JP2004103247A

JP2004103247A - 有機ｅｌ表示装置

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Publication number: JP2004103247A
Application number: JP2002259029A
Authority: JP
Inventors: Kazuto Shimoda; 下田　和人
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 2002-09-04
Filing date: 2002-09-04
Publication date: 2004-04-02
Anticipated expiration: 2022-09-04
Also published as: JP4186101B2

Abstract

【課題】明暗のコントラストを向上させることができ、輝度を向上させることが可能となる有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】陰極層１４は、有機ＥＬ層１３の側より金属膜１４Ｍ_ｋと透明導電膜１４Ｔ_ｍとが交互に積層された多層膜である。具体的には、陰極層１４はＡｌからなる金属膜１４Ｍ_１、ＩＴＯからなる透明導電膜１４Ｔ_２、Ｎｂからなる金属膜１２Ｍ_２から構成されており、各有機ＥＬ素子１０Ｒ，　１０Ｇ，　１０Ｂの発光領域の光に対して反射特性を有し、これら発光領域以外の可視波長領域の光に対しては吸収特性を有する。これにより、発光時の画素に係る素子では発光された光が陰極層１４で効率よく反射されることから、白レベルが向上する。他方、非発光時の画素に係る素子では、外光が陰極層１４に入射しても、陰極層１４において吸収されるため、黒レベルが向上する。
【選択図】　　　　図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、有機ＥＬ材料からなる発光層を備えた有機ＥＬ表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、表示装置の分野では次世代のディスプレイが盛んに開発されており、省スペース、高輝度、低消費電力等が要望されている。これらの要望を実現することができるディスプレイとして、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ　Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）　表示装置が注目されている。この有機ＥＬ表示装置は、代表的なフラットパネルディスプレイの表示装置である液晶表示装置に比べて、自然発光性があり、応答性が高く、視野角依存性がない等の特徴を有している。
【０００３】
このような有機ＥＬ表示装置は、有機ＥＬ素子が多数配列されて構成されており、各素子が一画素に対応している。有機ＥＬ素子は、透明基板上に、透明電極である陽極層、有機ＥＬ層および陰極層が順に積層された構成を有している。この有機ＥＬ素子では、陽極層および陰極層に所定の電圧を印加することにより、それぞれの電極層から注入された正孔および電子が有機ＥＬ層内で再結合し、このときのエネルギーの放出により発光現象が生じる。この発光現象は発光ダイオードと類似した注入発光であることから発光電圧が１０Ｖ以下と低いことが特徴である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、従来の有機ＥＬ素子を利用した有機ＥＬ表示装置では、非発光時の画素に係る素子において、外光が透明基板、陽極層および有機ＥＬ層を透過し、背面電極である陰極層にまで到達するが、このように陰極層まで到達した外光は、陰極層がアルミニウム（Ａｌ）からなる金属電極であることから、図５に示したように、この陰極層で反射されてしまい、そのため明暗のコントラストが低下するという問題があった。このようなコントラストの低下を抑制するために、透明基板の表面等に着色フィルタや、偏光フィルタ、１／４波長板等を設けたりする方法が提案されているが、これらの手法では、着色フィルタ等により透過率が下がるため、装置の画面輝度が低下してしまうという問題があった。
【０００５】
そこで、このような問題を解決するために、例えば、特許文献１では、黒色板を有機ＥＬ表示部以外に設置して、黒色板からの反射光を利用しているが、根本的な解決には至っていない。また、特許文献２では、Ｍｇ：Ａｇ（１８．５ｎｍ）／ＩＴＯ（８４ｎｍ）／Ｍｇ（５０ｎｍ）の積層型陰極により黒レベルが向上されているものの、図６に示したように有機ＥＬ層で発光された光の反射自体も低下してしまうため、輝度が低下するという問題があった。
【０００６】
【特許文献１】
特開２０００−１４８０４５号公報
【０００７】
【特許文献２】
国際公開第０１／０８２４０号公報
【０００８】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、明暗のコントラストを向上させることができると共に、輝度を向上させることが可能となる有機ＥＬ表示装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明による有機ＥＬ表示装置は、有機ＥＬ層を間にした陽極層および陰極層のうちの陰極層が、特定の波長領域の光に対して反射特性を有し、特定波長領域以外の少なくとも可視波長領域の光に対しては吸収特性を有するものである。
【００１０】
本発明による有機ＥＬ表示装置では、特定の波長領域の光（発光波長）は陰極層において反射される一方、特定波長領域以外の少なくとも可視波長領域の光（外光）は反射層において吸収される。すなわち、発光時の画素に係る素子では有機ＥＬ層からの発光波長が陰極層において効率よく反射され輝度が向上すると共に、非発光時の画素に係る素子では外光が入射しても陰極層において吸収されるため反射がなくなり、その結果、明暗のコントラストが向上した表示が行われる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
【００１２】
図１は、本発明の一実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置１０の概略を示す構成図である。有機ＥＬ表示装置１０は、赤色光を発光する有機ＥＬ素子１０Ｒ、緑色光を発光する有機ＥＬ素子１０Ｇ、青色光を発光する有機ＥＬ素子１０Ｂがマトリックス状に規則的に配列された構成を有し、各有機ＥＬ素子１０Ｒ，　１０Ｇ，　１０Ｂが一つの画素に対応している。有機ＥＬ表示装置１０は基板１１を備えており、この基板１１の上には陽極層１２が形成されている。陽極層１２の上には、有機ＥＬ層１３が形成されている。有機ＥＬ層１３の上には陰極層１４が形成されており、この陰極層１４はいわゆる帯域フィルタとしての機能を有している。これについての詳細は後述する。陰極層１４の上には保護層１５が形成されている。
【００１３】
基板１１は、例えばガラス材料からなる、厚さが１．１ｍｍの透明基板である。この基板１１としては良好な平坦性を有するのが好ましい。なお、基板１１は、高分子材料からなるようにしてもよく、この高分子材料として、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ；Ｐｏｌｙ（Ｅｔｈｙｌｅｎｅ　Ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ　））、ポリカーボネート（ＰＣ；ＰｏｌｙＣａｒｂｏｎａｔｅ　）、ポリオレフィン（ＰＯ；ＰｏｌｙＯｌｅｆｉｎ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ；ＰｏｌｙＥｔｅｒ　Ｓｕｌｐｈｏｎｅ　）等が挙げられる。基板１１にこのような高分子材料を用いることにより、基板が１１が可撓性を有するようになる。
【００１４】
陽極層１２は、厚さが例えば１５０ｎｍであり、有機ＥＬ層１３に効率よく正孔が注入されるように真空準位からの仕事関数が大きく、有機ＥＬ層１３からの発光が取り出させるよう透光性を有する材料からなるようにする。陽極材料としては、例えば酸化インジウム錫（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅ；ＩＴＯ）　、酸化錫（ＳｎＯ_２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）等が挙げられる。特に生産性および制御性の観点から、これらの材料のなかではＩＴＯが好ましい。
【００１５】
有機ＥＬ層１３は、例えば、陽極層１２の側から順に正孔輸送層１３Ａ、発光層１３Ｂおよび電子輸送層１３Ｃが積層されたものである。有機ＥＬ層１３の厚さは例えば１５０ｎｍである。
【００１６】
正孔輸送層１３Ａは、陽極層１２から注入された正孔を発光層１３Ｂまで輸送するために設けられる。正孔輸送層１３Ａの材料としては、例えば、ベンジン、スチリルアミン、トリフェニルアミン、ポルフィリン、トリアゾール、イミダゾール、オキサジアゾール、ポリアリールアルカン、フェニレンジアミン、アリールアミン、オキザゾール、アントラセン、フルオレノン、ヒドラゾン、スチルベン、あるいはこれらの誘導体、または、ポリシラン系化合物、ビニルカルバゾール系化合物、チオフェン系化合物あるいはアニリン系化合物等の複素環式共役系のモノマー，オリゴマーあるいはポリマーを用いることができる。具体的には、α−ナフチルフェニルジアミン、ポルフィリン、金属テトラフェニルポルフィリン、金属ナフタロシアニン、４，４，４−トリス（３−メチルフェニルフェニルアミノ）トリフェニルアミン）トリフェニルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ−テトラキス（ｐ−トリル）ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ−テトラフェニル４，４−ジアミノビフェニル、Ｎ−フェニルカルバゾール、４−ジ−ｐ−トリルアミノスチルベン、ポリ（パラフェニレンビニレン）、ポリ（チオフェンビニレン）、ポリ（２，２−チエニルピロール）等が挙げられる。
【００１７】
発光層１３Ｂは、陰極層１４と陽極層１２との間に電位差が生じると、陰極層１４および陽極層１２のそれぞれから電子および正孔が注入され、これら電子および正孔が再結合して発光する領域である。発光層１３Ｂとして、有機ＥＬ素子１０Ｒには例えば波長が６２０ｎｍの赤色光を示す材料、有機ＥＬ素子１０Ｇには波長が５２０ｎｍの緑色光を示す材料、有機ＥＬ素子１０Ｂには波長が４６０ｎｍの青色光を示す材料が用いられている。これらの材料からなる発光層１３Ｂをマトリックスパターン状に配列することによって、有機ＥＬ表示装置１０はカラー表示が可能となる。
【００１８】
このような発光層１３Ｂは、発光効率が高い材料、例えば、低分子蛍光色素、蛍光性の高分子、金属錯体等の有機材料から構成されている。具体的には、例えば、アントラセン、ナフタリン、フェナントレン、ピレン、クリセン、ペリレン、ブタジエン、クマリン、アクリジン、スチルベン、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム錯体、ビス（ベンゾキノリノラト）ベリリウム錯体、トリ（ジベンゾイルメチル）フェナントロリンユーロピウム錯体ジトルイルビニルビフェニルが挙げられる。
【００１９】
電子輸送層１３Ｃは、陰極層１４から注入される電子を発光層１３Ｂに輸送するために設けられる。電子輸送層１３Ｃの材料としては、例えば、キノリン、ペリレン、ビススチリル、ピラジン，またはこれらの誘導体が挙げられる。具体的には、８−ヒドロキシキノリンアルミニウム，アントラセン、ナフタリン、フェナントレン、ピレン、クリセン、ペリレン、ブタジエン、クマリン、アクリジン、スチルベン、またはこれらの誘導体が挙げられる。
【００２０】
陰極層１４は、有機ＥＬ層１３の側より金属膜１４Ｍ_ｋと透明導電膜１４Ｔ_ｍとが交互に積層された多層膜である（但し、ｋは１〜ｎの正数、ｍは２〜ｎの正数である）。すなわち、金属膜１４Ｍ_１，　透明導電膜１４Ｔ_２，　金属膜１４Ｍ_２，　透明導電膜１４Ｔ_３，，　金属膜１４Ｍ_３，・・・・，　透明導電膜１４Ｔ_ｎ，　金属膜１４Ｍ_ｎが順次積層されたものである。
【００２１】
金属膜１４Ｍ_１は例えば厚さが１０ｎｍ以上２０ｎｍ以下であり、仕事関数が小さく有機ＥＬ層１３に電子が効率よく注入され、透光性を有する金属材料からなる。このような金属材料として、アルミニウム、インジウム（Ｉｎ）、マグネシウム（Ｍｇ）、銀（Ａｇ）、カルシウム（Ｃａ）、バリウム（Ｂａ）、リチウム（Ｌｉ）等が挙げられ、これらの金属は単体で用いてもよく、安定性を高めるために他の金属との合金として使用してもよい。特に、これら金属材料のなかでも、仕事関数が小さくてかつ反射率が高い材料であるＡｌを用いるのが好ましく、このＡｌにより陰極層１４の反射率の上限が決定される。金属膜１４Ｍ_ｋ（但し、ｋ≧２）は例えば厚さが５ｎｍ以上であり２０ｎｍ以下であり、ニオブ（Ｎｂ）からなり、このＮｂにより陰極層１４の反射率の下限が決定される。
【００２２】
透明導電膜１４Ｔ_ｍは、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化錫（ＳｎＯ_２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、または、これら材料のうちの２種以上を含む混合物からなるようにする。特に、これら金属材料のなかでも生産性および制御性の観点からＩＴＯを用いるのが好ましい。この透明導電膜１４Ｔ_ｍの厚さは５００ｎｍ以上である。これは、透明導電膜１４Ｔ_ｍの厚さが５００ｎｍ以上である場合、可視光の平均吸収率がその平均反射率よりも大きくなるからである（図２）。また、この場合、透明導電膜１４Ｔ_ｍが厚い程、反射率のピークが多く現われ、そのピークが鋭くなる。
【００２３】
陰極層１４の各膜厚は、各有機ＥＬ素子１０Ｒ，　１０Ｇ，　１０Ｂの発光波長の領域の光、すなわち赤色、緑色および青色の各色の波長領域の光に対して、例えば反射率が６０％以上という高い反射特性を有すると共に、これら波長領域以外の可視波長域の光に対しては、例えば平均吸収率が４０％以上という高い吸収特性を有するように設計されている。ここで、陰極層１４の各膜厚は、その各膜の厚さをｄ、その各膜の屈折率をｎ、この多層膜に入射する入射光の波長をλとすると、各膜の光学的厚さｎｄが入射光の波長λに対して数１に示した式を満足するようになっている。
【００２４】
【数１】
ｎｄ＝λ（α±１／４）（但し、αは自然数である）
【００２５】
例えば、金属膜１４Ｍ_１にはＡｌ、透明導電膜１４Ｔ_２にはＩＴＯ、金属膜１２Ｍ_２にはＮｂが用いられ、合計層数が計３層とされ、図３に示したような光学特性を有するように設計されている。すなわち、各有機ＥＬ素子１０Ｒ，　１０Ｇ，　１０Ｂの発光波長の領域の光、すなわち波長が６２０ｎｍの赤色光、波長が５２０ｎｍの緑色光、および波長が４６０ｎｍの青色光の各色の光に対して、陰極層１４が高い反射率、例えば７０．９％、７１．３％、６８．８％の反射率を有し、これらの光以外の可視波長領域の光に対しては高い吸収率、例えば平均吸収率が４４％以上という吸収率を有し、また全波長領域の光に対して例えば５〜１０％の透過率を有するように設計されている。このように設計したことにより、金属膜１４Ｍ_１の厚さが１０ｎｍ、透明導電膜１４Ｔ_２の厚さが８９８ｎｍ、金属膜１４Ｍ_２の厚さが５ｎｍとなっている。
【００２６】
保護層１５は、有機ＥＬ素子の駆動の信頼性を確保し、また、素子の劣化を防止するために、素子を封止し、酸素や水分を遮断する機能を有する。保護層１５は、例えば厚さが１０００ｎｍである。保護層１５の材料としては、気密性を保つことが可能なものであり、例えば酸化シリコン（ＳｉＯ_２）、窒化シリコン（ＳｉＮ_ｘ）、酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）等が挙げられる。
【００２７】
この有機ＥＬ表示装置１０は、例えば以下のようにして製造することができる。
【００２８】
まず、基板１１を用意する。この基板１１の上に、例えば反応性ＤＣスパッタリング法を用いて、ＩＴＯからなる陽極層１２を成膜する。次に、レジストを用いたリソグラフィ法によって陽極層１２を所定のパターンとする。続いて、陽極層１２の上に、メタルマスクを用いて真空蒸着法によって、所定のパターンを有する正孔輸送層１３Ａ、発光層１３Ｂおよび電子輸送層１３Ｃを順次成膜することにより、有機ＥＬ層１３を形成する。このとき、発光層１３Ｂとして、有機ＥＬ素子１０Ｒの形成領域には例えば波長が６２０ｎｍの赤色光を示す材料、有機ＥＬ素子１０Ｇの形成領域には波長が５２０ｎｍの緑色光を示す材料、有機ＥＬ素子１０Ｂの形成領域には波長が４６０ｎｍの青色光を示す材料を用い、これらの材料を選択的に形成する。
【００２９】
次いで、有機ＥＬ層１３の上に、メタルマスクを用いた真空蒸着法によって陰極層１４を形成する。この陰極層１４は、有機ＥＬ層１３の側より金属膜１４Ｍ_ｋと透明導電膜１４Ｔ_ｍとを交互に積層した多層膜とする。陰極層１４の各膜厚は、各有機ＥＬ素子１０Ｒ，　１０Ｇ，　１０Ｂの発光波長の領域の光に対して、例えば反射率が６０％以上という高い反射特性を有すると共に、これら波長領域以外の可視波長域の光に対しては、例えば平均吸収率が４０％以上という高い吸収特性を有するように設計する。
【００３０】
具体的には、Ａｌからなる金属膜１４Ｍ_１、ＩＴＯからなる透明導電膜１４Ｔ_２、Ｎｂからなる金属膜１４Ｍ_２の３層構造とし、各膜の厚さを１０ｎｍ、８９８ｎｍ、５ｎｍとする。これにより、図３に示したように、波長が６２０ｎｍの赤色光、波長が５２０ｎｍの緑色光、および波長が４６０ｎｍの青色光の各色の光に対して、陰極層１４が高い反射率、例えば７０．９％、７１．３％、６８．８％の反射率を有し、これらの光以外の可視波長領域の光に対しては高い吸収率、例えば平均吸収率が４４％以上という吸収率を有し、また全波長領域の光に対して例えば５〜１０％の透過率を有する。最後に、反応性ＤＣスパッタリング法によって、窒化シリコンからなる保護層１５を形成することにより有機ＥＬ表示装置１０が完成する。
【００３１】
本実施の形態の有機ＥＬ表示装置１０では、選択された素子の陽極層１２および陰極層１４のそれぞれに駆動回路（図示せず）から正負の電圧が印加されると、両極間に生じる電界により正孔と電子とが有機ＥＬ層１３内の発光層１３Ｂに注入され、再結合が起こり、いわゆる電界発光が生じる。このような発光層１３Ｂでの発光は、基板１１側から取り出される。
【００３２】
このとき、陰極層１４では、有機ＥＬ層１３と接する金属膜１４Ｍ_１として真空準位からの仕事関数が小さなＡｌが用いられているので、有機ＥＬ層１３に電子が効率よく注入され、発光効率が向上する。
【００３３】
また、ここで従来のように陰極層としてＡｌのみからなる単層電極を用いた場合、外光が基板１１側から入射すると、図５に示したように、陰極層において外光の反射が生じるため、コントラストが悪くなってしまう。これに対して本実施の形態では、Ａｌからなる金属膜１４Ｍ_１、ＩＴＯからなる透明導電膜１４Ｔ_２、Ｎｂからなる金属膜１４Ｍ_２の３層構造としたので、図３に示したように、陰極層１４は各有機ＥＬ素子１０Ｒ，　１０Ｇ，　１０Ｂの発光波長の領域の光に対して高反射特性を有し、これらの波長領域以外の可視波長領域の光に対しては高吸収特性を有する。これにより、発光時の画素に係る有機ＥＬ素子ではその発光を陰極層１４で効率よく反射させることができ、白レベルを向上させることが可能となる。また、非発光時の画素に係る有機ＥＬ素子では、外光が基板１１の裏面から陰極層１４に入射しても、陰極層１４において吸収され、外光の反射が抑制されるので黒レベルを向上させることが可能となる。従って、明暗のコントラストを向上させることができると共に、輝度を向上させることが可能となる。
【００３４】
以上、実施の形態を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、種々変形が可能である。例えば、図４に示した有機ＥＬ表示装置２０のように、各有機ＥＬ素子２０Ｒ，　２０Ｇ，　２０Ｂにおいて、陰極層２１として、金属膜１４Ｍ_ｋ（但し、ｋは１〜ｎ）と透明導電膜１４Ｔ_ｍ（但し、ｍは２〜ｎ）とを交互に積層し、金属膜１４Ｍ_ｎの上に、例えばＡｌからなる金属膜１４Ｍ_ｎ＋１を形成するようにしてもよい。これにより可視波長領域の光の平均透過率を小さくし、黒レベルを維持したままで、赤色光、緑色光および青色光の反射率を大きくすることができる。また、有機ＥＬ層１３と陰極層１４との間に、例えば厚さが０．１〜０．３ｎｍである、酸化リチウム（ＬｉＯ）からなる発光補助層を成膜するようにしてもよい。この発光補助層により、発光開始電圧を下げることが可能となる。
【００３５】
更に、上記実施の形態では、陰極層１４が赤色、緑色、青色の三原色の波長領域の光に対して高い反射特性を有するようにしたが、この波長領域は有機ＥＬ素子の発光波長に応じて適宜変更可能である。例えば、陰極層１４がこれら三原色のうちの少なくとも１つの波長領域の光に対して高い反射特性を有するようにしてもよい。
【００３６】
【発明の効果】
以上説明したように本発明の有機ＥＬ表示装置によれば、陰極層が、特定の波長領域の光に対して反射特性を有し、特定波長領域以外の少なくとも可視波長領域の光に対しては吸収特性を有するようにしたので、発光時の画素に係る素子では特定波長領域の光を陰極層で効率よく反射させることができ、これにより白レベルを向上させることが可能となる。また、非発光時の画素に係る素子では、外光が陰極層に入射しても、陰極層において吸収されるので黒レベルを向上させることが可能となる。従って、明暗のコントラストを向上させることができ、輝度を向上させることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置の構成図である。
【図２】図１に示した有機ＥＬ表示装置の陰極層の光学特性における透明導電膜の膜厚依存性を表したものである。
【図３】図１に示した有機ＥＬ表示装置の陰極層の光学特性を表したものである。
【図４】有機ＥＬ表示装置の変形例である。
【図５】従来の有機ＥＬ表示装置の陰極層の光学特性を表したものである。
【図６】従来の有機ＥＬ表示装置の陰極層の光学特性を表したものである。
【符号の説明】
１０・・・　有機ＥＬ表示装置、１０Ｒ，　１０Ｇ，　１０Ｂ・・・　有機ＥＬ素子、１１・・・　基板、１２・・・　陽極層、１３…有機ＥＬ層、１３Ａ・・・　正孔輸送層、１３Ｂ・・・　発光層、１３Ｃ・・・　電子輸送層、１４…陰極層

Claims

特定の波長領域の光を発光する有機ＥＬ層を間にして陽極層と陰極層とを備えた有機ＥＬ表示装置であって、
前記陰極層は、前記特定の波長領域の光に対して反射特性を有し、前記特定波長領域以外の少なくとも可視波長領域の光に対しては吸収特性を有する
ことを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
前記陰極層は、前記特定の波長領域の光に対する反射率が６０％以上であり、前記特定波長領域以外の少なくとも可視波長領域の光に対する吸収率が４０％以上である
ことを特徴とする請求項１記載の有機ＥＬ表示装置。
前記陰極層は、金属膜と透明導電膜とが交互に積層された構成を有する
ことを特徴とする請求項１記載の有機ＥＬ表示装置。
前記金属膜がニオブ（Ｎｂ）、アルミニウム（Ａｌ）、マグネシウム（Ｍｇ）または銀（Ａｇ）からなる
ことを特徴とする請求項３記載の有機ＥＬ表示装置。
前記透明導電膜が、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化錫（ＳｎＯ_２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、またはこれら材料のうちの２種以上を含む混合物からなる
ことを特徴とする請求項３記載の有機ＥＬ表示装置。
前記透明導電膜の厚さは５００ｎｍ以上である
ことを特徴とする請求項５記載の有機ＥＬ表示装置。
前記陰極層は、アルミニウム（Ａｌ）からなる第１金属膜、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）からなる透明導電膜、ニオブ（Ｎｂ）からなる第２金属膜が順に積層されたものであり、前記第１金属膜が前記基板に接している
ことを特徴とする請求項３記載の有機ＥＬ表示装置。
前記特定の波長領域は、赤色光、緑色光および青色光の各波長領域を含む
ことを特徴とする請求項１記載の有機ＥＬ表示装置。