JP2004193239A - 電磁波シールドパネルの製造方法及び電磁はシールドパネル - Google Patents
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Abstract
【課題】工程を簡単にして製造が容易になるとともに、大型化が可能で見易くでき、かつ安価になる電磁波シールドパネルの製造方法及びその方法により製造される電磁波シールドパネルを提供するを提供する。
【解決手段】透明基板11上に導電性を有する粉末を含むレジストを塗布しフォトプロセスにより全面にわたって均一で連続した格子網目状の導電性のレジスト膜パターン14を形成し、このレジスト膜パターン14の表面に電気めっきにより金属膜15を形成し、金属膜15を形成した透明基板11の表面に保護層17を形成する。
【選択図】 図1
【解決手段】透明基板11上に導電性を有する粉末を含むレジストを塗布しフォトプロセスにより全面にわたって均一で連続した格子網目状の導電性のレジスト膜パターン14を形成し、このレジスト膜パターン14の表面に電気めっきにより金属膜15を形成し、金属膜15を形成した透明基板11の表面に保護層17を形成する。
【選択図】 図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ディスプレイ装置前面等に設置し電磁波を電磁波シールドパネルに関し、特に製造が容易で大型化が可能になる電磁波シールドパネルの製造方法及びその方法により製造される電磁波シールドパネルに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
近年、テレビあるいはプラズマディスプレイ等の表示装置の電磁波を遮断するために透明電磁波シールドフィルム等が使用されている。この透明電磁波シールドフィルムは、例えば、透明フィルム表面の金属層上にフォトレジストを塗布してエッチングレジストの層を形成し、露光・現像により電磁波シールドパターン部を形成し、それ以外の部分のエッチングレジスト層を除去した後、その露出した金属層をエッチングし、残りのエッチングレジストの層を除去して所定の電磁波シールドパターン部を形成し、この電磁波シールドパターン部を形成した透明フィルムに透明粘着層を形成している。また、このような透明電磁波シールドフィルムを透明粘着層を介してディスプレイパネルあるいは透明基板に貼り合わせることで透明電磁波シールドパネルが製造される(特許文献1参照)。
【0003】
【特許文献1】
特開2000−174486号公報(第2ページ)
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の透明電磁波シールドフィルムやそのパネルの製造方法では、製造方法が複雑で多くの工程が必要になり、大型化するには新たな設備が必要になり、かつコスト高になるおそれがあった。
【0005】
本発明は上記事情に鑑みなされたもので、工程を簡単にして製造が容易になるとともに、大型化が可能で見易くでき、かつ安価になる電磁波シールドパネルの製造方法及びその方法により製造される電磁波シールドパネルを提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために請求項1に記載の発明にあっては、透明基板上に導電性を有する粉末を含むレジストを塗布しフォトプロセスにより全面にわたって均一で連続した格子網目状の導電性のレジスト膜パターンを形成する工程と、前記レジスト膜パターンの表面に電気めっきにより金属膜を形成する工程と、前記金属膜を形成した透明基板の表面に保護層を形成する工程とを有することを特徴とするものである。レジストに導電性を有する粉末を含むことで、レジスト膜パターンが導電性を有するため、電気めっきによりレジスト膜パターンの表面に導電性の金属膜を形成することが工程を簡単にして製造が容易で大型化が可能になり、かつ安価になる。
【0007】
請求項2に記載の発明にあっては、前記導電性を有する粉末を含むレジストは、炭素粉末を含むレジストであることを特徴とするものである。炭素粉末が結合されて導電性を有するレジスト膜パターンが形成され、電気めっきによりの表面に導電性の金属膜を形成することが簡単になる。
【0008】
請求項3に記載の発明にあっては、表示装置の画面に装着される電磁波シールドパネルであって、透明基板上に全面にわたって均一で連続した格子網目状の導電性のレジスト膜パターンを形成し、このレジスト膜パターンの表面に金属膜を形成し、この金属膜を形成した透明基板の表面に保護層を形成し、この保護膜を形成した側を前記表示装置の画面側に対向させ、前記レジスト膜パターンが形成された透明基板側を目視側に配置したことを特徴とするものである。格子網目状の線幅やピッチ間隔を変えて開口率や抵抗値を管理することが容易になる。
【0009】
請求項4記載の発明にあっては、前記導電性のレジスト膜パターンは、炭素粉末で形成されていることを特徴とするものである。炭素粉末でレジスト膜パターンが形成され、黒色の格子網目状として目視側に配置されるため、反射防止の働きを持たせることが可能になり画面が見易くなる。
【0010】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を図示の一実施形態により具体的に説明する。図1〜図3は本発明実施形態の電磁波シールドパネルを説明する図であり、図1は電磁波シールドパネルの製造工程を説明する図、図2はパネル表面に形成される格子網目状のパターンの拡大斜視図、図3は電磁波シールドパネルの使用状態を説明する図である。
【0011】
本実施形態の電磁波シールドパネルの製造方法は、例えば、図1(a)に示すように、ガラス基板11の表面に、例えば、導電性を有する粉末として、炭素粉末等を含むレジスト膜12を塗布する。次に、同図(b)に示すように、このレジスト膜11を格子網目状のパターンを形成するためのマスク13を用いて露光し、続いて同図(c)に示すように、現像するとともに250℃〜300℃程度の温度でベークしてレジスト中に含む有機溶剤を揮発させることで、格子網目状のレジスト膜パターン14を形成する。このレジスト膜パターン14の形状は、例えば、図2に示すように、線幅(A)が5〜15μm、好ましくは10μm程度、ピッチ間隔(B)が200〜300μm、好ましくは250μm程度で、ガラス基板11の全面にわたって均一で連続した4角形の格子網目状に形成される。このレジスト膜パターン14は、炭素粉末が結合されて導電性を有する格子網目に形成されている。次に、同図(d)に示すように、電気めっきにより、レジスト膜パターン14の表面に、銅(Cu)等の導電性の金属膜15を、膜厚が5〜10μm程度になるよう形成する。次に、同図(e)に示すように、金属膜15を形成したガラス基板11を保護するために、透明なオーバーコート材16を塗布し、その表面にフィルム膜等の保護層17を貼り付けることで電磁波シールドパネル10が製造される。なお、金属膜15の周縁部分は、適宜配線のための処理が行われる。
【0012】
上記工程により製造される電磁波シールドパネル10は、例えば、図3に示すように、プラズマディスプレイ等の大型表示装置18の表示画面に対し、保護フィルム17側を画面側に対向させ、ガラス基板11側を目視側にして装着する。
【0013】
上記構成の電磁波シールドパネル10は、ガラス基板11の表面に格子網目状の導電性を有する金属膜15が形成されているため、通常の電磁波シールドパネルと同様に電磁波をシールドできるだけでなく、炭素粉末等を含むレジスト膜パターン14が黒色の格子網目状として目視側に配置されるため、反射防止の働きを持たせることが可能になり画面が見易くなる。また、この電磁波シールドパネル10の透明性は、格子網目状の線幅やピッチ間隔を任意に変え開口率を管理することで容易に実現できる。このとき、開口率のために線幅が細くなり、抵抗値が高くなるときには、その分だけ膜厚を大きくすることにより抵抗値を小さくすることができる。さらに、上記工程による電磁波シールドパネル10の製造方法は、炭素粉末等を含むレジスト膜を使用してガラス基板11表面に形成される格子網目状のレジスト膜パターン14は、炭素粉末が結合されて導電性を有するため、電気めっきによりレジスト膜パターン14の表面に導電性の金属膜15を形成することが簡単で大型パネルの製造が容易になり、かつ安価に製造することができる。
【0014】
なお、上記実施形態において、ガラス基板11を使用した例を説明したが、例えば、他のプラスチック等の透明基板を使用することができる。また、炭素粉末等を含むレジストでレジスト膜パターン14は、導電性を有するとともに黒色であるため反射を防止する点で好ましいが、他の導電性の金属粉末例えば、銅(Cu)粉末等を含むレジスト膜12を使用することもできる。さらに、レジスト膜パターン14及びその表面に形成される金属膜15の形状を4角形の連続した格子網目状とした例を説明したが、少なくとも全面にわたって均一で連続した形状で、線幅、膜厚、ピッチ間隔を任意に変えることで、開口率や表面抵抗値を管理することが可能な他の連続した格子網目状であってもよい。金属膜15は、銅(Cu)以外の、他の金属材料としてニッケル(Ni)、銀(Ag)あるいは金(Au)等の導電性の金属膜を使用することができる。
【0015】
【発明の効果】
以上説明したように本発明の電磁波シールドパネルの製造方法では、透明基板上に導電性を有する粉末を含むレジストを塗布しフォトプロセスにより全面にわたって均一で連続した格子網目状の導電性のレジスト膜パターンを形成する工程と、レジスト膜パターンの表面に電気めっきにより金属膜を形成する工程と、金属膜を形成した透明基板の表面に保護層を形成する工程とを有することで、レジスト膜パターンが導電性を有するため、電気めっきによりレジスト膜パターンの表面に導電性の金属膜を形成することが容易で工程が簡単になり大型化が可能になり、かつ安価になる。
【0016】
また、本発明の電磁波シールドパネルでは、表示装置の画面に装着される電磁波シールドパネルであって、透明基板上に全面にわたって均一で連続した格子網目状の導電性のレジスト膜パターンを形成し、このレジスト膜パターンの表面に金属膜を形成し、この金属膜を形成した透明基板の表面に保護層を形成し、この保護膜を形成した側を表示装置の画面側に対向させ、レジスト膜パターンが形成された透明基板側を目視側に配置したことで、炭素粉末でレジスト膜パターンが形成され、黒色の格子網目状として目視側に配置されるため、反射防止の働きを持たせることが可能になり画面が見易くなる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明実施形態の電磁波シールドパネルの製造工程を説明する図である。
【図2】本発明実施形態のパネル表面に形成される格子網目状のパターンの拡大斜視図である。
【図3】本発明実施形態の電磁波シールドパネルの使用状態を説明する図である。
【符号の説明】
10 電磁波シールドパネル
11 ガラス基板
12 レジスト膜
13 マスク
14 レジスト膜パターン
15 金属膜
16 オーバーコート材
17 保護層
18 大型表示装置
【発明の属する技術分野】
本発明は、ディスプレイ装置前面等に設置し電磁波を電磁波シールドパネルに関し、特に製造が容易で大型化が可能になる電磁波シールドパネルの製造方法及びその方法により製造される電磁波シールドパネルに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
近年、テレビあるいはプラズマディスプレイ等の表示装置の電磁波を遮断するために透明電磁波シールドフィルム等が使用されている。この透明電磁波シールドフィルムは、例えば、透明フィルム表面の金属層上にフォトレジストを塗布してエッチングレジストの層を形成し、露光・現像により電磁波シールドパターン部を形成し、それ以外の部分のエッチングレジスト層を除去した後、その露出した金属層をエッチングし、残りのエッチングレジストの層を除去して所定の電磁波シールドパターン部を形成し、この電磁波シールドパターン部を形成した透明フィルムに透明粘着層を形成している。また、このような透明電磁波シールドフィルムを透明粘着層を介してディスプレイパネルあるいは透明基板に貼り合わせることで透明電磁波シールドパネルが製造される(特許文献1参照)。
【0003】
【特許文献1】
特開2000−174486号公報(第2ページ)
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の透明電磁波シールドフィルムやそのパネルの製造方法では、製造方法が複雑で多くの工程が必要になり、大型化するには新たな設備が必要になり、かつコスト高になるおそれがあった。
【0005】
本発明は上記事情に鑑みなされたもので、工程を簡単にして製造が容易になるとともに、大型化が可能で見易くでき、かつ安価になる電磁波シールドパネルの製造方法及びその方法により製造される電磁波シールドパネルを提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために請求項1に記載の発明にあっては、透明基板上に導電性を有する粉末を含むレジストを塗布しフォトプロセスにより全面にわたって均一で連続した格子網目状の導電性のレジスト膜パターンを形成する工程と、前記レジスト膜パターンの表面に電気めっきにより金属膜を形成する工程と、前記金属膜を形成した透明基板の表面に保護層を形成する工程とを有することを特徴とするものである。レジストに導電性を有する粉末を含むことで、レジスト膜パターンが導電性を有するため、電気めっきによりレジスト膜パターンの表面に導電性の金属膜を形成することが工程を簡単にして製造が容易で大型化が可能になり、かつ安価になる。
【0007】
請求項2に記載の発明にあっては、前記導電性を有する粉末を含むレジストは、炭素粉末を含むレジストであることを特徴とするものである。炭素粉末が結合されて導電性を有するレジスト膜パターンが形成され、電気めっきによりの表面に導電性の金属膜を形成することが簡単になる。
【0008】
請求項3に記載の発明にあっては、表示装置の画面に装着される電磁波シールドパネルであって、透明基板上に全面にわたって均一で連続した格子網目状の導電性のレジスト膜パターンを形成し、このレジスト膜パターンの表面に金属膜を形成し、この金属膜を形成した透明基板の表面に保護層を形成し、この保護膜を形成した側を前記表示装置の画面側に対向させ、前記レジスト膜パターンが形成された透明基板側を目視側に配置したことを特徴とするものである。格子網目状の線幅やピッチ間隔を変えて開口率や抵抗値を管理することが容易になる。
【0009】
請求項4記載の発明にあっては、前記導電性のレジスト膜パターンは、炭素粉末で形成されていることを特徴とするものである。炭素粉末でレジスト膜パターンが形成され、黒色の格子網目状として目視側に配置されるため、反射防止の働きを持たせることが可能になり画面が見易くなる。
【0010】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を図示の一実施形態により具体的に説明する。図1〜図3は本発明実施形態の電磁波シールドパネルを説明する図であり、図1は電磁波シールドパネルの製造工程を説明する図、図2はパネル表面に形成される格子網目状のパターンの拡大斜視図、図3は電磁波シールドパネルの使用状態を説明する図である。
【0011】
本実施形態の電磁波シールドパネルの製造方法は、例えば、図1(a)に示すように、ガラス基板11の表面に、例えば、導電性を有する粉末として、炭素粉末等を含むレジスト膜12を塗布する。次に、同図(b)に示すように、このレジスト膜11を格子網目状のパターンを形成するためのマスク13を用いて露光し、続いて同図(c)に示すように、現像するとともに250℃〜300℃程度の温度でベークしてレジスト中に含む有機溶剤を揮発させることで、格子網目状のレジスト膜パターン14を形成する。このレジスト膜パターン14の形状は、例えば、図2に示すように、線幅(A)が5〜15μm、好ましくは10μm程度、ピッチ間隔(B)が200〜300μm、好ましくは250μm程度で、ガラス基板11の全面にわたって均一で連続した4角形の格子網目状に形成される。このレジスト膜パターン14は、炭素粉末が結合されて導電性を有する格子網目に形成されている。次に、同図(d)に示すように、電気めっきにより、レジスト膜パターン14の表面に、銅(Cu)等の導電性の金属膜15を、膜厚が5〜10μm程度になるよう形成する。次に、同図(e)に示すように、金属膜15を形成したガラス基板11を保護するために、透明なオーバーコート材16を塗布し、その表面にフィルム膜等の保護層17を貼り付けることで電磁波シールドパネル10が製造される。なお、金属膜15の周縁部分は、適宜配線のための処理が行われる。
【0012】
上記工程により製造される電磁波シールドパネル10は、例えば、図3に示すように、プラズマディスプレイ等の大型表示装置18の表示画面に対し、保護フィルム17側を画面側に対向させ、ガラス基板11側を目視側にして装着する。
【0013】
上記構成の電磁波シールドパネル10は、ガラス基板11の表面に格子網目状の導電性を有する金属膜15が形成されているため、通常の電磁波シールドパネルと同様に電磁波をシールドできるだけでなく、炭素粉末等を含むレジスト膜パターン14が黒色の格子網目状として目視側に配置されるため、反射防止の働きを持たせることが可能になり画面が見易くなる。また、この電磁波シールドパネル10の透明性は、格子網目状の線幅やピッチ間隔を任意に変え開口率を管理することで容易に実現できる。このとき、開口率のために線幅が細くなり、抵抗値が高くなるときには、その分だけ膜厚を大きくすることにより抵抗値を小さくすることができる。さらに、上記工程による電磁波シールドパネル10の製造方法は、炭素粉末等を含むレジスト膜を使用してガラス基板11表面に形成される格子網目状のレジスト膜パターン14は、炭素粉末が結合されて導電性を有するため、電気めっきによりレジスト膜パターン14の表面に導電性の金属膜15を形成することが簡単で大型パネルの製造が容易になり、かつ安価に製造することができる。
【0014】
なお、上記実施形態において、ガラス基板11を使用した例を説明したが、例えば、他のプラスチック等の透明基板を使用することができる。また、炭素粉末等を含むレジストでレジスト膜パターン14は、導電性を有するとともに黒色であるため反射を防止する点で好ましいが、他の導電性の金属粉末例えば、銅(Cu)粉末等を含むレジスト膜12を使用することもできる。さらに、レジスト膜パターン14及びその表面に形成される金属膜15の形状を4角形の連続した格子網目状とした例を説明したが、少なくとも全面にわたって均一で連続した形状で、線幅、膜厚、ピッチ間隔を任意に変えることで、開口率や表面抵抗値を管理することが可能な他の連続した格子網目状であってもよい。金属膜15は、銅(Cu)以外の、他の金属材料としてニッケル(Ni)、銀(Ag)あるいは金(Au)等の導電性の金属膜を使用することができる。
【0015】
【発明の効果】
以上説明したように本発明の電磁波シールドパネルの製造方法では、透明基板上に導電性を有する粉末を含むレジストを塗布しフォトプロセスにより全面にわたって均一で連続した格子網目状の導電性のレジスト膜パターンを形成する工程と、レジスト膜パターンの表面に電気めっきにより金属膜を形成する工程と、金属膜を形成した透明基板の表面に保護層を形成する工程とを有することで、レジスト膜パターンが導電性を有するため、電気めっきによりレジスト膜パターンの表面に導電性の金属膜を形成することが容易で工程が簡単になり大型化が可能になり、かつ安価になる。
【0016】
また、本発明の電磁波シールドパネルでは、表示装置の画面に装着される電磁波シールドパネルであって、透明基板上に全面にわたって均一で連続した格子網目状の導電性のレジスト膜パターンを形成し、このレジスト膜パターンの表面に金属膜を形成し、この金属膜を形成した透明基板の表面に保護層を形成し、この保護膜を形成した側を表示装置の画面側に対向させ、レジスト膜パターンが形成された透明基板側を目視側に配置したことで、炭素粉末でレジスト膜パターンが形成され、黒色の格子網目状として目視側に配置されるため、反射防止の働きを持たせることが可能になり画面が見易くなる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明実施形態の電磁波シールドパネルの製造工程を説明する図である。
【図2】本発明実施形態のパネル表面に形成される格子網目状のパターンの拡大斜視図である。
【図3】本発明実施形態の電磁波シールドパネルの使用状態を説明する図である。
【符号の説明】
10 電磁波シールドパネル
11 ガラス基板
12 レジスト膜
13 マスク
14 レジスト膜パターン
15 金属膜
16 オーバーコート材
17 保護層
18 大型表示装置
Claims (4)
- 透明基板上に導電性を有する粉末を含むレジストを塗布しフォトプロセスにより全面にわたって均一で連続した格子網目状の導電性のレジスト膜パターンを形成する工程と、前記レジスト膜パターンの表面に電気めっきにより金属膜を形成する工程と、前記金属膜を形成した透明基板の表面に保護層を形成する工程とを有することを特徴とする電磁波シールドパネルの製造方法。
- 前記導電性を有する粉末を含むレジストは、炭素粉末を含むレジストであることを特徴とする請求項1記載の電磁波シールドパネルの製造方法。
- 表示装置の画面に設置される電磁波シールドパネルであって、透明基板上に全面にわたって均一で連続した格子網目状の導電性のレジスト膜パターンを形成し、このレジスト膜パターンの表面に金属膜を形成し、この金属膜を形成した透明基板の表面に保護層を形成し、この保護膜を形成した側を前記表示装置の画面側に対向させ、前記レジスト膜パターンが形成された透明基板側を目視側に配置したことを特徴とする電磁波シールドパネル。
- 前記導電性のレジスト膜パターンは、炭素粉末で形成されていることを特徴とする請求項3記載の電磁波シールドパネル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002357638A JP2004193239A (ja) | 2002-12-10 | 2002-12-10 | 電磁波シールドパネルの製造方法及び電磁はシールドパネル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002357638A JP2004193239A (ja) | 2002-12-10 | 2002-12-10 | 電磁波シールドパネルの製造方法及び電磁はシールドパネル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004193239A true JP2004193239A (ja) | 2004-07-08 |
Family
ID=32757582
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002357638A Pending JP2004193239A (ja) | 2002-12-10 | 2002-12-10 | 電磁波シールドパネルの製造方法及び電磁はシールドパネル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2004193239A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101545122B1 (ko) * | 2015-04-21 | 2015-08-18 | 김규선 | 스퍼터링 장비의 쉴드 플레이트 제조방법 및 이에 의해 제조된 쉴드 플레이트 |
| WO2017215388A1 (zh) * | 2016-06-14 | 2017-12-21 | 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 | 电磁屏蔽膜及电磁屏蔽窗的制作方法 |
-
2002
- 2002-12-10 JP JP2002357638A patent/JP2004193239A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101545122B1 (ko) * | 2015-04-21 | 2015-08-18 | 김규선 | 스퍼터링 장비의 쉴드 플레이트 제조방법 및 이에 의해 제조된 쉴드 플레이트 |
| WO2017215388A1 (zh) * | 2016-06-14 | 2017-12-21 | 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 | 电磁屏蔽膜及电磁屏蔽窗的制作方法 |
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