JP2004160296A - 膜形成装置及び膜形成方法、電気光学装置、並びに電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】輝度、発光色のムラの発生を抑えた電気光学素子を形成する膜形成装置及び膜形成方法等を提供する。
【解決手段】加熱機構３上に載置された基板２の表面に対向する平面部６ｂを有する板体６を備えてなり、基板２上に塗布された液体材料の乾燥時に、平面部６ｂと基板２の表面との間に一定の間隔ｄを維持しつつ、基板２の表面を覆う制御部材５を備える。板体６には、複数の貫通孔７が穿設されている。
【選択図】 図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、膜形成装置及び膜形成方法、電気光学装置、並びに電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス（以下、有機ＥＬと表記する）装置等の電気光学装置の開発が加速している。特に、有機ＥＬ装置における発光材料としては、一般に高分子系と低分子系の有機ＥＬ材料とに分類されており、その中でも高分子系材料については、インクジェット法による有機ＥＬ素子の製造方法が多々提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
上記のような有機ＥＬ素子の製造方法では、インクジェット法により有機ＥＬ材料を含有する液体材料を基板上に吐出した後、乾燥装置（例えば、特許文献２参照。）により基板上に塗布された液体材料を乾燥させ、発光層等の薄膜層を形成することが一般的である。
【０００３】
【特許文献１】
特開平１１−５４２７０号公報
【特許文献２】
特開２００２−２６１１３号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来技術においては、以下のような問題点を有していた。
インクジェット法による有機ＥＬ材料の塗布方法では、直径がμｍオーダーの液滴を高解像度で吐出、塗布することができるものの、基板上に吐出された微小液体の乾燥は極めて速く、更に、基板上の塗布領域における端（上端、下端、右端、左端）では、画素領域に塗布された微小液体（液体材料）から蒸発した溶媒分子分圧が低いため、一般的に速く乾きはじめる。また、ＴＦＴ素子によるアクティブ駆動を行う場合、ＴＦＴ素子領域や、配線等の形状、配置の関係上、画素配置がＸ，Ｙ方向ともに等間隔にできない場合があり、各画素上に塗布された液滴の周囲で局所的な蒸発溶媒分子分圧差が生じる。即ち、このような画素上に塗布された有機材料液体の乾燥時間の差が、画素内、画素間での有機薄膜の膜厚ムラを引き起こし、更には、この膜厚ムラが、輝度ムラ、発光色ムラ等の表示ムラの原因となるという問題があった。
また、基板上に塗布された微小液体を通常の乾燥装置を使用して乾燥させた場合、微小液体の表面付近から硬化を開始するので、微小液体内部の溶媒が外部に放出されにくくなる。これにより、乾燥後に得られる有機薄膜の表面に、細かな凹凸部やピンホールが発生するという問題があった。
【０００５】
本発明は、上記事情を鑑みてなされたものであり、輝度、発光色のムラの発生を抑えた電気光学素子を形成する膜形成装置及び膜形成方法等を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するために、本発明の膜形成装置においては、基板上に塗布された、膜形成成分を含有する液体材料を乾燥させることにより膜を形成する膜形成装置において、載置された前記基板を加熱する加熱機構と、前記基板の表面に対向する平面部を有し、前記平面部と前記基板の表面との間に間隔を維持しつつ、前記基板の表面を覆い、前記液体材料に含有する溶媒の蒸散を制御する制御部材を備えることを特徴としている。
上記の膜形成装置によれば、基板の表面上に制御部材が設置されることにより微小空間が形成されているので、基板上に液体材料を吐出した後、加熱機構による加熱によって該液体材料から蒸発する溶媒の分子分圧は、略均一となる。即ち、膜形成領域毎で膜形成成分の乾燥時間の差が小さくなるので、平坦な薄膜を形成することが可能となり、画素内、画素間での薄膜の膜厚ムラを抑えることができる。更に、微小液体全体が均一に硬化するので、乾燥後に得られる有機薄膜の表面に、細かな凹凸部やピンホールの発生を抑制させることが可能となる。
【０００７】
本発明の膜形成装置においては、前記制御部材は、前記平面部に複数の貫通孔が穿設された板体であることを特徴としている。
これによれば、制御部材を容易に形成することができるとともに、複数の貫通孔から効率良く溶媒を放出させることが可能であるので、薄膜の平坦化を効率良く実施することができる。
【０００８】
本発明の膜形成装置においては、前記制御部材は、少なくとも２枚以上の前記板体を、一定の間隔を開けて重層させることを特徴としている。
これによれば、効率良く、更に、基板表面全体で均一に溶媒を放出させることが可能であるので、薄膜の平坦化を更に効率良く実施することができる。
【０００９】
本発明の膜形成装置においては、前記貫通孔は、前記平面部における穿設位置によって、開口形状が異なり、また、前記平面部において、外郭部よりも中心部に密に穿設されることを特徴としている。
これによれば、効率良く、基板表面全体で均一に溶媒を放出させるために最適な貫通孔を設定することが可能であるので、薄膜の平坦化を更に効率良く実施することができる。
【００１０】
本発明の膜形成装置においては、前記平面部と前記基板の表面との間隔は、０．５〜１．５ｍｍの範囲に設定されることを特徴としている。
これによれば、基板の表面上に、最適な微小空間を形成することができるので、基板上に液体材料を吐出した後、該液体材料から蒸発する溶媒の分子分圧をより一層効率的に均一にすることができる。
【００１１】
本発明の膜形成装置においては、前記制御部材は、前記基板上に塗布された前記液体材料から蒸散する前記溶媒を排出する排気機構を備えることを特徴としている。
これによれば、基板上において、液体材料から蒸発する溶媒の分子分圧を効率的に均一にするとともに、溶媒を効率的に排出することができる。
【００１２】本発明の膜形成方法においては、基板上に、膜形成成分を含有する液体材料を吐出する膜形成方法において、前記液体材料を吐出した後、前記基板の表面上の一部若しくは全体を、該表面から一定間隔で離間され、且つ、複数の貫通孔が穿設された部材で覆い、前記基板を加熱して前記液体材料に含有する溶媒を蒸散させ、前記部材によって前記溶媒の蒸散を制御することを特徴としている。
上記の膜形成方法によれば、基板の表面上を一定間隔で離間された部材で覆うので、基板と部材間に形成された微小空間内において、基板上の塗布領域毎による液体材料から蒸発する溶媒分子分圧の差を小さくすることで、液体材料の乾燥時間の差が小さくなり、画素内、画素間での有機薄膜の膜厚ムラを抑えることができる。更に、微小液体全体が均一に硬化するので、乾燥後に得られる有機薄膜の表面に、細かな凹凸部やピンホールの発生を抑制させることが可能となる。
【００１３】
本発明の膜形成方法においては、前記部材には、排気手段を備えてなり、
前記排気手段により、蒸散した前記溶媒を前記基板上から排出させることを特徴としている。
これによれば、基板上に蒸散した溶媒を効率良く排出することができるので、更に効率良く、基板上の塗布領域毎による溶媒の分子分圧の差を小さくすることが可能となる。
【００１４】
本発明の電気光学装置においては、上記の膜形成装置を用いて製造されたことを特徴としており、更には、本発明の電子機器は、前記電気光学装置を備えていることを特徴としている。
これらの電気光学装置及び電子機器によれば、輝度、発光色のムラの発生を抑えたものとすることが可能となる。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る膜形成装置及び膜形成方法、電気光学装置、並びに電子機器の実施形態を、図１乃至図７を参照して説明する。これらの図面は、いずれも概略図であり、各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各部材毎に縮尺を異ならせている。
【００１６】
〔第１実施形態〕
第１実施形態として、本発明の膜形成装置について説明する。
なお、本実施形態における膜形成装置は、インクジェット方式による塗布装置（インクジェット装置）により、特に、有機ＥＬ装置を形成する際の乾燥工程に採用されるものとして説明する。この場合、インクジェット装置は、画素を形成する有機物からなる正孔注入層材料並びに発光材料を溶媒に溶解又は分散させたインク組成物（液体材料）を、インクジェットヘッドから吐出させて透明電極上にパターニング塗布し、正孔注入／輸送層並びに発光層を形成する装置である。特に、以下の実施形態においては、発光層を形成するものとし、例えば、赤色、緑色、青色に発光するポリフルオレン系材料を用いて、赤色発光層用インク組成物、緑色発光層用インク組成物、青色発光層用インク組成物の３種類を調製し使用する。この場合、インク溶媒としては、例えばシクロヘキシルベンゼン等が好適に用いられる。
【００１７】
図１に、膜形成装置１の概略的な断面図を示す。
膜形成装置１は、基板２を載置して、該基板２を加熱する加熱機構３と、基板２上に、一定距離離間して設けられた制御部材５とを備えてなる。基板２上には、上述したように、例えば発光層を形成するための有機ＥＬ材料を含有したインク組成物がインクジェット装置によって塗布されている。
【００１８】加熱機構３は、基板２全体を載置することが可能な大きさを有する平面部を備えた加熱装置であり、例えばホットプレートが好適に用いられる。なお、加熱機構３の種類としては、このホットプレートに限定するものではなく、セラミックヒータ等の加熱装置でもよい。また、不図示であるが、基板２の載置部には、真空吸着機構、又はチャック機構等の基板保持機構が備えられており、加熱時の基板２の振動を防止している。
【００１９】
制御部材５は、基板２の表面を覆い、基板２上にインク組成物に含有する溶媒の蒸散を制御するものであり、固定枠５ａを介して、複数（図中では３枚）の板体６により形成されている。板体６には、複数の貫通孔７が穿設されている。板体６の平面部において貫通孔７を穿設する位置は、例えば、図２（ａ）に示すように、Ｘ，Ｙ方向にそれぞれ同一の間隔Ｌ１を有する位置とすることもできる。
【００２０】
また、図２（ｂ）に示すように、Ｘ，Ｙ方向において、板体６の最外郭部では比較的広い間隔Ｌ２とし、その内側部では間隔Ｌ２よりも狭い間隔Ｌ３とし、更に、板体６上の中心部では、間隔Ｌ３よりも狭い間隔Ｌ４とするなど、板体６の平面部において貫通孔７の形成間隔を異ならせても好適に使用することができる。更には、貫通孔７の全ての口径を、図２（ａ）及び図２（ｂ）に示したように、同一径とせず、図２（ｃ）に示すように、Ｘ，Ｙ方向において、板体６の最外郭部では比較的小さな口径Ｄ１とし、その内側部では口径Ｄ１よりも大きい口径Ｄ２とし、更に、板体６上の中心部では、口径Ｄ２よりも大きい口径Ｄ３とするなど、板体６の平面部において貫通孔７の口径を異ならせても好適に使用することができる。なお、図２において、貫通孔７の開口形状をすべて円形としたが、本発明では、これに限定するものでなく、多角形としてもよい。
【００２１】
また、本実施形態では、図１に示すように、板体６を３段に重ね、更に、直接向かい合う板体６同士においては、それぞれの板体６の平面部に形成された貫通孔７の位置が互いにずれた位置とする構成としているが、本発明では、これに限定されないのは勿論である。制御部材５としては、例えば、単に板体６を一枚のみの構成としても構わないし、更に、複数の板体６のそれぞれに形成される貫通孔７の形成位置や設置数、又は開口形状が異なっていても構わない。
【００２２】
板体６の平面部の表面積は、特に限定するものではないが、例えば、基板２の平面部の表面積よりも大きく、基板２を完全に覆う程度の大きさとすることが好ましい。また、板体６の材質は、アルミニウム合金やステンレススチール等の金属材料が好適に用いられ、更に、板体６の平面部には、インク組成物の蒸発成分による腐食を防止するために、コーティング加工等の表面処理を施しても良い。
【００２３】
更に、制御部材５における、基板２に直接対向する板体６の平面部６ｂと、基板２の表面２ａとの間隔ｄは、微小間隔であることが好ましく、特に、間隔ｄを０．５〜１．５ｍｍの範囲に設定することが望ましい。なお、制御部材５の加熱機構３に対する設置方法は、不図示であるが、加熱機構３の外周部に制御部材５の駆動機構を設けて、制御部材５を可動自在とし、間隔ｄを適宜自動調整する方法も採用できるが、特に、限定するものではない。
【００２４】
以下、上記構成から成る膜形成装置１による乾燥工程について説明する。
膜形成装置１に搬送される前の基板２には、インクジェット装置によって、発光層を形成するための有機ＥＬ材料を含有したインク組成物が塗布され、基板２上の所定の領域に、液体状の膜が形成されている。そして、基板２上に塗布されたインク組成物を、本実施形態の膜形成装置１によって、インク組成物に含有する溶媒が蒸発させて乾燥させ、有機ＥＬ材料のみの発光層を形成させる。
【００２５】
まず、上記基板２を加熱機構３上に載置させ、固定維持させる。その後、基板２に直接対向する板体６の平面部６ｂと、基板２の表面２ａとの間隔ｄが約０．８ｍｍ程度となるように、基板２上に制御部材５を設置する。制御部材５の設置が完了した後、加熱機構３を稼働させて基板２の加熱を開始する。加熱機構３による加熱に際し、加熱温度や加熱時間等の加熱条件は、基板２の大きさや形成する発光層の所望の形状等によって適宜決定される。なお、図１では、不図示であるが、膜形成装置１を構成する加熱機構３や制御部材５の全体をチャンバの内部に設置することで、加熱時のチャンバ内の雰囲気条件（例えば、雰囲気ガスや、雰囲気圧力等）を制御し、乾燥処理を好適に実施し、大気中のガスによる発光層の汚染を抑止させることも可能である。
【００２６】
加熱機構３による基板２の加熱時では、基板２と制御部材５との間に形成されている空間が微小空間Ｓ（図１参照）であること、また、基板２上に形成された液体状膜から蒸発する溶媒が、制御部材５の板体６に形成されている貫通孔７から効率的に蒸発していくことにより、前記溶媒の分子分圧が、基板２上の全面に渡って略均一となり、高い値に維持させることが可能となる。この場合、図２（ｂ）と図２（ｃ）とに示したような板体６を採用することにより、制御部材５を通過して放出される溶媒は、板体６の中心部からより多く放出される。即ち、制御部材５の外郭部において、板体６の外郭部から放出される溶媒の量と、制御部材５を通過せずに制御部材５の外周部から漏れ出す溶媒の量とを合わせた量が、板体６の中心部から放出される量とほぼ同等とすることができるので、基板２上全体において、効率良く溶媒の分子分圧を均一とし、高い値とすることが可能となる。
【００２７】
図３に、一発光層の断面形状の比較図を示す。図３では、下層基板１０上にバンク１１が形成されており、更に該バンク１１間に発光層１２が形成される。本実施形態では、上記の作用により、発光層の各形成領域の有機ＥＬ材料の乾燥時間の差が小さくなることから、図３（ａ）及び図３（ｂ）に示す従来の発光層形状と比較して、図３（ｃ）に示すように、平坦な発光層を形成することが可能となり、画素内、画素間での有機薄膜の膜厚ムラを抑えることができる。
【００２８】
このように、上記の膜形成装置によれば、加熱機構３に載置された基板２の表面上に制御部材５が設置されることにより、微小空間Ｓが形成され、且つ、制御部材５の板体６に形成された貫通孔７により効率良く溶媒が放出されるので、発光層の各形成領域によって蒸発する溶媒の分子分圧が略均一となる。即ち、発光層の各形成領域の有機ＥＬ材料の乾燥時間の差が小さくなるので、平坦な発光層を形成することが可能となる。更に、微小空間Ｓにおける溶媒の分子分圧が高い状態に維持されることから、液体状膜は、該液体状膜全体から効率良く硬化を開始するので、乾燥後に得られる有機薄膜の表面に、細かな凹凸部やピンホールが発生することを抑止することが可能となる。従って、画素内、画素間での有機薄膜の膜厚ムラを抑えることができ、輝度ムラ、発光色ムラ等の表示ムラの発生を抑えた電気光学装置を製造することが可能となる。
【００２９】
〔第２実施形態〕
図４は、本発明の第２の実施形態における膜形成装置を示す図であり、本図中において、図１と同一構成のものには、同一の符号を付している。
本実施形態における膜形成装置では、基本的な構成は図１に示す第１の実施形態と同様であるが、制御部材５に排気機構２０を備えることを特徴としている。
【００３０】
排気機構２０は、基板２に対向する面とは反対側の面となる板体６の表面全体を覆うように設けられた排気容器２１と、該排気容器２１の中心に位置する上面に設けられた排気口２２と、不図示であるが、排気口２２に連結される吸引ポンプ等の排気装置とから構成されている。
【００３１】
上記の膜形成装置によれば、制御部材５に排気機構２０を設置することによって、基板２の表面上、即ち微小空間Ｓにおいて、強制的に一定の気流を発生させるので、更に効率的に、発光層の各形成領域によって蒸発する溶媒の分子分圧を略均一とすることが可能となる。従って、更に効率良く平坦な発光層を形成することが可能となり、また、乾燥後に得られる有機薄膜の表面に、細かな凹凸部やピンホールが発生することを更に効率良く抑止することが可能となる。
【００３２】
〔第３実施形態〕
図５は、本実施形態に係る電気光学装置の一例である有機ＥＬ装置（ＥＬ表示装置）の配線構造を示す模式図である。
ＥＬ表示装置３０は、スイッチング素子として薄膜トランジスタ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ、以下、ＴＦＴと略記する）を用いたアクティブマトリクス方式のＥＬ表示装置である。
【００３３】
図５に示すように、ＥＬ表示装置３０は、複数の走査線１０１…と、各走査線１０１に対して直角に交差する方向に延びる複数の信号線１０２…と、各信号線１０２に並列に延びる複数の電源線１０３…とがそれぞれ配線された構成を有するとともに、走査線１０１…と信号線１０２…の各交点付近に、画素領域Ａ…が設けられている。
【００３４】
信号線１０２には、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン及びアナログスイッチを備えるデータ線駆動回路１００が接続されている。また、走査線１０１には、シフトレジスタ及びレベルシフタを備える走査線駆動回路８０が接続されている。
【００３５】
更に、画素領域Ａ各々には、走査線１０１を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング用ＴＦＴ１１２と、このスイッチング用ＴＦＴ１１２を介して信号線１０２から共有される画素信号を保持する保持容量１１３と、該保持容量１１３によって保持された画素信号がゲート電極に供給される駆動用ＴＦＴ１２３（駆動用電子素子）と、この駆動用ＴＦＴ１２３を介して電源線１０３に電気的に接続したときに当該電源線１０３から駆動電流が流れ込む陽極４０（陽極電極、図６参照）と、この陽極４０と陰極５０（陰極電極、図６参照）との間に挟み込まれた機能層１１０（図６参照）とが設けられている。陽極４０と陰極５０と機能層１１０により、発光素子が構成されている。
【００３６】
このＥＬ表示装置３０によれば、走査線１０１が駆動されてスイッチング用ＴＦＴ１１２がオン状態になると、そのときの信号線１０２の電位が保持容量１１３に保持され、該保持容量１１３の状態に応じて、駆動用ＴＦＴ１２３のオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用ＴＦＴ１２３のチャネルを介して、電源線１０３から陽極４０に電流が流れ、更に、機能層１１０を介して陰極５０に電流が流れる。機能層１１０は、これを流れる電流量に応じて発光する。そこで、発光はそれぞれ陽極４０…ごとにオン・オフを制御されるから、陽極４０は画素電極となっている。
【００３７】
次に、機能層１１０の概略構成について、図６を参照して説明する。
図６は、本実施形態の機能層１１０の概略構成を説明するための概念図である。機能層１１０は、基板３１上に形成される陽極４０と、該陽極４０と陰極５０に挟まれる多層構造を備えており、陽極４０側から順に、正孔注入層７０、有機ＥＬ層６０（発光層）、及び電子注入層５２とを備えている。
【００３８】
陽極４０は、印加された電圧によって、正孔を有機ＥＬ層６０に向けて注入する機能を有する。陽極４０を形成するための材料としては、光透過性と導電性を兼ね備えた公知の材料を採用することができる。例えば、金属酸化物が挙げられるが、特に、本実施形態では、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、もしくは、金属酸化物に亜鉛（Ｚｎ）を含有した材料、例えば酸化インジウム・酸化亜鉛系アモルファス透明導電膜（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ：ＩＺＯ／アイ・ゼット・オー（登録商標））（出光興産社製）を採用する。
【００３９】
正孔注入層７０は、特に、有機ＥＬ層６０の発光効率、寿命などの素子特性を向上させる機能を有する。正孔注入層７０を形成するための材料としては、例えば、ポリチオフェン誘導体、ポリピロール誘導体など、または、それらのドーピング体などが採用できる。例えば、ポリチオフェン誘導体では、ＰＥＤＯＴにＰＳＳ（ポリスチレンスルフォン酸）をドープしたＰＥＤＯＴ：ＰＳＳが採用できる。より具体的な一例を挙げれば、その一種であるバイトロン−Ｐ（Ｂｙｔｒｏｎ−Ｐ：バイエル社製）などを好適に用いることができる。
【００４０】
また、正孔注入層に代えて正孔輸送層を形成しても良く、さらに正孔注入層と正孔輸送層を両方形成するようにしても良い。その場合、正孔輸送層を形成するための材料は、正孔を輸送できれば周知のどのような正孔輸送材料であっても良く、例えば、そのような材料として、アミン系、ヒドラゾン系、スチルベン系、スターバスト系などに分類される有機材料が種々知られている。正孔注入層と正孔輸送層を両方形成する場合には、例えば、正孔輸送層の形成に先立って、正孔注入層を陽極側に形成し、その上に正孔輸送層を形成するのが好ましい。このように正孔輸送層を正孔注入層とともに形成することにより、駆動電圧の上昇を制御することができるとともに、駆動寿命（半減期）を長くすることが可能となる。
【００４１】
有機ＥＬ層６０では、陽極４０から正孔注入層７０を経て注入された正孔と、陰極５０からの注入された電子とが結合して蛍光を発生させる構成が形成されている。有機ＥＬ層６０を形成するための材料としては、蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の発光材料を用いることができる。具体的には、（ポリ）フルオレン誘導体（ＰＦ）、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）などのポリシラン系などが好適に用いられる。また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素などの高分子系材料、例えば、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等の材料をドープして用いることもできる。
【００４２】
陰極５０は、陽極４０の対向電極として、電子を有機ＥＬ層６０に注入する機能を備える。封止側発光型のＥＬ表示装置の場合は、有機ＥＬ層６０から発光する光を陰極５０側から取り出すので、光透過性を備える必要がある。この場合は、光透過性であって、仕事関数が低い材料から構成される。
【００４３】
陰極５０を形成する材料としては、例えば、カルシウム金属又はカルシウムを主成分とする合金を有機ＥＬ層６０側に積層して第１の陰極層とし、該第１の陰極層の上層にアルミニウム又はアルミニウムを主成分とする合金、もしくは銀又は銀−マグネシウム合金などを積層して第２の陰極層とした積層体を採用することができる。なお、第２の陰極層は、第１の陰極層を覆って、酸素や水分などとの化学反応から保護するとともに、陰極５０の導電性を高めるために設けられる。従って、単層構造でも良く、また、金属材料に限るものではない。
【００４４】
〔第４の実施形態〕
以下、第３実施形態の電気光学装置を備えた電子機器の具体例について、図７に基づいて説明する。
図７（ａ）は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図７（ａ）において、符号２１０は携帯電話本体を示し、符号２１１は前記の電気光学装置を用いた表示部を示している。
図７（ｂ）は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図７（ｂ）において、符号２２０は時計本体を示し、符号２２１は前記の電気光学装置を用いた表示部を示している。
図７は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図７（ｃ）において、符号２３０は情報処理装置、符号２３１はキーボードなどの入力部、符号２３３は前記の電気光学装置を用いた表示部、符号２３２は情報処理装置本体を示している。
【００４５】
図７（ａ）〜（ｃ）に示すそれぞれの電子機器は、第３の実施形態の電気光学装置を用いた表示部を備えたもの、即ち、輝度、発光色のムラの発生を抑えているという特徴を有するので、表示特性、信頼性が向上した電子機器となる。
これらの電子機器を製造するには、第３の実施形態の電気光学装置を、携帯電話、携帯型情報処理装置、腕時計型電子機器などの各種電子機器の表示部に組み込むことにより製造される。
【００４６】
以上、本発明の実施形態による膜形成装置及び膜形成方法について説明したが、本発明は、上記実施形態に制限されず、本発明の範囲内で自由に変更が可能である。
【００４７】
例えば、第１及び第２の実施形態で示した膜形成装置は、有機ＥＬ装置を製造する一連の工程において、塗布装置であるインクジェット装置とは別に、独立した装置（例えば、クラスタツールを構成する一装置）として説明したが、本発明では、これに限定されるものではない。例えば、上記のインクジェット装置に直接設置することもあり得るし、塗布工程以外の別工程で使用される装置に搭載しても良い。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１の実施形態に係る膜形成装置を示す断面図である。
【図２】板体に穿設される貫通孔の例を示す平面図である。
【図３】発光層の形状を示す断面図である。
【図４】第２の実施形態に係る膜形成装置を示す断面図である。
【図５】第３の実施形態に係る電気光学装置を示す概略図である。
【図６】図５の電気光学装置に係る機能層を示す概略断面図である。
【図７】第４の実施形態に係る電子機器の一例を示す斜視図である。
【符号の説明】
１・・・膜形成装置、２・・・基板、３・・・加熱機構、５・・・制御部材、６・・・板体、６ｂ・・・平面部、７・・・貫通孔、２０・・・排気機構

Claims (11)

1. 基板上に塗布された、膜形成成分を含有する液体材料を乾燥させることにより膜を形成する膜形成装置において、
   載置された前記基板を加熱する加熱機構と、
   前記基板の表面に対向する平面部を有し、前記平面部と前記基板の表面との間に間隔を維持しつつ、前記基板の表面を覆い、前記液体材料に含有する溶媒の蒸散を制御する制御部材を備えることを特徴とする膜形成装置。
2. 前記制御部材は、前記平面部に複数の貫通孔が穿設された板体であることを特徴とする請求項１記載の膜形成装置。
3. 前記制御部材は、少なくとも２枚以上の前記板体を、一定の間隔を開けて重層させることを特徴とする請求項２記載の膜形成装置。
4. 前記貫通孔は、前記平面部における穿設位置によって、開口形状が異なることを特徴とする請求項２記載の膜形成装置。
5. 前記貫通孔は、前記平面部において、外郭部よりも中心部に密に穿設されることを特徴とする請求項２記載の膜形成装置。
6. 前記平面部と前記基板の表面との間隔は、０．５〜１．５ｍｍの範囲に設定されることを特徴とする請求項１記載の膜形成装置。
7. 前記制御部材は、前記基板上に塗布された前記液体材料から蒸散する前記溶媒を排出する排気機構を備えることを特徴とする請求項１記載の膜形成装置。
8. 基板上に、膜形成成分を含有する液体材料を吐出する膜形成方法において、
   前記液体材料を吐出した後、前記基板の表面上の一部若しくは全体を、該表面から一定間隔で離間され、且つ、複数の貫通孔が穿設された部材で覆い、
   前記基板を加熱して前記液体材料に含有する溶媒を蒸散させ、
   前記部材によって前記溶媒の蒸散を制御することを特徴とする膜形成方法。
9. 前記部材には、排気手段を備えてなり、
   前記排気手段により、蒸散した前記溶媒を前記基板上から排出させることを特徴とする請求項８記載の膜形成方法。
10. 請求項１から７のいずれか一項に記載の膜形成装置を用いて製造されたことを特徴とする電気光学装置。
11. 請求項１０記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。

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