JP2004103835A5 - - Google Patents

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前記塗布処理方法は,ノズルが基板の端部上に移動した際に,基板がノズルに対して前記往復移動の方向と直角をなす方向に移動する工程を有し,マスク部材の前記所定距離の移動は,前記基板の前記直角をなす方向への移動と同時期に行われるようにしてもよい。こうすることによって,例えば基板の直角方向への移動とマスク部材の移動を同じトリガを用いて行うことができる。この結果,例えば塗布処理を行うための各種部材の動作制御を,より単純化して行うことができる。
前記基板の塗布処理装置において,前記駆動部を制御する制御装置を備え,前記制御装置には,前記ノズルの往復移動の移動速度と,前記塗布液の吐出速度と,前記ノズルから吐出された塗布液の水平方向の飛距離との相関データが記憶され,前記制御装置は,前記相関データに基づいて,前記マスク部材が移動する前記所定距離を定め,前記駆動部を制御して前記マスク部材を前記所定距離移動させてもよい。
前記駆動部は,圧電素子であってもよい。
また,前記基板の塗布処理方法において,前記ノズルの往復移動の移動速度と,前記塗布液の吐出速度と,前記ノズルから吐出された塗布液の水平方向の飛距離との相関データに基づいて,前記マスク部材が移動する前記所定距離が定められてもよい。

Claims (9)

  1. 基板に塗布液を塗布する塗布処理装置であって,
    基板に対して塗布液を吐出しながら,少なくとも基板の一端部上から他端部上までの間を往復移動するノズルと,
    前記ノズルの下方でかつ基板の端部上において,ノズルから吐出される塗布液を受け止めるマスク部材と,
    前記マスク部材を前記ノズルの往復移動の方向で基板に対して相対的に移動させる駆動部と,を備え,
    塗布液を吐出しているノズルが基板の内側から基板の端部上の前記マスク部材上に移動するときには,当該マスク部材を,基板に対して相対的に基板の内側方向に所定距離移動させ,塗布液を吐出しているノズルが基板の端部上のマスク部材上から基板の内側に向かって移動するときには,当該マスク部材を,基板に対して相対的に基板の外側方向に所定距離移動させるように,前記駆動部は制御されていることを特徴とする,基板の塗布処理装置。
  2. 前記マスク部材は,前記基板の両端部上に配置され,
    前記駆動部は,当該各マスク部材毎に備えられていることを特徴とする,請求項1に記載の基板の塗布処理装置。
  3. 前記各マスク部材は,当該各マスク部材を保持するそれぞれの保持部材に保持され,
    前記駆動部は,当該駆動部本体が伸縮自在なものであり,かつ前記マスク部材と前記保持部材との間に介在されていることを特徴とする,請求項2に記載の基板の塗布処理装置。
  4. 前記マスク部材は,前記基板の両端部上に配置され,
    前記マスク部材は,同一の支持体に支持されており,
    前記駆動部は,前記支持体全体を移動させて,前記マスク部材の移動を行うことができることを特徴とする,請求項1に記載の基板の塗布処理装置。
  5. ノズルが基板に対して塗布液を吐出しながら,基板上を往復移動する工程と,
    ノズルと基板との間の基板の端部上において,マスク部材がノズルから吐出される塗布液を受け止める工程と,を有する,基板に塗布液を塗布する方法であって,
    塗布液を吐出しているノズルが基板の内側から基板の端部上のマスク部材上に移動する場合に,当該マスク部材が基板に対して相対的に基板の内側方向に所定距離移動する工程と,
    塗布液を吐出しているノズルが基板の端部上のマスク部材上から基板の内側に向かって移動する場合に,当該マスク部材が基板に対して相対的に基板の外側方向に所定距離移動する工程と,を有することを特徴とする,基板の塗布処理方法。
  6. ノズルが基板の端部上に移動した際に,基板がノズルに対して前記往復移動の方向と直角をなす方向に移動する工程を有し,
    前記マスク部材の前記所定距離の移動は,前記基板の前記直角をなす方向への移動と同時期に行われることを特徴とする,請求項5に記載の基板の塗布処理方法。
  7. 前記駆動部を制御する制御装置を備え,
    前記制御装置には,前記ノズルの往復移動の移動速度と,前記塗布液の吐出速度と,前記ノズルから吐出された塗布液の水平方向の飛距離との相関データが記憶され,
    前記制御装置は,前記相関データに基づいて,前記マスク部材が移動する前記所定距離を定め,前記駆動部を制御して前記マスク部材を前記所定距離移動させることを特徴とする,請求項1〜4に記載の基板の塗布処理装置。
  8. 前記駆動部は,圧電素子であることを特徴とする,請求項1,2,3,4,7のいずれかに記載の基板の塗布処理装置。
  9. 前記ノズルの往復移動の移動速度と,前記塗布液の吐出速度と,前記ノズルから吐出された塗布液の水平方向の飛距離との相関データに基づいて,前記マスク 部材が移動する前記所定距離が定められることを特徴とする,請求項5又は6のいずれかに記載の基板の塗布処理方法。
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