JP2004123741A

JP2004123741A - トリスアミノ−トリフェニル化合物を含む組成物

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Publication number: JP2004123741A
Application number: JP2003330815A
Authority: JP
Inventors: Timothy J Fuller; ティモシー　ジェイ．フラー; Kenny-Tuan T Dinh; ケニー−チュアン　ティー．ディン; John F Yanus; ジョン　エフ．イエーナス; Yuhua Tong; ユホア　トン; Markus R Silvestri; マーカス　アール．シルベストリ; Dale S Renfer; デール　エス．レンファー
Original assignee: Xerox Corp
Current assignee: Xerox Corp
Priority date: 2002-09-30
Filing date: 2003-09-24
Publication date: 2004-04-22
Anticipated expiration: 2023-09-24
Also published as: EP1403718A3; BR0304266A; CA2442887C; BR0304266B1; EP1403718A2; MXPA03008846A; JP4405770B2; US20040063829A1; CA2442887A1; EP1403718B1; US6906125B2; DE60328346D1

Abstract

【課題】　ポリアミドオーバーコート層を含む画像形成部材における消去を低減又は除去する。
【解決手段】
　下記の式Ｉを有するトリスアミノトリフェニル化合物を含む組成物。
　　【化１】

（式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は、同じか又は異なっており、約１〜約１５個の炭素を有するアルキル基である）
【選択図】　なし

Description

　本発明は、プリンタ、複写機、他の再生デバイス及びデジタル装置をはじめとする静電写真装置に有用な感光性部材又は光導電体に於ける消去制御添加剤として有用な組成物に関する。実施形態に於いて、この消去制御添加剤には、トリスアミノトリフェニル化合物が含まれる。実施形態に於いて、この組成物は、より長い寿命、及び低い磨耗率を与え、消去が殆ど又は全くなく、公知の皮膜よりも厚く塗布することができる。

　消去は、その極端な耐磨耗性（バイアス帯電ロールで１０ｎｍ／キロサイクル及びスコロトロン帯電で４ｎｍ／キロサイクル）のために、ポリアミドオーバーコートに於いて最も明らかであると思われる。その酸化表面は感知できるほど摩滅しないので、ポリアミドオーバーコートからの消去は、磨耗率がより大きいために光導電体表面が連続的に新しくなる（リフレッシュされる）ポリカーボネート電荷輸送層に於けるよりも明らかである。

　それ故、光受容体表面上のコロナ放出物（ｅｆｆｌｕｅｎｔ）によって起こされる横方向電荷移動及びその結果生じるプリント欠陥を減少又はなくすことにより、ポリアミドがオーバーコートされた光受容体ドラム及びベルトにおける画質を保持するために、新規で改良された消去制御添加剤が必要である。更に、オーバーコート層を通過する正孔輸送を加速して、横方向電荷移動を除去又は減少させる、光受容体用のオーバーコートを提供することが望まれる。更に、１インチ（２．５４ｃｍ）当たり３００ドット以下のハーフトーン化された、高周波数のプリント特徴の保持を、Ａ、Ｂ及びＣ帯域に於いて、２，０００回を超える連続プリント（又は少なくとも８，０００光受容体サイクル）の間維持することを可能にする、光受容体皮膜を提供することも望まれる。

　本発明の実施形態には、下記の式Ｉを有するトリスアミノトリフェニル化合物を含む組成物が含まれる。

　式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は、同じか異なっており、約１〜約１５個の炭素を有するアルキル基である。

　実施形態には、更に、ポリアミド及び下記の式Ｉを有するトリスアミノトリフェニル化合物を含む層組成物が含まれる。

　更に、実施形態には、下記の式ＩＩを有するトリスアミノトリフェニル化合物を含む組成物が含まれる。

　本発明は、オーバーコートした光受容体ドラム及びベルトにおける画質を保持するための消去制御添加剤として使用することができる組成物に関する。実施形態に於いて、この組成物にはトリスアミノトリフェニル化合物が含まれる。

　図１を参照して、典型的な静電写真再生装置に於いて、コピーされるべき原本の光画像が、静電潜像の形で、感光性部材の上に記録され、潜像は、続いて、一般的にトナーと呼ばれる、検電器の（ｅｌｅｃｔｒｏｓｃｏｐｉｃ）熱可塑性樹脂粒子の付着によって可視化される。さらに詳細には、光受容体１０は、電源１１から電圧が供給されている電気帯電器１２によって、その表面上において帯電される。次いで、光受容体は、レーザー及び発光ダイオードのような光学システム又は画像入力装置１３からの光に画像様に露光されて、その上に静電潜像を形成する。一般的に、静電潜像は、現像剤ステーション１４からの現像剤混合物を、この静電潜像と接触させることによって現像される。現像は、磁気ブラシ、パウダークラウド又は他の公知の現像方法の使用によって実施することができる。

　トナー粒子が光導電性表面上に画像の形状に置かれた後、これらは、圧力転写又は静電転写であってよい転写手段１５により、コピーシート１６に転写される。実施形態に於いて、現像された画像を中間転写部材に転写し、続いてコピーシートに転写することができる。

　現像された画像の転写が完結した後、コピーシート１６は、定着ロール及び圧力ロールとして図１に示されている、定着ステーション１９の方に前進し、そこで、コピーシート１６が定着部材２０と圧力部材２１との間を通過することによって、現像された画像はコピーシート１６に定着され、それによって永久画像を形成する。定着は、圧力ローラと圧力接触状態にある定着ベルト、圧力ベルトと接触状態にある定着ローラ又は他の同様のシステムのような他の定着部材によって達成することができる。光受容体１０は、転写に続いて、クリーニングステーション１７に進み、そこで、光受容体１０上に残留しているトナーがすべて、ブレード２２（図１に示す）、ブラシ又は他のクリーニング装置の使用によって、そこから取り除かれる。

　電子写真画像形成部材は、当該技術分野で周知である。電子写真画像形成部材は、あらゆる適切な技術により製造することができる。図２を参照すると、典型的に、可撓性の又は硬質基体１に、導電性表面又は皮膜２が設けられる。

　基体は、不透明又は実質的に透明であってよく、必要な機械的特性を有するあらゆる適切な材料を含んでいてよい。従って、基体は、無機又は有機組成物のような非導電性材料又は導電性材料の層を含んでいてよい。非導電性材料としては、薄いウエブのような可撓性であるポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリウレタン等をはじめとする、この目的に公知である種々の樹脂を使用することができる。導電性基体は、あらゆる金属、例えば、アルミニウム、ニッケル、鋼、銅等又はカーボン、金属粉末等のような導電性物質が充填された上記のようなポリマー材料又は有機導電性材料であってよい。電気的に絶縁性又は導電性の基体は、無端可撓性ベルト、ウエブ、硬質シリンダー、シート等の形態であってよい。基体層の厚さは、所望の強度及び経済的考慮事項を含む非常に多数の要因に依る。従って、ドラムに対しては、この層は、例えば、多センチメートルまでの相当な厚さのもの又は１ミリメートルよりも薄い最小厚さのものであってよい。同様に、可撓性ベルトは、最終電子写真デバイスに悪影響がない限り、相当な厚さ、例えば、約２５０マイクロメートルのもの又は５０マイクロメートルよりも薄い最小厚さのものであってよい。

　基体層が導電性でない実施形態に於いて、その表面を、導電性皮膜２によって導電性にすることができる。この導電性皮膜は、光学的透明性、所望の可撓性及び経済的要因に依って、かなり広範囲に亘って厚さを変化させることができる。従って、可撓性光応答性画像形成デバイスに対しては、導電性皮膜の厚さは、導電率、可撓性及び光透過率の最適な組合せを得るために、約２０オングストローム〜約７５０オングストローム又は約１００オングストローム〜約２００オングストロームであってよい。可撓性導電性皮膜は、例えば、真空蒸着技術又は電析のようなあらゆる適切な被覆技術によって基体上に形成された、導電性金属層であってよい。代表的な金属としては、アルミニウム、ジルコニウム、ニオブ、タンタル、バナジウム及びハフニウム、チタン、ニッケル、ステンレススチール、クロム、タングステン、モリブデン等が挙げられる。

　任意の正孔ブロッキング（ｈｏｌｅ　ｂｌｏｃｋｉｎｇ）層３を、基体１又は皮膜上に設けることができる。隣接する光導電性層８（又は電子写真画像形成層８）と下側の基体１の導電性表面２との間に、正孔に対する電子バリヤーを形成することができるあらゆる適切な従来のブロッキング層を使用することができる。

　任意の接着剤層４を、正孔ブロッキング層３の上に設けることができる。当該技術分野で周知のあらゆる適切な接着剤層を使用することができる。代表的な接着剤層材料には、例えば、ポリエステル、ポリウレタン等が含まれる。満足できる結果は、約０．０５マイクロメートル（５００オングストローム）〜約０．３マイクロメートル（３，０００オングストローム）の接着剤層厚さで達成できる。接着剤層被覆混合物を正孔ブロッキング層に付与するための従来の技術には、スプレー、ディップコーティング、ロールコーティング、ワイヤ巻き付けロッドコーティング、グラビアコーティング、バード（Ｂｉｒｄ）アプリケーターコーティング等が含まれる。置かれた皮膜の乾燥は、オーブン乾燥、赤外線乾燥、空気乾燥等のようなあらゆる適切な従来の技術によって実施することができる。

　少なくとも１個の電子写真画像形成層８が、接着剤層４、ブロッキング層３又は基体１の上に形成される。電子写真画像形成層８は、当該技術分野で周知であるように電荷発生機能及び電荷輸送機能の両方を発揮する単層（図２に於ける７）であってよく、あるいは電荷発生層５及び電荷輸送層６のような複数の層を備えていてもよい。

　電荷発生層５は、導電性表面上に又は基体１と電荷発生層５との間の他の表面上に設けることができる。電荷ブロッキング層又は正孔ブロッキング層３は、電荷発生層５を設ける前に、任意に導電性表面上に設けることができる。所望により、接着剤層４を、電荷ブロッキング層又は正孔ブロッキング層３と電荷発生層５との間に使用することができる。通常、電荷発生層５はブロッキング層３の上に設けられ、電荷輸送層６は電荷発生層５の上に形成される。この構造は、電荷輸送層６の上又は下に電荷発生層５を有していてよい。

　電荷発生層は、蒸着又は析出によって作製された、セレン、セレンと、ヒ素、テルル、ゲルマニウム等との合金、水素化アモルファスケイ素、及びケイ素と、ゲルマニウム、炭素、酸素、窒素等との化合物のアモルファスフィルムを含んでいてもよい。電荷発生層には、また、フィルム形成ポリマーバインダー中に分散され、溶媒塗布技術によって作製された、結晶性セレン及びその合金といった無機顔料；第ＩＩ〜ＶＩ族化合物；並びにキナクリドン、ジブロモアンタントロン顔料、ペリレン及びペリノンジアミンのような多環式顔料、多核芳香族キノン、ビス−、トリス−及びテトラキス−アゾを含むアゾ顔料等のような有機顔料が含まれてもよい。

　フタロシアニンは、赤外露光システムを使用するレーザープリンタで使用するための光発生材料として使用されてきた。低コスト半導体レーザーダイオード露光デバイスに露光される光受容体については赤外感度が必要である。フタロシアニンの吸収スペクトル及び感光性はこの化合物の中心金属原子に依る。多数の金属フタロシアニンが報告されており、これには、オキシバナジウムフタロシアニン、クロロアルミニウムフタロシアニン、銅フタロシアニン、オキシチタンフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、マグネシウムフタロシアニン及び無金属フタロシアニンが含まれる。フタロシアニンは、多くの結晶形で存在し、そして光発生に強い影響を有する。

　あらゆる適切なポリマー性フィルム形成バインダー材料を、電荷発生（光発生）バインダー層中のマトリックスとして使用することができる。代表的なポリマー性フィルム形成材料には、例えば、米国特許第３，１２１，００６（その全部の開示が、本明細書の記載の一部として援用される）に記載されているものが含まれる。具体的には、代表的な有機ポリマー性フィルム形成バインダーには、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリスチレン、ポリアリールエーテル、ポリアリールスルホン、ポリブタジエン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイミド、ポリメチルペンテン、ポリフェニレンスルフィド、ポリ酢酸ビニル、ポリシロキサン、ポリアクリレート、ポリビニルアセタール、ポリアミド、ポリイミド、アミノ樹脂、フェニレンオキサイド樹脂、テレフタル酸樹脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリスチレン及びアクリロニトリルコポリマー、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル及び酢酸ビニルコポリマー、アクリレートコポリマー、アルキド樹脂、セルロース系フィルム形成剤、ポリ（アミドイミド）、スチレンブタジエンコポリマー、塩化ビニリデン−塩化ビニルコポリマー、酢酸ビニル−塩化ビニリデンコポリマー、スチレン−アルキド樹脂、ポリビニルカルバゾール等のような熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂が含まれる。これらのポリマーは、ブロック、ランダム又は交互コポリマーであってよい。

　光発生組成物又は顔料は、種々の量で樹脂性バインダー組成物中に存在する。しかしながら、一般的に、約５体積パーセント〜約９０体積パーセントの光発生顔料が、約１０体積パーセント〜約９５体積パーセントの樹脂性バインダー中に分散されているか又は約２０体積パーセント〜約３０体積パーセントの光発生顔料が、約７０体積パーセント〜約８０体積パーセントの樹脂性バインダー組成物中に分散される。一つの実施形態に於いて、約８体積パーセントの光発生顔料が、約９２体積パーセントの樹脂性バインダー組成物中に分散される。この光発生層は、また、バインダーが存在しない真空昇華により作製することができる。

　電荷輸送層６には、ポリカーボネートのようなフィルム形成電気的不活性ポリマー中に、溶解又は分子分散された電荷輸送小分子２２が含まれていてよい。本明細書で使用されるように、「溶解された」という用語は、本明細書に於いて、小分子がポリマー中に溶解して、均一相を形成している溶液を形成することとして定義される。本明細書で使用される「分子分散された」という表現は、電荷輸送小分子が分子スケールでポリマー中に分散されている、ポリマー中に分散された電荷輸送小分子として定義される。あらゆる適切な電荷輸送性又は電気的に活性の小分子を、本発明の電荷輸送層中に使用することができる。電荷輸送「小分子」という表現は、本明細書に於いて、輸送層中で光発生した遊離電荷が、輸送層を横断して輸送されることを可能にするモノマーとして定義される。代表的な電荷輸送小分子には、例えば、１−フェニル−３−（４’−ジエチルアミノスチリル）−５−（４”−ジエチルアミノフェニル）ピラゾリンのようなピラゾリン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−（１，１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミンのようなジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ−メチル−３−（９−エチル）カルバジルヒドラゾン及び４−ジエチルアミノベンズアルデヒド−１，２−ジフェニルヒドラゾンのようなヒドラゾン並びに２，５−ビス（４−Ｎ，Ｎ’−ジエチルアミノフェニル）−１，２，４−オキサジアゾールのようなオキサジアゾール、スチルベン等が含まれる。しかしながら、高い処理量での機械内のサイクルアップ（ｃｙｃｌｅ−ｕｐ）を回避するために、電荷輸送層は、ジ又はトリアミノ−トリフェニルメタンを実質的に含有してはならない（約２パーセント未満）。前記のように、適切な電気的活性小分子電荷輸送化合物は、電気的に不活性のポリマー性フィルム形成材料中に溶解又は分子分散される。高い効率で顔料から電荷発生層への正孔の注入を可能にし、それらを、非常に短い通過時間で電荷輸送層を横断して輸送する、小分子電荷輸送化合物は、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−（１，１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミンである。所望により、電荷輸送層中の電荷輸送材料には、ポリマー性電荷輸送材料又は小分子電荷輸送材料とポリマー性電荷輸送材料との組合せが含まれていてよい。

　オーバーコート層を付与するために使用されるアルコール溶媒に不溶性のあらゆる適切な電気的に不活性の樹脂バインダーを、本発明の電荷輸送層中に使用することができる。代表的な不活性樹脂バインダーには、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル、ポリアリーレート、ポリアクリレート、ポリエーテル、ポリスルホン等が含まれる。分子量は、例えば、約２０，０００から約１５０，０００まで変化してよい。バインダーとしては、ポリ（４，４’−イソプロピリデン−ジフェニレン）カーボネート（ビスフェノール−Ａ−ポリカーボネートとも呼ばれる）、ポリ（４，４’−シクロヘキシリディンジフェニレン）カーボネート（ビスフェノール−Ｚ−ポリカーボネートとも呼ばれる）、ポリ（４，４’−イソプロピリデン−３，３’−ジメチルジフェニル）カーボネート（ビスフェノール−Ｃ−ポリカーボネートとも呼ばれる）等のポリカーボネートが挙げられる。また、あらゆる適切な電荷輸送ポリマーを、本発明の電荷輸送層中に使用することもできる。この電荷輸送ポリマーは、本発明のオーバーコート層を付与するために使用されるアルコール溶媒に不溶性でなくてはならない。これらの電気的に活性の電荷輸送ポリマー材料は、電荷発生材料からの光発生した正孔の注入を助けることができなくてはならず、またそこを通過するこれらの正孔の輸送を可能にできなくてはならない。

　電荷輸送層被覆混合物を混合し、その後これを電荷発生層に付与するために、あらゆる適切な従来の技術を使用することができる。代表的な付与（塗布）技術には、スプレー、ディップコーティング、ロールコーティング、ワイヤ巻き付けロッドコーティング等が含まれる。置かれた皮膜の乾燥は、オーブン乾燥、赤外線乾燥、空気乾燥等のようなあらゆる適切な従来の技術によって実施することができる。

　一般的に、電荷輸送層の厚さは、約１０〜約５０マイクロメートルであるが、この範囲外の厚さを使用することもできる。正孔輸送層は、正孔輸送層上に置かれた静電荷が、照明が存在しないときには、その上に静電潜像が形成されたり保持されるのを防止するのに十分な速度では伝導されない程度まで、絶縁体でなくてはならない。一般的に、正孔輸送層の厚さの電荷発生層の厚さに対する比は、約２：１〜２００：１に維持することができ、４００：１のように大きくできる場合もある。電荷輸送層は、意図される用途の領域内で可視光又は放射線に対して実質的に非吸収性であるが、電荷輸送層が、光導電層、即ち、電荷発生層からの光発生した正孔の注入を可能にし、これらの正孔がそれ自体を通って輸送されることを可能にして活性層の表面上の表面電荷を選択的に放電させる点で、電気的に「活性」である。

　実施形態に於いて、オーバーコートは電荷発生層の上に被覆される。実施形態に於いて、ポリアミド樹脂が、オーバーコート層の樹脂として使用される。実施形態に於いて、そのポリアミドはアルコール可溶性ポリアミドである。実施形態に於いて、そのポリアミドには、メトキシ、エトキシ及びヒドロキシ側鎖基からなる群から選択された側鎖基が含まれる。実施形態に於いて、その側鎖基はメチレンメトキシ側鎖基である。実施形態に於いて、ポリアミドは、下記の一般式ＩＩＩを有する。

　式中、Ｒ₁、Ｒ₂及びＲ₃は、メチル、エチル、プロピル、ブチル等のような、約１〜約１５個の炭素又は約１〜約１０個の炭素又は約１〜約５個の炭素を有するアルキル基であり、ｎは、約５０〜約１，０００又は約１５０〜約５００又は約２７０の数である。本発明に使用するのに適している代表的な市販のアルコール可溶性ポリアミドポリマーには、大日本インキ社から商品名ルッカミド（ＬＵＣＫＡＭＩＤＥ）（登録商標）５００３で販売されているもの、共に東レ社からナイロン（登録商標）８、ＣＭ４０００（登録商標）及びＣＭ８０００（登録商標）で販売されているもの及びＳｏｒｅｎｓｏｎ及びＣａｍｐｂｅｌｌ著、「ポリマー化学の製造方法（Ｐｒｅｐａｒａｔｉｖｅ　Ｍｅｔｈｏｄｓ　ｏｆ　Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）」、第２版、第７６頁、ジョン・ウィリー・アンド・サンズ社（Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．）、１９６８年刊に記載されている方法に従って製造されたもののような他のポリアミド並びにこれらの混合物が含まれる。実施形態に於いて、このポリアミドは、Ｎ−メトキシメチル、Ｎ−エトキシメチル及びＮ−ヒドロキシメチル側鎖基を含む、メトキシ、エトキシ及びヒドロキシ基を有する。

　ポリアミドは、オーバーコート中に、全固体の約２０〜約９０重量パーセント又は約４０〜約６０重量パーセントの量で存在する。

　消去制御剤（図２に於ける９及び／又は１８）はオーバーコート層中に存在する。消去は、光受容体表面の導電率を増加させる、コロトロン又はバイアス帯電ロール（ＢＣＲ）放出物の酸化影響に起因して起こり得る。本発明の消去制御剤は、この導電率変化を最小にする。幾つかの正孔輸送組成物で有効であった公知の消去制御剤の種類には、ビス−（２−メチル−４−ジエチルアミノフェニル）−フェニルメタン等のような窒素含有置換基を有するトリフェニルメタンが含まれる。他の消去制御剤には、例えば、ブチル化ヒドロキシトルエン等のようなヒンダードフェノールが含まれる。

　しかしながら、上記の消去制御剤は、ポリアミド系の正孔輸送と共に使用したときの有効な消去制御を考慮していない。この問題は、帯電コロトロンを使用する高速機内で光受容体を使用し且つ高度に耐磨耗性の層が導電性酸化種の蓄積を可能にするとき増大する。イルガノックス（ＩＲＧＡＮＯＸ）１０１０、ＢＨＴ、ＢＤＥＴＰＭ、ＤＨＴＰＭ等が、アリールアミド電荷輸送種と共に電荷輸送層に添加されてきた。しかしながら、ポリアミドオーバーコートの場合、これらの公知の消去制御添加剤は不適切であることが証明された。消去は、その極端な耐磨耗性（ＢＣＲで１０ｎｍ／キロサイクル及びスコロトロン帯電で４ｎｍ／キロサイクル）のために、ポリアミドオーバーコートに於いて最も明らかである。その酸化表面は感知できるほど磨耗しないので、ポリアミドオーバーコートからの消去は、ポリカーボネート電荷輸送層に於けるよりも明らかであり、ポリカーボネート電荷輸送層では、磨耗率がより大きいために光導電体表面が連続的に新しくなる。

　新規な消去制御剤は外層に添加することができる。実施形態に於いて、この消去制御剤はトリスアミノトリフェニル化合物である。トリスアミノトリフェニル化合物としては、下記の式Ｉを有する物が挙げられる。

　式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は、同じでも異なっていてもよく、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル等のような、約１〜約１５個の炭素又は約１〜約１０個の炭素又は約１〜約５個の炭素を有するアルキル基であってよい。

　他の実施形態に於いて、トリスアミノトリフェニル化合物は、ジ（４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノフェニル（ＴＥＡ−ＴＰＭ）であり、下記の式ＩＩを有する。

　消去制御トリスアミノトリフェニル化合物は、ポリアミド層組成物中に、全固体の約５〜約４０重量パーセント又は約１０〜約３０重量パーセント又は約１５〜約２０重量パーセントの量で存在していてよい。

　第二消去制御剤２２又は電荷制御剤２２が、トリスアミノトリフェニル化合物に加えて、外側オーバーコート層内に存在していてよい。例として、ＤＨＴＢＤ、ＤＨＴＰＭ、ＴＰＭ、ＢＤＥＴＭＰ、ＢＨＴ、ビス（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）トリフェニルメタン、テトラキスメチレン（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）メタン、ビス−［２−メチル−４−（Ｎ−２−ヒドロキシエチル−Ｎ−エチルアミノフェニル）］−フェニルメタン等のような、前記の消去制御剤が含まれる。この電荷輸送分子又は第二消去制御剤は、オーバーコート層中に、全固体の約５０〜約９９重量パーセント又は約６０〜約９０重量パーセント又は約７０〜約８０重量パーセントの量で存在している。

　ポリアミドのようなポリマーの架橋を促進し、それにより強い結合を与えるために、架橋剤をオーバーコートと組み合わせて使用することができる。適切な架橋剤の例には、シュウ酸、ｐ−トルエンスルホン酸、リン酸、硫酸等及びこれらの混合物が含まれる。実施形態に於いて、架橋剤はシュウ酸である。架橋剤は、全ポリマー含有量の約１〜約２０重量パーセント又は約５〜約１０重量パーセント又は約８〜約９重量パーセントの量で使用することができる。

　選択された連続オーバーコート層の厚さは、使用されるシステム内の帯電（例えば、バイアス帯電ロール）、クリーニング（例えば、ブレード又はウエブ）、現像（例えば、ブラシ）、転写（例えば、バイアス転写ロール）等の摩損性に依存し、約１０マイクロメートル以下の範囲内であってよい。実施形態に於いて、この厚さは、約１マイクロメートル〜約５マイクロメートルである。オーバーコート層被覆混合物を混合し、その後、電荷発生層に付与するために、あらゆる適切な従来の技術を使用することができる。代表的な塗布（塗布）技術には、スプレー、ディップコーティング、ロールコーティング、ワイヤ巻き付けロッドコーティング等が含まれる。置かれた皮膜の乾燥は、オーブン乾燥、赤外線乾燥、空気乾燥等のようなあらゆる適切な従来の技術によって実施することができる。本発明の乾燥したオーバーコートは、画像形成の間に正孔を輸送し、高すぎる遊離キャリヤー濃度を有さないであろう。オーバーコートの遊離キャリヤー濃度は、暗減衰を増加させる。実施形態に於いて、オーバーコート層の暗減衰は、オーバーコートしていないデバイスのものとほぼ同じにすべきである。

［比較例１］
　公知の消去制御添加剤を使用する光受容体外側皮膜
　電荷ブロッキング層を、３ｃｍの直径及び３１ｃｍの長さを有する１７個のアルミニウムドラムの粗い表面上に、ディップコーティングによる塗布することによって、電子写真画像形成部材を製造した。このブロッキング層被覆混合物は、９２重量パーセントの、ブタノール、メタノール及び水溶媒混合物中に溶解させた８重量パーセントのポリアミド（ナイロン６）の溶液であった。ブタノール、メタノール及び水混合物の割合は、それぞれ５５、３６及び９重量パーセントであった。この皮膜を、約３０ｃｍ／分の被覆浴引き出し（ｗｉｔｈｄｒａｗａｌ）速度で塗布した。強制空気オーブン内で乾燥させた後、各ブロッキング層は１．５マイクロメートルの厚さを有していた。乾燥したブロッキング層を、２．５重量パーセントのヒドロキシルガリウムフタロシアニン顔料粒子、２．５重量パーセントのポリビニルブチラールフィルム形成ポリマー及び９５重量パーセントのシクロヘキサノン溶媒を含有する電荷発生層で被覆した。この皮膜は、約３０ｃｍ／分の被覆浴引き出し速度で塗布した。強制空気オーブン内で乾燥させた後、各電荷発生層は０．２マイクロメートルの厚さを有していた。続いて、ドラムを、ポリカーボネートバインダー（ＰｃＺ４００）中に分散させたＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１；−ビフェニル−４，４’−ジアミンを含有する電荷輸送層で被覆した。電荷輸送被覆混合物は、８重量パーセントのＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１；−ビフェニル−４，４’−ジアミン、１２重量パーセントのバインダー及び８０重量パーセントのモノクロロベンゼン溶媒からなっていた。各輸送層の乾燥した厚さは２０マイクロメートルであった。

［比較例２］
　例１からの１個のドラムを、保護層被覆溶液でオーバーコートした。その組成物は下記のようにして製造した。０．７グラムのメトキシメチル基含有ポリアミド（大日本インキ社から入手可能なルッカミド（登録商標）５００３）、０．３グラムのエルバミド（ＥＬＶＡＭＩＤＥ）（登録商標）８０６３（イー・アイ・デュポン社（Ｅ．Ｉ．Ｄｕｐｏｎｔ）から入手可能）、メタノール（３．５グラム）及び１−プロパノール（３．５グラム）を、２オンス（約６０ｍｌ）の琥珀色ボトル内で全部一緒にし、約６０℃の水浴中で磁気攪拌しながら加温した。溶液が３０分以内に生じた。次いで、この溶液を２５℃に冷却させた。次に、０．０８グラムのシュウ酸を添加し、この混合物を４０℃に加温した。続いて、０．９グラムのＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ヒドロキシフェニル）−［１，１’−ビフェニル］−４，４’−ジアミン（ＤＨＴＰＤ）を添加し、完全な溶液が形成されるまで攪拌した。０．０８グラムのサイメル（Ｃｙｍｅｌ）（登録商標）３０３（サイテック・インダストリーズ社（Ｃｙｔｅｃ　Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ　Ｉｎｃ．）から入手可能なヘキサメトキシメチルメラミン）及び０．２グラムのビス（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）−４−メトキシフェニルメタン及び１グラムのテトラヒドロフランを含有する別の溶液を形成させ、ポリマー溶液に添加した。この溶液を一晩放置して、熟成した粘度特性を確実にした。
　６マイクロメートル厚さのオーバーコートを、ディップコーティング装置内で２５０ミリメートル／分の引っ張り速度で塗布した。オーバーコートされたドラムを１２０℃で３５分間乾燥させた。この光受容体を、ゼロックス・ドキュカラー（Ｘｅｒｏｘ　Ｄｏｃｕｃｏｌｏｒ）１２／５０コピー機内で、４０００回連続プリントについてプリント試験した。オーバーコートによって起こされたプリント消去に起因する画像鮮鋭度及びカラー強度に於ける顕著な減少があった。前記の例Ａのオーバーコートしないドラム及び例Ｂのオーバーコートしたドラムを、帯電用バイアス帯電ロールを含む磨耗フィクスチャー（ｆｉｘｔｕｒｅ）内で試験した。磨耗は、ナノメートル／回転のキロサイクル（ｎｍ／Ｋｃ）に換算して計算した。校正標準の再現性は、約＋−０．２ｎｍ／Ｋｃであった。例Ａのオーバーコートを有しないドラムの磨耗は、８０ｎｍ／Ｋｃよりも大きかった。例Ｂのオーバーコートしたドラムの磨耗は、約２０ｎｍ／Ｋｃであった。

［比較例３］
　比較例１からの１個のドラムを、下記の置き換えを行った以外は、比較例２で製造した保護層被覆溶液でオーバーコートした。
　０．９グラムの代わりに、０．８グラムの量のＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ヒドロキシフェニル）−（１，１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミン（ＤＨＴＰＤ）を使用した。０．２グラムのビス（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）−４−メトキシフェニルメタンを、０．２グラムのテトラキス［メチレン（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）］メタン（イルガノックス（Ｉｒｇａｎｏｘ）１０１０）で置き換えた。このドラムを、比較例２に従って試験した。その磨耗速度（率）は約３３ｎｍ／Ｋｃであった。

［比較例４］
　比較例１からの１個のドラムを、下記の置き換えを行った以外は、比較例２で製造した保護層被覆溶液でオーバーコートした。
　０．２グラムのビス（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）−４−メトキシフェニルメタンを、０．２グラムの量のブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）で置き換えた。このドラムを、比較例２に従って試験した。その磨耗速度（率）は約２０ｎｍ／Ｋｃであった。

［比較例５］
　比較例１からの１個のドラムを、下記の置き換えを行った以外は、比較例２で製造した保護層被覆溶液でオーバーコートした。
　０．２グラムのビス（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）−４−メトキシフェニルメタンを、０．２グラムの量のペリレンビスイミド顔料入り粒子で置き換えた。このドラムを、比較例２に従って試験した。その磨耗速度（率）は約１０ｎｍ／Ｋｃであった。
［比較例６］
　公知の消去制御添加剤を使用するこれらの比較オーバーコート溶液の組成を、表１に記載する。これらの対応する磨耗速度（率）を表２に記載する。表１中のすべての値は、グラムで表す。

　上記の結果から、ＤＨＴＰＤのような公知の電荷輸送材料と組み合わせたポリアミドの混合物の使用により、消去が起こったことが明らかである。更に、公知の消去制御添加剤は、ポリアミドオーバーコートに対してこのようなプリント消去を防止できない。

　下記の実施例は、本発明の実施形態のオーバーコートされた組成物を記載する。これらは、ＴＥＡ−ＴＰＭの異なった濃度及び／又は異なったバインダー比で製造した。
［実施例７］
　消去制御添加剤としてＴＥＡ−ＴＰＭを使用する光受容体外側皮膜
　約０．８グラムのルッカミド（登録商標）５００３（大日本インキ社から入手可能）及び０．２グラムのエルバミド（登録商標）８０６３（イー・アイ・デュポン社から入手可能）、メタノール（３．５グラム）及び１−プロパノール（３．５グラム）の量を、２オンス（約６０ｍｌ）の琥珀色ボトル内で一緒にし、約６０℃の水浴中で磁気攪拌しながら加温した。溶液が３０分以内に生じ、次いで、これを２５℃に冷却させた。０．０８グラムの量のシュウ酸を添加し、この混合物を４０℃に加温した。続いて、０．９グラムのＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ヒドロキシフェニル）−［１，１’−ビフェニル］−４，４’−ジアミン（ＤＨＴＰＤ）を添加し、完全な溶液が形成されるまで攪拌した。０．０８グラムのサイメル（登録商標）３０３（サイテック・インダストリーズ社から入手可能なヘキサメトキシメチルメラミン）及び０．２グラムのビス（４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）−４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノフェニルメタン（ＴＥＡ−ＴＰＭ）及び１グラムのテトラヒドロフランを含有する別の溶液を形成させ、次いでポリマー溶液に添加した。この溶液を一晩放置して、熟成した粘度特性を確実にした。

［実施例８］
　下記の置き換えを行った以外は、例６に記載した手順を繰り返した。
　０．８グラムのルッカミド（登録商標）５００３及び０．２グラムのエルバミド（登録商標）を、それぞれ、０．８５グラム及び０．１５グラムの量に置き換えた。０．９グラムのＤＨＴＰＤを、０．８グラムのＤＨＴＰＤの量に置き換えた。

［実施例９］
　下記の置き換えを行った以外は、例６に記載した手順を繰り返した。
　０．８グラムのルッカミド（登録商標）５００３及び０．２グラムのエルバミド（登録商標）を、それぞれ、１．０グラム及び０．３グラムの量に置き換えた。０．９グラムのＤＨＴＰＤを、０．８グラムのＤＨＴＰＤの量に置き換えた。

［実施例１０］
　下記の置き換えを行った以外は、例６に記載した手順を繰り返した。
　０．３グラムのルッカミド（登録商標）５００３及び０．２グラムのエルバミド（登録商標）を、それぞれ、０．７グラム及び０．３グラムの量に置き換えた。０．０８グラムのシュウ酸を、０．１グラムの量に置き換えた。

［実施例１１］
　下記の置き換えを行った以外は、例６に記載した手順を繰り返した。
　０．３グラムのルッカミド（登録商標）５００３及び０．２グラムのエルバミド（登録商標）を、それぞれ、０．７グラム及び０．３グラムの量に置き換えた。０．０８グラムのシュウ酸を、０．９グラムの量に置き換えた。

［実施例１２］
　下記の置き換えを行った以外は、例６に記載した手順を繰り返した。
　０．３グラムのルッカミド（登録商標）５００３及び０．２グラムのエルバミド（登録商標）を、それぞれ、０．７グラム及び０．３グラムの量に置き換えた。０．９グラムのＤＨＴＰＤを、０．８グラムのＤＨＴＰＤの量に置き換えた。

［実施例１３］
　下記の置き換えを行った以外は、例６に記載した手順を繰り返した。
　０．３グラムのルッカミド（登録商標）５００３及び０．２グラムのエルバミド（登録商標）を、それぞれ、０．７グラム及び０．３グラムの量に置き換えた。０．２グラムのＴＥＡ−ＴＰＤを、０．１グラムのＴＥＡ−ＴＰＤの量に置き換えた。

［実施例１４］
　下記の置き換えを行った以外は、例６に記載した手順を繰り返した。
　０．３グラムのルッカミド（登録商標）５００３及び０．２グラムのエルバミド（登録商標）を、それぞれ、０．７グラム及び０．３グラムの量に置き換えた。０．０８グラムのシュウ酸を、１グラムのシュウ酸の量に置き換えた。

［実施例１５］
　下記の置き換えを行った以外は、例６に記載した手順を繰り返した。
　０．３グラムのルッカミド（登録商標）５００３及び０．２グラムのエルバミド（登録商標）を、それぞれ、０．７グラム及び０．３グラムの量に置き換えた。

［実施例１６］
　下記の置き換えを行った以外は、例６に記載した手順を繰り返した。
　０．３グラムのルッカミド（登録商標）５００３及び０．２グラムのエルバミド（登録商標）を、それぞれ、０．７グラム及び０．３グラムの量に置き換えた。０．２グラムのＴＥＡ−ＴＰＭを、０．１５グラムのＴＥＡ−ＴＰＭの量に置き換えた。

［実施例１７］
　下記の置き換えを行った以外は、例６に記載した手順を繰り返した。
　０．３グラムのルッカミド（登録商標）５００３及び０．２グラムのエルバミド（登録商標）を、それぞれ、０．７グラム及び０．３グラムの量に置き換えた。０．２グラムのＴＥＡ−ＴＰＭを、０．１グラムのＴＥＡ−ＴＰＭの量に置き換えた。０．１グラムの量のビス（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）フェニルメタンＢＤＥＴＰＭもＴＥＡ−ＴＰＭに添加した。
［実施例１８］
　実施例７〜１７から製造した配合物（表３に記載した）を、比較例１から製造した１２個の光受容体ドラムの上にオーバーコートした。これらは全て、ディップコーティング装置内で、２５０ミリメートル／分の引っ張り速度で塗布して、各ドラムについて６マイクロメートルの乾燥厚さを得た。これらのオーバーコートしたドラムを、１２０℃で３５分間乾燥させた。これらを、ゼロックス・ドキュカラー１２／５０コピー機内で、４，０００回連続プリントについてプリント試験した。プリント試験は、３種の異なった環境帯域、例えば、Ａ帯域（熱くて高湿度）、Ｂ帯域（室温条件）及びＣ帯域（冷たくて乾燥）内で実施した。画像鮮鋭度及びカラー強度に於ける顕著な低下がなく、そしてオーバーコートに起因するバックグラウンド又はプリント欠陥を伴う他の問題点はなかった。３００ｄｐｉ及び６００ｄｐｉプリント解像度は、４，０００回連続プリントの間保持された。次いで、これらのドラムを、帯電用バイアス帯電ロールを含む磨耗フィクスチャー内で試験した。これらの磨耗速度（率）を表４に記載する。

　上記の結果は、消去制御添加剤としてのＴＥＡ−ＴＰＭ化合物の使用により、プリント消去が減少又は除去されることを示している。オーバーコートされた光受容体ドラム及びベルトに於ける画質は、光受容体表面上のコロナ放出物により起こる横方向電荷移動及びその結果のプリント欠陥を減少又は除去することにより改良することができる。実施形態に於いて、ＴＥＡ−ＴＰＭ化合物を使用するオーバーコートは、オーバーコート層を通過する正孔輸送を加速して、横方向電荷移動を除去又は減少する。実施形態に於いて、ＴＥＡ−ＴＰＭ化合物を使用する光受容体皮膜は、１インチ（２．５４ｃｍ）当たり３００ドット以下のハーフトナー及び高周波数プリント特徴の保持を、Ａ、Ｂ及びＣ帯域に於いて、２０００回を超える連続プリント（又は少なくとも８，０００光受容体サイクル）の間維持することを可能にする。

光受容体部材を使用する一般的な静電写真装置の例示である。種々の層を示す光受容体の実施形態の例示である。

符号の説明

　１　基体
　２　導電性表面又は皮膜
　３　正孔ブロッキング層
　４　接着剤層
　５　電荷発生層
　６　電荷移動層
　８　電子写真画像形成層
　９　消去制御剤
　１０　光受容体
　１１　電源
　１２　電気チャージャー
　１３　画像入力装置
　１４　現像剤ステーション
　１５　転写手段
　１６　コピーシート
　１７　クリーニングステーション
　１８　消去制御剤
　１９　定着ステーション
　２０　定着部材
　２１　圧力部材
　２２　電荷移動小分子

Claims

　下記の式Ｉを有するトリスアミノトリフェニル化合物を含む組成物。

（式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は、同じか又は異なっており、約１〜約１５個の炭素を有するアルキル基である）
　Ｒ¹が、約１〜約１０個の炭素を有するアルキル基である、請求項１記載の組成物。
　Ｒ²が、約１〜約１０個の炭素を有するアルキル基である、請求項１記載の組成物。