JP2004161540A - 化学強化ガラスの製造方法およびその装置 - Google Patents

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Mizuki Nishi
瑞樹 西
Yoshiaki Tsujii
義明 辻井
Kenichi Takishima
健一 滝島
Shinichi Araya
眞一 荒谷
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Abstract

【課題】数十枚〜数百枚を一度に、破壊することなく、安定した品質で生産できる化学強化ガラスの製造方法および装置はなかった。
【解決手段】化学強化ガラスを予熱工程、化学強化処理工程、冷却工程の3工程で製造する場合において、2段階の冷却工程をもつ化学強化ガラスの製造方法。第1段階冷却開始温度が化学強化処理液温度〜(化学強化処理液温度−100℃)、第1段階冷却終了温度および第2段階冷却開始温度を(大気温度+370℃)〜(大気温度+280℃)、第2段階冷却終了温度を(大気温度+150℃)以下である特徴をもつ。さらに、予熱工程用および/または第1段階冷却工程用処理槽の他に、第2段階冷却処理槽をもつ、第2段階冷却が5〜20℃/minの冷却速度で冷却できる設備、第2段階冷却処理槽が上部と横部に開閉機構をもった化学強化ガラスの製造装置。
【選択図】 なし

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、数十枚〜数百枚の化学強化ガラスを一度に生産できる製造方法および装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
省資源・省エネルギーの観点あるいは社会的なニーズの変化から、強化ガラスの薄板化や強化度アップが進んでいる。一般的に用いられている風冷強化法では、3mm以下、特に2mm以下の板厚をもったガラスの生産が難しいことから、2mm以下のガラスでは、化学強化法が多く用いられている。また、化学強化ガラスは一般的に風冷法による強化ガラスよりも高い強度を得ることができるという特徴も、市場に受け入れられている大きな理由である。
【0003】
化学強化ガラスの製造方法としては、種々の方法が考えられている。例えば、小さなイオン半径の原子を大きなイオン半径の原子に置き換える方法、ガラスの粘性流動を利用して大きなイオン半径の原子を小さなイオン半径の原子に置き換える方法、熱膨張率の差を利用する方法、結晶を晶出させる方法、上述の方法を組み合わせる方法など、多くの方法がある。一般に、ソーダ・ライム系ガラスでは小さなイオン半径の原子を大きなイオン半径の原子に置き換える方法が数多く用いられ、その中でも、多くの化学強化ガラスは化学強化処理槽中に浸漬する、いわゆる浸漬法で製造されている。すなわち、ガラスを高温の化学強化処理液、例えば硝酸カリウム溶液中に浸積し、ガラス中のナトリウムイオンを硝酸カリウム中のカリウムイオンと置換することにより、表層に圧縮応力層を形成する。また、ガラス中にリチウムを含む場合の化学強化処理液としては、硝酸ナトリウム、または硝酸ナトリウムと硝酸カリウムの混合塩が多用される。
【0004】
浸漬法で化学強化ガラスを製造する場合、例えば、風冷法による強化ガラスを製造する場合と比較すると、その処理に多くの時間を要し、コスト高となる問題がある。このため、少しでも生産性を上げるよう、種々の工夫がなされている。ガラスを化学強化処理槽の中で移動させるタイプでは、その移動速度を上げるための工夫が、ガラスを化学強化処理槽の中で移動させないバッチタイプでは一回当たりの生産量を増やすことが検討されている。
【0005】
しかし、生産性を上げることは容易ではない。ガラスを化学強化処理槽の中で移動させるタイプではその移動速度の増大に、バッチタイプではその処理量に限界がある。特に、バッチタイプでは、一回当たりの処理量を増やすと、ガラスの浸漬時および化学強化処理槽からの引き上げ時に多くのガラスが破壊するという問題が発生する。
【0006】
公知技術をみれば、例えば、ハードディスクドライブの化学強化に関し、その工程が詳細に述べられている(例えば、特許文献1参照)。それをまとめると、
1)予備加熱槽での予備加熱(0.5〜2時間程度かけて380〜500℃に昇温)
2)硝酸カリウム又は硝酸ナトリウムの溶融塩溶液での化学強化処理(0.5〜6時間程度)
3)送風冷却槽での冷却(5〜25m/分の冷却風で面内温度差が5℃以内で溶融塩溶液の融点以下たる室温まで強制冷却)
のようになる。
【0007】
さらに、公知技術をみれば、例えば、弗酸溶液とオゾン雰囲気下での紫外線照射による小突起を除去する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および磁気ディスク基板(例えば、特許文献2参照)の中では、リチウムの入ったガラスを250℃で予熱することが述べられている。
【0008】
また、ガラス基板の歪点以下150〜200℃の温度範囲で再加熱するガラス基板強化処理方法(例えば、特許文献3参照)の中でも、化学強化方法に関する記述がある。ここでは、溶融塩溶液温度(ガラス基板の歪点よりも50〜100℃低い温度)近くまで、10〜60分かけて徐々に温度上昇されて、加熱炉から1〜2分後に浸漬槽に入れる方法が紹介されている。また、浸漬槽から取り出された後、5分かけてほぼ200℃まで大気中に放冷された後に再び加熱炉に入れられて再加熱する手法が述べられている。
【0009】
【特許文献1】
特開2000−344550号公報
【0010】
【特許文献2】
特開2001−195732号公報
【0011】
【特許文献3】
特開2000−344549号公報
【0012】
【発明が解決しようとする課題】
数十枚〜数百枚の化学強化ガラス生産を一度にしようとしても、簡単にはできない。特に、例えば200mmx200mm以上の大きなガラスを多量に処理することは難しい。その最も大きな問題はガラスの浸漬時および引き上げ時のガラス破壊である。特に、引き上げ時には、ガラス破壊が多発する傾向にある。このガラス破壊が発生すると、化学強化処理槽内にガラス断片が入り込み、化学強化ガラス製品の表面キズや化学強化ガラス製品の破壊を招く原因ともなりうる。
【0013】
また、不適切な予熱条件下で一回当たりの生産量を増やそうとすると、化学強化処理液温度の一時的な低下を引き起こし、その温度変化により、化学強化処理が不安定になるという問題も発生する。この化学強化処理液温度の影響は、ガラス表面の圧縮応力値、圧縮応力層の厚さなど、化学強化ガラスの物性に大きく影響する。
【0014】
特開2000−344550号公報で示された化学強化方法は、直径60〜100mmのハードディスクドライブを化学強化する場合である。また、特開2001−195732号公報や特開2000−344549号公報で開示されている技術は、3.5インチ程度の磁気ディスク基板が対象である。
【0015】
【課題を解決するための手段】
本発明の化学強化ガラス製造装置によれば、例えば200mmx200mm以上の大きなガラスに対しても、数十枚〜数百枚の化学強化ガラスを一度に、破壊することなく、高い生産性で生産できる。また、化学強化ガラスの品質も安定した供給が可能となる。
【0016】
本発明は、化学強化ガラスを予熱工程、化学強化処理工程、冷却工程の3工程で製造する場合において、2段階の冷却工程をもつ化学強化ガラスの製造方法である。
【0017】
第1段階冷却開始温度を化学強化処理液温度〜(化学強化処理液温度−100℃)、第1段階冷却終了温度および第2段階冷却開始温度を(大気温度+370℃)〜(大気温度+280℃)、第2段階冷却終了温度を(大気温度+150℃)以下とする化学強化ガラスの製造方法である。
【0018】
予熱工程用および/または第1段階冷却処理槽の他に、第2段階冷却処理槽をもつ化学強化ガラスの製造装置である。
【0019】
第2段階冷却が5〜20℃/minの冷却速度で冷却できる設備を有する化学強化ガラスの製造装置である。
【0020】
第2段階冷却処理槽が上部と横部に開閉機構をもっている化学強化ガラスの製造装置である。
【0021】
【発明の実施の形態】
数十枚〜数百枚の化学強化ガラス生産を一度に、生産時に破壊することなく、品質も安定した上に、さらに生産性を上げるためには、冷却工程において2段階の冷却工程をもつことが必要である。
【0022】
大きな流れとしては、
予熱工程→化学強化処理工程→第1冷却工程→第2冷却工程
の4工程をとる。予熱工程と第1冷却工程はその予熱と冷却を兼ねる予熱冷却処理槽、第2冷却工程は専用の冷却処理槽で行われる。予熱冷却処理槽は、その予熱工程および第1次冷却工程中に、セッティング場所、化学強化処理槽、および第2冷却処理槽の上方に移動する特徴がある。
【0023】
図1に示すように、化学強化ガラスを製造する場合において、化学強化処理槽2、予熱と第1段階冷却処理槽1の他に、第2段階冷却処理槽10を有する。ガラス処理用ラック4の中に装着されたガラス板3は、当初の位置からガラス処理用ラックの移動用レール6により予熱処理槽2の下まで移動した後、ガラス処理用ラックの上下移動用シリンダ9でAの位置にいる予熱処理槽2の中に搬送され、予熱される。予熱中に予熱処理槽2は処理槽移動用レール5によりAからBに移動する。
【0024】
予熱が終了したガラスは、化学強化処理槽2の中に浸漬されるが、予熱処理槽の下部開閉ドア7に引き続いて化学強化用処理槽の上部開閉ドア8が開き、化学強化処理槽1内の温度低下をできるだけ小さくするように制御される。化学強化処理の終了後、ガラス処理用ラック4の中に装着されたガラス板3は第1段階冷却処理槽2の中に入り、冷却が開始された数分後に第1段階冷却処理槽2はBの位置からCの位置に徐々に移動する。
【0025】
第1段階冷却処理槽2内が所定の温度になった後、ガラス処理用ラック4の中に装着されたガラス板3は第2段階冷却処理槽10の中に入る。このとき、第1段階冷却処理槽2の下部ドア7に引き続いて第2段階冷却処理槽10の上部ドア11が開閉し、第2段階冷却処理槽10内の温度低下をできるだけ小さくするように制御される。
【0026】
第2段階冷却処理槽10内が所定の温度に達した後、第2段階冷却処理槽10の横部ドアを開き、ガラス処理用ラックの移動用レール13を利用してガラス処理用ラック4の中に装着されたガラス板3を引き出す。この後、引き続き、ガラスの洗浄工程に入るのが一般的である。
【0027】
第1段階冷却の開始温度は、化学強化処理液温度と化学強化処理液温度よりも100℃低い温度との間とする必要がある。冷却開始温度を化学強化処理液温度よりも高くすると、ガラス破壊の問題は小さくなるが、生産性が低くなる。冷却開始温度を化学強化処理温度よりも100℃以上低い温度とすると、冷却開始時のガラス破壊が多くなる。
【0028】
第1段階冷却終了温度および第2段階冷却開始温度は、大気温度よりも280℃も高い温度と大気温度よりも370℃高い温度との間とする必要がある。
第1段階冷却終了温度および第2段階冷却開始温度を大気温度よりも280℃低い温度とすると、2段階冷却の効果が小さくなり、生産性が下がる。第1段階冷却終了温度および第2段階冷却開始温度を大気温度よりも370℃高い温度とすると、第2段階冷却開始時のガラス破壊が多くなる。
【0029】
第2段階冷却の終了温度は、大気温度よりも150℃高い温度以下とする必要がある。第2段階冷却の終了温度を、大気温度よりも150℃以上高くすると、取出時のガラス破壊の可能性が大きくなり、2段階冷却の効果が小さくなる。望ましくは、大気温度よりも100℃高い温度以下である。
【0030】
化学強化処理を効果的に行うためには、化学強化処理液温度を450〜510℃とするのが良い。また、大気温度は0〜30℃程度なので、両者を考えて最適条件を決めるのが良い。このことは、例えば夏と冬では、生産性の最適条件が変わることを示している。
【0031】
ガラスの冷却条件は、高温の方が難しく、低温になるほど楽になる。このことは、冷却開始時の冷却速度とある程度温度低下した後の冷却速度は異なることを示している。化学強化ガラスを効率的に生産するためには、予熱工程用と第1段階冷却工程用の処理槽を兼ねることで設備投資が減少し、結果として生産性が上がる。しかし、第1段階と第2段階の冷却開始温度が異なること、冷却速度が異なること、さらに最終段階まで槽内温度を下げてしまうと、予熱工程開始温度まで上げるのは非効率であることから、第2段階専用の冷却処理槽をもつことが結果として生産性を上げる。
【0032】
第2段階冷却処理槽が5〜20℃/minの冷却速度で冷却できる設備を有することも生産性向上の上で重要である。第2段階での冷却速度を5℃/minよりも小さくすると、生産性の上で問題となる。しかし、第2段階での冷却速度を20℃/minよりも大きくすると、第2段階冷却時でのガラス破壊が増大し、結果として生産性が下がる。
【0033】
さらに、第2段階冷却処理槽が上部と横部に開閉機構をもつことにより生産性を上げることができる。上部の開閉機構は、第1段階冷却処理槽から第2段階冷却処理槽に移動させるときに用いる。このとき、横部の開閉機構を使うと、この移動時にガラス破壊が増大する。しかし、最終段階でガラスを取り出す場合には、横部の開閉機構を使う。一般的には、化学強化ガラスの製造後、製造された化学強化ガラスは化学強化処理液の洗浄工程に入る。第2段階冷却の冷却速度は第1段階の冷却速度よりも大きくとれる場合が多いので、第2段階冷却処理槽上部の開閉機構を利用して、冷却速度を上げることも可能となる。
【0034】
【実施例】
以下、実施例に基づき、述べる。
【0035】
(実施例1)
ガラスは、板厚が1.1mmで300mmx300mmのソーダライムガラス、360枚を準備した。本発明の装置を使い、予熱開始温度は310℃、予熱終了温度は460℃、化学強化処理液温度は460℃、第1段階冷却開始温度は460℃とした。その後,300℃となった時点で第1段階冷却を終了し、第2段階冷却処理槽に移動して第2段階の冷却を行い、第2段階冷却処理槽の温度が180℃になったところで、その横部開閉ドアを利用して取り出した。第2段階での冷却速度を5℃/minとした。大気温度は30℃であった。
【0036】
この結果、従来の冷却所要時間の57分を50分と大幅に短縮できた。さらに、このガラスを洗浄し、その品質を確認したところ、化学強化ガラス製品としての品質には問題がなく、1枚のガラス破壊も認められなかった。
【0037】
(実施例2)
板厚が0.55mmで200mmx200mmのソーダライムガラス、600枚を準備した。予熱開始温度は250℃、予熱終了温度は520℃、化学強化処理液温度は500℃、第1段階冷却開始温度は500℃とした。その後,220℃となった時点で第1冷却を終了し、第2段階冷却処理槽に移動して第2段階の冷却を行い、第2段階冷却処理槽の温度が170℃になったところで、横部開閉ドアを利用して取り出した。第2段階での冷却速度を18℃/minとした。大気温度は20℃であった。冷却終了温度は120℃、大気温度は20℃であった。
【0038】
この結果、従来の冷却所要時間の62分を50分と大幅に短縮できた。さらに、このガラスを洗浄し、その品質を確認したところ、化学強化ガラス製品としての品質には問題がなく、1枚のガラス破壊も認められなかった。
【0039】
(比較例1)
ガラスは、板厚が1.1mmで300mmx300mmのソーダライムガラス、360枚を準備した。本発明の装置を使い、予熱開始温度は310℃、予熱終了温度は460℃、化学強化処理液温度は460℃、冷却開始温度は460℃、冷却終了温度は180℃の条件で生産した。大気温度は30℃であった。
【0040】
この結果、2段階の冷却としなかった場合には、冷却所要時間に57分を要した。しかし、このガラスを洗浄し、その品質を確認したところ、化学強化ガラス製品としての品質には問題がなく、1枚のガラス破壊も認められなかった。
【0041】
(比較例2)
板厚が0.55mmで200mmx200mmのソーダライムガラス、480枚を準備した。予熱開始温度は250℃、予熱終了温度は520℃、化学強化処理液温度は500℃、冷却開始温度は500℃、冷却終了温度は120℃とした。その冷却速度を22℃/minであった。この冷却速度とするために第2段階冷却処理槽の上部開閉ドアを一部開放し、時間短縮のためにガラスも上部開閉ドアを利用して取り出した。大気温度は20℃であった。
【0042】
冷却所要時間は20分弱で、大幅な短縮となったが、このガラスを洗浄し、その品質を確認したところ、28枚のガラス破壊が認められた。
【0043】
以上の結果から示されるように、本発明の化学強化ガラス製造装置によれば、数十枚〜数百枚の化学強化ガラスを一度に、破壊することなく、非常に高い生産性で生産できる。また、化学強化ガラスの品質も安定した供給が可能となる。
【0044】
【発明の効果】
数十枚〜数百枚の化学強化ガラスを一度に、破壊することなく、非常に高い生産性で生産できる上、品質が安定した化学強化ガラスの供給も可能となる。建築用、電子材料用および自動車用など、化学強化ガラスが用いられている多くの分野での生産性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の化学強化ガラスの製造装置の一例を示す側面図である。
【符号の説明】
1 予熱/第1段階冷却処理槽
2 化学強化処理槽(浸漬槽)
3 ガラス板
4 ガラス処理用ラック
5 予熱/第1段階冷却処理槽の移動用レール
6 ガラス処理用ラックの移動用レール
7 予熱/第1段階冷却処理槽の下部開閉ドア
8 化学強化処理槽の上部開閉ドア
9 ガラス処理用ラックの上下移動用シリンダ
10 第2段階冷却処理槽
11 第2段階冷却処理槽の上部開閉ドア
12 第2段階冷却処理槽の横部開閉ドア
13 ガラス処理用ラックの移動用レール
A 予熱開始位置
B 予熱終了、浸漬および第1段階冷却開始位置
C 第2段階冷却開始位置

Claims (5)

  1. 化学強化ガラスを予熱工程、化学強化処理工程、冷却工程の3工程で製造する場合において、2段階の冷却工程をもつことを特徴とする化学強化ガラスの製造方法。
  2. 第1段階冷却開始温度を化学強化処理液温度〜(化学強化処理液温度−100℃)、第1段階冷却終了温度および第2段階冷却開始温度を(大気温度+370℃)〜(大気温度+280℃)、第2段階冷却終了温度を(大気温度+150℃)以下とすることを特徴とする請求項1に記載の化学強化ガラスの製造方法。
  3. 予熱工程用および/または第1段階冷却処理槽の他に、第2段階冷却処理槽をもつことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の化学強化ガラスの製造装置。
  4. 第2段階冷却が5〜20℃/minの冷却速度で冷却できる設備を有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の化学強化ガラスの製造装置。
  5. 第2段階用冷却処理槽が上部と横部に開閉機構をもっていることを特徴とする請求項4に記載の化学強化ガラスの製造装置。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007012247A (ja) * 2005-06-03 2007-01-18 Hoya Corp 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法
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