JP2004105956A - パーフルオロ化合物分離回収設備および除害装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】コンパクトかつ低コストを実現できるPFC分離回収設備および除害装置を提供する。
【解決手段】腐食性ガス,PFCガスおよび希釈ガスを含有する混合ガス等から腐食性ガスを除去する除害装置として、液槽1に腐食性ガスと反応する処理液4を収容し、その液槽1内に筒状のガス導通管2を配置し、このガス導通管2の下端で回転子3を回転させることにより、混合ガスを、ガス導通管2の上部の排気ガス導入口21から取り入れてその回転子3の貫通孔33から処理液4に噴出させ、混合ガス中の腐食性ガスを処理液4と反応させるようにしたものを用いる。
【選択図】図2
【解決手段】腐食性ガス,PFCガスおよび希釈ガスを含有する混合ガス等から腐食性ガスを除去する除害装置として、液槽1に腐食性ガスと反応する処理液4を収容し、その液槽1内に筒状のガス導通管2を配置し、このガス導通管2の下端で回転子3を回転させることにより、混合ガスを、ガス導通管2の上部の排気ガス導入口21から取り入れてその回転子3の貫通孔33から処理液4に噴出させ、混合ガス中の腐食性ガスを処理液4と反応させるようにしたものを用いる。
【選択図】図2
Description
本発明は、腐食性ガス,パーフルオロ化合物ガスおよび希釈ガスを含有する混合ガスから上記腐食性ガスを除去した後、パーフルオロ化合物ガスを分離して回収するパーフルオロ化合物分離回収設備および除害装置に関するものである。
従来から、半導体の製造工程では、エッチングやチャンバーの洗浄等にCF4 ,C2 F6 ,C3 F8 ,C4 F8 ,C4 F10,CHF3 ,SF6 ,NF3 等のパーフルオロ化合物(以下、単に「PFC」という)ガスやCl2 ガスが、大量のN2 ガス等の希釈ガスにより希釈されて使用されている。また、電気機械の分野では、絶縁ガスとしてSF6 が同様に使用されている。
そして、使用後のガス(排気ガス)には、未反応(未分解)のPFCガスおよびCl2 ガスならびに反応して生成されたSiF4 ,HF,F2 ,HCl等のガスが混合している。これらのガスは有害であり、特に、PFCガスは、地球のオゾン層を破壊し、Cl2 ,SiF4 ,HF,F2 ,HCl等のガスは、腐食性ガスであり、鉄製やアルミニウム製の圧縮機等の機器を腐食する。
そこで、従来から、図8に示すように、排気ガスが処理される順番に、上記腐食性ガスを除去する前処理ユニット100,PFC分離ユニット80,およびPFC回収ユニット90を直列に接続したPFC分離回収設備が利用されている。
すなわち、上記前処理ユニット100では、ブロワー101により排気ガスを吸引し、シャワーリング式スクラバーシステム102等の従来公知の有害物質処理システムにより腐食性ガスを除去する。この有害物質処理システムが小型のものである場合には、パーティクル除去性能が不充分であるため、フィルター103や静電集塵機104を併用してパーティクルを充分に除去する必要がある。これに対し、上記有害物質処理システムが大型のものである場合には、パーティクル除去性能が充分であり、フィルター103や静電集塵機104は不要である。
つづいて、上記PFC分離ユニット80では、まず、上記前処理ユニット100で処理された処理ガスをフィルター81に通した後にタンク82に収容する。そして、そのタンク82内の処理ガスを圧縮機83で高圧にした後、別のタンク84に収容し、N2 ガス等の希釈ガスをより多く透過させる性質を有している分離膜85に接触させ、希釈ガスに富む透過ガスとPFCガスに富む非透過ガスとに分離する。この分離膜85による分離は、通常、複数回(図8では3回)行われ、非透過ガスにおけるPFCガスの濃度を高くする。また、透過ガスは、状況に応じて、上記タンク82に戻されたり、大気放出されたりする。さらに、上記前処理ユニット100では、腐食性ガスを充分に除去することができないおそれがあるため、このPFC分離ユニット80では、上記圧縮機83を腐食に強いステンレス製のものとしている。
そして、上記PFC回収ユニット90では、上記PFC分離ユニット80からの非透過ガスをタンク91に収容した後に昇圧機92により高圧にして回収容器93に回収する。
PFC分離回収設備は、コンパクトかつ低コストであることが望まれている。しかしながら、上記従来のPFC分離回収設備では、前処理ユニット100において、従来公知の有害物質処理システムを小型化すると、パーティクル除去性能が不充分であることから、フィルター103や静電集塵機104を併用する必要があり、前処理ユニット100が大きなものとなっていた。また、フィルター103や静電集塵機104を不要にするためには、有害物質処理システムを大型化する必要があり、前処理ユニット100が大きなものとなっていた。これらの点から、前処理ユニット100のコストが高くなっていた。
また、上記PFC分離ユニット80では、圧縮機83を腐食に強いステンレス製のものとしていたため、コストがかかり、汎用性のある鉄製やアルミニウム製のものと比較して、コストが一桁から二桁高くなっていた。
本発明は、このような事情に鑑みなされたもので、コンパクトかつ低コストを実現できるPFC分離回収設備および除害装置の提供をその目的とする。
上記の目的を達成するため、本発明は、腐食性ガス,PFCガスおよび希釈ガスを含有する混合ガスから上記腐食性ガスを除去する除害装置と、上記腐食性ガスを除去した混合ガスを希釈ガスに富む透過ガスとPFCガスに富む非透過ガスとに分離する分離膜と、上記PFCガスに富む非透過ガスを回収する回収手段とを備えたPFC分離回収設備であって、上記除害装置が、上記腐食性ガスと反応する処理液を収容する液槽と、この液槽内に配置され上記混合ガスを取り入れるための導入口がそれ自体の上部に形成された筒状のガス導通管と、このガス導通管の下端から同軸的に下方に延びて上記処理液に浸漬し回転駆動される軸体と、この軸体の外周面に同軸的に設けられた板羽根と、上記軸体の周壁に形成され上記ガス導通管の中空部と連通する貫通孔とを備え、上記軸体を回転させて上記板羽根の作用で、上記混合ガスを、上記ガス導通管の上部に形成された導入口から取り入れ、上記ガス導通管の中空部および軸体の内部を通して、上記軸体の貫通孔から液槽内の処理液に噴出させ、上記混合ガスに含有される上記腐食性ガスを上記処理液と反応させるようにしたPFC分離回収設備を第1の要旨とし、処理液を収容する液槽と、この液槽内に配置されガスを取り入れるための導入口がそれ自体の上部に形成された筒状のガス導通管と、このガス導通管の下端から同軸的に下方に延びて上記処理液に浸漬し回転駆動される軸体と、この軸体の外周面に同軸的に設けられた板羽根と、上記軸体の周壁に形成され上記ガス導通管の中空部と連通する貫通孔とを備えている除害装置を第2の要旨とする。なお、本発明において「軸体の外周面に同軸的に設けられた板羽根」の「同軸的に」とは、板羽根が軸体の軸と直角ではないことを意味し、板羽根が螺旋状に曲がったもの等も含む意味である。
本発明者らは、PFC分離回収設備をコンパクトかつ低コストにすべく、腐食性ガスを除去する除害装置について鋭意研究を重ねた。その研究の過程で、腐食性ガスと反応する水やアルカリ水溶液等の処理液に、その腐食性ガスを含有する混合ガスを噴出させればよいと着想した。そして、さらに研究を重ねた結果、除害装置が、上記処理液を収容する液槽と、この液槽内に配置され上記混合ガスを取り入れるための導入口がそれ自体の上部に形成された筒状のガス導通管と、このガス導通管の下端から同軸的に下方に延びて上記処理液に浸漬し回転駆動される軸体と、この軸体の外周面に同軸的に設けられた板羽根と、上記軸体の周壁に形成され上記ガス導通管の中空部と連通する貫通孔とを備え、上記軸体を回転させて上記板羽根の作用で、上記混合ガスを、上記ガス導通管の上部に形成された導入口から取り入れ、上記ガス導通管の中空部および軸体の内部を通して、上記軸体の貫通孔から液槽内の処理液に噴出させ、上記混合ガスに含有される上記腐食性ガスを上記処理液と反応させるようにすれば、上記除害装置には、上記混合ガスを吸引するためのブロワーが不要になることがわかった。また、上記除害装置では、腐食性ガスを含有する混合ガスを液槽内の処理液に噴出させるため、腐食性ガスおよびパーティクルをその処理液から放出させないようにすることができ、フィルターや静電集塵機が不要になることがわかった。さらに、腐食性ガスを処理液から放出させないようにすることができることにより、上記除害装置以降の処理工程において、圧縮機等を高価なステンレス製のものにする必要がなく、汎用性のある鉄製やアルミニウム製のものでよいことがわかった。これらの点から、PFC分離回収設備がコンパクトかつ低コストになることを見いだし本発明に到達した。さらに、本発明者らは、上記除害装置が、PFC分離回収以外の目的でも、有害なガス等の除去に使用できることを見いだした。
本発明のPFC分離回収設備は、腐食性ガス,PFCガスおよび希釈ガスを含有する混合ガスから上記腐食性ガスを除去する除害装置として、上記腐食性ガスと反応する処理液を収容する液槽と、この液槽内に配置され上記混合ガスを取り入れるための導入口がそれ自体の上部に形成された筒状のガス導通管と、このガス導通管の下端から同軸的に下方に延びて上記処理液に浸漬し回転駆動される軸体と、この軸体の外周面に同軸的に設けられた板羽根と、上記軸体の周壁に形成され上記ガス導通管の中空部と連通する貫通孔とを備え、上記軸体を回転させて上記板羽根の作用で、上記混合ガスを、上記ガス導通管の上部に形成された導入口から取り入れ、上記ガス導通管の中空部および軸体の内部を通して、上記軸体の貫通孔から液槽内の処理液に噴出させ、上記混合ガスに含有される上記腐食性ガスを上記処理液と反応させるようにしている。このため、上記除害装置によれば、上記混合ガスを吸引するためのブロワーを不要にすることができる。また、上記除害装置では、腐食性ガスを含有する混合ガスを液槽内の処理液に噴出させるため、腐食性ガスおよびパーティクルをその処理液から放出させないようにすることができ、その除害装置が小型のものであっても、フィルターや静電集塵機を不要にすることができる。さらに、腐食性ガスを処理液から放出させないようにすることができることにより、上記除害装置以降の処理工程において、圧縮機等を高価なステンレス製のものにする必要がなく、汎用性のある鉄製やアルミニウム製のものとすることができる。これらの点から、PFC分離回収設備をコンパクトかつ低コストにすることができる。さらに、上記除害装置は、PFC分離回収以外の目的でも、上記と同様にして、有害なガス等を吸引して処理液から放出させないようにすることができる。
また、本発明のPFC分離回収設備および除害装置において、板羽根の上端および下端の少なくとも一方にシュラウドが設けられている場合には、吸引するガス量や噴出するガス量を調節し易くすることができる。
特に、本発明のPFC分離回収設備および除害装置において、軸体において吸引したガスが接触する面のうち、少なくとも貫通孔よりも上方部分の面の表面粗度がRmax 50μm以下である場合には、その部分の面への処理液の留まりを抑制して処理液と吸引したガス中の成分との反応による固形生成物の付着を抑制することができ、その結果、吸引したガスの流れを流暢にすることができる。
つぎに、本発明の実施の形態を図面にもとづいて詳しく説明する。
図1は、本発明のPFC分離回収設備の一実施の形態を示している。この実施の形態では、図8に示す従来技術と比較すると、前処理ユニット70およびPFC分離ユニット80における圧縮機83の材質が異なっており、それ以外の部分は、図8に示す従来技術と同様である。そして、その同様の部分には同じ符号を付している。
すなわち、このPFC分離回収装置における前処理ユニット70では、図2に示すような除害装置が用いられている。この除害装置は、半導体工場等から排気される排気ガス(混合ガス)を、その排気ガスに含有される腐食性ガスと反応する処理液4にバブリングすることにより、その腐食性ガスを除去するための装置である。このために、上記除害装置は、上記処理液4を収容する液槽1と、この液槽1内に配置され上記排気ガスを導通する筒状のガス導通管2と、このガス導通管2の下端に回転駆動可能に設けられ上記排気ガスを上記処理液4内に噴出させる回転子3とを備えている。また、上記処理液4としては、腐食性ガスがフッ化系ガスであれば、通常、水が用いられ、塩化系ガスであれば、通常、水酸化ナトリウム水溶液やアンモニア水溶液等のアルカリ水溶液が用いられる。
より詳しく説明すると、上記液槽1の底部には、上記処理液4を液槽1内に導入するための処理液導入口11が設けられている。また、その処理液4の液面が所定の高さを超えないようにするために、液槽1内の所定の高さ位置には、上方に開口するオーバーフローポート12が設けられている。そして、液槽1の側壁には、そのオーバーフローポート12に入った処理液4を排出するための処理液排出口13が設けられており、この処理液排出口13と上記オーバーフローポート12とは、配管14により接続されている。さらに、上記液槽1の天井部には、処理液4の液面と天井面との間のガスを排出するガス排出口15が設けられている。
上記ガス導通管2の上部周壁には、上記排気ガスをガス導通管2の中空部に導入するための排気ガス導入口21が設けられている。そして、この排気ガス導入口21には、上記液槽1の天井部を貫通する配管22が接続されており、この配管22からは、上記排気ガスが供給されるようになっている。また、上記ガス導通管2の上端は、上記液槽1の天井部で閉口されており、その下端は、上記回転子3の軸受部23に形成されている。
上記回転子3は、図3に示すように、有底筒状の軸体31と、この軸体31の外周面に放射状に設けられた平板状の板羽根32とからなっており、上記軸体31の周壁には、隣り合う板羽根32の間に、貫通孔33が形成されている。そして、図2に示すように、上記軸体31の上部が上記ガス導通管2の下端の軸受部23に支持されている。そして、上記軸体31の中空部と上記ガス導通管2の中空部とは連通しており、ガス導通管2の中空部に導入された排気ガスは、軸体31に形成された貫通孔33から噴出するようになっている。また、上記回転子3を回転駆動するために、上記液槽1の天井部にモーター等の駆動源5が設置され、この駆動源5と上記軸体31の底部とがシャフト6で接続されている。
そして、上記除害装置を用いて、つぎのようにして、排気ガスに含有される腐食性ガスを除去することができる。すなわち、上記駆動源5を作動させて上記回転子3を回転させると、回転子3の軸体31の周辺の処理液4が板羽根32により外方向に押し出され、軸体31の貫通孔33からその中空部内のガスが噴出するとともに、軸体31の中空部の圧力が低下する。それにともなって、ガス導通管2の中空部の圧力が低下し、ガス導通管2の上部周壁の排気ガス導入口21から、排気ガスを吸引することができるようになる。このように、回転子3を回転させることにより、排気ガスを吸引して、回転子3の軸体31の貫通孔33から処理液4に噴出することができる。
そして、例えば、排気ガスに含有される腐食性ガスが、SiF4 (フッ化系ガス)であれば、処理液4として水が用いられ、下記の反応式のように反応して、生成したH2 SiF6 およびSi(OH)4 が水(処理液4)に留まる。すなわち、SiF4 (腐食性ガス)は、水(処理液4)から殆ど放出されず、上記液槽1の天井部に設けられたガス排出口15から排出されない。このことは、他の腐食性ガスについても同様である。
さらに、排気ガスが処理液4に噴出されるため、排気ガスに含有されるパーティクルも、処理液4に留まり、処理液4から殆ど放出されない。
そして、処理液4は、液槽1の底部に設けられた処理液導入口11から供給され、上記反応により生成したH2 SiF6 ,Si(OH)4 等の生成物やパーティクルを含有する処理液4は、液槽1のオーバーフローポート12に入って処理液排出口13から排出され、適切に処理される。上記処理液4の供給は、連続的に行って所定量の処理液4を常時入れ換えるようにしてもよいし、断続的に行って処理液4を溜め置きするようにしてもよい。
そして、上記除害装置(前処理ユニット70)では、殆どの腐食性ガスを処理液4と反応させることができ、除害装置(前処理ユニット70)で処理された処理ガス(ガス排出口15から排出されるガス)は、腐食性ガスを検出できない程度になっている。このため、上記前処理ユニット70に続くPFC分離ユニット80では、圧縮機83として、図8に示す従来技術における高価なステンレス製のものを用いる必要がなく、汎用性のある鉄製やアルミニウム製のものを用いることができる。
そして、上記前処理ユニット70に続くPFC分離ユニット80では、図8に示す従来技術と同様にして、分離膜85により、希釈ガスに富む透過ガスとPFCガスに富む非透過ガスとに分離する。上記分離膜85としては、従来技術と同様のものが用いられ、その材料としては、ポリスルホン、ポリエーテルイミド、ポリプロピレン、酢酸セルロース、ポリメチルペンタン、2,2−ビストリフルオロメチル−4,5−ジフルオロ−1,3−ジオキシソールを基にした無定形コポリマー、ポリビニルトリメチルシラン、ポリイミド、ポリアミド、ポリアラミド、またはエチルセルロースポリマー等があげられる。また、分離膜85は、上記材料を用いて、中空繊維,渦巻き,巻き付け,または平坦シートの形状に形成されている。
また、上記PFC分離ユニット80に続くPFC回収ユニット90でも、図8に示す従来技術と同様にして、上記PFC分離ユニット80からの非透過ガスをタンク91に収容した後に昇圧機92により高圧にして回収容器93に回収する。
このように、上記実施の形態のPFC分離回収設備によれば、前処理ユニット70に上記除害装置を備えているため、その回転子3を回転させることにより、他の吸引装置を用いることなく、排気ガスを吸引して、回転子3の軸体31の貫通孔33から処理液4に噴出することができる。このため、前処理ユニット70をコンパクトかつ低コストにすることができ、PFC分離回収設備もコンパクトかつ低コストにすることができる。
また、上記除害装置(前処理ユニット70)で処理された処理ガスには、腐食性ガスもパーティクルも殆ど含有されていないため、その除害装置を小型化しても、前処理ユニット70では、フィルター103や静電集塵機104(図8参照)を不要にすることができる。このことからも、前処理ユニット70、延いてはPFC分離回収設備をコンパクトかつ低コストにすることができる。そして、前処理ユニット70に続くPFC分離ユニット80におけるフィルター81の交換周期も長くすることができ、このことからも、PFC分離回収設備を低コストにすることができる。
さらに、上記前処理ユニット70に続くPFC分離ユニット80では、圧縮機83として、高価なステンレス製のものを用いる必要がなく、汎用性のある鉄製やアルミニウム製のものを用いることができるため、PFC分離回収設備を低コストにすることができる。
上記実施の形態では、本発明の除害装置(図2参照)を、PFC分離回収を目的とする腐食性ガスの除去およびパーティクルの除去に使用したが、PFC分離回収を目的としない腐食性ガスの除去やパーティクルの除去にも使用することができる。また、可燃系ガス〔SiH4 ,AsH3 ,PH3 ,GeH4 ,B2 H6 ,DCS(Di Chloro Silane),TEOS(Tetra Ethoxy Silane),TMS(Tri Methyl Silane)等〕の除去、ハロゲン系ガス〔HF,SiF4 ,COF2 ,OF2 ,Cl2 ,HCl,BCl3 等〕の除去、水溶性ガス〔NH3 ,CO2 等〕の除去等にも使用することができる。なかでも、上記ハロゲン系ガスの除去や水溶性ガスの除去のための使用は、除去効率が優れている点で、好適である。
その一例を図4に示す。これは、上記除害装置をドライエッチャーDからの排気ガスラインL2 ,L3 に使用することにより、上記実施の形態と同様にして、排気ガスに含有されているHClやCl2 等の腐食性ガスやAlCl3 等のパーティクルを除害装置の処理液4に留め、その除害装置で処理された処理ガスには、上記腐食性ガスやパーティクルが殆ど含有されていない状態にするものである。
より詳しく説明すると、通常、エッチング工程は複数(図4では、3工程)あり、従来は、各工程におけるドライエッチャーDからの排気ガスラインL1 ,L2 ,L3 は、上記除害装置が使用されることなく、直接、燃焼除害装置Bに接続され、さらに、この燃焼除害装置Bは、後工程の酸系スクラバーCに接続されていた。そして、上記燃焼除害装置Bでは、排気ガス中のCF4 ,CHF3 等のガスを処理するとともに、AlCl3 等のパーティクルを除去し、その後工程の上記酸系スクラバーCでは、燃焼除害装置Bで処理されなかったCl2 ,HF等を処理していた。しかしながら、排気ガスにHClやCl2 のガスが含有されていると、燃焼除害装置Bは、処理能力が限界に達し易くなり、CF4 ,CHF3 等のガスの処理が不充分になっていた。また、上記燃焼除害装置Bのパーティクル除去性能は悪く、排気ガスにパーティクルが含有されていると、燃焼除害装置Bのバーナーが目詰まりを起し易くなり、頻繁に燃焼除害装置Bを停止させて清掃する必要があった。
そこで、上記燃焼除害装置Bに悪影響を及ぼすHClやCl2 のガスおよびパーティクルを含有する排気ガスが排気される工程(図4では、第2工程および第3工程)のドライエッチャーDと燃焼除害装置Bとの間の排気ガスラインL2 ,L3 に上記除害装置を使用すると、その除害装置により、燃焼除害装置Bに悪影響を及ぼすHClやCl2 のガスおよびパーティクルが除去され、燃焼除害装置Bは、その処理能力の限界に達することなく、CF4 ,CHF3 等のガスを充分に処理することができるようになり、また、燃焼除害装置Bを頻繁に停止させて清掃する必要がなくなる。
さらに、上記除害装置は、コンパクトなものであり、上記のように既存の設備に取り付ける場合でも大きなスペースは必要ない。このため、上記除害装置は、既存の設備への取り付けを簡単かつ低コストで行うことができ、しかも、燃焼除害装置Bの清掃コストも低減することができる。
また、上記ドライエッチャーDからの排気ガスに含有されているものとしては、上記HCl,Cl2 のガスやAlCl3 (パーティクル)以外に、CO,CO2 ,SiF4 ,HF,COF2 ,O3 等のガスおよびSiO2 ,B2 O3 等のパーティクルがあげられるが、これらも、上記除害装置で処理することができる。なお、図4では、第1工程におけるドライエッチャーDからの排気ガスには、HClやCl2 のガスおよびパーティクルが殆ど含有されていないものとした(通常、工程によって排気ガスに含有されているものは異なっている)。このため、第1工程におけるドライエッチャーDからの排気ガスラインL1 には、上記除害装置を使用しなかった。
他の例としては、NH3 (アンモニア)ガスの除去に使用することができる。すなわち、図2に示す除害装置において、処理液4として水を用い、NH3 ガスの製造工程で排出されるNH3 ガスを上記除害装置の水(処理液4)にバブリングすることにより、その水(処理液4)にNH3 ガスを吸収させる。なお、これにより得られたアンモニア水は、利用価値があり、販売することもできる。
さらに他の例としては、地球温暖化にとって害となるCO2 を除去することに使用することができる。これは、上記NH3 ガスと同様にして除去することができる。それ以外の水溶性ガスについても、同様にして除去することができる。
つぎに、除害装置における回転子3の変形例について説明する。回転子3は、図5〜図7に示すように、板羽根32の上端および下端の少なくとも一方にシュラウド34〜36を設けてもよい。すなわち、図5に示すように、板羽根32の下端に全閉型のシュラウド34を設けてもよいし、図6に示すように、板羽根32の下端にリング型のシュラウド35を設けてもよいし、図7に示すように、板羽根32の上端に全閉型のシュラウド36を設けてもよい。同様にして、これら以外に、板羽根32の上端にリング型のシュラウドを設けてもよいし(図示せず)、板羽根32の上端および下端に、全閉型またはリング型のシュラウドを設けてもよい(図示せず)。このようにすることにより、排気ガスの吸引量や噴出量を調節し易くすることができる。
なお、上記実施の形態では、図3,図5〜図7に示すように、回転子3の板羽根32を平板状としたが、上記のように排気ガスを吸引して処理液4に噴出できれば、これに限定されるものではなく、螺旋状に曲がったもの等でもよい。また、板羽根32を4枚として図示したが、これに限定されるものではなく、その枚数も適宜設定できる。さらに、軸体31に形成された貫通孔33を、隣り合う板羽根32の各間に4個ずつ縦に配置したが、その数および配置も、上記のように排気ガスを吸引して処理液4に噴出できれば、これに限定されるものではない。
また、回転子3は、常に回転させておいて、処理液4が軸体31に形成された貫通孔33から逆流しないようにすることが好ましい。このため、半導体工場等の状況により排気ガス量が減少しても、処理液4が軸体31に形成された貫通孔33から逆流しないように、排気ガス量に対応して回転子3の回転速度を制御できる制御装置を備えていることが好ましい。一般に、排気ガス量が増加した場合、回転子3の回転速度を上げると、処理液4が貫通孔33から逆流しないようにできる。
特に、排気ガスが接触するような、ガス導通管2の内周面,シャフト6の外周面,軸体31の内周面等の面の表面粗度は、Rmax 50μm以下であることが好ましい。その理由は、回転子3が回転することにより、回転子3を支持しているガス導通管2の下端の軸受部23と回転子3の軸体31の間から、処理液4が浸入して上記各面に留まることがあり、その留まっている処理液4と排気ガス中の成分とが反応して固形生成物〔例えば、処理液4が水で、排気ガス中の成分が腐食性ガスSiF4 である場合には、その固形生成物はSi(OH)4 〕が生成され上記各面に付着した状態になって、排気ガスの流れを妨げることがあるが、上記各面の表面粗度をRmax 50μm以下にすることにより、処理液4の上記各面への留まりを抑制して上記固形生成物の付着を抑制することができ、その結果、排気ガスの流れを流暢にすることができるからである。特に、軸体31の内周面のうち貫通孔33よりも上方部分は、処理液4が留まり易くなっている。そのため、少なくともその部分は、表面粗度をRmax 50μm以下にすることが好ましい。また、処理液4の上記各面への留まりを抑制するために、上記各面に熱を加えたり応力を加えたりして、上記各面を変質させないようにすることも好ましい。
つぎに、実施例について従来例と併せて説明する。
〔実施例1〕
上記実施の形態と同様の除害装置を用いてN2 ガスを吸引した。回転子3は、図6に示す、板羽根32の下端にリング型のシュラウド35を設けものを用いた。すなわち、回転子3の回転直径を105mm、板羽根32の枚数を4枚、各板羽根32の高さを66mm、各板羽根32の幅を30mm、シュラウド35の外径を105mm、シュラウド35の内径を90mm、軸体31の貫通孔33を隣り合う板羽根32の各間に4個ずつ縦に配置し、各貫通孔33の内径を8mmとした。また、駆動源5として1.5kWの4ポールのモーターを用いた。
上記実施の形態と同様の除害装置を用いてN2 ガスを吸引した。回転子3は、図6に示す、板羽根32の下端にリング型のシュラウド35を設けものを用いた。すなわち、回転子3の回転直径を105mm、板羽根32の枚数を4枚、各板羽根32の高さを66mm、各板羽根32の幅を30mm、シュラウド35の外径を105mm、シュラウド35の内径を90mm、軸体31の貫通孔33を隣り合う板羽根32の各間に4個ずつ縦に配置し、各貫通孔33の内径を8mmとした。また、駆動源5として1.5kWの4ポールのモーターを用いた。
そして、上記駆動源5のモーターに0.85kWを入力して回転子3を回転させた結果、10m3 /h(0℃、101325Pa時換算)のN2 ガスを、ガス導通管2の排気ガス導入口21から吸引することができた。また、その排気ガス導入口21での圧力を圧力計で測定すると、−2.0kPaのゲージ圧を示していた。
また、N2 ガスに濃度4000ppmのSiF4 ガスを混合して、上記ガス導通管2の排気ガス導入口21から吸引させると、液槽1のガス排出口15でのトータルフッ素の濃度は、0.5ppm以下であった。さらに、1リットルの処理液(水)4に対して濃度100%のSiF4 ガスを0.26リットル処理できることが確認できた。具体的には、9m3 /h(0℃、101325Pa時換算)の排気ガスに平均して1700ppmの濃度でSiF4 が混合するまでは、処理液(水)4の供給量は、1リットル/minでよいことが確認できた。
そして、同量の排気ガスを処理するために用いられていた、図8に示す従来のシャワーリング式スクラバーシステム102を備えた前処理ユニット100は、寸法が1455mm(W)×1250mm(D)×2200mm(H)であったのに対し、上記除害装置を備えた前処理ユニット70の寸法は、450mm(W)×450mm(D)×2000mm(H)となり、コンパクトにすることができた。また、製造コストおよびランニングコストを総合したコストも1/10以下にすることができた。
〔実施例2〕
上記実施例1と同様の除害装置を用いて、COF2 ガス供給装置(シリンダーキャビネット)から排出されるCOF2 ガスを無害化処理した。このとき、除害装置における排気ガス導入口21での圧力が−2.0kPaのゲージ圧を示すように回転子3を回転させ、3リットル/minのCOF2 ガスに46リットル/minのN2 ガスを混合して(約6%のCOF2 ガスにして)上記ガス導入口21から吸引させた。また、処理液4として、70リットルの水を用い、その水(処理液4)は、溜め置きした。そして、ガス排出口15でのCOF2 ガス濃度をFTIR(Fourier Transform Infra−Red Spectroscopy)により測定した。
上記実施例1と同様の除害装置を用いて、COF2 ガス供給装置(シリンダーキャビネット)から排出されるCOF2 ガスを無害化処理した。このとき、除害装置における排気ガス導入口21での圧力が−2.0kPaのゲージ圧を示すように回転子3を回転させ、3リットル/minのCOF2 ガスに46リットル/minのN2 ガスを混合して(約6%のCOF2 ガスにして)上記ガス導入口21から吸引させた。また、処理液4として、70リットルの水を用い、その水(処理液4)は、溜め置きした。そして、ガス排出口15でのCOF2 ガス濃度をFTIR(Fourier Transform Infra−Red Spectroscopy)により測定した。
この測定を70分間続けたが、COF2 ガスは、検知されなかった(FTIRの検知下限界:0.1ppm)。このことから、1リットルの水(処理液4)で少なくとも3リットルのCOF2 ガスを処理できることがわかる。また、TLV(Threshold Limit Values:2ppm)以下であるため、問題はない。
〔実施例3〕
上記実施例1と同様の除害装置を用いて、Cl2 ガス供給装置(シリンダーキャビネット)から排出されるCl2 ガスを無害化処理した。このとき、除害装置における排気ガス導入口21での圧力が−1.0kPaのゲージ圧を示すように回転子3を回転させ、0.03リットル/minのCl2 ガスに150リットル/minのN2 ガスを混合して(約200ppmのCl2 ガスにして)上記ガス導入口21から吸引させた。また、処理液4として、70リットルの水を用い、その水(処理液4)に、1リットル/minの水(処理液4)を処理液導入口11から供給するとともに、同量の水(処理液4)を処理液排出口13から排出した(通水した)。そして、ガス排出口15でのCl2 ガス濃度をガス検知管により測定した。
上記実施例1と同様の除害装置を用いて、Cl2 ガス供給装置(シリンダーキャビネット)から排出されるCl2 ガスを無害化処理した。このとき、除害装置における排気ガス導入口21での圧力が−1.0kPaのゲージ圧を示すように回転子3を回転させ、0.03リットル/minのCl2 ガスに150リットル/minのN2 ガスを混合して(約200ppmのCl2 ガスにして)上記ガス導入口21から吸引させた。また、処理液4として、70リットルの水を用い、その水(処理液4)に、1リットル/minの水(処理液4)を処理液導入口11から供給するとともに、同量の水(処理液4)を処理液排出口13から排出した(通水した)。そして、ガス排出口15でのCl2 ガス濃度をガス検知管により測定した。
この測定を70分間続けたが、Cl2 ガスは、検知されなかった。このようにCl2 ガス(塩化系ガス)を処理する場合は、上述したように、通常、水酸化ナトリウム水溶液等のアルカリ水溶液が用いられるが、この実施例3のように、本発明の除害装置を用いると、200ppm程度のCl2 ガスであれば、水で処理できることがわかる。
〔実施例4〕
上記実施例3において、Cl2 ガスの供給量を0.075リットル/minにした(約500ppmのCl2 ガスにした)。また、処理液4として、70リットルの水を用い、その水(処理液4)は、溜め置きした。それ以外は、上記実施例3と同様にして、ガス排出口15でのCl2 ガス濃度をガス検知管により測定した。
上記実施例3において、Cl2 ガスの供給量を0.075リットル/minにした(約500ppmのCl2 ガスにした)。また、処理液4として、70リットルの水を用い、その水(処理液4)は、溜め置きした。それ以外は、上記実施例3と同様にして、ガス排出口15でのCl2 ガス濃度をガス検知管により測定した。
この測定を45分間続けたが、Cl2 ガスは、検知されなかった。このことから、本発明の除害装置を用いると、Cl2 ガスの濃度を500ppm程度に上げても、水で処理できることがわかる。
〔実施例5〕
上記実施例3において、Cl2 ガスの供給量を0.15リットル/minにした(約1000ppmのCl2 ガスにした)。また、処理液4として、70リットルの48重量%水酸化ナトリウム水溶液を用い、その処理液4は、溜め置きした。それ以外は、上記実施例3と同様にして、ガス排出口15でのCl2 ガス濃度をガス検知管により測定した。
上記実施例3において、Cl2 ガスの供給量を0.15リットル/minにした(約1000ppmのCl2 ガスにした)。また、処理液4として、70リットルの48重量%水酸化ナトリウム水溶液を用い、その処理液4は、溜め置きした。それ以外は、上記実施例3と同様にして、ガス排出口15でのCl2 ガス濃度をガス検知管により測定した。
この測定を261分間続けたが、Cl2 ガスは、検知されなかった。このことから、本発明の除害装置を用いると、Cl2 ガスの濃度が1000ppm程度であれば、48重量%水酸化ナトリウム水溶液で処理できることがわかる。また、下記の式(1)から、1リットルの48重量%水酸化ナトリウム水溶液で約0.559リットルの100%Cl2 ガスを処理できることがわかる。さらに、下記の式(2)から、150リットル/min(25℃,大気圧)の混合ガス中に約3727ppmのCl2 ガスが混合している場合には、1リットル/minの48重量%水酸化ナトリウム水溶液の通水で処理できることがわかる。
1 液槽
2 ガス導通管
3 回転子
4 処理液
21 排気ガス導入口
33 貫通孔
2 ガス導通管
3 回転子
4 処理液
21 排気ガス導入口
33 貫通孔
Claims (6)
- 腐食性ガス,パーフルオロ化合物ガスおよび希釈ガスを含有する混合ガスから上記腐食性ガスを除去する除害装置と、上記腐食性ガスを除去した混合ガスを希釈ガスに富む透過ガスとパーフルオロ化合物ガスに富む非透過ガスとに分離する分離膜と、上記パーフルオロ化合物ガスに富む非透過ガスを回収する回収手段とを備えたパーフルオロ化合物分離回収設備であって、上記除害装置が、上記腐食性ガスと反応する処理液を収容する液槽と、この液槽内に配置され上記混合ガスを取り入れるための導入口がそれ自体の上部に形成された筒状のガス導通管と、このガス導通管の下端から同軸的に下方に延びて上記処理液に浸漬し回転駆動される軸体と、この軸体の外周面に同軸的に設けられた板羽根と、上記軸体の周壁に形成され上記ガス導通管の中空部と連通する貫通孔とを備え、上記軸体を回転させて上記板羽根の作用で、上記混合ガスを、上記ガス導通管の上部に形成された導入口から取り入れ、上記ガス導通管の中空部および軸体の内部を通して、上記軸体の貫通孔から液槽内の処理液に噴出させ、上記混合ガスに含有される上記腐食性ガスを上記処理液と反応させるようにしたことを特徴とするパーフルオロ化合物分離回収設備。
- 板羽根の上端および下端の少なくとも一方にシュラウドが設けられている請求項1記載のパーフルオロ化合物分離回収設備。
- 軸体において混合ガスが接触する面のうち、少なくとも貫通孔よりも上方部分の面の表面粗度がRmax 50μm以下である請求項1または2記載のパーフルオロ化合物分離回収設備。
- 処理液を収容する液槽と、この液槽内に配置されガスを取り入れるための導入口がそれ自体の上部に形成された筒状のガス導通管と、このガス導通管の下端から同軸的に下方に延びて上記処理液に浸漬し回転駆動される軸体と、この軸体の外周面に同軸的に設けられた板羽根と、上記軸体の周壁に形成され上記ガス導通管の中空部と連通する貫通孔とを備えていることを特徴とする除害装置。
- 板羽根の上端および下端の少なくとも一方にシュラウドが設けられている請求項4記載の除害装置。
- 軸体において混合ガスが接触する面のうち、少なくとも貫通孔よりも上方部分の面の表面粗度がRmax 50μm以下である請求項4または5記載の除害装置。
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JP2003301648A JP2004105956A (ja) | 2002-08-27 | 2003-08-26 | パーフルオロ化合物分離回収設備および除害装置 |
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-
2003
- 2003-08-26 JP JP2003301648A patent/JP2004105956A/ja active Pending
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