JP2004118055A - 多層膜光学フィルタ、及びその製造方法 - Google Patents

多層膜光学フィルタ、及びその製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】傾斜配置した多層膜フィルタの透過波長特性に対するリップルを大幅に抑制する。
【解決手段】入射面1aに対して所定の入射角度で入射された光を透過するための多層膜光学フィルタ1は、光学基板2の上に、カップリング層4と、カップリング層4を介して積層された複数のキャビティ5a1〜5a5とを備えている。各キャビティは、所定の光学層厚を有するスペーサ層と、スペーサ層の積層方向に沿った両側に形成され、異なる屈折率を有する二種類の薄膜層が、スペーサ層に対して対象配置された反射多層膜とを備えている。
各キャビティの透過波長帯域における中心波長を、各キャビティのスペーサ層の層厚および入射角度に応じて、垂直に入射する場合の中心波長からシフトすることによって、所定の入射角度における最適な光学特性を得ることができる。
【選択図】 図1

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、複数の異なる波長の光信号を多重化して伝送するWDM(Wavelength Division Multiplexing:波長分割多重)通信方式に利用される多層膜光学フィルタ、その製造方法および装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
ブロードバンド時代の到来により、データ伝送の高速化および大容量化が求められている現在、上記WDM通信方式に大きな期待が寄せられている。
【0003】
このWDM通信方式における重要なモジュールの一つに、伝送路の途中で所望の波長の信号光のみを分岐または挿入できるモジュール(OADM; Optical Add−Drop Multiplexer)がある。
【0004】
そして、このOADMの分岐/挿入機能を実現するためのキーデバイスとして、多重化光信号から所定の波長を選択して透過させる帯域透過フィルタ(バンドパスフィルタ)がある。
【0005】
この帯域透過フィルタにおいては、選択透過波長帯域の損失が小さいこと、および他の信号波長帯域との透過率比(抑圧比)が大きいことが要求されている。上記要求特性を満足させるために、上記帯域透過フィルタとして、キャビティを複数層化(多層化)した膜構造を有する多層膜光学フィルタ(以下、単に多層膜フィルタとも記載する)が利用されている。
【0006】
なお、本明細書において、“多層”とは、複数層を表す意味として用いている。
【0007】
すなわち、多層膜フィルタは、光学基板上に、カップリング層を介して積層された複数のキャビティを有している。そして、各キャビティは、スペーサ層と、このスペーサ層の積層方向に沿った両側に形成されており、互いに異なる屈折率を有する二種類の薄膜層(高屈折率を有する高屈折率層;H層および低屈折率を有する低屈折率層;L層)が交互かつスペーサ層に対して対称配置されて成る反射多層膜とを備えている。
【0008】
また、OADMにおいては、入力ポートを介して入射された多重化光信号の光軸上に多層膜フィルタが配置されており、多重化光信号が多層膜フィルタの入射面に入射されると、所望の波長帯域の光信号のみが多層膜フィルタを透過し、その透過波長帯域以外の光信号は、多層膜フィルタにより反射される。
【0009】
【特許文献1】
特開2002−196129号公報
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
上述したように、OADMにおいては、多重化光信号を多層膜フィルタの入射面に入射させ、任意の波長帯域の光信号を透過させ、残りの波長帯域に存在する光信号を反射させる構成となっている。このため、多層膜フィルタの入射面が入射された多重化光信号の光軸に垂直に配置されている場合、すなわち、多層膜フィルタの入射面に対して多重化光信号が垂直入射する構成(垂直入射構成)では、多層膜フィルタの入射面を介して反射された光信号が、元の多重化光信号の入力ポート側に戻る可能性がある。
【0011】
そこで、OADMにおいては、多層膜フィルタを、その入射面が入射される光信号の光軸に対して傾斜するように配置(以下、この配置を傾斜配置と略記する)し、光信号が多層膜フィルタの入射面に対して所定の入射角度をもって入射するように構成している。この結果、任意の波長帯域はフィルタを透過して伝搬され、それ以外の波長帯域は、反射されて伝搬される。
【0012】
しかしながら、多層膜フィルタを傾斜配置した場合には、上記垂直入射構成の場合と比べて、多層膜フィルタの透過波長特性の形に生じるリップルが増大し、多層膜フィルタの透過波長特性に悪影響を及ぼす恐れが生じていた。
【0013】
本発明は上述した事情に鑑みてなされたもので、多層膜フィルタを傾斜配置した場合でも、その多層膜フィルタの透過波長特性に対するリップルを大幅に抑制することができる多層膜光学フィルタ、及び、その製造方法を提供することをその目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、上述した従来の問題点を解決すべく、鋭意研究を重ねた。その結果、以下に示すような多層膜光学フィルタ、及び、その製造方法を知見した。
【0015】
この発明の多層膜光学フィルタの第1の態様は、中心波長がλ0の所定の波長帯域において、
所定の屈折率を有する光学基板と、
(mλ0)/4(mは正の奇数)の光学膜厚を有するカップリング層と、
(mλ0)/2(mは自然数)の光学膜厚を有するスペーサ層と、前記スペーサ層の積層方向に沿った両側に形成され、(mλ0)/4(mは正の奇数)の光学膜厚を有し、互いに異なる屈折率を有する二種類の薄膜層が、交互且つ前記スペーサ層に対して対象配置された反射多層膜とを備えるキャビティと、
を備え、
前記光学基板上に、前記カップリング層を介して前記キャビティが複数積層された多層膜光学フィルタであって、
所定の入射角度及び前記スペーサ層の光学膜厚に応じて、少なくとも1つの前記キャビティの中心波長をλ0からシフトし、前記所定の入射角度において最適な波長光学特性を有する多層膜光学フィルタである。
【0016】
この発明の多層膜光学フィルタの第2の態様は、前記シフトを、前記入射角度における前記各キャビティの中心波長が一致するように行う多層膜光学フィルタである。
【0017】
この発明の多層膜光学フィルタの第3の態様は、前記シフトを、前記入射角度において、前記所定の波長帯域での透過率のリップルが減少するように行なう多層膜光学フィルタである。
【0018】
この発明の多層膜光学フィルタの製造方法の第1の態様は、多層膜光学フィルタを構成する各層の材料を光学基板に積層して前記光学基板上に前記各層を形成する工程と、
前記光学基板上に各キャビティに対応する各層が形成されている際に、入射角度及び前記各キャビティのスペーサ層の層厚に応じて、所定にシフトされた中心波長に対応する波長を有するモニタ光を前記各キャビティに対応する各層に照射する工程と、
前記各キャビティに対応する各層から透過/反射されたモニタ光に基づいて、前記層形成工程による前記各キャビティに対応する各層の形成処理を停止制御する工程と、
を備えた多層膜光学フィルタの製造方法である。
【0019】
この発明の多層膜光学フィルタの製造方法の第2の態様は、前記入射角度における前記各キャビティの中心波長が一致するように、前記シフト量を定めた多層膜光学フィルタの製造方法である。
【0020】
この発明の多層膜光学フィルタの製造方法の第3の態様は、前記入射角度において、所定の波長帯域での透過率のリップルが減少するように、前記シフト量を定めた多層膜光学フィルタである。
【0021】
この発明の多層膜光学フィルタを製造するためのプログラムの第1の態様は、多層膜光学フィルタを構成する各層の材料を光学基板に積層して前記光学基板上に前記各層を形成する層形成装置と、前記光学基板上に前記各キャビティに対応する各層が形成されている際に、入射角度及び前記各キャビティのスペーサ層の層厚に応じて前記各キャビティ毎に設定された中心波長に対応する波長を有するモニタ光を前記各キャビティに対応する各層に照射する照射装置とを有するシステムに適用されるコンピュータが実行可能なプログラムであって、
前記入射角度及び前記各キャビティのスペーサ層の層厚に応じて、シフト量を演算して前記中心波長を算出する処理と、
前記照射装置から照射され前記各キャビティに対応する各層から透過/反射されたモニタ光を受信する処理と、
受信されたモニタ光に基づいて、前記層形成装置による前記各キャビティに対応する各層の形成処理を停止制御する処理と、
をコンピュータにそれぞれ実行させる多層膜光学フィルタを製造するためのプログラムである。
【0022】
【発明の実施の形態】
図1は、本発明の実施の形態に係わる多層膜フィルタ1を示す図である。
【0023】
本実施形態の多層膜フィルタ1は、OADMにおける入射光透過/遮断用として、その入射面が入射光の光軸に対して所定角度α°傾斜配置して使用されるものであり、入射光は、多層膜フィルタ1の入射面に対して光軸に対してα°で入射するようになっている。
【0024】
すなわち、図1に示すように、多層膜フィルタ1は、光学基板2と、この光学基板2にカップリング層4介して積層された複数のキャビティ5a1〜5ak(k≧2の整数)とを備えている。
【0025】
なお、光学基板2に直接積層される最下層のキャビティを1番目(5a1)とし、以下、光学基板2から離れる方向(媒質側)に向かって順に番号が増え、光学基板2から積層方向に沿って最も離れた層(最上層)のキャビティをk番目(5ak)とする。なお、本実施形態では、k=5とする。
【0026】
光学基板2の積層方向とは反対側の面(下面)には、反射防止層{AR(Anti−Reflection)層}AR1が設けられている。また、最上層のキャビティ5a5の媒質側の面(上面)に対しても、反射防止層AR2が設けられている。
【0027】
第1番目のキャビティ5a1は、スペーサ層6a1と、このスペーサ層6a1の積層方向に沿った両側に形成された反射多層膜7a1および7b1とを備えている。
【0028】
各反射多層膜7a1および7b1は、図2に示すように、互いに異なる屈折率をそれぞれ有する第1および第2の屈折率層8a1および8b1を備えており、この第1および第2の屈折率層8a1および8b1が交互かつスペーサ層6a1に対して積層方向に沿って対称配置されて形成されている。
【0029】
第1の屈折率層8a1の屈折率nは、第2の屈折率層8b1の屈折率nより小さくなっており、以下、第1の屈折率層8a1をL層、第2の屈折率層8b1をH層と記載する。
【0030】
同様に、キャビティ5a2〜5a5は、スペーサ層6a2〜6a5と、このスペーサ層6a2〜6a5の積層方向に沿った両側に形成された反射多層膜7a2〜7a5とを備えている。各反射多層膜7a2〜7a5は、互いに異なる屈折率をそれぞれ有するL層8a2〜8a5およびH層8b2〜8b5をそれぞれ備え、このL層8a2〜8a5およびH層8b2〜8b5が交互かつスペーサ層6a2〜6a5に対して積層方向に沿って対称配置されて形成されている。
【0031】
本実施形態において、多層膜フィルタ1は、光学基板上にカップリング層4を介して複数のキャビティ5a1〜5a5が積層している。
【0032】
また、各キャビティ5a1〜5a5における各反射多層膜7a1および7b1〜7a5および7a5のL層8a1〜8a5およびH層8b1〜8b5の交互積層数(ミラーペア数)およびスペーサ層6a1〜6a5の層厚(物理的な層厚)は、多層膜フィルタ1として求められる透過波長帯域等に基づいて予め設計されている。
【0033】
以下、本実施形態における多層膜フィルタ1の設計内容について説明する。
【0034】
最初に、多層膜フィルタ(例えば、第1キャビティから第5キャビティの5キャビティフィルタ)の構成の表記の仕方について説明する。例えば、多層膜フィルタとして、第1キャビティ〜第5キャビティの5キャビティフィルタは、下式(1)のように表すことができる。
【0035】
媒質(Air)/AR層/第5キャビティ/カップリング層/第4キャビティ/カップリング層/第3キャビティ/カップリング層/第2キャビティ/カップリング層/第1キャビティ/基板(Sub)/AR層・・・(1)
【0036】
そして、上式(1)で表された多層膜フィルタにおけるキャビティは、下式(2)のように表すことができる。
(HL)HxLH(LH)                 ・・・(2)
【0037】
但し、yはLH交互積層数、xは、スペーサ層厚をそれぞれ表しており、例えば、(HL)H8LH(LH)は、LH交互積層数が6(=(HL))、スペーサ層厚が8Lのキャビティの構成を表している。
【0038】
また、上式(2)で示されたキャビティは、LH交互積層数およびスペーサ層厚を指標として、次式(3)のように省略表記することができる。
【式1】
y                ・・・(3)
【文章1】
すなわち、yyは、交互積層数がy、スペーサ層厚がxLの対称構造を有するキャビティ(HL)H8LH(LH)を示している。なお、本実施例の他、(HL)8H(LH)等の様々なキャビティが考えられる。
【0039】
次に、本発明者等が実験した結果として、下式(4)〜(6)に示す3種類の1キャビティフィルタにおいて、入射光が入射面に対して垂直入射した場合(入射角α=0°、すなわち、0°入射時)および入射光が入射面に対して所定角度α=5°をもって入射した場合(5°入射時)の透過波長特性を図3に示す。
【0040】
【式2】
8キャビティ→Air/(HL)H4LH(LH)/sub ・・・(4)
147キャビティ→Air/(HL)H14LH(LH)/sub     ・・・(5)
7キャビティ→Air/(HL)H4LH(LH)/sub ・・・(6)
【0041】
【文章2】
図3に示すように、0°入射時においては、全ての1キャビティフィルタの中心波長(透過波長特性において透過率50%を示す2つの波長の中心)は、約1550nmで一致している。
【0042】
【文章3】
一方、5°入射時においては、全ての1キャビティフィルタの中心波長は、0°入射時に比べて短波長側にシフトしている。そして、半値幅の異なる88キャビティと77キャビティとの中心波長が略1547.56nmで略一致しているにもかかわらず、7147キャビティの中心波長は、より短波長側にシフトしているのが分かる。
【0043】
【文章4】
図4は、3種類の1キャビティフィルタに対する入射角度と波長シフト量との関係を示す。図4に示すように、入射角が大きくなるに従って、88キャビティおよびキャビティの中心波長と7147キャビティの中心波長とは大きくずれていくことが分かる。
【0044】
また、本発明者等が種々の構成を有する1キャビティフィルタの特性を調査・実験した結果、入射光がそのフィルタの入射面に対して所定角度をもって入射した時(斜入射時)の波長シフト量は、そのキャビティのミラーペア数とは無関係に、スペーサ層の層厚(スペーサ層厚)で決まることを発見した。
【0045】
すなわち、図5は、2°入射時におけるスペーサ層厚に対する中心波長のシフト量を示す図である。図5に示すように、スペーサ層厚に比例して波長シフト量も大きくなるが、その傾きは除々に緩やかになることも分かった。
【0046】
次に、上述した波長シフト量の多層膜フィルタに対する影響について説明する。
【0047】
上述したように、多層膜フィルタは、複数のキャビティが積層されて構成されており、そのフィルタを垂直入射用としてのみ使用する場合には、個々のキャビティの中心波長を一致させ、キャビティ数、ミラーペア数、スペーサ層厚等を組み合わせて設計を行っている。
【0048】
しかしながら、OADM用として、入射光が入射面に対して所定角度α°で入射する場合では、上述した波長シフト量により、キャビティ間において中心波長にずれが生じ、リップル増大の原因となる。
【0049】
そこで、本発明者等は、多層膜フィルタを構成する複数のキャビティの中でスペーサ層厚の異なるキャビティに対しては、予め斜入射時の角度α°およびスペーサ層厚に応じて、そのキャビティの中心波長を、スペーサ層厚が同一の他のキャビティの中心波長からシフトさせることにより、斜入射時(角度α°)においてキャビティ間の中心波長を一致させて、リップルの低減を図っている。
【0050】
すなわち、本実施形態においては、上式(1)で表された多層膜フィルタ1の構成の一例を、下式(7)および(8)のように表す(図1参照)。
【0051】
Air/L’H’/(HL)H8LH(LH)/L/(HL)H8LH(LH)/L/(HL)H10LH(LH)/L/(HL)H8LH(LH)/L/(HL)H8LH(LH)/Sub       ・・・(7)
【式3】
Air/L’H’/66−77−7107−77−66/Sub              ・・・(8)
【0052】
そして、本実施形態では、最もスペーサ層厚が大きいキャビティ5a3を除くスペーサ層厚が同一のキャビティ5a1〜5a2および5a4〜5a5は、入射光がフィルタ1の入射面に対して垂直入射した際における中心波長(各キャビティによる透過波長特性において透過率50%を示す2つの波長の中心)がλ0となるように設計されている。
【0053】
また、カップリング層4は、その中心波長λ0の(m/4(mは正の奇数))倍の光学膜厚を有している。
【0054】
さらに、各キャビティ5a1、5a2、5a4および5a5のスペーサ層6a1〜6a5は、中心波長λ0の(m/2(mは自然数))倍の光学膜厚を有している。
【0055】
各キャビティ5a1、5a2、5a4および5a5の各反射多層膜7a1、7a2、7a4および7a5におけるL層8a1、8a2、8a4および8a5は、中心波長λ0の(m/4(mは正の奇数))倍の光学膜厚を有しており、H層8b1、8b2、8b4および8b5は、中心波長λ0の(m/4(mは正の奇数))倍の光学膜厚を有している。
【0056】
そして、最もスペーサ層厚が大きいキャビティ5a3は、入射光がフィルタ1の入射面に対して垂直入射した際における中心波長が上記所定の入射角度α°および自キャビティ5a3のスペーサ層6a3のスペーサ層厚に応じて中心波長λ0からシフトされた波長λとなるように設計されている。
【0057】
この中心波長λは、上記所定の入射角度α°および自キャビティ5a3のスペーサ層6a3のスペーサ層厚に応じて、自キャビティ5a3の所定の入射角度α°における中心波長と他キャビティ5a1、5a2、5a4および5a5の所定の入射角度α°における中心波長とが一致するように定められている。
【0058】
また、キャビティ5a3のスペーサ層6a3は、上記中心波長λの(m/2(mは自然数))倍の光学膜厚を有している。
【0059】
さらに、キャビティ5a3の反射多層膜7a3におけるL層8a3およびH層8b3は、中心波長λの(m/4(mは正の奇数))倍の光学膜厚をそれぞれ有している。
【0060】
図6は、本実施形態に係わる多層膜フィルタが適用されるOADMの実施例を示す。図6(a)が分波の場合の適用例を示し、図6(b)が合波の場合を示す。
この実施例の多層膜フィルタは、波長λ10の光信号を透過させ、他の波長の光信号を反射する光学特性を有する。また、多層膜フィルタは、項軸に対して、一定の入射角度を付けて設置(傾斜配置)されている。
【0061】
初めに、図6(a)に示す分波の場合を説明する。波長λ〜波長λ
の多重光信号が、INポート(左側)から2芯フェルール12の上側の光路とレンズ13を通過して多層膜フィルタ14へ入射する。ここでレンズ13は、光信号が2芯フェレール12を通過後に拡散するため、それを絞って多層膜フィルタ14へ入射させる役割を果たしている。
【0062】
多層膜フィルタ14は、波長λ10の光信号を透過させ、その他の波長λ〜λ、λ11〜λの光信号を反射する。透過した波長λ10の光信号は、レンズ15と1芯フェルール16を通過して、Dropポート(右側)へ達する。ここで、レンズ15は、光信号が多層膜フィルタ14を通過後に拡散するため、それを絞って1芯フェルール16へ入射させる役割を果たしている。
【0063】
また、多層膜フィルタ14によって反射された波長λ〜λ9、λ11〜λの光信号は、多層膜フィルタ14が光軸に対して一定の入射角度を有しているので、レンズ13を通過して2芯フェルール12の下側のポートへ入射する。ここで、レンズ13は、光信号が多層膜フィルタ14によって反射された後に拡散するため、それを絞って2芯フェルール12へ入射させる役割を果たしている。この波長λ〜λ9、λ11〜λの光信号は2芯フェルール12を通過して、OUTポート(左側)へ達する。
【0064】
以上によって、INポートから入射した波長λ〜波長λの多重光信号を、この多層膜フィルタを利用したOADMシステムによって、波長λ10の光信号(Dropポート)と、波長λ〜λ9、λ11〜λの光信号(OUTポート)に分波することができる。
【0065】
次に図6(b)に示される合波の場合を説明する。波長λ10の光信号がAddポート(右側)から1芯フェルール16とレンズ15を通過して多層膜フィルタ14へ入射する。ここでレンズ15は、光信号が1芯フェレール16を通過後に拡散するため、それを絞って多層膜フィルタ14へ入射させる役割を果たしている。
【0066】
多層膜フィルタ14は、波長λ10の光信号を透過させるので、Addポートから入射した光信号は、多層膜フィルタ14とレンズ13を通過し、更に2芯フェルール12の上側の光路を通過して、OUTポート(左側)へ達する。ここで、レンズ13は、光信号が多層膜フィルタ14を通過した後に拡散するため、それを絞って2芯フェルール12へ入射させる役割を果たしている。
【0067】
一方、波長λ〜λ9、λ11〜λ波長λ11の光信号は、INポート(左側)から入射される。入射した光信号は、2芯フェルール12の下側の光路、レンズ13を通過して多層膜フィルタ14へ入射する。ここでレンズ13は、光信号が2芯フェレール12を通過後に拡散するため、それを絞って多層膜フィルタ14へ入射させる役割を果たしている。多層膜フィルタ14は、波長λ10の光信号以外の光信号は反射させるので、多層膜フィルタ14入射した波長λ〜λ9、λ11〜λの光信号は透過せずに反射する。
【0068】
反射した波長λ〜λ9、λ11〜λの光信号は、多層膜フィルタ14が光軸に対して一定の入射角度を有しているので、レンズ13を介して2芯フェルール12の上側のポートへ入射する。ここで、レンズ13は、光信号が多層膜フィルタ14によって反射された後に拡散するため、それを絞って2芯フェルール12へ入射させる役割を果たしている。
【0069】
波長λ〜λ9、λ11〜λの光信号は、多層膜フィルタ14を通過した波長λ10の光信号と合波され、2芯フェルール12の上側のポートを通過して、OUTポート(左側)へ達する。
従って、Addポート(右側)から入射した波長λ10の光信号と、INポート(左側)から入射した波長λ〜λ9、λ11〜λの光信号は合波されて、OUTポート(左側)へ達する。以上によって、この多層膜フィルタを利用したOADMシステムによって、合波を行なうことができる。
【0070】
次に、本発明の実施の形態に係わる多層膜フィルタ1の製造装置21の概略構成を図7(一部断面図)に示す。
【0071】
図7に示すように、製造装置21は、真空容器(チャンバ)22と、この真空容器22内の例えば底部に並置された例えば2つの成膜源23a1、23a2とを備えている。
【0072】
成膜源23a1は、第1の屈折率層8a1の屈折率nを有する成膜材料がセットされた成膜源であり、成膜源23a2は、第2の屈折率層8a2の屈折率nを有する成膜材料がセットされた成膜源である。
【0073】
また、製造装置21は、真空容器22内における成膜源23a1、23a2と反対側(上部)に設けられており、光学基板2を保持するための基板ホルダ25を備えている。
【0074】
そして、製造装置21は、真空容器22内に設けられており、成膜源23a1、23a2内に電子ビームを照射して成膜源23a1、23a2内の成膜材料を加熱させるための電子銃30a1、30a2と、広波長帯域光である例えば白色光を測定光MLとして出力する光源31とを備えている。
【0075】
さらに、製造装置21は、後述する制御装置から送信されるシャッタ信号に応じて成膜源23a1、23a2の上方を覆うことにより成膜動作を停止させ、開放信号に応じて成膜源23a1、23a2の上方を開放して成膜動作を開始/再開させるためのシャッタ装置32a1、32a2と、光源31から発せられた測定光MLが成膜中の膜(多層膜フィルタ1を構成する各膜)Fおよび基板2を透過した際の透過光を集光する集光レンズ33と、この集光レンズ33により集光された透過光を波長毎に受光する光ファイババンドル34とを備えている。
【0076】
この光ファイババンドル34は、真空容器22の例えば上壁に対して気密に取り付けられたシールドボックス35内を気密に貫通して真空容器外に延長している。
【0077】
そして、製造装置21は、光ファイババンドル34を介して送られた透過光から、後述する制御装置から送信されるモニタ光波長を表す波長決定信号に対応する波長を有する透過光のみをモニタ光として分光する分光器36と、この分光器36により分光されたモニタ光を順次受光してその受光量に対応する光量信号を出力する受光器37と、シャッタ装置32a1、32a2にデータ通信可能に接続されており、受光器37から出力された光量信号に基づいて、シャッタ装置32a1、32a2を介して成膜動作を制御するための制御装置38とを備えている。
【0078】
図8は、図7に示す製造装置21における制御装置38のハードウエア構成を示す図である。
【0079】
図8に示すように、制御装置38は、コンピュータシステムであり、受光器37から出力された光量信号をデジタル型の光量信号(デジタル光量データ)に変換するA/D変換器(A/D)40と、設計者が操作して情報を入力可能な入力部41と、A/D変換器40および入力部41に通信可能に接続されたコンピュータ42と、このコンピュータ42に通信可能に接続されており、後述するフィルタ製造処理(成膜処理)を実行させるためのプログラムPを予め記憶する記憶媒体としてのメモリ43とを備えている。なお、記憶媒体としては、半導体メモリ、磁気メモリ等、様々な記憶媒体が適用可能である。
【0080】
次に、本実施形態の多層膜フィルタ1の製造処理について説明する。
【0081】
上式(7)〜(8)に示す多層膜構造を有し、かつスペーサ層厚に応じた中心波長を有するように設計された多層膜フィルタ1の各キャビティ5a1〜5a5の各膜(各層)を成膜する際においては、予めコンピュータ42に対して、入力部41から上記多層膜フィルタ1の上式(7)〜(8)に示す多層膜構造を表す設計データ、各キャビティ5a1、5a2、5a4および5a5の中心波長λ0およびキャビティ5a3の中心波長λがそれぞれ入力されており、コンピュータ42のメモリ43にそれぞれ記憶されている。
【0082】
製造装置21により多層膜フィルタ1の製造が開始されると、コンピュータ42は、プログラムPに従って動作し、成膜対象となるキャビティに対応する中心波長を表す波長決定信号を分光器36に送信する(図9;ステップS1)。
【0083】
例えば、成膜対象となるキャビティが、キャビティ5a1、5a2、5a4および5a5であれば、コンピュータ42は、上記各キャビティ5a1、5a2、5a4および5a5に対応する中心波長λ0を表す波長決定信号を分光器36に送信する。
【0084】
一方、成膜対象となるキャビティが、キャビティ5a3であれば、コンピュータ41は、上記各キャビティ5a3に対応する中心波長λを表す波長決定信号を分光器36に送信する。
【0085】
この結果、分光器36は、コンピュータ42から送信された波長決定信号に基づいて、送られてくる広波長帯域の透過光から分光するモニタ光の波長を、中心波長λ0あるいはλにセットする。
【0086】
一方、コンピュータ42の制御により、成膜対象となるキャビティの各膜の成膜材料に対応する成膜源(例えば、L層→成膜源23a1、H層→成膜源23a2、本実施形態では、H層を成膜対象とする)23a2のシャッタ装置32a2が開動作し、成膜源23a1のシャッタ装置32a1が閉動作(シャッタ動作)している(ステップS2)。
【0087】
このとき、電子銃30a1、30a2から成膜源23a1、23a2に対して電子ビームが照射されており、成膜源23a1、23a2内の加熱融解された成膜材料が蒸発する。
【0088】
このとき、上方をシャッタ装置により覆われていない成膜源23a2から蒸発した成膜材料(蒸発粒子)は、真空容器22内を上昇して被成膜基板2に蒸着され、成膜対象となる膜層Fの一部が形成される。
【0089】
上記成膜動作と並行して、光源31からは、広波長帯域光MLが成膜中の層Fに照射される。そして、成膜中の層を透過した透過光は、基板2、集光レンズ33および光ファイババンドル34を介して分光器36に入射される。
【0090】
このとき、本実施形態では、分光器36により、成膜対象がキャビティ5a1、5a2、5a4および5a5の場合には、その中心波長λ0に対応する波長λ0のモニタ光M(λ0)のみが分光される。一方、成膜対象がキャビティ5a3の場合には、その中心波長λに対応する波長λのモニタ光M(λ)のみが分光される。
【0091】
そして、分光器36を介して分光されたモニタ光M(λ0)/モニタ光M(λ)は受光器37に受光される。受光器37により受光された受光量に対応する光量信号は、A/D41を介して制御装置38のコンピュータ42に送信される。
【0092】
コンピュータ42は、送信されてきた光量信号をモニタしている。
【0093】
このとき、公知の成膜理論により、モニタした光量信号の変化が対応する波長(λ0/λ)の1/4倍毎にピーク(極大/極小)値をとるため、例えば、成膜対象がスペーサ層以外の膜層である場合には、上記ピーク値(mλ0/4、あるいはmλ/4)をm回検出した際に(ステップS3→YES)、コンピュータ42は、蒸着中の成膜源23a2に対応するシャッタ装置32a2に対してシャッタ信号を送信して閉動作させ、成膜動作を停止、すなわち、成膜源23a2から蒸発した成膜材料の基板2への蒸着を阻止する(ステップS4)。
【0094】
この結果、基板2に成膜された膜層(スペーサ層以外)の光学膜厚を、成膜対象となるキャビティに対応する光学膜厚(mλ0/4、あるいはmλ/4)に設定することができる。
【0095】
なお、ステップS4として、成膜対象がスペーサ層である場合には、、上記ピーク値(λ0/4、あるいはλ/4)をmx2回検出した際にコンピュータ42のステップS3の判断がYESとなり、成膜動作が停止される(ステップS4参照)。
【0096】
この結果、基板2に成膜されたスペーサ層の光学膜厚を、成膜対象となるキャビティに対応する光学膜厚(mλ0/2、あるいはmλ/2)に設定することができる。
【0097】
すなわち、本実施形態によれば、キャビティ5a1、5a2、5a4および5a5の各膜層の光学膜厚を、その中心波長λ0の1/4倍に設定し、スペーサ層厚の異なるキャビティ5a3の各膜層の光学膜厚を、そのキャビティ5a3に対応する中心波長λの1/4倍に設定することができる。
【0098】
ここで、上述した多層膜フィルタの製造方法(アルゴリズム)に基づいて実際に製造した多層膜フィルタの例について説明する。
【0099】
【文章5】
(実施例1)
光学基板2として波長1550.0nmにおいて屈折率=1.52の基板を用い、上式(7)〜(8)に示す多層膜構造を有する5キャビティの多層膜フィルタ1(下式(9)として再度示す)を上述した製造装置21を用いて製造した。このとき、キャビティ5a1、5a2、5a4および5a5に対しては、中心波長λ0として1550.00nmのモニタ光を用い、キャビティ5a3()に対しては、上記中心波長λ0(1550.00nm)からシフトされた中心波長λ(1550.04nm)のモニタ光を用いている。
【式4】
Air/L’H’/66−77−7107−77−66/Sub              ・・・(9)
【0100】
ここで、製造された多層膜フィルタ1における0°入射時および5°入射時における透過率の波長依存性(透過波長特性)を図10に示した。
【0101】
図10に示すように、0°入射時においては、透過波長特性に大きなリップルが認められるが、実際に使用される5°入射時においては、中心波長が約1547.56nmで一致しているため、透過波長特性として、リップルの無い非常にフラットな波形が得られた。
【0102】
(比較例1)
実施例1と同様に、光学基板2として波長1550.0nmにおいて屈折率=1.52の基板を用い、上式(9)に示す多層膜構造を有する5キャビティの多層膜フィルタ1Aを、全てのキャビティ5a1〜5a5に対して同一の中心波長λ0(=1550.0nm)のモニタ光を用いて製造した場合の0°入射時および5°入射時における透過率の波長依存性(透過波長特性)を図11に示した。
【0103】
図11に示すように、0°入射時においては、リップルの無い非常にフラットな波形が得られたが、実際に使用される5°入射時においては、透過波長特性において、リップルが大幅に増加した。
【0104】
(比較例2)
比較例1と同様に、光学基板2として波長1550.0nmにおいて屈折率=1.52の基板を用い、下式(10)に示す多層膜構造(全てのキャビティ5a1〜5a5のスペーサ層の層厚を同一(8L)に設定した)を有する5キャビティの多層膜フィルタ1Bを、全てのキャビティ5a1〜5a5に対して同一の中心波長λ0(=1550.0nm)のモニタ光を用いて製造した場合の0°入射時および5°入射時における透過率の波長依存性(透過波長特性)を図12に示した。
【式5】
Air/L’H’/66−77−7107−77−66/Sub              ・・・(10)
【0105】
全てのキャビティ5a1〜5a5のスペーサ層の層厚を同一(8L)に設定しているため、図12に示すように、0°入射時および5°入射時における透過波長特性に変化は見られなかった。しかしながら、図12に示すように、5°入射時における透過波長特性は、実施例1に示した多層膜フィルタ1の5°入射時における透過波長特性(図10参照)と比べて、リップルが非常に増加した。
【0106】
以上詳述したように、本実施形態によれば、多層膜フィルタ1を構成する複数のキャビティ5a1〜5a5の中でスペーサ層厚の異なるキャビティ5a3に対しては、予め斜入射時の角度α(=5)°およびスペーサ層厚に応じて、そのキャビティ5a3の中心波長を、スペーサ層厚が同一の他のキャビティ5a1、5a2、5a4および5a5の中心波長λ0(例えば、1550.0nm)からλ(例えば、1550.4nm)にシフトさせている。
【0107】
この結果、斜入射時の角度α(=5)°における各キャビティ5a1〜5a5の中心波長を一致させることができ、斜入射に起因したリップルの増大を大幅に抑制することができる。
【0108】
なお、本実施形態においては、多層膜フィルタ1の多層膜構造を上式(7)〜(9)としたが、本発明はこれに限定されるものではなく、種々の多層膜構造を採ることができる。特に、多層膜フィルタは、その複数のキャビティおよびカップリング層から成る多層膜部分が積層方向に沿って対称構造を有していることが好ましい。
【0109】
また、本実施形態においては、OADMにおける入射光透過/遮断用として、多層膜フィルタを、その入射面が入射光の光軸に対して所定角度α(=5)°傾斜配置して使用するものとしたが、本発明はこれに限定されるものではなく、他の角度で傾斜配置する場合においても適用可能である。
【0110】
さらに、本実施形態では、基板2に成膜された膜層(スペーサ層以外)の光学膜厚を、成膜対象となるキャビティに対応する光学膜厚(λ0/4、あるいはλ/4)に設定し、スペーサ層の光学膜厚を、成膜対象となるキャビティに対応する光学膜厚(λ0/2、あるいはλ/2)に設定したが、本発明はこれに限定されるものではない。
【0111】
すなわち、基板2に成膜された膜層(スペーサ層以外)の光学膜厚を、λ0/4、あるいはλ/4の正の奇数倍に設定し、スペーサ層の光学膜厚を、中心波長λ0/2あるいはλ/2の自然数倍に設定してもよい。
【0112】
以上、本発明を実施の形態を用いて説明したが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではない。すなわち、本発明の技術的思想に基づく範囲内において、上記実施形態に対して多様な変更または改良を加えることも可能である。
【0113】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明に係わる多層膜光学フィルタ、その製造方法によれば、多層膜光学フィルタを構成する各キャビティの透過波長帯域における中心波長を、当該各キャビティのスペーサ層の層厚および入射面に対する入射光の入射角度に応じて、垂直に入射する場合の中心波長からシフトさせた設定をしている。
【0114】
このため、多層膜光学フィルタを、その入射面が入射光の光軸に対して上記入射角度に対応する角度で傾斜配置されている場合であっても、その傾斜配置に起因した各キャビティ間の中心波長を一致させることが可能になる。
【0115】
この結果、各キャビティ間の中心波長のずれに起因した多層膜光学フィルタの透過波長特性に対するリップルを減少させ、良好な透過波長特性を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態に係わる多層膜フィルタを概略的に示す図。
【図2】図1に示す多層膜フィルタにおける第1のキャビティを拡大して示す図。
【図3】3種類の1キャビティフィルタにおいて、入射光が入射面に対して垂直入射した場合(0°入射時)および入射光が入射面に対して所定角度5°をもって入射した場合(5°入射時)の透過波長特性を示す図。
【図4】3種類の1キャビティフィルタに対する入射角度と波長シフト量との関係を示す図。
【図5】2°入射時におけるスペーサ層厚に対する中心波長のシフト量を示す図。
【図6】本実施形態に係わる多層膜フィルタが適用されるOADMの実施例の概略構成を示す図。
【図7】本発明の実施の形態に係わる多層膜フィルタの製造装置の概略構成を示す図(一部断面図)。
【図8】図7に示す製造装置における制御装置のハードウエア構成を示す図。
【図9】本発明の実施の形態における多層膜フィルタの製造装置の製造処理の一例を示す概略フローチャート。
【図10】本実施形態における実施例1として製造された多層膜フィルタの0°入射時および5°入射時における透過率の波長依存性(透過波長特性)を示す図。
【図11】比較例1の多層膜フィルタの0°入射時および5°入射時における透過率の波長依存性(透過波長特性)を示す図。
【図12】比較例2の多層膜フィルタの0°入射時および5°入射時における透過率の波長依存性(透過波長特性)を示す図。
【符号の説明】
1 多層膜フィルタ
1a 入射面
2 光学基板
4 カップリング層
5a1〜5a5 キャビティ
6a1〜6a5 スペーサ層
7a1〜7a5 反射多層膜
8a1 第1の屈折率層(L層)
8b1 第2の屈折率層(H層)
11 ファイバ
12 2芯フェルール
13 レンズ
14 多層膜フィルタ
15 レンズ
16 1芯フェルール
21 製造装置
22 真空容器
23a1、23a2 成膜源
25 基板ホルダ
30a1、30a2 電子銃
31 光源
32a1、32a2 シャッタ装置
33 集光レンズ
34 光ファイババンドル
35 シールドボックス
36 分光器
37 受光器
38 制御装置
40 A/D変換器
41 入力部
42 コンピュータ
43 メモリ
P プログラム

Claims (7)

  1. 中心波長がλ0の所定の波長帯域において、
    所定の屈折率を有する光学基板と、
    (mλ0)/4(mは正の奇数)の光学膜厚を有するカップリング層と、
    (mλ0)/2(mは自然数)の光学膜厚を有するスペーサ層と、前記スペーサ層の積層方向に沿った両側に形成され、(mλ0)/4(mは正の奇数)の光学膜厚を有し、互いに異なる屈折率を有する二種類の薄膜層が、交互且つ前記スペーサ層に対して対象配置された反射多層膜とを備えるキャビティと、
    を備え、
    前記光学基板上に、前記カップリング層を介して前記キャビティが複数積層された多層膜光学フィルタであって、
    所定の入射角度及び前記スペーサ層の光学膜厚に応じて、少なくとも1つの前記キャビティの中心波長をλ0からシフトさせ、前記所定の入射角度において最適な波長光学特性を有する多層膜光学フィルタ。
  2. 前記シフトを、前記入射角度における前記各キャビティの中心波長が一致するように行う請求項1に記載の多層膜光学フィルタ。
  3. 前記シフトを、前記入射角度において、前記所定の波長帯域での透過率のリップルが減少するように行なう請求項1または2に記載の多層膜光学フィルタ。
  4. 多層膜光学フィルタを構成する各層の材料を光学基板に積層して前記光学基板上に前記各層を形成する工程と、
    前記光学基板上に各キャビティに対応する各層が形成されている際に、入射角度及び前記各キャビティのスペーサ層の層厚に応じて、所定にシフトされた中心波長に対応する波長を有するモニタ光を前記各キャビティに対応する各層に照射する工程と、
    前記各キャビティに対応する各層から透過/反射されたモニタ光に基づいて、前記層形成工程による前記各キャビティに対応する各層の形成処理を停止制御する工程と、
    を備えた多層膜光学フィルタの製造方法。
  5. 前記入射角度における前記各キャビティの中心波長が一致するように、前記シフト量を定めた請求項4に記載の多層膜光学フィルタの製造方法。
  6. 前記入射角度において、所定の波長帯域での透過率のリップルが減少するように、前記シフト量を定めた請求項4または5に記載の多層膜光学フィルタ。
  7. 多層膜光学フィルタを構成する各層の材料を光学基板に積層して前記光学基板上に前記各層を形成する層形成装置と、前記光学基板上に前記各キャビティに対応する各層が形成されている際に、入射角度及び前記各キャビティのスペーサ層の層厚に応じて前記各キャビティ毎に設定された中心波長に対応する波長を有するモニタ光を前記各キャビティに対応する各層に照射する照射装置とを有するシステムに適用されるコンピュータが実行可能なプログラムであって、
    前記入射角度及び前記各キャビティのスペーサ層の層厚に応じて、シフト量を演算して前記中心波長を算出する処理と、
    前記照射装置から照射され前記各キャビティに対応する各層から透過/反射されたモニタ光を受信する処理と、
    受信されたモニタ光に基づいて、前記層形成装置による前記各キャビティに対応する各層の形成処理を停止制御する処理と、
    をコンピュータにそれぞれ実行させる多層膜光学フィルタを製造するためのプログラム。
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