JP2004141807A

JP2004141807A - Washing device

Info

Publication number: JP2004141807A
Application number: JP2002311609A
Authority: JP
Inventors: Kazuhiko Arikawa; 有川　和彦
Original assignee: Sharp Corp
Current assignee: Sharp Corp
Priority date: 2002-10-25
Filing date: 2002-10-25
Publication date: 2004-05-20

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a washing device capable of transporting an object to be washed without trouble even when washing liquid is sprayed to the object to be washed at a high jetting pressure. <P>SOLUTION: A washing device 21 for washing the surface 28a of a glass substrate 28 being transported in a predetermined transport direction with washing liquid 39 injected from a jet nozzle 33 is equipped with a high-pressure jet washing section 25. The jet nozzle 33 provided to a high-pressure jet washing section 25 is arranged on the surface 28a side of the glass substrate 28 in such a manner that the washing liquid 39 can be injected in the direction orthogonal to the transport direction 38 of the glass substrate 28. Since the injection direction of the washing liquid 39 is orthogonal to the transport direction of the glass substrate 28, the force of the jetting pressure of the washing liquid 39 to deter transport of the glass substrate 28 is decreased. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、たとえば半導体基板、液晶表示パネル用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板などの洗浄に用いられる洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体基板、液晶表示パネル用ガラス基板などの基板は、高い清浄度が必要とされるので、その製造工程において、基板の表面洗浄処理が行われている。基板の表面洗浄処理の一つに、基板表面に付着したパーティクルなどの汚れを除去する洗浄処理がある。この洗浄処理には、シャワー洗浄、高圧ジェット洗浄、超音波洗浄、スクラブ洗浄などの手段が用いられている。基板の洗浄に用いられている従来の高圧ジェット洗浄装置には、以下のようなものがある（たとえば、特許文献１参照）。
【０００３】
図５は、従来の高圧ジェット洗浄装置１の構成を簡略化して示す図である。従来の高圧ジェット洗浄装置１は、被洗浄物であるたとえばガラス基板２を収めるカセット３ａを収容するローダ４と、ガラス基板２を洗浄するための２対のブラシ５を備えるスクラブ洗浄部６と、第１超音波ノズル７および洗浄液供給ノズル８を備える超音波洗浄部９と、ジェットノズル１０および第２超音波ノズル１１を備える高圧ジェット洗浄部１２と、エアナイフ１３によって洗浄液をガラス基板２の表面から除去して乾燥させる乾燥部１４と、洗浄が完了したガラス基板２を収めるカセット３ｂを収容するためのアンローダ１５とを備える。
【０００４】
また、高圧ジェット洗浄装置１のローダ４からアンローダ１５までの間には、複数の搬送ローラ１６が装置本体に回転自在に支持される。これらの搬送ローラ１６は、図示しない駆動源によって軸線まわりに回転駆動され、カセット３ａから抽出されてローラ上に乗載されるガラス基板２を、図５中に示す矢符１７方向すなわちローダ４からアンローダ１５へと搬送する。
【０００５】
以下高圧ジェット洗浄装置１による洗浄動作について説明する。まずガラス基板２は、ローダ４のカセット３ａから抽出されてスクラブ洗浄部６に投入される。ガラス基板２は、搬送ローラ１６によって搬送される過程において、ガラス基板２を介して対向するように配置される２対のブラシ５間を通過する。このとき、ブラシ５には洗浄液が供給されるとともに、ブラシ５は回転駆動しながらガラス基板２の表裏面に押当てられてガラス基板２の表裏面を洗浄する。
【０００６】
次に、ガラス基板２は、超音波洗浄部９に搬送される。超音波洗浄部９では、ガラス基板２の表面側にガラス基板２の表面から間隔をあけて洗浄液供給ノズル８が設けられ、ガラス基板２の裏面側にガラス基板２の裏面から間隔をあけて洗浄液供給ノズル８に対向するように第１超音波ノズル７が設けられる。ガラス基板２は、搬送ローラ１６によって搬送されて、洗浄液供給ノズル８と第１超音波ノズル７との間を通過し、このとき洗浄液供給ノズル８から噴射される洗浄液と、第１超音波ノズル７から噴射される洗浄液および洗浄液に印加される超音波の振動とによって、ガラス基板２の表面から粒径３μｍを超えるパーティクルの除去が行われる。
【０００７】
超音波洗浄部９で洗浄されたガラス基板２は、高圧ジェット洗浄部１２へ搬送される。図６は、高圧ジェット洗浄部１２におけるガラス基板２の洗浄状態を示す平面図である。高圧ジェット洗浄部１２では、ガラス基板２の表面側にガラス基板２の表面から間隔をあけてジェットノズル１０が設けられる。ジェットノズル１０は、ガラス基板２に対して搬送方向下流側から上流側に向けて洗浄液１８を噴射することができるように、また洗浄液１８の噴射がガラス基板２の表面に衝突した際のエネルギーロスを小さくするために、洗浄液１８の噴射方向がガラス基板２の表面に対して１０〜２０度の傾斜角度を有するように設けられる。
【０００８】
高圧ジェット洗浄部１２の第２超音波ノズル１１は、ガラス基板２の裏面側であって、ジェットノズル１０から噴射された高圧の洗浄液１８が、ガラス基板２の表面に吹付けられている吹付位置１９と、前記吹付位置１９に対して直近の搬送方向上流側に設けられる搬送ローラ１６との間に、超音波の付加された洗浄液を吹付けることができる位置に設けられる。
【０００９】
高圧ジェット洗浄部１２では、ジェットノズル１０からガラス基板２に対して噴射される高圧の洗浄液と、第２超音波ノズル１１から噴射される洗浄液に印加される超音波の振動とによって、ガラス基板２の表面に付着した粒径３μｍ以下のパーティクルの除去が行われる。
【００１０】
高圧ジェット洗浄部１２で洗浄されたガラス基板２は、乾燥部１４へ搬送される。乾燥部１４においてガラス基板２は、エアナイフ１３によってガラス基板２の表面に残留する洗浄液が除去されるとともに乾燥が行われ、乾燥後にアンローダ１５のカセット３ｂに収容されて一連の洗浄工程が終了する。
【００１１】
【特許文献１】
特開平７−２０４５９３号公報
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
前述の従来の高圧ジェット洗浄装置１には、以下のような問題がある。高圧ジェット洗浄装置１の高圧ジェット洗浄部１２においては、高圧力の洗浄液１８をジェットノズル１０からガラス基板２の表面に対して斜め上方から吹付ける高圧洗浄と、第２超音波ノズル１１からガラス基板２の裏面に対して噴射される洗浄液に付加される超音波の振動とによって、粒径３μｍ以下のパーティクルがガラス基板２の表面を転がりながら除去される。
【００１３】
ガラス基板２を洗浄するためにジェットノズル１０からガラス基板２の表面に対して吹付けられる洗浄液の噴射圧力は、ガラス基板２に対して負荷されるので、この洗浄液の噴射圧力によってガラス基板２が搬送ローラ１６に対して押圧される。搬送用ローラ１６の搬送推進力が、洗浄液の噴射圧力によるガラス基板２の搬送ローラ１６に対する押圧力よりも小さいと、搬送用ローラ１６とガラス基板２との間で滑りを生じて搬送することができないという現象が発生する。
【００１４】
このような問題を解決する手段には、ガラス基板２の搬送が可能な程度にジェットノズル１０から噴射される洗浄液１８の噴射圧力を下げること、または搬送ローラ１６とは別途搬送機構を設け、ガラス基板２の搬送方向に直交する幅方向の端面を前記搬送機構で矢符１７方向に向けて押送することなどにより、ガラス基板２を搬送することが考えられる。
【００１５】
しかしながら、粒径３μｍ以下のパーティクルを除去するためには、ジェットノズル１０から噴射される洗浄液の流速が１５０ｍ／秒以上必要であり、１５０ｍ／秒未満になると粒径３μｍ以下のパーティクルを除去することが困難になるので、洗浄液の噴射圧力を下げることは好ましくない。また図５に示すような従来の高圧ジェット洗浄装置１において、ガラス基板２の幅方向端面を押送するためには、別途搬送機構をスクラブ洗浄部６または高圧ジェット洗浄部１２内に設けなければならないけれども、このような搬送機構の別途の設置は装置を大型化させるという問題がある。
【００１６】
さらに、従来の高圧ジェット洗浄装置１では、ジェットノズル１０から噴射される洗浄液１８が、表面張力の作用によってジェットノズル１０に形成されるノズル孔の幅に比べて数十ｍｍ内側に絞られた形状の水膜になるので、ジェットノズル１０のノズル孔の幅をガラス基板２の幅方向の寸法よりも大きくなるように形成しておかなければならない。たとえば幅方向の寸法が３２０ｍｍのガラス基板２を全面洗浄するには、ジェットノズル１０のノズル孔の幅が少なくとも４５０ｍｍであることを必要とし、このときジェットノズル１０の幅方向の寸法は５００ｍｍに形成される。このようにガラス基板２の幅方向の寸法が大きくなるのに伴って、ジェットノズル１０の幅方向の寸法が長くなり、また洗浄液１８の水膜をジェットノズル１０から均一に噴射させるには、ジェットノズル１０のノズル孔が高い精度の直線性を有するような加工を必要とするので、ジェットノズル１０の加工が難しくなり、ジェットノズルの製造コストが増大するという問題がある。
【００１７】
本発明の目的は、被洗浄物に対して高い噴射圧力で洗浄液を吹付ける場合においても、支障なく被洗浄物を搬送することのできる洗浄装置を提供することである。
【００１８】
【課題を解決するための手段】
本発明は、予め定める搬送方向に搬送される被洗浄物の洗浄すべき一方の表面を噴射ノズルから噴射される洗浄液によって洗浄する洗浄装置において、
前記噴射ノズルは、
前記被洗浄物の洗浄すべき一方の表面側に、前記被洗浄物の搬送方向に対して直交する方向に洗浄液を噴射することができるように配置され、
前記被洗浄物の他方の表面側には、前記被洗浄物の他方の表面に向けて超音波の印加された洗浄液を噴射する超音波ノズルが設けられることを特徴とする洗浄装置である。
【００１９】
本発明に従えば、洗浄装置には、被洗浄物の一方の表面を洗浄するための洗浄液を噴射する噴射ノズルと、被洗浄物の他方の表面に向けて超音波の印加された洗浄液を噴射する超音波ノズルとが設けられる。被洗浄物の一方の表面を洗浄するために設けられる噴射ノズルは、被洗浄物の搬送方向に対して直交する方向に洗浄液を噴射することができるように配置される。このことによって、被洗浄物を搬送する搬送機構を構成するたとえば搬送ローラに対し、噴射ノズルから噴射される洗浄液の被洗浄物を押圧する押圧力が軽減されるので、洗浄液の噴射圧力が高い場合においても被洗浄物を支障なく搬送することが可能になる。また噴射ノズルから噴射される高圧の洗浄液と、超音波ノズルから噴射される洗浄液に印加される超音波の振動とによって、被洗浄物の一方の表面に付着した微細な汚れを容易に除去することができる。
【００２０】
また本発明は、前記噴射ノズルは、複数個設けられることを特徴とする。
本発明に従えば、噴射ノズルは、複数個設けられるので、一層優れた洗浄機能を有する洗浄装置を実現することができる。
【００２１】
また本発明は、複数個設けられる前記噴射ノズルは、
前記被洗浄物の搬送方向に直交する幅方向にそれぞれ延びて構成される第１列と第２列とからなる２列に配列され、前記第１列の洗浄液を噴射する方向と前記第２列の洗浄液を噴射する方向とが反対になるように配置されることを特徴とする。
【００２２】
本発明に従えば、複数個設けられる噴射ノズルは、被洗浄物の搬送方向に直交する幅方向にそれぞれ延びて構成される第１列と第２列とからなる２列に配列され、第１列の洗浄液を噴射する方向と第２列の洗浄液を噴射する方向とが反対になるように配置される。第１および第２列の噴射ノズルによる洗浄液の噴射方向を、たとえば被洗浄物の幅方向の中央部から端部へ向うようにそれぞれ配置することによって、各列の噴射ノズルは、被洗浄物の幅方向寸法の２分の１ずつをそれぞれ洗浄するだけで良いことになるので、充分な洗浄を行うことが可能になる。
【００２３】
また本発明は、前記噴射ノズルは、
前記噴射ノズルから噴射される洗浄液の噴射角度が、前記被洗浄物の一方の表面に対して１０〜６０度の傾斜角を有するように配置される。
【００２４】
本発明に従えば、噴射ノズルは、噴射ノズルから噴射される洗浄液の噴射角度が、被洗浄物の一方の表面に対して１０〜６０度の傾斜角を有するように配置される。このことによって、噴射ノズルから被洗浄物の一方の表面に対して吹付けられる洗浄液は、被洗浄物の一方の表面上に留まることなく、被洗浄物の外方に容易に流れ落ちることができる。したがって、一旦除去されたパーティクルが被洗浄物の一方の表面上に残留しにくく、高い洗浄効果を得ることが可能になる。
【００２５】
【発明の実施の形態】
図１は、本発明の実施の一形態である洗浄装置２１の構成を簡略化して示す図であり、図２は図１に示す洗浄装置２１に備わる高圧ジェット洗浄部２５の構成を示す平面図である。本実施の形態の洗浄装置２１は、枚葉式の高圧ジェット洗浄装置であり、たとえば液晶表示パネル用ガラス基板などの被洗浄物の洗浄に用いられる。
【００２６】
洗浄装置２１は、被洗浄物であるガラス基板２８を収めるカセット２９ａを収容するローダ２２と、ガラス基板２８を洗浄するための２対のブラシ３０を備えるスクラブ洗浄部２３と、第１超音波ノズル３１および洗浄液供給ノズル３２を備える超音波洗浄部２４と、噴射ノズル３３であるジェットノズルおよび第２超音波ノズル３４を備える高圧ジェット洗浄部２５と、エアナイフ３５によって洗浄液をガラス基板２８の表面から除去して乾燥させる乾燥部２６と、洗浄が完了したガラス基板２８を収めるカセット２９ｂを収容するためのアンローダ２７とを備える構成である。また洗浄装置２１のローダ２２からアンローダ２７までの間には、複数の搬送ローラ３６が洗浄装置２１の装置本体３７に回転自在に支持される。これらの搬送ローラ３６は、図示しない駆動源によって軸線まわりに回転駆動され、カセット２９ａから抽出されて搬送ローラ３６上に乗載されるガラス基板２８を、図１中に示す矢符３８方向すなわち予め定める搬送方向であるローダ２２からアンローダ２７へ向けて搬送する。
【００２７】
カセット２９ａは、棚状に構成される内部空間を有する容器であり、洗浄工程に受入れるガラス基板２８を収容する。スクラブ洗浄部２３に設けられる２対のブラシ３０は、その回転軸線がガラス基板２８の搬送方向すなわち矢符３８方向に直交する方向に延びて、装置本体３７に回転自在に支持される。各対をなすブラシ３０は、搬送ローラ３６によって搬送されるガラス基板２８がブラシ間を通過することができるように配置される。なお図示を省略するけれども、スクラブ洗浄部２３には、前述のブラシ３０に対して洗浄液を供給する洗浄液供給手段が備えられる。
【００２８】
超音波洗浄部２４のガラス基板２８の洗浄すべき一方の表面２８ａ（以後、便宜上単に表面２８ａと呼ぶ）側には、表面２８ａから間隔をあけて、ガラス基板２８の搬送方向に直交する方向に延びて洗浄液供給ノズル３２が設けられ、ガラス基板２８の他方の表面２８ｂ（以後、便宜上裏面２８ｂと呼ぶ）側には、裏面２８ｂから間隔をあけて、ガラス基板２８の搬送方向に直交する方向に延び洗浄液供給ノズル３２に対向するように第１超音波ノズル３１が設けられる。洗浄液供給ノズル３２は、ガラス基板２８の表面２８ａに向けて洗浄液を噴射する。第１超音波ノズル３１は、ノズル孔から噴射される洗浄液に図示しない超音波振動子によって超音波を印加し、ガラス基板２８に対して吹付けられる洗浄液を介してガラス基板２８に超音波振動を与えて洗浄を促進する。
【００２９】
図２に拡大して示す高圧ジェット洗浄部２５において、噴射ノズル３３であるジェットノズルは、第１ジェットノズル３３ａと第２ジェットノズル３３ｂとの２個が設けられる。なおジェットノズルを総称する場合には、アルファベットの添字を付することなく表す。ジェットノズル３３は、ガラス基板２８の表面２８ａ側に、ガラス基板２８の搬送方向（矢符３８方向）に対して直交する幅方向（図２中に示す矢符４０方向）に洗浄液３９を噴射することができるように配置される。ジェットノズル３３のノズル孔の幅寸法（搬送方向に平行方向の寸法）は、任意に選定されてよいけれども、たとえばガラス基板２８の搬送速度が１８００ｍｍ／分であるとき、３０ｍｍに選定される。ノズル孔の幅寸法が３０ｍｍであるとき、ジェットノズル３３自体の搬送方向に平行方向の寸法は、約８０ｍｍであり、ジェットノズル３３の小型化が実現される。
【００３０】
さらに２個の第１および第２ジェットノズル３３ａ，３３ｂは、いずれも洗浄液３９の噴射角度が、ガラス基板２８の表面２８ａに対して１０〜６０度の範囲になるように配置される。
【００３１】
ガラス基板２８の裏面２８ｂ側には、ジェットノズル３３に対向するように第２超音波ノズル３４が設けられる。第２超音波ノズル３４から噴射される超音波の印加された洗浄液のガラス基板２８の裏面２８ｂに対して吹付けられる位置は、第１および第２ジェットノズル３３ａ，３３ｂからガラス基板２８の表面２８ａに対して洗浄液３９の吹付けられる位置に対応する。第２超音波ノズル３４を前述のように配置することによって、ジェットノズル３３から噴射される洗浄液３９による洗浄作用と、第２超音波ノズル３４から噴射される洗浄液に印加される超音波による振動作用とが重畳し、粒径の小さいパーティクルをも充分に除去することが可能になる。
【００３２】
乾燥部２６には、ガラス基板２８の表面２８ａから間隔をあけ、搬送方向に直交する方向に延びてエアナイフ３５が設けられる。エアナイフ３５は、ガラス基板２８の表面２８ａに対して高圧の空気を吹付けることによって、前記表面２８ａに残留する洗浄液を除去するとともに、前記表面２８ａを乾燥する。カセット２９ｂは、前述のカセット２９ａと同様に構成される容器であり、洗浄および乾燥の終了したガラス基板２８を収容する。
【００３３】
以下洗浄装置２１によるガラス基板２８を洗浄する一連の洗浄動作について説明する。洗浄すべきガラス基板２８は、ローダ２２に収容されるカセット２９ａから抽出されてスクラブ洗浄部２３に投入される。スクラブ洗浄部２３において、ガラス基板２８は、洗浄液供給手段から洗浄液を供給されて回転駆動するブラシ３０の間を通過することによって、その表裏面２８ａ，２８ｂが洗浄される。
【００３４】
スクラブ洗浄部２３で洗浄されたガラス基板２８は、搬送ローラ３６によって超音波洗浄部２４に搬送される。超音波洗浄部２４では、ガラス基板２８が対向して設けられる洗浄液供給ノズル３２と第１超音波ノズル３１との間を搬送されるとき、ガラス基板２８の表面２８ａには洗浄液供給ノズル３２から洗浄液が吹付けられ、ガラス基板２８の裏面２８ｂには第１超音波ノズル３１から吹付けられる洗浄液を介して超音波振動が付加されて、ガラス基板２８の表面２８ａから粒径３μｍを超えるパーティクルの除去が行われる。
【００３５】
超音波洗浄部２４で洗浄されたガラス基板２８は、搬送ローラ３６によって高圧ジェット洗浄部２５へ搬送される。高圧ジェット洗浄部２５では、ガラス基板２８が対向して設けられるジェットノズル３３と第２超音波ノズル３４との間を搬送されるとき、ガラス基板２８の表面２８ａにはジェットノズル３３からガラス基板２８の幅方向に洗浄液３９が吹付けられる。一方、ガラス基板２８の裏面２８ｂには、前述の表面２８ａ側においてジェットノズル３３から洗浄液３９が吹付けられる位置に対応する位置に、第２超音波ノズル３４から吹付けられる洗浄液を介して超音波振動が付加される。このように、表面２８ａに吹付けられる洗浄液３９と、裏面２８ｂに洗浄液を介して与えられる超音波振動とによって、ガラス基板２８の表面２８ａから粒径３μｍ以下のパーティクルの除去が行われる。
【００３６】
高圧ジェット洗浄部２５で洗浄されたガラス基板２８は、搬送ローラ３６によって乾燥部２６へ搬送される。乾燥部２６においてガラス基板２８は、エアナイフ３５によって表面２８ａに残留する洗浄液３９が除去されるとともに乾燥が行われ、乾燥後にアンローダ２７に搬送されてカセット２９ｂに収容され、一連の洗浄動作が終了する。
【００３７】
図３は、本発明の実施の第２形態である洗浄装置に備わる高圧ジェット洗浄部５１の構成を示す平面図である。本実施の形態の洗浄装置に備わる高圧ジェット洗浄部５１は、実施の第１形態の洗浄装置２１に備わる高圧ジェット洗浄部２５に類似し、対応する部分については同一の参照符号を付して説明を省略する。本実施の形態の高圧ジェット洗浄部５１において注目すべきは、第３〜第６ジェットノズル５２ａ，５２ｂ，５２ｃ，５２ｄの４個からなるジェットノズル５２の設けられることである。
【００３８】
ジェットノズル５２を、洗浄液３９の噴射方向が搬送方向に直交する矢符４０方向になるように配置するとき、１個のジェットノズルの有効洗浄距離が１５０〜２００ｍｍであるので、幅方向の寸法が大きいガラス基板２８の洗浄には、本実施の形態のように４個のジェットノズル５２を備える洗浄装置が好適に用いられる。
【００３９】
図４は、本発明の実施の第３形態である洗浄装置に備わる高圧ジェット洗浄部５３の構成を示す平面図である。本実施の形態の洗浄装置に備わる高圧ジェット洗浄部５３は、実施の第１形態の洗浄装置２１に備わる高圧ジェット洗浄部２５に類似し、対応する部分については同一の参照符号を付して説明を省略する。本実施の形態の高圧ジェット洗浄部５３において注目すべきは、４個設けられる第７〜第１０ジェットノズル５４ａ，５４ｂ，５４ｃ，５４ｄが、ガラス基板２８の搬送方向に直交する幅方向にそれぞれ延びて構成される第１列５５と第２列５６とからなる２列に配列され、第１列５５を構成する第７および第８ジェットノズル５４ａ，５４ｂの洗浄液３９を噴射する矢符５７方向と、第２列５６を構成する第９および第１０ジェットノズル５４ｃ，５４ｄの洗浄液３９を噴射する矢符５８方向とが反対になるように配置されることである。
【００４０】
またガラス基板２８の裏面２８ｂ側には、第１列５５に対向して第３超音波ノズル５９が設けられる。第３超音波ノズル５９の配される位置は、第１列５５に備わる２つの第７および第８ジェットノズル５４ａ，５４ｂから噴射された洗浄液３９が表面２８ａに吹付けられる位置に対応する。さらにガラス基板２８の裏面２８ｂ側には、第２列５６に対向してもう一つの第４超音波ノズル６０が設けられる。第４超音波ノズル６０の配される位置は、第２列５６に備わる２つの第９および第１０ジェットノズル５４ｃ，５４ｄから噴射された洗浄液３９が表面２８ａに吹付けられる位置に対応する。このように配置される第３および第４超音波ノズル５９，６０は、実施の第１形態と同様にガラス基板２８に対して効果的に超音波振動を付加することができる。
【００４１】
第１列５５の第７および第８ジェットノズル５４ａ，５４ｂによる洗浄液３９の噴射方向が、ガラス基板２８の幅方向の中央部から一方の端部へ向うように選択し、第２列５６の第９および第１０ジェットノズル５４ｃ，５４ｄによる洗浄液３９の噴射方向が、ガラス基板２８の幅方向の中央部から他方の端部へ向うように選択することによって、第１列５５の第７および第８ジェットノズル５４ａ，５４ｂと第２列５６の第９および第１０ジェットノズル５４ｃ，５４ｄとは、ガラス基板２８の幅方向にその寸法の２分の１ずつをそれぞれ洗浄するだけで良いことになる。したがって、このような高圧ジェット洗浄部５３を備える洗浄装置は、幅方向寸法の大きいガラス基板２８の洗浄に対しても好適に用いることができ、充分な洗浄を行うことが可能である。
【００４２】
【発明の効果】
本発明によれば、洗浄装置には、被洗浄物の一方の表面を洗浄するための洗浄液を噴射する噴射ノズルと、被洗浄物の他方の表面に向けて超音波の印加された洗浄液を噴射する超音波ノズルとが設けられる。被洗浄物の一方の表面を洗浄するために設けられる噴射ノズルは、被洗浄物の搬送方向に対して直交する方向に洗浄液を噴射することができるように配置される。このことによって、被洗浄物を搬送する搬送機構を構成するたとえば搬送ローラに対し、噴射ノズルから噴射される洗浄液の被洗浄物を押圧する押圧力が軽減されるので、洗浄液の噴射圧力が高い場合においても被洗浄物を支障なく搬送することが可能になる。また噴射ノズルから噴射される高圧の洗浄液と、超音波ノズルから噴射される洗浄液に印加される超音波の振動とによって、被洗浄物の一方の表面に付着した微細な汚れを容易に除去することができる。
【００４３】
また本発明によれば、噴射ノズルは、複数個設けられるので、一層優れた洗浄機能を有する洗浄装置を実現することができる。
【００４４】
また本発明によれば、複数個設けられる噴射ノズルは、被洗浄物の搬送方向に直交する幅方向にそれぞれ延びて構成される第１列と第２列とからなる２列に配列され、第１列の洗浄液を噴射する方向と第２列の洗浄液を噴射する方向とが反対になるように配置される。第１および第２列の噴射ノズルによる洗浄液の噴射方向を、たとえば被洗浄物の幅方向の中央部から端部へ向うようにそれぞれ配置することによって、各列の噴射ノズルは、被洗浄物の幅方向寸法の２分の１ずつをそれぞれ洗浄するだけで良いことになるので、充分な洗浄を行うことが可能になる。
【００４５】
また本発明によれば、噴射ノズルは、噴射ノズルから噴射される洗浄液の噴射角度が、被洗浄物の一方の表面に対して１０〜６０度の傾斜角を有するように配置される。このことによって、噴射ノズルから被洗浄物の一方の表面に対して吹付けられる洗浄液は、被洗浄物の一方の表面上に留まることなく、被洗浄物の外方に容易に流れ落ちることができる。したがって、一旦除去されたパーティクルが被洗浄物の一方の表面上に残留しにくく、高い洗浄効果を得ることが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の一形態である洗浄装置２１の構成を簡略化して示す図である。
【図２】図１に示す洗浄装置２１に備わる高圧ジェット洗浄部２５の構成を示す平面図である。
【図３】本発明の実施の第２形態である洗浄装置に備わる高圧ジェット洗浄部５１の構成を示す平面図である。
【図４】本発明の実施の第３形態である洗浄装置に備わる高圧ジェット洗浄部５３の構成を示す平面図である。
【図５】従来の高圧ジェット洗浄装置１の構成を簡略化して示す図である。
【図６】高圧ジェット洗浄部１２におけるガラス基板２の洗浄状態を示す平面図である。
【符号の説明】
２１　洗浄装置
２２　ローダ
２３　スクラブ洗浄部
２４　超音波洗浄部
２５，５１，５３　高圧ジェット洗浄部
２６　乾燥部
２７　アンローダ
２８　ガラス基板
３０　ブラシ
３１　第１超音波ノズル
３２　洗浄液供給ノズル
３３，５２，５４　ジェットノズル
３４　第２超音波ノズル
３５　エアナイフ
３６　搬送ローラ
３９　洗浄液
５５　第１列
５６　第２列
５９　第３超音波ノズル
６０　第４超音波ノズル[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a cleaning apparatus used for cleaning semiconductor substrates, glass substrates for liquid crystal display panels, glass substrates for photomasks, and the like.
[0002]
[Prior art]
Substrates such as a semiconductor substrate and a glass substrate for a liquid crystal display panel require high cleanliness. Therefore, in a manufacturing process thereof, a substrate surface cleaning treatment is performed. One of the substrate surface cleaning processes is a cleaning process for removing dirt such as particles attached to the substrate surface. For this cleaning treatment, means such as shower cleaning, high-pressure jet cleaning, ultrasonic cleaning, scrub cleaning and the like are used. A conventional high-pressure jet cleaning apparatus used for cleaning a substrate is as follows (for example, see Patent Document 1).
[0003]
FIG. 5 is a diagram showing a simplified configuration of a conventional high-pressure jet cleaning apparatus 1. The conventional high-pressure jet cleaning apparatus 1 includes a loader 4 for accommodating a cassette 3a for accommodating, for example, a glass substrate 2, which is an object to be cleaned, a scrub cleaning unit 6 including two pairs of brushes 5 for cleaning the glass substrate 2, An ultrasonic cleaning unit 9 including a first ultrasonic nozzle 7 and a cleaning liquid supply nozzle 8, a high-pressure jet cleaning unit 12 including a jet nozzle 10 and a second ultrasonic nozzle 11, and an air knife 13 for cleaning liquid from the surface of the glass substrate 2. A drying unit 14 for removing and drying is provided, and an unloader 15 for accommodating a cassette 3b for accommodating the washed glass substrate 2 is provided.
[0004]
In addition, between the loader 4 and the unloader 15 of the high-pressure jet cleaning apparatus 1, a plurality of transport rollers 16 are rotatably supported by the apparatus main body. These transport rollers 16 are driven to rotate around an axis by a drive source (not shown), and the glass substrate 2 extracted from the cassette 3a and mounted on the rollers is moved in the direction of arrow 17 shown in FIG. It is transported to the unloader 15.
[0005]
Hereinafter, the cleaning operation by the high-pressure jet cleaning device 1 will be described. First, the glass substrate 2 is extracted from the cassette 3a of the loader 4 and put into the scrub cleaning unit 6. The glass substrate 2 passes between two pairs of brushes 5 arranged so as to face each other with the glass substrate 2 in the course of being transported by the transport roller 16. At this time, the cleaning liquid is supplied to the brush 5, and the brush 5 is pressed against the front and back surfaces of the glass substrate 2 while being driven to rotate, thereby cleaning the front and back surfaces of the glass substrate 2.
[0006]
Next, the glass substrate 2 is transferred to the ultrasonic cleaning unit 9. In the ultrasonic cleaning unit 9, a cleaning liquid supply nozzle 8 is provided on the front side of the glass substrate 2 at a distance from the surface of the glass substrate 2, and the cleaning liquid is supplied on the back side of the glass substrate 2 at a distance from the back surface of the glass substrate 2. The first ultrasonic nozzle 7 is provided so as to face the supply nozzle 8. The glass substrate 2 is transported by the transport roller 16 and passes between the cleaning liquid supply nozzle 8 and the first ultrasonic nozzle 7. At this time, the cleaning liquid ejected from the cleaning liquid supply nozzle 8 and the first ultrasonic nozzle 7 The cleaning liquid ejected from the cleaning liquid and the vibration of the ultrasonic wave applied to the cleaning liquid remove particles having a particle diameter of more than 3 μm from the surface of the glass substrate 2.
[0007]
The glass substrate 2 cleaned by the ultrasonic cleaning unit 9 is transported to the high-pressure jet cleaning unit 12. FIG. 6 is a plan view showing a cleaning state of the glass substrate 2 in the high-pressure jet cleaning unit 12. In the high-pressure jet cleaning unit 12, a jet nozzle 10 is provided on the front side of the glass substrate 2 at a distance from the surface of the glass substrate 2. The jet nozzle 10 is capable of spraying the cleaning liquid 18 from the downstream side to the upstream side in the transport direction with respect to the glass substrate 2, and the energy loss when the injection of the cleaning liquid 18 collides with the surface of the glass substrate 2. Is provided so that the spraying direction of the cleaning liquid 18 has an inclination angle of 10 to 20 degrees with respect to the surface of the glass substrate 2.
[0008]
The second ultrasonic nozzle 11 of the high-pressure jet cleaning unit 12 is located on the back surface side of the glass substrate 2 at a spray position where the high-pressure cleaning liquid 18 sprayed from the jet nozzle 10 is sprayed on the surface of the glass substrate 2. The cleaning liquid to which the ultrasonic wave is applied is provided between the spraying position 19 and the conveying roller 16 provided immediately upstream of the spraying position 19 in the conveying direction.
[0009]
In the high-pressure jet cleaning unit 12, the high-pressure cleaning liquid jetted from the jet nozzle 10 to the glass substrate 2 and the ultrasonic vibration applied to the cleaning liquid jetted from the second ultrasonic nozzle 11 cause the glass substrate 2 Of particles having a particle diameter of 3 μm or less adhered to the surface of the substrate.
[0010]
The glass substrate 2 cleaned by the high-pressure jet cleaning unit 12 is transported to the drying unit 14. In the drying unit 14, the cleaning liquid remaining on the surface of the glass substrate 2 is removed by the air knife 13 and the glass substrate 2 is dried, and after drying, the glass substrate 2 is stored in the cassette 3 b of the unloader 15, thereby completing a series of cleaning steps.
[0011]
[Patent Document 1]
JP-A-7-204593
[0012]
[Problems to be solved by the invention]
The above-described conventional high-pressure jet cleaning apparatus 1 has the following problems. In the high-pressure jet cleaning unit 12 of the high-pressure jet cleaning apparatus 1, high-pressure cleaning in which a high-pressure cleaning liquid 18 is sprayed from the jet nozzle 10 obliquely onto the surface of the glass substrate 2, and the second ultrasonic nozzle 11 transmits the glass substrate Particles having a particle diameter of 3 μm or less are removed while rolling on the surface of the glass substrate 2 by the vibration of the ultrasonic wave applied to the cleaning liquid sprayed on the back surface of the glass substrate 2.
[0013]
The jet pressure of the cleaning liquid sprayed from the jet nozzle 10 onto the surface of the glass substrate 2 to clean the glass substrate 2 is applied to the glass substrate 2. It is pressed against the transport roller 16. When the transport driving force of the transport roller 16 is smaller than the pressing force of the glass substrate 2 against the transport roller 16 due to the injection pressure of the cleaning liquid, slippage occurs between the transport roller 16 and the glass substrate 2 to transport. The phenomenon that cannot be performed occurs.
[0014]
As means for solving such a problem, the jet pressure of the cleaning liquid 18 jetted from the jet nozzle 10 is reduced to such an extent that the glass substrate 2 can be conveyed, or a conveyance mechanism is provided separately from the conveyance roller 16 to provide a glass mechanism. The glass substrate 2 may be conveyed by, for example, pushing the end face in the width direction orthogonal to the conveyance direction of the substrate 2 toward the arrow 17 direction by the conveyance mechanism.
[0015]
However, in order to remove particles having a particle size of 3 μm or less, the flow rate of the cleaning liquid ejected from the jet nozzle 10 needs to be 150 m / sec or more. Therefore, it is not preferable to lower the injection pressure of the cleaning liquid. In the conventional high-pressure jet cleaning apparatus 1 as shown in FIG. 5, a separate transport mechanism must be provided in the scrub cleaning section 6 or the high-pressure jet cleaning section 12 in order to push the widthwise end face of the glass substrate 2. However, the separate installation of such a transport mechanism has a problem of increasing the size of the apparatus.
[0016]
Further, in the conventional high-pressure jet cleaning apparatus 1, the cleaning liquid 18 jetted from the jet nozzle 10 is narrowed by several tens mm to the inside of the nozzle hole formed in the jet nozzle 10 by the action of surface tension. Therefore, the width of the nozzle hole of the jet nozzle 10 must be formed to be larger than the dimension of the glass substrate 2 in the width direction. For example, in order to clean the entire surface of the glass substrate 2 having a dimension of 320 mm in the width direction, the width of the nozzle hole of the jet nozzle 10 needs to be at least 450 mm. Is done. As the size of the glass substrate 2 in the width direction increases, the size of the jet nozzle 10 in the width direction increases, and in order to uniformly spray the water film of the cleaning liquid 18 from the jet nozzle 10, Since processing is required so that the nozzle hole of the nozzle 10 has high-precision linearity, the processing of the jet nozzle 10 becomes difficult, and there is a problem that the manufacturing cost of the jet nozzle increases.
[0017]
An object of the present invention is to provide a cleaning apparatus capable of transporting an object to be cleaned without trouble even when a cleaning liquid is sprayed at a high injection pressure on the object to be cleaned.
[0018]
[Means for Solving the Problems]
The present invention is directed to a cleaning apparatus for cleaning one surface to be cleaned of an object to be cleaned conveyed in a predetermined conveyance direction with a cleaning liquid ejected from an ejection nozzle,
The injection nozzle,
On one surface side of the object to be cleaned to be cleaned, disposed to be able to spray a cleaning liquid in a direction perpendicular to the transport direction of the object to be cleaned,
An ultrasonic nozzle for ejecting a cleaning liquid to which ultrasonic waves are applied toward the other surface of the object to be cleaned is provided on the other surface side of the object to be cleaned.
[0019]
According to the present invention, the cleaning device includes a spray nozzle for spraying a cleaning liquid for cleaning one surface of the object to be cleaned, and a cleaning liquid to which ultrasonic waves are applied toward the other surface of the object to be cleaned. And an ultrasonic nozzle. An injection nozzle provided for cleaning one surface of the object to be cleaned is arranged so as to be able to inject the cleaning liquid in a direction orthogonal to the transport direction of the object to be cleaned. As a result, the pressing force of the cleaning liquid ejected from the injection nozzle against the object to be cleaned is reduced with respect to, for example, a transport roller that constitutes a transport mechanism that transports the object to be cleaned. In this case, the object to be cleaned can be transported without any trouble. The high-pressure cleaning solution sprayed from the spray nozzle and the vibration of the ultrasonic wave applied to the cleaning solution sprayed from the ultrasonic nozzle can easily remove fine dirt attached to one surface of the object to be cleaned. Can be.
[0020]
Further, the invention is characterized in that a plurality of the injection nozzles are provided.
According to the present invention, since a plurality of injection nozzles are provided, a cleaning apparatus having a more excellent cleaning function can be realized.
[0021]
Further, in the present invention, the plurality of injection nozzles provided
The first row and the second row are arranged in two rows including a first row and a second row, each of which extends in a width direction orthogonal to the transport direction of the object to be cleaned. Is arranged so that the direction in which the cleaning liquid is sprayed is opposite to the above.
[0022]
According to the present invention, the plurality of injection nozzles are arranged in two rows, that is, a first row and a second row, each of which is configured to extend in the width direction orthogonal to the transport direction of the object to be cleaned. The direction in which the cleaning liquid in the row is jetted is opposite to the direction in which the cleaning liquid in the second row is jetted. By arranging the direction of spraying the cleaning liquid by the first and second rows of spray nozzles, for example, from the center in the width direction of the object to be cleaned to the end thereof, the spray nozzles in each row allow the spray nozzles of the row to be cleaned. It is only necessary to clean each half of the dimension in the width direction, so that sufficient cleaning can be performed.
[0023]
Further, in the present invention, the injection nozzle may include:
The cleaning liquid sprayed from the spray nozzle is arranged so that the spray angle of the cleaning liquid has an inclination angle of 10 to 60 degrees with respect to one surface of the object to be cleaned.
[0024]
According to the present invention, the spray nozzle is arranged such that the spray angle of the cleaning liquid sprayed from the spray nozzle has an inclination angle of 10 to 60 degrees with respect to one surface of the object to be cleaned. Thus, the cleaning liquid sprayed from the spray nozzle to one surface of the object to be cleaned can easily flow out of the object to be cleaned without remaining on the one surface of the object to be cleaned. Therefore, the particles once removed hardly remain on one surface of the object to be cleaned, and a high cleaning effect can be obtained.
[0025]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
FIG. 1 is a diagram schematically illustrating a configuration of a cleaning apparatus 21 according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a plan view illustrating a configuration of a high-pressure jet cleaning unit 25 provided in the cleaning apparatus 21 illustrated in FIG. It is. The cleaning apparatus 21 of the present embodiment is a single-wafer type high-pressure jet cleaning apparatus, and is used for cleaning an object to be cleaned such as a glass substrate for a liquid crystal display panel.
[0026]
The cleaning device 21 includes a loader 22 for accommodating a cassette 29a for accommodating a glass substrate 28 to be cleaned, a scrub cleaning unit 23 including two pairs of brushes 30 for cleaning the glass substrate 28, and a first ultrasonic nozzle. An ultrasonic cleaning unit 24 including a cleaning liquid supply nozzle 31 and a cleaning liquid supply nozzle 32, a high-pressure jet cleaning unit 25 including a jet nozzle serving as an injection nozzle 33 and a second ultrasonic nozzle 34, and an air knife 35 for removing the cleaning liquid from the surface of the glass substrate 28 And a drying unit 26 for drying the glass substrate 28, and an unloader 27 for accommodating a cassette 29b for accommodating the cleaned glass substrate 28. Further, between the loader 22 and the unloader 27 of the cleaning device 21, a plurality of transport rollers 36 are rotatably supported by the device main body 37 of the cleaning device 21. These transport rollers 36 are driven to rotate about their axes by a drive source (not shown), and the glass substrate 28 extracted from the cassette 29a and placed on the transport rollers 36 is moved in the direction of the arrow 38 shown in FIG. The sheet is conveyed from the loader 22 to the unloader 27 in the determined conveyance direction.
[0027]
The cassette 29a is a container having an internal space configured in a shelf shape, and stores the glass substrate 28 to be received in the cleaning process. The two pairs of brushes 30 provided in the scrub cleaning section 23 have their rotation axes extending in the direction perpendicular to the direction of transport of the glass substrate 28, that is, the direction of the arrow 38, and are rotatably supported by the apparatus main body 37. Each pair of brushes 30 is arranged such that the glass substrate 28 transported by the transport roller 36 can pass between the brushes. Although not shown, the scrub cleaning unit 23 includes a cleaning liquid supply unit that supplies a cleaning liquid to the brush 30 described above.
[0028]
On the side of one surface 28a of the glass substrate 28 to be cleaned of the ultrasonic cleaning unit 24 (hereinafter simply referred to as the surface 28a for convenience), a space is provided from the surface 28a in a direction perpendicular to the transport direction of the glass substrate 28. A cleaning liquid supply nozzle 32 is provided to extend, and is provided on the other surface 28b (hereinafter referred to as a back surface 28b for convenience) of the glass substrate 28 at a distance from the back surface 28b in a direction perpendicular to the transport direction of the glass substrate 28. The first ultrasonic nozzle 31 is provided so as to face the extended cleaning liquid supply nozzle 32. The cleaning liquid supply nozzle 32 injects the cleaning liquid toward the surface 28a of the glass substrate 28. The first ultrasonic nozzle 31 applies ultrasonic waves to the cleaning liquid ejected from the nozzle holes by an ultrasonic vibrator (not shown), and applies ultrasonic vibration to the glass substrate 28 via the cleaning liquid sprayed on the glass substrate 28. Give to facilitate cleaning.
[0029]
In the high-pressure jet cleaning unit 25 shown in an enlarged manner in FIG. 2, two jet nozzles serving as the injection nozzles 33 are provided: a first jet nozzle 33a and a second jet nozzle 33b. In addition, when the jet nozzles are collectively referred to, they are represented without adding a letter of an alphabet. The jet nozzle 33 injects the cleaning liquid 39 on the surface 28a side of the glass substrate 28 in the width direction (the direction of the arrow 40 shown in FIG. 2) orthogonal to the transport direction of the glass substrate 28 (the direction of the arrow 38). It is arranged so that it can be. The width dimension (dimension in the direction parallel to the transport direction) of the nozzle hole of the jet nozzle 33 may be arbitrarily selected, but is selected to be 30 mm when the transport speed of the glass substrate 28 is 1800 mm / min. When the width of the nozzle hole is 30 mm, the dimension of the jet nozzle 33 in the direction parallel to the transport direction is about 80 mm, and the jet nozzle 33 can be downsized.
[0030]
Further, the two first and second jet nozzles 33a and 33b are arranged such that the spray angle of the cleaning liquid 39 is in the range of 10 to 60 degrees with respect to the surface 28a of the glass substrate 28.
[0031]
A second ultrasonic nozzle 34 is provided on the back surface 28 b side of the glass substrate 28 so as to face the jet nozzle 33. The position where the cleaning liquid sprayed from the second ultrasonic nozzle 34 is applied to the back surface 28b of the glass substrate 28 is sprayed from the first and second jet nozzles 33a and 33b onto the front surface 28a of the glass substrate 28. Corresponds to the position where the cleaning liquid 39 is sprayed. By arranging the second ultrasonic nozzle 34 as described above, the cleaning action by the cleaning liquid 39 jetted from the jet nozzle 33 and the vibration action by the ultrasonic wave applied to the cleaning liquid jetted from the second ultrasonic nozzle 34 Are superimposed, and particles having a small particle diameter can be sufficiently removed.
[0032]
The drying unit 26 is provided with an air knife 35 extending from the surface 28 a of the glass substrate 28 in a direction perpendicular to the transport direction. The air knife 35 blows high-pressure air against the surface 28a of the glass substrate 28, thereby removing the cleaning liquid remaining on the surface 28a and drying the surface 28a. The cassette 29b is a container configured similarly to the above-described cassette 29a, and stores the glass substrate 28 that has been washed and dried.
[0033]
Hereinafter, a series of cleaning operations for cleaning the glass substrate 28 by the cleaning device 21 will be described. The glass substrate 28 to be cleaned is extracted from the cassette 29 a housed in the loader 22 and is put into the scrub cleaning unit 23. In the scrub cleaning section 23, the front and back surfaces 28a and 28b of the glass substrate 28 are cleaned by passing between the brushes 30 which are supplied with the cleaning liquid from the cleaning liquid supply means and are driven to rotate.
[0034]
The glass substrate 28 cleaned by the scrub cleaning unit 23 is transported to the ultrasonic cleaning unit 24 by the transport roller 36. In the ultrasonic cleaning section 24, when the glass substrate 28 is conveyed between the cleaning liquid supply nozzle 32 provided opposite to the first ultrasonic nozzle 31, the cleaning liquid is supplied from the cleaning liquid supply nozzle 32 to the surface 28 a of the glass substrate 28. And ultrasonic vibration is applied to the back surface 28b of the glass substrate 28 via the cleaning liquid sprayed from the first ultrasonic nozzle 31 to remove particles exceeding 3 μm in particle diameter from the front surface 28a of the glass substrate 28. Is performed.
[0035]
The glass substrate 28 cleaned by the ultrasonic cleaning unit 24 is transported to the high-pressure jet cleaning unit 25 by the transport roller 36. In the high-pressure jet cleaning unit 25, when the glass substrate 28 is conveyed between the jet nozzle 33 and the second ultrasonic nozzle 34 provided to face each other, the surface 28a of the glass substrate 28 The cleaning liquid 39 is sprayed in the width direction. On the other hand, on the back surface 28b of the glass substrate 28, an ultrasonic wave is applied via the cleaning liquid sprayed from the second ultrasonic nozzle 34 to a position corresponding to the position where the cleaning liquid 39 is sprayed from the jet nozzle 33 on the front surface 28a. Vibration is added. As described above, the cleaning liquid 39 sprayed on the front surface 28a and the ultrasonic vibration applied to the rear surface 28b through the cleaning liquid remove particles having a particle diameter of 3 μm or less from the front surface 28a of the glass substrate 28.
[0036]
The glass substrate 28 cleaned by the high-pressure jet cleaning unit 25 is transported to the drying unit 26 by the transport roller 36. In the drying unit 26, the cleaning liquid 39 remaining on the surface 28a of the glass substrate 28 is removed by the air knife 35 and drying is performed. After drying, the glass substrate 28 is transferred to the unloader 27 and stored in the cassette 29b, and a series of cleaning operations is completed. .
[0037]
FIG. 3 is a plan view illustrating a configuration of a high-pressure jet cleaning unit 51 provided in a cleaning device according to a second embodiment of the present invention. The high-pressure jet cleaning unit 51 provided in the cleaning device of the present embodiment is similar to the high-pressure jet cleaning unit 25 provided in the cleaning device 21 of the first embodiment, and the corresponding parts are denoted by the same reference numerals. Is omitted. It should be noted that the high-pressure jet cleaning unit 51 of the present embodiment is provided with four jet nozzles 52 of third to sixth jet nozzles 52a, 52b, 52c, and 52d.
[0038]
When the jet nozzle 52 is arranged so that the jetting direction of the cleaning liquid 39 is in the direction of the arrow 40 perpendicular to the transport direction, the effective cleaning distance of one jet nozzle is 150 to 200 mm, and therefore the dimension in the width direction is small. For cleaning the large glass substrate 28, a cleaning apparatus having four jet nozzles 52 as in this embodiment is preferably used.
[0039]
FIG. 4 is a plan view illustrating a configuration of a high-pressure jet cleaning unit 53 provided in a cleaning device according to a third embodiment of the present invention. The high-pressure jet cleaning unit 53 provided in the cleaning device of the present embodiment is similar to the high-pressure jet cleaning unit 25 provided in the cleaning device 21 of the first embodiment, and the corresponding parts are denoted by the same reference numerals. Is omitted. It should be noted that in the high-pressure jet cleaning unit 53 of the present embodiment, four seventh to tenth jet nozzles 54a, 54b, 54c, 54d are respectively extended in the width direction orthogonal to the transport direction of the glass substrate 28. Arrow 57 in which the cleaning liquid 39 of the seventh and eighth jet nozzles 54a and 54b constituting the first row 55 is arranged in two rows consisting of a first row 55 and a second row 56, , The ninth and tenth jet nozzles 54 c and 54 d constituting the second row 56 are arranged so that the direction of the arrow 58 for injecting the cleaning liquid 39 is opposite.
[0040]
A third ultrasonic nozzle 59 is provided on the back surface 28 b side of the glass substrate 28 so as to face the first row 55. The position where the third ultrasonic nozzle 59 is arranged corresponds to the position where the cleaning liquid 39 sprayed from the two seventh and eighth jet nozzles 54a and 54b provided in the first row 55 is sprayed on the surface 28a. Further, another fourth ultrasonic nozzle 60 is provided on the back surface 28 b side of the glass substrate 28 so as to face the second row 56. The position where the fourth ultrasonic nozzle 60 is arranged corresponds to the position where the cleaning liquid 39 jetted from the two ninth and tenth jet nozzles 54c and 54d provided in the second row 56 is sprayed on the surface 28a. The third and fourth ultrasonic nozzles 59 and 60 arranged as described above can effectively apply ultrasonic vibration to the glass substrate 28 as in the first embodiment.
[0041]
The direction in which the cleaning liquid 39 is sprayed by the seventh and eighth jet nozzles 54a and 54b in the first row 55 is selected from the center in the width direction of the glass substrate 28 to one end, and The jet directions of the cleaning liquid 39 by the ninth and tenth jet nozzles 54c and 54d are selected from the center in the width direction of the glass substrate 28 to the other end, so that the seventh and eighth jets in the first row 55 are formed. The jet nozzles 54a and 54b and the ninth and tenth jet nozzles 54c and 54d in the second row 56 only need to clean one half of each dimension in the width direction of the glass substrate 28, respectively. Therefore, the cleaning apparatus including such a high-pressure jet cleaning section 53 can be suitably used for cleaning the glass substrate 28 having a large dimension in the width direction, and can perform sufficient cleaning.
[0042]
【The invention's effect】
According to the present invention, the cleaning device sprays a cleaning liquid for cleaning one surface of the object to be cleaned and the cleaning nozzle to which ultrasonic waves are applied toward the other surface of the object to be cleaned. And an ultrasonic nozzle. An injection nozzle provided for cleaning one surface of the object to be cleaned is arranged so as to be able to inject the cleaning liquid in a direction orthogonal to the transport direction of the object to be cleaned. As a result, the pressing force of the cleaning liquid ejected from the injection nozzle against the object to be cleaned is reduced with respect to, for example, a transport roller that constitutes a transport mechanism that transports the object to be cleaned. In this case, the object to be cleaned can be transported without any trouble. The high-pressure cleaning solution sprayed from the spray nozzle and the vibration of the ultrasonic wave applied to the cleaning solution sprayed from the ultrasonic nozzle can easily remove fine dirt attached to one surface of the object to be cleaned. Can be.
[0043]
Further, according to the present invention, since a plurality of injection nozzles are provided, a cleaning apparatus having a more excellent cleaning function can be realized.
[0044]
Further, according to the present invention, the plurality of ejection nozzles are arranged in two rows including a first row and a second row each configured to extend in a width direction orthogonal to the transport direction of the object to be cleaned. The direction in which the cleaning liquid in one row is jetted is opposite to the direction in which the cleaning liquid in the second row is jetted. By arranging the direction of spraying the cleaning liquid by the first and second rows of spray nozzles, for example, from the center in the width direction of the object to be cleaned to the end thereof, the spray nozzles in each row allow the spray nozzles of the row to be cleaned. It is only necessary to clean one half of the dimension in the width direction, so that sufficient cleaning can be performed.
[0045]
Further, according to the present invention, the spray nozzle is arranged such that the spray angle of the cleaning liquid sprayed from the spray nozzle has an inclination angle of 10 to 60 degrees with respect to one surface of the object to be cleaned. Thus, the cleaning liquid sprayed from the spray nozzle to one surface of the object to be cleaned can easily flow out of the object to be cleaned without remaining on the one surface of the object to be cleaned. Therefore, the particles once removed hardly remain on one surface of the object to be cleaned, and a high cleaning effect can be obtained.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram showing a simplified configuration of a cleaning apparatus 21 according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a plan view showing a configuration of a high-pressure jet cleaning unit 25 provided in the cleaning device 21 shown in FIG.
FIG. 3 is a plan view illustrating a configuration of a high-pressure jet cleaning unit 51 provided in a cleaning device according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a plan view illustrating a configuration of a high-pressure jet cleaning unit 53 provided in a cleaning device according to a third embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a diagram showing a simplified configuration of a conventional high-pressure jet cleaning apparatus 1.
FIG. 6 is a plan view showing a cleaning state of the glass substrate 2 in the high-pressure jet cleaning unit 12.
[Explanation of symbols]
21 Cleaning equipment
22 Loader
23 Scrub cleaning section
24 Ultrasonic cleaning unit
25, 51, 53 High-pressure jet cleaning unit
26 drying section
27 Unloader
28 Glass substrate
30 brushes
31 1st ultrasonic nozzle
32 Cleaning liquid supply nozzle
33, 52, 54 jet nozzle
34 2nd ultrasonic nozzle
35 Air Knife
36 Transport roller
39 Cleaning liquid
55 1st row
56 2nd row
59 3rd ultrasonic nozzle
60 4th ultrasonic nozzle

Claims

In a cleaning apparatus for cleaning one surface to be cleaned of a cleaning object transported in a predetermined transport direction by a cleaning liquid injected from an injection nozzle,
The injection nozzle,
On one surface side of the object to be cleaned to be cleaned, disposed to be able to spray a cleaning liquid in a direction perpendicular to the transport direction of the object to be cleaned,
A cleaning apparatus, comprising: an ultrasonic nozzle that sprays a cleaning liquid to which ultrasonic waves are applied toward the other surface of the object to be cleaned, on the other surface side of the object to be cleaned.

The injection nozzle,
The cleaning device according to claim 1, wherein a plurality of the cleaning devices are provided.

The plurality of injection nozzles provided,
The first row and the second row are arranged in two rows including a first row and a second row, each of which extends in a width direction orthogonal to the transport direction of the object to be cleaned. 3. The cleaning device according to claim 2, wherein the cleaning device is disposed so that a direction in which the cleaning liquid is jetted is opposite to the direction in which the cleaning liquid is jetted.

The injection nozzle,
4. The cleaning liquid according to claim 1, wherein a spray angle of the cleaning liquid sprayed from the spray nozzle has an inclination angle of 10 to 60 degrees with respect to one surface of the object to be cleaned. The washing device according to any one of the above.