JP2004140388A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題に解決するための手段】
ウェーハの挿入端から縦方向に、一定長さと第1温度をもつ第1領域及び第1温度より高い第2温度と一定長さをもつ第2領域を備え、かつこれらの領域の間に温度勾配領域を備えた電気炉の挿入端から反応管内に、ウェーハを挿入し、第1の温度領域にて一旦ウェーハを保持して第1の処理を行い、次いでウェーハを第2の領域に移動させた後、ウェーハが第2温度より低くかつ第1温度より高い所定の第3温度に達する(t2、t3)まで該ウェーハを保持して第2の処理を行ない、その後直ちにウェーハを第2領域に下降させる。
【選択図】 図2
Description
1a 石英管
2 ウェーハ
6 ウェーハ移動棒
7 ウェーハホルダー
8 ウェーハ移動用マグネット
9 磁性体
10 ウェーハ移動用駆動系
11 ウェーハホルダー昇降系
14 ヒーター
15 ヒーター
16 水冷ジャケット
20 熱電対
30 下部整風板
31 内部石英管
32 上部整風板
Claims (6)
- ウェーハに熱処理を施して半導体装置を製造する方法において、ウェーハの挿入端から縦方向に、一定長さと第1温度をもつ第1領域及び第1温度より高い第2温度と一定長さをもつ第2領域を備え、かつこれらの領域の間に温度勾配領域を備えた電気炉の挿入端から、ウェーハを挿入し、第1領域にて一旦ウェーハを保持して第1の処理を行ない、次いでウェーハを第2領域に移動させた後、ウェーハが第2温度より低くかつ第1温度より高い所定の第3温度に達するまで該ウェーハを保持して第2の処理を行ない、その後直ちに該ウェーハを第2領域外に下降させることを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 最上ウェーハと最下ウェーハの間の距離を前記第1領域の前記一定長さと前記第2領域の前記一定長さ未満として1枚又は複数のウェーハを熱処理することを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記温度勾配領域内をウェーハを50sec以内で通過させることを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 第1領域に石英反応管の下部から第1ガスを流して該第1領域と第2領域の中間から排気し、第2領域に石英反応管の上部から第2ガスを流して該第1領域と第2領域の中間から排気することを特徴とする請求項1から3までの何れか1項記載の半導体装置の製造方法。
- 第2温度と第3温度の差が10〜300℃であることを特徴とする請求項1から4までの何れか1項記載の半導体装置の製造方法。
- 第1温度と第2温度の差が100℃以上あることを特徴とする請求項1から5までの何れか1項記載の半導体装置の製造方法。
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