JP2004198155A - 放射性物質汚染機器の除染方法およびその装置 - Google Patents

放射性物質汚染機器の除染方法およびその装置 Download PDF

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正敏 岡野
Hiroshi Murata
寛 村田
Atsunori Kawamoto
敦則 川本
Shozo Yoshitomi
昭三 吉冨
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Abstract

【課題】除染効果が高く、かつ除染作業が短時間であり、さらに除染装置のコンパクト化および少人数運転を図ることができる放射能物質汚染機器の除染方法およびその装置を提供する。
【解決手段】放射性物質で内部が汚染された機器1を超臨界流体または亜臨界流体からなる除染流体で除染する放射性物質汚染機器の除染方法であって、汚染機器1の出入口を閉止具10で塞ぎ、超臨界流体除染装置から除染流体を汚染機器1内部に供給し、通過させて汚染機器1内部に付着した放射性物質を除去し、除染流体から放射性物質を分離する。
【選択図】 図1

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、放射性物質で内部が汚染されたバルブ、ポンプ、容器、配管などの機器を除染する放射性物質汚染機器の除染方法およびその装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
原子力発電所では、炉水中の放射性物質が原子力機器や配管あるいはバルブの表面の酸化皮膜中に取り込まれて放射線被ばく線源になるため、保守、点検、補修の前に、この放射性物質を除去している。
【0003】
このように放射性汚染されたバルブ、ポンプ、容器などの機器の除染方法としては、デッキブラシ方式を代表とする機械的な除染方法が主流を占めている。しかし、このような機械的な除染方法では、除染効果はせいぜい10%程度で限界がある。さらに、最近では、化学除染方法が採用されるようになつてきたが、化学除染では除染効果は大きいが除染時間が長く、除染液に腐食性流体を使用するという問題があった。そこで、除染効果が高く、かつ除染作業が短時間であり、さらに除染装置のコンパクト化および少人数運転を図ることができる除染方法が求められている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
例えば、除染対象機器が原子力発電所で使用されるバルブである場合、バルブ内部は高い放射能濃度で汚染されている。バルブでは、弁箱、弁蓋の内面および弁体の表面が除染範囲となる。バルブの除染作業には、弁蓋を弁箱から取り外して弁内部を開放し、弁箱に除染治具などを装着して、除染する必要がある。
【0005】
従来の除染方法では、弁蓋を弁箱から取り外した段階および、除染治具などの装着時にも、相当量の被ばくがある。その後、除染作業に入るが、デッキブラシなどを使用して除染する場合などは、除染作業者自身も被ばくする。さらに、弁内部の点検・手入れなどの本作業においても相当量の被ばくがある。
【0006】
このように、従来方法のデッキブラシなどを使用して除染作業をする場合、本作業を開始する前段でもかなり被ばくする。これは、化学除染においても同様の課題がある。さらに、化学除染などは、除染時間が30時間以上と極めて長時間のため、近年、原子力発電所などで、定検工事の短縮が要求されているがこれに逆行する。
【0007】
この発明は、除染効果が高く、かつ除染作業が短時間であり、さらに除染装置のコンパクト化および少人数運転を図ることができる放射能物質汚染機器の除染方法およびその装置を提供することを課題にしている。
【0008】
【課題を解決するための手段】
この発明の放射性物質汚染機器の除染方法は、放射性物質で内部が汚染された機器を超臨界流体または亜臨界流体からなる除染流体で除染する放射性物質汚染機器の除染方法であって、前記汚染機器の出入口を閉止具で塞ぎ、汚染機器内部と超臨界流体除染装置とを前記除染流体が循環する除染流体循環ループを形成し、超臨界流体除染装置から前記除染流体循環ループに除染流体を供給し、循環させて汚染機器内部に付着した放射性物質を除去し、除染流体から放射性物質を分離する。
【0009】
上記放射性物質汚染機器の除染方法において、除染流体として取扱いやすさ、安全性、経済性の点から超臨界流体または亜臨界流体二酸化炭素が適している。その他の超臨界流体または亜臨界流体として窒素、亜酸化窒素、キセノン、六フッ化イオウなどが用いることができる。また、除染流体は除染補助剤、例えば表面活性剤、シュウ酸などを含むものであってもよい。
【0010】
超臨界流体は液体に近い密度をもち、油などの非極性物質の溶解性が大きい。また、気体のように粘度が低く、拡散性が高い。このために、超臨界流体は洗浄力が高いので、短い作業時間で、小型かつ運転が容易な除染装置により放射性物質を除染することができる。また、作業時間が短いので、作業者の被ばく線量を低減することができる。
【0011】
上記除染方法において、前記汚染機器と超臨界流体除染装置とを記除染流体が循環する除染流体循環ループを形成し、汚染機器の出入口を閉止具で塞ぎ、汚染機器内部に除染流体を充満して前記除染流体循環ループに除染流体を循環させて汚染機器内部に付着した放射性物質を除去するようにしてもよい。
【0012】
この除染方法では、除染流体循環ループを形成するので、超臨界流体除染装置で除染済みの除染流体を再生するとともに、放射性物質を除染流体から分離することができる。除染流体の再生および放射性物質の分離は閉じたループ内で行なわれるので、除染流体および放射性物質が外部に拡散することはなく、安全である。
【0013】
この発明の第1の仕切弁の除染方法は、放射性物質で内部が汚染された仕切弁を超臨界流体または亜臨界流体からなる除染流体で除染する仕切弁の除染方法であって、前記仕切弁の弁座を閉止板で塞ぎ、超臨界流体除染装置から前記除染流体を弁箱中央部に供給し、通過させて弁箱中央部に付着した放射性物質を除去し、除染流体から放射性物質を分離する。
【0014】
上記仕切弁の除染方法では、超臨界流体を用いて除染するので前述のような作用効果を奏する。また、弁座面を閉止板で塞ぎ、弁箱の除染範囲を弁箱中央部に限っているので、治具取付け作業時間、および除染時間は短時間で済み、放射能被ばく線量を大きく減少することができる。弁箱は配管に取り付けた状態で、除染可能である。
【0015】
上記仕切弁の除染方法において、前記弁箱中央部と超臨界流体除染装置とを除染流体が循環する除染流体循環ループを形成し、前記除染流体循環ループに除染流体を供給し、循環させて弁箱中央部に付着した放射性物質を除去し、除染流体から放射性物質を分離するようにしてもよい。
【0016】
この仕切弁の除染方法では、除染流体循環ループを形成するので、前述のように除染流体の再生および放射性物質の分離は閉じたループ内で行なわれるので、除染流体および放射性物質が外部に拡散することはなく、安全である。
【0017】
上記除染流体循環ループを形成する仕切弁の除染方法において、仕切弁の弁座をそれぞれ閉止板で塞ぎ、除染流体注入管および除染流体排出管を備えた除染流体循環治具を弁箱と弁蓋との間に挿入し、除染流体循環治具の除染流体注入管を前記超臨界流体除染装置の除染流体供給口に接続し、前記除染流体排出管を除染流体戻り口に接続して除染流体循環ループを形成し、弁体を吊り下げた状態で、弁箱中央部、弁蓋および前記除染流体循環治具の内側の空間に除染流体を充満し、前記除染流体循環ループに除染流体を循環させて除染するようにしてもよい。この除染方法によれば、弁箱中央部とともに、弁蓋および弁体も同時に除染することができので、除染作業時間を短縮することができる。
【0018】
また、仕切弁の弁座をそれぞれ閉止板で塞ぎ、除染流体注入管および除染流体排出管を備えた筒状の除染流体循環治具を弁蓋のパッキン箱を貫通させ、除染流体循環治具の除染流体注入管を前記超臨界流体除染装置の除染流体供給口に接続し、前記除染流体排出管を除染流体戻り口に接続して除染流体循環ループを形成し、前記除染流体循環治具の下端部に弁体を吊り下げた状態で、弁箱中央部および弁蓋の内側の内部に除染流体を充満し、前記除染流体循環ループに除染流体を循環させて除染するようにしてもよい。この除染方法によれば、弁蓋のパッキン箱を貫通するように除染流体循環治具が取り付けられているので、除染流体循環治具の取付けに広い空間を要しない。したがって、狭い場所であっても除染作業が可能である。
【0019】
さらに、弁箱から弁蓋を取り外した状態で仕切弁の両弁座を閉止板で塞ぎ、除染流体注入管および除染流体排出管を備えた第1除染流体循環治具で弁蓋の弁箱側開口部を塞ぎ、除染流体注入管および除染流体排出管を備えた第2除染流体循環治具で弁箱の弁蓋側開口部を塞ぎ、さらに第1除染流体循環治具の除染流体注入管を前記超臨界流体除染装置の除染流体供給口に接続し、第1除染流体循環治具の除染流体排出管を第2除染流体循環治具の除染流体注入管に接続し、第2除染流体循環治具の除染流体排出管を超臨界流体除染装置の除染流体戻り口に接続して除染流体循環ループを形成し、弁蓋および弁箱中央部の内部にそれぞれ除染流体を充満し、前記除染流体循環ループに除染流体を循環させて除染するようにしてもよい。また、弁箱または弁蓋に弁体を収納して除染するようにしてもよい。この除染方法によれば、弁箱と弁蓋とを別々に除染するので、仕切弁設置場所周辺が狭い場合に適している。
【0020】
この発明の仕切弁の除染装置は、前記第1および第2の仕切弁の除染方法に用いられる除染装置であって、両弁座をそれぞれ塞いで弁箱中央部を弁箱流路から遮断する一対の閉止板および閉止板を弁座面に押圧する押さえ金具を有する弁座閉止治具と、前記弁箱中央部に前記超臨界流体除染装置からの除染流体を注入する除染流体注入管および除染流体を超臨界流体除染装置に排出する除染流体排出管を有する除染流体循環治具とを備えている。
【0021】
この発明の仕切弁の除染装置は、閉止板および閉止板を弁座面に押圧する押さえ金具を有する弁座閉止治具を備え、弁座面を閉止板で塞ぎ、弁箱の除染範囲を弁箱中央部に限っている。したがって、治具取付け作業時間および除染時間は短時間で済み、放射能被ばく線量を大きく減少することができる。
【0022】
この発明の第2の仕切弁の除染方法は、放射性物質で内部が汚染された仕切弁を臨界点以下の気体からなる除染流体で除染する仕切弁の除染方法であって、弁座を弁体で閉止し、弁箱内に通じる除染流体注入管を弁蓋の上部グランドパッキンに貫通させ、除染流体注入管から弁箱中央部および弁蓋の内部に前記除染流体を注入する。
【0023】
上記第2の仕切弁の除染方法では、弁箱と弁蓋を組立てたままグランドパッキン部から除染流体を注入する。したがって、本分解時の時には、すでに弁内部の除染がある程度なされているため、作業者の被ばくは最小限で済む。
【0024】
この発明の第3の仕切弁の除染方法は、放射性物質で内部が汚染された仕切弁を臨界点以下の気体からなる除染流体で除染する仕切弁の除染方法であって、弁座を弁体で閉止し、除染流体注入治具を弁箱または弁蓋の枝管に取り付け、前記除染流体注入治具から枝管を介して弁箱中央部および弁蓋の内部に除染流体を注入する。
【0025】
上記第3の仕切弁の除染方法も、第2の除染方法と同様に本分解時の時には、すでに弁内部の除染がある程度なされているため、作業者の被ばくは最小限で済む。
【0026】
【発明の実施の形態】
汚染機器としてウエッジ仕切弁を、例として、図1〜図3を参照しながら、この発明の実施の形態について説明する。除染流体は超臨界二酸化炭素である。
【0027】
図1は弁座閉止治具および除染流体循環治具を取付けたウエッジ仕切弁の断面図、図2は超臨界流体除染装置の概略図、図3は弁座閉止治具の一例を示す詳細図である。
【0028】
除染作業は、まず準備作業として弁座閉止治具10で弁座3を閉止し、ついで除染流体循環治具30を装着する。
【0029】
弁座3を閉止するために、弁棒8を取付けたままの状態で弁蓋6をチェーンブロック(図示しない)などで吊り上げ、弁箱2から取り外す。これで、弁箱2の上部開口部は開放された状態になる。次に、ウエッジ仕切弁1の両弁座3を弁座閉止治具10で塞ぐ。弁座閉止治具10は、閉止板11と押さえ金具15とからなっている。
【0030】
閉止板11は一対からなり、それぞれの板面が入口側および出口側の弁座面に接する。閉止板11は、表面(弁座に向かい合う面)に環状のガイド12が設けられている。ガイド12は弁座3の内周に嵌め合って閉止板11の弁座3に対する位置を決め、閉止板11の取付けを助ける。閉止板表面の外周寄りに環状のガスケット13が取付けられている。ガスケット13の材料は、例えばNBRやテフロン(登録商標)などである。
【0031】
押さえ金具15は、図3に示すように4節リンクを備えたねじジャッキ機構からなっている。上側のリンク連結部17Tは、本体20にリンク16がピン連結されており、本体20はねじ軸23を回転可能に保持している。ねじ軸23は本体20に嵌め合う部分の上下にそれぞれつば24が設けられているので、ねじ軸23は回転しても本体20に対し上下に移動しない。下側のリンク連結部17Bはナツト21にリンク16がピン連結されており、ナット21に上記ねじ軸23が嵌め合っている。左右に向かい合うリンク連結部17L,17Rは、閉止板11にピン連結されている。上記のように構成された弁座閉止治具10で閉止板11を弁座3に押圧するには、ねじ軸頂部の角部25に回転治具(図示しない)を挿入し、ねじ軸23を回転する。ねじ軸23の回転により、4節リンクが左右方向に伸びて、閉止板11は弁座面4に押圧される。
【0032】
弁座3が閉止されると、除染流体循環治具30を弁箱上面にガスケット36を介して載せる。弁体7を弁棒8で吊り下げた状態で、弁蓋6を除染流体循環治具30の上面にガスケット36を介して載せる。そして、通しボルト37により除染流体循環治具30を弁箱2と弁蓋6との間で締め付け、これらの間をシールする。除染流体循環治具30では、除染流体注入管33および除染流体排出管34が円筒状本体31の周壁をそれぞれ貫通して本体内部に達している。除染流体注入管33は除染流体注入弁60および配管44を介して超臨界流体除染装置40の除染流体供給口41に接続し、除染流体排出管34は除染流体排出弁61および配管45を介して除染流体戻り口42に接続する。これにより、除染流体循環ループが形成される。
【0033】
超臨界流体除染装置40の基本構成を図2に示す。ここで、超臨界流体除染装置40には、二酸化炭素(除染流体)の昇圧装置47、二酸化炭素の減圧装置48および二酸化炭素と汚染物質を分離する分離槽49を備えている。
【0034】
このように構成された超臨界流体除染装置40の除染機能を説明する。
【0035】
昇圧装置47に送り込まれた二酸化炭素ガスは、昇圧装置47の内部で昇温昇圧され、720N/cm2×31℃前後の亜臨界あるいは超臨界状態になり、接続配管4
4を介してウエッジゲート弁1に供給され、弁箱2の中央内部5、弁蓋6の内部および弁体7を満遍なく除染し、汚染物質と共に接続配管45を通って、減圧装置48に送り込まれる。減圧装置48内では、亜臨界あるいは超臨界状態で導かれた二酸化炭素を減圧し、低圧低温のガス体にして汚染物質と共に分離槽49に送り込まれる。分離槽49内では、送り込まれた二酸化炭素ガス中の汚染物質のみを分離し、回収する。回収方法としては、フィルタなどに汚染物質を付着させ収集して廃棄するなどが考えられる。汚染物質を分離し清浄化した二酸化炭素ガスは、再び昇圧装置47に導かれて昇温昇圧される。
【0036】
このように超臨界流体除染装置40は、ウエッジゲート弁1を除染した除染流体中の汚染物質のみを回収し、二酸化炭素ガスは再生して再使用する。ウエッジゲート弁1と超臨界流体除染装置40との間で除染流体循環ループが形成され、いわゆるクローズドシステムになつているため、二酸化炭素による環境への影響を最小限にとどめている。
【0037】
なお、この発明の超臨界流体除染装置40に使用する除染流体は二酸化炭素単体ではなく、汚染状況により除染補助剤の適用も考えられる。
【0038】
図4はこの発明の他の実施の形態であり、弁座閉止治具および除染流体循環治具を取り付けたウエッジ仕切弁を示している。
【0039】
除染流体循環治具110は、円筒状本体111の下端にブロック状の弁体吊り下げ部112が形成されている。本体111上端寄りに、除染流体注入管113および除染流体排出管114が取り付けられている。除染流体注入管113は、除染流体注入口弁60および配管44を介して図2に示す超臨界流体除染装置40の除染流体供給口41に接続されている。除染流体排出管114は、除染流体排出口弁61および配管45を介して図2に示す超臨界流体除染装置40の除染流体戻り口42に接続されている。除染流体注入管113は本体内部の除染流体注入孔117に通じており、除染流体排出管114は除染流体排出孔118に通じている。
【0040】
上記のように構成された除染流体循環治具110を用いて除染作業を行う場合、弁蓋6を弁棒と一体として弁箱2から取り外した後、弁座閉止治具10で弁座3を塞ぐ。ついで、除染流体循環治具110を弁棒の代わりにパッキン箱9を貫通して弁蓋6に取付ける。除染流体循環治具110の弁体吊り下げ部112に弁体7を吊るした状態で、弁蓋6を弁箱2に取り付ける。
【0041】
この実施の形態では、除染流体循環治具110が弁箱2と弁蓋6との間に挿入された場合に比べて、除染流体循環治具30(図1参照)の高さだけ除染作業中の高さが低くてすむ。したがって、この実施の形態は作業現場の高さに余裕が無い場合に適している。
【0042】
図5および図6は、この発明の他の実施の形態を示している。図5は第1除染流体循環治具130を取付けた弁蓋6および超臨界流体除染装置40を示し、図6は弁座閉止治具10および第2除染流体循環治具140を取り付けた弁箱2を示している。図1および図4の除染設備による除染方法では、弁箱2と弁蓋6とを一体として除染していたが、この実施の形態では別々に除染する。
【0043】
第1除染流体循環治具130は、内側にキャップ132が取り付けられた弁蓋カバー131を備えている。キャップ132は弁蓋6の内部空間を狭め、除染流体の消費量を少なくする。弁蓋カバー131には除染流体注入管133および除染流体排出管134が取付けられている。第2除染流体循環治具140は、弁箱カバー141に除染流体注入弁142、除染流体注入管143および除染流体排出管144が取り付けられている。また、弁箱カバー141には、弁体吊り下げ金具147が設けられている。
【0044】
除染作業では、弁棒を組み付けたままの弁蓋6を弁箱2から取り外し、弁棒から弁体7を外し、さらに弁棒を弁蓋6から引き抜く。ついで、弁体7を吊り下げた状態の弁箱カバー141で弁箱2の上部開口部を塞ぐ。一方、弁蓋6の開口部を弁蓋カバー131で塞ぐ。弁蓋6のパッキン箱にプラグ138を挿入する。
【0045】
上記第1除染流体循環治具130の除染流体排出管134と第2除染流体循環治具140の除染流体注入管143とを、除染流体排出弁135、連絡管136および除染流体注入弁142を介して接続する。除染流体注入管133は配管44を介して超臨界流体除染装置40の除染流体供給口41に接続し、除染流体排出管144は配管45を介して除染流体戻り口42に接続する。これにより、除染流体循環ループが形成される。
【0046】
この実施の形態では、超臨界流体除染装置40から送出された除染流体は弁蓋6を除染し、次に弁箱2および弁体7を除染して超臨界流体除染装置40に戻る。
【0047】
図7および図8は、さらに他の実施の形態を示している。図7は第1除染流体循環治具150を取り付けた弁蓋6および超臨界流体除染装置40を示し、図8は弁座閉止治具10および第2除染流体循環治具160を取り付けた弁箱2を示している。この実施の形態は、図5および図6に示した場合と同様に弁箱2と弁蓋6とを別々に除染する。なお、以下の説明では、図5および図6に示す部材と同様の部材には同一の参照番号を付け、その説明は省略する。
【0048】
第1除染流体循環治具150は、弁蓋6より外側に張り出した弁体収容室152を有する弁蓋カバー151を備えている。弁体収容室152には、除染流体注入管153および除染流体排出管154が取り付けられている。
【0049】
第2除染流体循環治具160は、弁箱内に張り出したキャップ162が取り付けられた弁箱カバー161を備えている。キャップ162には、除染流体注入弁163、除染流体注入管164および除染流体排出管165が取り付けられている。キャップ162は弁箱2の中央内部5を狭め、除染流体の循環流量を少なくする。
【0050】
除染作業では、弁棒8を組み付けたままの弁蓋6を弁箱2から取り外す。弁体7を吊り下げた状態の弁蓋6の開口部を弁蓋カバー151で塞ぐ。一方、弁箱2の開口部を弁箱カバー161で塞ぐ。上記第1除染流体循環治具150の除染流体排出管154と第2除染流体循環治具160の除染流体注入管164とを、除染流体排出弁135、連絡管136および除染流体注入弁163を介して接続する。除染流体注入管153は配管44を介して超臨界流体除染装置40の除染流体供給口41に接続し、除染流体排出管165は配管45を介して除染流体戻り口42に接続する。これにより、除染流体循環ループが形成される。
【0051】
この実施の形態では、超臨界流体除染装置40から送出された除染流体は弁蓋6および弁体7を除染し、次に弁箱2を除染して超臨界流体除染装置40に戻る。
【0052】
この発明は、上記実施の形態に限られるのではなく、例えばこの発明の超臨界二酸化炭素除染方法および超臨界流体除染装置は、パラレルスライド仕切弁についてもウエッジ仕切弁と同様に適用することができる。
【0053】
図9は、第2の仕切弁の除染方法の実施の形態を示している。図1の除染設備による除染方法では、弁箱2と弁蓋6とを一度切り離して本除染を行うが、この実施の形態では、図1による本除染の前にウエッジ仕切弁1を組立てたままの状態で、臨界点以下の気体(ここでは、二酸化炭素ガス)で予備除染を行う。
【0054】
この予備除染を実施する場合、弁体7を全閉し、弁蓋6の上部操作機構を取り外し、パッキン箱からパッキンを抜き取った状態で、除染流体を注入する。除染流体注入治具200は、一端に除染流体注入管201が設けられ、除染流体注入弁204を介して他端に配管44が取り付けられている。除染流体注入管201は、パッキン上部の気密用のスペーサ202およびブッシュ203の内側挿入口を介して、パッキン箱内に挿入する。この状態で配管44より除染流体を注入することにより、弁箱2の中央内部5と弁蓋6の内部に除染流体が充満する。これにより、本分解時の時には、既に弁内部の除染がある程度なされているため、作業者の被ばくは最小限で済む。
【0055】
図10は、第3の仕切弁の除染方法の実施の形態を示している。図1の除染設備による除染方法では、弁箱2と弁蓋6とを一度切り離して本除染を行うが、この実施の形態では、図9と同様に図1による本除染の前にウエッジ仕切弁1を組み立てたままの状態で、臨界点以下の気体で予備除染を行う。
【0056】
この予備除染を実施する場合、弁体7を全閉し、弁蓋6の上部操作機構を取り外した状態で、除染流体を注入する。弁蓋6のベント管210に取り付けられた除染流体注入治具213は、除染流体注入弁216を介して他端に配管44が取り付けられている。この状態で配管44より除染流体を注入することにより、弁箱2の中央内部5と弁蓋6の内部に除染流体が充満する。これにより、本分解時の時には、すでに弁内部の除染がある程度なされているため、作業者の被ばくは最小限で済む。
【0057】
他の枝管として、弁蓋6のパッキン部のリークオフ管211や弁箱2に取り付けられたドレン管212があるが、これらに除染流体注入治具214および除染流体注入弁217あるいは除染流体注入治具215および除染流体注入弁218を取り付けても同様の効果が得られる。
【0058】
【発明の効果】
この発明の放射性物質汚染機器の除染方法では、洗浄力が高い超臨界流体または亜臨界流体を使用するので、小型かつ運転が容易な除染装置により放射性物質を短い作業時間で除染することができ、作業者の被ばく線量を低減することもできる。除染流体循環ループを形成することにより、除染流体の再生および放射性物質の分離は閉じたループ内で行なわれるので、除染流体および放射性物質が外部に拡散することはなく、安全である。
【0059】
この発明の仕切弁の除染方法では、弁座面を閉止板で塞ぎ、弁箱の除染範囲を弁箱中央部に限っているので、治具取付け作業時間、および除染時間は短時間で済み、放射能被ばく線量を大きく低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施の形態を示すもので、弁座閉止治具および除染流体循環治具を取り付けたウエッジ仕切弁の断面図である。
【図2】超臨界流体除染装置の概略図である。
【図3】図1に示す弁座閉止治具の拡大側面図である。
【図4】この発明の他の実施の形態を示すもので、弁座閉止治具および除染流体循環治具を取り付けたウエッジ仕切弁の断面図である。
【図5】この発明の更に他の実施の形態において、第1除染流体循環治具を取り付けた弁蓋の断面図および超臨界流体除染装置の概略図である。
【図6】図5に示す実施の形態で、弁座閉止治具および第2除染流体循環治具を取り付けたウエッジ仕切弁の弁箱の断面図である。
【図7】この発明の他の実施の形態を示すもので、第1除染流体循環治具を取り付けた弁蓋の断面図および超臨界流体除染装置の概略図である。
【図8】図7に示す実施の形態で、弁座閉止治具および第2除染流体循環治具を取り付けたウエッジ仕切弁の弁箱の断面図である。
【図9】この発明の他の実施の形態を示すもので、パッキン部に除染流体注入治具を取り付けたウエッジ仕切弁の断面図である。
【図10】この発明の更に他の実施の形態を示すもので、枝管に除染流体注入治具を取り付けたウエッジ仕切弁の断面図である。
【符号の説明】
1 ウエッジ仕切弁 2 弁箱
3 弁座 5 弁箱の中央内部
6 弁蓋 7 弁体
8 弁棒 10 弁座閉止治具
11 閉止板 15 押さえ金具
16 リンク 17 リンク連結部
20 連結部本体 23 ねじ軸
30 除染流体循環治具 31 治具本体
33 除染流体注入管 34 除染流体排出管
40 超臨界流体除染装置 41 除染流体供給口
42除染流体戻り口 47 昇圧装置
48 減圧装置 49 分離槽
110 除染流体循環治具 111 治具本体
113 除染流体注入管 114 除染流体排出管
130 第1除染流体循環治具 131 弁蓋カバー
133 除染流体注入管 134 除染流体排出管
138 プラグ 140 第2除染流体循環治具
141 弁箱カバー 143 除染流体注入管
144 除染流体排出管 147 弁体吊り下げ金具
150 第1除染流体循環治具 151 弁蓋カバー
152 弁体収容室 153 除染流体注入管
154 除染流体排出管 160 第2除染流体循環治具
161 キャップ 164 除染流体注入管
165 除染流体排出管 200 除染流体注入治具
201 除染流体注入管 202 スペーサ
203 ブッシュ 210 ベント管(枝管)
211 リークオフ管(枝管) 212 ドレン管(枝管)
213 除染流体注入治具 214 除染流体注入治具
215 除染流体注入治具

Claims (13)

  1. 放射性物質で内部が汚染された機器を超臨界流体または亜臨界流体からなる除染流体で除染する放射性物質汚染機器の除染方法であって、汚染機器の出入口を閉止具で塞ぎ、超臨界流体除染装置から除染流体を汚染機器内部に供給し、通過させて汚染機器内部に付着した放射性物質を除去し、除染流体から放射性物質を分離することを特徴とする放射性物質汚染機器の除染方法。
  2. 前記汚染機器内部と超臨界流体除染装置とを除染流体が循環する除染流体循環ループを形成し、超臨界流体除染装置から前記除染流体循環ループに除染流体を供給し、循環させて汚染機器内部に付着した放射性物質を除去し、除染流体から放射性物質を分離する請求項1記載の放射性物質汚染機器の除染方法。
  3. 前記除染流体が除染補助剤を含む請求項1または2記載の放射性物質汚染機器の除染方法。
  4. 放射性物質で内部が汚染された仕切弁を超臨界流体または亜臨界流体からなる除染流体で除染する仕切弁の除染方法であって、前記仕切弁の弁座を閉止板で塞ぎ、超臨界流体除染装置から前記除染流体を弁箱中央部に供給し、通過させて弁箱中央部に付着した放射性物質を除去し、除染流体から放射性物質を分離することを特徴とする仕切弁の除染方法。
  5. 前記弁箱中央部と超臨界流体除染装置とを除染流体が循環する除染流体循環ループを形成し、前記除染流体循環ループに除染流体を供給し、循環させて弁箱中央部に付着した放射性物質を除去し、除染流体から放射性物質を分離する請求項4記載の仕切弁の除染方法。
  6. 仕切弁の弁座をそれぞれ閉止板で塞ぎ、除染流体注入管および除染流体排出管を備えた除染流体循環治具を弁箱と弁蓋との間に挿入し、除染流体循環治具の除染流体注入管を前記超臨界流体除染装置の除染流体供給口に接続し、前記除染流体排出管を除染流体戻り口に接続して除染流体循環ループを形成し、弁体を吊り下げた状態で、弁箱中央部、弁蓋および前記除染流体循環治具の内側の空間に除染流体を充満し、前記除染流体循環ループに除染流体を循環させて除染することを特徴とする請求項5記載の仕切弁の除染方法。
  7. 仕切弁の弁座をそれぞれ閉止板で塞ぎ、除染流体注入管および除染流体排出管を備えた筒状の除染流体循環治具を弁蓋のパッキン箱を貫通させ、除染流体循環治具の除染流体注入管を前記超臨界流体除染装置の除染流体供給口に接続し、前記除染流体排出管を除染流体戻り口に接続して除染流体循環ループを形成し、前記除染流体循環治具の下端部に弁体を吊り下げた状態で、弁箱中央部および弁蓋の内側の内部に除染流体を充満し、前記除染流体循環ループに除染流体を循環させて除染することを特徴とする請求項5記載の仕切弁の除染方法。
  8. 弁箱から弁蓋を取り外した状態で仕切弁の両弁座を閉止板で塞ぎ、除染流体注入管および除染流体排出管を備えた第1除染流体循環治具で弁蓋の弁箱側開口部を塞ぎ、除染流体注入管および除染流体排出管を備えた第2除染流体循環治具で弁箱の弁蓋側開口部を塞ぎ、さらに第1除染流体循環治具の除染流体注入管を前記超臨界流体除染装置の除染流体供給口に接続し、第1除染流体循環治具の除染流体排出管を第2除染流体循環治具の除染流体注入管に接続し、第2除染流体循環治具の除染流体排出管を超臨界流体除染装置の除染流体戻り口に接続して除染流体循環ループを形成し、弁蓋および弁箱中央部の内部にそれぞれ除染流体を充満し、前記除染流体循環ループに除染流体を循環させて除染する請求項5記載の仕切弁の除染方法。
  9. 弁箱または弁蓋に弁体を収納して除染するする請求項8記載の仕切弁の除染方法。
  10. 前記除染流体が除染補助剤を含む請求項4〜9のいずれか1項に記載の仕切弁の除染方法。
  11. 請求項4または請求項5記載の仕切弁の除染方法に用いられる除染装置であって、両弁座をそれぞれ塞いで弁箱中央部を弁箱流路から遮断する一対の閉止板および閉止板を弁座面に押圧する押さえ金具を有する弁座閉止治具と、前記弁箱中央部に前記超臨界流体除染装置からの除染流体を注入する除染流体注入管および除染流体を超臨界流体除染装置に排出する除染流体排出管を有する除染流体循環治具とを備えたことを特徴とする仕切弁の除染装置。
  12. 放射性物質で内部が汚染された仕切弁を臨界点以下の気体からなる除染流体で除染する仕切弁の除染方法であって、弁座を弁体で閉止し、弁箱内に通じる除染流体注入管を弁蓋の上部グランドパッキンに貫通させ、除染流体注入管から弁箱中央部および弁蓋の内部に前記除染流体を注入することを特徴とする仕切弁の除染方法。
  13. 放射性物質で内部が汚染された仕切弁を臨界点以下の気体からなる除染流体で除染する仕切弁の除染方法であって、弁座を弁体で閉止し、除染流体注入治具を弁箱または弁蓋の枝管に取り付け、前記除染流体注入治具から枝管を介して弁箱中央部および弁蓋の内部に除染流体を注入することを特徴とする仕切弁の除染方法。
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