JP2004111029A - Semiconductor integrated circuit and memory testing method - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor integrated circuit capable of testing a high-speed memory at a real operation speed even when the operational speed of a BIST circuit is restricted. <P>SOLUTION: In order to test a memory 105 operated by a first clock CK1, this circuit is provided with a first test pattern generation section 101 operated by a second clock CK2 to generate test data, and a second test pattern generation section 102 operated by a third clock CK3 which is the inverted clock of the second clock CK2 to generate test data. Further, a test data selection section 104 is disposed to selectively output one of test data output from the first and second test pattern generation sections 101 and 102 based on the signal value of the second clock CK2, and input it as test data to a memory 105. The frequency of the second clock CK2 is 1/2 of that of the first clock. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

 本発明は、組み込み自己テストによりメモリのテストを行うことができる半導体集積回路、特に高速動作を行うメモリのテストを行うことができる半導体集積回路、およびメモリのテスト方法に関するものである。 The present invention relates to a semiconductor integrated circuit capable of testing a memory by a built-in self test, and more particularly to a semiconductor integrated circuit capable of testing a memory that operates at high speed and a method of testing the memory.

 近年、LSI技術の進歩に伴って、半導体集積回路に搭載されるメモリの動作が高速化してきている。これらのメモリをテストするために、一般的に組み込み自己テスト(いわゆる、BIST)が用いられている。 In recent years, with the progress of LSI technology, the speed of operation of memories mounted on semiconductor integrated circuits has been increasing. To test these memories, a built-in self test (so-called BIST) is generally used.

 図21は、BISTを行うための回路ブロックを示している。図21において、符号401はBIST回路を示し、符号402はBISTの対象となるメモリを示す。メモリ402には第1のクロック(Memory Clock)が入力され、BIST回路401には第2のクロック(BIST Clock)が入力される。メモリ402には、クロックの立ち上がりおよび立ち下がりの何れか一方のエッジに同期して動作する通常のデータレートのメモリと、クロックの立ち上がりおよび立ち下がりの両方のエッジに各々同期して動作するダブルデータレートメモリとがある。 FIG. 21 shows a circuit block for performing BIST. In FIG. 21, reference numeral 401 denotes a BIST circuit, and reference numeral 402 denotes a memory to be subjected to the BIST. The memory 402 receives a first clock (Memory @ Clock), and the BIST circuit 401 receives a second clock (BIST @ Clock). The memory 402 has a normal data rate memory operating in synchronization with either one of the rising and falling edges of the clock, and a double data memory operating in synchronization with both the rising and falling edges of the clock. There is a rate memory.

 BIST回路401からメモリ402へは、アドレスおよびデータ入力と、ライトイネーブル信号等のコントロール信号とが入力される。また、メモリ402の出力(Data−Out)がBIST回路401および通常のロジック回路へ入力される。そして、BIST回路401の内部の期待値比較回路で、メモリ402から入力されたデータと期待値とを比較することによりパス/フェイルの判定が行われる。 (4) Address and data inputs and control signals such as a write enable signal are input from the BIST circuit 401 to the memory 402. Further, an output (Data-Out) of the memory 402 is input to the BIST circuit 401 and a normal logic circuit. Then, an expected value comparison circuit in the BIST circuit 401 compares the data input from the memory 402 with the expected value, thereby making a pass / fail determination.

 ここで、メモリ402がダブルデータレート(DDR;Double Data Rate)メモリである場合において、メモリ402に対してBISTを適用する場合のクロックタイミングを図22に示す。図22には、第1のクロック(Memory Clock)、第2のクロック(BIST Clock)およびメモリ402のデータ出力Data−Outが示されている。 Here, FIG. 22 shows a clock timing when the BIST is applied to the memory 402 when the memory 402 is a double data rate (DDR; Double @ Data @ Rate) memory. FIG. 22 shows the first clock (Memory @ Clock), the second clock (BIST @ Clock), and the data output Data-Out of the memory 402.

 DDRメモリであるメモリ402は、第1のクロック(Memory Clock)の立ち上がりと立ち下がりの両方のエッジに同期して動作ができる。そのため、例えば読み出し(Read)動作を行う場合には、図22の時刻t1における第1のクロック(Memory Clock)の立ち上がりエッジでデータが出力され、時刻t2における第1のクロック(Memory Clock)の立ち下がりエッジで、次のデータが出力される。 The memory 402, which is a DDR memory, can operate in synchronization with both rising and falling edges of the first clock (Memory @ Clock). Therefore, for example, when a read operation is performed, data is output at the rising edge of the first clock (Memory @ Clock) at time t1 in FIG. 22, and the rising of the first clock (Memory @ Clock) at time t2. At the falling edge, the next data is output.

 このようなメモリ402をテストするBIST回路401では、第2のクロック(BIST Clock)の立ち上がりエッジが時刻t1,t2,…,tnになるようにすることで、DDRメモリを実動作速度でテストすることができる。 In the BIST circuit 401 for testing the memory 402, the DDR memory is tested at the actual operation speed by setting the rising edge of the second clock (BIST @ Clock) to times t1, t2,..., Tn. be able to.

 このように、高速なメモリ402をテストするBIST回路401では、メモリ402の動作速度に応じてBIST回路401自身の動作速度を速くする必要がある。
http://www.jpo.go.jp/shiryou/s_sonota/hyoujun_gijutsu/lsi_test/lsi-test-5-1.htm
As described above, in the BIST circuit 401 for testing the high-speed memory 402, it is necessary to increase the operation speed of the BIST circuit 401 according to the operation speed of the memory 402.
http://www.jpo.go.jp/shiryou/s_sonota/hyoujun_gijutsu/lsi_test/lsi-test-5-1.htm

 上記のDDRメモリのようにクロック周波数の倍速で動作するような場合や、非常に高速で動作するメモリを実動作速度でテストする場合には、BIST回路自身を高速に動作させる必要がある。しかしながら、動作周波数が非常に高速なため、BIST回路の実現が困難であるという問題があった。 {Circle around (2)} When the memory operates at a double speed of the clock frequency like the DDR memory described above, or when a memory operating at a very high speed is tested at the actual operation speed, the BIST circuit itself needs to operate at a high speed. However, there is a problem that it is difficult to realize a BIST circuit because the operating frequency is very high.

 また、高速動作のためには、駆動能力の高いセルが必要となり、BIST回路面積が増大するという問題があり、さらに高速動作のためには、クロック周波数が高くなるために消費電力が増大するというという問題があった。 In addition, for high-speed operation, a cell having a high driving capability is required, and there is a problem that the BIST circuit area increases. In addition, for high-speed operation, power consumption increases because the clock frequency increases. There was a problem.

 本発明は以上の問題点を解決するためになされたものであり、その目的は、BIST回路の動作速度を抑えても実動作速度で高速メモリのテストを実施できる半導体集積回路を提供することである。 The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit capable of performing a high-speed memory test at an actual operation speed even if the operation speed of the BIST circuit is suppressed. is there.

 また、本発明の他の目的は、BIST回路の動作速度を抑えても実動作速度で高速メモリのテストを実施できるメモリのテスト方法を提供することである。 Another object of the present invention is to provide a memory test method capable of performing a high-speed memory test at an actual operation speed even if the operation speed of the BIST circuit is suppressed.

 上記課題を解決するために、第1の発明の半導体集積回路は、第1のクロックで動作するメモリと、第1のクロックの1/2の周波数の第2のクロックで動作し、第1のテストデータを生成する第1のテストパターン生成部と、第2のクロックの反転クロックである第3のクロックで動作し、第2のテストデータを生成する第2のテストパターン生成部と、第1のテストパターン生成部および第2のテストパターン生成部からそれぞれ出力される第1および第2のテストデータのいずれか一方を、第2のクロックの信号値および第3のクロックの信号値のいずれか一方に応じて選択的に出力し、メモリへ第3のテストデータとして入力するテストデータ選択部とを備えている。 In order to solve the above problems, a semiconductor integrated circuit according to a first aspect of the present invention has a memory that operates with a first clock and a second clock that operates with a second clock having half the frequency of the first clock. A first test pattern generator that generates test data, a second test pattern generator that operates on a third clock that is an inverted clock of the second clock, and generates second test data; One of the first and second test data output from the test pattern generation unit and the second test pattern generation unit, respectively, using either the signal value of the second clock or the signal value of the third clock. And a test data selection section for selectively outputting the test data in accordance with one of them and inputting it as third test data to the memory.

 この構成によれば、メモリに与えられる第1のクロックの1/2の周波数の第2のクロックに応じて第1のテストパターン生成部で第1のテストデータを生成する。さらに、第2のクロックを反転した第3のクロックに応じて第2のテストパターン生成部で第2のテストデータを生成する。そして、第1および第2のテストデータのいずれか一方をテストデータ選択部によって第2のクロックの信号値および第3のクロックの信号値のいずれか一方に応じて選択して、メモリへ第3のテストデータとして入力する。これにより、第1および第2のテストパターン生成部およびテストデータ選択部の動作速度をメモリの動作速度の1/2に抑えた状態でも、メモリのテストを実動作速度で行うことができる。第1および第2のテストパターン生成部およびテストデータ選択部の動作速度は遅くてもよいので、駆動能力は小さくてよく、したがって回路面積が少なくてすみ、消費電力を少なく抑えることができる。 According to this configuration, the first test pattern generation unit generates the first test data in accordance with the second clock having a half frequency of the first clock supplied to the memory. Further, the second test pattern generator generates second test data according to the third clock obtained by inverting the second clock. Then, one of the first and second test data is selected by the test data selector in accordance with one of the signal value of the second clock and the signal value of the third clock, and the third data is stored in the memory. As test data. Thus, the memory test can be performed at the actual operation speed even when the operation speed of the first and second test pattern generation units and the test data selection unit is suppressed to の of the operation speed of the memory. Since the operation speeds of the first and second test pattern generation units and the test data selection unit may be low, the driving capability may be small, and therefore the circuit area may be small, and the power consumption may be reduced.

 第2の発明の半導体集積回路は、第1のクロックで動作するメモリと、第1のクロックの1/2の周波数の第2のクロックで動作し、第1のテストデータを生成する第1のテストパターン生成部と、第2のクロックで動作し、第2のテストデータを生成する第2のテストパターン生成部と、第1のテストパターン生成部および第2のテストパターン生成部からそれぞれ出力される第1および第2のテストデータのいずれか一方を、第2のクロックの信号値に応じて選択的に出力し、メモリへ第3のテストデータとして入力するテストデータ選択部とを備えている。 According to a second aspect of the present invention, there is provided a semiconductor integrated circuit which operates with a first clock and a second clock which operates with a second clock having a half frequency of the first clock and generates first test data. A test pattern generator, a second test pattern generator that operates with a second clock and generates second test data, and a first test pattern generator and a second test pattern generator that are output from the first and second test pattern generators, respectively. And a test data selector for selectively outputting one of the first and second test data according to the signal value of the second clock, and inputting it as third test data to the memory. .

 この構成によれば、メモリに与えられる第1のクロックの1/2の周波数の第2のクロックに応じて第1のテストパターン生成部で第1のテストデータを生成する。さらに、第2のクロックに応じて第2のテストパターン生成部で第2のテストデータを生成する。そして、第1および第2のテストデータのいずれか一方をテストデータ選択部によって第2のクロックの信号値に応じて選択して、メモリへ第3のテストデータとして入力する。これにより、第1の発明と同様の作用効果を奏する。 According to this configuration, the first test pattern generation unit generates the first test data in accordance with the second clock having a half frequency of the first clock supplied to the memory. Further, the second test data is generated by the second test pattern generator in accordance with the second clock. Then, one of the first and second test data is selected by the test data selection unit according to the signal value of the second clock, and is input to the memory as the third test data. Thereby, the same operation and effect as those of the first invention are exerted.

 第3の発明の半導体集積回路は、第1のクロックで動作するメモリと、第1のクロックの1/2の周波数の第2のクロックで動作し、第1のテストデータを生成するテストパターン生成部と、テストパターン生成部で生成される第1のテストデータに最下位ビットとして数値0を付加して第2のテストデータを生成するLSB0処理部と、テストパターン生成部で生成される第1のテストデータに最下位ビットとして数値1を付加して第3のテストデータを生成するLSB1処理部と、LSB0処理部およびLSB1処理部からそれぞれ出力される第2および第3のテストデータのいずれか一方を第2のクロックの信号値に応じて選択的に出力し、メモリへ第4のテストデータとして入力するテストデータ選択部とを備えている。 A semiconductor integrated circuit according to a third aspect of the present invention includes a memory that operates with a first clock and a test pattern generation that operates with a second clock having half the frequency of the first clock to generate first test data. Unit, an LSB0 processing unit that adds a numerical value 0 as the least significant bit to the first test data generated by the test pattern generation unit to generate second test data, and a first LSB0 processing unit that is generated by the test pattern generation unit. LSB1 processing unit that generates a third test data by adding a numerical value 1 as the least significant bit to the test data, and one of the second and third test data output from the LSB0 processing unit and the LSB1 processing unit, respectively. A test data selecting unit for selectively outputting one of the two in accordance with the signal value of the second clock and inputting the selected test data to the memory as fourth test data.

 この構成によれば、メモリに与えられる第1のクロックの1/2の周波数の第2のクロックに応じてテストパターン生成部で第1のテストデータを生成する。さらに、LSB0処理部によって第1のテストデータに最下位ビットとして数値0を付加して第2のテストデータを生成し、LSB1処理部によって第1のテストデータに最下位ビットとして数値1を付加して第3のテストデータを生成する。そして、テストデータ選択部によって第2および第3のテストデータのいずれか一方を第2のクロックの信号値に応じて選択的に出力する。これにより、テストパターン生成部、LSB0処理部、LSB1処理部およびテストデータ選択部の動作速度をメモリの動作速度の1/2に抑えた状態でも、メモリのテストを実動作速度で行うことができる。テストパターン生成部、LSB0処理部、LSB1処理部およびテストデータ選択部の動作速度は遅くてもよいので、駆動能力は小さくてよく、したがって回路面積が少なくてすみ、消費電力を少なく抑えることができる。 According to this configuration, the first test data is generated by the test pattern generator in accordance with the second clock having a half frequency of the first clock applied to the memory. Further, the LSB0 processing unit adds a numerical value 0 as the least significant bit to the first test data to generate second test data, and the LSB1 processing unit adds a numerical value 1 as the least significant bit to the first test data. To generate third test data. Then, one of the second and third test data is selectively output by the test data selector in accordance with the signal value of the second clock. Thus, even when the operation speeds of the test pattern generation unit, the LSB0 processing unit, the LSB1 processing unit, and the test data selection unit are suppressed to half the operation speed of the memory, the memory test can be performed at the actual operation speed. . Since the operation speeds of the test pattern generation unit, the LSB0 processing unit, the LSB1 processing unit and the test data selection unit may be low, the driving capability may be small, and therefore the circuit area may be small and the power consumption may be reduced. .

 上記第3の発明の構成において、第2のクロックを遅延し、遅延クロックとしてテストデータ選択部に与える遅延回路を設けてもよい。 In the configuration of the third aspect, a delay circuit that delays the second clock and provides the delayed clock to the test data selection unit may be provided.

 この構成によれば、第2のクロックを遅延させているので、第1のクロックに対してホールド時間を確保でき、高速に動作するメモリに対して安定したテストパターンを印加することができる。 According to this configuration, since the second clock is delayed, a hold time can be secured for the first clock, and a stable test pattern can be applied to a memory that operates at high speed.

 第4の発明の半導体集積回路は、第1のクロックで動作するメモリと、第1のクロックの1/2の周波数の第2のクロックで動作し、第1のテストデータを生成するテストパターン生成部と、テストパターン生成部で生成される第1のテストデータに最下位ビットとして数値0を付加して第2のテストデータを生成するLSB0処理部と、テストパターン生成部で生成される第1のテストデータに最下位ビットとして数値1を付加して第3のテストデータを生成するLSB1処理部と、第2のクロックと第2のクロックの反転クロックとのいずれか一方を選択できるクロック選択部と、LSB0処理部およびLSB1処理部からそれぞれ出力される第2および第3のテストデータのいずれか一方をクロック選択部の出力に応じて選択的に出力し、メモリへ第4のテストデータとして入力するテストデータ選択部とを備えている。 A semiconductor integrated circuit according to a fourth aspect of the present invention is a memory that operates with a first clock and a test pattern generation that operates with a second clock having half the frequency of the first clock to generate first test data. Unit, an LSB0 processing unit that adds a numerical value 0 as the least significant bit to the first test data generated by the test pattern generation unit to generate second test data, and a first LSB0 processing unit that is generated by the test pattern generation unit. A LSB1 processing unit that adds a numerical value 1 as the least significant bit to the test data to generate third test data, and a clock selection unit that can select one of a second clock and an inverted clock of the second clock And one of the second and third test data output from the LSB0 processing unit and the LSB1 processing unit, respectively, according to the output of the clock selection unit. And, and a test data selecting section for inputting a fourth test data into memory.

 この構成によれば、第2のクロックと第2のクロックの反転クロックとのいずれか一方をクロック選択部で選択し、選択されたクロックに応じてテストデータ選択部で第2および第3のテストデータのいずれか一方を選択するようにしたので、クロック選択部の選択の状態を逆にすることで、第2および第3のテストデータを各々選択するタイミングを逆にすることができる。その結果、テストパターンの質が高くなるとともに、テストパターンとしてアドレス信号を与えるときにアドレス信号のインクリメントおよびデクリメントを選択的に行うことができる。その他は第3の発明と同様である。 According to this configuration, one of the second clock and the inverted clock of the second clock is selected by the clock selection unit, and the second and third tests are performed by the test data selection unit in accordance with the selected clock. Since either one of the data is selected, the timing of selecting the second and third test data can be reversed by reversing the selection state of the clock selection unit. As a result, the quality of the test pattern is improved, and the increment and decrement of the address signal can be selectively performed when the address signal is provided as the test pattern. Others are the same as the third invention.

 第5の発明の半導体集積回路は、第1のクロックで動作するメモリと、第1のクロックに同期してメモリから出力される第1の出力データを、第1のクロックの1/2の周波数の第2のクロックによって取り込む記憶素子と、第2のクロックによって動作し、記憶素子から出力される第2の出力データと、第1の出力データの直後にメモリから出力される第3の出力データとを、それぞれ所定の期待値と比較する期待値比較部とを備えている。 According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a semiconductor integrated circuit, comprising: a memory which operates on a first clock; A second output data output from the storage element operated by the second clock, and a third output data output from the memory immediately after the first output data. And an expected value comparing unit that compares each with a predetermined expected value.

 この構成によれば、メモリに与えられる第1のクロックの1/2の周波数の第2のクロックの反転クロックによって、メモリから第1のクロックに同期して出力される第1の出力データを取り込む。そして、記憶素子から出力される第2の出力データと、第1の出力データの直後にメモリから出力される第3の出力データとを、期待値比較部において、第2のクロックによってそれぞれ所定の期待値と比較する。これにより、記憶素子および期待値比較部の動作速度をメモリの動作速度の1/2に抑えた状態でも、メモリのテストを実動作速度で行うことができる。記憶素子および期待値比較部の動作速度は遅くてもよいので、駆動能力は小さくてよく、したがって回路面積が少なくてすみ、消費電力を少なく抑えることができる。 According to this configuration, the first output data output from the memory in synchronization with the first clock is fetched by the inverted clock of the second clock having half the frequency of the first clock applied to the memory. . Then, the second output data output from the storage element and the third output data output from the memory immediately after the first output data are compared with each other in the expected value comparing section by the second clock in a predetermined manner. Compare with expected value. Thus, the memory test can be performed at the actual operation speed even when the operation speed of the storage element and the expected value comparison unit is suppressed to half of the operation speed of the memory. Since the operation speed of the storage element and the expected value comparison unit may be low, the driving capability may be small, and therefore, the circuit area may be small, and the power consumption may be reduced.

 第6の発明の半導体集積回路は、第1のクロックで動作するダブルデータレートメモリと、第1のクロックと同じ周波数の第2のクロックで動作し、第1のテストデータを生成する第1のテストパターン生成部と、第2のクロックの反転クロックである第3のクロックで動作し、第2のテストデータを生成する第2のテストパターン生成部と、第1のテストパターン生成部および第2のテストパターン生成部からそれぞれ出力される第1および第2のテストデータのいずれか一方を、第2のクロックの信号値および第3のクロックの信号値のいずれか一方に応じて選択的に出力し、ダブルデータレートメモリへ第3のテストデータとして入力するテストデータ選択部とを備えている。 A semiconductor integrated circuit according to a sixth aspect of the present invention includes a double data rate memory operating with a first clock and a first data operating with a second clock having the same frequency as the first clock to generate first test data. A test pattern generator, a second test pattern generator that operates on a third clock that is an inverted clock of the second clock, and generates second test data, a first test pattern generator, and a second test pattern generator. One of the first and second test data respectively output from the test pattern generation unit is selectively output in accordance with one of the signal value of the second clock and the signal value of the third clock. And a test data selector for inputting the third test data to the double data rate memory.

 この構成によれば、ダブルデータレートメモリに与えられる第1のクロックと同じ周波数の第2のクロックに応じて第1のテストパターン生成部で第1のテストデータを生成する。さらに、第2のクロックを反転した第3のクロックに応じて第2のテストパターン生成部で第2のテストデータを生成する。そして、第1および第2のテストデータのいずれか一方をテストデータ選択部によって第2のクロックの信号値および第3のクロックの信号値のいずれか一方に応じて選択して、ダブルデータレートメモリへ第3のテストデータとして入力する。これにより、第1および第2のテストパターン生成部およびテストデータ選択部の動作速度をダブルデータレートメモリの動作速度と同じに抑えた状態でも、ダブルデータレートメモリのテストを実動作速度で行うことができる。第1および第2のテストパターン生成部およびテストデータ選択部の動作速度は遅くてもよいので、駆動能力は小さくてよく、したがって回路面積が少なくてすみ、消費電力を少なく抑えることができる。 According to this configuration, the first test pattern generation unit generates the first test data according to the second clock having the same frequency as the first clock supplied to the double data rate memory. Further, the second test pattern generator generates second test data according to the third clock obtained by inverting the second clock. Then, one of the first and second test data is selected by the test data selector in accordance with one of the signal value of the second clock and the signal value of the third clock, and the double data rate memory is selected. Is input as the third test data. Thus, even when the operation speeds of the first and second test pattern generation units and the test data selection unit are suppressed to the same as the operation speed of the double data rate memory, the test of the double data rate memory is performed at the actual operation speed. Can be. Since the operation speeds of the first and second test pattern generation units and the test data selection unit may be low, the driving capability may be small, and therefore the circuit area may be small, and the power consumption may be reduced.

 第7の発明の半導体集積回路は、第1のクロックで動作するダブルデータレートメモリと、第1のクロックと同じ周波数の第2のクロックで動作し、第1のテストデータを生成する第1のテストパターン生成部と、第2のクロックで動作し、第2のテストデータを生成する第2のテストパターン生成部と、第1のテストパターン生成部および第2のテストパターン生成部からそれぞれ出力される第1および第2のテストデータのいずれか一方を、第2のクロックの信号値に応じて選択的に出力し、ダブルデータレートメモリへ第3のテストデータとして入力するテストデータ選択部とを備えている。 A semiconductor integrated circuit according to a seventh aspect of the present invention includes a double data rate memory that operates with a first clock and a first data that operates with a second clock having the same frequency as the first clock to generate first test data. A test pattern generator, a second test pattern generator that operates with a second clock and generates second test data, and a first test pattern generator and a second test pattern generator that are output from the first and second test pattern generators, respectively. And a test data selecting unit for selectively outputting one of the first and second test data according to the signal value of the second clock and inputting it as third test data to the double data rate memory. Have.

 この構成によれば、ダブルデータレートメモリに与えられる第1のクロックと同じ周波数の第2のクロックに応じて第1のテストパターン生成部で第1のテストデータを生成する。さらに、第2のクロックに応じて第2のテストパターン生成部で第2のテストデータを生成する。そして、第1および第2のテストデータのいずれか一方をテストデータ選択部によって第2のクロックの信号値に応じて選択して、ダブルデータレートメモリへ第3のテストデータとして入力する。これにより、第1および第2のテストパターン生成部およびテストデータ選択部の動作速度をダブルデータレートメモリの動作速度と同じに抑えた状態でも、ダブルデータレートメモリのテストを実動作速度で行うことができる。第1および第2のテストパターン生成部およびテストデータ選択部の動作速度は遅くてもよいので、駆動能力は小さくてよく、したがって回路面積が少なくてすみ、消費電力を少なく抑えることができる。 According to this configuration, the first test pattern generation unit generates the first test data according to the second clock having the same frequency as the first clock supplied to the double data rate memory. Further, the second test data is generated by the second test pattern generator in accordance with the second clock. Then, one of the first and second test data is selected by the test data selection unit according to the signal value of the second clock, and is input to the double data rate memory as the third test data. Thus, even when the operation speeds of the first and second test pattern generation units and the test data selection unit are suppressed to the same as the operation speed of the double data rate memory, the test of the double data rate memory is performed at the actual operation speed. Can be. Since the operation speeds of the first and second test pattern generation units and the test data selection unit may be low, the driving capability may be small, and therefore the circuit area may be small, and the power consumption may be reduced.

 第8の発明の半導体集積回路は、第1のクロックで動作するダブルデータレートメモリと、第1のクロックと同じ周波数の第2のクロックで動作し、第1のテストデータを生成するテストパターン生成部と、テストパターン生成部で生成される第1のテストデータに最下位ビットとして数値0を付加して第2のテストデータを生成するLSB0処理部と、テストパターン生成部で生成される第1のテストデータに最下位ビットとして数値1を付加して第3のテストデータを生成するLSB1処理部と、LSB0処理部およびLSB1処理部からそれぞれ出力される第2および第3のテストデータのいずれか一方を第2のクロックの信号値に応じて選択的に出力し、ダブルデータレートメモリへ第4のテストデータとして入力するテストデータ選択部とを備えている。 A semiconductor integrated circuit according to an eighth aspect of the present invention provides a double data rate memory that operates with a first clock and a test pattern generation that operates with a second clock having the same frequency as the first clock to generate first test data. Unit, an LSB0 processing unit that adds a numerical value 0 as the least significant bit to the first test data generated by the test pattern generation unit to generate second test data, and a first LSB0 processing unit that is generated by the test pattern generation unit. LSB1 processing unit that generates a third test data by adding a numerical value 1 as the least significant bit to the test data, and one of the second and third test data output from the LSB0 processing unit and the LSB1 processing unit, respectively. One of the test data is selectively output according to the signal value of the second clock, and is input to the double data rate memory as the fourth test data. And a selection unit.

 この構成によれば、ダブルデータレートメモリに与えられる第1のクロックと同じ周波数の第2のクロックに応じてテストパターン生成部で第1のテストデータを生成する。さらに、LSB0処理部によって第1のテストデータに最下位ビットとして数値0を付加して第2のテストデータを生成し、LSB1処理部によって第1のテストデータに最下位ビットとして数値1を付加して第3のテストデータを生成する。そして、テストデータ選択部によって第2および第3のテストデータのいずれか一方を第2のクロックの信号値に応じて選択的に出力する。これにより、テストパターン生成部、LSB0処理部、LSB1処理部およびテストデータ選択部の動作速度をダブルデータレートメモリの動作速度と同じに抑えた状態でも、ダブルデータレートメモリのテストを実動作速度で行うことができる。テストパターン生成部、LSB0処理部、LSB1処理部およびテストデータ選択部の動作速度は遅くてもよいので、駆動能力は小さくてよく、したがって回路面積が少なくてすみ、消費電力を少なく抑えることができる。 According to this configuration, the first test data is generated by the test pattern generator in accordance with the second clock having the same frequency as the first clock supplied to the double data rate memory. Further, the LSB0 processing unit adds a numerical value 0 as the least significant bit to the first test data to generate second test data, and the LSB1 processing unit adds a numerical value 1 as the least significant bit to the first test data. To generate third test data. Then, one of the second and third test data is selectively output by the test data selector in accordance with the signal value of the second clock. Thus, even when the operation speeds of the test pattern generation unit, the LSB0 processing unit, the LSB1 processing unit, and the test data selection unit are suppressed to the same as the operation speed of the double data rate memory, the test of the double data rate memory is performed at the actual operation speed. It can be carried out. Since the operation speeds of the test pattern generation unit, the LSB0 processing unit, the LSB1 processing unit and the test data selection unit may be low, the driving capability may be small, and therefore the circuit area may be small and the power consumption may be reduced. .

 第8の発明の構成においては、第2のクロックを遅延し、遅延クロックとしてテストデータ選択部に与える遅延回路を設けてもよい。 In the configuration of the eighth invention, a delay circuit that delays the second clock and provides the delayed clock to the test data selection unit may be provided.

 この構成によれば、第2のクロックを遅延させているので、第1のクロックに対してホールド時間を確保でき、高速に動作するダブルデータレートメモリに対して安定したテストパターンを印加することができる。 According to this configuration, since the second clock is delayed, a hold time can be secured for the first clock, and a stable test pattern can be applied to the double data rate memory operating at high speed. it can.

 第9の発明の半導体集積回路は、第1のクロックで動作するダブルデータレートメモリと、第1のクロックと同じ周波数の第2のクロックで動作し、第1のテストデータを生成するテストパターン生成部と、テストパターン生成部で生成される第1のテストデータに最下位ビットとして数値0を付加して第2のテストデータを生成するLSB0処理部と、テストパターン生成部で生成される第1のテストデータに最下位ビットとして数値1を付加して第3のテストデータを生成するLSB1処理部と、第2のクロックと第2のクロックの反転クロックとのいずれか一方を選択できるクロック選択部と、LSB0処理部およびLSB1処理部からそれぞれ出力される第2および第3のテストデータのいずれか一方をクロック選択部の出力に応じて選択的に出力し、ダブルデータレートメモリへ第4のテストデータとして入力するテストデータ選択部とを備えている。 A semiconductor integrated circuit according to a ninth aspect of the present invention is a double data rate memory that operates with a first clock and a test pattern generation that operates with a second clock having the same frequency as the first clock to generate first test data. Unit, an LSB0 processing unit that adds a numerical value 0 as the least significant bit to the first test data generated by the test pattern generation unit to generate second test data, and a first LSB0 processing unit that is generated by the test pattern generation unit. A LSB1 processing unit that adds a numerical value 1 as the least significant bit to the test data to generate third test data, and a clock selection unit that can select one of a second clock and an inverted clock of the second clock And one of the second and third test data output from the LSB0 processing unit and the LSB1 processing unit in response to the output of the clock selection unit. Selectively outputting Te, and a test data selecting section for inputting the double data rate memory as a fourth test data.

 この構成によれば、第2のクロックと第2のクロックの反転クロックとのいずれか一方をクロック選択部で選択し、選択されたクロックに応じてテストデータ選択部で第2および第3のテストデータのいずれか一方を選択するようにしたので、クロック選択部の選択の状態を逆にすることで、第2および第3のテストデータを各々選択するタイミングを逆にすることができる。その結果、テストパターンの質が高くなるとともに、テストパターンとしてアドレス信号を与えるときにアドレス信号のインクリメントおよびデクリメントを選択的に行うことができる。その他は第8の発明と同様である。 According to this configuration, one of the second clock and the inverted clock of the second clock is selected by the clock selection unit, and the second and third tests are performed by the test data selection unit in accordance with the selected clock. Since either one of the data is selected, the timing of selecting the second and third test data can be reversed by reversing the selection state of the clock selection unit. As a result, the quality of the test pattern is improved, and the increment and decrement of the address signal can be selectively performed when the address signal is provided as the test pattern. Others are the same as the eighth invention.

 第10の発明の半導体集積回路は、第1のクロックで動作するダブルデータレートメモリと、第1のクロックに同期してダブルデータレートメモリから出力される第1の出力データを、第1のクロックと同じ周波数の第2のクロックによって取り込む記憶素子と、第2のクロックによって動作し、記憶素子から出力される第2の出力データと、第1の出力データの直後にダブルデータレートメモリから出力される第3の出力データとを、それぞれ所定の期待値と比較する期待値比較部とを備えている。 A semiconductor integrated circuit according to a tenth aspect is a semiconductor integrated circuit, comprising: a double data rate memory operated by a first clock; and a first output data output from the double data rate memory in synchronization with the first clock. A storage element which is fetched by a second clock having the same frequency as that of the second clock, a second output data which is operated by the second clock and is output from the storage element, and which is output from the double data rate memory immediately after the first output data And an expected value comparing unit for comparing the third output data with a predetermined expected value.

 この構成によれば、ダブルデータレートメモリに与えられる第1のクロックと同じ周波数の第2のクロックの反転クロックによってダブルデータレートメモリから第1のクロックに同期して出力される第1の出力データを取り込む。そして、記憶素子から出力される第2の出力データと、第1の出力データの直後にダブルデータレートメモリから出力される第3の出力データとを、期待値比較部において、第2のクロックによってそれぞれ所定の期待値と比較する。これにより、記憶素子および期待値比較部の動作速度をダブルデータレートメモリの動作速度と同じに抑えた状態でも、ダブルデータレートメモリのテストを実動作速度で行うことができる。記憶素子および期待値比較部の動作速度は遅くてもよいので、駆動能力は小さくてよく、したがって回路面積が少なくてすみ、消費電力を少なく抑えることができる。 According to this configuration, the first output data output from the double data rate memory in synchronization with the first clock by the inverted clock of the second clock having the same frequency as the first clock applied to the double data rate memory Take in. Then, the expected value comparing section compares the second output data output from the storage element and the third output data output from the double data rate memory immediately after the first output data by the second clock. Each is compared with a predetermined expected value. Thus, the test of the double data rate memory can be performed at the actual operation speed even when the operation speed of the storage element and the expected value comparison unit is suppressed to the same as the operation speed of the double data rate memory. Since the operation speed of the storage element and the expected value comparison unit may be low, the driving capability may be small, and therefore, the circuit area may be small, and the power consumption may be reduced.

 第11の発明のメモリのテスト方法は、第1のクロックで動作するメモリのテスト方法であり、第1のクロックの1/2の周波数の第2のクロックで第1のテストデータを生成するとともに、第2のクロックの反転クロックである第3のクロックで第2のテストデータを生成し、第1および第2のテストデータのいずれか一方を、第2のクロックの信号値および第3のクロックの信号値のいずれか一方に応じて選択してメモリへ第3のテストデータとして入力する。 A memory test method according to an eleventh aspect of the present invention is a test method for a memory that operates with a first clock, in which first test data is generated with a second clock having a half frequency of the first clock. Generating second test data with a third clock which is an inverted clock of the second clock, and converting one of the first and second test data into a signal value of the second clock and a third clock. Selected according to any one of the above-mentioned signal values and input to the memory as the third test data.

 この方法によれば、第1のクロックで動作するメモリのテストを第1のクロックの1/2の周波数の第2のクロックで実行することができる。この際、第2のクロックの周波数が低くてよいことから、テストを行うための回路の駆動能力が小さくてよく、したがって回路面積が少なくてすみ、またテストを行うための電力消費を少なくできる。 According to this method, the test of the memory operated by the first clock can be executed by the second clock having a half frequency of the first clock. At this time, since the frequency of the second clock may be low, the driving capability of the circuit for performing the test may be small, and therefore, the circuit area may be small, and the power consumption for performing the test may be reduced.

 第12の発明のメモリのテスト方法は、第1のクロックで動作するメモリのテスト方法であり、第1のクロックの1/2の周波数の第2のクロックで第1のテストデータを生成し、第1のテストデータに最下位ビットとして数値0を付加して第2のテストデータを生成するとともに、第1のテストデータに最下位ビットとして数値1を付加して第3のテストデータを生成し、第2および第3のテストデータのいずれか一方を第2のクロックの信号値に応じて選択して、メモリに入力する。 A memory test method according to a twelfth aspect of the present invention is a test method for a memory that operates with a first clock, wherein first test data is generated with a second clock having a half frequency of the first clock, A second test data is generated by adding a numerical value 0 as the least significant bit to the first test data, and a third test data is generated by adding a numerical value 1 as the least significant bit to the first test data. , One of the second and third test data is selected in accordance with the signal value of the second clock and input to the memory.

 この方法によれば、第11の発明と同様の作用効果を奏する。 According to this method, the same operation and effect as those of the eleventh invention can be obtained.

 第13の発明のメモリのテスト方法は、第1のクロックで動作するメモリのテスト方法であり、第1のクロックに同期してメモリから出力される第1のデータを、第1のクロックの1/2の周波数の第2のクロックによって第2のデータとして保持し、第2のデータと、第1のデータの直後に第1のクロックに同期してメモリから出力される第3のデータとを、第2のクロックによってそれぞれ所定の期待値と比較する。 A memory test method according to a thirteenth aspect is a test method for a memory that operates on a first clock, wherein the first data output from the memory in synchronization with the first clock is set to one of the first clocks. / 2 is held as second data by a second clock having a frequency of / 2, and the second data and the third data output from the memory immediately after the first data in synchronization with the first clock are stored. , And a second clock, respectively.

 この方法によれば、第11の発明と同様の作用効果を奏する。 According to this method, the same operation and effect as those of the eleventh invention can be obtained.

 第14の発明のメモリのテスト方法は、第1のクロックで動作するダブルデータレートメモリのテスト方法であり、第1のクロックと同じ周波数の第2のクロックで第1のテストデータを生成するとともに、第2のクロックの反転クロックである第3のクロックで第2のテストデータを生成し、第1および第2のテストデータのいずれか一方を、第2のクロックの信号値および第3のクロックの信号値のいずれか一方に応じて選択してダブルデータレートメモリへ第3のテストデータとして入力する。 A memory test method according to a fourteenth aspect is a test method for a double data rate memory operating with a first clock, wherein first test data is generated with a second clock having the same frequency as the first clock. Generating second test data with a third clock which is an inverted clock of the second clock, and converting one of the first and second test data into a signal value of the second clock and a third clock. And input to the double data rate memory as the third test data.

 この方法によれば、第1のクロックで動作するダブルデータレートメモリのテストを第1のクロックと同じ周波数の第2のクロックで実行することができる。この際、第2のクロックの周波数を第1のクロックの2倍にする必要がなく、第2のクロックの周波数が低くてよいことから、テストを行うための回路の駆動能力が小さくてよく、したがって回路面積が少なくてすみ、またテストを行うための電力消費を少なくできる。 According to this method, the test of the double data rate memory operating with the first clock can be executed with the second clock having the same frequency as the first clock. At this time, the frequency of the second clock does not need to be twice as high as that of the first clock, and the frequency of the second clock may be low. Therefore, the driving capability of the circuit for performing the test may be small. Therefore, the circuit area can be reduced, and the power consumption for performing the test can be reduced.

 第15の発明のメモリのテスト方法は、第1のクロックで動作するダブルデータレートメモリのテスト方法であって、第1のクロックと同じ周波数の第2のクロックで第1のテストデータを生成し、第1のテストデータに最下位ビットとして数値0を付加して第2のテストデータを生成するとともに、第1のテストデータに最下位ビットとして数値1を付加して第3のテストデータを生成し、第2および第3のテストデータのいずれか一方を第2のクロックの信号値に応じて選択して、ダブルデータレートメモリに入力する。 A test method for a memory according to a fifteenth invention is a test method for a double data rate memory operating with a first clock, wherein first test data is generated with a second clock having the same frequency as the first clock. Adding a numerical value 0 as the least significant bit to the first test data to generate second test data, and generating a third test data by adding a numerical value 1 as the least significant bit to the first test data Then, one of the second and third test data is selected in accordance with the signal value of the second clock and input to the double data rate memory.

 この方法によれば、第14の発明と同様の作用効果を奏する。 According to this method, the same operation and effect as those of the fourteenth invention can be obtained.

 第16の発明のメモリのテスト方法は、第1のクロックで動作するダブルデータレートメモリのテスト方法であり、第1のクロックに同期してダブルデータレートメモリから出力される第1のデータを、第1のクロックと同じ周波数の第2のクロックによって第2のデータとして保持し、第2のデータと、第1のデータの直後に第1のクロックに同期してダブルデータレートメモリから出力される第3のデータとを、第2のクロックによってそれぞれ所定の期待値と比較する。 A memory test method according to a sixteenth aspect of the present invention is a test method for a double data rate memory operating on a first clock, wherein first data output from the double data rate memory in synchronization with the first clock is: The second data is held as second data by a second clock having the same frequency as the first clock, and is output from the double data rate memory immediately after the second data and the first data in synchronization with the first clock. The third data is compared with predetermined expected values by the second clock.

 この方法によれば、第14の発明と同様の作用効果を奏する。 According to this method, the same operation and effect as those of the fourteenth invention can be obtained.

 上記第1、第2、第6および第7の発明の構成において、第2のクロックを遅延し、遅延クロックとしてテストデータ選択部に与える遅延回路を設けてもよい。 In the first, second, sixth and seventh aspects of the present invention, a delay circuit for delaying the second clock and providing the delayed clock to the test data selector may be provided.

 この構成によれば、第2のクロックを遅延させているので、第1のクロックに対してホールド時間を確保でき、高速に動作するメモリに対して安定したテストパターンを印加することができる。 According to this configuration, since the second clock is delayed, a hold time can be secured for the first clock, and a stable test pattern can be applied to a memory that operates at high speed.

 第17の発明の半導体集積回路は、第1のクロックで動作するメモリと、第1のクロックの1/2の周波数の第2のクロックで動作し、第1のテストデータを生成する第1のテストパターン生成部と、第2のクロックの反転クロックである第3のクロックで動作し、第2のテストデータを生成する第2のテストパターン生成部と、第2のクロックと第2のクロックの反転クロックとのいずれか一方を選択できるクロック選択部と、第1のテストパターン生成部および第2のテストパターン生成部からそれぞれ出力される第1および第2のテストデータのいずれか一方を、クロック選択部の出力に応じて選択的に出力し、メモリへ第3のテストデータとして入力するテストデータ選択部とを備えている。 A semiconductor integrated circuit according to a seventeenth aspect of the present invention is a memory which operates with a first clock and a first which operates with a second clock having a frequency half of the first clock to generate first test data. A test pattern generator, a second test pattern generator that operates on a third clock that is an inverted clock of the second clock and generates second test data, and a second clock and a second clock. A clock selection unit that can select one of the inverted clocks, and one of the first and second test data output from the first test pattern generation unit and the second test pattern generation unit, respectively. A test data selection unit for selectively outputting the data in accordance with the output of the selection unit and inputting the third test data to the memory.

 第18の発明の半導体集積回路は、第1のクロックで動作するメモリと、第1のクロックの1/2の周波数の第2のクロックで動作し、第1のテストデータを生成する第1のテストパターン生成部と、第2のクロックで動作し、第2のテストデータを生成する第2のテストパターン生成部と、第2のクロックと第2のクロックの反転クロックとのいずれか一方を選択できるクロック選択部と、第1のテストパターン生成部および第2のテストパターン生成部からそれぞれ出力される第1および第2のテストデータのいずれか一方を、クロック選択部の出力に応じて選択的に出力し、メモリへ第3のテストデータとして入力するテストデータ選択部とを備えている。 A semiconductor integrated circuit according to an eighteenth aspect of the present invention is a memory which operates with a first clock and a first which operates with a second clock having a half frequency of the first clock and generates first test data. A test pattern generation unit, a second test pattern generation unit that operates on the second clock and generates second test data, and selects one of the second clock and the inverted clock of the second clock A clock selection unit that selectively outputs one of the first and second test data output from the first test pattern generation unit and the second test pattern generation unit according to the output of the clock selection unit. And a test data selection unit for outputting the test data to the memory as third test data.

 第19の発明の半導体集積回路は、第1のクロックで動作するダブルデータレートメモリと、第1のクロックと同じ周波数の第2のクロックで動作し、第1のテストデータを生成する第1のテストパターン生成部と、第2のクロックの反転クロックである第3のクロックで動作し、第2のテストデータを生成する第2のテストパターン生成部と、第2のクロックと第2のクロックの反転クロックとのいずれか一方を選択できるクロック選択部と、第1のテストパターン生成部および第2のテストパターン生成部からそれぞれ出力される第1および第2のテストデータのいずれか一方を、クロック選択部の出力に応じて選択的に出力し、ダブルデータレートメモリへ第3のテストデータとして入力するテストデータ選択部とを備えている。 A semiconductor integrated circuit according to a nineteenth aspect of the present invention includes a double data rate memory that operates with a first clock, and a first data that operates with a second clock having the same frequency as the first clock to generate first test data. A test pattern generator, a second test pattern generator that operates on a third clock that is an inverted clock of the second clock and generates second test data, and a second clock and a second clock. A clock selection unit that can select one of the inverted clocks, and one of the first and second test data output from the first test pattern generation unit and the second test pattern generation unit, respectively. A test data selecting section for selectively outputting the third test data to the double data rate memory according to the output of the selecting section.

 第20の発明の半導体集積回路は、第1のクロックで動作するダブルデータレートメモリと、第1のクロックと同じ周波数の第2のクロックで動作し、第1のテストデータを生成する第1のテストパターン生成部と、第2のクロックで動作し、第2のテストデータを生成する第2のテストパターン生成部と、第2のクロックと第2のクロックの反転クロックとのいずれか一方を選択できるクロック選択部と、第1のテストパターン生成部および第2のテストパターン生成部からそれぞれ出力される第1および第2のテストデータのいずれか一方を、クロック選択部の出力に応じて選択的に出力し、ダブルデータレートメモリへ第3のテストデータとして入力するテストデータ選択部とを備えている。 According to a twentieth aspect of the present invention, a semiconductor integrated circuit operates with a double data rate memory operating with a first clock and a first clock operating with a second clock having the same frequency as the first clock to generate first test data. A test pattern generation unit, a second test pattern generation unit that operates on the second clock and generates second test data, and selects one of the second clock and the inverted clock of the second clock A clock selection unit that selectively outputs one of the first and second test data output from the first test pattern generation unit and the second test pattern generation unit according to the output of the clock selection unit. And a test data selector for inputting the same as the third test data to the double data rate memory.

 これらの構成によれば、第2のクロックと第2のクロックの反転クロックとのいずれか一方をクロック選択部で選択し、選択されたクロックに応じてテストデータ選択部で第1および第2のテストデータのいずれか一方を選択するようにしたので、クロック選択部の選択の状態を逆にすることで、第1および第2のテストデータを各々選択するタイミングを逆にすることができる。その結果、テストパターンの質が高くなるとともに、テストパターンとしてアドレス信号を与えるときにアドレス信号のインクリメントおよびデクリメントを選択的に行うことができる。その他は第1、第2、第6または第7の発明と同様である。 According to these configurations, one of the second clock and the inverted clock of the second clock is selected by the clock selection unit, and the first and second clocks are selected by the test data selection unit according to the selected clock. Since either one of the test data is selected, the timing of selecting the first and second test data can be reversed by reversing the selection state of the clock selection unit. As a result, the quality of the test pattern is improved, and the increment and decrement of the address signal can be selectively performed when the address signal is provided as the test pattern. Others are the same as the first, second, sixth or seventh invention.

 上記の説明において、メモリというのは、クロックの立ち上がりおよび立ち下がりの何れか一方のエッジに同期して動作する通常のデータレートのメモリを意味し、ダブルデータレートメモリというのは、クロックの立ち上がりおよび立ち下がりの両方のエッジに各々同期して動作するものを意味する。 In the above description, the memory means a memory having a normal data rate operating in synchronization with one of the rising edge and the falling edge of the clock, and the double data rate memory means the memory having the normal data rate. It means that it operates in synchronization with both falling edges.

 本発明の半導体集積回路およびメモリのテスト方法によれば、上記構成を有し、BIST回路の動作速度を抑えても、実動作速度で高速メモリのテストを実施することができる。 According to the method for testing a semiconductor integrated circuit and a memory of the present invention, the above-described configuration enables a high-speed memory test to be performed at an actual operation speed even if the operation speed of the BIST circuit is suppressed.

 以下、本発明の実施の形態について図面を参照しつつ説明する。なお、図中、同一または相当部分には同一符号を付してその説明は繰り返さない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the drawings, the same or corresponding portions have the same reference characters allotted, and description thereof will not be repeated.

 (実施の形態1)
 図1は本発明の実施の形態1における半導体集積回路およびメモリのテスト方法を説明するためのブロック図であり、図2は図1の各部のタイミング図である。
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a block diagram for describing a test method of a semiconductor integrated circuit and a memory according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a timing chart of each unit in FIG.

 図1において、符号101は入力クロックの立ち上がりエッジに同期して動作する第1のテストパターン生成部を示す。符号102は入力クロックの立ち上がりエッジに同期して動作する第2のテストパターン生成部を示す。符号103は反転クロック生成用のインバータを示す。符号104はテストデータ選択部を示す。これらがBIST回路を構成している。符号105はBISTの対象となる通常のデータレートのメモリを示し、入力クロックの立ち上がりエッジに同期して動作する。 In FIG. 1, reference numeral 101 denotes a first test pattern generator that operates in synchronization with the rising edge of the input clock. Reference numeral 102 denotes a second test pattern generator that operates in synchronization with the rising edge of the input clock. Reference numeral 103 denotes an inverter for generating an inverted clock. Reference numeral 104 denotes a test data selection unit. These constitute a BIST circuit. Reference numeral 105 denotes a memory having a normal data rate to be subjected to BIST, and operates in synchronization with a rising edge of an input clock.

 第1のクロックCK1は、メモリ105ヘ与えられるクロック信号である。第2のクロックCK2は、第1のテストパターン生成部101に与えられるクロック信号であり、その周波数は第1のクロックCK1の1/2である。第3のクロックCK3は、第2のクロックCK2をインバータ103によって反転したクロック信号であり、第2のテストパターン生成部102のクロック信号である。 (1) The first clock CK1 is a clock signal supplied to the memory 105. The second clock CK2 is a clock signal provided to the first test pattern generation unit 101, and has a frequency that is 1/2 of the first clock CK1. The third clock CK3 is a clock signal obtained by inverting the second clock CK2 by the inverter 103, and is a clock signal of the second test pattern generator 102.

 第1のテストパターン生成部101では、図2のタイミング図に示すように、第2のクロックCK2の立ち上がりエッジに同期して、時刻t0で「000」、時刻t2で「010」、時刻t4で「100」、時刻t6で「110」のアドレス信号TP1をテストデータとして生成する。 As shown in the timing chart of FIG. 2, the first test pattern generation unit 101 synchronizes with the rising edge of the second clock CK2 to “000” at time t0, “010” at time t2, and “010” at time t4. The address signal TP1 of “100” and “110” is generated at time t6 as test data.

 また、第2のテストパターン生成部102では、図2のタイミング図に示すように、第3のクロックCK3の立ち上がりエッジに同期して、時刻t1で「001」、時刻t3で「011」、時刻t5で「101」、時刻t7で「111」のアドレス信号TP2をテストデータとして生成する。 In addition, as shown in the timing chart of FIG. 2, the second test pattern generation unit 102 synchronizes with the rising edge of the third clock CK3 to “001” at time t1, “011” at time t3, and “011” at time t3. An address signal TP2 of “101” at t5 and “111” at time t7 is generated as test data.

 テストデータ選択部104は、第2のクロックCK2の論理値0/1に応じて、第1のテストパターン生成部101および第2のテストパターン生成部102でそれぞれ生成されるアドレス信号TP1,TP2を交互に選択してテストデータ、すなわちアドレス信号TP3として出力する。なお、テストデータ選択部104は、第3のクロックCK3の論理値0/1に応じて選択動作を行ってもよい。 The test data selection unit 104 converts the address signals TP1 and TP2 generated by the first test pattern generation unit 101 and the second test pattern generation unit 102 according to the logical value 0/1 of the second clock CK2. The test data is alternately selected and output as test data, that is, an address signal TP3. Note that the test data selection unit 104 may perform the selection operation according to the logical value 0/1 of the third clock CK3.

 第2のクロックCK2が論理値1の場合にアドレス信号TP1を選択し、論理値0の場合にアドレス信号TP2を選択すれば、メモリ105にテストデータとして入力されるアドレス信号TP3は、時刻t0で「000」、時刻t1で「001」、時刻t2で「010」、時刻t3で「011」、時刻t4で「100」、時刻t5で「101」、時刻t6で「110」、時刻t7で「111」になり、メモリ105の第1クロックCK1の立ち上がりエッジに同期してテストパターン(一連のアドレス信号)を生成することが可能になる。 If the address signal TP1 is selected when the second clock CK2 has the logical value 1 and the address signal TP2 is selected when the second clock CK2 has the logical value 0, the address signal TP3 input as test data to the memory 105 at time t0 "000", "001" at time t1, "010" at time t2, "011" at time t3, "100" at time t4, "101" at time t5, "110" at time t6, and "110" at time t7. 111 ", and a test pattern (a series of address signals) can be generated in synchronization with the rising edge of the first clock CK1 of the memory 105.

 以上のように、本実施の形態によれば、第2のクロックCK2およびそれを反転した第3のクロックCK3によってそれぞれ動作する第1および第2のテストパターン生成部101,102を設け、第1および第2のテストパターン生成部101,102の出力のいずれか一方を第2および第3のクロックCK2,CK3のいずれか一方の状態に応じてテストデータ選択部104で選択してメモリ105に入力する構成を採用することにより、第1および第2のテストパターン生成部101,102の2倍の周波数で動作するメモリ105に対して、実動作速度でテストパターンを印加することが可能となる。つまり、BIST回路である第1および第2のテストパターン生成部101,102の動作周波数を2倍に上げることなく、高い周波数で動作するメモリ105のテストを行うことができる。したがって、BISTを行うための第1および第2のテストパターン生成部101,102の駆動能力が小さくてよく、したがって、回路面積も少なくてすみ、消費電力も少なくできる。 As described above, according to the present embodiment, the first and second test pattern generation units 101 and 102 that operate respectively by the second clock CK2 and the third clock CK3 obtained by inverting the second clock CK2 are provided. And one of the outputs of the second test pattern generation units 101 and 102 is selected by the test data selection unit 104 in accordance with one of the states of the second and third clocks CK2 and CK3 and input to the memory 105. By employing such a configuration, it becomes possible to apply a test pattern to the memory 105 operating at twice the frequency of the first and second test pattern generation units 101 and 102 at the actual operation speed. That is, the memory 105 operating at a higher frequency can be tested without increasing the operating frequency of the first and second test pattern generators 101 and 102, which are BIST circuits. Therefore, the driving capability of the first and second test pattern generation units 101 and 102 for performing the BIST may be small, so that the circuit area may be small and the power consumption may be small.

 なお、メモリ105がDDRメモリの場合は、図3のタイミング図に示すように、DDRメモリに与える第1のクロックCK1とBIST回路に与える第2のクロックCK2に同一の周波数のクロック信号を入力することで、クロックCK1の立ち上がりエッジと立ち下がりエッジの両方のエッジに同期してテストパターンをDDRメモリへ入力することができ、本実施の形態と同様の効果を得ることができる。つまり、BIST回路である第1および第2のテストパターン生成部の動作周波数を2倍に上げることなく、DDRメモリのテストを行うことが可能となる。したがって、BISTを行うための第1および第2のテストパターン生成部101,102の駆動能力が小さくてよく、したがって、回路面積も少なくてすみ、消費電力も少なくできる。 When the memory 105 is a DDR memory, clock signals of the same frequency are input to the first clock CK1 applied to the DDR memory and the second clock CK2 applied to the BIST circuit, as shown in the timing chart of FIG. Thus, the test pattern can be input to the DDR memory in synchronization with both the rising edge and the falling edge of the clock CK1, and the same effect as in the present embodiment can be obtained. That is, the DDR memory can be tested without increasing the operating frequency of the first and second test pattern generation units, which are BIST circuits, twice. Therefore, the driving capability of the first and second test pattern generation units 101 and 102 for performing the BIST may be small, so that the circuit area may be small and the power consumption may be small.

 また、図1の構成では、第2のクロックCK2をインバータ103で反転した第3のクロックCK3を第2のテストパターン生成部102に与えるようにしたが、第2のクロックCK2をそのまま与えても、第3のクロックCK3を与えた場合と同様のアドレス信号TP3を得ることができる。この場合、アドレス信号TP2は、図2のタイミングに比べて第2のクロックCK2の半サイクル分進むことになる。 Further, in the configuration of FIG. 1, the third clock CK3 obtained by inverting the second clock CK2 by the inverter 103 is supplied to the second test pattern generation unit 102. However, the second clock CK2 may be supplied as it is. , And the same address signal TP3 as when the third clock CK3 is supplied. In this case, the address signal TP2 is advanced by a half cycle of the second clock CK2 as compared with the timing of FIG.

 (実施の形態2)
 図4は本発明の実施の形態2における半導体集積回路およびメモリのテスト方法を説明するためのブロック図であり、図5はタイミング図である。
(Embodiment 2)
FIG. 4 is a block diagram for explaining a method for testing a semiconductor integrated circuit and a memory according to the second embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a timing chart.

 以下、図4に示す半導体集積回路におけるメモリのテスト方法について、図7のフローチャートに基づいて説明する。 Hereinafter, a method of testing a memory in the semiconductor integrated circuit shown in FIG. 4 will be described with reference to the flowchart of FIG.

 図4において、符号201は入力クロックの立ち上がりエッジに同期して動作するテストパターン生成部を示す。符号202はLSB0処理部を示し、符号203はLSB1処理部を示し、符号204はテストデータ選択部を示す。これらがBIST回路を構成している。符号205はBISTの対象となる通常のデータレートのメモリを示し、入力クロックの立ち上がりエッジに同期して動作する。 In FIG. 4, reference numeral 201 denotes a test pattern generation unit that operates in synchronization with the rising edge of the input clock. Reference numeral 202 denotes an LSB0 processing unit, reference numeral 203 denotes an LSB1 processing unit, and reference numeral 204 denotes a test data selection unit. These constitute a BIST circuit. Reference numeral 205 denotes a memory having a normal data rate to be subjected to BIST, and operates in synchronization with a rising edge of an input clock.

 第1のクロックCK1は、メモリ205へ与えられるクロック信号である。第2のクロックCK2は、テストパターン生成部201へ与えられるクロック信号であり、その周波数は第1のクロックCK1の1/2である。 (1) The first clock CK1 is a clock signal provided to the memory 205. The second clock CK2 is a clock signal provided to the test pattern generation unit 201, and has a frequency that is half that of the first clock CK1.

 図7において、最初にテストパターン生成処理ST301が行われる。第2のクロックCK2の立ち上がりエッジに同期してテストパターン生成部201において、テストデータが生成される。具体的には、時刻t0で、テストデータ、つまりアドレス信号TP0として{00}が生成され、時刻t2で、アドレス信号TP0として{01}が生成され、時刻t4で、アドレス信号TP0として{10}が生成され、時刻t6で、アドレス信号TP0として{11}が生成される。 In FIG. 7, first, test pattern generation processing ST301 is performed. Test data is generated in the test pattern generation unit 201 in synchronization with the rising edge of the second clock CK2. Specifically, at time t0, {00} is generated as test data, that is, address signal TP0, at time t2, {01} is generated as address signal TP0, and at time t4, {10} is generated as address signal TP0. Is generated, and at time t6, {11} is generated as the address signal TP0.

 つぎに、LSB処理ST302が行われる。つまり、テストパターン生成部201で生成されたアドレス信号TP0に最下位ビットとして数値0または1を付加してアドレス信号TP1,TP2を生成する処理が行われる。 Next, the LSB process ST302 is performed. That is, a process of adding the numerical value 0 or 1 as the least significant bit to the address signal TP0 generated by the test pattern generation unit 201 to generate the address signals TP1 and TP2 is performed.

 具体的には、LSB0処理部202では、アドレス信号TP0に最下位ビットとして数値0を付加してアドレス信号TP1を生成する。また、LSB1処理部203では、アドレス信号TP0に最下位ビットとして数値1を付加してアドレス信号TP2を生成する。ここで、LSB0処理部202およびLSB1処理部203については、クロックによる同期は行われず、単にテストパターン生成部201の出力のLSBに論理値「0」または「1」を付加しているのみである。verilogの記述にすると、以下のようになる。 {Specifically, the LSB0 processing unit 202 generates an address signal TP1 by adding a numerical value 0 as the least significant bit to the address signal TP0. Further, the LSB1 processing unit 203 generates an address signal TP2 by adding a numerical value 1 as the least significant bit to the address signal TP0. Here, the LSB0 processing unit 202 and the LSB1 processing unit 203 are not synchronized by a clock, but merely add a logical value “0” or “1” to the LSB of the output of the test pattern generation unit 201. . The description of verilog is as follows.

 assign TP1 = {TP0,0};
 assign TP2 = {TP0,1};
 図5のタイミング図に示すように、時刻t0では、アドレス信号TP0として生成された2ビットアドレス{00}に対して、LSB0処理部202において、最下位ビットとして数値0が付加され、3ビットのアドレス{000}がアドレス信号TP1として生成される。また、LSB1処理部203において、アドレス信号TP0に最下位ビットとして数値1が付加され、3ビットのアドレス{001}がアドレス信号TP2として生成される。
assign TP1 = {TP0,0};
assign TP2 = {TP0,1};
As shown in the timing chart of FIG. 5, at time t0, the LSB0 processing unit 202 adds a numerical value 0 as the least significant bit to the 2-bit address {00} generated as the address signal TP0, Address {000} is generated as address signal TP1. In the LSB1 processing unit 203, a numerical value 1 is added as the least significant bit to the address signal TP0, and a 3-bit address {001} is generated as the address signal TP2.

 時刻t2では、アドレス信号TP0として生成された2ビットアドレス{01}に対して、LSB0処理部202において、最下位ビットとして数値0が付加され、3ビットのアドレス{010}がアドレス信号TP1として生成される。また、LSB1処理部203において、アドレス信号TP0に最下位ビットとして数値1が付加され、3ビットのアドレス{011}がアドレス信号TP2として生成される。 At time t2, the LSB0 processing unit 202 adds a numerical value 0 as the least significant bit to the 2-bit address {01} generated as the address signal TP0, and generates a 3-bit address {010} as the address signal TP1. Is done. In the LSB1 processing unit 203, a numerical value 1 is added as the least significant bit to the address signal TP0, and a 3-bit address {011} is generated as the address signal TP2.

 時刻t4では、アドレス信号TP0として生成された2ビットアドレス{10}に対して、LSB0処理部202において、最下位ビットとして数値0が付加され、3ビットのアドレス{100}がアドレス信号TP1として生成される。また、LSB1処理部203において、アドレス信号TP0に最下位ビットとして数値1が付加され、3ビットのアドレス{101}がアドレス信号TP2として生成される。 At time t4, the LSB0 processing unit 202 adds a numerical value 0 as the least significant bit to the 2-bit address {10} generated as the address signal TP0, and generates a 3-bit address {100} as the address signal TP1. Is done. In the LSB1 processing unit 203, a numerical value 1 is added as the least significant bit to the address signal TP0, and a 3-bit address {101} is generated as the address signal TP2.

 時刻t6では、アドレス信号TP0として生成された2ビットアドレス{11}に対して、LSB0処理部202において、最下位ビットとして数値0が付加され、3ビットのアドレス{110}がアドレス信号TP1として生成される。また、LSB1処理部203において、アドレス信号TP0に最下位ビットとして数値1が付加され、3ビットのアドレス{111}がアドレス信号TP2として生成される。 At time t6, LSB0 processing section 202 adds numerical value 0 as the least significant bit to 2-bit address {11} generated as address signal TP0, and generates 3-bit address {110} as address signal TP1. Is done. In the LSB1 processing unit 203, a numerical value 1 is added to the address signal TP0 as the least significant bit, and a 3-bit address {111} is generated as the address signal TP2.

 つぎに、テストデータ選択処理ST303が行われる。ここでは、LSB0処理部202で生成されたテストデータであるアドレス信号TP1と、LSB1処理部203で生成されたテストデータであるアドレス信号TP2とが、第2のクロックCK2の信号値によってアドレス信号TP3として選択的に出力される。 Next, test data selection processing ST303 is performed. Here, the address signal TP1 which is the test data generated by the LSB0 processing unit 202 and the address signal TP2 which is the test data generated by the LSB1 processing unit 203 are converted into the address signal TP3 by the signal value of the second clock CK2. Is selectively output as

 テストデータ選択部204では、第2のクロックCK2が論理値1の時にアドレス信号TP1を選択してメモリ205へ出力し、第2のクロックCK2が論理値0の時にアドレス信号TP2を選択してメモリ205へ出力する。 The test data selection unit 204 selects the address signal TP1 when the second clock CK2 has the logical value 1 and outputs it to the memory 205, and selects the address signal TP2 when the second clock CK2 has the logical value 0 and stores the address signal TP2 in the memory. Output to 205.

 第2のクロックCK2の論理値が1の区間である時刻t0から時刻t1までの間は、テストデータ選択部204からテストデータであるアドレス信号TP3として{000}が出力される。第2のクロックCK2の論理値が0の区間である時刻t1から時刻t2までの間は、テストデータ選択部204からアドレス信号TP3として{001}が出力される。 {From the time t0 to the time t1 in which the logical value of the second clock CK2 is 1 from the time t1 to the time t1, the test data selection unit 204 outputs {000} as the address signal TP3 as the test data. From time t1 to time t2 in which the logical value of the second clock CK2 is 0, {001} is output from the test data selection unit 204 as the address signal TP3.

 第2のクロックCK2の論理値が1の区間である時刻t2から時刻t3までの間は、テストデータ選択部204からアドレス信号TP3として{010}が出力される。第2のクロックCK2の論理値が0の区間である時刻t3から時刻t4までの間は、テストデータ選択部204からアドレス信号TP3として{011}が出力される。 {From the time t2 when the logic value of the second clock CK2 is 1 to the time t3, the test data selection unit 204 outputs {010} as the address signal TP3. From time t3 to time t4 when the logical value of the second clock CK2 is 0, {011} is output from the test data selection unit 204 as the address signal TP3.

 第2のクロックCK2の論理値が1の区間である時刻t4から時刻t5までの間は、テストデータ選択部204からアドレス信号TP3として{100}が出力される。第2のクロックCK2の論理値が0の区間である時刻t5から時刻t6までの間は、テストデータ選択部204からアドレス信号TP3として{101}が出力される。 {From the time t4 to the time t5 when the logical value of the second clock CK2 is 1, the test data selection unit 204 outputs {100} as the address signal TP3. From the time t5 to the time t6 when the logical value of the second clock CK2 is 0, {101} is output from the test data selection unit 204 as the address signal TP3.

 第2のクロックCK2の論理値が1の区間である時刻t6から時刻t7までの間は、テストデータ選択部204からアドレス信号TP3として{110}が出力される。第2のクロックCK2の論理値が0の区間である時刻t7から時刻t8までの間は、テストデータ選択部204からアドレス信号TP3として{111}が出力される。 {From the time t6 to the time t7 in which the logical value of the second clock CK2 is 1, the test data selection unit 204 outputs {110} as the address signal TP3. From time t7 to time t8 when the logic value of the second clock CK2 is 0, {111} is output from the test data selection unit 204 as the address signal TP3.

 つぎに、テストパターン印加処理ST304が行われる。ここでは、テストデータ選択部204から出力されたアドレス信号TP3が、メモリ205に印加される。 Next, test pattern application processing ST304 is performed. Here, the address signal TP3 output from the test data selection unit 204 is applied to the memory 205.

 以上のように、本実施の形態によれば、第2のクロックCK2によって動作する単一のテストパターン生成部201を設け、テストパターン生成部201から出力されるアドレス信号TP0に対して、最下位ビットとして数値0を付加するLSB0処理部202と、最下位ビットとして数値1を付加するLSB1処理部203とを設け、さらにLSB0処理部202のアドレス信号TP1とLSB1処理部203のアドレス信号TP2のいずれか一方を選択して出力するテストデータ選択部204を設けている。これにより、テストパターン生成部201の2倍の周波数で動作するメモリ205に対して、実動作速度でテストパターンを印加することが可能となる。つまり、BIST回路であるテストパターン生成部201とLSB0処理部202およびLSB1処理部203の動作周波数を2倍に上げることなく、高い周波数で動作するメモリ205のテストを行うことができる。したがって、BISTを行うためのテストパターン生成部201とLSB0処理部202およびLSB1処理部203の駆動能力が小さくてよく、したがって回路面積も少なくてすみ、消費電力も少なくできる。 As described above, according to the present embodiment, the single test pattern generation unit 201 that operates by the second clock CK2 is provided, and the lowest-order address signal TP0 output from the test pattern generation unit 201 is output. An LSB0 processing unit 202 that adds a numerical value 0 as a bit and an LSB1 processing unit 203 that adds a numerical value 1 as the least significant bit are provided. Further, any one of the address signal TP1 of the LSB0 processing unit 202 and the address signal TP2 of the LSB1 processing unit 203 is provided. A test data selection unit 204 for selecting and outputting one of them is provided. This makes it possible to apply a test pattern to the memory 205 operating at twice the frequency of the test pattern generation unit 201 at the actual operation speed. That is, the memory 205 that operates at a high frequency can be tested without increasing the operating frequencies of the test pattern generating unit 201, the LSB0 processing unit 202, and the LSB1 processing unit 203, which are BIST circuits. Therefore, the driving capability of the test pattern generation unit 201, the LSB0 processing unit 202, and the LSB1 processing unit 203 for performing the BIST may be small, so that the circuit area and the power consumption can be reduced.

 なお、メモリ205がDDRメモリの場合は、図6のタイミング図に示すように、DDRメモリに与える第1のクロックCK1とBIST回路に与える第2のクロックCK2とに同一の周波数のクロック信号を入力することで、クロックCK1の立ち上がりエッジと立ち下がりエッジの両方のエッジに同期してテストパターンをDDRメモリへ入力することができ、本実施の形態と同様の効果を得ることができる。つまり、BIST回路であるテストパターン生成部201の動作周波数を2倍に上げることなく、DDRメモリのテストを行うことが可能となる。したがって、BISTを行うためのテストパターン生成部201とLSB0処理部202およびLSB1処理部203の駆動能力が小さくてよく、したがって回路面積も少なくてすみ、消費電力も少なくできる。 When the memory 205 is a DDR memory, clock signals of the same frequency are input to the first clock CK1 given to the DDR memory and the second clock CK2 given to the BIST circuit, as shown in the timing chart of FIG. By doing so, the test pattern can be input to the DDR memory in synchronization with both the rising edge and the falling edge of the clock CK1, and the same effect as in the present embodiment can be obtained. That is, the DDR memory can be tested without increasing the operating frequency of the test pattern generation unit 201, which is a BIST circuit, to twice. Therefore, the driving capability of the test pattern generation unit 201, the LSB0 processing unit 202, and the LSB1 processing unit 203 for performing the BIST may be small, so that the circuit area and the power consumption can be reduced.

 (実施の形態3)
 図8は本発明の実施の形態3における半導体集積回路およびメモリのテスト方法を説明するためのブロック図であり、図9はタイミング図である。
(Embodiment 3)
FIG. 8 is a block diagram for explaining a method for testing a semiconductor integrated circuit and a memory according to the third embodiment of the present invention, and FIG. 9 is a timing chart.

 以下、図8に示す半導体集積回路におけるメモリのテスト方法について、図7のフローチャートに基づいて説明する。 Hereinafter, a method of testing a memory in the semiconductor integrated circuit shown in FIG. 8 will be described with reference to the flowchart of FIG.

 図4の半導体集積回路と異なる点は、第2のクロックCK2を遅延して遅延クロックCK2’を生成する遅延回路206を備えた点である。この遅延回路206としては、例えば、バッファやインバータを直列に複数個並べることで一定時間の遅延を持たせる回路、あるいは一定時間の遅延を発生させることができる遅延素子が用いられる。 4 is different from the semiconductor integrated circuit of FIG. 4 in that a delay circuit 206 for delaying the second clock CK2 to generate a delayed clock CK2 'is provided. As the delay circuit 206, for example, a circuit having a delay of a certain time by arranging a plurality of buffers and inverters in series, or a delay element capable of generating a delay of a certain time is used.

 以下、この実施の形態におけるテストデータ選択処理ST303およびテストパターン印加処理ST304について説明する。 Hereinafter, the test data selection process ST303 and the test pattern application process ST304 in this embodiment will be described.

 テストデータ選択処理ST303では、LSB0処理部202で生成されたアドレス信号TP1と、LSB1処理部203で生成されたアドレス信号TP2とのいずれか一方を、第2のクロックCK2を遅延回路206で遅延した遅延クロックCK2’によって選択的に出力する。その選択処理は、テストデータ選択部204によって行われる。 In the test data selection process ST303, one of the address signal TP1 generated by the LSB0 processing unit 202 and the address signal TP2 generated by the LSB1 processing unit 203 is delayed by the delay circuit 206 with respect to the second clock CK2. Selectively output by the delay clock CK2 '. The selection process is performed by the test data selection unit 204.

 テストデータ選択部204では、遅延クロックCK2’が論理値1の時にアドレス信号TP1を選択し、クロックCK2’が論理値0の時にアドレス信号TP2を選択する。 The test data selection unit 204 selects the address signal TP1 when the delay clock CK2 'has a logical value of 1, and selects the address signal TP2 when the clock CK2' has a logical value of 0.

 遅延クロックCK2’の論理値が1の区間である時刻t0’から時刻t1’までの間は、テストデータ選択部204からアドレス信号TP3として{000}が出力され、遅延クロックCK2’の論理値が0の区間である時刻t1’から時刻t2’までの間は、テストデータ選択部204からアドレス信号TP3として{001}が出力される。 From time t0 ′ to time t1 ′ in which the logical value of the delay clock CK2 ′ is 1, {000} is output as the address signal TP3 from the test data selecting unit 204, and the logical value of the delay clock CK2 ′ is From time t1 ′ to time t2 ′, which is a section of 0, {001} is output from test data selection unit 204 as address signal TP3.

 遅延クロックCK2’の論理値が1の区間である時刻t2’から時刻t3’までの間は、テストデータ選択部204からアドレス信号TP3として{010}が出力され、遅延クロックCK2’の論理値が0の区間である時刻t3’から時刻t4’までの間は、テストデータ選択部204からアドレス信号TP3として{011}が出力される。 From time t2 ′ to time t3 ′ where the logical value of the delay clock CK2 ′ is 1, {010} is output from the test data selection unit 204 as the address signal TP3, and the logical value of the delay clock CK2 ′ is From time t3 ′ to time t4 ′, which is a section of 0, {011} is output from the test data selection unit 204 as the address signal TP3.

 遅延クロックCK2’の論理値が1の区間である時刻t4’から時刻t5’までの間は、テストデータ選択部204からアドレス信号TP3として{100}が出力され、遅延クロックCK2’の論理値が0の区間である時刻t5’から時刻t6’までの間は、テストデータ選択部204からアドレス信号TP3として{101}が出力される。 From time t4 ′ to time t5 ′ in which the logical value of the delayed clock CK2 ′ is 1, {100} is output from the test data selecting unit 204 as the address signal TP3, and the logical value of the delayed clock CK2 ′ becomes From time t5 ′ to time t6 ′, which is a section of 0, {101} is output from test data selection section 204 as address signal TP3.

 遅延クロックCK2’の論理値が1の区間である時刻t6’から時刻t7’までの間は、テストデータ選択部204からアドレス信号TP3として{110}が出力され、遅延クロックCK2’の論理値が0の区間である時刻t7’から時刻t8’までの間は、テストデータ選択部204からアドレス信号TP3として{111}が出力される。 From time t6 ′ to time t7 ′ in which the logic value of the delay clock CK2 ′ is 1, {110} is output from the test data selection unit 204 as the address signal TP3, and the logic value of the delay clock CK2 ′ is From time t7 'to time t8', which is a section of 0, {111} is output from test data selection section 204 as address signal TP3.

 テストパターン印加処理ST304では、テストデータ選択部204から出力されたアドレス信号TP3が、第1のクロックCK1の立ち上がりエッジに同期して動作するメモリ205に印加される。 In the test pattern application process ST304, the address signal TP3 output from the test data selection unit 204 is applied to the memory 205 that operates in synchronization with the rising edge of the first clock CK1.

 以上のように、本実施の形態によれば、LSB0処理部202で生成されたアドレス信号TP1とLSB1処理部203で生成されたアドレス信号TP2とのいずれか一方を、第2のクロックCK2を遅延回路206で遅延させた遅延クロックCK2’によって選択的に出力する。これによって、メモリ205に入力されるテストデータ、つまりアドレス信号TP3がメモリ205のクロックCK1に対して一定の遅延値を持って入力され、クロックCK1に対してホールド時間が確保でき、高速動作するメモリ205に対して安定したテストパターンを印加することが可能となる。 As described above, according to the present embodiment, one of the address signal TP1 generated by the LSB0 processing unit 202 and the address signal TP2 generated by the LSB1 processing unit 203 is delayed by delaying the second clock CK2. The signal is selectively output by the delay clock CK2 ′ delayed by the circuit 206. As a result, the test data input to the memory 205, that is, the address signal TP3, is input with a certain delay value with respect to the clock CK1 of the memory 205, and the hold time can be secured for the clock CK1, and the memory that operates at high speed 205 can be applied with a stable test pattern.

 ここで、ホールド時間およびセットアップ時間について説明する。メモリ205は、クロックCK1の立ち上がりエッジに同期して動作する。このとき、メモリ205へのアドレスやデータ入力信号は、クロックCK1の立ち上がりエッジよりも一定時間前にその値が決定されていなければクロックCK1の立ち上がりでそれらのデータがメモリ205に取り込まれない。この時間をセットアップ時間という。また、さらに、クロックCK1が立ち上がった後も一定の時間データを保持しておく必要がある。この時間をホールド時間という。 Here, the hold time and the setup time will be described. The memory 205 operates in synchronization with the rising edge of the clock CK1. At this time, if the values of the address and data input signals to the memory 205 are not determined a predetermined time before the rising edge of the clock CK1, those data are not taken into the memory 205 at the rising of the clock CK1. This time is called setup time. Further, it is necessary to hold data for a certain time even after the clock CK1 rises. This time is called a hold time.

 また、クロックCK2によって動作する単一のテストパターン生成部201によって、テストパターン生成部201の2倍の周波数で動作するメモリ205に対して、実動作速度でテストパターンを印加することが可能となる点は、実施の形態2と同様である。 Further, the single test pattern generation unit 201 operated by the clock CK2 can apply the test pattern to the memory 205 operating at twice the frequency of the test pattern generation unit 201 at the actual operation speed. This is the same as the second embodiment.

 なお、クロックCK2の2倍の周波数のクロックCK1でメモリが動作する場合には、遅延回路206としては、図11に示すように、クロックCK1の立ち下がりエッジで動作するフリップフロップ、あるいは図12に示すように、クロックCK1のハイレベル区間の時にデータがスルーするラッチを用いても、本実施の形態と同様の効果を得ることができる。 Note that when the memory operates with the clock CK1 having a frequency twice as high as the clock CK2, the delay circuit 206 may have a flip-flop operating at the falling edge of the clock CK1 as shown in FIG. As shown, the same effect as in the present embodiment can be obtained by using a latch through which data passes during the high-level section of the clock CK1.

 なお、メモリ205がDDRメモリの場合は、図10のタイミング図に示すように、DDRメモリに与えるクロックCK1とBIST回路に与えるクロックCK2とに同一の周波数のクロック信号を入力することで、クロックCK1の立ち上がりエッジと立ち下がりエッジの両方のエッジに同期してDDRメモリにテストパターンを入力することができ、本実施の形態と同様の効果を得ることができる。 When the memory 205 is a DDR memory, as shown in the timing chart of FIG. 10, a clock signal of the same frequency is input to the clock CK1 to be given to the DDR memory and the clock CK2 to be given to the BIST circuit. , A test pattern can be input to the DDR memory in synchronization with both the rising edge and the falling edge, and the same effect as in the present embodiment can be obtained.

 (実施の形態4)
 図13は本発明の実施の形態4における半導体集積回路およびメモリのテスト方法を説明するためのブロック図であり、図14はタイミング図である。
(Embodiment 4)
FIG. 13 is a block diagram for explaining a method for testing a semiconductor integrated circuit and a memory according to the fourth embodiment of the present invention, and FIG. 14 is a timing chart.

 以下、図13に示す半導体集積回路におけるメモリのテスト方法について、図7のフローチャートに基づいて説明する。 Hereinafter, a method for testing a memory in the semiconductor integrated circuit shown in FIG. 13 will be described with reference to the flowchart in FIG.

 図4の半導体集積回路と異なる点は、クロック選択部207を備えた点である。 異 な る A difference from the semiconductor integrated circuit of FIG. 4 is that a clock selecting unit 207 is provided.

 クロック選択部207は、第2のクロックCK2または第2のクロックCK2の反転信号を選択してクロックCK4として出力する回路である。テストデータ選択部204では、クロック選択部207から出力されるクロックCK4の信号値に応じて、LSB0処理部202で生成されたアドレス信号TP1とLSB1処理部203で生成されたアドレス信号TP2とのいずれか一方が選択される。 The clock selection unit 207 is a circuit that selects the second clock CK2 or an inverted signal of the second clock CK2 and outputs the selected signal as the clock CK4. The test data selection unit 204 selects one of the address signal TP1 generated by the LSB0 processing unit 202 and the address signal TP2 generated by the LSB1 processing unit 203 according to the signal value of the clock CK4 output from the clock selection unit 207. Either is selected.

 クロック選択部207で、クロックCK2の反転信号が選択された場合について説明する。 A case where the clock selection unit 207 selects an inverted signal of the clock CK2 will be described.

 第1のクロックCK1は、入力クロックの立ち上がりエッジに同期して動作するメモリ205のクロック信号である。第2のクロックCK2は、入力クロックの立ち上がりエッジに同期して動作するテストパターン生成部201のクロック信号であり、その周波数はクロックCK1の1/2である。 (1) The first clock CK1 is a clock signal of the memory 205 that operates in synchronization with the rising edge of the input clock. The second clock CK2 is a clock signal of the test pattern generation unit 201 that operates in synchronization with the rising edge of the input clock, and has a frequency half that of the clock CK1.

 テストパターン生成処理ST301では、クロックCK2の立ち上がりエッジに同期してテストパターン生成部201でアドレス信号TP0が生成される。具体的には、時刻t0でアドレス信号TP0として{11}が生成され、時刻t2でアドレス信号TP0として{10}が生成され、時刻t4でアドレス信号TP0として{01}が生成され、時刻t6でアドレス信号TP0として{00}が生成される。 In the test pattern generation process ST301, the test pattern generation unit 201 generates the address signal TP0 in synchronization with the rising edge of the clock CK2. Specifically, {11} is generated as the address signal TP0 at time t0, {10} is generated as the address signal TP0 at time t2, {01} is generated as the address signal TP0 at time t4, and at time t6. {00} is generated as the address signal TP0.

 LSB処理ST302では、テストパターン生成部201で生成されたアドレス信号TP0に最下位ビットとして数値0または数値1を付加する処理を行う。LSB0処理部202ではアドレス信号TP0に最下位ビットとして数値0を付加し、アドレス信号TP1を生成する。また、LSB1処理部203ではアドレス信号TP0に最下位ビットとして数値1を付加し、アドレス信号TP2を生成する。 In the LSB process ST302, a process of adding a numerical value 0 or a numerical value 1 as the least significant bit to the address signal TP0 generated by the test pattern generation unit 201 is performed. The LSB0 processing unit 202 adds a numerical value 0 as the least significant bit to the address signal TP0 to generate an address signal TP1. In addition, the LSB1 processing unit 203 adds a numerical value 1 as the least significant bit to the address signal TP0 to generate an address signal TP2.

 図14のタイミング図に示すように、時刻t0では、アドレス信号TP0として生成された2ビットアドレス{11}に対して、LSB0処理部202において、最下位ビットとして数値0が付加され、3ビットのアドレス{110}がアドレス信号TP1として生成される。また、LSB1処理部203において、アドレス信号TP0に最下位ビットとして数値1が付加され、3ビットのアドレス{111}がアドレス信号TP2として生成される。 As shown in the timing chart of FIG. 14, at time t0, the LSB0 processing unit 202 adds a numerical value 0 as the least significant bit to the 2-bit address {11} generated as the address signal TP0, Address {110} is generated as address signal TP1. In the LSB1 processing unit 203, a numerical value 1 is added to the address signal TP0 as the least significant bit, and a 3-bit address {111} is generated as the address signal TP2.

 時刻t2では、アドレス信号TP0として生成された2ビットアドレス{10}に対して、LSB0処理部202において、最下位ビットとして数値0が付加され、3ビットのアドレス{100}がアドレス信号TP1として生成される。また、LSB1処理部203において、アドレス信号TP0に最下位ビットとして数値1が付加され、3ビットのアドレス{101}がアドレス信号TP2として生成される。 At time t2, LSB0 processing section 202 adds numerical value 0 as the least significant bit to 2-bit address {10} generated as address signal TP0, and generates 3-bit address {100} as address signal TP1. Is done. In the LSB1 processing unit 203, a numerical value 1 is added as the least significant bit to the address signal TP0, and a 3-bit address {101} is generated as the address signal TP2.

 時刻t4では、アドレス信号TP0として生成された2ビットアドレス{01}に対して、LSB0処理部202において、最下位ビットとして数値0が付加され、3ビットのアドレス{010}がアドレス信号TP1として生成される。また、LSB1処理部203において、アドレス信号TP0に最下位ビットとして数値1が付加され、3ビットのアドレス{011}がアドレス信号TP2として生成される。 At time t4, the LSB0 processing unit 202 adds a numerical value 0 as the least significant bit to the 2-bit address {01} generated as the address signal TP0, and generates a 3-bit address {010} as the address signal TP1. Is done. In the LSB1 processing unit 203, a numerical value 1 is added as the least significant bit to the address signal TP0, and a 3-bit address {011} is generated as the address signal TP2.

 時刻t6では、アドレス信号TP0として生成された2ビットアドレス{00}に対して、LSB0処理部202において、最下位ビットとして数値0が付加され、3ビットのアドレス{000}がアドレス信号TP1として生成される。また、LSB1処理部203において、アドレス信号TP0に最下位ビットとして数値1が付加され、3ビットのアドレス{001}がアドレス信号TP2として生成される。 At time t6, the LSB0 processing unit 202 adds a numerical value 0 as the least significant bit to the 2-bit address {00} generated as the address signal TP0, and generates a 3-bit address {000} as the address signal TP1. Is done. In the LSB1 processing unit 203, a numerical value 1 is added as the least significant bit to the address signal TP0, and a 3-bit address {001} is generated as the address signal TP2.

 クロック選択部207では、クロックCK2またはクロックCK2の反転信号を選択して出力し、テストデータ選択部204では、クロック選択部207から出力されるクロックCK4の信号値に応じて、LSB0処理部202で生成されたアドレス信号TP1とLSB1処理部203で生成されたアドレス信号TP2のいずれか一方を選択する。 The clock selection unit 207 selects and outputs the clock CK2 or the inverted signal of the clock CK2, and the test data selection unit 204 determines whether the LSB0 processing unit 202 responds to the signal value of the clock CK4 output from the clock selection unit 207. Either the generated address signal TP1 or the address signal TP2 generated by the LSB1 processing unit 203 is selected.

 つまり、テストデータ選択処理ST303では、クロック選択部207のクロックCK4の信号値によって、LSB0処理部202で生成されたアドレス信号TP1とLSB1処理部203で生成されたアドレス信号TP2とのいずれか一方を選択的に出力する。 That is, in the test data selection process ST303, one of the address signal TP1 generated by the LSB0 processing unit 202 and the address signal TP2 generated by the LSB1 processing unit 203 is determined by the signal value of the clock CK4 of the clock selection unit 207. Selectively output.

 テストデータ選択部204では、クロックCK4が論理値1の時にアドレス信号TP1を選択し、クロックCK4が論理値0の時にアドレス信号TP2を選択する。 (4) The test data selection unit 204 selects the address signal TP1 when the clock CK4 has the logical value 1, and selects the address signal TP2 when the clock CK4 has the logical value 0.

 クロック選択部207の出力クロックCK4として、クロックCK2の反転信号が選択され、クロックCK2の論理値が1、すなわちクロックCK4の論理値が0の区間である時刻t0から時刻t1までの間は、テストデータ選択部204からアドレス信号TP3として{111}が出力される。また、クロックCK2の論理値が0、すなわちクロックCK4の論理値が1の区間である時刻t1から時刻t2までの間は、テストデータ選択部204からアドレス信号TP3として{110}が出力される。 An inverted signal of the clock CK2 is selected as the output clock CK4 of the clock selection unit 207, and the test is performed from the time t0 to the time t1 in which the logical value of the clock CK2 is 1, that is, the logical value of the clock CK4 is 0. {111} is output from data selection section 204 as address signal TP3. In addition, during a period from time t1 to time t2 in which the logical value of the clock CK2 is 0, that is, the logical value of the clock CK4 is 1, {110} is output from the test data selecting unit 204 as the address signal TP3.

 クロックCK2の論理値が1、すなわちクロックCK4の論理値が0の区間である時刻t2から時刻t3までの間は、テストデータ選択部204からアドレス信号TP3として{101}が生成される。また、クロックCK2の論理値が0、すなわちクロックCK4の論理値が1の区間である時刻t3から時刻t4までの間は、テストデータ選択部204からアドレス信号TP3として{100}が生成される。 {From the time t2 to the time t3 in which the logical value of the clock CK2 is 1, that is, the logical value of the clock CK4 is 0, the test data selecting unit 204 generates {101} as the address signal TP3. Further, from the time t3 to the time t4 when the logical value of the clock CK2 is 0, that is, the logical value of the clock CK4 is 1, {100} is generated as the address signal TP3 from the test data selecting unit 204.

 クロックCK2の論理値が1、すなわちクロックCK4の論理値が0の区間である時刻t4から時刻t5までの間は、テストデータ選択部204からアドレス信号TP3として{011}が生成される。また、クロックCK2の論理値が0、すなわちクロックCK4の論理値が1の区間である時刻t5から時刻t6までの間は、テストデータ選択部204からアドレス信号TP3として{010}が生成される。 {From the time t4 to the time t5 when the logic value of the clock CK2 is 1, that is, the logic value of the clock CK4 is 0, {011} is generated from the test data selection unit 204 as the address signal TP3. In addition, during the period from time t5 to time t6 when the logical value of the clock CK2 is 0, that is, the logical value of the clock CK4 is 1, {010} is generated from the test data selecting unit 204 as the address signal TP3.

 クロックCK2の論理値が1、すなわちクロックCK4の論理値が0の区間である時刻t6から時刻t7までの間は、テストデータ選択部204からアドレス信号TP3として{001}が生成される。また、クロックCK2の論理値が0、すなわちクロックCK4の論理値が1の区間である時刻t7から時刻t8までの間は、テストデータ選択部204からアドレス信号TP3として{000}が生成される。 {From the time t6 to the time t7 in which the logical value of the clock CK2 is 1, that is, the logical value of the clock CK4 is 0, the test data selecting unit 204 generates {001} as the address signal TP3. Further, from time t7 to time t8 when the logic value of the clock CK2 is 0, that is, when the logic value of the clock CK4 is 1, {000} is generated from the test data selection unit 204 as the address signal TP3.

 テストパターン印加処理ST304では、テストデータ選択部204から出力されたアドレス信号TP3が、メモリ205に印加される。 In the test pattern application process ST304, the address signal TP3 output from the test data selection unit 204 is applied to the memory 205.

 以上のように、本実施の形態によれば、クロックCK2によって動作する単一のテストパターン生成部201によって、テストパターン生成部201の2倍の周波数で動作するメモリ205に対して、実動作速度でテストパターンを印加することが可能となる。その他の効果は、実施の形態2と同様である。 As described above, according to the present embodiment, the single operation of the test pattern generator 201 operated by the clock CK2 causes the memory 205 operating at twice the frequency of the test pattern generator 201 to operate at the actual operation speed. It becomes possible to apply a test pattern. Other effects are similar to those of the second embodiment.

 また、本実施の形態では、クロック選択部207として、クロックCK2と、クロックCK2をインバータ207aにより反転した信号とをセレクタ207bで選択する回路を用いていた。これに代えて、クロック選択部208として図16のように排他的論理和回路208aを用いて、クロックCK2とクロックCK2の反転信号とのいずれか一方を選択的に出力できる回路を用いた場合であっても、本実施の形態と同様の効果を得ることができる。 In the present embodiment, the clock selector 207 uses a circuit that selects the clock CK2 and a signal obtained by inverting the clock CK2 by the inverter 207a with the selector 207b. Instead, an exclusive OR circuit 208a is used as the clock selection unit 208 as shown in FIG. 16, and a circuit that can selectively output either the clock CK2 or the inverted signal of the clock CK2 is used. Even so, the same effect as in the present embodiment can be obtained.

 また、クロック選択部207または208を設けることで、テストデータ選択部204において、クロックCK2の論理値が0の時に選択される信号と、クロックCK2がの論理値1の時に選択される信号とを切り替えることができる。そのため、クロックCK2の論理値が1の時に、偶数アドレスがメモリ205に印加され、クロックCK2の論理値が0の時に、奇数アドレスがメモリ205に印加される構成だけでなく、クロックCK2の論理値が1の時に、奇数アドレスがメモリ205に印加され、クロックCK2の論理値が0の時に、偶数アドレスがメモリ205に印加される構成とすることが可能となる。したがって、テストパターンの質が高くなるとともに、アドレスのインクリメントおよびデクリメントを実施することが可能となる。 Further, by providing the clock selection unit 207 or 208, the test data selection unit 204 separates a signal selected when the logical value of the clock CK2 is 0 and a signal selected when the clock CK2 is the logical value 1 of the clock CK2. You can switch. Therefore, when the logical value of the clock CK2 is 1, the even address is applied to the memory 205, and when the logical value of the clock CK2 is 0, not only the configuration where the odd address is applied to the memory 205, but also the logical value of the clock CK2. Is 1, the odd address is applied to the memory 205, and when the logical value of the clock CK2 is 0, the even address is applied to the memory 205. Therefore, the quality of the test pattern is improved, and the address can be incremented and decremented.

 なお、テストパターンの質は、以下のことを言う。すなわち、実動作では、クロックCK2がハイの時(ダブルデータレートメモリの場合には、クロックCK1がハイのときに相当する)に、偶数アドレスでも奇数アドレスでもアクセスされるはずである。テスト時において、クロックCK2がハイの時に偶数アドレスしかアクセスできないということは、良質なテストとは言えない。クロックCK2がハイの時に奇数アドレスにアクセスするテストができていないので、テストパターンの質がよくないと表現していた。今回、奇数アドレスおよび偶数アドレスの両方でテストができるので、テストパターンの質が高くなると表現している。 質 The quality of the test pattern refers to the following. That is, in the actual operation, when the clock CK2 is high (corresponding to the case where the clock CK1 is high in the case of a double data rate memory), even addresses and odd addresses should be accessed. In the test, the fact that only the even address can be accessed when the clock CK2 is high is not a good test. Since the test for accessing the odd address is not performed when the clock CK2 is high, the quality of the test pattern is expressed as poor. This time, it is described that the test can be performed at both the odd address and the even address, so that the quality of the test pattern is improved.

 なお、メモリ205がDDRメモリの場合は、図15のタイミング図に示すように、DDRメモリに与えるクロックCK1とBIST回路に与えるクロックCK2とに同一の周波数のクロックを入力することで、DDRメモリのクロックCK1の立ち上がりエッジと立ち下がりエッジの両方のエッジに同期してテストパターンを入力することができ、本実施の形態と同様の効果を得ることができる。 When the memory 205 is a DDR memory, as shown in the timing chart of FIG. 15, a clock having the same frequency is input to the clock CK1 to be given to the DDR memory and the clock CK2 to be given to the BIST circuit. A test pattern can be input in synchronization with both the rising edge and the falling edge of the clock CK1, and the same effect as in the present embodiment can be obtained.

 (実施の形態5)
 図17は本発明の実施の形態5における半導体集積回路およびメモリのテスト方法を説明するためのブロック図であり、図18はタイミング図である。
(Embodiment 5)
FIG. 17 is a block diagram for describing a method for testing a semiconductor integrated circuit and a memory according to the fifth embodiment of the present invention, and FIG. 18 is a timing chart.

 以下、図17に示す半導体集積回路におけるメモリのテスト方法について、図20のフローチャートに基づいて説明する。 Hereinafter, a method for testing a memory in the semiconductor integrated circuit shown in FIG. 17 will be described with reference to the flowchart in FIG.

 図17において、符号205は入力クロックの立ち上がりエッジに同期して動作するメモリを示す。符号601は入力クロックの立ち上がりエッジに同期して動作する期待値比較部を示す。符号602は入力クロックの立ち下がりエッジに同期して動作する記憶素子を示す。この記憶素子602は、たとえばフリップフロップ602aからなる。 In FIG. 17, reference numeral 205 denotes a memory that operates in synchronization with the rising edge of the input clock. Reference numeral 601 denotes an expected value comparison unit that operates in synchronization with the rising edge of the input clock. Reference numeral 602 indicates a storage element that operates in synchronization with the falling edge of the input clock. This storage element 602 includes, for example, a flip-flop 602a.

 第1のクロックCK1はメモリ205のクロック信号である。第2のクロックCK2は期待値比較部601のおよび記憶素子602のクロック信号であり、その周波数はクロックCK1の1/2である。 The first clock CK1 is a clock signal of the memory 205. The second clock CK2 is a clock signal of the expected value comparison unit 601 and the clock signal of the storage element 602, and the frequency thereof is 1 / of the clock CK1.

 メモリデータ出力処理ST701では、時刻t0,t1,t2,t3,t4,t5,t6,t7,t8でクロックCK1の立ち上がりエッジに同期して、メモリ205のデータ出力ポートDOUTからデータ信号610が出力される。 In the memory data output process ST701, a data signal 610 is output from the data output port DOUT of the memory 205 in synchronization with the rising edge of the clock CK1 at times t0, t1, t2, t3, t4, t5, t6, t7, and t8. You.

 時刻t0でクロックCK1の立ち上がりエッジに同期してメモリ205から出力されるデータ610は、データ一時取り込み処理ST702において、クロックCK2の立ち下がりエッジに同期してフリップフロップ602aに、時刻t1で取り込まれる。そして、データ信号611として期待値比較処理ST703において、期待値比較部601に入り、時刻t2で期待値と比較される。 Data 610 output from the memory 205 in synchronization with the rising edge of the clock CK1 at time t0 is captured by the flip-flop 602a at time t1 in synchronization with the falling edge of the clock CK2 in the data temporary capture process ST702. Then, in the expected value comparison processing ST703 as the data signal 611, the expected value comparison unit 601 is entered and compared with the expected value at time t2.

 また、時刻t1でクロックCK1の立ち上がりエッジに同期してメモリ205から出力されるデータは、データ信号610として期待値比較部601に入り、時刻t2で期待値と比較される。 {Data output from the memory 205 in synchronization with the rising edge of the clock CK1 at time t1 enters the expected value comparison unit 601 as a data signal 610, and is compared with the expected value at time t2.

 以下同様に、時刻t2でクロックCK1の立ち上がりエッジに同期してメモリ205から出力されるデータは、データ一時取り込み処理ST702において、クロックCK2の立ち下がりエッジに同期してフリップフロップ602aに、時刻t3で取り込まれる。そして、データ信号611として期待値比較部601に入り、時刻t4で期待値と比較される。 Similarly, the data output from the memory 205 in synchronization with the rising edge of the clock CK1 at time t2 is supplied to the flip-flop 602a in synchronization with the falling edge of the clock CK2 in the data temporary capture process ST702, and at time t3. It is captured. Then, it enters the expected value comparison unit 601 as a data signal 611, and is compared with the expected value at time t4.

 また、時刻t3でクロックCK1の立ち上がりエッジに同期してメモリ205から出力されるデータは、データ信号610として、期待値比較処理ST703において、期待値比較部601に入り、時刻t4で期待値と比較される。 The data output from the memory 205 in synchronization with the rising edge of the clock CK1 at time t3 enters the expected value comparison unit 601 in the expected value comparison processing ST703 as a data signal 610, and compares the data with the expected value at time t4. Is done.

 時刻t4でクロックCK1の立ち上がりエッジに同期してメモリ205から出力されるデータは、データ一時取り込み処理ST702において、クロックCK2の立ち下がりエッジに同期してフリップフロップ602aに、時刻t5で取り込まれる。そして、データ信号611として期待値比較部601に入り、時刻t6で期待値と比較される。 Data that is output from the memory 205 in synchronization with the rising edge of the clock CK1 at time t4 is captured by the flip-flop 602a at time t5 in synchronization with the falling edge of the clock CK2 in the data temporary capture process ST702. Then, it enters the expected value comparison unit 601 as the data signal 611, and is compared with the expected value at time t6.

 また、時刻t5でクロックCK1の立ち上がりエッジに同期してメモリ205から出力されるデータは、データ信号610として、期待値比較処理ST703において、期待値比較部601に入り、時刻t6で期待値と比較される。 The data output from the memory 205 in synchronization with the rising edge of the clock CK1 at time t5 enters the expected value comparison unit 601 in the expected value comparison processing ST703 as a data signal 610, and is compared with the expected value at time t6. Is done.

 時刻t6でクロックCK1の立ち上がりエッジに同期してメモリ205から出力されるデータは、データ一時取り込み処理ST702において、クロックCK2の立ち下がりエッジに同期してフリップフロップ602aに、時刻t7で取り込まれる。そして、データ信号611として期待値比較部601に入り、時刻t8で期待値と比較される。 Data that is output from the memory 205 in synchronization with the rising edge of the clock CK1 at time t6 is captured by the flip-flop 602a at time t7 in synchronization with the falling edge of the clock CK2 in the data temporary capture process ST702. Then, it enters the expected value comparison unit 601 as the data signal 611, and is compared with the expected value at time t8.

 また、時刻t7でクロックCK1の立ち上がりエッジに同期してメモリ205から出力されるデータは、データ信号610として期待値比較処理ST703において、期待値比較部601に入り、時刻t8で期待値と比較される。 The data output from the memory 205 in synchronization with the rising edge of the clock CK1 at time t7 enters the expected value comparison unit 601 as the data signal 610 in the expected value comparison processing ST703, and is compared with the expected value at time t8. You.

 以上のように、本実施の形態によれば、期待値比較処理ST703で期待値を比較するのは、クロックCK2のクロックの立ち上がりタイミングのみであり、期待値比較部601の動作の2倍の周波数で動作するメモリ205に対して、期待値比較部601の動作速度を変えずに、実動作速度でテストパターンを印加することが可能となる。 As described above, according to the present embodiment, the expected value is compared only in the rising edge of the clock CK2 in the expected value comparison process ST703, and the frequency is twice the frequency of the operation of the expected value comparison unit 601. It is possible to apply the test pattern to the memory 205 operating at the actual operation speed without changing the operation speed of the expected value comparison unit 601.

 なお、本実施の形態では記憶素子602としては、クロックCK2の立ち下がりエッジで動作するフリップフロップを用いたが、クロックCK2のハイレベル区間にデータを通すラッチを用いても本実施の形態と同様の効果が得られる。 Although a flip-flop that operates at the falling edge of the clock CK2 is used as the storage element 602 in this embodiment, a latch that passes data in a high-level section of the clock CK2 may be used as in the present embodiment. The effect of is obtained.

 なお、メモリ205がDDRメモリの場合は、図19のタイミング図に示すように、DDRメモリに与えるクロックCK1とBIST回路に与えるクロックCK2に同一の周波数のクロック信号を入力することで、DDRメモリのクロックCK1の立ち上がりエッジと立ち下がりエッジの両方のエッジに同期して出力されるメモリ205のデータ信号について、クロックCK2の立ち上がりタイミングで期待値比較を行うだけで、本実施の形態と同様の効果を得ることができる。 When the memory 205 is a DDR memory, as shown in the timing chart of FIG. 19, a clock signal of the same frequency is input to the clock CK1 to be given to the DDR memory and the clock CK2 to be given to the BIST circuit. An effect similar to that of the present embodiment can be obtained only by comparing the expected value of the data signal of the memory 205 output in synchronization with both the rising edge and the falling edge of the clock CK1 at the rising timing of the clock CK2. Obtainable.

 以上説明したように、上記本発明の実施の形態の半導体集積回路およびメモリのテスト方法によれば、BIST回路のクロックの論理値に応じて、入力データを切り替えることで、BIST回路をメモリ205のクロック周波数の1/2のクロック周波数で動作させても、メモリ205の実動作速度でテストパターンの印加が可能となる。 As described above, according to the semiconductor integrated circuit and the memory test method of the embodiment of the present invention, the BIST circuit is switched to the memory 205 by switching the input data according to the logical value of the clock of the BIST circuit. The test pattern can be applied at the actual operating speed of the memory 205 even when the memory 205 is operated at a clock frequency of の of the clock frequency.

 また、期待値比較においては、記憶素子602を用いてメモリ205のデータ出力を保持させ、次に出力されるデータ出力とともに、期待値との比較を行うことで、メモリのクロック周波数の1/2のクロック周波数で動作する期待値比較部601を用いて、メモリを実動作速度で期待値比較を行うことが可能となる。 In the expected value comparison, the data output of the memory 205 is held by using the storage element 602, and the data output to be output next is compared with the expected value, thereby reducing the clock frequency of the memory to 1/2. It is possible to compare the expected value of the memory at the actual operation speed by using the expected value comparing unit 601 operating at the clock frequency of.

 また、DDRメモリのようにクロックの立ち上がりと立ち下がりの両エッジに同期して動作する高速メモリに対しても、DDRメモリのクロック周波数と同一のクロック周波数でBIST回路を動作させることで、DDRメモリの実動作速度のテストを行うことが可能となる。 Also, for a high-speed memory such as a DDR memory that operates in synchronization with both rising and falling edges of a clock, operating the BIST circuit at the same clock frequency as the clock frequency of the DDR memory allows the DDR memory to operate. Can be tested for the actual operating speed of the device.

 (実施の形態6)
 図23は本発明の実施の形態6における半導体集積回路およびメモリのテスト方法を説明するためのブロック図である。
(Embodiment 6)
FIG. 23 is a block diagram illustrating a method for testing a semiconductor integrated circuit and a memory according to the sixth embodiment of the present invention.

 図1の半導体集積回路と異なる点は、第2のクロックCK2を遅延して遅延クロックCK2’を生成する遅延回路106を備えた点である。この遅延回路106の構成および動作は、実施の形態3における遅延回路206と同様である。したがって、遅延回路106を設けたことによって、実施の形態3と同様の作用効果が得られる。 1 is different from the semiconductor integrated circuit of FIG. 1 in that a delay circuit 106 for delaying the second clock CK2 to generate a delayed clock CK2 'is provided. The configuration and operation of delay circuit 106 are similar to those of delay circuit 206 in the third embodiment. Therefore, by providing delay circuit 106, the same operation and effect as in the third embodiment can be obtained.

 遅延回路106の具体例は、実施の形態3で説明したものと同じであり、図24または図25に示される。 具体 A specific example of the delay circuit 106 is the same as that described in the third embodiment, and is shown in FIG. 24 or FIG.

 (実施の形態7)
 図26は本発明の実施の形態7における半導体集積回路およびメモリのテスト方法を説明するためのブロック図である。
(Embodiment 7)
FIG. 26 is a block diagram for illustrating a method for testing a semiconductor integrated circuit and a memory according to the seventh embodiment of the present invention.

 図1の半導体集積回路と異なる点は、クロック選択部107を備えた点である。クロック選択部107の構成および動作は、実施の形態4におけるクロック選択部207と同様である。したがって、クロック選択部107を設けたことによって、実施の形態4と同様の作用効果が得られる。 異 な る A difference from the semiconductor integrated circuit of FIG. 1 is that a clock selecting unit 107 is provided. The configuration and operation of clock selecting section 107 are the same as those of clock selecting section 207 in the fourth embodiment. Therefore, the same operation and effect as in the fourth embodiment can be obtained by providing the clock selection unit 107.

 クロック選択部107に代えて、図27に示すようなクロック選択部108を用いてもよい。このクロック選択部108は実施の形態4で説明したものと同じである。 ク ロ ッ ク Instead of the clock selection unit 107, a clock selection unit 108 as shown in FIG. 27 may be used. This clock selection unit 108 is the same as that described in the fourth embodiment.

 本発明にかかる半導体集積回路は、BIST回路の動作速度を抑えても実動作速度で高速メモリのテストを実施できるという効果を有し、組み込み自己テストによりメモリのテストを行う半導体集積回路等として有用である。 The semiconductor integrated circuit according to the present invention has an effect that a high-speed memory test can be performed at an actual operation speed even if the operation speed of the BIST circuit is suppressed, and is useful as a semiconductor integrated circuit that performs a memory test by a built-in self test. It is.

本発明の実施の形態1の半導体集積回路の構成を示すブロック図である。FIG. 1 is a block diagram illustrating a configuration of a semiconductor integrated circuit according to a first embodiment of the present invention. 本発明の実施の形態1の半導体集積回路の動作を説明するためのタイムチャートである。5 is a time chart for explaining the operation of the semiconductor integrated circuit according to the first embodiment of the present invention. 本発明の実施の形態1の半導体集積回路の動作を説明するためのタイムチャートである。5 is a time chart for explaining the operation of the semiconductor integrated circuit according to the first embodiment of the present invention. 本発明の実施の形態2の半導体集積回路の構成を示すブロック図である。FIG. 9 is a block diagram illustrating a configuration of a semiconductor integrated circuit according to a second embodiment of the present invention. 本発明の実施の形態2の半導体集積回路の動作を説明するためのタイムチャートである。9 is a time chart for explaining an operation of the semiconductor integrated circuit according to the second embodiment of the present invention. 本発明の実施の形態2の半導体集積回路の動作を説明するためのタイムチャートである。9 is a time chart for explaining an operation of the semiconductor integrated circuit according to the second embodiment of the present invention. 実施の形態1,2,3,4におけるメモリのテスト方法を示すフローチャートである。9 is a flowchart illustrating a memory test method according to the first, second, third, and fourth embodiments. 本発明の実施の形態3の半導体集積回路の構成を示すブロック図である。FIG. 13 is a block diagram illustrating a configuration of a semiconductor integrated circuit according to a third embodiment of the present invention. 本発明の実施の形態3の半導体集積回路の動作を説明するためのタイムチャートである。13 is a time chart for explaining an operation of the semiconductor integrated circuit according to the third embodiment of the present invention. 本発明の実施の形態3の半導体集積回路の動作を説明するためのタイムチャートである。13 is a time chart for explaining an operation of the semiconductor integrated circuit according to the third embodiment of the present invention. 本発明の実施の形態3の半導体集積回路の遅延回路の第1の具体例を示すブロック図である。FIG. 14 is a block diagram showing a first specific example of a delay circuit of a semiconductor integrated circuit according to a third embodiment of the present invention. 本発明の実施の形態3の半導体集積回路の遅延回路の第2の具体例を示すブロック図である。FIG. 14 is a block diagram showing a second specific example of the delay circuit of the semiconductor integrated circuit according to the third embodiment of the present invention. 本発明の実施の形態4の半導体集積回路の構成を示すブロック図である。FIG. 14 is a block diagram illustrating a configuration of a semiconductor integrated circuit according to a fourth embodiment of the present invention. 本発明の実施の形態4の半導体集積回路の動作を説明するためのタイムチャートである。13 is a time chart for explaining an operation of the semiconductor integrated circuit according to the fourth embodiment of the present invention. 本発明の実施の形態4の半導体集積回路の動作を説明するためのタイムチャートである。13 is a time chart for explaining an operation of the semiconductor integrated circuit according to the fourth embodiment of the present invention. 本発明の実施の形態4の半導体集積回路のクロック選択部の他の構成を示すブロック図である。FIG. 14 is a block diagram showing another configuration of the clock selection unit of the semiconductor integrated circuit according to the fourth embodiment of the present invention. 本発明の実施の形態5の半導体集積回路の構成を示すブロック図である。FIG. 15 is a block diagram illustrating a configuration of a semiconductor integrated circuit according to a fifth embodiment of the present invention. 本発明の実施の形態5の半導体集積回路の動作を説明するためのタイムチャートである。16 is a time chart for explaining an operation of the semiconductor integrated circuit according to the fifth embodiment of the present invention. 本発明の実施の形態5の半導体集積回路の動作を説明するためのタイムチャートである。16 is a time chart for explaining an operation of the semiconductor integrated circuit according to the fifth embodiment of the present invention. 本発明の実施の形態5におけるメモリのテスト方法を示すフローチャートである。15 is a flowchart illustrating a memory test method according to the fifth embodiment of the present invention. 先行技術を示すブロック図である。It is a block diagram which shows a prior art. 先行技術の動作を示すタイムチャートである。9 is a time chart showing the operation of the prior art. 本発明の実施の形態6の半導体集積回路の構成を示すブロック図である。FIG. 15 is a block diagram illustrating a configuration of a semiconductor integrated circuit according to a sixth embodiment of the present invention. 本発明の実施の形態6の半導体集積回路の遅延回路の第1の具体例を示すブロック図である。FIG. 15 is a block diagram showing a first specific example of a delay circuit of a semiconductor integrated circuit according to a sixth embodiment of the present invention. 本発明の実施の形態6の半導体集積回路の遅延回路の第2の具体例を示すブロック図である。FIG. 21 is a block diagram showing a second specific example of the delay circuit of the semiconductor integrated circuit according to the sixth embodiment of the present invention. 本発明の実施の形態7の半導体集積回路の構成を示すブロック図である。FIG. 15 is a block diagram illustrating a configuration of a semiconductor integrated circuit according to a seventh embodiment of the present invention. 本発明の実施の形態7の半導体集積回路のクロック選択部の他の構成を示すブロック図である。FIG. 21 is a block diagram showing another configuration of the clock selection unit of the semiconductor integrated circuit according to the seventh embodiment of the present invention.

符号の説明Explanation of reference numerals

 101  第1のテストパターン生成部
 102  第2のテストパターン生成部
 103  インバータ
 104  テストデータ選択部
 105  メモリ
 201  テストパターン生成部
 202  LSB0処理部
 203  LSB1処理部
 204  テストデータ選択部
 205  メモリ
 206  遅延回路
 207,208  クロック選択部
 601  期待値比較部
 602  記憶素子
Reference Signs List 101 first test pattern generation unit 102 second test pattern generation unit 103 inverter 104 test data selection unit 105 memory 201 test pattern generation unit 202 LSB0 processing unit 203 LSB1 processing unit 204 test data selection unit 205 memory 206 delay circuit 207, 208 Clock selection unit 601 Expected value comparison unit 602 Storage element

Claims (26)

 第1のクロックで動作するメモリと、
 前記第1のクロックの1/2の周波数の第2のクロックで動作し、第1のテストデータを生成する第1のテストパターン生成部と、
 前記第2のクロックの反転クロックである第3のクロックで動作し、第2のテストデータを生成する第2のテストパターン生成部と、
 前記第1のテストパターン生成部および前記第2のテストパターン生成部からそれぞれ出力される前記第1および第2のテストデータのいずれか一方を、前記第2のクロックの信号値および前記第3のクロックの信号値のいずれか一方に応じて選択的に出力し、前記メモリへ第3のテストデータとして入力するテストデータ選択部とを備えた半導体集積回路。
A memory that operates on a first clock;
A first test pattern generation unit that operates with a second clock having a frequency half of the first clock and generates first test data;
A second test pattern generator that operates on a third clock that is an inverted clock of the second clock and generates second test data;
One of the first and second test data output from the first test pattern generation unit and the second test pattern generation unit, respectively, is used as the signal value of the second clock and the third test data. And a test data selecting unit for selectively outputting the third test data to the memory in accordance with one of clock signal values.
 第1のクロックで動作するメモリと、
 前記第1のクロックの1/2の周波数の第2のクロックで動作し、第1のテストデータを生成する第1のテストパターン生成部と、
 前記第2のクロックで動作し、第2のテストデータを生成する第2のテストパターン生成部と、
 前記第1のテストパターン生成部および前記第2のテストパターン生成部からそれぞれ出力される前記第1および第2のテストデータのいずれか一方を、前記第2のクロックの信号値に応じて選択的に出力し、前記メモリへ第3のテストデータとして入力するテストデータ選択部とを備えた半導体集積回路。
A memory that operates on a first clock;
A first test pattern generation unit that operates with a second clock having a frequency half of the first clock and generates first test data;
A second test pattern generator that operates on the second clock and generates second test data;
One of the first and second test data output from the first test pattern generator and the second test pattern generator is selectively selected according to the signal value of the second clock. And a test data selection unit for outputting the test data to the memory as third test data.
 第1のクロックで動作するメモリと、
 前記第1のクロックの1/2の周波数の第2のクロックで動作し、第1のテストデータを生成するテストパターン生成部と、
 前記テストパターン生成部で生成される前記第1のテストデータに最下位ビットとして数値0を付加して第2のテストデータを生成するLSB0処理部と、
 前記テストパターン生成部で生成される前記第1のテストデータに最下位ビットとして数値1を付加して第3のテストデータを生成するLSB1処理部と、
 前記LSB0処理部および前記LSB1処理部からそれぞれ出力される前記第2および第3のテストデータのいずれか一方を前記第2のクロックの信号値に応じて選択的に出力し、前記メモリへ第4のテストデータとして入力するテストデータ選択部とを備えた半導体集積回路。
A memory that operates on a first clock;
A test pattern generation unit that operates with a second clock having a frequency half the frequency of the first clock and generates first test data;
An LSB0 processing unit that generates a second test data by adding a numerical value 0 as a least significant bit to the first test data generated by the test pattern generation unit;
An LSB1 processing unit that adds a numerical value 1 as the least significant bit to the first test data generated by the test pattern generation unit to generate third test data;
One of the second and third test data output from the LSB0 processing unit and the LSB1 processing unit is selectively output according to the signal value of the second clock, and the fourth test data is output to the memory. And a test data selection unit for inputting the test data as test data.
 前記第2のクロックを遅延し、遅延クロックとして前記テストデータ選択部に与える遅延回路を設けたことを特徴とする請求項3に記載の半導体集積回路。 4. The semiconductor integrated circuit according to claim 3, further comprising a delay circuit that delays the second clock and supplies the delayed clock to the test data selector.  第1のクロックで動作するメモリと、
 前記第1のクロックの1/2の周波数の第2のクロックで動作し、第1のテストデータを生成するテストパターン生成部と、
 前記テストパターン生成部で生成される前記第1のテストデータに最下位ビットとして数値0を付加して第2のテストデータを生成するLSB0処理部と、
 前記テストパターン生成部で生成される前記第1のテストデータに最下位ビットとして数値1を付加して第3のテストデータを生成するLSB1処理部と、
 前記第2のクロックと前記第2のクロックの反転クロックとのいずれか一方を選択できるクロック選択部と、
 前記LSB0処理部および前記LSB1処理部からそれぞれ出力される前記第2および第3のテストデータのいずれか一方を前記クロック選択部の出力に応じて選択的に出力し、前記メモリへ第4のテストデータとして入力するテストデータ選択部とを備えた半導体集積回路。
A memory that operates on a first clock;
A test pattern generation unit that operates with a second clock having a frequency half the frequency of the first clock and generates first test data;
An LSB0 processing unit that generates a second test data by adding a numerical value 0 as a least significant bit to the first test data generated by the test pattern generation unit;
An LSB1 processing unit that adds a numerical value 1 as the least significant bit to the first test data generated by the test pattern generation unit to generate third test data;
A clock selection unit that can select one of the second clock and an inverted clock of the second clock;
One of the second and third test data output from the LSB0 processing unit and the LSB1 processing unit is selectively output according to the output of the clock selection unit, and the fourth test data is output to the memory. A semiconductor integrated circuit including a test data selection unit for inputting data as data.
 第1のクロックで動作するメモリと、
 前記第1のクロックに同期して前記メモリから出力される第1の出力データを、前記第1のクロックの1/2の周波数の第2のクロックによって取り込む記憶素子と、
 前記第2のクロックによって動作し、前記記憶素子から出力される第2の出力データと、前記第1の出力データの直後に前記メモリから出力される第3の出力データとを、それぞれ所定の期待値と比較する期待値比較部とを備えた半導体集積回路。
A memory that operates on a first clock;
A storage element that captures first output data output from the memory in synchronization with the first clock with a second clock having a frequency half of the first clock;
The second output data, which is operated by the second clock and is output from the storage element, and the third output data output from the memory immediately after the first output data are set to predetermined expectations. A semiconductor integrated circuit comprising an expected value comparison unit for comparing a value with an expected value.
 第1のクロックで動作するダブルデータレートメモリと、
 前記第1のクロックと同じ周波数の第2のクロックで動作し、第1のテストデータを生成する第1のテストパターン生成部と、
 前記第2のクロックの反転クロックである第3のクロックで動作し、第2のテストデータを生成する第2のテストパターン生成部と、
 前記第1のテストパターン生成部および前記第2のテストパターン生成部からそれぞれ出力される前記第1および第2のテストデータのいずれか一方を、前記第2のクロックの信号値および前記第3のクロックの信号値のいずれか一方に応じて選択的に出力し、前記ダブルデータレートメモリへ第3のテストデータとして入力するテストデータ選択部とを備えた半導体集積回路。
A double data rate memory operating on a first clock;
A first test pattern generation unit that operates with a second clock having the same frequency as the first clock and generates first test data;
A second test pattern generator that operates on a third clock that is an inverted clock of the second clock and generates second test data;
One of the first and second test data output from the first test pattern generation unit and the second test pattern generation unit, respectively, is used as the signal value of the second clock and the third test data. A test data selection unit for selectively outputting a signal in accordance with one of clock signal values and inputting the data as third test data to the double data rate memory.
 第1のクロックで動作するダブルデータレートメモリと、
 前記第1のクロックと同じ周波数の第2のクロックで動作し、第1のテストデータを生成する第1のテストパターン生成部と、
 前記第2のクロックで動作し、第2のテストデータを生成する第2のテストパターン生成部と、
 前記第1のテストパターン生成部および前記第2のテストパターン生成部からそれぞれ出力される前記第1および第2のテストデータのいずれか一方を、前記第2のクロックの信号値に応じて選択的に出力し、前記ダブルデータレートメモリへ第3のテストデータとして入力するテストデータ選択部とを備えた半導体集積回路。
A double data rate memory operating on a first clock;
A first test pattern generation unit that operates with a second clock having the same frequency as the first clock and generates first test data;
A second test pattern generator that operates on the second clock and generates second test data;
One of the first and second test data output from the first test pattern generator and the second test pattern generator is selectively selected according to the signal value of the second clock. And a test data selection unit for outputting the test data to the double data rate memory as third test data.
 第1のクロックで動作するダブルデータレートメモリと、
 前記第1のクロックと同じ周波数の第2のクロックで動作し、第1のテストデータを生成するテストパターン生成部と、
 前記テストパターン生成部で生成される前記第1のテストデータに最下位ビットとして数値0を付加して第2のテストデータを生成するLSB0処理部と、
 前記テストパターン生成部で生成される前記第1のテストデータに最下位ビットとして数値1を付加して第3のテストデータを生成するLSB1処理部と、
 前記LSB0処理部および前記LSB1処理部からそれぞれ出力される前記第2および第3のテストデータのいずれか一方を前記第2のクロックの信号値に応じて選択的に出力し、前記ダブルデータレートメモリへ第4のテストデータとして入力するテストデータ選択部とを備えた半導体集積回路。
A double data rate memory operating on a first clock;
A test pattern generation unit that operates with a second clock having the same frequency as the first clock and generates first test data;
An LSB0 processing unit that generates a second test data by adding a numerical value 0 as a least significant bit to the first test data generated by the test pattern generation unit;
An LSB1 processing unit that adds a numerical value 1 as the least significant bit to the first test data generated by the test pattern generation unit to generate third test data;
The double data rate memory selectively outputs one of the second and third test data respectively output from the LSB0 processing unit and the LSB1 processing unit in accordance with the signal value of the second clock. And a test data selection unit for inputting the test data as fourth test data to the semiconductor integrated circuit.
 前記第2のクロックを遅延し、遅延クロックとして前記テストデータ選択部に与える遅延回路を設けたことを特徴とする請求項9に記載の半導体集積回路。 10. The semiconductor integrated circuit according to claim 9, further comprising a delay circuit that delays the second clock and supplies the delayed clock to the test data selection unit.  第1のクロックで動作するダブルデータレートメモリと、
 前記第1のクロックと同じ周波数の第2のクロックで動作し、第1のテストデータを生成するテストパターン生成部と、
 前記テストパターン生成部で生成される前記第1のテストデータに最下位ビットとして数値0を付加して第2のテストデータを生成するLSB0処理部と、
 前記テストパターン生成部で生成される前記第1のテストデータに最下位ビットとして数値1を付加して第3のテストデータを生成するLSB1処理部と、
 前記第2のクロックと前記第2のクロックの反転クロックとのいずれか一方を選択できるクロック選択部と、
 前記LSB0処理部および前記LSB1処理部からそれぞれ出力される前記第2および第3のテストデータのいずれか一方を前記クロック選択部の出力に応じて選択的に出力し、前記ダブルデータレートメモリへ第4のテストデータとして入力するテストデータ選択部とを備えた半導体集積回路。
A double data rate memory operating on a first clock;
A test pattern generation unit that operates with a second clock having the same frequency as the first clock and generates first test data;
An LSB0 processing unit that generates a second test data by adding a numerical value 0 as a least significant bit to the first test data generated by the test pattern generation unit;
An LSB1 processing unit that adds a numerical value 1 as the least significant bit to the first test data generated by the test pattern generation unit to generate third test data;
A clock selection unit that can select one of the second clock and an inverted clock of the second clock;
One of the second and third test data respectively output from the LSB0 processing unit and the LSB1 processing unit is selectively output in accordance with the output of the clock selection unit, and is output to the double data rate memory. And a test data selection unit for inputting the test data as test data.
 第1のクロックで動作するダブルデータレートメモリと、
 前記第1のクロックに同期して前記ダブルデータレートメモリから出力される第1の出力データを、前記第1のクロックと同じ周波数の第2のクロックによって取り込む記憶素子と、
 前記第2のクロックによって動作し、前記記憶素子から出力される第2の出力データと、前記第1の出力データの直後に前記ダブルデータレートメモリから出力される第3の出力データとを、それぞれ所定の期待値と比較する期待値比較部とを備えた半導体集積回路。
A double data rate memory operating on a first clock;
A storage element that captures first output data output from the double data rate memory in synchronization with the first clock with a second clock having the same frequency as the first clock;
The second output data, which is operated by the second clock and is output from the storage element, and the third output data output from the double data rate memory immediately after the first output data, A semiconductor integrated circuit comprising: an expected value comparison unit that compares a predetermined expected value.
 第1のクロックで動作するメモリのテスト方法であって、
 前記第1のクロックの1/2の周波数の第2のクロックで第1のテストデータを生成するとともに、前記第2のクロックの反転クロックである第3のクロックで第2のテストデータを生成し、前記第1および第2のテストデータのいずれか一方を、前記第2のクロックの信号値および前記第3のクロックの信号値のいずれか一方に応じて選択して前記メモリへ第3のテストデータとして入力することを特徴とするメモリのテスト方法。
A method for testing a memory operating with a first clock, comprising:
The first test data is generated by a second clock having a half frequency of the first clock, and the second test data is generated by a third clock which is an inverted clock of the second clock. , One of the first and second test data is selected in accordance with one of the signal value of the second clock and the signal value of the third clock, and a third test is performed on the memory. A memory test method characterized by being input as data.
 第1のクロックで動作するメモリのテスト方法であって、
 前記第1のクロックの1/2の周波数の第2のクロックで第1のテストデータを生成し、前記第1のテストデータに最下位ビットとして数値0を付加して第2のテストデータを生成するとともに、前記第1のテストデータに最下位ビットとして数値1を付加して第3のテストデータを生成し、前記第2および第3のテストデータのいずれか一方を前記第2のクロックの信号値に応じて選択して、前記メモリに入力することを特徴とするメモリのテスト方法。
A method for testing a memory operating with a first clock, comprising:
First test data is generated with a second clock having a frequency half of the first clock, and a numerical value 0 is added as the least significant bit to the first test data to generate second test data. At the same time, a numerical value 1 is added as the least significant bit to the first test data to generate third test data, and one of the second and third test data is converted to a signal of the second clock. A method for testing a memory, wherein the memory is selected according to a value and input to the memory.
 第1のクロックで動作するメモリのテスト方法であって、
 第1のクロックに同期してメモリから出力される第1のデータを、前記第1のクロックの1/2の周波数の第2のクロックによって第2のデータとして保持し、前記第2のデータと、前記第1のデータの直後に前記第1のクロックに同期して前記メモリから出力される第3のデータとを、前記第2のクロックによってそれぞれ所定の期待値と比較することを特徴とするメモリのテスト方法。
A method for testing a memory operating with a first clock, comprising:
First data output from the memory in synchronization with the first clock is held as second data by a second clock having a frequency half of the first clock, and the second data and And comparing the third data output from the memory in synchronization with the first clock immediately after the first data with a predetermined expected value by the second clock. How to test memory.
 第1のクロックで動作するダブルデータレートメモリのテスト方法であって、
 前記第1のクロックと同じ周波数の第2のクロックで第1のテストデータを生成するとともに、前記第2のクロックの反転クロックである第3のクロックで第2のテストデータを生成し、前記第1および第2のテストデータのいずれか一方を、前記第2のクロックの信号値および前記第3のクロックの信号値のいずれか一方に応じて選択して前記ダブルデータレートメモリへ第3のテストデータとして入力することを特徴とするメモリのテスト方法。
A test method for a double data rate memory operating with a first clock,
The first test data is generated by a second clock having the same frequency as the first clock, and the second test data is generated by a third clock that is an inverted clock of the second clock. One of the first and second test data is selected according to one of the signal value of the second clock and the signal value of the third clock, and a third test is performed to the double data rate memory. A memory test method characterized by being input as data.
 第1のクロックで動作するダブルデータレートメモリのテスト方法であって、
 前記第1のクロックと同じ周波数の第2のクロックで第1のテストデータを生成し、前記第1のテストデータに最下位ビットとして数値0を付加して第2のテストデータを生成するとともに、前記第1のテストデータに最下位ビットとして数値1を付加して第3のテストデータを生成し、前記第2および第3のテストデータのいずれか一方を前記第2のクロックの信号値に応じて選択して、前記ダブルデータレートメモリに入力することを特徴とするメモリのテスト方法。
A test method for a double data rate memory operating with a first clock,
Generating first test data with a second clock having the same frequency as the first clock, adding a numerical value 0 as the least significant bit to the first test data to generate second test data, A third test data is generated by adding a numerical value 1 as the least significant bit to the first test data, and one of the second and third test data is determined according to the signal value of the second clock. And selecting and inputting the data to the double data rate memory.
 第1のクロックで動作するダブルデータレートメモリのテスト方法であって、
 第1のクロックに同期してダブルデータレートメモリから出力される第1のデータを、前記第1のクロックと同じ周波数の第2のクロックによって第2のデータとして保持し、前記第2のデータと、前記第1のデータの直後に前記第1のクロックに同期して前記ダブルデータレートメモリから出力される第3のデータとを、前記第2のクロックによってそれぞれ所定の期待値と比較することを特徴とするメモリのテスト方法。
A test method for a double data rate memory operating with a first clock,
First data output from the double data rate memory in synchronization with the first clock is held as second data by a second clock having the same frequency as the first clock, and the second data is Comparing the third data outputted from the double data rate memory in synchronization with the first clock immediately after the first data with a predetermined expected value by the second clock, respectively. Characteristic memory testing method.
 前記第2のクロックを遅延し、遅延クロックとして前記テストデータ選択部に与える遅延回路を設けたことを特徴とする請求項1に記載の半導体集積回路。 2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, further comprising a delay circuit that delays the second clock and supplies the delayed clock to the test data selection unit.  前記第2のクロックを遅延し、遅延クロックとして前記テストデータ選択部に与える遅延回路を設けたことを特徴とする請求項2に記載の半導体集積回路。 3. The semiconductor integrated circuit according to claim 2, further comprising a delay circuit that delays the second clock and supplies the delayed clock to the test data selection unit.  前記第2のクロックを遅延し、遅延クロックとして前記テストデータ選択部に与える遅延回路を設けたことを特徴とする請求項7に記載の半導体集積回路。 8. The semiconductor integrated circuit according to claim 7, further comprising a delay circuit that delays the second clock and supplies the delayed clock to the test data selection unit.  前記第2のクロックを遅延し、遅延クロックとして前記テストデータ選択部に与える遅延回路を設けたことを特徴とする請求項8に記載の半導体集積回路。 9. The semiconductor integrated circuit according to claim 8, further comprising a delay circuit for delaying the second clock and providing the delayed clock to the test data selection unit.  第1のクロックで動作するメモリと、
 前記第1のクロックの1/2の周波数の第2のクロックで動作し、第1のテストデータを生成する第1のテストパターン生成部と、
 前記第2のクロックの反転クロックである第3のクロックで動作し、第2のテストデータを生成する第2のテストパターン生成部と、
 前記第2のクロックと前記第2のクロックの反転クロックとのいずれか一方を選択できるクロック選択部と、
 前記第1のテストパターン生成部および前記第2のテストパターン生成部からそれぞれ出力される前記第1および第2のテストデータのいずれか一方を、前記クロック選択部の出力に応じて選択的に出力し、前記メモリへ第3のテストデータとして入力するテストデータ選択部とを備えた半導体集積回路。
A memory that operates on a first clock;
A first test pattern generation unit that operates with a second clock having a frequency half of the first clock and generates first test data;
A second test pattern generator that operates on a third clock that is an inverted clock of the second clock and generates second test data;
A clock selection unit that can select one of the second clock and an inverted clock of the second clock;
One of the first and second test data output from the first test pattern generator and the second test pattern generator is selectively output according to the output of the clock selector. A test data selecting unit for inputting the test data to the memory as third test data.
 第1のクロックで動作するメモリと、
 前記第1のクロックの1/2の周波数の第2のクロックで動作し、第1のテストデータを生成する第1のテストパターン生成部と、
 前記第2のクロックで動作し、第2のテストデータを生成する第2のテストパターン生成部と、
 前記第2のクロックと前記第2のクロックの反転クロックとのいずれか一方を選択できるクロック選択部と、
 前記第1のテストパターン生成部および前記第2のテストパターン生成部からそれぞれ出力される前記第1および第2のテストデータのいずれか一方を、前記クロック選択部の出力に応じて選択的に出力し、前記メモリへ第3のテストデータとして入力するテストデータ選択部とを備えた半導体集積回路。
A memory that operates on a first clock;
A first test pattern generation unit that operates with a second clock having a frequency half of the first clock and generates first test data;
A second test pattern generator that operates on the second clock and generates second test data;
A clock selection unit that can select one of the second clock and an inverted clock of the second clock;
One of the first and second test data output from the first test pattern generator and the second test pattern generator is selectively output according to the output of the clock selector. A test data selecting unit for inputting the test data to the memory as third test data.
 第1のクロックで動作するダブルデータレートメモリと、
 前記第1のクロックと同じ周波数の第2のクロックで動作し、第1のテストデータを生成する第1のテストパターン生成部と、
 前記第2のクロックの反転クロックである第3のクロックで動作し、第2のテストデータを生成する第2のテストパターン生成部と、
 前記第2のクロックと前記第2のクロックの反転クロックとのいずれか一方を選択できるクロック選択部と、
 前記第1のテストパターン生成部および前記第2のテストパターン生成部からそれぞれ出力される前記第1および第2のテストデータのいずれか一方を、前記クロック選択部の出力に応じて選択的に出力し、前記ダブルデータレートメモリへ第3のテストデータとして入力するテストデータ選択部とを備えた半導体集積回路。
A double data rate memory operating on a first clock;
A first test pattern generation unit that operates with a second clock having the same frequency as the first clock and generates first test data;
A second test pattern generator that operates on a third clock that is an inverted clock of the second clock and generates second test data;
A clock selection unit that can select one of the second clock and an inverted clock of the second clock;
One of the first and second test data output from the first test pattern generator and the second test pattern generator is selectively output according to the output of the clock selector. A test data selection unit for inputting the third test data to the double data rate memory.
 第1のクロックで動作するダブルデータレートメモリと、
 前記第1のクロックと同じ周波数の第2のクロックで動作し、第1のテストデータを生成する第1のテストパターン生成部と、
 前記第2のクロックで動作し、第2のテストデータを生成する第2のテストパターン生成部と、
 前記第2のクロックと前記第2のクロックの反転クロックとのいずれか一方を選択できるクロック選択部と、
 前記第1のテストパターン生成部および前記第2のテストパターン生成部からそれぞれ出力される前記第1および第2のテストデータのいずれか一方を、前記クロック選択部の出力に応じて選択的に出力し、前記ダブルデータレートメモリへ第3のテストデータとして入力するテストデータ選択部とを備えた半導体集積回路。
A double data rate memory operating on a first clock;
A first test pattern generation unit that operates with a second clock having the same frequency as the first clock and generates first test data;
A second test pattern generator that operates on the second clock and generates second test data;
A clock selection unit that can select one of the second clock and an inverted clock of the second clock;
One of the first and second test data output from the first test pattern generator and the second test pattern generator is selectively output according to the output of the clock selector. A test data selection unit for inputting the third test data to the double data rate memory.
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