JP2004205741A - 光走査装置及び画像形成装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】温度変動まで考慮して、ビームスポット径の小径化を図り、なおかつ、高精度なビームスポット位置精度の確保が可能な低コストな光走査装置と、この光走査装置を適用した高画質な画像出力が可能な画像形成装置を得る。
【解決手段】光源と、光源からの光束を偏向する偏向器と、光源からの光束をカップリングするカップリングレンズと、カップリングレンズからの光束を偏向器に導く第1レンズと、偏向器により偏向された光束を被走査面上に集光する走査結像光学系とを有してなる光走査装置であって、第1レンズは、第1面と第2面のいずれかの面が主走査方向にパワーを有し、第2面の光軸は、第1面の光軸に対して偏心している。
【選択図】 図1
【解決手段】光源と、光源からの光束を偏向する偏向器と、光源からの光束をカップリングするカップリングレンズと、カップリングレンズからの光束を偏向器に導く第1レンズと、偏向器により偏向された光束を被走査面上に集光する走査結像光学系とを有してなる光走査装置であって、第1レンズは、第1面と第2面のいずれかの面が主走査方向にパワーを有し、第2面の光軸は、第1面の光軸に対して偏心している。
【選択図】 図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザビームプリンタ(LBP)、デジタル複写機、レーザファックス等に用いられる光走査装置と、この光走査装置を備えた画像形成装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
近年、LBPやデジタル複写機等の画像形成装置において、高画質化、高速化、カラー化が進み、ユーザが要求する品質も高まってきている。
高速化の要求に対しては、マルチビーム化が有効である。ただし、その際には複数のビーム間のピッチ調整が必要である。複数のビーム間のピッチ調整の方法としては、マルチビーム光源ユニットを光軸回りに回転する方法や、ピッチ調整用の光学素子を用いる方法がある(たとえば、特許文献1参照。)。
一方、高画質化の要求に対しては、ビームスポット径の小径化が必要であり、これまでもいくつかの方法が提案されている(たとえば、特許文献2,特許文献3,特許文献4参照。)。ただし、ビームスポット径を小径化する際には、特に画像形成装置や光走査装置が定着部やポリゴンスキャナ等多くの熱源を備えていることや、使用環境の温度変動に鑑みて、温度変動まで考慮したビームスポットの小径化が必要である。
【0003】
【特許文献1】
特開平9−131920号公報
【特許文献2】
特開平3−116112号公報
【特許文献3】
特開平5−19190号公報
【特許文献4】
特開2001−166237号公報
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、光源ユニットを光軸回りに回転させる従来例では、光源ユニットそのものを動かすため、電装部品の信頼性が問題になる。また、ピッチ調整用の光学素子を用いる従来例では、ガラス製の高精度な光学素子が必要となるためコストアップにつながる。
一方、ビームスポット径を高精度に初期調整したとしても、温度変動をはじめとする経時変化に伴い、ビームスポット位置ずれが発生してしまう。
【0005】
本発明は以上のような従来技術の問題点を解消するためになされたもので、温度変動まで考慮して、ビームスポット径の小径化を図り、なおかつ、高精度なビームスポット位置精度の確保が可能な低コストな光走査装置を提供することを目的とする。
【0006】
また本発明は、温度変動まで考慮して、ビームスポット径の小径化を図り、なおかつ、高精度なビームピッチ調整が可能な低コストなマルチビーム対応の光走査装置を提供することを目的とする。
【0007】
さらに本発明は、初期調整によるビームスポット径の補正が可能で、なおかつ、ビームスポット径の温度変動による変化が小さい光走査装置を提供することを目的とする。
【0008】
さらにまた本発明は、上記光走査装置を用いた高画質な画像出力が可能な画像形成装置を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
請求項1記載の発明は、光源と、光源からの光束を偏向する偏向器と、光源からの光束をカップリングするカップリングレンズと、カップリングレンズからの光束を偏向器に導く第1レンズと、偏向器により偏向された光束を被走査面上に集光する走査結像光学系とを有してなる光走査装置であって、第1レンズは、第1面と第2面のいずれかの面が主走査方向にパワーを有し、第2面の光軸は、第1面の光軸に対して偏心していることを特徴とする。
【0010】
請求項2記載の発明は、請求項1記載の発明において、主走査方向のパワーは、負のパワーであることを特徴とする。
【0011】
請求項3記載の発明は、請求項1または2記載の発明において、第1レンズは、主走査方向及び副走査方向に略垂直な軸を中心に回転調整可能になっていることを特徴とする。
【0012】
請求項4記載の発明は、請求項1乃至3のいずれかに記載の発明において、第1レンズは、光軸方向に移動調整可能になっていることを特徴とする。
【0013】
請求項5記載の発明は、請求項1乃至4のいずれかに記載の発明において、主走査方向にパワーを有する面は、共軸であることを特徴とする。
【0014】
請求項6記載の発明は、請求項5記載の発明において、主走査方向にパワーを有する面は、非球面形状であることを特徴とする。
【0015】
請求項7記載の発明は、請求項1乃至6のいずれかに記載の発明において、第1レンズまたは走査結像光学系に含まれる少なくとも1枚の走査光学素子は樹脂製であることを特徴とする。
【0016】
請求項8記載の発明は、複数の光源と、複数の光源からの光束を偏向する偏向器と、光源からの光束をカップリングするカップリングレンズと、カップリングレンズからの光束を偏向器に導く第1レンズと、偏向器からの光束を被走査面に集光する走査結像光学系とを有してなる光走査装置であって、複数の光源からの光束は、主走査方向に離れて第1レンズに入射し、第1レンズは、主走査方向及び副走査方向に略垂直な軸を中心に回転調整可能であり、第1レンズの第1面と第2面のいずれかの面がパワーを有する共軸面であり、第1レンズが主走査方向及び副走査方向に略垂直な軸を中心に回転したとき、共軸面でない他方の面は、複数の光源からの光束が通過する面の法線の副走査方向における開き角が相対的に変化することを特徴とする。
【0017】
請求項9記載の発明は、請求項8記載の発明において、パワーは負のパワーであり、第1レンズは樹脂製であることを特徴とする。
【0018】
請求項10記載の発明は、請求項8または9記載の発明において、共軸面でない他方の面は、法線が互いに異なる2つの平面により形成されることを特徴とする。
【0019】
請求項11記載の発明は、請求項10記載の発明において、2つの平面の法線は、偏向面内において、偏向器側に進むにしたがい互いに近づくことを特徴とする。
【0020】
請求項12記載の発明は、光源と、光源からの光束を偏向する偏向器と、光源からの光束をカップリングするカップリングレンズと、カップリングレンズからの光束を偏向器に導く第1レンズと、偏向器からの光束を被走査面に集光する走査結像光学系とを有してなる光走査装置であって、第1レンズは、光軸方向に調整可能であり、第1レンズは、負のパワーを有する共軸非球面レンズであり、第1レンズは、樹脂製レンズであることを特徴とする。
【0021】
請求項13記載の発明は、光走査装置から像担持体に光書込みを行い、電子写真法により、像担持体上に静電潜像を形成する装置であって、光書込装置は、請求項1乃至12のいずれかに記載の光走査装置であることを特徴とする。
【0022】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら本発明にかかる光走査装置及び画像形成装置の実施の形態について説明する。
先ず、本発明にかかる光走査装置について説明する。
【0023】
(第1の実施の形態)
図1は、本発明にかかる光走査装置の実施の形態を示す偏向回転面に平行な面内に展開した光学配置図である。
符号1は光源である半導体レーザ、6は半導体レーザ1からの光束を偏向する偏向器であるポリゴンミラー、2はカップリングレンズ、3はカップリングレンズ2からの光束をポリゴンミラー6に導く第1レンズ、4はシリンドリカルレンズ、5は防音ガラス、9は防塵ガラス、10は被走査面である感光体の表面、7と8はポリゴンミラー6からの光束を被走査面10に集光する走査結像光学系を構成する光学素子であるところの第1走査レンズと第2走査レンズ、11はアパーチャ、12は同期検知手段、を示している。
【0024】
半導体レーザ1は、画像信号に基づき変調駆動され、発散光束を射出する。図1には、半導体レーザ1は1ビームのみしか示していないが、本発明において、光源はモノリシックな半導体レーザアレイであっても良いし、複数の半導体レーザを合成して構成するようにしてもよい。
半導体レーザ1から射出された発散光束は、カップリングレンズ2により、以後の光学系に適したビーム形態にカップリングされる。なお、カップリングされた各光束は、同じビーム形態であり、「平行ビーム」とすることも「収束性もしくは発散性のビーム」とすることもできる。
【0025】
カップリングレンズ2を通過した光束は、被走査面10上でのビームスポット径を設定するためのアパーチャ11を介して第1レンズ3を通過する。第1レンズ3を通過した光束は、光束幅を規制され、シリンドリカルレンズ4によりポリゴンミラー6の偏向反射面近傍にて主走査方向の線像として結像する。
【0026】
ポリゴンミラー6は、図中の矢印方向に、図示しない駆動機構により略等速に回転していて、入射光束を等角速度的に偏向する。
半導体レーザ1から射出されてポリゴンミラー6で偏向された光束は、第1走査レンズ7と第2走査レンズ8を通過して被走査面10近傍に集光され、略等速的に被走査面10上を、図1の紙面上側から下に向かって光走査される。
ここで、被走査面10上を光束が走査する方向を主走査方向とし、主走査方向と直交する方向を副走査方向とする。
【0027】
ポリゴンミラー6及びこれを回転駆動するモータモータはケースに収納され、ケースに設けられた窓孔に防音ガラス5が配置されている。防音ガラス5は、ポリゴンミラー6による騒音を防止するために配備し、また、防塵ガラス9は、プラスチックケースなどに収納されて密封された光走査装置内に埃が入り込むのを防ぐために配備する。
【0028】
ポリゴンミラー6で偏向された光束は、被走査面10への入射に先立って、同期検知手段12により検出される。同期検知手段12は、光束を検知すると信号を発し、この信号が図示しない同期検知回路によって演算処理され、あるタイミングの後に、書込開始信号が発信される。「あるタイミング」とは、光束が同期検知手段12の検知位置から書込開始位置に至るまでの時間である。
【0029】
以下、半導体レーザ1とポリゴンミラー6との間に配備された第1レンズ3の特徴について説明する。
【0030】
先ず、第1レンズ3は、第1面と第2面のいずれかの面が主走査方向にパワーを有している。第1面とは、半導体レーザ1からの光束の入射面であり、第2面とは、半導体レーザ1からの光束の出射面である。ここでは、第1面が主走査方向にパワーを有し、第2面が平面とする。
また、第2面の光軸は、第1面の光軸に対して偏心、つまり傾いている。ここで、第2面が平面の場合には、その光軸は平面の法線と平行とする。
【0031】
第2面の光軸を、第1面の光軸に対して偏心させることで、以下の効果を得ることができる。
(1)第1レンズ3の第2面で反射された光束が、図4に示すように半導体レーザ1に戻らないので、第1レンズ3の戻り光(ゴースト光Q)により半導体レーザ1の出力が不安定にならない。
(2)回転調整により、ビームスポット位置調整が可能となる。
【0032】
また、第1レンズ3が主走査方向にパワーを有していることで、以下の効果を得ることができる。
(1)第1レンズ3を光軸方向、つまり図1の矢印方向に移動することで、光走査装置全系で主走査方向ビームウエスト位置調整が可能になり、他の光学素子の部品公差、取り付け公差を緩和することができる。
(2)主走査方向について安定した小径ビームスポットを獲得することができる。
(3)光利用効率を向上させ、あるいはビーム整形をすることも可能である。
【0033】
主走査方向にパワーを有する第1レンズ3の第1面は、光軸回りの回転方向の配置誤差や、主走査方向・副走査方向に略平行な軸回りに回転調整することによる光軸回りの回転方向の傾きに起因して生ずるビームスポット径の劣化を防止するため、共軸面であることが望ましい。ここで、共軸面とは、光軸を中心としてある軌跡を回転することにより得ることができる面のことである。
ただし、本発明においては、主走査方向にパワーを有する面が、必ずしも共軸でなくともよい。
【0034】
また、光走査装置内の温度が上昇すると、第1レンズ3が主走査方向に負のパワーを有するため、第1レンズ3により、主走査方向のビームウエスト位置は被走査面近傍から偏向反射面側にずれる。しかしながら、走査光学系により、主走査方向のビームウエスト位置は被走査面近傍から偏向反射面と反対側にずれる。すなわち、第1レンズ3によるビームウエスト位置のずれと、走査結像光学系によるビームウエスト位置のずれとが相殺され、主走査方向について安定した小径のビームスポットを獲得することができる。
【0035】
ここで、画像形成装置用の光走査装置では、ビーム(光束)が主走査方向に移動しながら被走査面10を露光するので、主走査方向の露光ビームは静止時の主走査ビームスポット径よりも太る。したがって、静止時のビームスポット径は副走査方向よりも主走査方向を小さく設定する必要があり、副走査方向に比べて、より温度変化によるビームウエスト位置変化の低減を図る必要がある。
また、近年、低コスト化や形状の自由度の広さから、走査結像光学系を構成する走査光学素子に樹脂製の光学素子を用いることが多く、そのため、温度上昇時のビームウエスト位置ずれが非常に大きくなる。
【0036】
このとき、少なくとも一面に負のパワーを有する第1レンズ3を樹脂製とすれば、温度補正効果が大きくなり、走査結像光学系に樹脂製の光学素子を用いても、安定した小径ビームスポットを獲得することができる。
また、第1レンズ3は、第2面の光軸が第1面の光軸に対して偏心しており、第1レンズ3を機械加工により1個ずつ研削・研磨して製作するのは困難である。そこで、第1レンズ3を樹脂製とすれば、成型用金型を製作しておき、あとは成形するだけでよいから、低コストで大量の生産が可能となる。
【0037】
図2は、第1レンズ3の断面図であり、(a)は光軸に平行な主走査断面図、(b)は光軸に垂直な副走査断面図である。
【0038】
第1レンズ3は、図2(a)に示すように、第1面の光軸A1と第2面の光軸A2が偏心している。したがって、第1レンズ3を主走査方向及び副走査方向に略垂直な軸を中心に回転調整可能とすることで、光軸の副走査方向の出射方向が変化する。ここで、「主走査方向及び副走査方向に略垂直な軸」とは、たとえば主走査方向及び副走査方向に垂直な軸から±20degの範囲内にあればよい。また、「調整可能」とは、部品(光学素子)を固定する際に突き当て等の基準が無いことを指す。
【0039】
また、図2(b)に示すように、第1レンズ3の側面の一部を円筒形状とし、第1レンズ3をハウジング30のV字型の受け部(V溝)30vに配備し、V溝30vをガイドとして第1レンズ3の円筒形状部分を移動させて調整し、回転調整後に接着することにより、高精度なビームスポット位置調整が可能となる。すなわち、たとえば、同期検知手段12に入る光束の高さ調整に用いることも可能であり、また、走査光学素子に入射する高さが変化することによるビームスポット径劣化を補正することもできる。
【0040】
さらに、マルチビーム光学系においては、複数の光源からの光束のそれぞれに第1レンズ3を挿入することで、被走査面におけるマルチビーム間の走査線のピッチ調整が可能になる。
【0041】
さらにまた、前述したように、副走査方向よりも主走査方向のビームスポット径を小さくする必要があるが、初期状態において、主走査ビームウエスト位置を最適に設定することは非常に重要である。
従来、シリンドリカルレンズ4を光軸方向に移動して副走査ビームウエスト位置を調整することは行われているが、主走査方向については、通常、光源ユニット単体(半導体レーザ1とカップリングレンズ2が一体化されたユニット単位)でピント位置調整するのが一般的であり、走査結像光学系等、光源ユニット以外で発生したビームウエスト位置を調整することはできない。
そこで、図2(b)に示すように、第1レンズ3をV溝30vに沿って光軸方向に移動調整可能となっているため、主走査方向のビームウエスト位置の最適化が可能になる。
【0042】
本発明に係る光走査装置について、以下、光学系データを示して説明する。
ここでは、半導体レーザ1の発振波長を655nm、カップリングレンズ2の焦点距離fを27mmとする。ただし、第2面は共軸非球面であり、数値は示さないがカップリングレンズ2による波面収差は良好に補正されている。
カップリングレンズ2から射出した光束は収束光束とし、カップリングレンズ2の第2面から被走査面側に304mm離れた位置に自然集光する。カップリングレンズ2の第2面から第1レンズ3の第1面までの距離は20mmである。
【0043】
第1レンズ3から被走査面10までの光学系データを図11に示す。図中、主走査方向の曲率半径をRm、副走査方向の曲率半径をRs、使用波長での屈折率をNとする。ここで、第1レンズ3の入射側と出射側を面番号1,面番号2、シリンドリカルレンズ4の入射側と出射側を面番号3,面番号4、ポリゴンミラー6の偏向反射面を面番号5、第1走査レンズ7の入射側と出射側を面番号6,面番号7、第2走査レンズ8の入射側と出射側を面番号8,面番号9、被走査面を面番号10とする。
なお、図11には、防音ガラス5と防塵ガラス9が示されていないが、実際には図1に示した位置に配備される。防音ガラス5と防塵ガラス9は、屈折率が1.514で、厚さが1.9mmである。
また、ポリゴンミラー6に対する平均入射角(有効書き込み幅相当のポリゴンミラー6の回転角最大値、回転角最小値の中間の回転角のときのポリゴンミラー6への入射角)は、29.225degである。
さらに、偏向面内において、第1レンズ3の第2面の光軸は、第1面の光軸に対して、1degほど傾いている。
【0044】
図11中、「*」で示される面は共軸非球面であり、下式で示される。
X={(Y^2)/R}/[1+√{1−(1+K)*(Y/R)^2}]+A・Y^4+B・Y^6+C・Y^8+D・Y^10 (式1)
ここで、Xは光軸方向の座標、Yは主走査方向の座標、Rは曲率半径、Kは円錐定数、A,B,C,Dは高次の係数である。
【0045】
面番号6の面の光学系データは、以下の通りである。
K=2.667
A=1.79E−07
B=−1.08E−12
C=−3.18E−14
D=3.74E−18
【0046】
面番号7の面の光学系データは、以下の通りである。
K=0.02
A=2.50E−07
B=9.61E−12
C=4.54E−15
D=−3.03E−18
【0047】
図11中、「**」で示される面(面番号8)は、主走査方向の形状が非円弧形状であり、副走査方向の曲率半径はレンズ高さにより連続的変化する。主走査形状は、(式1)で表すことができる。
【0048】
面番号8の面の光学系データは、以下の通りである。
K=−71.73
A=4.33E−08
B=−5.97E−13
C=−1.28E−16
D=5.73E−21
【0049】
副走査方向の曲率半径Rs(Y)は、次式で表すことができる。
Rs(Y)=Rs(0)+Σbj・Y^j (j=2,3,・・・12)
ただし、
RS(0)=−47.68
b2=1.60E−03
b4=−2.32E−07
b6=1.60E−11
b8=−5.61E−16
b10=2.18E−20
b12=−1.25E−24
である。
【0050】
ここで、奇数項は全て「0」であるが、当然、奇数項を用いてサグによる副走査像面湾曲をさらに補正してもかまわない。
第1レンズ3を主走査方向及び副走査方向に垂直な軸を中心に回転させると、以下に示すように被走査面10上における副走査方向のビームスポット位置が回転角に対してほぼ線形に変化する。したがって、高精度なビームスポット位置調整が可能になり、マルチビーム光学系においては高精度な走査線のピッチ間隔調整が可能になる。
【0051】
回転角(deg) 副走査方向ビームスポット位置変化量(μm)
1 22.4
2 44.9
3 67.3
4 89.7
5 112.0
【0052】
また、第1レンズ3を光軸方向に移動すると、被走査面10上での主走査ビームウエスト位置は、以下のように第1レンズ3の移動量に対してほぼ線形に移動する。したがって、高精度な主走査ビームウエスト位置調整が可能になり、小径かつ安定したビームスポット径が確保できる。なお、ここでは、第1レンズ3をポリゴンミラー6から遠ざかる方向に移動させている。
【0053】
第1レンズの移動量(mm) 主走査ビームウエスト位置変化量(mm)
0.1 0.06
0.2 0.119
0.3 0.179
0.4 0.238
0.5 0.298
【0054】
温度が、25℃から45℃に変化したときのビームウエスト位置変化を以下に示す。なお、半導体レーザ1の波長は、1℃の温度上昇により0.2mm大きくなる。また、半導体レーザ1とカップリングレンズ2は、線膨張係数2.3E−05(1/℃)のアルミ製のホルダにより一体化されている。ここで、カップリングレンズ2、シリンドリカルレンズ3の線膨張係数は、7.5E−06(1/℃)、樹脂製レンズの線膨張係数は、7.0E−05(1/℃)とする。
【0055】
また、各光学素子の屈折率は、以下のように変化する。
カップリングレンズ :1.6896 → 1.6895
シリンドリカルレンズ :1.5144 → 1.5142
樹脂製レンズ :1.5273 → 1.5254
【0056】
このときのビームウエスト位置変化は、以下のようになっている。
像高(mm) −150 0 150
主走査ビームウエスト位置変化(mm) 0.20 0.20 0.18
副走査ビームウエスト位置変化(mm) 0.90 1.01 0.91
【0057】
第1レンズによる温度補償効果を取り除いた場合を比較例として以下に示す。
像高(mm) −150 0 150
主走査ビームウエスト位置変化(mm) 0.89 1.05 0.86
副走査ビームウエスト位置変化(mm) 1.20 1.36 1.21
【0058】
上記の結果に示すように、第1レンズ3により、主走査および副走査ビームスポット位置は、ともに温度補償がなされていることがわかる。特に、主走査方向についての補正効果は大きいが、副走査方向についても補正効果が認められる。
【0059】
(第2の実施の形態)
次に、本発明にかかる光走査装置の別の実施の形態について説明する。
先の「第1の実施の形態」で説明したように、本発明にかかる光走査装置は、第1レンズ3の第1面と第2面の少なくともいずれかの面にパワーを持たせることで、前述の、多くの効果を得ることができる。
しかし、第1レンズ3の主走査方向にパワーを有する面を球面形状とすると、波面収差が劣化する。そこで、主走査方向にパワーを有する面を非球面形状とすることで、波面収差が良好になる。
【0060】
図11に示した面番号1の面(第1レンズ3の第1面)を、式1に基づき非球面形状とする(非球面化する)。
K=20
A=−1.5E−06
【0061】
図12は、主走査方向にパワーを有する面を非球面形状/球面形状とした場合の主走査ビームスポット径及びRMS波面収差を示す図表である。
図12に示すように、球面の場合でも、良好な主走査ビームスポット径が得られているが、非球面化することにより、主走査ビームスポット径はさらに小径化されている。
また、ビームスポット径の改善量はそれほど大きくないが、波面収差は約半分に低減しており、光学部品公差、取り付け公差に対する許容度は非常に大きくなり、更なるビームスポット小径化を行うとその差は顕著になる。
【0062】
上記、ビームスポット径を獲得するためのアパーチャは、
主走査方向:4.5mm
副走査方向:2mm
の矩形形状をしており、第1レンズ3に入射する光束の幅もほぼこれに等しい。このとき、各面の主走査方向における光束の最周辺での非球面変位量(球面形状からの非球面形状のずれ量のことで、光束の進む方向を正とする)をΔ1(第1面)、Δ2(第2面)とすると、
Δ1−Δ2=(−1.9E−04)−(0)=−1.9E−04(mm)<0
となる。このように、「Δ1−Δ2」を負とすることで、全系の波面収差を良好にすることができる。
【0063】
(第3の実施の形態)
次に、本発明にかかる光走査装置のさらに別の実施の形態について説明する。
図7は、本発明にかかる光走査装置を適用したタンデム対応のカラー画像形成装置の副走査断面図である。
各ステーションは、Y(イエロー),M(マゼンダ),C(シアン),K(ブラック)に対応する。また、各ステーションは、走査レンズ7x,8x、感光体ドラム10xを備える(x=Y,M,C,K)。なお、ポリゴンスキャナ6は、4つのステーションに共通である。
【0064】
このような多色対応の画像形成装置に適用する場合、光走査装置は、各感光体面上を露光するためのビームスポット位置を相対的に色間で高精度に合わせる必要がある。しかし、実際には経時的な変化や温度変化により、ビームスポット位置が変化してしまう。
そこで、図3に示すように、ステッピングモータ31を用いて、適時、第1レンズ3をレンズホルダ32に対して回転調整することで、相対的な色ずれの補正が可能となる。このとき、ビームスポット位置の検出は中間転写ベルト70等の画像をフォトセンサで検出しても良いし、あるいは、光走査装置内で同期検知手段を副走査方向の位置が検出できるように配置して(三角PDや非平行PDを用いる)、その信号に基づいて位置補正を行うようにしてもよい。
【0065】
なお、図3に示すような装置を図5に示すマルチビーム走査装置に適用して、走査線ピッチの補正を行うようにしてもよい。これにより、より高精度な走査線ピッチ間隔の制御が可能になり、高画質化が実現できる。
【0066】
(第4の実施の形態)
次に、本発明にかかる光走査装置のさらに別の実施の形態について説明する。
これまで説明した実施の形態は、1つの光源を用いる場合であったが、本実施の形態は、図8に示すように、複数の光源1,1’を用いる場合である。
カップリングレンズ2,2’を通過した複数の光束は、主走査方向に離れて第1レンズ3zに入射する。第1レンズ3zは、第1面が主走査方向にパワーを有するレンズ面である。また第2面は、法線が互いに異なる、つまり互いに偏向面内で傾いている2つの平面により形成されている。
【0067】
第1レンズ3zが主走査方向にパワーを有しているので、第1レンズ3zを光軸方向に移動することで、光走査装置全系で主走査方向ビームウエスト位置調整が可能になり、他の光学素子の部品公差、取り付け公差を緩和することができ、なおかつ、主走査方向について安定した小径ビームスポットを獲得することができる。
【0068】
また、パワーを有する共軸面を用いることにより、光利用効率を向上させ、また、ビーム整形をすることも可能である。このとき、第1レンズ3zは、主走査方向及び副走査方向に略垂直な軸を中心に回転調整可能となっており、回転調整することにより、複数の光束が通過する面の法線の副走査方向における開き角が相対的に変化する。このとき、複数の出射光束の副走査方向の開き角が相対的に変化し、半導体レーザ1,1’から射出した光束間の走査線ピッチを高精度に調整することが可能になる。
【0069】
さらに、パワーを有する面を共軸面とすることにより、回転調整しても、ビームスポット径の劣化をなくすことができる。
【0070】
さらにまた、マルチビームとすることで、偏向器の回転数を低減することができ、また、低騒音、低消費電力、高耐久を実現することができる。
【0071】
なお、本実施の形態では、第2面は2つの平面が互いに偏向面内で傾いているが、第2面を副走査方向にパワーを有するシリンドリカル面としても、主走査方向及び副走査方向に略垂直な軸を中心に第1レンズ3zを回転したときに、複数光束が通過する面の法線の副走査方向における開き角を相対的に変化させることもできる。
【0072】
また、第1レンズ3zを樹脂製とし、共軸面のパワーを負とすることで、前述のように、温度補償が可能になると共に、本実施の形態で示したような複雑な形状も一体成形により容易に生産することができる。また、共軸面のパワーを負とすることにより、半導体レーザ1,1’間の間隔、及びカップリングレンズ2,2’の間隔を広くとることができ、レイアウトの自由度が増すと共に、第1レンズ3zから出射した2光束の開き角を小さくすることができ、有効書き込み幅を広くするだけでなく、2光束の光学特性の差異を少なくすることができ、良好な光学特性を獲得することができる。
【0073】
さらに、第1レンズ3zの2つの平面の法線は、偏向面内において、偏向器側に進むにしたがい互いに近づく。これにより、半導体レーザ1,1’間の間隔、及びカップリングレンズ2,2’の間隔を広くとることができ、レイアウトの自由度が増すと共に、第1レンズ3から出射した2光束の開き角を小さくすることができ、有効書き込み幅を広くするだけでなく、2光束の光学特性の差異を少なくすることができ、良好な光学特性を獲得することができる。
【0074】
また、第1レンズ3zの光軸方向の調整や、図3に示したステッピングモータを用いた走査線ピッチ調整が可能なのは言うまでもなく、これにより、ビームスポット小径化、走査線ピッチの高精度制御が可能である。
さらに、前述したように、共軸面を非球面化することにより、更なるビームスポット小径化が可能である。
【0075】
以下、光学系データを示して説明する。
第1レンズ3zから出射した光束のポリゴンミラー6への平均入射角(有効書き込み幅相当のポリゴンの回転角最大値、回転角最小値の中間の回転角のときのポリゴンミラーへの入射角)は、それぞれ以下の通りである。
ビームB1:29.225deg
ビームB2:30.775deg
ここで、ビームB1,ビームB2とは、それぞれ半導体レーザ1,1’から射出された光束を指す。
したがって、ポリゴンミラー6に向かう2光束の開き角は3.1degであり、かつ、2光束はポリゴンミラー6面上近傍で偏向面内において交差する。
【0076】
第1レンズ3zは、第1面が
曲率半径:−150mm
中心肉厚:3mm
屈折率:1.5273
の樹脂製レンズである。
また、図9に示すように、偏向面内の傾き角θ1、θ2はいずれも1degであり、逆方向に傾いている。このとき、カップリングレンズ2,2’から出射する2光束の開き角は5.6degであり、3.1degに比べて大きい。つまり、複数の半導体レーザ間の間隔、及びカップリングレンズの間隔を広くとることができ、レイアウトの自由度が増すと共に、第1レンズから出射した2光束の開き角を小さくすることができ、有効書き込み幅を広くするだけでなく、2光束の光学特性の差異を少なくすることができる。
なお、他の光学系データは、前述の「第1の実施の形態」と同じである。
【0077】
このとき、第1レンズ3zの回転角に対する走査線ピッチの変化量は、回転角に対して線形となり、高精度な走査線のピッチ間隔調整が可能になる。
回転角(deg) 走査線ピッチ変化量(μm)
1 44.8
2 89.8
3 134.6
4 179.4
5 224.0
【0078】
また、第1レンズ3zの光軸方向の移動量と主走査ビームウエスト位置変化量の関係は、以下に示すように「第1の実施の形態」と同様となり、高精度な主走査ビームウエスト位置調整が可能になり、小径かつ安定したビームスポット径が確保できる。
第1レンズ移動量(mm) 主走査ビームウエスト位置変化量(mm)
0.1 0.06
0.2 0.119
0.3 0.179
0.4 0.238
0.5 0.298
【0079】
なお、本発明においては、図8に示す半導体レーザ1,1’が半導体レーザアレイであるような場合には更に効果が大きい。すなわち、仮に、第1レンズ3zが無い場合、光源ユニット全体を主走査方向及び副走査方向に略垂直な軸まわりに光源ユニットを調整する必要がある。このとき、2つの半導体レーザアレイ間のピッチ調整は可能だが、半導体レーザアレイ内のチャンネル間のピッチがずれてしまい、高精度なビームピッチ調整ができなくなる。そこで、第1レンズ3zでピッチ調整を行えば、2つの半導体レーザアレイ間のピッチ調整を行うことができ、なおかつ、半導体レーザアレイ内のチャンネル間のピッチはずれないので、高精度な走査線のピッチ調整が可能になる。
【0080】
(第5の実施の形態)
次に、本発明にかかる光走査装置のさらに別の実施の形態について説明する。基本的な構成は、前述の「第2の実施の形態」で示した光学系データと同じであるが、図10に示すように第1レンズ3の第1面の光軸と第2面の光軸とが一致する点が、先に説明した実施の形態と異なる。全光学特性とも、「第1の実施の形態」「第2の実施の形態」で示した光学特性と同じである。
なお、非球面は負のパワーの面に用いる必要はなく、正のパワーの面または近軸のパワーが無い面に用いても良い。
【0081】
次に、本発明にかかる画像形成装置について説明する。
図6は、本発明にかかる画像形成装置の実施の形態を示す中央断面図である。画像形成装置は、光走査装置21、帯電器22、現像器23、転写器24、定着器26、感光体10及びクリーニング部27を有してなり、光走査装置21から像担持体である感光体10に光書込みを行い、電子写真法により、感光体10上に静電潜像を形成する。
画像形成装置による画像形成の原理は、周知の通りであり、感光体10は帯電器22により一様に帯電され、光走査装置21によって形成される露光分布に応じて電位が低下し、感光体10上に静電潜像が形成され、現像器23によりトナーが付着される。感光体10に付着したトナーは、転写器24により用紙に転写された後に定着器26によって用紙に融解固着される。クリーニング部27は、感光体10上の残留トナーを除去する。
【0082】
ここで、光走査装置21として、これまで説明した本発明にかかる光走査装置を適用することで、前述の効果、すなわち、ビームスポット径の小径化を図り、なおかつ、高精度なビームスポット位置調整やビームピッチ調整が可能、あるいは、初期調整によるビームスポット径の補正が可能で、なおかつ、ビームスポット径の温度変動による変化を小さくすることが可能となるため、高品質の出力画像を得ることができる。
【0083】
なお、本発明にかかる光走査装置及び画像形成装置を用いれば、以上説明したように、1の部品に多くの機能、すなわち、温度補償、初期調整によるビームスポット安定化、共軸化によるビームスポット径の安定化、ビームスポット位置調整、走査線ピッチ調整、ゴースト防止、複数ビーム時のポリゴンへの入射角低減機能を持たせることができるだけでなく、
(1)部品点数の低減による低コスト化が可能
(2)余計な部品が増えないので、部品誤差による光学特性の劣化を防止
という効果も得ることができ、総合的な光学特性の向上を図ることができる。
【0084】
【発明の効果】
本発明によれば、ビームスポット径の小径化を図り、なおかつ、高精度なビームスポット位置精度の確保が可能である。
【0085】
また本発明によれば、ビームスポット径の小径化を図り、なおかつ、高精度なビームピッチ調整が可能である。
【0086】
さらに本発明によれば、初期調整によるビームスポット径の補正が可能で、なおかつ、ビームスポット径の温度変動による変化を小さくすることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかる光走査装置の実施の形態を示す偏向回転面に平行な面内に展開した光学配置図である。
【図2】上記光走査装置を構成する第1レンズの(a)は光軸に平行な主走査断面図、(b)は光軸に垂直な副走査断面図である。
【図3】レンズホルダに対する回転調整について示す上記第1レンズの光軸に垂直な副走査断面図である。
【図4】上記第1レンズの戻り光について示す上記光走査装置の光学配置図である。
【図5】上記第1レンズを適用したマルチビーム走査装置の光学配置図である。
【図6】本発明にかかる光走査装置を適用した画像形成装置の中央断面図ある。
【図7】本発明にかかる画像形成装置の別の実施の形態を示す中央断面図である。
【図8】本発明にかかる光走査装置の別の実施の形態を示す偏向回転面に平行な面内に展開した光学配置図である。
【図9】図8の光走査装置を構成する第1レンズの光軸に平行な主走査断面図である。
【図10】本発明にかかる光走査装置のさらに別の実施の形態を示す偏向回転面に平行な面内に展開した光学配置図である。
【図11】第1の実施の形態における光学系データを示す図表である。
【図12】第2の実施の形態における光学系データを示す図表である。
【符号の説明】
1 半導体レーザ(光源)
3 第1レンズ
6 ポリゴンミラー(偏向器)
7 第1走査レンズ(走査結像光学系)
8 第2走査レンズ(走査結像光学系)
10 被走査面
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザビームプリンタ(LBP)、デジタル複写機、レーザファックス等に用いられる光走査装置と、この光走査装置を備えた画像形成装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
近年、LBPやデジタル複写機等の画像形成装置において、高画質化、高速化、カラー化が進み、ユーザが要求する品質も高まってきている。
高速化の要求に対しては、マルチビーム化が有効である。ただし、その際には複数のビーム間のピッチ調整が必要である。複数のビーム間のピッチ調整の方法としては、マルチビーム光源ユニットを光軸回りに回転する方法や、ピッチ調整用の光学素子を用いる方法がある(たとえば、特許文献1参照。)。
一方、高画質化の要求に対しては、ビームスポット径の小径化が必要であり、これまでもいくつかの方法が提案されている(たとえば、特許文献2,特許文献3,特許文献4参照。)。ただし、ビームスポット径を小径化する際には、特に画像形成装置や光走査装置が定着部やポリゴンスキャナ等多くの熱源を備えていることや、使用環境の温度変動に鑑みて、温度変動まで考慮したビームスポットの小径化が必要である。
【0003】
【特許文献1】
特開平9−131920号公報
【特許文献2】
特開平3−116112号公報
【特許文献3】
特開平5−19190号公報
【特許文献4】
特開2001−166237号公報
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、光源ユニットを光軸回りに回転させる従来例では、光源ユニットそのものを動かすため、電装部品の信頼性が問題になる。また、ピッチ調整用の光学素子を用いる従来例では、ガラス製の高精度な光学素子が必要となるためコストアップにつながる。
一方、ビームスポット径を高精度に初期調整したとしても、温度変動をはじめとする経時変化に伴い、ビームスポット位置ずれが発生してしまう。
【0005】
本発明は以上のような従来技術の問題点を解消するためになされたもので、温度変動まで考慮して、ビームスポット径の小径化を図り、なおかつ、高精度なビームスポット位置精度の確保が可能な低コストな光走査装置を提供することを目的とする。
【0006】
また本発明は、温度変動まで考慮して、ビームスポット径の小径化を図り、なおかつ、高精度なビームピッチ調整が可能な低コストなマルチビーム対応の光走査装置を提供することを目的とする。
【0007】
さらに本発明は、初期調整によるビームスポット径の補正が可能で、なおかつ、ビームスポット径の温度変動による変化が小さい光走査装置を提供することを目的とする。
【0008】
さらにまた本発明は、上記光走査装置を用いた高画質な画像出力が可能な画像形成装置を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
請求項1記載の発明は、光源と、光源からの光束を偏向する偏向器と、光源からの光束をカップリングするカップリングレンズと、カップリングレンズからの光束を偏向器に導く第1レンズと、偏向器により偏向された光束を被走査面上に集光する走査結像光学系とを有してなる光走査装置であって、第1レンズは、第1面と第2面のいずれかの面が主走査方向にパワーを有し、第2面の光軸は、第1面の光軸に対して偏心していることを特徴とする。
【0010】
請求項2記載の発明は、請求項1記載の発明において、主走査方向のパワーは、負のパワーであることを特徴とする。
【0011】
請求項3記載の発明は、請求項1または2記載の発明において、第1レンズは、主走査方向及び副走査方向に略垂直な軸を中心に回転調整可能になっていることを特徴とする。
【0012】
請求項4記載の発明は、請求項1乃至3のいずれかに記載の発明において、第1レンズは、光軸方向に移動調整可能になっていることを特徴とする。
【0013】
請求項5記載の発明は、請求項1乃至4のいずれかに記載の発明において、主走査方向にパワーを有する面は、共軸であることを特徴とする。
【0014】
請求項6記載の発明は、請求項5記載の発明において、主走査方向にパワーを有する面は、非球面形状であることを特徴とする。
【0015】
請求項7記載の発明は、請求項1乃至6のいずれかに記載の発明において、第1レンズまたは走査結像光学系に含まれる少なくとも1枚の走査光学素子は樹脂製であることを特徴とする。
【0016】
請求項8記載の発明は、複数の光源と、複数の光源からの光束を偏向する偏向器と、光源からの光束をカップリングするカップリングレンズと、カップリングレンズからの光束を偏向器に導く第1レンズと、偏向器からの光束を被走査面に集光する走査結像光学系とを有してなる光走査装置であって、複数の光源からの光束は、主走査方向に離れて第1レンズに入射し、第1レンズは、主走査方向及び副走査方向に略垂直な軸を中心に回転調整可能であり、第1レンズの第1面と第2面のいずれかの面がパワーを有する共軸面であり、第1レンズが主走査方向及び副走査方向に略垂直な軸を中心に回転したとき、共軸面でない他方の面は、複数の光源からの光束が通過する面の法線の副走査方向における開き角が相対的に変化することを特徴とする。
【0017】
請求項9記載の発明は、請求項8記載の発明において、パワーは負のパワーであり、第1レンズは樹脂製であることを特徴とする。
【0018】
請求項10記載の発明は、請求項8または9記載の発明において、共軸面でない他方の面は、法線が互いに異なる2つの平面により形成されることを特徴とする。
【0019】
請求項11記載の発明は、請求項10記載の発明において、2つの平面の法線は、偏向面内において、偏向器側に進むにしたがい互いに近づくことを特徴とする。
【0020】
請求項12記載の発明は、光源と、光源からの光束を偏向する偏向器と、光源からの光束をカップリングするカップリングレンズと、カップリングレンズからの光束を偏向器に導く第1レンズと、偏向器からの光束を被走査面に集光する走査結像光学系とを有してなる光走査装置であって、第1レンズは、光軸方向に調整可能であり、第1レンズは、負のパワーを有する共軸非球面レンズであり、第1レンズは、樹脂製レンズであることを特徴とする。
【0021】
請求項13記載の発明は、光走査装置から像担持体に光書込みを行い、電子写真法により、像担持体上に静電潜像を形成する装置であって、光書込装置は、請求項1乃至12のいずれかに記載の光走査装置であることを特徴とする。
【0022】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら本発明にかかる光走査装置及び画像形成装置の実施の形態について説明する。
先ず、本発明にかかる光走査装置について説明する。
【0023】
(第1の実施の形態)
図1は、本発明にかかる光走査装置の実施の形態を示す偏向回転面に平行な面内に展開した光学配置図である。
符号1は光源である半導体レーザ、6は半導体レーザ1からの光束を偏向する偏向器であるポリゴンミラー、2はカップリングレンズ、3はカップリングレンズ2からの光束をポリゴンミラー6に導く第1レンズ、4はシリンドリカルレンズ、5は防音ガラス、9は防塵ガラス、10は被走査面である感光体の表面、7と8はポリゴンミラー6からの光束を被走査面10に集光する走査結像光学系を構成する光学素子であるところの第1走査レンズと第2走査レンズ、11はアパーチャ、12は同期検知手段、を示している。
【0024】
半導体レーザ1は、画像信号に基づき変調駆動され、発散光束を射出する。図1には、半導体レーザ1は1ビームのみしか示していないが、本発明において、光源はモノリシックな半導体レーザアレイであっても良いし、複数の半導体レーザを合成して構成するようにしてもよい。
半導体レーザ1から射出された発散光束は、カップリングレンズ2により、以後の光学系に適したビーム形態にカップリングされる。なお、カップリングされた各光束は、同じビーム形態であり、「平行ビーム」とすることも「収束性もしくは発散性のビーム」とすることもできる。
【0025】
カップリングレンズ2を通過した光束は、被走査面10上でのビームスポット径を設定するためのアパーチャ11を介して第1レンズ3を通過する。第1レンズ3を通過した光束は、光束幅を規制され、シリンドリカルレンズ4によりポリゴンミラー6の偏向反射面近傍にて主走査方向の線像として結像する。
【0026】
ポリゴンミラー6は、図中の矢印方向に、図示しない駆動機構により略等速に回転していて、入射光束を等角速度的に偏向する。
半導体レーザ1から射出されてポリゴンミラー6で偏向された光束は、第1走査レンズ7と第2走査レンズ8を通過して被走査面10近傍に集光され、略等速的に被走査面10上を、図1の紙面上側から下に向かって光走査される。
ここで、被走査面10上を光束が走査する方向を主走査方向とし、主走査方向と直交する方向を副走査方向とする。
【0027】
ポリゴンミラー6及びこれを回転駆動するモータモータはケースに収納され、ケースに設けられた窓孔に防音ガラス5が配置されている。防音ガラス5は、ポリゴンミラー6による騒音を防止するために配備し、また、防塵ガラス9は、プラスチックケースなどに収納されて密封された光走査装置内に埃が入り込むのを防ぐために配備する。
【0028】
ポリゴンミラー6で偏向された光束は、被走査面10への入射に先立って、同期検知手段12により検出される。同期検知手段12は、光束を検知すると信号を発し、この信号が図示しない同期検知回路によって演算処理され、あるタイミングの後に、書込開始信号が発信される。「あるタイミング」とは、光束が同期検知手段12の検知位置から書込開始位置に至るまでの時間である。
【0029】
以下、半導体レーザ1とポリゴンミラー6との間に配備された第1レンズ3の特徴について説明する。
【0030】
先ず、第1レンズ3は、第1面と第2面のいずれかの面が主走査方向にパワーを有している。第1面とは、半導体レーザ1からの光束の入射面であり、第2面とは、半導体レーザ1からの光束の出射面である。ここでは、第1面が主走査方向にパワーを有し、第2面が平面とする。
また、第2面の光軸は、第1面の光軸に対して偏心、つまり傾いている。ここで、第2面が平面の場合には、その光軸は平面の法線と平行とする。
【0031】
第2面の光軸を、第1面の光軸に対して偏心させることで、以下の効果を得ることができる。
(1)第1レンズ3の第2面で反射された光束が、図4に示すように半導体レーザ1に戻らないので、第1レンズ3の戻り光(ゴースト光Q)により半導体レーザ1の出力が不安定にならない。
(2)回転調整により、ビームスポット位置調整が可能となる。
【0032】
また、第1レンズ3が主走査方向にパワーを有していることで、以下の効果を得ることができる。
(1)第1レンズ3を光軸方向、つまり図1の矢印方向に移動することで、光走査装置全系で主走査方向ビームウエスト位置調整が可能になり、他の光学素子の部品公差、取り付け公差を緩和することができる。
(2)主走査方向について安定した小径ビームスポットを獲得することができる。
(3)光利用効率を向上させ、あるいはビーム整形をすることも可能である。
【0033】
主走査方向にパワーを有する第1レンズ3の第1面は、光軸回りの回転方向の配置誤差や、主走査方向・副走査方向に略平行な軸回りに回転調整することによる光軸回りの回転方向の傾きに起因して生ずるビームスポット径の劣化を防止するため、共軸面であることが望ましい。ここで、共軸面とは、光軸を中心としてある軌跡を回転することにより得ることができる面のことである。
ただし、本発明においては、主走査方向にパワーを有する面が、必ずしも共軸でなくともよい。
【0034】
また、光走査装置内の温度が上昇すると、第1レンズ3が主走査方向に負のパワーを有するため、第1レンズ3により、主走査方向のビームウエスト位置は被走査面近傍から偏向反射面側にずれる。しかしながら、走査光学系により、主走査方向のビームウエスト位置は被走査面近傍から偏向反射面と反対側にずれる。すなわち、第1レンズ3によるビームウエスト位置のずれと、走査結像光学系によるビームウエスト位置のずれとが相殺され、主走査方向について安定した小径のビームスポットを獲得することができる。
【0035】
ここで、画像形成装置用の光走査装置では、ビーム(光束)が主走査方向に移動しながら被走査面10を露光するので、主走査方向の露光ビームは静止時の主走査ビームスポット径よりも太る。したがって、静止時のビームスポット径は副走査方向よりも主走査方向を小さく設定する必要があり、副走査方向に比べて、より温度変化によるビームウエスト位置変化の低減を図る必要がある。
また、近年、低コスト化や形状の自由度の広さから、走査結像光学系を構成する走査光学素子に樹脂製の光学素子を用いることが多く、そのため、温度上昇時のビームウエスト位置ずれが非常に大きくなる。
【0036】
このとき、少なくとも一面に負のパワーを有する第1レンズ3を樹脂製とすれば、温度補正効果が大きくなり、走査結像光学系に樹脂製の光学素子を用いても、安定した小径ビームスポットを獲得することができる。
また、第1レンズ3は、第2面の光軸が第1面の光軸に対して偏心しており、第1レンズ3を機械加工により1個ずつ研削・研磨して製作するのは困難である。そこで、第1レンズ3を樹脂製とすれば、成型用金型を製作しておき、あとは成形するだけでよいから、低コストで大量の生産が可能となる。
【0037】
図2は、第1レンズ3の断面図であり、(a)は光軸に平行な主走査断面図、(b)は光軸に垂直な副走査断面図である。
【0038】
第1レンズ3は、図2(a)に示すように、第1面の光軸A1と第2面の光軸A2が偏心している。したがって、第1レンズ3を主走査方向及び副走査方向に略垂直な軸を中心に回転調整可能とすることで、光軸の副走査方向の出射方向が変化する。ここで、「主走査方向及び副走査方向に略垂直な軸」とは、たとえば主走査方向及び副走査方向に垂直な軸から±20degの範囲内にあればよい。また、「調整可能」とは、部品(光学素子)を固定する際に突き当て等の基準が無いことを指す。
【0039】
また、図2(b)に示すように、第1レンズ3の側面の一部を円筒形状とし、第1レンズ3をハウジング30のV字型の受け部(V溝)30vに配備し、V溝30vをガイドとして第1レンズ3の円筒形状部分を移動させて調整し、回転調整後に接着することにより、高精度なビームスポット位置調整が可能となる。すなわち、たとえば、同期検知手段12に入る光束の高さ調整に用いることも可能であり、また、走査光学素子に入射する高さが変化することによるビームスポット径劣化を補正することもできる。
【0040】
さらに、マルチビーム光学系においては、複数の光源からの光束のそれぞれに第1レンズ3を挿入することで、被走査面におけるマルチビーム間の走査線のピッチ調整が可能になる。
【0041】
さらにまた、前述したように、副走査方向よりも主走査方向のビームスポット径を小さくする必要があるが、初期状態において、主走査ビームウエスト位置を最適に設定することは非常に重要である。
従来、シリンドリカルレンズ4を光軸方向に移動して副走査ビームウエスト位置を調整することは行われているが、主走査方向については、通常、光源ユニット単体(半導体レーザ1とカップリングレンズ2が一体化されたユニット単位)でピント位置調整するのが一般的であり、走査結像光学系等、光源ユニット以外で発生したビームウエスト位置を調整することはできない。
そこで、図2(b)に示すように、第1レンズ3をV溝30vに沿って光軸方向に移動調整可能となっているため、主走査方向のビームウエスト位置の最適化が可能になる。
【0042】
本発明に係る光走査装置について、以下、光学系データを示して説明する。
ここでは、半導体レーザ1の発振波長を655nm、カップリングレンズ2の焦点距離fを27mmとする。ただし、第2面は共軸非球面であり、数値は示さないがカップリングレンズ2による波面収差は良好に補正されている。
カップリングレンズ2から射出した光束は収束光束とし、カップリングレンズ2の第2面から被走査面側に304mm離れた位置に自然集光する。カップリングレンズ2の第2面から第1レンズ3の第1面までの距離は20mmである。
【0043】
第1レンズ3から被走査面10までの光学系データを図11に示す。図中、主走査方向の曲率半径をRm、副走査方向の曲率半径をRs、使用波長での屈折率をNとする。ここで、第1レンズ3の入射側と出射側を面番号1,面番号2、シリンドリカルレンズ4の入射側と出射側を面番号3,面番号4、ポリゴンミラー6の偏向反射面を面番号5、第1走査レンズ7の入射側と出射側を面番号6,面番号7、第2走査レンズ8の入射側と出射側を面番号8,面番号9、被走査面を面番号10とする。
なお、図11には、防音ガラス5と防塵ガラス9が示されていないが、実際には図1に示した位置に配備される。防音ガラス5と防塵ガラス9は、屈折率が1.514で、厚さが1.9mmである。
また、ポリゴンミラー6に対する平均入射角(有効書き込み幅相当のポリゴンミラー6の回転角最大値、回転角最小値の中間の回転角のときのポリゴンミラー6への入射角)は、29.225degである。
さらに、偏向面内において、第1レンズ3の第2面の光軸は、第1面の光軸に対して、1degほど傾いている。
【0044】
図11中、「*」で示される面は共軸非球面であり、下式で示される。
X={(Y^2)/R}/[1+√{1−(1+K)*(Y/R)^2}]+A・Y^4+B・Y^6+C・Y^8+D・Y^10 (式1)
ここで、Xは光軸方向の座標、Yは主走査方向の座標、Rは曲率半径、Kは円錐定数、A,B,C,Dは高次の係数である。
【0045】
面番号6の面の光学系データは、以下の通りである。
K=2.667
A=1.79E−07
B=−1.08E−12
C=−3.18E−14
D=3.74E−18
【0046】
面番号7の面の光学系データは、以下の通りである。
K=0.02
A=2.50E−07
B=9.61E−12
C=4.54E−15
D=−3.03E−18
【0047】
図11中、「**」で示される面(面番号8)は、主走査方向の形状が非円弧形状であり、副走査方向の曲率半径はレンズ高さにより連続的変化する。主走査形状は、(式1)で表すことができる。
【0048】
面番号8の面の光学系データは、以下の通りである。
K=−71.73
A=4.33E−08
B=−5.97E−13
C=−1.28E−16
D=5.73E−21
【0049】
副走査方向の曲率半径Rs(Y)は、次式で表すことができる。
Rs(Y)=Rs(0)+Σbj・Y^j (j=2,3,・・・12)
ただし、
RS(0)=−47.68
b2=1.60E−03
b4=−2.32E−07
b6=1.60E−11
b8=−5.61E−16
b10=2.18E−20
b12=−1.25E−24
である。
【0050】
ここで、奇数項は全て「0」であるが、当然、奇数項を用いてサグによる副走査像面湾曲をさらに補正してもかまわない。
第1レンズ3を主走査方向及び副走査方向に垂直な軸を中心に回転させると、以下に示すように被走査面10上における副走査方向のビームスポット位置が回転角に対してほぼ線形に変化する。したがって、高精度なビームスポット位置調整が可能になり、マルチビーム光学系においては高精度な走査線のピッチ間隔調整が可能になる。
【0051】
回転角(deg) 副走査方向ビームスポット位置変化量(μm)
1 22.4
2 44.9
3 67.3
4 89.7
5 112.0
【0052】
また、第1レンズ3を光軸方向に移動すると、被走査面10上での主走査ビームウエスト位置は、以下のように第1レンズ3の移動量に対してほぼ線形に移動する。したがって、高精度な主走査ビームウエスト位置調整が可能になり、小径かつ安定したビームスポット径が確保できる。なお、ここでは、第1レンズ3をポリゴンミラー6から遠ざかる方向に移動させている。
【0053】
第1レンズの移動量(mm) 主走査ビームウエスト位置変化量(mm)
0.1 0.06
0.2 0.119
0.3 0.179
0.4 0.238
0.5 0.298
【0054】
温度が、25℃から45℃に変化したときのビームウエスト位置変化を以下に示す。なお、半導体レーザ1の波長は、1℃の温度上昇により0.2mm大きくなる。また、半導体レーザ1とカップリングレンズ2は、線膨張係数2.3E−05(1/℃)のアルミ製のホルダにより一体化されている。ここで、カップリングレンズ2、シリンドリカルレンズ3の線膨張係数は、7.5E−06(1/℃)、樹脂製レンズの線膨張係数は、7.0E−05(1/℃)とする。
【0055】
また、各光学素子の屈折率は、以下のように変化する。
カップリングレンズ :1.6896 → 1.6895
シリンドリカルレンズ :1.5144 → 1.5142
樹脂製レンズ :1.5273 → 1.5254
【0056】
このときのビームウエスト位置変化は、以下のようになっている。
像高(mm) −150 0 150
主走査ビームウエスト位置変化(mm) 0.20 0.20 0.18
副走査ビームウエスト位置変化(mm) 0.90 1.01 0.91
【0057】
第1レンズによる温度補償効果を取り除いた場合を比較例として以下に示す。
像高(mm) −150 0 150
主走査ビームウエスト位置変化(mm) 0.89 1.05 0.86
副走査ビームウエスト位置変化(mm) 1.20 1.36 1.21
【0058】
上記の結果に示すように、第1レンズ3により、主走査および副走査ビームスポット位置は、ともに温度補償がなされていることがわかる。特に、主走査方向についての補正効果は大きいが、副走査方向についても補正効果が認められる。
【0059】
(第2の実施の形態)
次に、本発明にかかる光走査装置の別の実施の形態について説明する。
先の「第1の実施の形態」で説明したように、本発明にかかる光走査装置は、第1レンズ3の第1面と第2面の少なくともいずれかの面にパワーを持たせることで、前述の、多くの効果を得ることができる。
しかし、第1レンズ3の主走査方向にパワーを有する面を球面形状とすると、波面収差が劣化する。そこで、主走査方向にパワーを有する面を非球面形状とすることで、波面収差が良好になる。
【0060】
図11に示した面番号1の面(第1レンズ3の第1面)を、式1に基づき非球面形状とする(非球面化する)。
K=20
A=−1.5E−06
【0061】
図12は、主走査方向にパワーを有する面を非球面形状/球面形状とした場合の主走査ビームスポット径及びRMS波面収差を示す図表である。
図12に示すように、球面の場合でも、良好な主走査ビームスポット径が得られているが、非球面化することにより、主走査ビームスポット径はさらに小径化されている。
また、ビームスポット径の改善量はそれほど大きくないが、波面収差は約半分に低減しており、光学部品公差、取り付け公差に対する許容度は非常に大きくなり、更なるビームスポット小径化を行うとその差は顕著になる。
【0062】
上記、ビームスポット径を獲得するためのアパーチャは、
主走査方向:4.5mm
副走査方向:2mm
の矩形形状をしており、第1レンズ3に入射する光束の幅もほぼこれに等しい。このとき、各面の主走査方向における光束の最周辺での非球面変位量(球面形状からの非球面形状のずれ量のことで、光束の進む方向を正とする)をΔ1(第1面)、Δ2(第2面)とすると、
Δ1−Δ2=(−1.9E−04)−(0)=−1.9E−04(mm)<0
となる。このように、「Δ1−Δ2」を負とすることで、全系の波面収差を良好にすることができる。
【0063】
(第3の実施の形態)
次に、本発明にかかる光走査装置のさらに別の実施の形態について説明する。
図7は、本発明にかかる光走査装置を適用したタンデム対応のカラー画像形成装置の副走査断面図である。
各ステーションは、Y(イエロー),M(マゼンダ),C(シアン),K(ブラック)に対応する。また、各ステーションは、走査レンズ7x,8x、感光体ドラム10xを備える(x=Y,M,C,K)。なお、ポリゴンスキャナ6は、4つのステーションに共通である。
【0064】
このような多色対応の画像形成装置に適用する場合、光走査装置は、各感光体面上を露光するためのビームスポット位置を相対的に色間で高精度に合わせる必要がある。しかし、実際には経時的な変化や温度変化により、ビームスポット位置が変化してしまう。
そこで、図3に示すように、ステッピングモータ31を用いて、適時、第1レンズ3をレンズホルダ32に対して回転調整することで、相対的な色ずれの補正が可能となる。このとき、ビームスポット位置の検出は中間転写ベルト70等の画像をフォトセンサで検出しても良いし、あるいは、光走査装置内で同期検知手段を副走査方向の位置が検出できるように配置して(三角PDや非平行PDを用いる)、その信号に基づいて位置補正を行うようにしてもよい。
【0065】
なお、図3に示すような装置を図5に示すマルチビーム走査装置に適用して、走査線ピッチの補正を行うようにしてもよい。これにより、より高精度な走査線ピッチ間隔の制御が可能になり、高画質化が実現できる。
【0066】
(第4の実施の形態)
次に、本発明にかかる光走査装置のさらに別の実施の形態について説明する。
これまで説明した実施の形態は、1つの光源を用いる場合であったが、本実施の形態は、図8に示すように、複数の光源1,1’を用いる場合である。
カップリングレンズ2,2’を通過した複数の光束は、主走査方向に離れて第1レンズ3zに入射する。第1レンズ3zは、第1面が主走査方向にパワーを有するレンズ面である。また第2面は、法線が互いに異なる、つまり互いに偏向面内で傾いている2つの平面により形成されている。
【0067】
第1レンズ3zが主走査方向にパワーを有しているので、第1レンズ3zを光軸方向に移動することで、光走査装置全系で主走査方向ビームウエスト位置調整が可能になり、他の光学素子の部品公差、取り付け公差を緩和することができ、なおかつ、主走査方向について安定した小径ビームスポットを獲得することができる。
【0068】
また、パワーを有する共軸面を用いることにより、光利用効率を向上させ、また、ビーム整形をすることも可能である。このとき、第1レンズ3zは、主走査方向及び副走査方向に略垂直な軸を中心に回転調整可能となっており、回転調整することにより、複数の光束が通過する面の法線の副走査方向における開き角が相対的に変化する。このとき、複数の出射光束の副走査方向の開き角が相対的に変化し、半導体レーザ1,1’から射出した光束間の走査線ピッチを高精度に調整することが可能になる。
【0069】
さらに、パワーを有する面を共軸面とすることにより、回転調整しても、ビームスポット径の劣化をなくすことができる。
【0070】
さらにまた、マルチビームとすることで、偏向器の回転数を低減することができ、また、低騒音、低消費電力、高耐久を実現することができる。
【0071】
なお、本実施の形態では、第2面は2つの平面が互いに偏向面内で傾いているが、第2面を副走査方向にパワーを有するシリンドリカル面としても、主走査方向及び副走査方向に略垂直な軸を中心に第1レンズ3zを回転したときに、複数光束が通過する面の法線の副走査方向における開き角を相対的に変化させることもできる。
【0072】
また、第1レンズ3zを樹脂製とし、共軸面のパワーを負とすることで、前述のように、温度補償が可能になると共に、本実施の形態で示したような複雑な形状も一体成形により容易に生産することができる。また、共軸面のパワーを負とすることにより、半導体レーザ1,1’間の間隔、及びカップリングレンズ2,2’の間隔を広くとることができ、レイアウトの自由度が増すと共に、第1レンズ3zから出射した2光束の開き角を小さくすることができ、有効書き込み幅を広くするだけでなく、2光束の光学特性の差異を少なくすることができ、良好な光学特性を獲得することができる。
【0073】
さらに、第1レンズ3zの2つの平面の法線は、偏向面内において、偏向器側に進むにしたがい互いに近づく。これにより、半導体レーザ1,1’間の間隔、及びカップリングレンズ2,2’の間隔を広くとることができ、レイアウトの自由度が増すと共に、第1レンズ3から出射した2光束の開き角を小さくすることができ、有効書き込み幅を広くするだけでなく、2光束の光学特性の差異を少なくすることができ、良好な光学特性を獲得することができる。
【0074】
また、第1レンズ3zの光軸方向の調整や、図3に示したステッピングモータを用いた走査線ピッチ調整が可能なのは言うまでもなく、これにより、ビームスポット小径化、走査線ピッチの高精度制御が可能である。
さらに、前述したように、共軸面を非球面化することにより、更なるビームスポット小径化が可能である。
【0075】
以下、光学系データを示して説明する。
第1レンズ3zから出射した光束のポリゴンミラー6への平均入射角(有効書き込み幅相当のポリゴンの回転角最大値、回転角最小値の中間の回転角のときのポリゴンミラーへの入射角)は、それぞれ以下の通りである。
ビームB1:29.225deg
ビームB2:30.775deg
ここで、ビームB1,ビームB2とは、それぞれ半導体レーザ1,1’から射出された光束を指す。
したがって、ポリゴンミラー6に向かう2光束の開き角は3.1degであり、かつ、2光束はポリゴンミラー6面上近傍で偏向面内において交差する。
【0076】
第1レンズ3zは、第1面が
曲率半径:−150mm
中心肉厚:3mm
屈折率:1.5273
の樹脂製レンズである。
また、図9に示すように、偏向面内の傾き角θ1、θ2はいずれも1degであり、逆方向に傾いている。このとき、カップリングレンズ2,2’から出射する2光束の開き角は5.6degであり、3.1degに比べて大きい。つまり、複数の半導体レーザ間の間隔、及びカップリングレンズの間隔を広くとることができ、レイアウトの自由度が増すと共に、第1レンズから出射した2光束の開き角を小さくすることができ、有効書き込み幅を広くするだけでなく、2光束の光学特性の差異を少なくすることができる。
なお、他の光学系データは、前述の「第1の実施の形態」と同じである。
【0077】
このとき、第1レンズ3zの回転角に対する走査線ピッチの変化量は、回転角に対して線形となり、高精度な走査線のピッチ間隔調整が可能になる。
回転角(deg) 走査線ピッチ変化量(μm)
1 44.8
2 89.8
3 134.6
4 179.4
5 224.0
【0078】
また、第1レンズ3zの光軸方向の移動量と主走査ビームウエスト位置変化量の関係は、以下に示すように「第1の実施の形態」と同様となり、高精度な主走査ビームウエスト位置調整が可能になり、小径かつ安定したビームスポット径が確保できる。
第1レンズ移動量(mm) 主走査ビームウエスト位置変化量(mm)
0.1 0.06
0.2 0.119
0.3 0.179
0.4 0.238
0.5 0.298
【0079】
なお、本発明においては、図8に示す半導体レーザ1,1’が半導体レーザアレイであるような場合には更に効果が大きい。すなわち、仮に、第1レンズ3zが無い場合、光源ユニット全体を主走査方向及び副走査方向に略垂直な軸まわりに光源ユニットを調整する必要がある。このとき、2つの半導体レーザアレイ間のピッチ調整は可能だが、半導体レーザアレイ内のチャンネル間のピッチがずれてしまい、高精度なビームピッチ調整ができなくなる。そこで、第1レンズ3zでピッチ調整を行えば、2つの半導体レーザアレイ間のピッチ調整を行うことができ、なおかつ、半導体レーザアレイ内のチャンネル間のピッチはずれないので、高精度な走査線のピッチ調整が可能になる。
【0080】
(第5の実施の形態)
次に、本発明にかかる光走査装置のさらに別の実施の形態について説明する。基本的な構成は、前述の「第2の実施の形態」で示した光学系データと同じであるが、図10に示すように第1レンズ3の第1面の光軸と第2面の光軸とが一致する点が、先に説明した実施の形態と異なる。全光学特性とも、「第1の実施の形態」「第2の実施の形態」で示した光学特性と同じである。
なお、非球面は負のパワーの面に用いる必要はなく、正のパワーの面または近軸のパワーが無い面に用いても良い。
【0081】
次に、本発明にかかる画像形成装置について説明する。
図6は、本発明にかかる画像形成装置の実施の形態を示す中央断面図である。画像形成装置は、光走査装置21、帯電器22、現像器23、転写器24、定着器26、感光体10及びクリーニング部27を有してなり、光走査装置21から像担持体である感光体10に光書込みを行い、電子写真法により、感光体10上に静電潜像を形成する。
画像形成装置による画像形成の原理は、周知の通りであり、感光体10は帯電器22により一様に帯電され、光走査装置21によって形成される露光分布に応じて電位が低下し、感光体10上に静電潜像が形成され、現像器23によりトナーが付着される。感光体10に付着したトナーは、転写器24により用紙に転写された後に定着器26によって用紙に融解固着される。クリーニング部27は、感光体10上の残留トナーを除去する。
【0082】
ここで、光走査装置21として、これまで説明した本発明にかかる光走査装置を適用することで、前述の効果、すなわち、ビームスポット径の小径化を図り、なおかつ、高精度なビームスポット位置調整やビームピッチ調整が可能、あるいは、初期調整によるビームスポット径の補正が可能で、なおかつ、ビームスポット径の温度変動による変化を小さくすることが可能となるため、高品質の出力画像を得ることができる。
【0083】
なお、本発明にかかる光走査装置及び画像形成装置を用いれば、以上説明したように、1の部品に多くの機能、すなわち、温度補償、初期調整によるビームスポット安定化、共軸化によるビームスポット径の安定化、ビームスポット位置調整、走査線ピッチ調整、ゴースト防止、複数ビーム時のポリゴンへの入射角低減機能を持たせることができるだけでなく、
(1)部品点数の低減による低コスト化が可能
(2)余計な部品が増えないので、部品誤差による光学特性の劣化を防止
という効果も得ることができ、総合的な光学特性の向上を図ることができる。
【0084】
【発明の効果】
本発明によれば、ビームスポット径の小径化を図り、なおかつ、高精度なビームスポット位置精度の確保が可能である。
【0085】
また本発明によれば、ビームスポット径の小径化を図り、なおかつ、高精度なビームピッチ調整が可能である。
【0086】
さらに本発明によれば、初期調整によるビームスポット径の補正が可能で、なおかつ、ビームスポット径の温度変動による変化を小さくすることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかる光走査装置の実施の形態を示す偏向回転面に平行な面内に展開した光学配置図である。
【図2】上記光走査装置を構成する第1レンズの(a)は光軸に平行な主走査断面図、(b)は光軸に垂直な副走査断面図である。
【図3】レンズホルダに対する回転調整について示す上記第1レンズの光軸に垂直な副走査断面図である。
【図4】上記第1レンズの戻り光について示す上記光走査装置の光学配置図である。
【図5】上記第1レンズを適用したマルチビーム走査装置の光学配置図である。
【図6】本発明にかかる光走査装置を適用した画像形成装置の中央断面図ある。
【図7】本発明にかかる画像形成装置の別の実施の形態を示す中央断面図である。
【図8】本発明にかかる光走査装置の別の実施の形態を示す偏向回転面に平行な面内に展開した光学配置図である。
【図9】図8の光走査装置を構成する第1レンズの光軸に平行な主走査断面図である。
【図10】本発明にかかる光走査装置のさらに別の実施の形態を示す偏向回転面に平行な面内に展開した光学配置図である。
【図11】第1の実施の形態における光学系データを示す図表である。
【図12】第2の実施の形態における光学系データを示す図表である。
【符号の説明】
1 半導体レーザ(光源)
3 第1レンズ
6 ポリゴンミラー(偏向器)
7 第1走査レンズ(走査結像光学系)
8 第2走査レンズ(走査結像光学系)
10 被走査面
Claims (13)
- 光源と、上記光源からの光束を偏向する偏向器と、上記光源からの光束をカップリングするカップリングレンズと、上記カップリングレンズからの光束を上記偏向器に導く第1レンズと、上記偏向器により偏向された光束を被走査面上に集光する走査結像光学系とを有してなる光走査装置であって、
上記第1レンズは、第1面と第2面のいずれかの面が主走査方向にパワーを有し、
上記第2面の光軸は、上記第1面の光軸に対して偏心していることを特徴とする光走査装置。 - 主走査方向のパワーは、負のパワーである請求項1記載の光走査装置。
- 第1レンズは、主走査方向及び副走査方向に略垂直な軸を中心に回転調整可能になっている請求項1または2記載の光走査装置。
- 第1レンズは、光軸方向に移動調整可能になっている請求項1乃至3のいずれかに記載の光走査装置。
- 主走査方向にパワーを有する面は、共軸である請求項1乃至4のいずれかに記載の光走査装置。
- 主走査方向にパワーを有する面は、非球面形状である請求項5記載の光走査装置。
- 第1レンズまたは走査結像光学系に含まれる少なくとも1枚の走査光学素子は樹脂製である請求項1乃至6のいずれかに記載の光走査装置。
- 複数の光源と、上記複数の光源からの光束を偏向する偏向器と、上記光源からの光束をカップリングするカップリングレンズと、上記カップリングレンズからの光束を上記偏向器に導く第1レンズと、上記偏向器からの光束を被走査面に集光する走査結像光学系とを有してなる光走査装置であって、
上記複数の光源からの光束は、主走査方向に離れて上記第1レンズに入射し、
上記第1レンズは、主走査方向及び副走査方向に略垂直な軸を中心に回転調整可能であり、
上記第1レンズの第1面と第2面のいずれかの面がパワーを有する共軸面であり、
上記第1レンズが主走査方向及び副走査方向に略垂直な軸を中心に回転したとき、上記共軸面でない他方の面は、上記複数の光源からの光束が通過する面の法線の副走査方向における開き角が相対的に変化することを特徴とする光走査装置。 - パワーは負のパワーであり、第1レンズは樹脂製である請求項8記載の光走査装置。
- 共軸面でない他方の面は、法線が互いに異なる2つの平面により形成される請求項8または9記載の光走査装置。
- 2つの平面の法線は、偏向面内において、偏向器側に進むにしたがい互いに近づく請求項10記載の光走査装置。
- 光源と、上記光源からの光束を偏向する偏向器と、上記光源からの光束をカップリングするカップリングレンズと、上記カップリングレンズからの光束を上記偏向器に導く第1レンズと、上記偏向器からの光束を被走査面に集光する走査結像光学系とを有してなる光走査装置であって、
上記第1レンズは、光軸方向に調整可能であり、
上記第1レンズは、負のパワーを有する共軸非球面レンズであり、
上記第1レンズは、樹脂製レンズであることを特徴とする光走査装置。 - 光走査装置から像担持体に光書込みを行い、電子写真法により、この像担持体上に静電潜像を形成する装置であって、
上記光書込装置は、請求項1乃至12のいずれかに記載の光走査装置であることを特徴とする画像形成装置。
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JP2006235625A (ja) * | 2005-02-18 | 2006-09-07 | Heidelberger Druckmas Ag | 少なくとも1つのレーザダイオードバーを備える版の画像付け装置 |
-
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