JP2004113903A

JP2004113903A - 遺棄化学兵器洗浄廃水の処理方法とその装置

Info

Publication number: JP2004113903A
Application number: JP2002279240A
Authority: JP
Inventors: Yutaka Ito; 伊藤　裕; Takao Kawai; 川井　隆夫; Mitsushige Shimada; 島田　光重
Original assignee: Kobelco Eco Solutions Co Ltd
Current assignee: Shinko Pantec Co Ltd
Priority date: 2002-09-25
Filing date: 2002-09-25
Publication date: 2004-04-15

Abstract

【課題】遺棄化学兵器洗浄廃水の処理の作業時に、その遺棄化学兵器を洗浄することによって生ずる洗浄廃水、或いは上記のような作業時に着用される防護服等を洗浄することによって生ずる洗浄廃水を処理するための処理方法と処理装置に関し、遺棄化学兵器等を洗浄することによって生ずる洗浄廃水や、遺棄化学兵器等の処理作業時に着用される防護服を洗浄することによって生ずる洗浄廃水を処理して無害化することを課題とする。
【解決手段】遺棄化学兵器を洗浄した洗浄廃水を、膜分離装置で濃縮水と透過水とに分離して、前記洗浄廃水中の汚染物質を除去することを特徴とする。
【選択図】　　図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、遺棄化学兵器洗浄廃水の処理の作業時に、その遺棄化学兵器を洗浄することによって生ずる洗浄廃水、或いは上記のような作業時に着用される防護服等を洗浄することによって生ずる洗浄廃水を処理するための処理方法と処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
遺棄化学兵器は、１９９７年に発効した化学兵器禁止条約に基づき、処理が義務付けられているにもかかわらず、その処理方法が確立されていないこともあって、未だにその処理が難航している。
【０００３】
このような遺棄化学兵器のうちでも、特に地中に埋蔵されていた化学兵器は、長期間の外壁の腐食劣化に伴い、内部から毒性化合物が漏洩するおそれがある。そこで、地中から掘り出した段階で、多量のさらし粉、次亜塩素酸ソーダ、或いはイソシアヌル酸ナトリウム等の塩素系洗浄剤をかけて漏出化学剤を分解し、水洗することで、次工程へのハンドリングができるようにしている。また、化学兵器で汚染された防護服についても、同様に除染剤をかけて水洗する手順がとられる。
【０００４】
上記の作業で発生した遺棄化学兵器洗浄廃水には、未分解の化学兵器成分が残存している場合もあり、またその分解された有機化合物といえども決して無害なわけではなく、また無機系のものでも砒素化合物等の有毒な成分が含有されている。
従って、発掘された遺棄化学兵器を単に洗浄した廃水であっても、上記のような有害化合物等の汚染物質で汚染されているおそれがある。また同様に、このような遺棄化学兵器の処理作業時に着用された防護服を除染した場合にも、上記のような有害化合物が洗浄廃水に含有されているおそれがある。
【０００５】
ところで、このような遺棄化学兵器の処理は、欧米を中心に実施されているものの、日本ではほとんど実施されたことがないので、かかる化学兵器の処理技術に関する我国の特許出願の件数は非常に少ない。
その中ではたとえば遺棄化学兵器砲弾の処理を電気化学的に行う下記特許文献１や、化学兵器用毒性化合物の燃焼分解を行う下記特許文献２等の出願がなされている。
【０００６】
【特許文献１】
特開２００２−１６２２００号公報
【特許文献２】
特開平１０−１４１６３７号公報
【０００７】
しかし、これらの発明は、あくまで化学兵器それ自体を処理する技術、或いは化学兵器用毒性化合物を直接処理する技術であり、上記のように発掘、洗浄等の処理作業によって二次的に生ずる洗浄廃水のようなものを処理する技術ではない。実際、この種の洗浄廃水を処理する技術に関する特許出願は皆無に近い。
ちなみに、欧米の遺棄化学兵器は、ストックパイルと呼ばれる倉庫保管がなされていて、製造時の形状を保ったままのものが中心であるのに対し、我国が取り扱うべき遺棄化学兵器は、ノンストックパイルと呼ばれる放置されたものが中心であり、このことも、上記遺棄化学兵器の処理に関する特許出願が少なく、とりわけその洗浄廃水を処理する技術に関する特許出願が皆無に近いことの要因ともなっている。
【０００８】
本発明は、このような点に鑑みてなされたもので、上記のような遺棄化学兵器等を洗浄することによって生ずる洗浄廃水や、遺棄化学兵器等の処理作業時に着用される防護服を洗浄することによって生ずる洗浄廃水を処理して無害化することを課題とするものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明は、このような課題を解決するために、化学兵器洗浄廃水の処理方法とその装置としてなされたもので、化学兵器洗浄廃水の処理方法としての特徴は、化学兵器を洗浄した洗浄廃水を、膜分離装置で濃縮水と透過水とに分離して、前記洗浄廃水中の汚染物質を除去することである。
また、より具体的な化学兵器洗浄廃水の処理方法の特徴は、化学兵器を洗浄した洗浄廃水を、膜分離装置で濃縮水と透過水とに分離し、濃縮水は蒸発乾燥して汚染物質とともに減容化し、廃棄、貯蔵に便利なようにし、透過水は前記化学兵器の洗浄水として再利用することである。
この場合、洗浄水として系外に排出し、貯留しておくことも可能である。
【００１０】
さらに、遺棄化学兵器洗浄廃水の処理装置としての特徴は、遺棄化学兵器を洗浄した洗浄廃水を、濃縮水と透過水とに分離して、前記洗浄廃水から汚染物質を除去する膜分離装置を具備することである。
【００１１】
濃縮水を蒸発乾燥して得られた水は、凝縮して膜分離装置の前段側に返送することも可能である。
【００１２】
膜分離装置としては、たとえば限外濾過膜装置を具備するＦＭモジュール装置と、逆浸透膜装置を具備するＤＴモジュール装置とで構成されたようなものが用いられる。かかる構成の膜分離装置を用いることで、先ずＦＭモジュール装置で懸濁性固形物（ＳＳ）成分を除去しておき、その後にＤＴモジュール装置で有害溶存成分を除去することができる。
すなわち、洗浄廃水には、未分解の化学兵器成分、砒素を含んだ分解成分の他に、洗浄剤中の多量の塩素成分等が溶存しており、廃水をそのまま系外に排出することはできない。また、廃水には土砂をベースとした多量のＳＳ成分が含まれているために、通常の膜分離では閉塞を生ずるおそれがある。そこで、上記のようなＦＭモジュール装置とＤＴモジュール装置とで構成された膜分離装置が有用となるのである。
また、限外濾過膜装置としては、たとえば多数の平膜が積層されて略封筒状に構成された膜モジュールを具備するようなものが用いられる。さらに逆浸透膜装置としては、所定間隔を隔てて多数の平膜が配設されてなるとともに該平膜にスペーサーが取り付けられて構成されたようなものが用いられる。
【００１３】
また膜分離装置に供給する前に、洗浄廃水中の除染剤を中和処理し、洗浄廃水のｐＨ調整を行い、及び洗浄廃水に凝集剤を添加するための反応槽洗浄廃水をチオ硫酸ナトリウムによって中和処理する反応槽を、膜分離装置の前段側に設けることも可能である。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態について、図面に従って説明する。
【００１５】
先ず、一実施形態としての、化学兵器洗浄廃水の処理装置について説明する。
【００１６】
本実施形態の化学兵器洗浄廃水の処理装置は、図１に示すように、前処理を行うための前処理設備１と、限外濾過膜装置を具備したＦＭモジュール装置２と、逆浸透膜装置及びＮＦ膜装置を具備したＤＴモジュール装置３と、蒸発乾燥装置４と、凝縮装置５とからなる。
【００１７】
前処理設備１は、さらに、図２に示すように、沈砂池６と、バースクリーン７と、原水中継槽８及び原水中継ポンプ９と、２台の原水槽１０，１０　及び原水ポンプ１１と、オートストレーナ１２と、反応槽１３と、ＦＭ原水槽１４及びＦＭ加圧ポンプ１５を備えている。
【００１８】
沈砂池６は、土砂、金属類、炸薬粒子などを除去するためのものであり、バースクリーン７は、大きい塵芥を除去するためのものである。さらに、反応槽１３は、チオ硫酸ナトリウムによる除染剤の中和反応、水酸化ナトリウムと硫酸によるｐＨの調整、及びポリ塩化アルミニウムによる凝集反応を行わせるための槽である。
【００１９】
ＦＭモジュール装置２は、図３に示すように２つの限外濾過膜装置１６，１６を並列に配置した構成からなる。限外濾過膜装置１６は、前記前処理設備１で前処理された処理液を、さらに固形スラッジ分（ＳＳ成分）と透過水とに分離するための装置であり、本実施形態の限外濾過膜装置１６には、平膜モジュールを有する限外濾過膜が用いられている。
【００２０】
より具体的には、図４及び図５に示すように、ＡＢＳ樹脂製の支持板の両面にポリエチレン製の処理水スペーサーと平膜とが１枚ずつ重ね合わされ外周部がシールされて形成された封筒状平膜１７が、多層に積層されて構成されている。そして、このように封筒状平膜１７が多層に積層されたものが、図４に示すように１対の半割体１８，１８　からなる内側ケーシング１９内に収容され、さらに図５に示すように、圧力容器２０内に収容されている。
【００２１】
圧力容器２０の一端側には、前記前処理設備１で前処理された処理液の入口部２１が形成され、圧力容器２０の他端側には、濃縮水出口部２２が形成されている。
【００２２】
前記内側ケーシング１９の内部であって、多層積層された封筒状平膜１７の側方には、透過水排出路２３が形成されている。そして、前記積層された封筒状平膜１７には貫通孔２４が穿設され、該貫通孔２４が前記透過水排出路２３に連通状態とされている。２６は、入口部２１側の近辺に設けられた整流板を示す。
【００２３】
ＤＴモジュール装置３は、２つの逆浸透膜装置２７，２７を直列に配置するとともに、１つのＮＦ膜装置２８を前記一方の逆浸透膜装置２７に並列に接続した構成からなるものである。
【００２４】
この、逆浸透膜装置２７は、ディスクタイプの平膜がディンプルの付いたスペーサーと交互に積層された構造からなるものである。すなわち、この逆浸透膜装置は、図７に示すように、円筒状の装置本体２９内に、円板状の平膜３０が同じく円板状のスペーサ３１の間に設けられた逆浸透膜部３２が複数組積層されて構成されている。
【００２５】
該逆浸透膜装置２７の装置本体２９の内周面には原水を導入する原水流路３３が設けられ、該原水流路３３から逆浸透膜の表面に原水が導入される。また、該逆浸透膜部３２の上部にはエンドプレート３４が設けられ、浸透圧以上の圧力に耐えられるようになっている。
【００２６】
３５は逆浸透膜部３２の中央部に貫通された透過水パイプで、該透過水パイプ３５は逆浸透膜によって分離された処理水を排出させる。また、３６は濃縮水パイプで、各逆浸透膜によって濃縮された濃縮水を装置本体２９外へ排出させる。
【００２７】
蒸発乾燥装置４は、前記ＤＴモジュール装置３によって分離された濃縮水を減圧して蒸発乾燥させるためのものである。また、凝縮装置５は、前記蒸発乾燥装置４で蒸発した水分を凝縮させるためのものである。
【００２８】
蒸発乾燥装置４は、図８に示すように真空ポンプ３７によって減圧蒸留されて蒸発乾燥させるものであり、また凝縮装置５は、冷却塔３８によって冷却される。３９は、蒸発した水分の汚染物質を吸着するための活性炭フィルターである。
【００２９】
次に、上記のような洗浄廃水の処理装置を用いて、洗浄廃水を処理する方法の実施形態について説明する。
【００３０】
先ず、原水である洗浄廃水の前処理を行う。洗浄廃水には、マスタードスルホン、ＶＣＡＯＡ（２−クロロビニルアルソニック酸）、ＢＤＰＡＯ（ディスジフェニルアルシネオキサイド）、ピクリン酸（炸薬の成分である）、塩化第二鉄等が含有されており、洗浄時の除染剤として用いられたさらし粉、次亜塩素酸ソーダ、ジクロロイソシアヌル酸ナトリウムも含有されている。さらに、土砂、金属粒子、炸薬粒子等が含有されている。
【００３１】
前処理工程として、先ず沈砂槽６で土砂、金属類、炸薬粒子を除去した後、バースクリーン７で大きい塵芥を除去する。
【００３２】
次に、大きい塵芥や土砂、金属類、炸薬粒子等が除去された洗浄廃水を、
原水中継槽８及び原水中継ポンプ９を介して原水槽１０，１０　へ供給し、原水ポンプ１１からオートストレーナ１２を経て反応槽１３へ供給する。
【００３３】
原水槽１０，１０　では洗浄廃水が一旦貯留され、オートストレーナ１２では前記バースクリーン７で除去されなかった塵芥が除去されることとなる。
【００３４】
反応槽へは、チオ硫酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、硫酸、及びポリ塩化アルミニウムが添加される。
【００３５】
チオ硫酸ナトリウムは、除染剤として用いられていたジクロロイソシアヌル酸ナトリウムを中和するためのものであり、除染剤中の塩素によって膜を損傷しないようにしている。
【００３６】
また、水酸化ナトリウムと硫酸は、反応槽内の洗浄廃水のｐＨを調整するためのものである。さらにポリ塩化アルミニウムは凝集剤であり、これを添加するとによって不純物が凝集することとなる。
【００３７】
このような中和や凝集を終えた洗浄廃水は、ＦＭモジュール装置２へ供給する。供給された洗浄廃水は、ＦＭモジュール装置２の限外濾過膜装置１６で濾過水（透過水）と濃縮水に分離され、透過水は次工程のＤＴモジュール装置３へ供給され、濃縮水は蒸発乾燥装置４へ供給される。
より具体的に説明すると、ＦＭモジュール装置２へ供給された洗浄廃水は、入口部２１から限外濾過膜装置１６の内部に流入し、濾過水（透過水）は、透過水排出路２３から外部に排出され、逆浸透膜装置２７に供給され、固形分（ＳＳ分）を含んだ濃縮水は、濃縮水出口部２２から排出されて蒸発乾燥装置へ供給されるのである。
この限外濾過膜装置１６として、本実施形態では上記のような構造のものを用いたため、流路面積が大きいので閉塞しにくく、逆洗浄も可能であり、図９に示すように膜表面の堆積物を容易に除去することができる。また限外濾過膜装置のそれぞれのモジュールはカセットごとに分解でき、膜が破損した場合でも容易に交換することができる。
また、洗浄廃水に含有されていた固形分（ＳＳ分）は、上述のように濃縮水側に移行されるので、透過水からは好適に除去されることとなる。
上記ＦＭモジュール装置２では、限外濾過膜に対して供給される水を全量濾過する、いわゆるデッドエンド方式が採用されている。
【００３８】
次に、上記のようにＦＭモジュール装置２で浮遊固形物（ＳＳ分）が除去された透過水は、ＤＴモジュール装置３へ供給されるが、そのＤＴモジュール装置３に供給された透過水には、各種の塩類や砒素イオン等が含有されている可能性がある。
【００３９】
しかし、残存している各種の塩類や砒素イオン等は、ＤＴモジュール装置３のそれぞれの逆浸透膜装置２７やＮＦ膜装置２８で除去される。
【００４０】
この逆浸透膜装置２７における逆浸透膜（平膜）は、浸透圧以上の圧力をかけると分子レベルで濾過できる半透膜で、上記各種の塩類や砒素イオン等は、この逆浸透膜装置２７で好適に除去される。
【００４１】
上述のように、逆浸透膜装置２７は、円板状の逆浸透膜が積層された構造で、該逆浸透膜の表面とスペーサの間を原水が流れる時に圧力をかけると逆浸透膜は水のみを透過して膜の内側に脱塩された処理水が溜まり、該処理水は装置本体の中央部に縦設された処理水パイプを経て逆浸透膜装置から処理水（脱塩水）として排出される。
【００４２】
各種の塩類や砒素イオン等が除去された脱塩水は、系外に放流されることなく、前記前処理工程の前段側に返送されて、洗浄水として再利用される。
【００４３】
一方、洗浄廃水は逆浸透膜３０とスペーサー３１の間を通り濃縮水パイプ３６を経て、逆浸透膜装置２７から濃縮水として排出される。
【００４４】
ＤＴモジュール装置３においては、２つの逆浸透膜装置２７と１つのＮＦ膜装置２８が上述のように配設されているので、好適に濃縮水と脱塩水に分離される。
【００４５】
排出された濃縮水は、蒸発乾燥装置へ供給される。
【００４６】
このようにＤＴモジュール装置３からの濃縮水及び前記ＦＭモジュール装置２からの濃縮水は、蒸発乾燥装置４で蒸発され、所定の水分濃度にまで乾燥されることとなる。蒸発乾燥装置４は、６０ｔｏｒｒの減圧下で、蒸気のジャケット加温によって装置内が５５〜６５℃となるように運転され、８〜１０時間で乾燥が完了する。
【００４７】
蒸発した水分は、凝縮装置５によって凝縮され、ＦＭモジュール装置２の前段側に返送されて洗浄水として再利用される。
【００４８】
また、蒸発乾固された固形物は、たとえば窒素等の不活性ガス雰囲気で３５０　℃〜６００　℃の温度で還元加熱処理される。或いは、汚染物質を含む別の固形物とともに別途処理される。
【００４９】
尚、洗浄廃水に含有されているピクリン酸は、乾燥させると爆発するおそれがあるので、安全のために上記ＤＴモジュール装置３やＦＭモジュール装置２からの膜分離濃縮水を完全に乾燥させずに湿潤状態にすることも考えられる。
【００５０】
ただし、洗浄時において、ピクリン酸はジクロロイソシアヌル酸ナトリウムにより中和されてクロロピクリンになり、さらに炭酸ナトリウムや亜硫酸ナトリウムを添加すると、クロロピクリンも分解され、ベンゼンスルフォン酸誘導体となり、無害化されることとなる。従って爆発等も防止されることとなるので、上記のように膜分離濃縮水を乾燥させず湿潤状態にする必要は必ずしもない。
【００５１】
以上のように、本実施形態においては、洗浄廃水中の塵芥、土砂、金属類、炸薬粒子等の夾雑物が前処理工程で除去され、また懸濁物質（ＳＳ分等）がＦＭモジュール装置２で除去され、さらに塩類や砒素イオン等がＤＴモジュール装置３によって除去されるので、洗浄廃水の処理を好適に行うことが可能になる。
【００５２】
また、ＤＴモジュール装置３によって分離された透過水や凝縮装置５で蒸発した凝縮水が、系外に排出されることなく再利用されるので、化学兵器が遺棄されている場所が山中等、水の供給がされ難いような場所であっても支障を生ずるようなことがないのである。
【００５３】
尚、上記実施形態では、逆浸透膜装置３として円板状の多数の平膜を配設した逆浸透膜装置を使用したため、膜のファウリング等を好適に防止することができ、また前処理も省力できるという好ましい効果が得られたが、逆浸透膜装置３の種類は該実施形態に限定されるものではない。
【００５４】
また、該実施形態では、限外濾過膜装置１６として平膜を多数積層した構造のものを用いたため、上記のような好ましい効果が得られたが、限外濾過装置の種類も該実施形態に限定されない。
【００５５】
尚、ＤＴモジュール装置３として上記実施形態では２つの逆浸透膜装置２７，２７を直列に配置するとともに、１つのＮＦ膜装置２８を前記一方の逆浸透膜装置２７に並列に接続した構成からなるものを用いたが、ＤＴモジュール装置３の構成は該実施形態に限定されるものではなく、たとえば逆浸透膜装置とＮＦ膜装置とを１つずつ備えたものであってもよく、また２つのの逆浸透膜装置を直列に配置した構成のものであってもよく、さらに１つの逆浸透膜装置のみからなるものであってもよい。
【００５６】
また、ＦＭモジュール装置２として、上記実施形態では２つの限外濾過膜装置を並列に配設したものを用いたが、これに限らずたとえば１つの限外濾過膜装置のみを具備したものを用いることも可能である。
【００５７】
さらに、上記実施形態では、洗浄廃水として、マスタードスルホン、ＶＣＡＯＡ（２−クロロビニルアルソニック酸）、ＢＤＰＡＯ（ディスジフェニルアルシネオキサイド）、ピクリン酸（炸薬の成分である）、塩化第二鉄、ジクロロイソシアヌル酸ナトリウム等を含有したものを用いたが、洗浄廃水の含有成分は該実施形態に限定されるものではなく、たとえばルイサイト、ホスゲン、シアン化水素、ジフェニルシアノアルシン、ジフェニルクロロアルシン、クロロアセトフェノン、トリクロロアルシン等を含有する洗浄廃水に適用することも可能である。
【００５８】
さらに、上記実施形態では、ＦＭモジュール装置２やＤＴモジュール装置３等の膜分離装置で膜分離を行った後に蒸発乾燥を行ったが、これに限らず、たとえば図１０に示すように、蒸発乾燥装置４及び凝縮装置５を前段側に配置し、逆浸透膜装置２７を後段側に配置して、蒸発乾燥及び凝縮を行った後に膜分離することも可能である。
【００５９】
この場合は、膜分離後の濃縮水は蒸発乾燥装置４の前段側に返送され、膜分離後の透過水は反応槽１３の前段側に返送されることとなる。
【００６０】
【発明の効果】
以上のように、本発明は、化学兵器を洗浄した洗浄廃水を、膜分離装置で濃縮水と透過水とに分離して、前記洗浄廃水から毒性有機化合物及び重金属類を除去するものであるため、従来において処理が難航していた化学兵器の洗浄廃水を、好適に無害化することが可能となった。
【００６１】
また、化学兵器を洗浄した洗浄廃水を、膜分離装置で濃縮水と透過水とに分離し、濃縮水は蒸発乾燥して毒性有機化合物及び重金属類を除去し、透過水は前記化学兵器の洗浄水として再利用する場合には、毒性有機化合物や重金属類が固形物として容易に処理できるとともに、透過水を洗浄水として再利用しうるので、化学兵器が遺棄されている場所が山中等、水の供給がされ難いような場所であっても、洗浄作業に支障を生ずることがないという効果がある。
【００６２】
さらに、濃縮水の蒸発後に凝縮を行うとともに、蒸発後の凝縮水を膜分離装置の前段側に返送する場合には、この凝縮水も洗浄水として再利用できるので、洗浄作業がより好適に行えるという効果がある。
【００６３】
また、膜分離装置として、所定間隔を隔てて多数の平膜が配設されてなるとともに該平膜にスペーサーが取り付けられて構成された逆浸透膜装置を用いた場合には、膜モジュールに閉塞が生じにくく、沈殿槽や砂濾過等の前処理を省略できるという効果がある。
【００６４】
さらに、多数の平膜が積層されて略封筒状に構成された膜モジュールを具備する限外濾過膜装置を、逆浸透膜装置の前段側に設けた場合には、固液分離装置で分離された液に多く含まれているＳＳ分を好適に除去することができるという効果がある。
【００６５】
さらに、膜分離装置に供給する前に、洗浄廃水をチオ硫酸ナトリウム等によって中和処理する場合には、洗浄剤（除染剤）であるジクロロイソシアヌル酸ナトリウムを好適に分解することができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】一実施形態としての洗浄廃水の処理装置全体のフローを示す概略ブロック図。
【図２】前処理工程の部分の概略ブロック図。
【図３】ＦＭモジュール装置の概略配置図。
【図４】限外濾過膜装置の分解斜視図。
【図５】同限外濾過膜装置の断面図。
【図６】ＤＴモジュール装置の概略配置図。
【図７】浄化装置中の逆浸透膜装置の半裁断面図。
【図８】蒸発乾燥及び凝縮装置の概略ブロック図。
【図９】限外濾過膜装置の作用を示す概略説明図。
【図１０】他実施形態の概略ブロック図。
【符号の説明】
１…前処理設備　　　　　２…ＦＭモジュール装置
３…ＤＴモジュール装置　４…蒸発乾燥装置
５…凝縮装置

Claims

遺棄化学兵器を洗浄した洗浄廃水を、膜分離装置で濃縮水と透過水とに分離して、前記洗浄廃水中の汚染物質を除去することを特徴とする遺棄化学兵器洗浄廃水の処理方法。
遺棄化学兵器を洗浄した洗浄廃水を、膜分離装置で濃縮水と透過水とに分離し、濃縮水は蒸発乾燥して汚染物質とともに減容化し、透過水は前記遺棄化学兵器の洗浄水として再利用することを特徴とする遺棄化学兵器洗浄廃水の処理方法。
濃縮水を蒸発乾燥して得られた水を凝縮し、その凝縮水を膜分離装置の前段側に返送する請求項１又は２記載の遺棄化学兵器洗浄廃水の処理方法。
膜分離装置が、限外濾過膜装置（１６）を具備するＦＭモジュール装置（２）　と、逆浸透膜装置（２７）を具備するＤＴモジュール装置（３）　とで構成されている請求項１乃至３のいずれかに記載の遺棄化学兵器洗浄廃水の処理方法。
膜分離装置に供給する前に、洗浄廃水中の除染剤を中和処理する請求項１乃至４のいずれかに記載の遺棄化学兵器洗浄廃水の処理方法。
膜分離装置に供給する前に、洗浄廃水のｐＨ調整を行う請求項１乃至５のいずれかに記載の遺棄化学兵器洗浄廃水の処理方法。
膜分離装置に供給する前に、洗浄廃水に凝集剤を添加する請求項１乃至６のいずれかに記載の遺棄化学兵器洗浄廃水の処理方法。
遺棄化学兵器を洗浄した洗浄廃水を、濃縮水と透過水とに分離して、前記洗浄廃水から汚染物質を除去する膜分離装置を具備することを特徴とする遺棄化学兵器洗浄廃水の処理装置。
濃縮水を蒸発乾燥する蒸発乾燥装置（４）　が、膜分離装置の後段側に設けられている請求項８記載の遺棄化学兵器洗浄廃水の処理装置。
膜分離装置が、限外濾過膜装置（１６）を具備するＦＭモジュール装置（２）　と、逆浸透膜装置（２７）を具備するＤＴモジュール装置（３）　とで構成されている請求項８又は９記載の遺棄化学兵器洗浄廃水の処理装置。
限外濾過膜装置（１６）が、多数の平膜が積層されて略封筒状に構成された膜モジュールを具備するものである請求項８乃至１０のいずれかに記載の遺棄化学兵器洗浄廃水の処理装置。
逆浸透膜装置（２７）が、所定間隔を隔てて多数の平膜（３０）が配設されてなるとともに該平膜（３０）にスペーサー（３１）が取り付けられて構成されたものである請求項８乃至１１のいずれかに記載の遺棄化学兵器洗浄廃水の処理装置。
洗浄廃水中の除染剤を中和処理し、洗浄廃水のｐＨ調整を行い、及び洗浄廃水に凝集剤を添加するための反応槽（１３）が、膜分離装置の前段側に設けられている請求項８乃至１２のいずれかに記載の遺棄化学兵器洗浄廃水の処理装置。