JP6336801B2 - Substrate dryer - Google Patents

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本発明は、基板乾燥装置関する。 The present invention relates to apparatus for drying a substrate.

例えば、半導体基板や液晶ガラス基板の一連の処理工程には、前工程で付着した異物等の除去を水又は薬液等を用いて行う洗浄工程が設けられており、この洗浄工程で洗浄された基板は、基板に付着している液滴を除去すべく乾燥工程に送られる。乾燥工程では、洗浄後の基板を搬送させ、例えば、エアーナイフのスリットから基板の表面に向けてカーテン状の気体を噴き出し、基板上の液滴を除去する方法が採られている(例えば、特許文献1参照)。   For example, a series of processing steps for a semiconductor substrate or a liquid crystal glass substrate is provided with a cleaning step for removing foreign matter adhering to the previous step using water or a chemical solution, and the substrate cleaned in this cleaning step Is sent to a drying process to remove droplets adhering to the substrate. In the drying process, a substrate after cleaning is transported, and for example, a curtain-like gas is ejected from the slit of an air knife toward the surface of the substrate, and a droplet on the substrate is removed (for example, a patent) Reference 1).

上記特許文献1に記載のエアーナイフを使用する基板乾燥工程では、エアーナイフに気体を供給する気体供給配管に自動流量調整バルブを設け、基板の乾燥に最適な圧力の気体をエアーナイフに供給し、エアーナイフのスリットから気体を基板に噴射して基板の乾燥を行っている。   In the substrate drying process using the air knife described in Patent Document 1, an automatic flow rate adjusting valve is provided in a gas supply pipe for supplying gas to the air knife, and a gas having an optimum pressure for drying the substrate is supplied to the air knife. The substrate is dried by jetting gas onto the substrate from the slit of the air knife.

特開2000−100776号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2000-100776

ところで、乾燥工程に搬送される基板には、図6A及び図6Bに示すように、一方の面から他方の面を貫通する孔部101が形成された基板102、あるいは図7A及び図7Bに示すように、複数の基板104a、104bの積層による段差103が形成された積層基板104などもある。このような基板に対して、上記したエアーナイフによる基板102、104の乾燥では、基板102の孔部101の内側、基板104の段差103の角103aに液滴106が残留する場合がある。エアーナイフにより基板上の液滴を効率良く除去するために、エアーナイフを基板の搬送方向上流側に所定の角度に傾斜させ、斜め方向から気体を噴射して液滴を吹き飛ばして除去するが、上記のような基板102、104に対しては気体の噴射が及ばない部分が生じ、液滴の残留が生じてしまう場合がある。乾燥が不十分な基板102、104は品質の低下を招くばかりでなく、後工程での基板処理に支障を及ぼすおそれがあるので、基板上の液滴の残留を極力回避しなければならない。   By the way, as shown in FIGS. 6A and 6B, the substrate transported to the drying process is a substrate 102 in which a hole 101 passing from one surface to the other surface is formed, or as shown in FIGS. 7A and 7B. As described above, there is a stacked substrate 104 in which a step 103 is formed by stacking a plurality of substrates 104a and 104b. When the substrates 102 and 104 are dried with the air knife described above with respect to such a substrate, the droplet 106 may remain inside the hole 101 of the substrate 102 and at the corner 103 a of the step 103 of the substrate 104. In order to efficiently remove the droplets on the substrate by the air knife, the air knife is inclined at a predetermined angle upstream of the transport direction of the substrate, and gas is ejected from an oblique direction to blow off the droplets. A portion where gas injection does not reach the substrates 102 and 104 as described above may occur, and droplets may remain. Insufficient drying of the substrates 102 and 104 not only deteriorates the quality, but also hinders substrate processing in a later process, and therefore, it is necessary to avoid droplets remaining on the substrate as much as possible.

本発明は、このような事情を鑑みてなされたもので、エアーナイフによる乾燥処理後に基板上に残留する液滴を極力減らすことを可能とする基板乾燥装置提供を目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide a substrate drying apparatus that can reduce as much as possible the droplets remaining on the substrate after the drying process with an air knife.

本発明に係る基板乾燥装置は、
洗浄後の搬送される基板の面に対し、エアーナイフのスリットより気体を、前記基板の搬送方向上流側に向けて吹き付けることにより前記基板を乾燥させる基板乾燥装置であって、前記基板には、搬送される前記基板の搬送方向とは直交する幅方向の一方寄りに孔部を有する基板乾燥装置において、
前記エアーナイフが配置された位置よりも前記基板の搬送方向下流側に、前記基板の少なくとも一方の面に向けて気体を噴射する気体噴射手段を有し、
前記気体噴射手段は、前記エアーナイフから噴射される前記気体が前記基板の面となす角度とは異なる角度で気体を前記基板の前記孔部に向けて噴射するとともに、
前記エアーナイフは、平面視で、搬送される前記基板の前記孔部に近い側の一端を中心に前記基板の搬送方向下流側に傾斜するように設けられることを特徴とする。
The substrate drying apparatus according to the present invention comprises:
Surface of the substrate to be conveyed after washing hand, the gas from the slits of an air knife, a substrate drying apparatus for drying the substrate by spraying toward the upstream side of the substrate, the substrate, In the substrate drying apparatus having a hole on one side of the width direction orthogonal to the transport direction of the substrate to be transported ,
Gas injection means for injecting gas toward at least one surface of the substrate on the downstream side in the transport direction of the substrate from the position where the air knife is disposed,
The gas jetting unit jets the gas toward the hole of the substrate at an angle different from an angle formed by the gas jetted from the air knife with the surface of the substrate ,
The air knife is provided so as to incline toward the downstream side in the transport direction of the substrate around one end of the substrate being transported near the hole portion in plan view.

本発明によれば、エアーナイフによる基板上への気体噴出による乾燥処理を行った後に当該基板上に残留する液滴を極力減らすことができる。   According to the present invention, it is possible to reduce droplets remaining on the substrate as much as possible after performing a drying process by jetting gas onto the substrate using an air knife.

図1は本発明の第1の実施形態に係る基板乾燥装置を使用する基板乾燥工程を含む基板処理の各工程を示す概略図である。FIG. 1 is a schematic view showing each process of substrate processing including a substrate drying process using the substrate drying apparatus according to the first embodiment of the present invention. 本発明の第1の実施形態に係る基板乾燥装置の概略断面図である。1 is a schematic cross-sectional view of a substrate drying apparatus according to a first embodiment of the present invention. 本発明の第1の実施形態に係る基板乾燥装置の概略平面図である。1 is a schematic plan view of a substrate drying apparatus according to a first embodiment of the present invention. 本発明の第1の実施形態に係る基板乾燥装置の変形例の概略平面図である。It is a schematic plan view of the modification of the substrate drying apparatus which concerns on the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態に係る基板乾燥装置の概略側面図である。It is a schematic side view of the board | substrate drying apparatus which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態に係る基板乾燥装置の概略平面図である。It is a schematic plan view of the board | substrate drying apparatus which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態に係る基板乾燥装置の変形例の概略平面図である。It is a schematic plan view of the modification of the board | substrate drying apparatus which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 孔部(貫通穴)が形成された基板の乾燥をエアーナイフのみで行ったときの基板の平面を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the plane of a board | substrate when drying the board | substrate with which the hole part (through-hole) was formed only with the air knife. 孔部(貫通穴)が形成された基板の乾燥をエアーナイフのみで行ったときの基板の断面を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the cross section of a board | substrate when drying the board | substrate with which the hole part (through-hole) was formed only with the air knife. 2枚の基板の積層により段差が形成された基板の乾燥をエアーナイフのみで行ったときの基板の平面を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the plane of a board | substrate when drying the board | substrate with which the level | step difference was formed by lamination | stacking of two board | substrates was performed only with the air knife. 2枚の基板の積層により段差が形成された基板の乾燥をエアーナイフのみで行ったときの基板の側面を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the side surface of a board | substrate when drying the board | substrate in which the level | step difference was formed by lamination | stacking of two board | substrates was performed only with the air knife.

以下、本発明の実施の形態について図面を用いて説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

本発明の第1の実施の形態に係る基板乾燥装置と、この基板乾燥装置を使用する基板乾燥工程を含む基板処理の各工程を図1に示す。図1に示す基板処理工程10は、搬送ローラ12に載置されて搬送される基板11をブラシ13によりその表面を洗浄するブラシ洗浄工程15、ブラシ洗浄された基板11の表面にリンス液を供給するリンス工程16、リンス処理された基板11の表面を高圧液体の噴射により洗浄する高圧液体洗浄工程17、高圧液体の噴射により洗浄された基板11を乾燥させる基板乾燥工程18を有する。   FIG. 1 shows each step of substrate processing including a substrate drying apparatus according to the first embodiment of the present invention and a substrate drying process using the substrate drying apparatus. A substrate processing step 10 shown in FIG. 1 includes a brush cleaning step 15 for cleaning the surface of a substrate 11 that is placed on a transfer roller 12 and transferred by a brush 13, and a rinse liquid is supplied to the surface of the substrate 11 that has been brush cleaned. A rinsing step 16, a high-pressure liquid cleaning step 17 for cleaning the surface of the rinsed substrate 11 by jetting high-pressure liquid, and a substrate drying step 18 for drying the substrate 11 cleaned by jetting high-pressure liquid.

ブラシ洗浄工程15は、下面を搬送ローラ12に載置されて搬送される基板11の表面(上下両面)に、上下の回転ブラシ13、13を当接させて洗浄する工程である。このとき、基板上面側に当接する回転ブラシ13には、洗浄液供給装置20により洗浄液が供給される。   The brush cleaning process 15 is a process in which the upper and lower rotary brushes 13 and 13 are brought into contact with the surface (upper and lower surfaces) of the substrate 11 that is transported by placing the lower surface on the transport roller 12 for cleaning. At this time, the cleaning liquid is supplied from the cleaning liquid supply device 20 to the rotating brush 13 that contacts the upper surface of the substrate.

ブラシ洗浄工程15での洗浄後に基板11を処理するリンス工程16は、リンス液供給装置21から基板11の表面にリンス液を供給して、基板11に付着した洗浄用の処理液、エッチング液等をリンス処理する工程である。   A rinsing process 16 for processing the substrate 11 after cleaning in the brush cleaning process 15 supplies a rinsing liquid from the rinsing liquid supply device 21 to the surface of the substrate 11, and a cleaning processing liquid, an etching liquid or the like attached to the substrate 11. Is a step of rinsing.

リンス工程16の後に設けた高圧液体洗浄工程17は、高圧ツール22により高圧の液体(水、薬液等)を基板11の表面に噴射して洗浄を行う工程である。   The high-pressure liquid cleaning step 17 provided after the rinsing step 16 is a step in which high-pressure liquid (water, chemical liquid, etc.) is sprayed onto the surface of the substrate 11 by the high-pressure tool 22 to perform cleaning.

そして、高圧液体洗浄工程17で洗浄された基板11は、基板乾燥工程18に搬送される。基板乾燥工程18は、搬送中の基板11の表面に気体を噴射して基板11上の液滴を除去する工程である。   Then, the substrate 11 cleaned in the high-pressure liquid cleaning step 17 is transferred to the substrate drying step 18. The substrate drying process 18 is a process for removing the droplets on the substrate 11 by jetting gas onto the surface of the substrate 11 being transported.

ここで、図2A及び図2Bを用いて、乾燥工程18の構成を説明する。
図1、図2A及び図2Bに示すように、基板乾燥工程18で使用される、本実施形態に係る基板乾燥装置31は、搬送ローラ12に載置されて搬送される基板11の両面(上面、下面)に向けてそれぞれ気体を噴射する一対のエアーナイフ33、34と、エアーナイフ33、34が配置された位置よりも基板11の搬送方向(矢印14の示す方向)の下流側に、基板11の両面(上面、下面)に向けてそれぞれ気体を噴射する気体噴射手段である一対のエアーブローノズル35、36と、を有する。基板乾燥装置31に搬送される基板11の一部には、基板11の上面と下面とを貫通する孔部38が形成されている。
Here, the structure of the drying process 18 is demonstrated using FIG. 2A and 2B.
As shown in FIG. 1, FIG. 2A and FIG. 2B, the substrate drying apparatus 31 according to this embodiment used in the substrate drying step 18 has both surfaces (upper surfaces) of the substrate 11 mounted on the transport roller 12 and transported. , A pair of air knives 33 and 34 for injecting gas toward the lower surface, respectively, and the substrate on the downstream side in the transport direction of substrate 11 (direction indicated by arrow 14) from the position where the air knives 33 and 34 are disposed. 11 and a pair of air blow nozzles 35 and 36 which are gas injection means for injecting gas toward both surfaces (upper surface and lower surface) of the apparatus. A part of the substrate 11 conveyed to the substrate drying device 31 is formed with a hole 38 that penetrates the upper surface and the lower surface of the substrate 11.

エアーナイフ33、34は、先細り形状の先端に気体噴出口であるスリット33a、34aが形成された気体噴射装置で、このスリット33a、34aから高圧のカーテン状(層状)の気体を基板11に噴射して、基板11上の液滴を吹き飛ばす機能を有する。エアーナイフ33、34はそれぞれ高圧気体供給源(図示せず)と配管(図示せず)により接続されている。   The air knives 33 and 34 are gas injection devices in which slits 33 a and 34 a that are gas outlets are formed at tapered tips, and high-pressure curtain-like (layered) gas is injected from the slits 33 a and 34 a onto the substrate 11. Thus, the liquid droplets on the substrate 11 are blown away. The air knives 33 and 34 are connected to a high-pressure gas supply source (not shown) and a pipe (not shown), respectively.

基板乾燥装置31の概略側面図である図2Aに示すように、エアーナイフ33は、基板11の上面側に設けられ、スリット33aを下側に向けて、基板11の上面に対する垂直方向より基板11の搬送方向(矢印14の示す方向)下流側に傾斜(傾斜角A度)して配置されている。傾斜した位置に配置するのは、傾斜した方向から気体を吹き出すことで、液滴を後方に押しやり、基板上から吹き飛ばすためである。   As shown in FIG. 2A, which is a schematic side view of the substrate drying apparatus 31, the air knife 33 is provided on the upper surface side of the substrate 11, with the slit 33 a facing downward, and the substrate 11 from the direction perpendicular to the upper surface of the substrate 11. Is inclined (inclination angle A degree) on the downstream side in the conveying direction (direction indicated by arrow 14). The reason why it is arranged at the inclined position is to push the liquid droplets backward by blowing out the gas from the inclined direction and to blow it off from the substrate.

エアーナイフ34は、基板11の下面側に設けられ、スリット34aを上側に向けて、基板11の下面に対する垂直方向より基板11の搬送方向(矢印14の示す方向)下流側に傾斜(傾斜角度A度)した位置に配置されている。このように、基板11の表面(上面、下面)から液滴を排除するために、エアーナイフ33、34が基板11の上面側、下面側にそれぞれ配置されている。   The air knife 34 is provided on the lower surface side of the substrate 11, and is inclined (inclination angle A) from the direction perpendicular to the lower surface of the substrate 11 toward the downstream side in the transport direction (direction indicated by the arrow 14) of the substrate 11 with the slit 34 a facing upward. It is arranged at the position. As described above, the air knives 33 and 34 are disposed on the upper surface side and the lower surface side of the substrate 11 in order to remove droplets from the surface (upper surface and lower surface) of the substrate 11.

エアーナイフ33、34は、スリット33a、33bから噴射される高圧のカーテン状(層状)の気体が基板11の幅方向(基板11の搬送方向と直交する方向)全体を覆うように、基板11の幅方向に延び、少なくとも基板11の幅方向の寸法よりも長くなっている。   The air knives 33 and 34 are arranged so that the high-pressure curtain-like (layered) gas ejected from the slits 33a and 33b covers the entire width direction of the substrate 11 (direction perpendicular to the transport direction of the substrate 11). It extends in the width direction and is at least longer than the dimension of the substrate 11 in the width direction.

エアーブローノズル35、36は、先端に複数のノズル35a、36aが形成された気体噴射装置で、複数のノズル35a、36aから高圧気体を噴射して液滴を直接吹き飛ばす機能を有する。本実施の形態において、エアーブローノズル35、36は、搬送される基板11を挟んで互いに上下に対向配置され、図2Bに示すように、基板11の搬送方向(矢印14の示す方向)に沿ってノズル35a、36aが2列設けられる。各列は、基板11の搬送方向と直交する方向(基板11の幅方向)に延びる4個のノズルからなる。従って、各エアーブローノズル35、36は8個のノズルを有していて、搬送ローラ12によって搬送される基板に形成される孔部38を少なくとも覆う領域(孔部38及びその周辺領域)に対し、高圧気体を噴射する。なお、エアーノズル35、36は、エアーナイフ33、34と同様に、それぞれ高圧気体供給源(図示せず)と配管(図示せず)により接続されている。   The air blow nozzles 35 and 36 are gas injection devices in which a plurality of nozzles 35a and 36a are formed at the tips, and have a function of injecting high-pressure gas from the plurality of nozzles 35a and 36a to directly blow off droplets. In the present embodiment, the air blow nozzles 35 and 36 are arranged to face each other up and down across the substrate 11 to be transported, and as shown in FIG. 2B, along the transport direction of the substrate 11 (the direction indicated by the arrow 14). The nozzles 35a and 36a are provided in two rows. Each row includes four nozzles extending in a direction (width direction of the substrate 11) orthogonal to the transport direction of the substrate 11. Accordingly, each of the air blow nozzles 35 and 36 has eight nozzles, and covers at least the hole 38 formed in the substrate conveyed by the conveying roller 12 (the hole 38 and its peripheral area). Inject high-pressure gas. The air nozzles 35 and 36 are connected to a high-pressure gas supply source (not shown) and a pipe (not shown), respectively, in the same manner as the air knives 33 and 34.

図2Aに示すように、エアーブローノズル35は、基板11の上面側で、ノズル35aの先端を基板11の上面側に向けて(下向きにして)、垂直方向に配置されており、ノズル35aから基板11の上面に垂直に気体が噴射されるように設定されている。また図2Bに示すように、エアーブローノズル35は、基板11に形成された孔部38の移動経路に対向するように配置される。   As shown in FIG. 2A, the air blow nozzle 35 is arranged vertically on the upper surface side of the substrate 11 with the tip of the nozzle 35a facing the upper surface side of the substrate 11 (downward). The gas is set to be jetted perpendicularly to the upper surface of the substrate 11. As shown in FIG. 2B, the air blow nozzle 35 is disposed so as to face the movement path of the hole 38 formed in the substrate 11.

また、図2Aに示すように、エアーブローノズル36は、基板11の下面側で、ノズル36aの先端を基板11の下面側に向けて(上向きにして)、垂直方向に配置されており、ノズル36aから基板11の下面に垂直に気体が噴射されるように設定されている。また、上記したエアーブローノズル35と同様に、基板11に形成された孔部38の移動経路に対向するように配置される。   As shown in FIG. 2A, the air blow nozzle 36 is arranged in the vertical direction on the lower surface side of the substrate 11 with the tip of the nozzle 36a facing the lower surface side of the substrate 11 (upward). The gas is set so as to be jetted vertically from the lower surface of the substrate 11 from 36a. Further, similarly to the air blow nozzle 35 described above, the air blow nozzle 35 is disposed so as to face the movement path of the hole 38 formed in the substrate 11.

次に、本実施形態に係る基板乾燥装置31の動作について、図1、図2A及び図2Bを参照して説明する。   Next, the operation of the substrate drying apparatus 31 according to this embodiment will be described with reference to FIGS. 1, 2A, and 2B.

高圧液体の噴射により洗浄する高圧液体洗浄工程17で洗浄された基板11は、搬送ローラ12に載置されて、基板乾燥工程18に搬送される。基板乾燥工程18では、基板乾燥装置31により、搬送ローラ12により搬送される基板11に対して、エアーナイフ33、34と、エアーブローノズル35、36により気体を噴射し、基板11の両面(上面、下面)に付着した液滴を吹き飛ばして、基板11を乾燥させる。具体的な内容を以下に説明する。   The substrate 11 cleaned in the high-pressure liquid cleaning step 17 for cleaning by jetting the high-pressure liquid is placed on the transport roller 12 and transported to the substrate drying step 18. In the substrate drying step 18, the substrate drying device 31 jets gas to the substrate 11 transported by the transport roller 12 by the air knives 33 and 34 and the air blow nozzles 35 and 36, and both surfaces (upper surface) of the substrate 11. The substrate 11 is dried by blowing off the droplets adhering to the lower surface. Specific contents will be described below.

搬送ローラ12に載置されて搬送される基板11の上面には、エアーナイフ33のスリット33aより、搬送方向から吹き付ける気体が傾斜した向きで当たり、基板11上面の液滴が搬送方向上流側に押しやられて、吹き飛ばされる。また、上記同様に、搬送ローラ12に載置されて搬送される基板11の下面には、エアーナイフ34のスリット34aより、搬送方向から吹き付ける気体が傾斜した向きで当たり、基板11下面の液滴が搬送方向上流側に押しやられて、吹き飛ばされる。   The gas blown from the transport direction is inclined from the slit 33a of the air knife 33 on the upper surface of the substrate 11 placed on the transport roller 12 and transported, and the droplets on the upper surface of the substrate 11 are upstream in the transport direction. Pushed and blown away. Similarly to the above, the lower surface of the substrate 11 that is placed on the transport roller 12 and transported hits the gas blown from the transport direction through the slit 34a of the air knife 34 in an inclined direction, and the liquid droplets on the lower surface of the substrate 11 Is pushed to the upstream side in the transport direction and blown away.

このように、基板11の両面(上面、下面)に付着した液滴は、上記したようにエアーナイフ33、34のスリット33a、34aから噴射される気体により、両面(上面、下面)の搬送方向上流側に押しやられ、吹き飛ばされて除去される。しかしながら、エアーナイフ33、34のスリット33a、34aから噴射される気体は、上述したように両面(上面、下面)に対して傾斜した方向から吹き付けるため、基板11に形成された貫通穴である孔部38の内側には、液滴を吹き飛ばすだけの十分な量の気体が吹き付けられない。さらに、基板11の搬送方向14の下流側表面に付着した液滴が、エアーナイフ33、34から噴射される気体によって吹き飛ばされ、孔部38に入り込んでしまう。そのため、エアーナイフ33、34による気体の噴射後に、孔部38の内側に液滴が残留する場合も生じることがある。   As described above, the droplets adhering to both surfaces (upper surface and lower surface) of the substrate 11 are transported in both surfaces (upper surface and lower surface) by the gas ejected from the slits 33a and 34a of the air knives 33 and 34 as described above. Pushed upstream, blown away and removed. However, since the gas sprayed from the slits 33a, 34a of the air knives 33, 34 is blown from the direction inclined with respect to both surfaces (upper surface, lower surface) as described above, holes that are through holes formed in the substrate 11 A sufficient amount of gas is not blown inside the portion 38 to blow off the droplets. Further, the droplets adhering to the downstream surface of the substrate 11 in the transport direction 14 are blown off by the gas ejected from the air knives 33 and 34 and enter the hole 38. Therefore, a droplet may remain inside the hole 38 after the gas is ejected by the air knives 33 and 34.

このとき、エアーナイフ33、34による気体の噴射を受けた基板11は、エアーナイフ33、34よりも基板11の搬送方向下流側に設けたエアーブローノズル35、36による気体の噴射をその両面(上面、下面)に垂直方向からそれぞれ受ける。これにより、基板11上の孔部38の内側にもエアーブローノズル35、36から噴射された気体が十分に入り込むので、孔部38に残留した液滴は吹き飛ばされ、孔部38から除去されることになる。   At this time, the substrate 11 that has been subjected to the gas injection by the air knives 33 and 34 is subjected to gas injection by the air blow nozzles 35 and 36 provided on the downstream side of the air knife 33 and 34 in the transport direction of the substrate 11 on both sides ( The upper surface and the lower surface are received from the vertical direction. Thereby, the gas jetted from the air blow nozzles 35 and 36 sufficiently enters the inside of the hole 38 on the substrate 11, so that the liquid droplets remaining in the hole 38 are blown off and removed from the hole 38. It will be.

このように、基板11の両面(上面、下面)の表面上に付着した液滴をエアーナイフ33、34による表面に対して傾斜した噴射気体により効果的に除去することができると共に、エアーナイフ33、34により除去が十分に行えない孔部38の内側に付着した液滴は、エアーブローノズル35、36の複数のノズル35a、36aから垂直に噴射された気体により除去することができるので、孔部38が形成された基板11の乾燥を十分に行うことができる。   As described above, the droplets adhering to the surfaces of the both surfaces (upper surface and lower surface) of the substrate 11 can be effectively removed by the jet gas inclined with respect to the surface by the air knives 33 and 34, and the air knife 33. , 34 can be removed by the gas jetted vertically from the plurality of nozzles 35a, 36a of the air blow nozzles 35, 36, because the droplets adhered to the inside of the hole 38 that cannot be sufficiently removed by the holes 34, The substrate 11 on which the portion 38 is formed can be sufficiently dried.

上記したように、本実施形態では、エアーブローノズル35、36からの気体を基板11に対して垂直方向から噴射したが、基板11の厚さ、孔部38の径サイズにより、傾斜角度を設ける方が孔部38の内側の液滴を吹き飛ばすのに効果的な場合があるときは、エアーブローノズル35、36からの噴射気体を垂直方向から傾斜させるべく、エアーブーノズル35、36を垂直方向から所定角度傾けるように設定位置を調整しても良い。   As described above, in the present embodiment, the gas from the air blow nozzles 35 and 36 is jetted from the direction perpendicular to the substrate 11, but an inclination angle is provided depending on the thickness of the substrate 11 and the diameter size of the hole 38. If this is effective in blowing off the droplets inside the hole 38, the air-boost nozzles 35, 36 are set in the vertical direction so that the jet gas from the air blow nozzles 35, 36 is inclined from the vertical direction. The setting position may be adjusted so as to be inclined at a predetermined angle from the angle.

以上述べた実施態様によれば、エアーナイフ33、34が配置された位置よりも基板11の搬送方向下流側に基板に向けて気体を噴射するエアーブローノズル35、36を有し、エアーナイフ33、34とは異なる角度で気体を基板に噴射するので、エアーナイフ33,34により除去できない液滴に気体を噴射して除去することができる。   According to the embodiment described above, the air knife 33, 36 for injecting gas toward the substrate is provided on the downstream side in the transport direction of the substrate 11 from the position where the air knives 33, 34 are disposed. Since the gas is sprayed onto the substrate at an angle different from that of the gas, 34, the gas can be ejected onto the liquid droplets that cannot be removed by the air knives 33, 34.

また、基板乾燥工程18において、エアーブローノズル35、36は、基板11の面に対して垂直方向から気体を噴射する構成であるので、エアーナイフ33、34による気体の噴射が及ばない部分に対しても、気体の噴射が及び、基板11の液滴除去の向上を図ることができる。   In the substrate drying process 18, the air blow nozzles 35 and 36 are configured to inject gas from a direction perpendicular to the surface of the substrate 11, so that the gas injection by the air knives 33 and 34 does not reach the part. However, it is possible to improve the gas ejection and the droplet removal from the substrate 11.

次に、第1の実施形態の変形例について図3を参照して説明する。図3に示すように、本変形例の基板乾燥装置32では、第1の実施形態と同様の機構を有するエアーナイフ33(34)が、さらに基板11の搬送方向(矢印14の示す方向)と直交する方向に対して、エアーナイフ33(34)の一端を中心に傾斜(傾斜角B度)して配置されている(図示されないエアーナイフ34も同様)。なお、エアーナイフ33(34)の上記配置以外は第1の実施形態と同様の内容である。   Next, a modification of the first embodiment will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 3, in the substrate drying apparatus 32 of the present modification, an air knife 33 (34) having the same mechanism as that of the first embodiment further includes a transport direction of the substrate 11 (direction indicated by the arrow 14). The air knife 33 (34) is arranged so as to be inclined (inclination angle B degrees) with respect to the orthogonal direction (the same applies to the air knife 34 not shown). The contents are the same as those in the first embodiment except for the arrangement of the air knife 33 (34).

上記エアーナイフ33(34)の両端のうち、上記の例の一端とは別の他端を中心として傾斜させることも選択できるが、基板11上の液滴を効果的に排除するためには、基板11の孔部38に近い側を上記の一端を中心に傾斜させることが好ましい。このとき、図3に示すように、エアーナイフ33(34)は基板11の孔部38寄りの一端を中心に基板11の搬送方向下流側に傾斜した配置となるので、エアーナイフ33の下を通過した基板11の液滴は、基板の隅部(基板11の幅方向で孔部38と反対側)に集められて吹き飛ばされる。   Of the two ends of the air knife 33 (34), it is possible to select to incline around the other end different from the one end of the above example, but in order to effectively eliminate the droplets on the substrate 11, It is preferable to incline the side of the substrate 11 close to the hole 38 around the one end. At this time, as shown in FIG. 3, the air knife 33 (34) is inclined to the downstream side in the transport direction of the substrate 11 around one end of the substrate 11 near the hole 38. The droplets of the substrate 11 that have passed through are collected at the corner of the substrate (on the side opposite to the hole 38 in the width direction of the substrate 11) and blown off.

本変形例では、エアーナイフ33、34を平面上においても傾斜した向きに配置するので、エアーナイフ33、34による基板11上の液滴を隅部に寄せ集めて排除できるので、エアーブローノズル35、36と合わせた基板乾燥装置32による基板11の乾燥効果が向上する。   In this modification, since the air knives 33 and 34 are arranged in an inclined direction on the plane, the droplets on the substrate 11 by the air knives 33 and 34 can be gathered and removed at the corners, so that the air blow nozzle 35 , 36 and the drying effect of the substrate 11 by the substrate drying device 32 is improved.

次に、本発明に係る第2の実施形態について、図4A及び図4Bを参照して説明する。なお、第1の実施形態と相違する点を中心に説明し、第1の実施形態と同一形状で同一の機能を有する構成要素については、同一名称、同一符号を付して説明する。   Next, a second embodiment according to the present invention will be described with reference to FIGS. 4A and 4B. In addition, it demonstrates centering on a different point from 1st Embodiment, and attaches | subjects and demonstrates the same name and the same code | symbol about the component which has the same function as 1st Embodiment.

本実施形態の基板乾燥装置50は、エアーブローノズル55、56が基板51の幅方向全体に気体を噴射できるように幅方向の長さが基板の長さよりも長くなるように設定されていることが(図4B参照)、第1の実施形態と相違する点である。上記以外の点は第1の実施形態と同様の構成である。   The substrate drying apparatus 50 of the present embodiment is set so that the length in the width direction is longer than the length of the substrate so that the air blow nozzles 55 and 56 can inject gas over the entire width direction of the substrate 51. (Refer to FIG. 4B) is a difference from the first embodiment. The points other than the above are the same as those in the first embodiment.

本実施形態では、基板乾燥工程18に搬送される基板51は、基板51aと51bが積層された積層基板であり、基板51aと基板51bとで段差53が形成されている。この段差53の基板11の幅方向(基板の搬送方向と直交する方向)に伸びる角部54は、エアーナイフ33、34により気体が十分に噴射されない範囲であり、さらにエアーナイフ33により上側の基板51aの表面上から集められた液滴が溜まり易く、エアーナイフ33、34による液滴の除去が十分に行えない範囲である。   In the present embodiment, the substrate 51 transported to the substrate drying step 18 is a laminated substrate in which substrates 51a and 51b are laminated, and a step 53 is formed between the substrate 51a and the substrate 51b. A corner portion 54 of the step 53 extending in the width direction of the substrate 11 (a direction orthogonal to the substrate transport direction) is a range in which gas is not sufficiently ejected by the air knives 33, 34. The droplets collected from the surface of 51a are easy to collect, and the droplets cannot be sufficiently removed by the air knives 33 and 34.

基板51に形成される段差53は、基板51の幅方向(搬送方向と直交する方法)全体に形成されるので、エアーブローノズル55、56の先端部に設けられるノズル55a、56aは、基板51の搬送方向(矢印14の示す方向)に2列に配置され、基板51の搬送方向と直交する方向(基板51の幅方向)に亘って所定間隔で配置される。基板51の幅方向全体にノズル55a、56aから気体が噴射されるように、ノズルの数を適宜設定、配置する。   Since the step 53 formed on the substrate 51 is formed in the entire width direction of the substrate 51 (a method orthogonal to the transport direction), the nozzles 55 a and 56 a provided at the tip portions of the air blow nozzles 55 and 56 are formed on the substrate 51. Are arranged in two rows in the transfer direction (direction indicated by arrow 14), and are arranged at predetermined intervals in a direction (width direction of the substrate 51) orthogonal to the transfer direction of the substrate 51. The number of nozzles is appropriately set and arranged so that gas is jetted from the nozzles 55a and 56a over the entire width direction of the substrate 51.

次に、本実施形態の動作について説明する。高圧液体の噴射により洗浄する高圧液体洗浄工程17で洗浄された基板51は、搬送ローラ12に載置されて、基板乾燥工程18に搬送される。基板乾燥工程18では、基板乾燥装置50により、搬送ローラ12により搬送される基板11に対して、エアーナイフ33、34と、エアーブローノズル55、56により気体を噴射し、基板11の両面(上面、下面)に付着した液滴を吹き飛ばして、基板11を乾燥させる。具体的な内容を以下に説明する。   Next, the operation of this embodiment will be described. The substrate 51 cleaned in the high-pressure liquid cleaning process 17 that is cleaned by jetting high-pressure liquid is placed on the transport roller 12 and transported to the substrate drying process 18. In the substrate drying step 18, the substrate drying device 50 injects gas to the substrate 11 conveyed by the conveying roller 12 by the air knives 33 and 34 and the air blow nozzles 55 and 56, and both surfaces (upper surface) of the substrate 11. , The substrate 11 is dried by blowing off the droplets adhering to the lower surface. Specific contents will be described below.

搬送ローラ12に載置されて搬送される基板51の上側基板51aの上面には、エアーナイフ33のスリット33aより、基板の搬送方向下流側から吹き付ける気体が傾斜した向きで当たり、基板51aの上面の液滴が基板の搬送方向上流側に吹き飛ばされる。しかし、段差53の角部54には、エアーナイフ33のスリット33aからの気体が直接には吹き付けられ難く、結果として角部54に液滴が残留し易い状態となる。一方、下側の基板51bの下面は平坦であることから、エアーナイフ34により噴射される気体により、液滴が十分に吹き飛ばされ、除去される。したがって、基板51は、エアーナイフ33、34による気体の噴射後に、段差53の角部54に液滴が残留する可能性が高いことになる。   The upper surface of the upper substrate 51a of the substrate 51 that is placed on the transport roller 12 and transported hits the gas blown from the downstream side in the transport direction of the substrate through the slit 33a of the air knife 33, and the upper surface of the substrate 51a. Droplets are blown off to the upstream side of the substrate transfer direction. However, it is difficult for the gas from the slit 33a of the air knife 33 to be directly blown onto the corner portion 54 of the step 53, and as a result, the droplet tends to remain in the corner portion 54. On the other hand, since the lower surface of the lower substrate 51b is flat, the droplets are sufficiently blown off by the gas ejected by the air knife 34 and removed. Therefore, the substrate 51 has a high possibility that a droplet remains in the corner portion 54 of the step 53 after the gas is ejected by the air knives 33 and 34.

このとき、エアーナイフ33、34による気体の噴射を受けた基板51は、エアーナイフ33、34よりも基板11の搬送方向下流側に設けたエアーブローノズル55,56による気体の噴射をその両面(上面、下面)に垂直方向からそれぞれ受けるので、基板51上の段差53の角部にも、噴射された気体が十分に入り込み、段差53に残留した液滴は吹き飛ばされ、段差53から液滴が除去されることになる。なお、エアーブローノズル55を単独で使用しても段差53の角部から液滴が除去されるが、エアーブローノズル55の単独使用では、下側の基板51bの下面に液滴が回り込み、液滴の残留が生じてしまう可能性があるので、基板51全体の乾燥を十分に行うには、エアーブローノズル55、56を上下位置の一対で使用することが好ましい。 At this time, the substrate 51 that has been subjected to the gas injection by the air knives 33 and 34 is subjected to gas injection by the air blow nozzles 55 and 56 provided on the downstream side of the air knife 33 and 34 in the transport direction of the substrate 11 (both sides). Since the injected gas sufficiently enters the corners of the step 53 on the substrate 51, the liquid droplets remaining on the step 53 are blown off, and the droplets are discharged from the step 53. Will be removed. Even if the air blow nozzle 55 is used alone, the liquid droplets are removed from the corners of the step 53. However, when the air blow nozzle 55 is used alone, the liquid drops around the lower surface of the lower substrate 51b, and the liquid drops. Since droplets may remain, it is preferable to use the air blow nozzles 55 and 56 in a pair at the upper and lower positions in order to sufficiently dry the entire substrate 51.

このように、2枚の基板51a、51bの積層による段差53を有する積層の基板51について、基板51の両面の表面上に付着した液滴をエアーナイフ33、34による噴射気体により効果的に除去することができると共に、エアーナイフ33、34により除去が十分に行えない、段差53の角部54に付着した液滴ついては、エアーブローノズル55、56の複数のノズル55a、56aから垂直に噴射された気体により除去することができるので、段差53が形成された基板51の乾燥を十分に行うことができる。   As described above, with respect to the laminated substrate 51 having the step 53 obtained by the lamination of the two substrates 51a and 51b, the droplets adhering to the surfaces of both surfaces of the substrate 51 are effectively removed by the jet gas from the air knives 33 and 34. In addition, droplets attached to the corners 54 of the step 53 that cannot be sufficiently removed by the air knives 33 and 34 are ejected vertically from the plurality of nozzles 55a and 56a of the air blow nozzles 55 and 56. Therefore, the substrate 51 on which the step 53 is formed can be sufficiently dried.

上記したように、本実施形態では、エアーブローノズル55、56から基板51に対して垂直方向から気体を噴射したが、基板51の厚さ、段差53の形状等により、傾斜角度を少し設ける方が段差53の角部54の液滴を吹き飛ばすのに効果的な場合があるときは、エアーブローノズル55、56からの噴射気体を垂直方向から傾斜させるべく、エアーブローノズル55、56を垂直方向から所定角度傾けるように設定位置を調整する。   As described above, in this embodiment, gas is injected from the air blow nozzles 55 and 56 from the direction perpendicular to the substrate 51. However, depending on the thickness of the substrate 51, the shape of the step 53, etc. Is effective in blowing off the droplets at the corners 54 of the step 53, the air blow nozzles 55, 56 are moved in the vertical direction in order to incline the jet gas from the air blow nozzles 55, 56 from the vertical direction. The set position is adjusted so as to be inclined at a predetermined angle from

以上述べた実施態様によれば、例えばエアーナイフ33、34による気体の噴射後も残留する積層基板51に形成された段差53の角部54の液滴を効率良く除去することができる。   According to the embodiment described above, for example, it is possible to efficiently remove the droplets at the corner portion 54 of the step 53 formed on the laminated substrate 51 remaining after the gas is ejected by the air knives 33 and 34.

次に、第の実施形態の変形例について図5を参照して説明する。図5に示すように、本変形例の基板乾燥装置61では、第2の実施形態に示すエアーナイフ33(34)が、さらに基板11の搬送方向(矢印14の示す方向)と直交する方向に対して、エアーナイフ33(34)の一端を中心に傾斜(傾斜角B度)した位置に配置されている(図示されないエアーナイフ34も同様)。なお、エアーナイフ33(34)の上記配置以外は第2の実施形態と同様の内容である。 Next, a modification of the second embodiment will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 5, in the substrate drying apparatus 61 of this modification, the air knife 33 (34) shown in the second embodiment is further in a direction orthogonal to the transport direction of the substrate 11 (direction indicated by the arrow 14). On the other hand, the air knife 33 (34) is disposed at a position inclined (inclination angle B degrees) around one end (the same applies to the air knife 34 not shown). The contents are the same as those of the second embodiment except for the arrangement of the air knife 33 (34).

図5に示すように、エアーナイフ33(34)はその一端を中心に基板11の搬送方向下流側に傾斜した配置となっているので、エアーナイフ33の下を通過した基板11の液滴は、基板の隅部(紙面左上)に集められて吹き飛ばされる。   As shown in FIG. 5, since the air knife 33 (34) is inclined to the downstream side in the transport direction of the substrate 11 around one end, the droplets on the substrate 11 that have passed under the air knife 33 , Collected at the corner of the substrate (upper left of the page) and blown away.

本変形例では、エアーナイフ33、34を平面上においても傾斜した向きに配置するので、エアーナイフ33、34により基板11上の液滴を寄せ集めて排除できるので、エアーブローノズル55、56と合わせた基板乾燥装置61による基板11の乾燥効果が向上する。   In this modification, since the air knives 33 and 34 are arranged in an inclined direction on the plane, the air knives 33 and 34 can collect and remove the droplets on the substrate 11. The drying effect of the substrate 11 by the combined substrate drying device 61 is improved.

なお、上記実施の形態においては、エアーブローノズルを上下に対向配置する例を挙げて説明したが、これに限らず、上下のいずれかのエアーブローノズルを搬送方向にずらして配置しても良い。   In the above-described embodiment, an example in which the air blow nozzles are vertically opposed to each other has been described. However, the present invention is not limited thereto, and any one of the upper and lower air blow nozzles may be shifted in the transport direction. .

11 基板
12 搬送ローラ
14 矢印(基板搬送方向を示す)
33、34 エアーナイフ
33a、34b スリット
35、36 エアーブローノズル
35a、35b ノズル
38 孔部
11 Substrate 12 Transport roller 14 Arrow (Indicates substrate transport direction)
33, 34 Air knife 33a, 34b Slit 35, 36 Air blow nozzle 35a, 35b Nozzle 38 Hole

Claims (4)

洗浄後の搬送される基板の面に対し、エアーナイフのスリットより気体を、前記基板の搬送方向上流側に向けて吹き付けることにより前記基板を乾燥させる基板乾燥装置であって、前記基板には、搬送される前記基板の搬送方向とは直交する幅方向の一方寄りに孔部を有する基板乾燥装置において、
前記エアーナイフが配置された位置よりも前記基板の搬送方向下流側に、前記基板の少なくとも一方の面に向けて気体を噴射する気体噴射手段を有し、
前記気体噴射手段は、前記エアーナイフから噴射される前記気体が前記基板の面となす角度とは異なる角度で気体を前記基板の前記孔部に向けて噴射するとともに、
前記エアーナイフは、平面視で、搬送される前記基板の前記孔部に近い側の一端を中心に前記基板の搬送方向下流側に傾斜するように設けられることを特徴とする基板乾燥装置。
Surface of the substrate to be conveyed after washing hand, the gas from the slits of an air knife, a substrate drying apparatus for drying the substrate by spraying toward the upstream side of the substrate, the substrate, In the substrate drying apparatus having a hole on one side of the width direction orthogonal to the transport direction of the substrate to be transported ,
Gas injection means for injecting gas toward at least one surface of the substrate on the downstream side in the transport direction of the substrate from the position where the air knife is disposed,
The gas jetting unit jets the gas toward the hole of the substrate at an angle different from an angle formed by the gas jetted from the air knife with the surface of the substrate ,
The substrate drying apparatus , wherein the air knife is provided so as to incline toward the downstream side in the transport direction of the substrate around one end of the substrate being transported near the hole portion in plan view .
前記気体噴射手段は、搬送される前記基板の面の垂直方向から前記気体を噴射する請求項に記載の基板乾燥装置。 The substrate drying apparatus according to claim 1 , wherein the gas ejecting unit ejects the gas from a direction perpendicular to a surface of the substrate to be transported . 前記気体噴射手段は、前記気体を前記基板に噴射するエアーブローノズルを有する請求項1または2に記載の基板乾燥装置。 Said gas injecting means, the substrate drying apparatus according to claim 1 or 2 having an air blow nozzle for injecting the gas into the substrate. 前記気体噴射手段は、前記基板の両面側にそれぞれ設けられる請求項1乃至のいずれかに記載の基板乾燥装置。 It said gas injection means, a substrate drying apparatus according to any one of claims 1 to 3 are respectively provided on both sides of the substrate.
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