニウムなどで薄く平らに形成されたパッドと、その上に形成されたバンプとから形成されてもよい。バンプは電解メッキ又は無電解メッキで形成してもよいし、ワイヤーボンディングによって形成されるボールバンプであってもよい。バンプが形成されない場合、パッドを電極22としてもよい。電極22の少なくとも一部を避けて、半導体チップ20にはパッシベーション膜(図示せず)が形成されてもよい。パッシベーション膜は、例えば、SiO2、SiN、ポリイミド樹脂などで形成してもよい。
【0011】
リード12と電極22とを接触させた後に、少なくとも熱を加えて、リード12と電極22とを金属接合してもよい。ボンディングツール32によって半導体チップ20に熱を加えて、リード12及び電極22に熱を加えてもよい。すなわち、半導体チップ20を介して電極22に熱を加えて、リード12と電極22とを金属接合してもよい。熱を加えるとともに、圧力を加え、あるいは超音波を加えて、リード12と電極22とを金属接合してもよい。ボンディングツール32によって、半導体チップ20に熱を加えるとともに、半導体チップ20を基板10の方向へ押圧して、リード12と電極22とを金属接合してもよい。
【0012】
リード12と電極22とを接触させた後に、基板10と半導体チップ20との間に熱硬化性樹脂40を注入してもよい。すなわち、リード12と電極22とを接触させた状態で、基板10と半導体チップ20との間に熱硬化性樹脂40を注入してもよい。熱硬化性樹脂40は絶縁性のものであってもよい。図2に示すように、ディスペンサ42によって、熱硬化性樹脂40を基板10と半導体チップ20との間に注入してもよい。なお、リード12と電極22とを圧接した状態で、熱硬化性樹脂40を注入してもよい。これによれば、リード12と電極22との間に熱硬化性樹脂40が入り込むことを防止することができるため、電気的な接続信頼性の高い半導体装置を製造することができる。ボンディングツール32によって半導体チップ20を基板10の方向へ押圧して、リード12と電極22とを圧接してもよい。また、吸引器によって熱硬化性樹脂40を吸引しながら、基板10と半導体チップ20との間に熱硬化性樹脂40を注入してもよい。これによると、熱硬化性樹脂40を、短時間に基板10と半導体チップ20との間に充填させることができ、効率よく半導体装置を製造することができる。
【0013】
リード12と電極22とを金属接合するための熱によって、熱硬化性樹脂40の少なくとも一部を硬化させてもよい。電極12とリード22とを金属結合させるための熱を利用して熱硬化性樹脂40の少なくとも一部を硬化させることで、リード12と電極22とを金属接合する工程と樹脂を硬化させる工程の少なくとも一部とを同時に行うことができる。そのため、効率よく半導体装置を製造することができる。
【0014】
なお、必要があれば、後の工程によって、熱硬化性樹脂40をさらに硬化させてもよい。例えば、リフロー工程によって、熱硬化性樹脂40を硬化させてもよい。この場合でも、熱硬化性樹脂40の少なくとも一部はすでに硬化しているので、短時間で熱硬化性樹脂40の硬化を終了させることができ、効率よく半導体装置を製造することができる。
【0015】
次に、打ち抜き領域19で基板10を打ち抜く。打ち抜き領域19は、半導体チップ20よりも外側でもよい。打ち抜く形状は特に限定されないが、半導体チップ20の相似形としてもよい。打ち抜かれた後の基板を実装基板18と称してもよい。さらに、基板10(実装基板18)に外部端子となる導電材料50を設けてもよい。導電材料50は、図示しないスルーホールを介してリード12と電気的に接続されている。こうして、本実施の形態に係る半導体装置の製造方法によって、半導体装置1を製造することができる(図3参照)。
【0016】
図3に、本実施の形態に係る半導体装置の製造方法によって製造された半導体装置1を示す。半導体装置1は、複数のリード12を有する実装基板18を有する。半導体装置1は、複数の電極22を有する半導体チップ20を有する。半導体チップ1は、封止部44を有する。半導体装置1は、導電材料50を有する。
【0017】
なお、本発明は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、本発明は、実施の形態で説明した構成と実質的に同一の構成(例えば、機能、方法及び結果が同一の構成、あるいは目的及び結果が同一の構成)を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明を適用した実施の形態に係る半導体装置の製造方法を示す図である。
【図2】本発明を適用した実施の形態に係る半導体装置の製造方法を示す図である。
【図3】本発明を適用した実施の形態に係る半導体装置の製造方法によって製造された半導体装置を示す図である。
【符号の説明】
10 基板、 12 リード、 20 半導体チップ、 22 電極、
40 熱硬化性樹脂
Claims (5)
- リードを有する基板に電極を有する半導体チップを載せて、前記リードと前記電極とを接触させた後に、
前記基板と前記半導体チップとの間に熱硬化性樹脂を注入すること、及び、
少なくとも熱を加えて、前記リードと前記電極とを金属接合すること、を含み、
前記熱を利用して、前記熱硬化性樹脂の少なくとも一部を硬化させる半導体装置の製造方法。 - 請求項1記載の半導体装置の製造方法において、
前記リードと前記電極とを圧接した状態で、前記熱硬化性樹脂を注入する半導体装置の製造方法。 - 請求項2記載の半導体装置の製造方法において、
ボンディングツールによって前記半導体チップを押圧して、前記リードと前記電極とを圧接する半導体装置の製造方法。 - 請求項1から請求項3のいずれかに記載の半導体装置の製造方法において、
前記熱硬化性樹脂を吸引器によって吸引しながら、前記基板と前記半導体チップとの間に前記熱硬化性樹脂を注入する半導体装置の製造方法。 - 請求項1から請求項4のいずれかに記載の半導体装置の製造方法によって製造されてなる半導体装置。
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JP2007322749A (ja) * | 2006-06-01 | 2007-12-13 | Central Glass Co Ltd | 異種ファイバ融着接続部の補強構造 |
-
2002
- 2002-12-24 JP JP2002371554A patent/JP2004207311A/ja not_active Withdrawn
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