JP2004128308A - ステージ装置及び露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ステージ装置1は、Y方向にはリニアモータ14、24により精密な位置決めの必要な連続移動(スキャン)を行い、X方向にはエアシリンダにより間欠的な移動・停止を行うよう構成されている。Yスライダ13、23の駆動は、線形性に優れるリニアモータ14、24で行うため、高精度のスキャン位置決めが可能である。Yスライダ13、23間に掛け渡されている移動ガイド31に沿ってスライドするXスライダ(ステージ)41の駆動は、軽量化に適したエアシリンダで行うため、ステージ装置1全体の軽量化を実現できるとともに、高加速性も実現できる。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、パターン原版(マスク、レチクル)や感応基板(ウェハ)等を移動・位置決めするためのステージ装置、及び、そのようなステージ装置を備える露光装置に関する。特には、高精度のスキャン位置決めを行うことができる等の利点を有するステージ装置等に関する。
【0002】
【従来の技術】
現在、光露光装置のステージ装置としては、いわゆるH型あるいはI型XYステージ装置が主に用いられている。これらのステージ装置は、ある方向に平行に延びる2本の固定ガイド間に移動ガイドを掛け渡し、この移動ガイド上で自走式のステージを走らせるものである。2本の固定ガイドと移動ガイドの形がアルファベットのHやIの形をしているので、この名前が付けられている。この種のステージ装置は、構成が簡単で、小型化・軽量化・高効率化を期待できる。なお、H型ステージは両軸が長ストロークであるウェハステージに、I型ステージは一方向のみ長ストロークであるレチクルステージに用いられることが多い。
【0003】
このようなH型あるいはI型ステージ装置の各軸の駆動アクチュエータとしては、最近、一般的にはリニアモータが用いられている。ステージ装置の移動ガイド上で自走する側の軸のリニアモータは、固定子も可動子も双方が動く。そのため、これらH型あるいはI型ステージ装置を電子線露光装置中のマスクステージやウェハステージとして用いる場合には、露光中の磁場変動が問題となる。この対策として、リニアモータの磁気を磁気シールドで遮蔽することも考えられるが、その場合は装置の構造が複雑になる。
【0004】
他のステージ装置として、いわゆる十字型ステージ装置がある(例えば、特許文献1参照)。この十字型ステージ装置は、X及びY方向のいずれにも2本の平行な固定ガイドが設けられており、その間に十字型に交差する移動ガイドが互いにスライド可能に設けられている。そして、これら移動ガイドの交差点上にステージ部が搭載されている。この十字型ステージ装置においては、リニアモータを構成する永久磁石と電機子コイルのうち、変動磁場の大きい永久磁石をXY両軸とも固定子として定盤上に固定し、変動磁場の比較的少ない電機子コイルを可動子とすれば、露光中の変動磁場を低減できる。
しかしながら、十字型ステージ装置は、前述のH型ステージとI型ステージとを中央で連結したような形態であって、装置が大型になる。
【0005】
さらに、他のステージ装置として、2自由度リニアモータ(平面モータ)を用いるステージ装置がある(例えば、特許文献2参照)。これは、ある方向に平行に延びる2本の固定ガイド間に、他の一軸を駆動するための2自由度リニアモータが配置されてなるH型又はI型ステージである。
しかし、2自由度リニアモータは特殊な構成をしており、比較的高価である。
【0006】
さらに、例えば特許文献3には、空気軸受とバキュームパッドを利用し、テーブルにZ方向の与圧をかけるタイプのステージ装置が開示されている。このステージ装置は、定盤に設けられたバキュームパッドと空気軸受を利用し、移動テーブルにZ方向の与圧を与えるものである。この装置では、移動テーブル等の重量を定盤で受けることができるとともに、与圧のメカニズムもシンプルであるので、装置を軽量化し易い。
しかしながら、このステージ装置は、真空中ではバキュームによるプリロードがかけられない。バキュームの替りに磁石吸引力による与圧をかけることも考えられるが、磁場変動を極力避けたい荷電粒子線露光装置には適用しにくい。
【0007】
【特許文献1】
特開2002−93686号公報(第1図、第2図)
【特許文献2】
特開2002−82445号公報(第8図)
【特許文献3】
特開平9−34135号公報
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
スキャン方式の露光装置のステージは、連続移動(スキャン)方向には精密な連続的位置決めが必要であるが、他の方向には間欠的な移動・停止のみを行う。そのため、スキャン方向のステージ駆動機構には高精度の連続位置決め精度が要求され、他の方向のステージ駆動機構には特に軽量且つ重心駆動が要求される。ここで、重心駆動とは、被駆動体の重心と、駆動力の作用の中心とが一致することである。さらに、ステージ装置は、低重心でステージ部の移動に伴う振動を遮断できる特性を有するものが好ましい。
【0009】
本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであって、高精度のスキャン位置決めを行うことができる等の利点を有するステージ装置を提供することを目的とする。さらに、新規な反力キャンセル機構、あるいは、ガイド変形矯正機構等を有するステージ装置を提供することを目的とする。また、そのようなステージ装置を備える露光装置を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】
前記の課題を解決するため、本発明の第1のステージ装置は、ある平面(XY平面)内で、該平面内におけるある方向(Y方向)には精密な位置決めの必要な連続移動(スキャン)を行い、他の方向(X方向)には間欠的な移動・停止のみを行うステージを駆動・位置決めするステージ装置であって、 前記Y方向に延びる2本の固定ガイドと、 これらの各固定ガイドに沿って各々スライドする2つのYスライダと、 該Yスライダの駆動機構と、 前記両Yスライダ間に掛け渡された、前記X方向に延びる移動ガイドと、 該移動ガイドに沿ってスライドするステージ(Xスライダ)と、 該ステージの駆動機構と、を具備し、 前記Yスライダの駆動機構のアクチュエータがリニアモータであり、 前記ステージの駆動機構のアクチュエータがエアシリンダであることを特徴とする。
【0011】
Yスライダ駆動は、線形性に優れるリニアモータで行うため、高精度のスキャン位置決めが可能である。Yスライダ間に掛け渡されている移動ガイドに沿ってスライドするXスライダ(ステージ)駆動は、軽量化に適したエアシリンダで行うため、ステージ装置全体の軽量化を実現できるとともに、高加速性も実現できる。
なお、本明細書における“エアシリンダ”は、空気以外の気体を作動媒体とするシリンダも含むものとする。
【0012】
本発明の第1のステージ装置においては、前記固定ガイドが、前記Yスライダを上下から挟む上下のガイド部材を有し、これら両ガイド部材と前記Yスライダの上下面との間に非接触気体軸受が配置されているものとすることができる。
この場合、Yスライダが固定ガイドの上に乗る構造ではなく、Yスライダが固定ガイドの中に挟まれる構造となるので、ステージ装置の軽量化及び低重心化を実現できるという利点がある。
【0013】
本発明の第1のステージ装置においては、前記固定ガイドと前記Yスライダとの間には、該スライダを前記X方向に拘束するガイド機構は設けられておらず、前記Y駆動のリニアモータに前記X方向に小寸法駆動するリニアモータ(θzヨーリニアモータ)が付設されており、 前記θzヨーリニアモータで、前記XY平面に直交する方向(Z方向)の周りにおける前記Yスライダ及び移動ガイドの姿勢制御を行うものとしてよい。
Yスライダは、X方向には拘束されておらず、同方向にある程度(小寸法)は移動可能である。そこで、θzヨーリニアモータを駆動して、Yスライダ及び移動ガイドをXY平面に直交する方向(Z方向)の周りに動かすことで、ステージの姿勢をZ方向周りで調整できる。こうすることにより、ガイドレスで多重拘束することなく、リニアモータ推力配分によりθz姿勢制御が可能となる。さらに、θzを任意に保つことも可能になる。
【0014】
本発明の第1のステージ装置においては、前記ステージが、前記移動ガイド上を、4面(上下及び両側面)を拘束されて案内されるものとすることができる。この場合、対向高剛性支持を実現でき、また弾性主軸と重心とを一致することができるので、各軸制御が容易となる。
【0015】
本発明の第1のステージ装置においては、前記非接触気体軸受の周囲に排気溝を設けることができる。
この場合、気体リークを軽減できるので、真空雰囲気中や特殊雰囲気中でも本発明のステージ装置を使用することができる。
【0016】
本発明の第1のステージ装置においては、前記固定ガイド又は移動ガイドに、前記非接触気体軸受の給気・大気排気・真空排気系統を設けることができる。
この場合、ステージ装置の他の箇所に気体用の配管を引き回さずに済むので、ステージの動きへの規制が少なくなり、ステージの制御性を向上できる。
【0017】
本発明の第2のステージ装置は、ある平面(XY平面)内でステージを駆動・位置決めするステージ装置であって、 前記平面内のある方向(Y方向)に延びる2本の固定ガイドと、 これら各固定ガイドに沿って各々スライドする2つのYスライダと、 該Yスライダの駆動機構と、 前記両Yスライダ間に掛け渡された、前記平面内の他の方向(X方向)に延びる移動ガイドと、 該移動ガイドに沿ってスライドするステージ(Xスライダ)と、 該ステージの駆動機構と、を具備し、 前記固定ガイドが、前記Yスライダを上下から挟む上下のガイド部材を有し、 該ガイド部材が前記Yスライダの駆動反力を受け、 該ガイド部材内に配置された、前記Yスライダと逆方向に駆動されるアクティブカウンタマス及びその駆動機構をさらに具備することを特徴とする。
アクティブな反力吸収機構を備えることにより、ステージの移動に伴って生じる反力を打ち消すことができる。そのため、ステージの位置決め精度がより向上する。
【0018】
本発明の第3のステージ装置は、ある平面(XY平面)内でステージを駆動・位置決めするステージ装置であって、 前記平面内のある方向(Y方向)に延びる2本の固定ガイドと、 これら各固定ガイドに沿って各々スライドする2つのYスライダと、 該Yスライダの駆動機構と、 前記両Yスライダ間に掛け渡された、前記平面内の他の方向(X方向)に延びる移動ガイドと、 該移動ガイドに沿ってスライドするステージ(Xスライダ)と、 該ステージの駆動機構と、を具備し、 前記固定ガイドが、前記Yスライダを上下から挟む上下のガイド部材を有し、 該ガイド部材が前記Yスライダの駆動反力を受け、 該ガイド部材が、ステージ装置のベースに対して非接触支持されており、前記Yスライダの駆動反力により、該Yスライダと逆方向に前記ガイド部材が移動するパッシブカウンタマス機構を構成することを特徴とする。
パッシブな反力処理機構を構成することにより、ステージの移動に伴って生じる反力を打ち消すことができる。そのため、ステージの位置決め精度がより向上する。
【0019】
なお、アクティブな反力処理機構とパッシブな反力処理機構の特徴の差、両者の望ましい使い分けは、次の通りである。すなわち、アクティブ反力処理機構は、ストローク(サイズ)を小さくでき、ステージ総重量を低減できる。一方、パッシブ反力処理機構は、反力処理の同時性が実現でき、消費電力が低減できる。これらアクティブ反力処理とパッシブ反力処理とは、互いに双対の関係にあるといえる。
【0020】
本発明のステージ装置においては、前記移動ガイドが前記ステージ(Xスライダ)の駆動反力を受け、 該移動ガイド内に配置された、前記ステージと逆方向に駆動されるアクティブカウンタマス及びその駆動機構をさらに具備することが好ましい。
あるいは、前記移動ガイドが前記ステージ(Xスライダ)の駆動反力を受け、該移動ガイドが、前記Yスライダに対して非接触支持されており、前記ステージの駆動反力により、該ステージと逆方向に前記移動ガイドが移動するパッシブカウンタマス機構を構成することが好ましい。
これらによれば、Xスライダの駆動反力も吸収できるので、ステージの位置決め精度がより向上する。
【0021】
本発明のステージ装置においては、前記駆動機構のアクチュエータをエアシリンダとすることができる。
エアシリンダはリニアモータ等よりも軽量化が可能であるため、移動ガイド側の駆動系を軽量化でき、ひいてはステージ装置全体の軽量化を実現できる。
【0022】
本発明のステージ装置においては、前記Yスライダに寄り添って移動する補助スライダと、 該補助スライダと前記Yスライダを繋ぎ、該Yスライダと外部との流体の流出入を仲介する連結部材(配管)と、を具備することができる。
この場合、ステージが空気配管等を引き摺って走行する際の抵抗を低減でき、ステージの制御性が向上する。
【0023】
また、このステージ装置においては、前記固定ガイドと平行に配置された、前記補助スライダを案内する副固定ガイドと、 該副固定ガイド内に配置された、前記補助スライダと逆方向に駆動されるアクティブカウンタマス及びその駆動機構と、をさらに具備することができる。
この場合、副固定ガイド内に配置されたアクティブカウンタマスで打ち消すことができる。そのため、補助スライダの駆動に伴う振動も抑制できるので、ステージの位置決め精度をより向上できる。
【0024】
本発明のステージ装置においては、前記リニアモータに磁気シールド構造が付設されているものとすることができる。
この場合、リニアモータから発生する高周波の電磁ノイズ等の外乱磁場を遮断できる。
【0025】
本発明の第4のステージ装置は、 ある平面(XY平面)内でステージを駆動・位置決めするステージ装置であって、 前記平面内のある方向(Y方向)に延びる2本の固定ガイドと、 これら各固定ガイドに沿って各々スライドする2つのYスライダと、 該Yスライダの駆動機構と、 前記両Yスライダ間に掛け渡された、前記平面内の他の方向(X方向)に延びる移動ガイドと、 該移動ガイドに沿ってスライドするステージ(Xスライダ)と、 該ステージの駆動機構と、を具備し、 前記非接触気体軸受が、前記X方向に並んで複数配置されており、各非接触気体軸受への気体供給を調整して、前記移動ガイドの自重撓みを補正することを特徴とする。
このステージ装置では、各非接触気体軸受の圧力や流量をコントロールし、移動ガイドに意図的なモーメントをかけることにより、自重により撓んだ移動ガイドの姿勢を補正することができる。
【0026】
本発明の露光装置は、所望のパターンが形成された原版を載置する原版ステージと、 前記原版をエネルギ線照明する照明光学系と、 前記パターンを転写する感応基板を載置する感応基板ステージと、 前記原版を通過したエネルギ線を前記感応基板上に投影結像させる投影光学系と、を具備し、前記両ステージをある方向(Y方向)に同期連続移動(同期スキャン)させながら露光する露光装置であって、 前記原版ステージ又は感応基板ステージが、前記のステージ装置からなることを特徴とする。
【0027】
本発明の露光装置は、感応基板上にエネルギ線を選択的に照明してパターン形成する露光装置であって、 前記感応基板を載置して移動する感応基板ステージ及び/又は前記パターンの原版を載置して移動する原版ステージが、前記請求項7〜15いずれか1項記載のステージ装置からなることを特徴とする。
なお、前記エネルギ線は特に限定されず、光、紫外線、X線(軟X線、EUV等)、荷電粒子線(電子線、イオンビーム)等であってよい。また、露光方式も限定されず、縮小投影露光、近接等倍転写、直描式等に広く適用できる。
【0028】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しつつ説明する。
まず、電子線露光装置の概要を説明する。
図13は、本発明の実施の形態に係る電子線露光装置の全体構成例を模式的に示す図である。
図13に示す電子線露光装置100の上部には、照明光学系を含む真空チャンバ101が配置されている。真空チャンバ101には真空ポンプ102が接続されており、同チャンバ内を真空排気している。
【0029】
真空チャンバ101の上部には、電子銃103が配置されており、下方に向けて電子線を放射する。電子銃103の下方には、コンデンサレンズ104aや電子線偏向器104b等を含む照明光学系104、レチクルRが配置されている。電子銃103から放射された電子線は、コンデンサレンズ104aによって収束されるとともに偏向器104bにより図の横方向に順次走査(スキャン)され、光学系104の視野内にあるレチクルRの各小領域(サブフィールド)の照明が行われる。なお、図では一段のコンデンサレンズ104aのみが示されているが、実際の照明光学系には、数段のレンズやビーム成形開口等が設けられている。
【0030】
レチクルRは、レチクルステージ111の上部に設けられたチャック110に静電吸着等により固定されている。レチクルステージ111は、定盤116に載置されている。
【0031】
レチクルステージ111には、図の左方に示す駆動装置112が接続されている。駆動装置112は、ドライバ114を介して、制御装置115に接続されている。また、レチクルステージ111の側方(図の右方)にはレーザ干渉計113が設置されている。レーザ干渉計113は、制御装置115に接続されている。レーザ干渉計113で計測されたレチクルステージ111の正確な位置情報が制御装置115に入力される。レチクルステージ111の位置を目標位置とすべく、制御装置115からドライバ114に指令が送出され、駆動装置112が駆動される。
【0032】
定盤116の下方には、ウェハチャンバ(真空チャンバ)121が示されている。ウェハチャンバ121の側方(図の右側)には、真空ポンプ122が接続されており、ウェハチャンバ121内を真空排気している。ウェハチャンバ121内(又は別途の投影光学系鏡筒内)には、コンデンサレンズ(投影レンズ)124aや偏向器124b等を含む投影光学系124、及びウェハステージ131が配置されている。
【0033】
レチクルRを通過した電子線は、コンデンサレンズ124aにより収束される。コンデンサレンズ124aを通過した電子線は、偏向器124bにより偏向され、ウェハW上の所定の位置にレチクルRの像が結像される。なお、図中にはコンデンサレンズ124aが一段示されているのみであるが、実際には、投影光学系中には複数段のレンズや収差補正用のレンズやコイルが設けられている。
【0034】
ウェハWは、ウェハステージ131の上部に設けられたチャック130に静電吸着等により固定されている。ウェハステージ131は、定盤136に載置されている。
【0035】
ウェハステージ131には、図の左方に示す駆動装置132が接続されている。駆動装置132及びステージ131の構造については後述する。駆動装置132は、ドライバ134を介して、制御装置115に接続されている。また、ウェハステージ131の側方(図の右方)にはレーザ干渉計133が設置されている。レーザ干渉計133は、制御装置115に接続されている。レーザ干渉計133で計測されたウェハステージ131の正確な位置情報が制御装置115に入力される。ウェハステージ131の位置を目標位置とすべく、制御装置115からドライバ134に指令が送出され、駆動装置132が駆動される。
【0036】
次に、本発明の一実施の形態に係るステージ装置について説明する。
図1は、本発明の一実施の形態に係るステージ装置の全体構成を示す斜視図である。
図2は、図1のステージ装置のガイドやステージから上カバーを外した状態を示す斜視図である。
図3は、同ステージ装置のリニアモータ、Yスライダ、移動ガイド及びステージの斜視図(図1から固定ガイドを取り除いた状態の斜視図)である。
図4(A)は図3に示す各部の平面図であり、図4(B)はその正面図であり、図4(C)はその側面図である。
図5は、同ステージ装置のYスライダ(Y軸)駆動リニアモータの内部構成を示す分解斜視図である。
【0037】
図6は、同ステージ装置の移動ガイド及びステージの斜視図である。
図7(A)は図6に示す移動ガイド及びステージの平面図であり、図7(B)はその正面図であり、図7(C)はその側面図である。
図8(A)は同ステージ装置のステージのX方向への動作を説明するための斜視図であり、図8(B)はその作動チャートである。
図9(A)、(B)は同ステージ装置のステージのY方向への動作を説明するための斜視図であり、図9(C)はその作動チャートである。
図10(A)、(B)は同ステージ装置の配管キャリアの動作を説明するための斜視図であり、図10(C)はその作動チャートである。
【0038】
このステージ装置1は、図13の露光装置におけるウエハステージ131に相当する。同ステージ装置1は、図1及び図2の左斜め上に矢印で示すY方向には、リニアモータ(図3〜図5参照)により精密な位置決めの必要な連続移動(スキャン)を行い、X方向には、エアシリンダ(図7参照)により間欠的な移動・停止を行うよう構成されている。
【0039】
図1及び図2に示すように、ステージ装置1の四角には、4つのポスト3a〜3dが、図示せぬベース上にそれぞれ立ち上げられている。左側のポスト3aと3bの間、並びに、右側のポスト3cと3dの間には、Y方向に沿って互いに平行に延びる固定ガイド11、21がそれぞれ架設されている。各固定ガイド11(21)は、それぞれ上下のガイド部材11A、11B(21A、21B)からなる。上下ガイド部材11A、11B(21A、21B)は、それぞれY方向に延びる帯状のものであって、互いにある寸法離れて上下に平行に向かい合っている。
【0040】
各固定ガイド11(21)の両ガイド部材11A、11B(21A、21B)間には、図3及び図4に示すYスライダ13(23)がそれぞれ挟まれている。各Yスライダ13、23は、それぞれリニアモータ14、24に駆動されて、Y方向に沿ってそれぞれスライドする。
【0041】
まず、図の左側のYスライダ13周囲の構成について、主に図4(A)、(B)を参照しつつ説明する。
図4(B)にわかり易く示すように、Yスライダ13の本体は、外側に開口するコ字状の断面を有する。このコ字状の開口(溝)内に、リニアモータ14が組み込まれている。
【0042】
リニアモータ14は、縦断面T字状の固定子15に対して、縦断面コ字状の可動子16がスライド可能に組み合わされてなる。固定子15は、前述した図1に示す固定ガイド11の両ガイド部材11A、11B間に挟まれるような形で、Y方向に延びるように横たわった状態で配置されている。固定子15の両端は、ポスト3a、3bに固定されている(図1及び図2参照)。可動子16は、コ字の開口がステージ装置1の外側(図4(A)及び(B)の左側)を向いた状態で配置されている。この可動子16の外側は、Yスライダ13に固定されている。これら可動子16とYスライダ13は、一体となって固定子15に対してY方向にスライドする。
【0043】
図5の上部に示すように、固定子15には、Y方向(スライド方向)に沿って複数並んだ小判状のYコイル15aと、これらYコイル15aの隣りに配置された1個の細長いXコイル15bとが組み込まれている。Yコイル15a、Xコイル15bは、自己磁場キャンセル型コイルであって、高周波の電磁ノイズ等の外乱磁場を遮断できる。一方、可動子16のコ字開口内の上下面には、Y方向(スライド方向)に沿ってN極・S極が交互となるように複数並んだ棒状のY永久磁石16aと、これらY永久磁石16aの隣りでN極・S極が逆となるように配置された長い棒状の2本のX永久磁石16bとが組み込まれている。各永久磁石16a、16bは、自己磁気シールド付きの永久磁石(一例でNd−Fe−B系)であり、高周波の電磁ノイズ等の外乱磁場を遮断できる。
【0044】
Y永久磁石16aはYコイル15aに対応しており、これらは、Y方向の力Fyを生じさせるY軸リニアモータの役割を果たす。一方、X永久磁石16bはXコイル15bに対応しており、これらと後述するX永久磁石16b´、Xコイル15b´とは、X方向の力Fxを生じさせるθzヨーリニアモータの役割を果たす。
なお、前述の固定ガイド11には、Yコイル15a及びXコイル15bを制御する電気配線及び冷却媒体を循環させる配管等(図示されず)が接続されている。
【0045】
図4(A)に最もよく示すように、Yスライダ13の上下面(図1の固定ガイド11の両ガイド部材11A、11Bと対向する面)には、各面に4個ずつエアパッド17a〜17dが設けられている(図には上摺動面側の4個のエアパッドのみが示されている)。各エアパッド17a〜17dは、多孔オリフィス材からなる。各エアパッド17a〜17dには、エア配管17Xからエアが供給される。このエア配管17Xは、Yスライダ13に接続されており、図示せぬエア源に繋がっている。
【0046】
Yスライダ13の摺動面において、各エアパッド17a〜17dの周囲には、大気排気用溝17a´〜17d´が形成されている。さらに、Yスライダ13の摺動面には、エアパッド17a〜17d全体を囲む長方形の真空排気溝18aと、Y方向に沿って延びる直線状の真空排気溝18bが形成されている。真空排気溝18bにより、エアパッド17a〜17dは、内側の2個17a、17cと外側の2個17b、17dとに区分けされている。内エアパッド17a、17cと外エアパッド17b、17dとは、それぞれ独立に空気供給量を調整できるようになっている。
なお、下摺動面側の4個のエアパッド、大気排気用溝及び真空排気溝も、上摺動面側と同様に構成されている。
【0047】
図示せぬエア源からエア配管17Xを介してエアパッド17a〜17dにエアが供給されると、多孔オリフィス部分からエアが噴出される。このエアにより、Yスライダ13が上下ガイド部材11A、11B(図1及び図2参照)に対して非接触支持される。このとき噴出されたエアは、大気排気用溝17a´〜17d´から大気に開放される。大気排気用溝17a´〜17d´から洩れたエアは、真空排気溝18a、18bから真空排気される。このようにして、エアパッド17a〜17dのエアが、高真空に保たれているチャンバ内にあまり洩れ出さないようになっている。
【0048】
図4に示すように、リニアモータ14の固定子15の端部には、前述のX永久磁石16b及びXコイル15b(図5参照)とともにθzヨーリニアモータをなすX永久磁石16b´、Xコイル15b´が設けられている。θzヨーリニアモータは、Yスライダ13をX方向に前述の小寸法だけ駆動させるモータである。X永久磁石16b´、Xコイル15b´には、Yスライダ13のX方向の変位を検出するギャップセンサ(図示されず)が2つ設けられている。このギャップセンサでYスライダ13のX方向の変位を検出しつつ、θzヨーリニアモータを制御することで、XY平面に直交する方向(Z方向)の周りにおけるYスライダ13及び移動ガイド31の姿勢制御を行うことができる。
【0049】
次に、図3の右側のYスライダ23周囲の構成について、主に図3と図4を参照しつつ説明する。
図4(B)にわかり易く示すように、Yスライダ23の本体は、外側に開口するコ字状の断面を有する。このコ字状の開口(溝)内に、リニアモータ24が組み込まれている。
【0050】
リニアモータ24は、縦断面T字状の固定子25に対して、縦断面コ字状の可動子26がスライド可能に組み合わされてなる。固定子25は、前述した図1に示す固定ガイド21の両ガイド部材21A、21B間に挟まれるような形で、Y方向に延びるように横たわった状態で配置されている。固定子25の両端は、ポスト3c、3dに固定されている(図1及び図2参照)。可動子26は、コ字の開口がステージ装置1の外側(図4(A)及び(B)の右側:前述のリニアモータ14の可動子16とは逆側)を向いた状態で配置されている。この可動子26の外側は、Yスライダ23に固定されている。これら可動子26とYスライダ23は、一体となって固定子25に対してY方向にスライドする。これら固定子25及び可動子26にも、前述の固定子15及び可動子16と同様に、図5に示すような自己磁場キャンセル付きコイル及び自己磁気シールド付き永久磁石が組み込まれている。
【0051】
図3及び図4(A)に示すように、Yスライダ23の上下面(図1の固定ガイド21の両ガイド部材21A、21Bと対向する面)には、各面に2個ずつエアパッド27a、27bが設けられている(図には上摺動面側の2個のエアパッドのみが示されている)。各エアパッド27a、27bは、多孔オリフィス材からなる。各エアパッド27a、27bには、エア配管27Xからエアが供給される。このエア配管27Xは、Yスライダ23に接続されており、図示せぬエア源に繋がっている。
【0052】
Yスライダ23の摺動面において、各エアパッド27a、27bの周囲には、大気排気用溝27a´、27b´が形成されている。さらに、Yスライダ23の摺動面には、エアパッド27a、27b全体を囲む長方形の真空排気溝28aと、両エアパッド27a、27b間でY方向に沿って延びる直線状の真空排気溝28bが形成されている。真空排気溝28bにより、エアパッド27a、27bは、内側27bと外側27aとに区分けされている。これら外エアパッド27aと内エアパッド27bは、それぞれ独立に空気供給量を調整できるようになっている。このYスライダ23側においても、前述と同様の作用により、Yスライダ23が上下ガイド部材21A、21B(図1及び図2参照)に対して非接触支持される。
なお、下摺動面側の2個のエアパッド、大気排気用溝及び真空排気溝も、上摺動面側と同様に構成されている。
【0053】
次に、両Yスライダ13、23間の移動ガイド31及びステージ41について説明する。
図1〜図4、図6に示すように、両Yスライダ13、23間には、X方向に延びる移動ガイド31が掛け渡されている。この移動ガイド31には、ステージ(Xスライダ)41がスライド可能に取り付けられている。ステージ41は、移動ガイド31上を、4面(摺動面の上下及び両側面)を拘束されて案内される。そのため、ステージ41のスライドはより安定的に行われる。同ステージ41上には、微動テーブルやウェハチャック等(図示されず)が搭載される。
【0054】
ここで、前述の通り、Yスライダ13では内側の2個のエアパッド17a、17cと外側の2個のエアパッド17b、17dとが並んで配置されており、Yスライダ23では外側のエアパッド27aと内側のエアパッド27bとが並んで配置されている。そして、外側のエアパッド17a・17c及び27aから移動ガイド31に下方向の力(気体圧)をかけ、内側のエアパッド17b・17d及び27bから移動ガイド31に上方向の力(気体圧)をかけることで、自重により撓んだ移動ガイド31に曲げ力が加わり、姿勢をほぼ真直ぐに補正することができる。なお、前述の力の他に、もちろん各エアパッドが静圧支持のための浮上力をYスライダ13、23に与える。
【0055】
ステージ41は、貫通中空部を有する平たい箱状をしており、その中空部の内面が移動ガイド31の外面に嵌合している。図7(A)に示すように、ステージ41の中空部上下面(移動ガイド31との摺動面)には、各面に4個ずつエアパッド43a〜43dが設けられている(図には上面側の4個のエアパッドのみが示されている)。各エアパッド43a〜43dは、多孔オリフィス材からなる。ステージ41の摺動面において、各エアパッド43a〜43dの周囲には、大気排気用溝43a´〜43d´が形成されている。さらに、ステージ41の摺動面の両端部近傍には、真空排気溝44a、44bが形成されている。
なお、下摺動面側の4個のエアパッド、大気排気用溝及び真空排気溝も、上摺動面側と同様に構成されている。
【0056】
図7(B)に示すように、ステージ41の中空部側面(移動ガイド31との摺動面)には、各面に2個ずつエアパッド45a、45bが設けられている(図には一方の面の2個のエアパッドのみが示されている)。各エアパッド45a、45bは、多孔オリフィス材からなる。ステージ41の摺動面において、各エアパッド45a、45bの周囲には、大気排気用溝45a´、45b´が形成されている。さらに、ステージ41の摺動面の両端部近傍には、真空排気溝46a、46bが形成されている。
なお、一方の摺動面側の2個のエアパッド、大気排気用溝及び真空排気溝も、上摺動面側と同様に構成されている。
【0057】
図7(A)、(C)に示すように、移動ガイド31の中央部には、各エアパッドへの給気孔33aと、大気排気孔33bと、真空排気孔33cとが形成されている。給気孔33aは各エアパッドに繋がっており、給気孔33aから供給されたエアが各エアパッドの多孔オリフィス部分から噴出する。大気排気孔33bは、大気排気用溝45a´、45b´に繋がっている。エアパッドから噴出されたエアは、大気排気用溝45a´、45b´から大気排気孔33bを通って大気に放出される。真空排気孔33cは、真空排気用溝46a、46bに繋がっている。大気排気用溝45a´、45b´から洩れたエアは、真空排気用溝46a、46bを通って真空排気孔33cから真空排気される。これらのエアパッドから噴出されるエアにより、ステージ41が移動ガイド31に4面拘束されつつ非接触支持される。
【0058】
次に、ステージ(Xスライダ)のエアシリンダ式駆動機構について説明する。図7(A)に示すように、ステージ41は、内側中空部側方に気体室41Pを有する。このステージ41の気体室41Pの中央には、しきり板41A、41Aが設けられている。そして、ステージ41の気体室41Pは、しきり板41Aにより隣り合う2つの気体室41P1、41P2に分割されているとともに、しきり板41Bにより隣り合う2つの気体室41P1´、41P2´に分割されている。気体室41P1と41P1´、並びに、気体室41P2と41P2´は、それぞれ相互に連通している。移動ガイド31内部には、ステージ41の気体室41P1・41P1´、及び、41P2・42P2´に気体を供給するための管路(図示されず)が組み込まれている。これら管路には、圧空制御弁(図示されず)が設けられており、各気体室内に供給する気体の圧力を制御する。これら隣り合う気体室41P1・41P1´、及び、41P2・42P2´の圧力に差をつけることにより、ステージ41をX方向に駆動することができる(詳しくは後述する)。
【0059】
次に、固定ガイド11、21、並びに、移動ガイド31に付設されたアクティブカウンタマスの構成について説明する。
まず、固定ガイド11、21内に組み込まれたアクティブカウンタマスについて説明する。
図2に示すように、固定ガイド11の上下ガイド部材11A、11Bには、圧力室52が掘り込まれて形成されている(図には上ガイド部材11A側のみが示されている)。圧力室52内には、受圧体(カウンタマス)55が配置されている。受圧体55の長さは圧力室52の長さよりも短く、受圧体55の幅は圧力室52の幅とほぼ等しく形成されている。圧力室52内部において、受圧体55の両端には、それぞれ圧力室52P1(Y方向側)、52P2(Y´方向側)が形成される。各圧力室52P1、52P2内には、後述する配管キャリア70の配管77を介して、受圧体55の駆動源としてのエアが供給される。
【0060】
固定ガイド21の上下ガイド部材21A、21Bにも、同様の圧力室62が掘り込まれて形成されている。(図には上ガイド部材21A側のみが示されている)。圧力室62内には、受圧体(カウンタマス)65が配置されている。受圧体65の長さは圧力室62の長さよりも短く、受圧体65の幅は圧力室62の幅とほぼ等しく形成されている。圧力室62内部において、受圧体65の両端には、それぞれ圧力室62P1(Y方向側)、62P2(Y´方向側)が形成される。各圧力室62P1、62P2内には、後述する配管キャリアのチューブ79を介して、受圧体65の駆動源としてのエアが供給される。
なお、下ガイド部材11B、21Bにも、上側と同様の圧力室及び受圧体が設けられている。
【0061】
次に、移動ガイド31に付設されたアクティブカウンタマスについて説明する。
図2に示すように、移動ガイド31の上面側には、圧力室32が掘り込まれて形成されている。圧力室32内には、受圧体(カウンタマス)35が配置されている。受圧体35の長さは圧力室32の長さよりも短く、受圧体35の幅は圧力室32の幅とほぼ等しく形成されている。圧力室32内部において、受圧体35の両端には、それぞれ圧力室32P1(X方向側)、32P2(X´方向側)が形成される。各圧力室32P1、32P2内には、移動ガイド31中に形成された流路(図示されず)を介して、受圧体35の駆動源としてのエアが供給される。
これら固定ガイド11、21及び移動ガイド31のアクティブカウンタマスの動作については後述する。
【0062】
次に、図1、図2、図8〜図10に示す配管キャリア70について説明する。図10(A)、(B)に最もよく示すように、左側の2箇所のポスト3a、3bの下端側部には、それぞれX方向内側に張り出した支持部材74が固定されている。2箇所の支持部材74の間には、固定ガイド11と平行に配置された副固定ガイド71が掛け渡されている。この副固定ガイド71には、補助スライダ73が、4面(上下面及び両側面)を拘束されてスライド可能に取り付けられている。この補助スライダ73内には、エアシリンダが内蔵されている。補助スライダ73とYスライダ13の間には、複数の配管77が繋がっている。これらの配管77は、固定ガイド11のアクティブカウンタマスの駆動源としてのエアや、非接触気体軸受のエアの流出入を仲介する配管である。補助スライダ73は、Yスライダ13に寄り添って副固定ガイド71上をスライドし位置決めされる。
【0063】
副固定ガイド71の上面側には、圧力室72が掘り込まれて形成されている。圧力室72内には、受圧体(カウンタマス)75が配置されている。受圧体75の長さは圧力室72の長さよりも短く、受圧体75の幅は圧力室72の幅とほぼ等しく形成されている。圧力室72内部において、受圧体75の両端には、それぞれ圧力室72P1(Y方向側)、72P2(Y´方向側)が形成される。各圧力室72P1、72P2内には、受圧体75の駆動源としてのエアが供給される。
【0064】
補助スライダ73の側面には、チューブ79が接続されている。このチューブ79は、一端部78aが補助スライダ73に固定され、他端部78bがベース(図示されず)上の取付板80に固定されている。チューブ79自体は可撓性の材料からなり、内部にはエア用配管や電気配線等が収容されている。このチューブ79を介して、固定ガイド21のアクティブカウンタマスの駆動源としてのエアや、非接触気体軸受のエアが供給される。
【0065】
次に、図8〜図10を参照して、前述のステージ装置1の動作について説明する。
(1)移動ガイド31に沿うステージ41のX方向移動。
図8(A)に示すように、ステージ41は、エアシリンダ機構(ステージ41内部の気体室41Pの圧力操作)によって、間欠的な移動・停止のみのステップ動作を行う。ステージ41を移動ガイド31上に沿ってX方向に移動させる場合は、気体室41P1・41P1´から排気するとともに、気体室41P2・41P2´に給気する。すると、気体室41P2・41P2´の内圧が気体室41P1・41P1´の内圧よりも高くなり、ステージ41は図8(A)の右側のX方向に移動する。
【0066】
このとき、移動ガイド31内のアクティブカウンタマスについては、圧力室32P2に給気するとともに、圧力室32P1から排気し、受圧体35をステージ41の移動方向(X方向)とは逆方向(X´方向)に移動させる。この際、図8(B)に示すように、ステージ41の加速度SA(実線)とは逆方向に向けて、この加速度SAよりも受圧体35の加速度MA(破線)が大きくなるように、受圧体35を作動させる。これにより、ステージ41の移動に伴って生じる反力を、受圧体35の作動で打ち消すことができ、ステージ41の高い位置決め精度が確保される。
【0067】
なお、ステージ41をX´方向に移動させる場合は、前述とは逆に、気体室41P1・41P1´に給気するとともに、気体室41P2・41P2´から排気する。一方、アクティブカウンタマスにおいては、圧力室32P2から排気するとともに、圧力室32P1に給気する。この際、図8(B)に示すように、ステージ41の加速度SA´とは逆方向に向けて、この加速度SA´よりも受圧体35の加速度MA´が大きくなるように、受圧体35を作動させる。
【0068】
(2)Yスライダ13、23のスライドによる移動ガイド31・ステージ41のY方向移動。
図9及び図10に示すように、Yスライダ13、23・移動ガイド31・ステージ41は、リニアモータ14、24(図3〜図5も参照)により、精密な位置決めの必要な連続移動(スキャン)を行う。移動ガイド31・ステージ41を固定ガイド11、21に沿ってY方向に移動させる場合は、各リニアモータ14、24に通電し、固定子15、25に対して可動子16、26をY方向にスライドさせる(図5も参照)。すると、各可動子16、26に一体化しているYスライダ13、23が固定ガイド11、21に沿ってY方向にスライドし、移動ガイド31・ステージ41がY方向に移動する。この際、Yスライダ13の移動と同時に、配管キャリアの補助スライダ73も副固定ガイド71に沿ってY方向に移動する。
【0069】
このとき、固定ガイド11のアクティブカウンタマスにおいては、圧力室52P1に給気するとともに、圧力室52P2から排気し、受圧体55を移動ガイド31・ステージ41の移動方向(Y方向)とは逆方向(Y´方向)に移動させる。また、固定ガイド21のアクティブカウンタマスにおいては、圧力室62P1に給気するとともに、圧力室62P2から排気し、受圧体65を移動ガイド31・ステージ41の移動方向(Y方向)とは逆方向(Y´方向)に移動させる。これら両固定ガイド11、21のアクティブカウンタマスは、図9(C)に示すように、ステージ41の加速度SA(実線)とは逆方向に向けて、受圧体55の加速度MA1(一点鎖線)は加速度SAよりも大きく、受圧体65の加速度MA2(破線)は加速度MA1よりもさらに大きくなるように、各受圧体55、65を別々に作動させる。
【0070】
一方、配管キャリアのアクティブカウンタマスにおいては、図10(C)に示すように、ステージ41の加速度SA(実線)とは逆方向に向けて、この加速度SAよりも受圧体75の加速度MSA(破線)が若干大きくなるように、受圧体75を作動させる。
【0071】
これらのアクティブカウンタマスの作動により、移動ガイド31・ステージ41の移動に伴って生じる反力を、各受圧体55、65、75の動きで打ち消すことができ、ステージ41の高い位置決め精度が確保される。
【0072】
なお、ステージ41をY´方向に移動させる場合は、前述とは逆にリニアモータを作動し、アクティブカウンタマスも前述とは逆に作動させる。この際、図9(C)に示すように、ステージ41の加速度SA´(実線)とは逆方向に向けて、受圧体55の加速度MA1´(一点鎖線)は加速度SA´よりも大きく、受圧体65の加速度MA2´(破線)は加速度MA1´よりもさらに大きくなるように、各受圧体55、65を別々に作動させる。一方、配管キャリアのアクティブカウンタマスにおいては、図10(C)に示すように、ステージ41の加速度SA´(実線)とは逆方向に向けて、この加速度SA´よりも受圧体75の加速度MSA´(破線)が若干大きくなるように、受圧体75を作動させる。
【0073】
このようなステージ41とアクティブカウンタマスの作動時において、図4(B)に示すように、Yスライダ13、23のリニアモータ14、24の駆動点αの重心位置と、上下のアクティブカウンタマスの受圧体55、65の駆動点βの重心位置とは上下方向でほぼ一致している。そのため、Yスライダ13、23の重心部に駆動力を与えることができ、高精度・高速に位置制御ができる。
【0074】
このように、本実施の形態のステージ装置1は、前述のX方向及びY方向の作動を組み合わせることで、XY平面において、ステージ41を高精度に移動・位置決めすることができる。ストロークは、一例で400mm(保証ストローク350mm)である。
【0075】
なお、前述の実施の形態においては、アクティブカウンタマスを用いた反力処理機構を採用した場合について述べたが、図11及び図12に示すように、パッシブカウンタマス機構を採用することもできる。
図11は、Y方向駆動用のパッシブカウンタマス機構の構成例を示す模式図である。
図12は、X方向駆動用のパッシブカウンタマス機構の構成例を示す模式図である。(A)は側面図であり、(B)は平面図である。
【0076】
まず、Y方向のパッシブカウンタマス機構の例について述べる。
図11に示すように、上ガイド部材11Aと下ガイド部材11Bは、ポスト3a、3bに非接触気体軸受(エアパッド)82a〜82d、83a〜83dを介して非接触支持されており、Y方向にスライド可能となっている。上下ガイド部材11A、11B間には、Yスライダ13が非接触気体軸受(エアパッド)81a〜81dを介して非接触支持されている。これらの各非接触気体軸受は、前述のエアパッド・排気溝と同様のものを用いることができる。ガイド部材11A、11Bには、リニアモータ固定子84が取り付けられている。このリニアモータ固定子84には、リニアモータ移動子85が組み合わされている。Yスライダ13を駆動すると、その反力が固定子84からガイド部材11A、11Bにかかるようになっている。
【0077】
このようなパッシブカウンタマス機構においては、Yスライダ13(ステージ41)をY方向にスライドさせる場合、このYスライダ13の駆動反力により、上下ガイド部材11A、11Bがポスト3a、3bに対して逆方向(Y´方向)に駆動される。これにより、Yスライダ(ステージ)のY方向駆動時の反力を打ち消すことができる。逆に、Yスライダ13がY´方向にスライドする場合は、上下ガイド部材11A、11Bがポスト3a、3bに対してY方向に駆動され、YスライダのY´方向駆動時の反力も同様に打ち消すことができる。
【0078】
なお、ポスト3a、3bとガイド部材11A、11B間には、弱い板ばね等からなる位置戻し機構が設けられており、ガイド部材11A、11Bが設計ストロークを超えて移動しないようになっている。
【0079】
次に、X方向のパッシブカウンタマス機構の例について述べる。
図12に示すように、移動ガイド31は、Yスライダ13、23に非接触気体軸受(エアパッド)96a、96b、及び、97a、97bを介して非接触支持されており、X方向にスライド可能となっている。移動ガイド31には、ステージ41が非接触気体軸受(エアパッド)95a〜95d(上下面:図12(A)参照)及び95a´〜95d´(側面:図12(B)参照)を介して非接触支持されている。これらの各非接触気体軸受も、前述のエアパッド・排気溝と同様のものを用いることができる。
【0080】
このようなパッシブカウンタマス機構においては、ステージ41内の気体室41P1・41P1´から排気するとともに、気体室41P2・41P2´に給気し、ステージ41がX方向にスライドする場合、このステージ41の駆動反力により、移動ガイド31がYスライダ13、23に対して逆方向(X´方向)に駆動される。これにより、ステージ41のX方向駆動時の反力を打ち消すことができる。逆に、ステージ41がX´方向にスライドする場合は、移動ガイド31がX方向に駆動され、ステージ41のX´方向駆動時の反力も同様に打ち消すことができる。
【0081】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、高精度のスキャン位置決めを行うことができる等の利点を有するステージ装置等を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態に係るステージ装置の全体構成を示す斜視図である。
【図2】図1のステージ装置のガイドやステージから上カバーを外した状態を示す斜視図である。
【図3】同ステージ装置のリニアモータ、Yスライダ、移動ガイド及びステージの斜視図(図1から固定ガイドを取り除いた状態の斜視図)である。
【図4】図4(A)は図3に示す各部の平面図であり、図4(B)はその正面図であり、図4(C)はその側面図である。
【図5】同ステージ装置のYスライダ(Y軸)駆動リニアモータの内部構成を示す分解斜視図である。
【図6】同ステージ装置の移動ガイド及びステージの斜視図である。
【図7】図7(A)は図6に示す移動ガイド及びステージの平面図であり、図7(B)はその正面図であり、図7(C)はその側面図である。
【図8】図8(A)は同ステージ装置のステージのX方向への動作を説明するための斜視図であり、図8(B)はその作動チャートである。
【図9】図9(A)、(B)は同ステージ装置のステージのY方向への動作を説明するための斜視図であり、図9(C)はその作動チャートである。
【図10】図10(A)、(B)は同ステージ装置の配管キャリアの動作を説明するための斜視図であり、図10(C)はその作動チャートである。
【図11】Y方向駆動用のパッシブカウンタマス機構の構成例を示す模式図である。
【図12】X方向駆動用のパッシブカウンタマス機構の構成例を示す模式図である。(A)は側面図であり、(B)は平面図である。
【図13】本発明の実施の形態に係る電子線露光装置の全体構成例を模式的に示す図である。
【符号の説明】
1 ステージ装置
11、21 固定ガイド
11A、11B、21A、21B 上下のガイド部材
13、23 Yスライダ 14、24 リニアモータ
17X、27X エア配管
17a〜17d、27a、27b、43a〜43d、45a、45b、
81a〜81d、82a〜82d、83a〜83d、95a〜95d、
96a、96b、97a、97b エアパッド
15a Yコイル 15b、15b´ Xコイル
16a Y永久磁石 16b、16b´ X永久磁石
17a´〜17d´、27a´、27b´、43a´〜43d´、
45a´、45b´ 大気用排気溝
18a、18b、28a、28b、44a、44b、
46a、46b 真空排気溝
31 移動ガイド 41 ステージ(Xスライダ)
41P1、41P1´、41P2、41P2´ 気体室
32、52、62、72 圧力室
35、55、65、75 受圧体(カウンタマス)
70 配管キャリア
71 副固定ガイド 73 補助スライダ
77 連結部材(配管) 79 チューブ
100 電子線露光装置
104 照明光学系 111 レチクルステージ
124 投影光学系 131 ウェハステージ
Claims (17)
- ある平面(XY平面)内で、該平面内におけるある方向(Y方向)には精密な位置決めの必要な連続移動(スキャン)を行い、他の方向(X方向)には間欠的な移動・停止のみを行うステージを駆動・位置決めするステージ装置であって、
前記Y方向に延びる2本の固定ガイドと、
これらの各固定ガイドに沿って各々スライドする2つのYスライダと、
該Yスライダの駆動機構と、
前記両Yスライダ間に掛け渡された、前記X方向に延びる移動ガイドと、
該移動ガイドに沿ってスライドするステージ(Xスライダ)と、
該ステージの駆動機構と、を具備し、
前記Yスライダの駆動機構のアクチュエータがリニアモータであり、
前記ステージの駆動機構のアクチュエータがエアシリンダであることを特徴とするステージ装置。 - 前記固定ガイドが、前記Yスライダを上下から挟む上下のガイド部材を有し、これら両ガイド部材と前記Yスライダの上下面との間に非接触気体軸受が配置されていることを特徴とする請求項1記載のステージ装置。
- 前記固定ガイドと前記Yスライダとの間には、該スライダを前記X方向に拘束するガイド機構は設けられておらず、
前記Y駆動のリニアモータに前記X方向に小寸法駆動するリニアモータ(θzヨーリニアモータ)が付設されており、
前記θzヨーリニアモータで、前記XY平面に直交する方向(Z方向)の周りにおける前記Yスライダ及び移動ガイドの姿勢制御を行うことを特徴とする請求項1又は2記載のステージ装置。 - 前記ステージが、前記移動ガイド上を、4面(上下及び両側面)を拘束されて案内されることを特徴とする請求項1、2又は3記載のステージ装置。
- 前記非接触気体軸受の周囲に排気溝が設けられていることを特徴とする請求項2、3又は4記載のステージ装置。
- 前記固定ガイド又は移動ガイドに、前記非接触気体軸受の給気・大気排気・真空排気系統が設けられていることを特徴とする請求項2〜5いずれか1項記載のステージ装置。
- ある平面(XY平面)内でステージを駆動・位置決めするステージ装置であって、
前記平面内のある方向(Y方向)に延びる2本の固定ガイドと、
これら各固定ガイドに沿って各々スライドする2つのYスライダと、
該Yスライダの駆動機構と、
前記両Yスライダ間に掛け渡された、前記平面内の他の方向(X方向)に延びる移動ガイドと、
該移動ガイドに沿ってスライドするステージ(Xスライダ)と、
該ステージの駆動機構と、を具備し、
前記固定ガイドが、前記Yスライダを上下から挟む上下のガイド部材を有し、
該ガイド部材が前記Yスライダの駆動反力を受け、
該ガイド部材内に配置された、前記Yスライダと逆方向に駆動されるアクティブカウンタマス及びその駆動機構をさらに具備することを特徴とするステージ装置。 - ある平面(XY平面)内でステージを駆動・位置決めするステージ装置であって、
前記平面内のある方向(Y方向)に延びる2本の固定ガイドと、
これら各固定ガイドに沿って各々スライドする2つのYスライダと、
該Yスライダの駆動機構と、
前記両Yスライダ間に掛け渡された、前記平面内の他の方向(X方向)に延びる移動ガイドと、
該移動ガイドに沿ってスライドするステージ(Xスライダ)と、
該ステージの駆動機構と、を具備し、
前記固定ガイドが、前記Yスライダを上下から挟む上下のガイド部材を有し、
該ガイド部材が前記Yスライダの駆動反力を受け、
該ガイド部材が、ステージ装置のベースに対して非接触支持されており、前記Yスライダの駆動反力により、該Yスライダと逆方向に前記ガイド部材が移動するパッシブカウンタマス機構を構成することを特徴とするステージ装置。 - 前記移動ガイドが前記ステージ(Xスライダ)の駆動反力を受け、
該移動ガイド内に配置された、前記ステージと逆方向に駆動されるアクティブカウンタマス及びその駆動機構をさらに具備することを特徴とする請求項7又は8記載のステージ装置。 - 前記移動ガイドが前記ステージ(Xスライダ)の駆動反力を受け、
該移動ガイドが、前記Yスライダに対して非接触支持されており、前記ステージの駆動反力により、該ステージと逆方向に前記移動ガイドが移動するパッシブカウンタマス機構を構成することを特徴とする請求項7又は8記載のステージ装置。 - 前記カウンタマス駆動機構のアクチュエータがエアシリンダであることを特徴とする請求項7又は9記載のステージ装置。
- 前記Yスライダに寄り添って移動する補助スライダと、
該補助スライダと前記Yスライダを繋ぎ、該Yスライダと外部との流体の流出入を仲介する連結部材(配管)と、
を具備することを特徴とする請求項1〜12いずれか1項記載のステージ装置。 - 前記固定ガイドと平行に配置された、前記補助スライダを案内する副固定ガイドと、
該副固定ガイド内に配置された、前記補助スライダと逆方向に駆動されるアクティブカウンタマス及びその駆動機構と、
をさらに具備することを特徴とする請求項12記載のステージ装置。 - 前記リニアモータに磁気シールド構造が付設されていることを特徴とする請求項1〜13いずれか1項記載のステージ装置。
- ある平面(XY平面)内でステージを駆動・位置決めするステージ装置であって、
前記平面内のある方向(Y方向)に延びる2本の固定ガイドと、
これら各固定ガイドに沿って各々スライドする2つのYスライダと、
該Yスライダの駆動機構と、
前記両Yスライダ間に掛け渡された、前記平面内の他の方向(X方向)に延びる移動ガイドと、
該移動ガイドに沿ってスライドするステージ(Xスライダ)と、
該ステージの駆動機構と、を具備し、
前記非接触気体軸受が、前記X方向に並んで複数配置されており、各非接触気体軸受への気体供給を調整して、前記移動ガイドの自重撓みを補正することを特徴とするステージ装置。 - 所望のパターンが形成された原版を載置する原版ステージと、
前記原版をエネルギ線照明する照明光学系と、
前記パターンを転写する感応基板を載置する感応基板ステージと、
前記原版を通過したエネルギ線を前記感応基板上に投影結像させる投影光学系と、を具備し、
前記両ステージをある方向(Y方向)に同期連続移動(同期スキャン)させながら露光する露光装置であって、
前記原版ステージ又は感応基板ステージが、前記請求項1〜15いずれか1項記載のステージ装置からなることを特徴とする露光装置。 - 感応基板上にエネルギ線を選択的に照明してパターン形成する露光装置であって、
前記感応基板を載置して移動する感応基板ステージ及び/又は前記パターンの原版を載置して移動する原版ステージが、前記請求項7〜15いずれか1項記載のステージ装置からなることを特徴とする露光装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002292156A JP2004128308A (ja) | 2002-10-04 | 2002-10-04 | ステージ装置及び露光装置 |
PCT/JP2003/012136 WO2004032212A1 (ja) | 2002-10-04 | 2003-09-24 | ステージ装置及び露光装置 |
AU2003268662A AU2003268662A1 (en) | 2002-10-04 | 2003-09-24 | Stage device and exposure device |
US11/097,036 US20050189901A1 (en) | 2002-10-04 | 2005-04-01 | Stage devices and exposure systems comprising same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002292156A JP2004128308A (ja) | 2002-10-04 | 2002-10-04 | ステージ装置及び露光装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004128308A true JP2004128308A (ja) | 2004-04-22 |
Family
ID=32063913
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002292156A Withdrawn JP2004128308A (ja) | 2002-10-04 | 2002-10-04 | ステージ装置及び露光装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2004128308A (ja) |
AU (1) | AU2003268662A1 (ja) |
WO (1) | WO2004032212A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3279486B1 (en) * | 2015-03-31 | 2022-02-23 | Sumitomo Heavy Industries, Ltd. | Actuator |
WO2019158448A1 (en) * | 2018-02-14 | 2019-08-22 | Asml Netherlands B.V. | Substrate positioning device and electron beam inspection tool |
CN110554574B (zh) * | 2018-05-31 | 2021-03-19 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 工件台、物料姿态自动调节装置及调节物料姿态的方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100625625B1 (ko) * | 1999-10-07 | 2006-09-20 | 가부시키가이샤 니콘 | 기판, 스테이지 장치, 스테이지 구동 방법, 노광 장치 및노광 방법 |
JP2001148339A (ja) * | 1999-11-19 | 2001-05-29 | Nikon Corp | ステージ装置及び露光装置 |
JP2002057091A (ja) * | 2000-08-11 | 2002-02-22 | Nikon Corp | ステージ装置及び露光装置 |
JP2002170765A (ja) * | 2000-12-04 | 2002-06-14 | Nikon Corp | ステージ装置及び露光装置 |
JP2002353118A (ja) * | 2001-05-28 | 2002-12-06 | Nikon Corp | ステージ装置及び露光装置 |
JP2002359170A (ja) * | 2001-05-30 | 2002-12-13 | Nikon Corp | ステージ装置及び露光装置 |
-
2002
- 2002-10-04 JP JP2002292156A patent/JP2004128308A/ja not_active Withdrawn
-
2003
- 2003-09-24 AU AU2003268662A patent/AU2003268662A1/en not_active Abandoned
- 2003-09-24 WO PCT/JP2003/012136 patent/WO2004032212A1/ja active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
AU2003268662A1 (en) | 2004-04-23 |
WO2004032212A1 (ja) | 2004-04-15 |
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|
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